NL1006621C2 - Radiation curable coating composition. - Google Patents
Radiation curable coating composition. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1006621C2 NL1006621C2 NL1006621A NL1006621A NL1006621C2 NL 1006621 C2 NL1006621 C2 NL 1006621C2 NL 1006621 A NL1006621 A NL 1006621A NL 1006621 A NL1006621 A NL 1006621A NL 1006621 C2 NL1006621 C2 NL 1006621C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- radiation
- maleimide
- coating composition
- tertiary amine
- curable coating
- Prior art date
Links
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 36
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 6
- -1 aliphatic tertiary amine Chemical class 0.000 claims description 32
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 28
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 claims description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N (e)-4-ethoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enediamide Chemical class NC(=O)\C=C\C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N (z)-but-2-enediamide Chemical class NC(=O)\C=C/C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVXVWWANJIWJOO-UHFFFAOYSA-N 1-(1,3-benzodioxol-5-yl)-N-ethylpropan-2-amine Chemical compound CCNC(C)CC1=CC=C2OCOC2=C1 PVXVWWANJIWJOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCOC=C PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZFHMLDRUVYBGK-UHFFFAOYSA-N 2-methylene-3-methylsuccinic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(=C)C(O)=O IZFHMLDRUVYBGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C2CCCCC2)=C1 UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(O)=O RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 235000001258 Cinchona calisaya Nutrition 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- QMMZSJPSPRTHGB-UHFFFAOYSA-N MDEA Natural products CC(C)CCCCC=CCC=CC(O)=O QMMZSJPSPRTHGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- LOUPRKONTZGTKE-WZBLMQSHSA-N Quinine Natural products C([C@H]([C@H](C1)C=C)C2)C[N@@]1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OC)C=C21 LOUPRKONTZGTKE-WZBLMQSHSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- FWZUNOYOVVKUNF-UHFFFAOYSA-N allyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=C FWZUNOYOVVKUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N bis(2-cyclohexyl-3-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1CCCCC1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC(O)=C1C1CCCCC1 ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPODCVUTIPDRTE-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) hexanedioate Chemical compound C=CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC=C FPODCVUTIPDRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N but-3-enamide Chemical compound NC(=O)CC=C ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- LOUPRKONTZGTKE-UHFFFAOYSA-N cinchonine Natural products C1C(C(C2)C=C)CCN2C1C(O)C1=CC=NC2=CC=C(OC)C=C21 LOUPRKONTZGTKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018560 citraconate Drugs 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLNBQUAHERCLKT-UHFFFAOYSA-N dimethylamino benzoate Chemical compound CN(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1 VLNBQUAHERCLKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L fumarate(2-) Chemical class [O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical group OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M picrate anion Chemical compound [O-]C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229960000948 quinine Drugs 0.000 description 1
- 125000003410 quininyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 1
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N vinyl sulfide Chemical compound C=CSC=C UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
- 1 - STRALINGSUITHARDBARE COATINGSAMENSTELLING 5- 1 - RADIATION-CURABLE COATING COMPOSITION 5
De uitvinding heeft betrekking op een stralingsuithardbare coatingsamenstelling bevattende een 10 stralingsuithardbare harssamenstelling en een alifatisch maleïmide.The invention relates to a radiation-curable coating composition containing a radiation-curable resin composition and an aliphatic maleimide.
Een dergelijke stralingsuithardbare coatingsamenstelling is beschreven in "Initiator free polymerisations of donor acceptor monomer systems” door 15 C.E. Hoyle, S. Jonsson, S.C. Clark, C. Hiller en H.Such a radiation-curable coating composition is described in "Initiator free polymerizations of donor acceptor monomer systems" by C.E. Hoyle, S. Jonsson, S.C. Clark, C. Hiller, and H.
Shimose (Radtech Europe, juni 97, Lyon). Hierin wordt een coatingsamenstelling beschreven bestaande uit een acrylaatfunctionele hars en een alifatisch maleïmide. Deze samenstelling hardt uit onder invloed van UV-licht.Shimose (Radtech Europe, June 97, Lyon). Described herein is a coating composition consisting of an acrylate functional resin and an aliphatic maleimide. This composition cures under the influence of UV light.
20 Nadeel van een dergelijke coatingsamenstelling is dat de snelheid waarmee deze samenstelling uithardt laag is.A drawback of such a coating composition is that the speed with which this composition cures is slow.
Doel van de uitvinding is te voorzien in een stralingsuithardbare coatingsamenstelling met een hogere 25 uithardingssnelheid.The object of the invention is to provide a radiation-curable coating composition with a higher curing speed.
Dit doel wordt volgens de uitvinding bereikt, doordat de stralingsuithardbare coatingsamenstelling tevens een tertiair amine bevat. Hierdoor wordt bereikt dat de stralingsuithardbare coatingsamenstelling onder 30 invloed van straling sneller uithard dan de bekende door Hoyle e.a. beschreven stralingsuithardbare coat ingsamenstelling.This object is achieved according to the invention in that the radiation-curable coating composition also contains a tertiary amine. This ensures that the radiation-curable coating composition cures under the influence of radiation faster than the known radiation-curable coating composition described by Hoyle et al.
Een voordeel van de aanwezigheid van maleïmides als photoactieve verbinding is dat deze een reactieve 35 binding bevat die mee kan reageren onder de stralingsuithardings omstandigheden. Hierdoor wordt bereikt, dat de photoactieve verbinding bij de 1006621 ' - 2 - stralingsuitharding in hars wordt ingebouwd en er minder resten van de photoactieve verbinding kunnen migreren. Daardoor wordt de omgeving van de uitgeharde coating minder besmet met resten van de photoactieve verbinding.An advantage of the presence of maleimides as a photoactive compound is that it contains a reactive bond that can react with the radiation curing conditions. This ensures that the photoactive compound is incorporated into resin during the 1006621 '- 2 radiation curing and that less residues of the photoactive compound can migrate. As a result, the environment of the cured coating is less contaminated with residues of the photoactive compound.
5 In EP-A-618.237 wordt een coatingsamenstelling beschreven op basis van een acrylaat functionele hars en maleïnezuuranhydride. Een nadeel van de in EP-A-618.237 beschreven coating samenstelling is, dat deze langzaam uithard zodat in de uitgeharde coating naast resten van de 10 photoactieve verbinding ook resten en monomeer resten aanwezig zijn in de uitgeharde coating. Een bijkomend voordeel van de stralingsuithardbare coatingsamenstelling volgens de uitvinding is dat als deze is uitgehard, er minder monomeerresten in de uitgeharde hars aanwezig zijn.EP-A-618.237 describes a coating composition based on an acrylate functional resin and maleic anhydride. A drawback of the coating composition described in EP-A-618.237 is that it hardens slowly so that in the cured coating, in addition to residues of the photoactive compound, residues and monomer residues are also present in the cured coating. An additional advantage of the radiation-curable coating composition of the invention is that when it is cured, less monomer residues are present in the cured resin.
