KR960016955A - 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 수평으로-뻗어있는 내부 중합체 가공용 챔버, 가공용 챔버내로 뚫려있는 중합체 유입구, 및 가공용 챔버를 따라 축방향으로 서로로부터 이격된 가공용 챔버로부터 뚫려있는 중합체 유출구, 및 가공용 챔버로부터 뚫려있는 증기 유출구를 한정하는 반응기 용기, 및 가공용 챔버내에 회전가능하게 배치되고, 중앙 중합체 오버플로우 개구부를 한정하는 환형 오버플로우 배플 및 그의 외부 주변 및 용기사이에 뚫려있는 적어도 한 중합체 언더플로우를 한정하는 외부 주변을 갖는 언더플로우 배플을 포함하는 중합체 교반기로서, 이때 오버플로우 및 언더플로우 배플은 오버플로우 및 언더플로우 배플의 중합체 오버플로우 및 언더플로우 개구부를 통해 뻗어있는 중합체 유입구 및 중합체 유출구사이에 중합체 물질을 위한 흐름 경로의 일부를 한정하기 위해 가공용 챔버내에서 서로 일반적으로 평행인 축방향으로 이격된 관계로 단일 회전하기 위해 함께 부착되는 중합체 교반기로 구성되는, 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 중합체를 중축합하는 동안 중합체로부터 증기 방출을 향상시키기 위해 교반기가 회전하는 동안 스크린상에 중합체 물질이 필름과 같은 형태로 코우팅되도록 만들기 위해 배플들사이에 배치된 적어도 하나의 천공된 중합체 필름-형성 스크린으로 더 구성된 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제2항에 있어서, 언더플로우 배플 및 스크린 각각이 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부로 일반적으로 정렬된 각각의 중앙 축방향 개구부를 갖는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 언더플로우 배플이 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부와 일반적으로 정렬된 중앙 축방향 개구부를 갖는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 교반기가 배플들의 각각 주변사이에 뻗어있고, 그에 부착된 다수의 연결 요소를 포함하고, 이때 각 연결 요소가 교반기의 회전중에 용기의 챔버의 내부 표면에 중합체를 제공하고 또 그로부터 제거하기 위해 교반기의 방사상으로 바깥쪽 방향으로 배치된 와이핑 표면을 갖는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제5항에 있어서, 와이핑 표면이 연결 요소의 이동 엣지를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 오버플로우 배플이 오버플로우 개구부가 천공된 환대를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제7항에 있어서, 언더플로우 배플이 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부로 일반적으로 축방향으로 정렬된 천공된 환대를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 언더플로우 배플이 상응하는 다수의 언더플로우 개구부를 한정하는 그의 외부 주변에서 다수의 주변에 이격된 리세스를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 교반기가 교반기의 반대 축방향 말단에서 한쌍의 지지체 판을 포함하고, 이때 각 지지체 판이 교반기의 축에 상대적인 다른 각에서 그를 통해 뻗어 있는 다수의 개구부를 갖는, 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제10항에 있어서, 용기의 유입구의 반대쪽 교반기의 말단에서 지지체 판이 교반기의 회전중에 용기의 챔버의 내부 표면에 중합체 물질을 제공하고, 그로부터 중합체 물질을 와이핑하기 위해 지지체 판의 외부면으로부터 돌출하는 다수의 블레이드를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 용기가 중합체 물질의 온도를 조절하기 위해 챔버내 중합체 물질과 열 전달 관계에 있는 열 교환 물질을 흐르도록 하기 위한 챔버주위를 둘러싸여 뻗어있는 통로를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제12항에 있어서, 통로가 챔버내에 있는 중합체 물질의 흐름 방향과 일반적으로 반대방향으로 열 교환물질이 흐르도록 배치된 위에 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제12항에 있어서, 통로가 일반적으로 챔버내에 있는 중합체 물질의 흐름 방향과 같은 방향으로 열 교환물질이 흐르도록 배치된 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 또한 중합체 물질의 온도를 감지하기 위한 도구가 챔버안에 들어가지 않고 챔버 밖에 있는 용기상에 지지된 도구를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제1항에 있어서, 또한 챔버내 중합체 물질의 양을 검출하기 위한 도구를 포함하는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 실질적으로 원통형인 수평으로-뻗어있는 내부 중합체 가공용 챔버, 가공용 챔버내로 뚫려있는 중합체 유입구, 및 가공용 챔버를 따라 축방향으로 서로로부터 이격된 가공용 챔버로부터 뚫려있는 중합체 유출구, 및 가공용 챔버로부터 뚫려있는 중기 유출구를 한정하는 반응기 용기, 및 챔버내에 축방향으로 회전가능하게 배치되고, 가공용 챔버내 서로 일반적으로 평행인 축방향으로-이격되어 동일하게 회전하기 위해 서로 고정된 다수의 천공된 중합체 필름-형성 스크린 및 다수의 중합체 흐름-조절 배플로 구성된 중합체 교반기, 중앙 중합체 오버플로우 개구부를 한정하고, 용기에 회전하는 중합체-시일링 관계로 배치된 실질적으로 원형인 외부 주변을 갖는 