NO120227B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO120227B NO120227B NO168481A NO16848167A NO120227B NO 120227 B NO120227 B NO 120227B NO 168481 A NO168481 A NO 168481A NO 16848167 A NO16848167 A NO 16848167A NO 120227 B NO120227 B NO 120227B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- platinum
- coating
- overvoltage
- titanium
- sample
- Prior art date
Links
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 152
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 69
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 44
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 24
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 22
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 13
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- FHMDYDAXYDRBGZ-UHFFFAOYSA-N platinum tin Chemical compound [Sn].[Pt] FHMDYDAXYDRBGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PDBFXISAEVVUEJ-UHFFFAOYSA-H O[Pt](O)(O)(O)(O)O Chemical compound O[Pt](O)(O)(O)(O)O PDBFXISAEVVUEJ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- -1 platinum black Chemical compound 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
- C25B11/081—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound the element being a noble metal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/02—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S205/00—Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
- Y10S205/917—Treatment of workpiece between coating steps
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
Fremgangsmåte ved fremstilling av
en sammensatt anode for anvendelse
. ved elektrolyse av kloridholdige oppløsninger.
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte ved fremstilling av for-bedrede anoder med en kjerne av titan belagt med platina for anvendelse ved elektrolyse av kloridholdige oppløsninger.
I forbindelse med elektrokjemiske prosesser er riktig valg av materiale for fremstilling av elektroder meget viktig, og valget er avhengig av en rekke tekniske krav. Ved disse prosesser er det vanlig å anvende elektroder av jern, stål og lignende materialer i ka-todestillingen, men det er bare et fåtall materialer som kan benyttes ved fremstilling av uoppløselige anoder da de fleste materialer i anodisk tilstand vil utsettes for hurtig korrosjon. Metaller til-hørende platinagrupper har egnede egenskaper for anvendelse som uoppløselige anoder, men på grunn av disse metallers hoye pris er det onskelig å erstatte disse metaller med mindre kostbare materialer, og grafitt er hittil blitt utstrakt anvendt for dette formål.
Valget av en egnet anode er spesielt viktig i sterkt korro-derende, elektrokjemiske bad som f.eks. saltopplosninger som. anvendes ved fremstilling av klor. Grafitt har en rekke ulemper, blandt annet ved at den utsettes for kontinuerlig nedbrytning og må erstat-tes hyppig, og dette medfører at den elektrokjemiske prosess må av-brytes'. Nedbrytningen av grafitten forårsaker videre avsetning av fine grafittkorn i membranet som omgir elektroden, og dette nodvend-diggjor hyppig rensning eller erstatning av membranet samtidig med elektrodene.
De vanskeligheter som oppstår ved bruk av grafittelektroder, spesielt i forbindelse med elektrolysering av saltopplosninger, eli-mineres i det vesentlige dersom platinametallanoder benyttes. Slike anoder kan bestå av rent platina eller, som beskrevet i den senere tid, av et korrosjonsfast kjernemetall som titan eller titanlege-ringer delvis eller fullstendig belagt med et platinametallblikk eller -overtrekk.
I tillegg til at de i det vesentlige bor være korrosjons-faste må anoder som benyttes i elektrolytiske prosesser ha visse gunstige strømførende egenskaper for at prosessen skal kunne drives okonomisk. Anoden bor således ha en god ledningsevne og være istand til å tåle en hoy strømbelastning, dvs. at anoden skal kunne drives med den høyest mulige strømtetthet uten at for sterk polarisering oppstår. I praksis vil polarisering av anoden adfolges av en hoy over spenning, nedsette elektrolysens effektivitet og på-virke elektrolyseprosessens økonomi i ugunstig retning.