15 Een ander voordeel van de aanwezigheid van tertiaire amines in de stralingsuithardbare coatingsamenstelling volgens de uitvinding is, dat de oppervlakte uitharding in aanwezigheid van zuurstof beter is.Another advantage of the presence of tertiary amines in the radiation-curable coating composition of the invention is that the surface curing in the presence of oxygen is better.
20 De stralingsuithardbare harssamenstelling bestaat bijvoorbeeld uit een reactieve onverzadiging aan een elektron zuigende groep (a) eventueel in combinatie met een reactieve onverzadiging aan een elektron donerende groep (b) of een allyl groep bevattende verbinding aan een 25 elektron donerende groep (c) of een mengsel hiervan (b+c).The radiation-curable resin composition consists, for example, of a reactive unsaturation on an electron withdrawing group (a) optionally in combination with a reactive unsaturation on an electron donating group (b) or an allyl group containing compound on an electron donating group (c) or a mixture of these (b + c).
De reactieve onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) wordt gekenmerkt door het volgende structuur element.The reactive unsaturation on an electron-withdrawing group (a) is characterized by the following structural element.
30 0 R2 R1 35 1006621 ' - 3 - X kan bijvoorbeeld een van de volgende groepen zijn: 0R4 , , SR| « R1,R2» R3, kunnen bijvoorbeeld onafhankelijk van elkaar de volgende groepen zijn: H, Ci-C20 alkyl, aryl, 5 gesubstitueerd aryl, COORs, CONR6R7, CH2COOR6, CH2OR6, 0Re, NR6R7, SRe, Cl of CN. Hierin zijn R4, Rs, Re en R7 gekozen uit de volgende groepen: H, ^-ΰ20, alkyl (inclusief lineaire en cyclische structuren), aryl , gesubstitueerd aryl, hetrocyli bevattende 0,S,N of P 10 atomen, aromatische hetrocycli bevattende 0,S,N of P atomen, COY, CH2COY, CH20Y, CH2NYZ, CH2SY, CH2CH2OY, CH2CH2HYZ CH2CH2SY, CH2CH(CH3)OY, CH2CH(CH3)NYZ, CH2CH(CH3)SY, CH(CH3)CH2OY, CH(CH3)CH2NYZ, CH(CH3)CH2SY, (CH20)nY, ( CH2NZ ) nY, (CH2S )nY, (CH2CH20)nY, (CH2CH2NZ)aY 15 (CH2CH2S)aY, ( CH2CH (CH3 ) O ) aY, (CH2CH (CH3 ) NZ ) aY, (CH2CH(CH3)S)aY, (CH(CH3)CH20)bY, (CH(CH3)CH2NZ)aY, (CH(CH3)CH2S)nY waarbij n een getal is tussen 1 en 100. Y en z kan onder andere worden gekozen uit de volgende groepen H, Cj-Cj,,, alkyl (inclusief lineaire en cyclische 20 structuren), aryl, gesubstitueerd aryl, hetrocyli bevattende 0,S,N of P atomen, aromatische hetrocycli bevattende 0,S,N of P atomen. Ook derivaten van deze verbindingen kunnen worden gebruikt zoals bijvoorbeeld esters, urethanen, urea, thiourethanen en anhydrides.30 0 R2 R1 35 1006621 '- 3 - X can be, for example, one of the following groups: 0R4,, SR | For example, "R 1, R 2" R 3, independently of one another, may be the following groups: H, C 1 -C 20 alkyl, aryl, 5-substituted aryl, COORs, CONR6R7, CH2COOR6, CH2OR6, 0Re, NR6R7, SRe, Cl, or CN. Herein, R4, Rs, Re and R7 are selected from the following groups: H, ΰ-ΰ20, alkyl (including linear and cyclic structures), aryl, substituted aryl, hetrocyli containing 0, S, N or P 10 atoms, containing aromatic hetrocycles 0, S, N or P atoms, COY, CH2COY, CH20Y, CH2NYZ, CH2SY, CH2CH2OY, CH2CH2HYZ CH2CH2SY, CH2CH (CH3) OY, CH2CH (CH3) NYZ, CH2CH (CH3) SY, CH (CH3) CH2OY, CH ( CH3) CH2NYZ, CH (CH3) CH2SY, (CH20) nY, (CH2NZ) nY, (CH2S) nY, (CH2CH20) nY, (CH2CH2NZ) aY 15 (CH2CH2S) aY, (CH2CH (CH3) O) aY, ( CH2CH (CH3) NZ) aY, (CH2CH (CH3) S) aY, (CH (CH3) CH20) bY, (CH (CH3) CH2NZ) aY, (CH (CH3) CH2S) nY where n is a number between 1 and 100. Y and z may be selected from, among others, the following groups H, C 1 -C 12 alkyl (including linear and cyclic structures), aryl, substituted aryl, hetrocyli containing 0, S, N or P atoms, aromatic hetrocycles containing 0, S, N or P atoms. Derivatives of these compounds can also be used, such as, for example, esters, urethanes, ureas, thiourethanes and anhydrides.
25 Bij voorkeur worden de volgende verbindingen of combinaties hiervan gebruikt: acrylaten (X=OR4, RX=H, R2=H, r3«H) methacrylaten (X=OR4, RX=CH3, R2=H, R3=H) acrylamides (X»NR4R5, RX*H, R2=H, R3=H) fumaraten (X*OR4,‘ RxeH, R2= COOR6, R3=H) maleaten (X—OR4, RX=H, R2eH, R3s 30 COORe) itaconaten (X=OR4, Rx= CH2COORe, R2»H, R3=H) citraconaten (X=OR4, Rx= CH3, R2=H, R3= COOR6) en mesaconaten (X=OR4, Rx= CH3, R2= COORe, R3=H) en derivaten hiervan zoals bijvoorbeeld fumaaramide-esters maleamide-esters fumaaramides. Cyclische structuren waarbij X is 35 verbonden met Rx, R2 of R3 behoren ook tot de ' - 4 - mogelijkheden. Ook derivaten van deze verbindingen kunnen worden gebruikt zoals bijvoorbeeld esters, urethanen, urea, thiourethanen en anhydrides.Preferably the following compounds or combinations thereof are used: acrylates (X = OR4, RX = H, R2 = H, r3 «H) methacrylates (X = OR4, RX = CH3, R2 = H, R3 = H) acrylamides ( X »NR4R5, RX * H, R2 = H, R3 = H) fumarates (X * OR4, RxeH, R2 = COOR6, R3 = H) maleates (X — OR4, RX = H, R2eH, R3s 30 COORe) itaconates (X = OR4, Rx = CH2COORe, R2 »H, R3 = H) citraconates (X = OR4, Rx = CH3, R2 = H, R3 = COOR6) and mesaconates (X = OR4, Rx = CH3, R2 = COORe, R3 = H) and derivatives thereof such as, for example, fumaramide esters, maleamide esters, fumar amides. Cyclic structures where X is connected to Rx, R2 or R3 are also among the '- 4 possibilities. Derivatives of these compounds can also be used, such as, for example, esters, urethanes, ureas, thiourethanes and anhydrides.
