KR960024489A - 반사굴절 광학계 - Google Patents

Abstract

본 발명은 영상측에 쿼터미크론 단위의 뛰어난 해상능을 달성하는 반사굴절 광학계에 관한 것이다. 본 발명의 반사굴절 광학계는 제1평면 위의 패턴의 축소 영상을 제2평면으로 전이시키며 광속 스플리터, 제1평면으로부터 광속 스플리터로 소정 파장을 갖는 광속을 유도하는 입력 렌즈 그룹, 광속 스플리터로부터 제2평면으로 광속을 유도하는 출력 렌즈 그룹, 확대 배율을 갖는 제1오목 거울, 및 축소 배율을 갖는 제2오목 거울을 포함한다. 제1오목 거울은 광속을 입력 렌즈 그룹으로부터 광속 스플리터로 입사시키고 광속 스플리터를 통과시켜 광속 스플리터로 다시 입사시키도록 배열된다. 제2오목 거울은 광속을 제1오목 거울로부터 광속 스플리터로 입사시키고 광속 스플리터를 통과하게 하여 광속 스플리터로 다시 입사하게 한다.

Description

반사굴절 광학계

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명에 따르는 반사굴절 광학계가 적용될 수 있는 단발 노광 장치의 배열을 도시한 도면, 제3도는 본 발명에 따르는 반사굴절 광학계의 배열을 개략적으로 도시한 투시도, 제5도는 본 발명에 따르는 반사굴절 광학계의 제1실시예의 배열을 도시한 도면.

Claims (18)

1. 광속 스플리터; 제1평면과 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되어 상기 제1평면으로부터 상기 광속 스플리터로 광속을 유도하는 입력렌즈 그룹; 확대 결상 배율을 가지며, 광속을 상기 입력 렌즈 그룹으로부터 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과시켜 상기 광속 스플리터로 다시입사되게 하는 제1오목 거울; 축소 결상 배율을 가지며; 광속을 상기 제1오목 거울로부터 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과하게 하여 상기 광속 스플리터로 다시 입사하게 하는 제2오목 거울; 및 광속 스플리터와 제2평면 사이의 광로에 배열되어 상기 광속 스플리터 위의 상기 제2오목 거울로부터 입사된 광속을 유도하고 상기 광속 스플리터를 통해 상기 제2평면으로 유도하는 출력 렌즈 그룹으로 이루어짐을 특징으로 하여, 제1평면 위의 패턴의 축소 영상을 제2평면으로 투영하는 반사굴절 광학계.
2. 제1항에 있어서, 제1오목 거울이 상기 입력 렌즈 그룹으로부터 상기 광속 스플리터에 입사되고 상기 광속 스플리터를 통과하는 광속의 광로에 배열되며, 제2오목 거울이 상기 제2오목 거울로부터 상기 광속 스플리터로 입사되어 상기 광속 스플리터의 방향 변환 표면에 의해 반사되는 광속의 광로에 배열됨을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
3. 제2항에 있어서, 상기 제1오목 거울이 상기 광속 스플리터에 대해서 상기 입력 렌즈 그룹의 반대측에 배열되고, 상기 제2오목 거울이 상기 광속 스플리터에; 대해서 상기 출력 렌즈 그룹의 반대측에 배열됨을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
4. 제1항에 있어서, 다음 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 반사굴절 광학계 :

   -0.9〈1/β_M1〈0.8

   -0.07〈β_M2〈0.06

   상기 식에서, β_M1: 제1오목 거울의 결상 배율, β_M2: 제2오목 거울의 결상 배율.
5. 제1항에 있어서, 추가로 상기 광속 스플리터와 상기 제1오목 거울 사이의 광로에 배열된 추가의 렌즈 그룹으로 이루어짐을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
6. 제5항에 있어서, 반사굴절 광학계가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.

   -0.27〈1/β₁〈0.25

   상기 식에서, β₁: 상기 입력 렌즈 그룹, 상기 추가의 렌즈 그룹 및 상기 제1오목 거울에 의한 합성 결상배율.
7. 제5항에 있어서, 반사굴절 광학계가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.

