KR960010941B1

KR960010941B1 - Polishing of table ware

Info

Publication number: KR960010941B1
Application number: KR1019940031829A
Authority: KR
Inventors: 도시미츠 미즈노; 다카시 오가와
Original assignee: 최창선; 린나이코리아주식회사; 나이또 스스무; 린나이 가부시기가이샤
Priority date: 1993-12-28
Filing date: 1994-11-29
Publication date: 1996-08-14
Anticipated expiration: 2014-11-29
Also published as: JP2863889B2; KR950016653A; JPH07184820A

Abstract

내용없음.None.

Description

Dishwasher

제1도는 본 발명의 실시예를 나타내는 설명도.1 is an explanatory diagram showing an embodiment of the present invention.

제2도는 본 발명의 실시예의 여과장치의 분해측면도.2 is an exploded side view of the filtration apparatus of the embodiment of the present invention.

제3도는 본 발명의 실시예를 나타내는 평면도.3 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

제4도는 여과장치수용실(7)에 여과장치를 수용한 상태를 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a state in which the filtration device is accommodated in the filtration device accommodation chamber 7.

제5도는 제2필터(711)의 상세도.5 is a detailed view of a second filter 711.

제6도는 제어장치(C)의 설명도.6 is an explanatory diagram of a control device (C).

제7도는 종래예를 나타내는 설명도.7 is an explanatory diagram showing a conventional example.

제8도는 종래예의 여과장치의 단면도.8 is a cross-sectional view of a filtration device of a conventional example.

제9도는 종래예를 나타내는 평면도.9 is a plan view showing a conventional example.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

2 : 세정실 23 : 저류부2: cleaning chamber 23: reservoir

4 : 래크 7 : 여과장치수용실4: rack 7: Filtration chamber

70 : 여과장치 710 : 제1필터70: filtering device 710: first filter

710c : 트인구멍 711 : 제2필터710c: open hole 711: second filter

711D : 걸어맞춤돌기 72 : 내측필터711D: engaging protrusion 72: inner filter

본 발명은 세정실내에 소정량의 세정수를 저류(貯留)하여 이 저류세정수를 피세정물로 분사하는 형식의 식기세정기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dishwasher of a type in which a predetermined amount of washing water is stored in a washing chamber, and the storage washing water is sprayed onto the object being cleaned.

상기한 바와 같은 형식의 식기세정기로서는 제7도에 나타낸 바와 같이 케이싱(1)내에 앞측이 개방된 세정실(2)을 형성하고, 이 앞측개방부를 도어(3)에 의하여 폐색한 것이 있으며, 이러한 식기세정기는 상기 세정실(2)의 바닥부에 세정수저류용인 일정값이의 저류부(23)를 형성함과 아울러 세정수여과용인 여과장치(70)를 수용하는 여과장치수용실(7)을 상기 저류부(23)의 바닥부에서 그 하측을 향하여 돌출시키고, 상기 여과장치수용실(7)의 몸통측부와 세정수분출용인 노즐암(6)의 입구단을 세정펌프(62)에 의하여 연이어 통하도록 접속시킨 것이다. 그리고, 상기 세정실(2)의 측벽에는 그 내부로 세정수를 공급하기 위한 급수회로가 접속되어 있다. 또, 상기 여과장치수용실(7)의 바닥벽에는 배수구(7a)가 형성되어 있으며, 이 배수구(7a)에는 저류세정수를 외부로 배출하기 위한 배수회로가 접속되어 있다. 또한, 상기 세정실(2)내에는 식기류(M)를 재치하기 위한 래크(4)가 자유롭게 꺼내고 넣을 수 있도록 수용되어 있다.As the dish washing machine of the above-mentioned type, as shown in FIG. 7, the washing | cleaning chamber 2 in which the front side was opened was formed in the casing 1, and this front opening part was closed by the door 3. The dishwasher is provided with a filtration device accommodation chamber 7 which forms a constant storage portion 23 for washing water storage at the bottom of the washing chamber 2 and accommodates the filtration device 70 for washing water filtration. Protruding downward from the bottom of the reservoir 23, the body side portion of the filter unit receiving chamber (7) and the inlet end of the nozzle arm (6) for flushing the washing water are successively connected by a washing pump (62). It is connected to make it work. A water supply circuit for supplying the washing water into the side wall of the washing chamber 2 is connected. Further, a drain port 7a is formed in the bottom wall of the filter accommodation chamber 7, and a drain circuit is connected to the drain port 7a for discharging the storage washing water to the outside. Moreover, the rack 4 for mounting the tableware M is accommodated in the said washing chamber 2 so that it may be taken out and put in freely.