Voor de reactieve onverzadiging aan een 5 elektron-donerende groep (b) wordt bij voorkeur gekozen uit een vinylether, een vinylester, een vinylamide, een vinylamine, een vinylthioether of een vinylthioester.For the reactive unsaturation on an electron donating group (b), it is preferred to choose from a vinyl ether, a vinyl ester, a vinyl amide, a vinyl amine, a vinyl thioether or a vinyl thioester.
Voor een allyl groep bevattende verbinding aan een elektron-donerende groep (c) wordt bij voorkeur 10 gekozen uit een allylether, een allylester, een allylamine of een allylamide.For an allyl group-containing compound to an electron-donating group (c), it is preferable to select from an allyl ether, an allyl ester, an allylamine or an allylamide.
De hoeveelheid reactieve onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) van de stralingsuithardbare uithardende hars is tussen de 25% en 100%. De hoeveelheid 15 reactieve onverzadiging aan een elektron-donerende groep (b) of een allylgroep bevattende verbinding aan een elektron-donerende groep (c) of een mengsel hiervan (b+c) van de stralingsuithardbare uithardende hars is tussen de 0% en 75% afhankelijk van de hoeveelheid reactieve 20 onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) van de stralingsuithardbare uithardende hars.The amount of reactive unsaturation to an electron withdrawing group (a) of the radiation-curable curing resin is between 25% and 100%. The amount of reactive unsaturation to an electron-donating group (b) or an allyl group-containing compound to an electron-donating group (c) or a mixture thereof (b + c) of the radiation-curable curing resin is between 0% and 75% depending on the amount of reactive unsaturation to an electron-withdrawing group (a) of the radiation-curable curing resin.
Volgens een voorkeursuitvoeringsvorm is de hoeveelheid reactieve onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) van de stralingsuithardbare hars 100%. 25 Volgens een andere voorkeursuitvoeringsvorm is hoeveelheid reactieve onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) van de stralingsuithardbare hars 50% en de hoeveelheid reactieve onverzadiging aan een elektron-donerende groep (b) of een allylgroep bevattende verbinding aan een 30 elektron-donerende groep (c) of een mengsel hiervan (b+c) van de stralingsuithardbare hars 50%.In a preferred embodiment, the amount of reactive unsaturation on an electron-withdrawing group (a) of the radiation-curable resin is 100%. In another preferred embodiment, amount of reactive unsaturation to an electron-withdrawing group (a) of the radiation-curable resin is 50% and amount of reactive unsaturation to an electron-donating group (b) or an allyl-containing compound to an electron-donating group (c) or a mixture thereof (b + c) of the radiation-curable resin 50%.
De reactieve onverzadiging aan een elektron-zuigende groep (a) kan via R4 verbonden zijn aan polymeren of oligomeren. Voorbeelden van dergelijke polymeren of 35 oligomeren zijn polyurethanen, polyesters, polyacrylaten, V006621 - 5 - polyethers, polyolefinen die bijvoorbeeld eenheden bevatten uit de groep etheen, propeen, butadieenen styreen, koolwaterstof polymeren zoals bijvoorbeeld (co)polymeren van cyclopentadieen, polysilicaten, 5 polycarbonaten, polyvinylesters, rubbers zoals polyisopreen, natuurrubbers en polyepoxiden. Meng-polymeren zoals polyetherurethanen, polyesters urethanen, polyethercarbonaten en polyepoxide esters. Ook combinaties van polymeren of oligomeren kunnen worden gebruikt.The reactive unsaturation on an electron withdrawing group (a) may be linked to polymers or oligomers via R4. Examples of such polymers or oligomers are polyurethanes, polyesters, polyacrylates, polyether, polyolefins, polyolefins containing, for example, units from the group ethylene, propylene, butadiene styrene, hydrocarbon polymers such as, for example, (co) polymers of cyclopentadiene, polysilicates, 5 polycarbonates , polyvinyl esters, rubbers such as polyisoprene, natural rubbers and polyepoxides. Mixed polymers such as polyether urethanes, polyesters urethanes, polyether carbonates and polyepoxide esters. Also combinations of polymers or oligomers can be used.
10 In het geval dat de reactieve onverzadiging aan de elektron zuigende groep (a) naast R« een andere functionaliteit heeft in de vorm van Rx, R2 of Ra zoals bijvoorbeeld COOR6, CONR6R7, CH2COOR6 of CH2OR6 kan de reactieve onverzadiging worden ingebouwd in de polymere of 15 oligomere keten. Voorbeelden van dergelijke polymeren of oligomeren zijn onverzadigde polyesters waarbij fumaraat-, maleaat-, itaconaat-, citraconaat- of mesaconaat-functionaliteiten zijn gebruikt voor de opbouw van het polymeer of oligomeer. Gij voorkeur is het aantal 20 reactieve onverzadiging en aan een elektron-zuigende groep aan een polymeer of oligomeer groter dan 1.In the case where the reactive unsaturation on the electron withdrawing group (a) in addition to R «has another functionality in the form of Rx, R2 or Ra such as, for example, COOR6, CONR6R7, CH2COOR6 or CH2OR6, the reactive unsaturation can be built into the polymeric or 15 oligomeric chain. Examples of such polymers or oligomers are unsaturated polyesters in which fumarate, maleate, itaconate, citraconate or mesaconate functionalities have been used to build up the polymer or oligomer. You prefer the number of reactive unsaturation and on an electron withdrawing group on a polymer or oligomer greater than 1.
De reactieve onverzadiging aan een elektron-donerende groep (b) of de allylgroep bevattende verbinding aan een elektron-donerende groep (c) kan via ether-, 25 esteramine of amidebindingen aan de hierboven beschreven polymeren of oligomeren zijn gebonden, of in het geval van bifunctionele reactieve onverzadiging aan een elektron-donerende groep of een bi-functionele allyl verbinding ook worden ingebouwd in een polymere of oligomere keten.The reactive unsaturation to an electron-donating group (b) or the allyl group-containing compound to an electron-donating group (c) may be attached via ether, ester amine or amide bonds to the above-described polymers or oligomers, or in the case of bifunctional reactive unsaturation on an electron-donating group or a bi-functional allyl compound can also be incorporated into a polymeric or oligomeric chain.