다수의 환형 오버플로우 배플 및 그의 외부 주변 및 용기사이에 뚫려있는 적어도 한 중합체 언더플로우를 한정하는 외부 주변을 갖는 다수의 언더플로우 배플을 포함하는 배플로서, 이때 오버플로우 및 언더플로우 배플은 각 오버플로우 배플 및 다음 연속하는 오버플로우 배플사이에 흐르는 동안 중합체 물질의 체류시간, 분포 및 점도를 조절하기 위해 연속적으로 교호하는 오버플로우 및 언더플로우 배플의 중합체 오버플로우 및 언더플로우 개구부를 통해 교호적으로 뻗어있는 중합체 유입구 및 중합체 유출구사이에 중합체 물질을 위한 구불구불한 흐름 경로를 한정하기 위해 교반기를 따라 축방향으로 서로 교대로 배열되는 배플, 중합체가 중축합되는 동안 중합체로부터된 증기 방출을 향상시키기 위해 교반기의 회전중에 필름-같은 형태로 각 스크린상에 중합체 물질을 코우팅되게 하기 위한 베플의 각 인접한 쌍사이에 배치된 적어도 하나의 스크린으로 구성되는 중합체 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 각각의 언더플로우 배플 및 스크린이 증기 배출구로의 강화된 증기 흐름을 위한 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부와 일반적으로 축방향으로 정렬된 각각의 중앙 측방향 개구부를 갖는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 각각의 언더플로우 배플이 다수의 언더플로우 개구부를 규정하는 상기의 외부 표면내 주변에 이격된 상응하는 다수의 오목한 곳으로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 다수의 스크린이 각각의 인접한 쌍의 배플사이에 배치되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제20항에 있어서, 스크린이 서로의 간격 및 배플과의 간격이 챔버의 중합체 유입구 인접부에서 중합체 유출구 인접부로 갈수록 점점 증가하도록 배열된 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제20항에 있어서, 스크린의 열려진 면적이 챔버의 중합체 유입구 인접부에서 중합체 유출구 인접부로 갈수록 증가되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 각각의 오버플로우 배플이 오버플로우 개구부가 천공된 환대로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부의 직경이 중합체 유입구 인접부에서 중합에 유출구 인접부로 갈수록 치수가 증가하는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 각각의 언더플로우 배플이 천공된 환대로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 교반기가 배플과 스크린의 각각의 표면에 고정되고 그 사이로 뻗은 다수의 연결 요소로 구성되며, 각각의 연결 요소가 교반기가 회전하는 동안 용기의 챔버의 내부 표면으로 중합체를 공급하고 또 제거하기 위해 교반기가 방사상으로 바깥쪽으로 배치된 와이핑 표면을 갖는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제26항에 있어서, 와이핑 표면이 연결 요소의 이동 엣지로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제27항에 있어서, 각각의 스크린이 스크린과 각각의 연결 요소 사이로 규정된 중합체 배출 개구부를 갖는 연결 요소를 수요하도록 배치된 바깥쪽 슬롯으로 형성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 교반기가 교반기축의 양쪽 말단에 한쌍의 지지 디스크를 포함하며, 상기 각각의 디스크는 교반기의 축에 대해 각기 다른 각도에서 통과하여 뻗어 있는 다수의 개구부를 갖는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제29항에 있어서, 용기 유입구 반대쪽의 교반기의 말단의 지지디스크가 교반기가 회전하는 동안 용기의 챔버의 내부 표면으로부터 중합체 물질을 와이핑하기 위한 지지 디스크의 외부 측면으로부터 돌출된 다수의 블레이드를 포함하는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 용기가 중합체 물질의 온도를 조절하기 위해 챔버 내 중합물질과 열 전달 관계에 있는 열 교환 물질이 흘러가도록 하기 위해 챔버 둘러싸면서 뻗어있는 통로를 포함하는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제31항에 있어서, 통로가 챔버 내에 있는 중합체 물질의 흐름방향과 반대 방향으로 열 교환 물질이 흐르도록 구성된 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제31항에 있어서, 통로가 챔버 내에 있는 일반적으로 중합체 물질의 흐름 방향과 같은 방향으로 열 교환 물질이 흐르도록 구성된 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제31항에 있어서, 상기한 통로의 최소한 일부분이 열 교환 물질이 일반적으로 나선형으로 흐르도록 나선형 통로로 규정된 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 부가로 중합체 물질의 온도를 침입하지 않고 감지하기 위해 챔버의 외부 용기 상에 지지된 수단으로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제35항에 있어서, 용기가 공정 챔버의 경계를 이루는 밀봉된 윈도우로 구성되며, 온도 감지 수단이 윈도우를 통해 가공용 챔버에 면한 가공용 챔버 외부에 배치된 적외선 열 방출 감지기로 구성되는 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제17항에 있어서, 부가로 챔버 내에 있는 중합체 물질의 수준을 감지하기 위한 수단으로 구성된 중합체 물질을 제조하는 반응기 장치.