Elektroder med en ildfast metallkjerne, spesielt av titan eller en titanlegering, og som er delvis eller fullstendig belagt med et metall av platinagruppen, har på en fremragende måte til-veiebragt flere av de fysikalske egenskaper som er nodvendige for optimal utnyttelse i forbindelse med elektrolytiske reaksjoner, spesielt ved elektrolyse av saltopplosninger. I disse elektroder vil den kjemiske motstandsevne til titandioxyd som dannes på den upletterte overflate eller inne i porer på den platinabelagte flate, hindre korrosjonsangrep av elektrolytten samtidig som platinametalloverflaten .virker som en effektiv stromleder. Det har imidlertid vist seg at selv om oxydering av kjernematerialet hindrer at dette korroderes, vil dannelsen av oxyder dersom platinabelegget ikke er vedheftende i tilstrekkelig grad, resul-tere i erosjon av platinametallpletteringen som i alminnelighet benyttes for å tilveiebringe den ledende overflate. Da bare den platinapletterte flate virker som en effektiv stromleder i forbindelse med slike anoder, vil det måtte anvendes en hoyere spenning etterhvert som den platinapletterte flate minsker på grunn av erosjon. Disse anoder må'derfor pletteres på ny, og dette forårsaker ikke bare tap av de kostbare metaller, men også av drifts-tid og andre materialer.
Ved fremstilling av belagte elektroder av den ovennevnte type har det hittil vært erkjent at platinaoverflaten må være av en slik art at den gir lav overspenning i forbindelse med salt-elektrolyse. Det er således kjent at fast platina har en hoy overspenning overfor klor, og det er blitt foreslått å tilveiebringe et glatt, elektroplettert lag av platina på en titankjerne ved anvendelse av et overflatelag av platina, f.eks. platinasort, som gir den onskede anodiske overspenning.
Ved fremstillingen av slike sammensatte elektroder har det vist seg at de vanlige elektrokjemiske fremgangsmåter for avsetning av det forste platina på kjernematerialet gir en glatt, platinaoverflate, men ikke et tilstrekkelig uporost platinabelegg, og beleggene er ikke metallurgisk forbundet med kjernematerialet. Dette bevirker at selvom slike sammensatte elektroder i alminnelighet er egnet for anvendelse i forbindelse med elektrolyse av saltopplosninger, oppstår fremdeles tap av platinabelegget på grunn av oxyddannelse.
Elektroder med en titan- eller titanlegeringskjerne som er delvis eller fullstendig belagt med et metall av platinagruppen,
er også blitt foreslått for anvendelse i elektrolyseceller for fremstilling av perforbindelser, f.eks. perklorater. Det er kjent at de elektriske egenskaper til anoder som er blitt anvendt i slike celler, bor ligge så nær opp til egenskapene til rent platina som mulig. Det vil si at perforbindelsene fremstilles ved en hoy anodisk overspenning. Elektrodematerialet, i dette tilfelle belegget av et metall fra platinagruppen, bor derfor ha en hoy overspenning. På samme måte som i forbindelse med belegg med en
lav overspenning er det meget onskelig at de kostbare belegg av et metall fra platinagruppen er så tynne som mulig, og disse belegg må vise en god vedheftning og være uporose for å unngå
de problemer som oppstår i forbindelse med at grunnmetallet oxyderes og derved forårsaker at belegget avflakes og elektroden forringes. Det har hittil vist seg å være vanskelig å fremstille egnede sammensatte elektroder for fremstilling av perforbindelser. Belegning ved påvalsing forer ikke til en dannelse av tilstrekkelig uporose filmer med den lave tykkelse som er onskelig, dvs.
en tykkelse under ca. 25,^ M og spesielt under 12,7 ju. Tynne platinabelegg som dannes ved elektrolytisk avsetning, er også
for porose, forringes hurtig og oppviser i tillegg ikke de optimale hoye overspenningsegenskaper.
Foreliggende oppfinnelse angår derfor en fremgangsmåte ved fremstilling av en sammensatt anode for anvendelse ved elektrolyse av kloridholdige opplosninger, ved på et underlag av titan å elektroavsette et seigt platinabelegg, for så å varmebehandle det belagte underlag ved en temperatur av 700-1^00°C i en inert atmosfære for å avstedkomme interdiffusjon av belegget og underlaget ved deres grenseflate, og fremgangsmåten er særpreget ved at platinaet avsettes på titanunderlaget i form av et belegg med en tykkelse av minst 2,5 M, og det belagte underlag etter varmebehandlingen behandles mekanisk for fremstilling av en tynn, uporos platinametalloverflate med en tykkelse av 0,5-25,Lt- M, en overflateruhet av under 0,25^ (RMS) og en overspenning overfor klor av 0,5-1,0 volt ved 53,9 amp/dm<2>, hvoretter det eventuelt avsettes et porost platinalag på det belagte underlag for ytterligere å senke dets overspenning overfor klor til under
2
0,5 volt ved 53,9 amp/dm .