상기 여과장치(70)는 제8도 및 제9도에 나타낸 바와 같이 내외 2개의 필터(72, 71)를 갖는 2중구조로 되어 있다. 외측필터(71)는 직사각형의 접시형상으로된 제1필터(710)와, 이 제1필터(710)의 바닥벽에서 돌출시킨 통형상의 제2필터(711)가 일체로 결합되어 이루어져 있다. 내측필터(72)는 바닥이 있는 통형상으로 되어 있으며, 상기 제2필터(711)의 내부에 수용되어 있다.The filtration device 70 has a double structure having two filters 72 and 71 inside and outside, as shown in FIG. 8 and FIG. The outer filter 71 is formed by integrally combining a first filter 710 having a rectangular dish shape and a cylindrical second filter 711 protruding from the bottom wall of the first filter 710. The inner filter 72 has a bottomed cylindrical shape and is housed inside the second filter 711.

상기 래크(4)는 직사각형의 바구니형상으로 되어 있으며, 그 하단 측부에서 돌출된 지지롤러(40, 40)가 세정실(2)의 측벽에 설치된 지지레일(5)에 의하여 지지되어 있다.The rack 4 has a rectangular basket shape, and the support rollers 40 and 40 protruding from the lower end side thereof are supported by the support rails 5 provided on the side walls of the cleaning chamber 2.

이러한 종래의 식기세정기에 있어서, 식기류(M)가 들어있는 래크(4)를 세정실(2)내에 수용하고, 도어(3)를 닫은 상태에서 세정기를 운전상태로 하면, 급수회로에 의하여 저류부(23)내에 세정수가 저류된다. 그러면, 이 저류세정수는 세정펌프(62)로 흡입되어 여과장치(70)을 통과한 후, 노즐암(6)에 설치된 다수의 노즐에서 식기류(M)로 분출한다. 그리고, 이 분출된 세정수는 상기 식기류(M)를 세정하여 이것에 부착된 찌꺼기를 언제어내고 이 찌꺼기와 함께 저류부(23)내로 되돌아 온다. 이 때, 비교적 큰 찌꺼기는 여과장치(70)의 중앙부로 모여서 내측필터(72)에 포집(捕集)되고 다시 세정공정이 반복된다. 즉, 종래의 식기세정기에 있어서는 내외 2개의 필터(72, 71)로된 여과장치(70)에 의하여 세정수를 여과시킴으로써 찌꺼기를 제거하고 세정수를 순환사용하는 것이다.In such a conventional dishwasher, when the rack 4 containing the dishware M is accommodated in the washing chamber 2, and the washing machine is operated in a state where the door 3 is closed, the storage unit is stored by the water supply circuit. The washing water is stored in (23). Then, the storage washing water is sucked into the washing pump 62 and passed through the filtration apparatus 70, and then is ejected into the dishes M from a plurality of nozzles provided on the nozzle arm 6. Then, the jetted water washes the dishes M and removes the residues attached thereto, and returns to the storage 23 together with the residues. At this time, relatively large debris is collected at the center of the filtration device 70 and collected in the inner filter 72, and the washing process is repeated again. That is, in the conventional dishwasher, the washing water is filtered by the filtration device 70 including the two filters 72 and 71 inside and outside to remove the residue and circulate the washing water.

상기 세정공정이 완료되면, 저류부(23)내의 오염된 세정수가 여과장치(70)를 통하여 배수회로에서 외부로 배출되며, 이 경우에도 상기한 바와 같은 찌꺼기의 포집이 이루어진다.When the cleaning process is completed, the contaminated washing water in the reservoir 23 is discharged to the outside from the drainage circuit through the filtration device 70, and in this case, the collection of the residue as described above is made.