- 제37항에 있어서, 레밸 검출수단이 이것의 한 면으로부터 가공용 챔버를 지나 일반적으로 방사상으로 미리 정해놓은 양의 방사선 광원(source)을 투여하기 위한 수단, 챔버의 반대면에서 투영된 방사선의 양을 검출하기 위한 수단, 및 상방사선의 투영된 양과 검출된 양 사이의 차이에 기재된 방사선 투영의 위치에서 중합체의 레벨을 외삽하기 위한 수단으로 구성되는 중합 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.
- 중합체 물질의 온도를 조절하기 위해서 챔버내에 있는 중합체 물질과 열 교환시키기 위해 챔버내에 있는 중합체 물질의 흐름 방향과 반대방향으로 열 교환 물질을 흐르게 하기 위한 일반적으로 나선형 경로로 규정된 통로를 최소한 일부분 가지고 있는 챔버의 주위를 환형으로 뻗어나간 통로, 가공용 챔버에서부터 나온 증기 배출구, 가공용 챔버의 한쪽 말단부에 뚫린 중합체 유입구 및 이와 반대쪽 말단부에서 뚫려진 중합체 유출구로 구성되며 실제로 원통형으로 수평하게 확장된 내부 중합체 처리용 챔버로 규정된 반응기 용기; 교반기가 여러개의 중합체 흐름-조절용 배플들, 여러개의 천공된 중합체 필름-형성용 스크린, 교반기의 축의 양쪽 말단부에 있는 한쌍의 지지 디스크, 및 지지 디스크의 각 표면 사이에서 확장된 여러개의 연결요수로 구성되며, 배플과 스크린들은 이들을 고정시키기 위해서는 일반적으로 가공용 챔버내에서 동일하게 회전하도록 하기 위해 서로에 대해 수평한 축방향으로 떨어져 위치해 있으며, 각각의 연결 요소는 교반기가 회전하는 동안 용기의 챔버의 내부 표면에 중합체를 공급하고 이로부터 중합체를 제거하기 위한 교반기가 방상을 바깥쪽으로 배치된 이동식 와이핑 표면을 가지는 것으로 이루어진, 챔버내에 축방향으로 회전되도록 배치된 중합체 교반기; 각각이 용기에 대해 회전식으로 중합체를 씰링(sealing)하는 경향을 지닌 거의 환형인 외면(outner periphery)을 가지며 천공된 환대를 포함하는 중앙 중합체 오버플로우 개구부를 규정하며 오버플로우 배플들의 중합체 오버플로우 개구부가 증가하는 정반대 디멘젼을 가지며 오버플로우 배플의 환대들의 열린 면적이 챔버의 중합체 유입구 부근에서부터 유출구 부근까지 갈수록 커지는, 여러개의 환형 오버플로우 배플 및, 외각면과 용기사이에 중합체 언더플로우 개구부를 형성하는 원주상에 위치한 여러개의 오목한 부분들로 구성된 외각면을 가지며 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부와 일반적으로 축방향으로 정렬된 중앙 증기 흐름 개구부를 규정하는 여러개의 다운 플로우 배플들로 구성되며, 각각의 오버플로우 배플과 그 다음에 연속하는 오버플로우 배플사이를 흐르는 동안 중합체 물질의 체류시간, 중합체 분포 및 점도를 조절하기 위해서 번갈아 가며 연속하여있는 오버플로우와 언더플로우 배플들의 중합체 오버플로우 및 언더플로우 개구를 통해 중합체 유입구와 중합체 유출구 사이에 중합물질에 대한 비틀어진 유동경로(floe faht)를 규정하기 위해 오버플로우 배플과 언더플로우 배플들이 교반기를 따라 축방향으로 하나씩 번갈아가며 정렬되어 있는 배플들; 스크린의 중축합하는 동안 중합체에서부터 증기 방출을 증대시키기 위해 교반기가 회전하는 동안 중합체 물질이 필름과 같은 형태로 각 스크린상에 피복되도록 만들기 위한 인접한 한쌍의 배플들 사이에 위치하며 각각의 스크린들이 오버플로우 배플의 오버플로우 개구부 및 언더플로우 배플의 증기 흐름 개구부와 일반적으로 축방향으로 정렬된 각각의 중앙 증기 흐름 개구부를 가지며, 이 스크린은 서로에 대한 간격이 또 배플로부터 간격이 점점 커지도록 정렬되며 챔버의 중합체 유입구 근처에서의 개구부의 면적이 유출구 근처로 갈수록 커지는, 여러개의 스크린들; 및 각각의 지지 디스크가 교반기의 축에 대해 다른 각도로 뻗어나온 여러개의 개구부를 가지며 용기의 유출 말단부 근처의 교반기의 말단부에 있는 지지 디스크가 교반기가 회전하고 있는 동안 용기의 챔버의 내부 표면에서부터 중합체 물질을 닦아내기 위해 지지 디스크의 바깥쪽면에서부터 뻗어나온 여러개의 블레이드를 포함하는 각각의 지지 디스크로 구성된 폴리 에스테르 물질을 제조하기 위한 반응기 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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