Anoder med det avsatte andre lag med lav overspenning er spesielt egnet for klorelektrolysen da under bruk det lave over-spenninglags erosjonsgrad lett kan bestemmes ved måling av cellens overspenning, og utnyttelsen av anoden avsluttes når overspenningen indikerer at anoden har mistet alt eller i det vesentlige alt av overflatebelegget med lav overspenning. Når dette inntreffer,
vil det glatte, ugjennomtrengelige, beskyttende lag av platina fremdeles være intakt og lett kunne belegges påny med et overflatebelegg med lav overspenning for fornyet bruk. Ved å sikre at
et i det vesentlige ugjennomtrengelig platinalag er tilstede til enhver tid unngåes dannelsen av oxydbelegg på titanet som ellers ville ha fort til at overflatelaget av platina ville ha skallet av eller blitt erodert.
Ved foreliggende oppfinnelse må platinabelegget dannes på titanet i overensstemmelse med visse spesielle betingelser. Det fortrinnsvis rensede og oppruede grunnmetall belegges forst med et seigt platinabelegg med hoy renhetsgrad og en tykkelse av minst 2,5 jLt. Det belagte grunnmetall varmebehandles så ved en temperatur mellom ca. 700 og 1<!>+00°C, fortrinnsvis ved 800-1100°C, i en ikke-' oxyderende atmosfære for å gi en sammendiffundering av platinaet og grunnmetallet ved grenseflatene. Derpå behandles det sammensatte materiale mekanisk, f.eks. ved å lede det gjennom en valse-mdlle, slik at det fåes en tynn, i det vesentlige uporos, glansfull platinaoverf late med en tykkelse av 0,5-25,'+ M°g en overflatefinish av under 0,25^ M.
Det opprinnelige platinabelegg bor fortrinnsvis ha en
tykkelse av 2,5-25,^ \ i. For å danne et belegg som ikke fullstendig vil diffundere inn i grunnmetallet ved oppvarmning, bor det opprinnelige belegg ha en tykkelse av minst 2,5 M. Ved en lavere tykkelse vil. belegget ikke kunne opprettholdes som sådant ved den påfSigende varmebehandling. Belegget av platina kan selvfølgelig være tykkere enn 25, h \ i men av økonomiske hensyn er det ikke onskelig å anvende- tykkere belegg.
Foruten den nødvendige tykkelse for å oppnå god vedheftning
og for å bevare overflatens helhet, må platinabelegget være seigt.
Et meget seigt belegg kan lett behandles mekanisk, og ved denne behandling sammentrykkes og utjevnes platinabelegget slik at porene i dette forsegles.
Flere fremgangsmåter er kjente for avsetning av tynne platina-gruppemetallbelegg med hoy seighet på grunnmetaller. I alminnelighet er platinabelegg på titan fremstilt ved slike fr.emgangsmåter som elektrolytisk avsetning, termisk spaltning av en påfort maling-film, ikke-elektrolytisk plettering etc, por ose og har en varierende seighet, men egnede seige belegg, f.eks. av platina, kan fremstilles ved kjente fremgangsmåter som f.eks. beskrevet i U.S.
patent nr. 2,792.3^1. Som et eksempel kan det nevnes at av-setninger fremstilt ved å elektroplettere platina fra et bad inneholdende platina i form av d-initrodiaminf orbindelsen (<M>P"-salt)
ifolge U.S. patent nr. 1.779.^36, gir elektropletterte over-flater med en egnet seighet og tykkelse for anvendelse ved foreliggende fremgangsmåte.
Slike belegg kan f.eks. sammenlignes med platinaavsetninger elektroplettert fra elektrolytter inneholdende platina i form av de kommersielt tilgjengelige alkalimetallhexahydroxyplatina-bad som ikke gir platinabelegg med egnet seighet og som folgelig ikke kan mekanisk behandles for å gi en platinoverflate med den onskede glatthet og ugjennomtrengelighet.
Det vil derfor fremgå at den spesielle metode hvorved platinabelegget påfores grunnmetallet, ikke er kritisk forutsatt at det oppnådde platinabelegg er seigt.