30 Naast de hierboven beschreven reactieve onverzadigingen aan of in een polymeer of oligomeer kan de stralingsuithardbare harssamenstelling ook laagmoleculaire verbindingen met een reactieve onverzadiging bevatten.In addition to the reactive unsaturations on or in a polymer or oligomer described above, the radiation-curable resin composition may also contain low molecular weight compounds with a reactive unsaturation.
Deze laagmoleculaire verbindingen bevatten een reactieve 35 onverzadiging in het molecuul met nevengroepen die 1006621 - 6 - aromatisch, alifatisch of cycloalifatisch kunnen zijn. Voorts kunnen deze moleculen meerdere functionaliteiten bevatten i.e. mono- en multifunctioneel zijn.These low molecular compounds contain a reactive unsaturation in the molecule with side groups which can be 1006621-6 - aromatic, aliphatic or cycloaliphatic. Furthermore, these molecules can contain multiple functionalities i.e. mono- and multifunctional.
Voorbeelden hiervan zijn onder andere ethylacrylaat, 5 ethylmethacrylaat, methylmethacrylaat, hexaandioldiacrylaat, hexaandioldimethacrylaat, trimethylolpropaantriacrylaat, trimethylolpropaan-trimethacrylaat, acrylamides zoals bijvoorbeeld acrylamide, N-methylacrylamide, N-laurylacrylamide, 10 maleaat esters zoals bijvoorbeeld ethylmaleaat, diethylmaleaat, methylmaleaat, maleamides zoals N,N'-bismaleamide, Ν,Ν'-dimethylmaleamide, fumaraatesters zoals bijvoorbeeld ethylfumaraat, diethylfumaraat, fumaaramides, itaconzure esters zoals bijvoorbeeld methylitaconaat, 15 dimethylitaconaat, ethylitaconaat, itacon amides, itacon imides, citraconzure esters zoals bijvoorbeeld methyl-citraconaat, diethylcitraconaat, mesaconzure ester zoals bijvoorbeeld methylmesaconaat, diethylmesaconaat vinylethers zoals bijvoorbeeld butylvinylether, 20 etheicyclohexylether, triethyleenglycol divinylether en hydroxybutylvinyletherallyl verbindingen zoals bijvoorbeeld allylalcohol, allylether, diallylether, allylamine, diallylamine, triallyamine, allylesters zoals bijvoorbeeld azijnzure allylester, adipinezure 25 diallylester en ftaalzure diallylester.Examples of these include ethyl acrylate, ethyl methacrylate, methyl methacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylol propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, acrylamides such as, for example, acrylamide, N-methyl acrylate, for example, methyl maleate ester, diethyl maleate N'-bismaleamide, Ν, Ν'-dimethylmaleamide, fumarate esters such as, for example, ethyl fumarate, diethyl fumarate, fumar amides, itaconic acid esters such as, for example, methylitaconate, dimethylitaconate, ethylitaconate, itacone amides, itacon imides, citraconyl acetate such as, for example, diethyl acid esters such as, for example, methyl mesaconate, diethyl mesaconate vinyl ethers such as, for example, butyl vinyl ether, etheicyclohexyl ether, triethylene glycol divinylether and hydroxybutyl vinyl ether allyl compounds such as, for example, allyl alcohol, allyl ether, diallyl ether, all ylamine, diallylamine, triallyamine, allyl esters such as, for example, acetic acid allyl ester, adipic acid diallyl ester and phthalic acid diallyl ester.
De alifatische maleïmides worden gekenmerkt doordat aan het stikstof atoom van het maleïmide een alifatisch koolstof zit, zoals weergegeven in de volgende structuur.The aliphatic maleimides are characterized in that the nitrogen atom of the maleimide has an aliphatic carbon, as shown in the following structure.
3030
OO
Aa
UN-?-R’ 35 I R3UN -? - R '35 I R3
OO
t006R?1 - 7 -t006R? 1 - 7 -
Hierbij kan voor Rlf R2, R3 onafhankelijk van elkaar onder andere worden gekozen uit : H t CJ.-C20 alkyl, aryl, hydroxy, thiol, amines, ethers, thioethers, esters, thioesters, amides, thioamides, urethanen, thiourethanen 5 en combinaties van deze functionaliteiten. Hierbij is het ook mogelijk dat Rlr R2, R3 deel uit maken van ringsystemen of zelf op deze wijze onderling zijn verbonden zoals bijvoorbeeld in het geval dat Ri-R2 is CSH10 en R3 is H i.e. cyclohexyl maleïmide.For R 1, R 2, R 3 can be independently selected, inter alia, from: H t CJ-C 20 alkyl, aryl, hydroxy, thiol, amines, ethers, thioethers, esters, thioesters, amides, thioamides, urethanes, thiourethanes and combinations of these functionalities. It is also possible here that R 1, R 2, R 3 form part of ring systems or are themselves interconnected in this manner, such as, for example, in the case where R 1 -R 2 is CSH 10 and R 3 is H i.e. cyclohexyl maleimide.
10 Ook is het mogelijk dat het alifatisch maleïmide meer dan een maleïmide groep bevat i.e. een bis, tris, tetra, penta, hexa, etc. maleïmide. In het geval dat het alifatisch maleïmide meer dan één maleïmide groep bevat kunnen deze maleïmide groepen verbonden zijn middels een 15 volledig koolstof bevattende keten. Ook is het mogelijk dat deze maleïmide groepen zijn verbonden middels andere functionaliteiten zoals bijvoorbeeld: amines, ethers, thioethers, esters, thioesters, amides, thioamides, urethanen en thiourethanen. De andere functionaliteiten 20 kunnen onderdeel zijn van oligo(polymere) ketens zoals bijvoorbeeld onder andere polyethers, polyesters, polyurethaan, polyetheen. Ook combinaties van functionele groepen zijn hierin mogelijk zoals bijvoorbeeld onder andere een polyetherurethaan.It is also possible that the aliphatic maleimide contains more than one maleimide group, ie a bis, tris, tetra, penta, hexa, etc. maleimide. In case the aliphatic maleimide contains more than one maleimide group, these maleimide groups can be linked by a full carbon-containing chain. It is also possible that these maleimide groups are linked by other functionalities such as for example: amines, ethers, thioethers, esters, thioesters, amides, thioamides, urethanes and thiourethanes. The other functionalities can be part of oligo (polymeric) chains, such as, for example, polyethers, polyesters, polyurethane, polyethylene. Combinations of functional groups are also possible herein, such as, for example, a polyether urethane.