이러한 종래의 식기세정기에 있어서는, 세정시에 저류세정수를 순환사용 하기 때문에 세정수의 사용량이 줄어 들고, 배수시에 찌꺼기가 세정수와 함께 외부로 배출되는 일이 발생하지 않는다.In such a conventional dish washing machine, since the storage washing water is circulated and used at the time of washing, the amount of washing water used is reduced, and the waste is not discharged to the outside together with the washing water at the time of drainage.

그러나 상기 종래의 식기세정기에 있어서는, 여과장치(70)를 청소하기 위하여 그 장착부에서 분리할 때 그 작업이 복잡하다는 문제가 있었다.However, in the conventional dishwasher, there is a problem that the work is complicated when detached from the mounting portion for cleaning the filtration device 70.

일반적으로 래크(4)는 식기류(M)의 수용능력을 높이기 위하여 가능한 한 크게 형성되어 있으며, 하측 래크(4)의 앞측 아래가장자리와 이에 대응하는 세정실(2)의 개방부 가장자리 사이에는 간격이 별로 존재하지 않는다. 따라서, 래크(4)를 세정실(2)내에 수용한 상태에서는 상기 래크(4)가 방해가 되어 여과장치(70)를 꺼낼 수 없게 되므로, 여과장치(70)를 청소하기 위해서는 래크(4)를 세정실 바깥으로 이동시키는 별도의 작업이 필요하게 된다. 따라서, 여과장치(70)를 청소하기가 복잡한 것이다.In general, the rack 4 is formed as large as possible to increase the storage capacity of the tableware (M), the gap between the front lower edge of the lower rack (4) and the corresponding edge of the opening of the cleaning chamber (2). It doesn't exist very much. Therefore, in the state in which the rack 4 is accommodated in the washing chamber 2, the rack 4 becomes obstructed and the filtration device 70 cannot be taken out, so that the rack 4 is cleaned to clean the filtration device 70. A separate work is needed to move the out of the cleaning chamber. Therefore, cleaning the filtration device 70 is complicated.

본 발명은 이와 같은 『앞측이 개방된 세정실(2)의 바닥부에 형성된 저류부(23) ; 이 저류부(23)의 하측에 연이어 형성된 여과장치수용실(7)내에 수용된 여과장치(70)와; 상기 저류부(23)의 상측에 수용된 래크(4) ; 를 구비하며, 상기 저류부(23)내에 저류시킨 세정수를 여과장치수용실(7)내의 여과장치(70)를 통과시켜 래크(4)내의 피세정물로 분출시킨 후 저류부(23)로 되돌아 되게 하는 형식의 식기세정기』에 있어서, 여과장치(70)의 청소작업을 용이하게 할 수 있도록 하는 것을 그 과제로 한다.The present invention provides such a "storage part 23 formed at the bottom of the cleaning chamber 2 in which the front side is opened; A filtration device 70 accommodated in the filtration device accommodation chamber 7 formed successively under the reservoir 23; A rack (4) accommodated above the reservoir (23); The washing water stored in the reservoir 23 is passed through the filtration device 70 in the filter accommodation chamber 7 to be discharged to the object to be cleaned in the rack 4, and then, to the reservoir 23. The dishwasher of the type | mold which returns | returns "WHEREIN: It is the subject that it should be easy to clean the filtration apparatus 70.

이하, 본 발명의 기술적수단, 작용 및 효과를 특허청구범위에 기재된 내용에 의거하여 설명한다.Hereinafter, the technical means, actions and effects of the present invention will be described based on the contents described in the claims.

우선, 특허청구범위 제1항에 기재된 발명에 대하여 설명한다.First, the invention of Claim 1 is demonstrated.

본 발명의 상기 과제를 해결하기 위한 기술적수단은 『하측 래크(4)의 앞면 하부에 절결부를 형성하고, 그 절결정도를 세정실(2)내에 래크(4)를 수용한 상태에서 여과장치(70)를 여과장치수용실(7)내에 착탁할 수 있을 정도로 설정한』것이다.Technical means for solving the above problems of the present invention is "filtering device in the state in which the notch is formed in the lower part of the front surface of the lower rack 4, and the degree of crystallinity is accommodated in the washing chamber (2). 70) is set so that it can be enclosed in the filter accommodation chamber 7.