For å oppnå en godt vedheftende elektrolytisk avsetning har det vist seg fordelaktig å opprue titangrunnmetallets overflate for belegning. Titanets onskede overflateruhet vil variere med tykkelsen av den opprinnelige platinaavsetning. For tynnere av-setninger kreves en glattere overflate, men overflaten må være tilstrekkelig ru til at det oppnåes god "låsing". Med et opp-rinnelig belegg med en tykkelse av ca. 2,5 [ i foretrekkes det å anvende en overf lateruhet av .0,75-1,5 M , og for et belegg med ca. 6,5 M tykkelse foretrekkes det å benytte en overflateruhet av ca. 3,75 M. Ved elektrolytisk avsetning vil platinalaget folge grunnmetallets kontur, og det pletterte produkt vil ha en til-svarende eller noe redusert overflateruhet.
Ved fremstilling av anodene ved foreliggende fremgangsmåte må det platinabelagte grunnmetall varmebehandles ved en temperatur som er tilstrekkelig hoy til at det vil foregå en gjensidig diffundering ved grenseflaten mellom platina og titan, for den etterfølgende mekaniske varmebehandling for å gi det onskede produkt med meget glatt overflate. Det er f.eks. kjent ifra U.S. patent nr. 3.006.0^2 å belegge et titanunderlag med et forholds-vis tykt platinalag og å mekanisk behandle den sammensatte gjenstand etterfulgt av oppvarmning til interdiffusjonstemperatur. Det har vist seg at mekanisk bearbeidning av den sammensatte gjenstand for varmebehandlingen gir en sammensatt gjenstand som er uegnet for anvendelse i elektrolyseceller. Den dårlige binding og det dårligere belegg skyldes muligens oxyddannelse på titan- metallet under den mekaniske bearbeidning som utvikler en vesentlig varmemengde på overflaten. Ifolge foreliggende oppfinnelse fremstilles derfor anoder ved oppvarmning av det belagte underlag ved en temperatur av ca. 700-lV00°C, fortrinns-
vis 800-1100°C, i en ikke-oxyderende' atmosfære for å interdiffun-dere platinaet og grunnmetalllet ved grenseflaten for den mekaniske behandling. Det er nodvendig å benytte en inert atmosfære under oppvarmningenda platinalaget på dette trinn i alminnelighet er ganske porost. Oppvarmningstiden er ikke kritisk, men bor være tilstrekkelig til at den onskede grad av interdiffusjon oppnåes, f.eks.
ca. 0,25 - h timer. I alminnelighet er 1 time tilstrekkelig. I U.S. patent nr. 2.719.797 er en lignende diffusjonsbehandling av platinabelagt tantal beskrevet.
Etter interdiffusjonstrinnet avkjoles anoden i en inert atmosfære og behandles deretter mekanisk for å få den onskede glatte overflate med hoy overspenning overfor klor. Den glatte, glansfulle, uporose overflate kan fåes ved anvendelse av slike metoder som overdrag, valsing, trekking eller senkesmiing. Egnede sammensatte anoder har en overflatefinish av under 0,25^ (rot-middel-kvadrat) som fastslått ved hjelp av et "profHorneter" eller andre til-svarende instrumenter for måling av overflateruhet. For å oppnå den onskede glatte overflate benyttes under den mekaniske behandling valser eller matriser som er glattere enn 0,25<*>+ M overf lateruhet.
Den sammensatte gjenstand fremstilt i overensstemmelse med den ovennevnte fremgangsmåte og med en glatt, glansfull overflate av platina har i likhet med et glatt platinablikk en overspenning overfor klor av mellom 0,5 og 1,0 volt ved anodestromtettheter av 'ca. 5359amp/dm , og er egnet for anvendelse som anode i elektrolytiske celler for fremstilling av klor. Det foretrekkes imidlertid for en mer okonomisk fremstilling av klor ved elektrolyse å belegge det platinabelagte titan videre med et lag av findelt eller porost platina med en overspenning av under 0,5 volt, fortrinnsvis 0,025-0,2 volt, overfor klor ved sammenlignbare anodestromtettheter. Et slikt findelt platinaoverflatelag kan bestå av platinasort eller av et porost, metallisk platinalag avsatt ved elektroplettering eller spaltning av platinaholdige malinger etc', på kjent måte. Den
oppnådde anode er spesielt egnet for klorelektrolyse da overflatebelegget med den lave overspenning forbrukes og anodens tilstand
lett kan bestemmes ved enkel overvåkning av spenningsokningen som er nodvendig for kontinuerlig drift av klorelektrolysecellen. Når over spenningen stiger til ca. $ 0% av forskjellen mellom den teoretiske, reversible spenning og spenningen til rent platina, fjernes anoden for å belegges påny. På dette tidspunkt er det glatte, glansfulle platinabelegg ubeskadiget og kan lett belegges påny med overflatebelegg med den onskede lave overspenning.