25 Volgens een voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding worden maleïmides gebruikt met hydroxy-, ether-, ester- of urethaanfunctionaliteiten.According to a preferred embodiment of the invention, maleimides are used with hydroxy, ether, ester or urethane functionalities.
Volgens een andere voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding bevat het alifatisch maleïmide meer dan één 30 maleïmide groep.According to another preferred embodiment of the invention, the aliphatic maleimide contains more than one maleimide group.
Volgens een derde voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding bevat het alifatisch maleïmide meer dan één maleïmide groep en een hydroxy-, ether-, ester- of urethaanfunctionaliteit of combinaties van deze 35 functionaliteiten.According to a third preferred embodiment of the invention, the aliphatic maleimide contains more than one maleimide group and a hydroxy, ether, ester or urethane functionality or combinations of these functionalities.
100662Ï - 8 -100662Ï - 8 -
De hoeveelheid maleïmide in deze stralingsuithardbare coatingsamenstelling is niet kritisch. Bij voorkeur ligt de hoeveelheid maleïmide gebruikt in deze stralingsuithardbare coatingsamenstelling 5 tussen de 0,1 en 15 gew.% ten opzichte van de stralingsuithardbare harssamenstelling. Beneden de 0,1 gew.% maleïmide reageert de stralingsuithardbare coatingsamenstelling te langzaam. Boven de 15 gew.% worden de eigenschappen van de uitgeharde stralingsuithardbare 10 coatingsamenstelling nadelig beïnvloed.The amount of maleimide in this radiation-curable coating composition is not critical. Preferably, the amount of maleimide used in this radiation-curable coating composition 5 is between 0.1 and 15% by weight relative to the radiation-curable resin composition. Below 0.1 wt% maleimide, the radiation-curable coating composition reacts too slowly. Above 15 wt%, the properties of the cured radiation-curable coating composition are adversely affected.
De tertiaire amine kan een aromatisch of een alifatisch tertiair amine zijn. Voordeel van een alifatisch tertiair amine is, dat deze verbinding de reactiviteit van de uithardingsreactie extra verhoogt, 15 terwijl het voordeel van een aromatisch tertiair amine is, dat dit veel minder vluchtig is en derhalve beter door de uitgeharde stralingsuithardbare coatingsamenstelling wordt gebonden.The tertiary amine can be an aromatic or an aliphatic tertiary amine. The advantage of an aliphatic tertiary amine is that this compound additionally increases the reactivity of the curing reaction, while the advantage of an aromatic tertiary amine is that it is much less volatile and is therefore better bound by the cured radiation-curable coating composition.
Het tertiaire amine kan naast de tertiaire amine 20 functionaliteit nog andere functionaliteiten bevatten zoals bijvoorbeeld onder andere hydroxy-, thiol-, ether-, ester-, nitril-, acrylaat-, vinyl-, urethaan- en amide-functionaliteiten. Tevens kan het tertiaire amine een monomeer, oligomeer of polymeer zijn met een tertiaire 25 amine functionaliteit. Een voorbeeld van een tertiair amine zonder andere functionaliteiten is onder andere triethylamine. Voorbeelden van tertiaire amines met een hydroxy functionaliteit zijn onder andere N,N-dimethylethanol amine, N-methyl diethanol amine (Genocure 30 MDEA, RAHN) en triethanol amine. Een voorbeeld van een tertiair amine met een ether functionaliteit is onder andere N-methylmorpholine. Voorbeelden van aromatische tertiaire amines zijn onder andere 2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoaat (Quantacure EHA, RAHN), ethyl-4-35 dimethylaminobenzoaat (Quantacure EPD, RAHN), 2- 1006621 - 9 - dimethylaminoethylbenzoaat (Quantacure DMB, RAHN) en 2-Butoxyethyl 4-(dimethylamino)benzoaat. Voorbeelden van oligomere (polymere) tertiaire amines zijn onder andere derivaten van de Jeffamines, Actilane 584 (AKCROS) en 5 Actilane 587 (AKCROS).The tertiary amine may contain other functionalities in addition to the tertiary amine functionality, such as, for example, hydroxy, thiol, ether, ester, nitrile, acrylate, vinyl, urethane and amide functionalities. Also, the tertiary amine can be a monomer, oligomer or polymer with a tertiary amine functionality. An example of a tertiary amine without other functionalities includes triethylamine. Examples of tertiary amines with a hydroxy functionality include N, N-dimethylethanol amine, N-methyl diethanol amine (Genocure 30 MDEA, RAHN) and triethanol amine. An example of a tertiary amine with an ether functionality includes N-methylmorpholine. Examples of aromatic tertiary amines include 2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoate (Quantacure EHA, RAHN), ethyl 4-35 dimethylaminobenzoate (Quantacure EPD, RAHN), 2-1006621-9-dimethylaminoethyl benzoate (Quantacure DMB, RAHN) and 2 -Butoxyethyl 4- (dimethylamino) benzoate. Examples of oligomeric (polymeric) tertiary amines include derivatives of the Jeffamines, Actilane 584 (AKCROS) and Actilane 587 (AKCROS).
Voorbeelden van tertiaire amines met een functionaliteit die onder de stralingsuitharding kan mee reageren zoals bijvoorbeeld acrylaten of vinylether functionaliteiten, zijn onder andere Ebecryl P115 (UCB), Ebecryl 7100 (UCB), 10 Genomer 5248 (RAHN), Genomer 8275 (RAHN), Genomer 5695 (RAHN), Actilane 705 (AKCROS), Actilane 715 (AKCROS), Actilane 735 (AKCROS), diethylaminoethylvinylether (DEAVE, BASF)Examples of tertiary amines with a radiation-reactive functionality such as, for example, acrylates or vinyl ether functionalities, include Ebecryl P115 (UCB), Ebecryl 7100 (UCB), 10 Genomer 5248 (RAHN), Genomer 8275 (RAHN), Genomer 5695 (RAHN), Actilane 705 (AKCROS), Actilane 715 (AKCROS), Actilane 735 (AKCROS), diethylaminoethyl vinyl ether (DEAVE, BASF)
Ook derivaten van de hierboven genoemde tertiaire amines 15 kunnen worden gebruikt evenals mengsels van de hierboven genoemde tertiaire amines.Derivatives of the above-mentioned tertiary amines can also be used, as can mixtures of the above-mentioned tertiary amines.