본 발명의 상기 기술적수단은 다음과 같이 작용한다.The technical means of the present invention acts as follows.

래크(4)의 앞면 하부가 여과장치(70)의 착탈을 허용하는 크기로 절결되어 있기 때문에, 상기 절결부와 이에 대응하는 세정실(2) 벽면 사이에는 상기 여과장치(70)를 꺼내고 넣을 수 있는 간격이 형성된다. 따라서, 세정실(2)내에 래크(4)를 수용한 상태에서 여과장치(70)를 상기 간격을 통하여 세정실(2)의 앞측 개방부에서 꺼낼 수 있게 된다.Since the lower part of the front surface of the rack 4 is cut to the size which allows attachment and detachment of the filtration apparatus 70, the filtration apparatus 70 can be taken out and put in between the cutout part and the corresponding wall of the cleaning chamber 2. Gaps are formed. Therefore, in the state which accommodated the rack 4 in the washing | cleaning chamber 2, the filtration apparatus 70 can be taken out from the front opening part of the washing | cleaning chamber 2 through the said space | interval.

본 발명은 상기 구성과 작용에 의하여 다음과 같은 효과를 가진다.The present invention has the following effects by the above configuration and action.

래크(4)를 세정실(2)내에 수용한 상태에서 여과장치(70)를 착탁할 수 있기 때문에, 상기 여과장치(70)의 청소시에 있어서 래크(4)를 세정실 바깥으로 이동시키는 작업이 필요없게 되므로 상기 여과장치(70)의 청소작업이 쉬워진다.Since the filtering device 70 can be enclosed in the state in which the rack 4 was accommodated in the washing room 2, the operation | movement which moves the rack 4 out of the washing room at the time of the cleaning of the said filtering device 70 is performed. This eliminates the need for easy cleaning of the filtration device 70.

이어서, 특허청구범위 제1항에 기재된 발명에 대하여 설명한다.Next, the invention described in claim 1 will be described.

특허청구범위 제2항에 기재된 발명은 상기 제1항에 기재된 발명과 동일한 과제를 해결하기 위한 것으로서, 이를 위한 기술적수단은 『여과장치(70)를 여과장치수용실(7)의 트인구멍 가장자리에 걸어맞춰 설치하며, 바닥벽에 트인구멍(710c)이 형성된 비교적 편평한 제1필터(710)와 ; 이 제1필터(710)의 상기 트인구멍(710c)에 끼울 수 있는 외측지름을 가지며, 상기 트인구멍(710c)의 주연부에 그 상측에서 걸어맞춰지는 걸어맞춤돌기(711d)를 구비한 통형상의 제2필터(711)와 ; 이 제2필터(711)의 상단부내에 끼워져 장착되는 바닥이 있는 통형상의 내측필터(72) ; 로 이루어지며, 상기 제2필터(711)의 내부를 여과장치수용실(7)의 바닥부에 형성된 세정수배출용 배출구와 접속시킨』것이다.The invention described in claim 2 is to solve the same problem as the invention described in claim 1, and the technical means for this is "the filter device 70 is connected to the edge of the opening of the filtration device accommodation chamber 7 A relatively flat first filter 710 which is installed in engagement and has an opening 710c formed in the bottom wall; A cylindrical shape having an outer diameter that can be fitted into the open hole 710c of the first filter 710 and having a engaging protrusion 711d engaged with the upper end portion of the open hole 710c. A second filter 711; A bottomed cylindrical inner filter 72 fitted in the upper end of the second filter 711; And the inside of the second filter 711 is connected to the outlet for washing water discharge formed at the bottom of the filtration device accommodation chamber 7.