Eksempel 1 -
En prove av 0,102 cm tykt titan med en omtrentlig storrelse av 15,2 x 30,5" cm ble etset og renset ved dypping i 30$ saltsyre i 18 timer. Overflaten ble etset inntil det ble oppnådd en overflateruhet av ca. 1,27 m (RMS).
Proven ble så slipt med pimpesten, omhyggelig renset og så plettert med et platinabelegg under anvendelse av et "P"-saltbad med folgende sammensetning:
Pletteri ngen ble utfort ved 80°C med en-strømtetthet av<>>+,8 amp/dm 2 i 90 minutter og med moderat omrøring under bruk av en platinaanode. Etter 90 minutter var titanproven blitt belagt med et 3,05 M tykt platinalag bestemt ved tilbakespredning av beta-stråler.
Den elektropletterte prove ble så varmebehandlet i strøm-mende, rent argon i 1 time ved 800°C og tilslutt avkjolt i en argonatmosfære for den ble fjernet fra ovnen. Proven ble så valset med valser med en bredde av 30,5 cm, en diameter av 25, h cm og en overflateruhet av under 0,05 M. Proven ble fort gjennom val-sen ca. seks ganger, og dette resulterte i en reduksjon av tykkelsen fra 1,02 mm til 0,8^ mm. Platinaets overflate var skinnen-de og speilaktig og hadde en overflateruhet av under 0,127 ju. (RMS).
Den belagte proves overspenning overfor klor ble bestemt i
en saltopplosning under anvendelse av et vanlig Luggin-kapillar og mettet caldmelreferanse-elektrodesystem. Ved 53,9 amp/dm<2>var provens overspenning overfor klor 0,69 og i det vesentlige den samme som over spenningen til et polert platinablikk som har en over-
spenning av 0,68 ved den samme strømtetthet.
Eksempel 2
Det belagte titanblikk fremstilt i eksempel 1 ble malt med
et belegg av en termisk reduserbar platinaholdig forbindelse i et organisk bindemiddel og brent i luft ved 500°C i 30 minutter. Overflateruheten for påforing av malingen var ca. 0,05 M og etter brenningen ca. 1,27 pt. Målinger av kloroverspenninger viste en minskning fra ca. 0,6 volt for den glatte overflate til ca. 0,1 volt for den. rue overflate.
Eksempel 3
Et titanstykke med en størrelse av 5,1 x 15,2 x 0,102 cm
ble etset i konsentrert saltsyre i 18 timer og så renset med vann og skrubbet for å fjerne overflatefilm og fine partikler avsatt i porer. Etter rensing med destillert vann ble titanstykket belagt med 3j8 M platina ved elektrolytisk avsetning i et "P"-saltbad med sammensetningen beskrevet i eksempel 1.
Det belagte blikk ble delt i to til to prover med en storrelse av 2,5 x 15,2 x 0,102 cm, og provene ble nummerert 1 ot 2 resp.
Prove nr. 1 ble oppvarmet i argon ved 800°C i 1 time og ble etter kjoling valset til en storrelse av ca. 2,5 x 17,8 cm.
Prove nr. 2 ble forst valset til en storrelse av ca. 2,5 x 17,8 cm og så oppvarmet i argon ved 800°C i 1 time og avkjolt.
Platinabelegget på prove nr. 2 hevet seg eller ble avskallet i området ca. 6,^f mm innenfor provens kanter. Belegget til prove nr. 1 viste god vedheftning over hele området. Ved dypping av provene i konsentrert saltsyre i 3 timer viste det seg at platinaet ble nesten fullstendig fjernet fra prove nr. 2 mens prove nr. 1 ikke viste noe tegn på angrep.