De hoeveelheid tertiair amine gebruikt in een stralingsuithardbare coating samenstelling is niet kritisch. Bij voorkeur ligt de hoeveelheid tertiair amine 20 gebruikt in een stralingsuithardbare coating samenstelling tussen de 0,1 en 15 gew.% ten opzichte van de stralingsuithardbare harssamenstelling. Bij een hoeveelheid tertiair amine beneden de 0,1 gew. % neemt de reactiesnelheid van de uithardingsreactie sterk af. Bij een 25 hoeveelheid tertiar amine boven de 15 gew.% kan de tertiaire amine niet langer geheel in de uitgeharde stralingsuithardbare coatingsamenstelling worden gebonden.The amount of tertiary amine used in a radiation-curable coating composition is not critical. Preferably, the amount of tertiary amine 20 used in a radiation-curable coating composition is between 0.1 and 15% by weight relative to the radiation-curable resin composition. At an amount of tertiary amine below 0.1 wt. % the reaction speed of the curing reaction decreases sharply. At an amount of tertiary amine above 15% by weight, the tertiary amine can no longer be completely bound in the cured radiation-curable coating composition.
De stralingsuithardbare coatingsamenstelling ' volgens de uitvinding kan ook additieven zoals bijvoor-30 beeld pigmenten, vulmiddelen en matteringsmiddelen bevatten.The radiation-curable coating composition of the invention may also contain additives such as, for example, pigments, fillers and matting agents.
Naast de maleïmide /tertiair amine combinatie zoals hierboven beschreven kan de stralingsuithardbare coating samenstelling ook andere photoactieve verbindingen 35 bevatten. Andere photoactieve verbindingen zijn ketonisch 1006621 - 10 - en kunnen aromatisch zijn zoals bijvoorbeeld xanthon, thioxanthon en benzophenon. Andere voorbeelden van geschikte aromatische ketonen zijn Darocure 1173 (2-hydroxy-2-methyl-l-fenylpropaan-l-on als actieve 5 component), Irgacure 184 (hydroxy-cyclohexyl fenyl keton als actieve component), Irgacure 369 (2-benzyl-2-dimethylamino-l-(morpholinophenyl)-butanon-l als actieve component), acylphosphines zoals bijvoorbeeld Lucerine TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide).In addition to the maleimide / tertiary amine combination as described above, the radiation-curable coating composition may also contain other photoactive compounds. Other photoactive compounds are ketonic 1006621-10 and may be aromatic such as, for example, xanthone, thioxanthone and benzophenone. Other examples of suitable aromatic ketones are Darocure 1173 (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as active component), Irgacure 184 (hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone as active component), Irgacure 369 (2-benzyl -2-dimethylamino-1- (morpholinophenyl) -butanone-1 as active ingredient), acylphosphines such as, for example, Lucerine TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide).
10 Chemische derivaten alsmede combinaties van deze photoinitiatoren kunnen ook worden gebruikt.Chemical derivatives as well as combinations of these photoinitiators can also be used.
De stralingsuithardbare coatingsamenstelling kan door verschillende soorten straling worden uitgehard, zoals bijvoorbeeld UV- en EB-straling.The radiation-curable coating composition can be cured by various types of radiation, such as, for example, UV and EB radiation.
15 De stralingsuithardbare coating samenstelling volgens de uitvinding kan op verschillende substraten worden gebruikt zoals bijvoorbeeld onder andere glas, papier, hout, plastic, metalen zoals onder andere aluminium en ijzer.The radiation-curable coating composition according to the invention can be used on various substrates, such as, for example, glass, paper, wood, plastic, metals such as aluminum and iron, among others.
20 De uitvinding wordt verder toegelicht aan de hand van de volgende voorbeelden zonder daartoe beperkt te zijn.The invention is further illustrated by the following examples without being limited thereto.
De reacties werden gevolgd met real time IR spectroscopie, waarbij de omzetting van de dubbele 25 bindingen tijdens de photopolymerisatie werd gevolgd op een infraroodmachine (Bruker IFS55). Als reactiesnelheid werd de bestralingstijd genomen die nodig was om 97 mol % conversie van de dubbele bindingen te bereiken.The reactions were monitored by real time IR spectroscopy, the conversion of the double bonds during photopolymerization being monitored on an infrared machine (Bruker IFS55). The irradiation time required to achieve the 97 mol% conversion of the double bonds was taken as the reaction speed.
30 ,100662' - 11 -30, 100662 '- 11 -
Experiment IExperiment I
Bereiding en uithardino van een coating samenstelling bevattende een alifatisch maleïmide en een alifatisch tertiair amine 5 0,4 gram N-cyclohexylmaleïmide (2%) en 0,4 gram N,N-dimethylethanglamine (2%) werd opgelost in een mengsel van 9,2 gram ethyleenglycolmethyletheracrylaat en 9,2 gram geëthoxyleerd trimethylolpropaantrisacrylaat (Mw=450).Preparation and curing of a coating composition containing an aliphatic maleimide and an aliphatic tertiary amine. 0.4 grams of N-cyclohexylmaleimide (2%) and 0.4 grams of N, N-dimethylethanglamine (2%) were dissolved in a mixture of 9, 2 grams of ethylene glycol methyl ether acrylate and 9.2 grams of ethoxylated trimethylol propane trisacrylate (Mw = 450).
Een 10 μπι dikke film werd op een goud gecoat aluminium 10 plaatje opgebracht. Vervolgens werd dit plaatje in de infrarood machine uitgehard met een dosis van 500 mW/cm2 en de conversie van de acrylaat dubbele bindingen werd gevolgd. 97 % conversie werd bereikt na 5,2 seconden.A 10 µm thick film was applied to a gold coated aluminum plate. This plate was then cured in the infrared machine at a dose of 500 mW / cm2 and the conversion of the acrylate double bonds was monitored. 97% conversion was achieved after 5.2 seconds.
15 Experiment II15 Experiment II
Bereiding en uithardino van een coating samenstelling bevattende een alifatisch maleïmide en een alifatisch tertiair kinine 0,4 gram N-methylmaleïmide (2%) en 0,4 gram N,N-20 dimethylethanolamine (2%) werd opgelost in een mengsel van 9,6 gram ethyleenglycolmethyletheracrylaat en 9,6 gram geëthoxyleerd trimethylolpropaantrisacrylaat (Mw-450).Preparation and curing of a coating composition containing an aliphatic maleimide and an aliphatic tertiary quinine 0.4 grams of N-methylmaleimide (2%) and 0.4 grams of N, N-20 dimethylethanolamine (2%) were dissolved in a mixture of 9, 6 grams of ethylene glycol methyl ether acrylate and 9.6 grams of ethoxylated trimethylol propane trisacrylate (Mw-450).
Een 10 μια dikke film werd op een goud gecoat aluminium plaatje opgebracht. Vervolgens werd dit plaatje in de 25 infrarood machine uitgehard met een dosis van 500 mW/cm2 en de conversie van de acrylaat dubbele bindingen werd gevolgd. 97% conversie werd bereikt na 8,7 seconden.A 10 µl thick film was applied to a gold coated aluminum plate. This plate was then cured in the infrared machine at a dose of 500 mW / cm2 and the conversion of the acrylate double bonds was monitored. 97% conversion was reached after 8.7 seconds.