   -0.05〈β₂〈0.07

   상기 식에서, β₂: 상기 제2오목 거울 및 상기 출력 렌즈 그룹의 합성 결성 배율.
8. 제1항에 있어서, 상기 입력 렌즈 그룹 및 상기 출력 렌즈 그룹 각각이 필수적으로 적어도 두 개의 상이한 재료 중의 하나로 구성된 굴절 요소를 포함함을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
9. 제8항에 있어서, 상기 입력 렌즈 그룹이 필수적으로 불화물로 구성된 적어도 하나의 렌즈 성분을 포함하며, 상기 출력 렌즈 그룹이 필수적으로 불화물로 구성된 적어도 하나의 렌즈 성분을 포함함을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
10. 제1항에 있어서, 상기 광학 스플리터가 편광 스플리터이며, 상기 반사굴절 광학계가 각각 상기 광속 스플리터와 상기 제1오목 거울 사이의 광로 및 상기 광속 스플리터와 상기 제2오목 거울 사이의 광로에서 λ/4플레이트를 가짐을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
11. 감광성 기판을 그 주 표면위에 고정되게 하는 제1스테이지; 소정의 패턴을 갖는 마스크를 고정시키는 제2스테이지; 소정의 파장을 갖는 노출광을 상기 마스크 위로 방출시키고 상기 마스크 위의 패턴을 상기 기판위에 전사시키는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴의 축소 영상을 상기 기판 위로 투영하기 위해 상기 제1스테이지와 상기 제2스테이지 사이에 배열된 반사굴절 광학계로서, 광속 스플리터; 제1평면과 상기 광속 스플리터 사이의 광로에 배열되어 상기 제1평면으로부터 상기 광속 스플리터와 광속을 유도하는 입력렌즈 그룹; 확대 결상 배율을 가지며, 광속을 상기 입력 렌즈 그룹으로부터 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과시켜 상기 광속 스플리터로 다시 입사되게 하는 제1오목 거울; 축소 결상 배율을 가지며, 광속을 상기 제1오목 거울로부터 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과하게 하여 상기 광속 스플리터로 다시 입사하게 하는 제2오목 거울; 및 광속 스플리터와 제2평면 사이의 광로에 배열되어 상기 광속 스플리터 위의 상기 제2오목 거울로부터 입사된 광속을 유도하고 상기 광속 스플리터를 통해 상기 제2평면으로 유도하는 출력 렌즈 그룹으로 이루어지는 반사굴절 광학계로 이루어짐을 특징으로 하는 노광 장치.
12. 제11항에 있어서, 상기 반사굴절 광학계가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 장치 :

    -0.9〈1/β_M1〈0.8

    -0.07〈β_M2〈0.06

    상기 식에서, β_M1: 제1오목 거울의 결상 배율 β_M2: 제2오목 거울의 결상 배율.
13. 제11항에 있어서, 추가로 상기 광속 스플리터와 상기 제1오목 거울 사이의 광로에 배열된 추가의 렌즈 그룹으로 이루어짐을 특징으로 하는 장치.
14. 제13항에 있어서, 반사굴절 광학계가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 장치 :

    -0.27〈1/β₁〈0.25

    상기 식에서, β₁: 상기 입력 렌즈 그룹, 상기 추가의 렌즈 그룹 및 상기 제1오목 거울에 의한 합성 결상배율.
15. 제13항에 있어서, 반사굴절 광학계가 다음의 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 장치 :

    -0.05〈β₂〈0.07

    상기 식에서, β₂상기 제2오목 거울 및 상기 출력 렌즈 그룹의 합성 결성 배율.
16. 제1평면과 제2평면 사이의 광로에 장착된 광속 스플리터; 광속을 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과시켜 상기 광속 스플리터로 다시 입사되게 하는 제1오목거울; 광속을 상기 제1오목 거울로부터 상기 광속 스플리터로 입사시키고 상기 광속 스플리터를 통과하게 하여 상기 광속 스플리터로 다시 입사하게 하는 제2오목 거울로 이루어짐을 특징으로 하여, 제1평면 위의 패턴의 영상을 제2평면으로 투영하는 반사굴절 광학계.
17. 제16항에 있어서, 상기 제1평면으로부터의 빛이 차례로, 상기 광속 스플리터를 통과하여, 상기 제1오목 거울에 의해 반사되고, 상기 광속 스플리터 상에 디사 입사되어, 상기 광속 스플리터의 광속 스플리터 표면에 의해 반사되고, 상기 제2오목 거울 위로 입사되어, 상기 제2오목 거울에 의해 반사되고, 상기 광속 스플리터를 다시 통과하여 상기 제2펴면에 도달함을 특징으로 하는 반사 굴절 광학계.
18. 제17항에 있어서, 상기 제1오목 거울이 확대 결상 배율을 가지며, 상기 제2오목 거울이 축소 결상 배율을 가짐을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.