Eksempel h
Et titanstykke med en storrelse av 5,1 x 15,2 x 0,102 cm ble etset i konsentrert saltsyre og belagt med 3,8 [ i platina som beskrevet i eksempel 1.
Det belagte blikk ble delt i to deler hver med en storrelse av 2,5.x 15,2 x 0,102 cm, og disse prover ble gitt nummerne 3 og h.
Prove nr. 3 ble oppvarmet i argon til 800°C i 1 time og etter avkjøling valset til en storrelse av ca. 2,5 x 17,8 cm. Den valsede prove hadde en overf lateruhet av under 0,127 ix.
Prove nr. h ble ikke behandlet videre. -
Målinger av kloroverspenningen ble utfort med provene 3 og h som beskrevet i eksempel 1. Prove nr. 3 viste en kloroverspenning av 0,68 volt ved en strømtetthet av 53 > 9 amp/dm . Prove nr. h viste en kloroverspenning av 0,^5 volt ved den samme strømtetthet. Kloroverspenningen for prove nr. 3 var 200-250 millivolt større enn kloroverspenningen for prove nr. h ved en strømtetthet av 53 >9 amp/dm 2. Prove nr. h viste en overspenning betraktelig under overspenningen til rent platina.
Eksempel 5
Et titanstykke ble etset, belagt med platina, delt, og en del ble behandlet i argon og valset som beskrevet i eksempel 3 og h. Den behandlede halvdel er betegnet som prove nr. 5 og den ubehand-lede som prove nr. 6.
Prove nr. 5 (behandlet) og prove nr. 6 (ubehandlet) ble dyp-pet i konsentrert saltsyre i 2h timer og så kokt i konsentrert svovelsyre i 6 timer og derpå inspisert for å fastslå platinaets vedheftning.
Undersøkelsen viste at platinabelegget på prove nr. 6 (ubehandlet) var avflaket langs kantene mens prove nr. 5 (behandlet) ikke viste noe tegn på angrep. Behandling av provene med hQ% fluss-syre viste videre at belegget på prove nr. 6 hevet seg nesten øyeblikkelig mens belegget på prove nr. 5 ikke viste noe tegn på angrep etter 30 minutter.
Claims (1)
- Fremgangsmåte ved fremstilling av en sammensatt anode for anvendelse ved elektrolyse av kloridholdige oppløsninger, ved på et underlag av titan å elektroavsette et seigt platinabelegg, for så å varmebehandle det belagte underlag ved en temperatur av 700-1<1>+00°C i en inert atmosfære for å avstedkomme interdif fus jon av belegget og underlaget ved deres grenseflate,karakterisert vedat platinaet avsettes på titanunderlaget i form av et belegg med en tykkelse av minst 2,5 M?°g det belagte underlag etter varmebehandlingen behandles mekanisk for fremstilling av en tynn, uporos platinametalloverflate med en tykkelse av 0,5-25,'+ M, en overf lateruhet av under 0,25<*>+ m (RMS) og en overspenning overfor klor av 0,5-1,0 volt ved 53,9 amp/dm 2, hvoretter det eventuelt avsettes et porost platinalag på det belagte underlag for ytterligere å senke dets overspenning overfor klor til under 0,5 volt ved 53,9 amp/dm 2.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US55567066A | 1966-06-07 | 1966-06-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO120227B true NO120227B (no) | 1970-09-21 |
Family
ID=24218176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO168481A NO120227B (no) | 1966-06-07 | 1967-06-06 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3461058A (no) |
CH (1) | CH486915A (no) |
DE (1) | DE1671426A1 (no) |
GB (1) | GB1171407A (no) |
NL (1) | NL6707846A (no) |
NO (1) | NO120227B (no) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1457511A (en) * | 1973-02-08 | 1976-12-01 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Composite body electrodes for electrolytic processes |
DE2645414C2 (de) * | 1976-10-08 | 1986-08-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Titananoden für die elektrolytische Gewinnung von Mangandioxid, sowie ein Verfahren zur Herstellung dieser Anoden |
US4330376A (en) * | 1979-03-05 | 1982-05-18 | Atlantic Richfield Company | Process for inhibiting titanium corrosion |
US4214017A (en) * | 1979-03-29 | 1980-07-22 | Board of Regents, State of Florida, for the use and benefit of the University of Florida | Preparation of platinum-coated substrates |
JPS5647597A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-30 | Nippon Steel Corp | Insoluble electrode for electroplating and preparation thereof |