Vergelijkend voorbeeld AComparative example A
30 Bereiding en uithardino van een coatino samenstelling bevattende een alifatisch maleïmide zonder een tertiair amine 0,4 gram N-cyclohexylmaleïmide (2%) werd opgelost in een mengsel van 9,2 gram ethyleenglycol-35 methyletheracrylaat en 9,2 gram geëthoxyleerd trimethylol- 1006621 ' -12- propaantrisacrylaat (Mw=450).Preparation and curing of a coatino composition containing an aliphatic maleimide without a tertiary amine 0.4 grams of N-cyclohexylmaleimide (2%) was dissolved in a mixture of 9.2 grams of ethylene glycol-35-ether acrylate and 9.2 grams of ethoxylated trimethylol-1006621 12-propane trisacrylate (Mw = 450).
Een 10 μτα dikke film werd op een goud gecoat aluminium plaatje opgebracht. Vervolgens werd dit plaatje in de infrarood machine uitgehard met een dosis van 500 mW/cm2 5 en de conversie van de acrylaat dubbele bindingen werd gevolgd. 97 % conversie werd bereikt na 9,8 seconden.A 10 μτα thick film was applied to a gold coated aluminum plate. This plate was then cured in the infrared machine at a dose of 500 mW / cm 2 and the conversion of the acrylate double bonds was monitored. 97% conversion was achieved after 9.8 seconds.
Vergelijkend voorbeeld BComparative example B
Bereiding en uithardina van een coating samenstelling 10 bevattende een alifatisch maleïmide zonder een tertiair amine 0,4 gram N-methylmaleïmide (2%) werd opgelost in een mengsel van 9,6 gram ethyleenglycolmethyletheracrylaat en 9,6 gram geëethoxyleerd trimethylolpropaantrisacrylaat 15 (Mw=450).Preparation and curing of a coating composition 10 containing an aliphatic maleimide without a tertiary amine 0.4 grams of N-methylmaleimide (2%) was dissolved in a mixture of 9.6 grams of ethylene glycol methyl ether acrylate and 9.6 grams of ethoxylated trimethylol propane trisacrylate 15 (Mw = 450 ).
Een 10 μια dikke film werd op een goud gecoat aluminium plaatje opgebracht. Vervolgens werd dit plaatje in de infrarood machine uitgehard met een dosis van 500 mW/cm2 en de conversie van de acrylaat dubbele bindingen werd 20 gevolgd. 97% conversie werd bereikt na 10,4 seconden.A 10 µl thick film was applied to a gold coated aluminum plate. This plate was then cured in the infrared machine at a dose of 500 mW / cm2 and the conversion of the acrylate double bonds was monitored. 97% conversion was reached after 10.4 seconds.
Vergelijkend voorbeeld CComparative example C
Bereiding en uithardino van een coating samenstelling bevattende een aromatisch maleïmide en een tertiair amine 25 0,4 gram N-phenylmalelmide (2%) en 0,4 gram N,N- dimethylethanolamine (2%) werd opgelost in een mengsel van 9,2 gram ethyleenglycolmethyletheracrylaat en 9,2 gram geëthoxyleerd trimethylolpropaantrisacrylaat (Mw=450).Preparation and curing of a coating composition containing an aromatic maleimide and a tertiary amine 0.4 grams of N-phenylmalelmide (2%) and 0.4 grams of N, N-dimethylethanolamine (2%) were dissolved in a mixture of 9.2 grams of ethylene glycol methyl ether acrylate and 9.2 grams of ethoxylated trimethylol propane trisacrylate (Mw = 450).
Een 10 μπι dikke film werd op een goud gecoat aluminium 30 plaatje opgebracht. Vervolgens werd dit plaatje in de infrarood machine uitgehard met een dosis van 500 mW/cm2 en de conversie van de acrylaat dubbele bindingen werd gevolgd. 97 % conversie werd bereikt na 171 seconden.A 10 µm thick film was applied to a gold coated aluminum plate. This plate was then cured in the infrared machine at a dose of 500 mW / cm2 and the conversion of the acrylate double bonds was monitored. 97% conversion was reached after 171 seconds.
35 400662j - 13 -35 400662j - 13 -
Uit de experimenten en de vergelijkende voorbeelden kan duidelijk worden geconcludeerd dat een hoge conversie het snelst wordt bereikt door gebruik te maken van de combinatie alifatisch malelmide met een 5 tertiair amine.From the experiments and the comparative examples, it can be clearly concluded that a high conversion is achieved most quickly by using the combination aliphatic malelmide with a tertiary amine.
►1006621►1006621
Claims (9)
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1006621A NL1006621C2 (en) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Radiation curable coating composition. |
| JP2000503147A JP2001510220A (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation curable coating composition |
| BR9811515-4A BR9811515A (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Composition of radiation curable coating |
| AU82457/98A AU8245798A (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
| CN 98807374 CN1264409A (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
| KR1020007000408A KR20010021844A (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
| CA002297056A CA2297056A1 (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
| PCT/NL1998/000382 WO1999003930A1 (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
| EP98932622A EP0996680A1 (en) | 1997-07-18 | 1998-07-03 | Radiation-curable coating composition |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1006621 | 1997-07-18 | ||
| NL1006621A NL1006621C2 (en) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Radiation curable coating composition. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL1006621C2 true NL1006621C2 (en) | 1999-01-19 |
Family
ID=19765383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL1006621A NL1006621C2 (en) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Radiation curable coating composition. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0996680A1 (en) |
| JP (1) | JP2001510220A (en) |
| KR (1) | KR20010021844A (en) |
| CN (1) | CN1264409A (en) |
| AU (1) | AU8245798A (en) |
| BR (1) | BR9811515A (en) |
| CA (1) | CA2297056A1 (en) |
| NL (1) | NL1006621C2 (en) |
| WO (1) | WO1999003930A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000020517A2 (en) * | 1999-01-19 | 2000-04-13 | Dsm N.V. | Radiation-curable compositions comprising maleimide compounds and method for producing a substrate with a cured layer |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1051665B1 (en) | 1998-01-30 | 2006-07-12 | Albemarle Corporation | Photopolymerization compositions including maleimides and processes for using the same |
| ATE414722T1 (en) * | 2000-06-19 | 2008-12-15 | Toagosei Co Ltd | CROSS-LINKABLE RESIN COMPOSITIONS |
| US20040029044A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
| US7811480B2 (en) | 2004-03-04 | 2010-10-12 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic optical article |
| US7507785B2 (en) | 2004-07-15 | 2009-03-24 | Agfa Graphics N.V. | Polymeric co-initiators |
| US7396861B2 (en) | 2004-07-15 | 2008-07-08 | Agfa Graphics Nv | Radiation curable compositions |
| US7258437B2 (en) | 2005-09-07 | 2007-08-21 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic multifocal optical article |
| WO2010108862A1 (en) | 2009-03-24 | 2010-09-30 | Basf Se | Novel oligofunctional photoinitiators |
| US8906979B2 (en) | 2009-07-30 | 2014-12-09 | Basf Se | Macrophotoinitiators |
| WO2014060450A1 (en) | 2012-10-19 | 2014-04-24 | Basf Se | Hybrid photoinitiators |
| JP6161089B2 (en) | 2012-12-18 | 2017-07-12 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | Semiconductor material based on naphthalene diimide-vinylene-oligothiophene-vinylene polymer |
| CN110172073A (en) | 2012-12-19 | 2019-08-27 | Igm集团公司 | The derivative of double acyl group phosphinic acids, its preparation and its purposes as photoinitiator |
| KR102257105B1 (en) | 2013-07-08 | 2021-05-28 | 아이지엠 그룹 비.브이. | Liquid bisacylphosphine oxide photoinitiator |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3855180A (en) * | 1971-07-21 | 1974-12-17 | Gen Electric | Curable compositions from blend of maleimido compound and vinyl ether |
| US4025409A (en) * | 1975-07-14 | 1977-05-24 | Scm Corporation | Dual cure cathodic electrocoating process |
| JPS5698245A (en) * | 1980-01-09 | 1981-08-07 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Curable resin composition |
| JPH061944A (en) * | 1992-06-19 | 1994-01-11 | Hitachi Chem Co Ltd | Resin composition for coating and resin composition for color filter protection film produced by using the composition |
-
1997
- 1997-07-18 NL NL1006621A patent/NL1006621C2/en not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-07-03 WO PCT/NL1998/000382 patent/WO1999003930A1/en not_active Application Discontinuation
- 1998-07-03 BR BR9811515-4A patent/BR9811515A/en not_active IP Right Cessation
- 1998-07-03 EP EP98932622A patent/EP0996680A1/en not_active Withdrawn
- 1998-07-03 AU AU82457/98A patent/AU8245798A/en not_active Abandoned
- 1998-07-03 KR KR1020007000408A patent/KR20010021844A/en not_active Application Discontinuation
- 1998-07-03 CN CN 98807374 patent/CN1264409A/en active Pending
- 1998-07-03 CA CA002297056A patent/CA2297056A1/en not_active Abandoned
- 1998-07-03 JP JP2000503147A patent/JP2001510220A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3855180A (en) * | 1971-07-21 | 1974-12-17 | Gen Electric | Curable compositions from blend of maleimido compound and vinyl ether |
| US4025409A (en) * | 1975-07-14 | 1977-05-24 | Scm Corporation | Dual cure cathodic electrocoating process |
| JPS5698245A (en) * | 1980-01-09 | 1981-08-07 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Curable resin composition |
| JPH061944A (en) * | 1992-06-19 | 1994-01-11 | Hitachi Chem Co Ltd | Resin composition for coating and resin composition for color filter protection film produced by using the composition |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 005, no. 168 (C - 077) 27 October 1981 (1981-10-27) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 018, no. 201 (C - 1188) 8 April 1994 (1994-04-08) * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000020517A2 (en) * | 1999-01-19 | 2000-04-13 | Dsm N.V. | Radiation-curable compositions comprising maleimide compounds and method for producing a substrate with a cured layer |
| WO2000020517A3 (en) * | 1999-01-19 | 2000-08-24 | Dsm Nv | Radiation-curable compositions comprising maleimide compounds and method for producing a substrate with a cured layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001510220A (en) | 2001-07-31 |
| CA2297056A1 (en) | 1999-01-28 |
| BR9811515A (en) | 2000-08-22 |
| WO1999003930A1 (en) | 1999-01-28 |
| EP0996680A1 (en) | 2000-05-03 |
| CN1264409A (en) | 2000-08-23 |
| KR20010021844A (en) | 2001-03-15 |
| AU8245798A (en) | 1999-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL1006621C2 (en) | Radiation curable coating composition. | |
| US6855745B2 (en) | Polymerization processes using aliphatic maleimides | |
| US4133723A (en) | Actinic radiation-curable formulations from the reaction product of organic isocyanate, poly(alkylene oxide) polyol and an unsaturated addition-polymerizable monomeric compound having a single isocyanate-reactive hydrogen group | |
| US4340707A (en) | Liquid, UV-hardenable coating agent and binder | |
| US7709545B2 (en) | Benzophenone/thioxanthone derivatives and their use in photopolymerizable compositions | |
| Liu et al. | Preparation and properties of phosphorous–nitrogen containing UV-curable polymeric coatings based on thiol–ene click reaction | |
| DE69835773T2 (en) | Water-reactive energy-hardenable compositions containing mixed derivatives | |
| DE10048258A1 (en) | Leveling agent for surface coatings | |
| EP0984931B1 (en) | Aromatic maleimides and their use as photoinitiators | |
| EP0341560B1 (en) | Photoinitiator copolymer | |
| EP0018672B1 (en) | U.v.-curable coating composition | |
| NL1006761C2 (en) | Resin composition with improved radiation curability. | |
| JPH0892369A (en) | Curable liquid resin composition and production of cured product therefrom | |
| CN102981367A (en) | Photosensitive composition containing 4-(2,4,6-trimethyl benzene formyl) diphenyl sulfide as photoinitiator | |
| JPH04120115A (en) | Amine-containing photocurable composition | |
| JPH04209662A (en) | Urethane-containing photo-setting composition | |
| CN116284569B (en) | Macromolecular active amine co-initiator and preparation method and application thereof | |
| NL8104346A (en) | PHOTHARDISABLE MATERIALS AND METHOD FOR THE MANUFACTURE OF HARDENED PRODUCTS THEREOF. | |
| US20040235976A1 (en) | Polymerization processes using alphatic maleimides | |
| JP3358445B2 (en) | Curable liquid resin composition | |
| JP3385868B2 (en) | Radiation-curable liquid resin composition | |
| JPS62197423A (en) | Polysiloxane macromonomer | |
| JP2000119992A (en) | Active energy ray-hardenable resin composition for paper and its hardened material | |
| McGinniss | Polymer and Formulation Design Characteristics for Developing Bonding Capabilities of Radiation-Curable Coatings and Adhesive Systems | |
| CA2336637A1 (en) | Radiation-curable polymer and a composition comprising this polymer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD2B | A search report has been drawn up | ||
| VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20020201 |