US4240878A (en) * | 1979-11-02 | 1980-12-23 | Sybron Corporation | Method of forming a platinum layer on tantalum |
US4342577A (en) * | 1980-10-27 | 1982-08-03 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
US4348216A (en) * | 1980-10-27 | 1982-09-07 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
US4402718A (en) * | 1980-10-27 | 1983-09-06 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
US4402719A (en) * | 1980-10-27 | 1983-09-06 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
US4404009A (en) * | 1982-12-22 | 1983-09-13 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
DE69424253T2 (de) * | 1993-11-10 | 2000-12-21 | Xomed Inc., Jacksonville | Bipolares, elektrochirurgisches Instrument und Herstellungsverfahren |
FR2992661B1 (fr) * | 2012-06-27 | 2014-11-07 | Amc Etec | Electrode, son procede de fabrication et son application a l'electrolyse. |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2719797A (en) * | 1950-05-23 | 1955-10-04 | Baker & Co Inc | Platinizing tantalum |
DE1250234B (no) * | 1957-07-26 | 1967-09-14 | ||
BE590159A (no) * | 1959-04-27 | |||
GB900804A (en) * | 1959-11-12 | 1962-07-11 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to the production of composite metal sheet or strip |
US3287250A (en) * | 1962-05-28 | 1966-11-22 | Pittsburgh Plate Glass Co | Alkali-chlorine cell containing improved anode |
-
1966
- 1966-06-07 US US555670A patent/US3461058A/en not_active Expired - Lifetime
-
1967
- 1967-06-05 GB GB25936/67A patent/GB1171407A/en not_active Expired
- 1967-06-06 NO NO168481A patent/NO120227B/no unknown
- 1967-06-06 CH CH800367A patent/CH486915A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-06-06 NL NL6707846A patent/NL6707846A/xx unknown
- 1967-06-07 DE DE19671671426 patent/DE1671426A1/de active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6707846A (no) | 1967-12-08 |
DE1671426A1 (de) | 1971-09-23 |
GB1171407A (en) | 1969-11-19 |
US3461058A (en) | 1969-08-12 |
CH486915A (de) | 1970-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4502936A (en) | Electrode and electrolytic cell | |
US3773555A (en) | Method of making an electrode | |
US4960494A (en) | Ceramic/metal composite material | |
US5366598A (en) | Method of using a metal substrate of improved surface morphology | |
JPS636636B2 (no) | ||
NO120227B (no) | ||
US4203810A (en) | Electrolytic process employing electrodes having coatings which comprise platinum | |
MXPA01003960A (es) | Catodo utilizable para la elctrolisis de soluciones acuosas. | |
US3497425A (en) | Electrodes and methods of making same | |
JP2761751B2 (ja) | 耐久性電解用電極及びその製造方法 | |
JP2721739B2 (ja) | 改良されたアノードの製造方法 | |
US4051000A (en) | Non-contaminating anode suitable for electrowinning applications | |
EP0493326B1 (en) | Substrate of improved melt sprayed surface morphology | |
US5167788A (en) | Metal substrate of improved surface morphology | |
US5324407A (en) | Substrate of improved plasma sprayed surface morphology and its use as an electrode in an electrolytic cell | |
US5262040A (en) | Method of using a metal substrate of improved surface morphology | |
IE46061B1 (en) | Manufacture of titanium anodes suitable for use in the electrolytic production of manganese dioxide | |
US3503799A (en) | Method of preparing an electrode coated with a platinum metal | |
US4345987A (en) | Coated electrode and a method of its production | |
US3763002A (en) | Method of forming protective coatings by electrolysis | |
US4913973A (en) | Platinum-containing multilayer anode coating for low pH, high current density electrochemical process anodes | |
JP3081567B2 (ja) | クロムめっき用不溶性電極 | |
Spooner et al. | Phosphoric acid anodizing of aluminium and its application to electroplating | |
US5733425A (en) | Titanium alloy anode for electrolyzing manganese dioxide | |
CA1305447C (en) | Platinum-containing multilayer anode coating for low ph, high current density electrochemical |