상기 여과장치(70)는 제1필터(710)의 바닥벽에 형성된 트인구멍(710c)에 제2필터(711)가 끼워져 장착되어 있으며, 상기 제1필터(710)의 트인구멍(710c)에는 내측필터(72)를 끼워 장착한 제2필터(711)의 걸어맞춤돌기(711d)가 그 상측에서 걸어맞춰진 상태로 되어 있다. 따라서, 래크(4)를 세정실(2)에 수용한 상태에서도 세정실(2)와 래크(4)사이에 형성되어 있는 간격을 통하여 우선 제2필터(711) 및 내측필터(72)를 세정실 바깥으로 꺼내고, 이어서 제1필터(710)를 꺼낼 수 있게 된다.The filtration device 70 is fitted with a second filter 711 inserted into the open hole 710c formed in the bottom wall of the first filter 710, and the open hole 710c of the first filter 710. The engaging projection 711d of the second filter 711, in which the inner filter 72 is fitted, is engaged with the upper side thereof. Therefore, even when the rack 4 is accommodated in the cleaning chamber 2, the second filter 711 and the inner filter 72 are first cleaned through the gap formed between the cleaning chamber 2 and the rack 4. It can be taken out of the chamber, and then the first filter 710 can be taken out.

따라서, 특허청구범위 제2항에 기재된 발명에 있어서도 상기 제1항에 기재된 발명과 동일한 효과를 얻을 수 있다.Therefore, also in the invention of Claim 2, the same effect as the invention of Claim 1 can be acquired.

또한, 제2필터(711)는 그 내부가 여과장치수용실(7)의 바닥부에 형성된 세정수배출용 배출구와 접속되어 있기 때문에 저류부(23)내의 오염된 세정수가 배출될 때에는, 제1필터(710)를 통과한 상기 세정수는 제2필터(711)의 외면 전역에서 그 내부로 진입하여 상기 배출구로 유출된다. 따라서, 제1필터(710)를 통과한 찌꺼기는 제2필터(711)의 외면 전역에 부착되어 최종적으로 포집된다.In addition, since the second filter 711 is connected to a washing water discharge outlet formed at the bottom of the filter accommodation chamber 7 when the inside of the second filter 711 is discharged, the first filter 711 discharges the contaminated washing water in the reservoir 23. The washing water passing through the filter 710 enters the inside of the entire outer surface of the second filter 711 and flows out of the outlet. Therefore, the residue passing through the first filter 710 is attached to the entire outer surface of the second filter 711 and finally collected.

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 실시예의 식기세기는, 제1도 내지 제6도에 나타낸 바와 같이, 케이싱(1)내에는 앞측으로 개방되는 세정실(2)이 형성되어 있음과 아울러 이 앞측개방부는 상하로 개폐되는 도어(3)에 의하여 폐색되어 있다. 또, 상기 세정실(2)내의 상항 래크(4, 4)가 수용되어 있으며, 이들 래크(4, 4)의 하측에는 세정수를 분출하는 노즐암(6, 6)이 각각 설치되어 있다. 또한, 세정실(2)의 후측 공간에 건조용 공기를 공급하는 급기장치(給氣裝置 ; 8)가 설치되어 있음과 아울러, 세정실(2) 바닥부의 하측 공간에는 여과장치(70)를 수용한 여과장치수용실(7)을 사이에 두고 세정수를 흡입하는 세정펌프(62)와 세정후의 오염된 세정수를 배수하기 위한 배수펌프(75)등이 설치되어 있다.As shown in FIGS. 1 to 6, in the present embodiment, the dishing chamber 2 is formed in the casing 1, and the front opening part is opened and closed up and down. It is blocked by 3). Moreover, upper racks 4 and 4 are accommodated in the washing chamber 2, and nozzle arms 6 and 6 for ejecting washing water are provided below the racks 4 and 4, respectively. In addition, an air supply device (8) for supplying drying air to the rear space of the cleaning chamber 2 is provided, and the filtering device 70 is accommodated in the lower space of the bottom of the cleaning chamber 2. A washing pump 62 for suctioning the washing water with one filter device accommodation chamber 7 interposed therebetween, and a drain pump 75 for draining the contaminated washing water after washing.

이하, 상기 각부에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, each said part is demonstrated in detail.

세정실(2)은 제1도에 나타낸 바와 같이, 앞측이 개방되며 횡단면이 대략 정사각형인 상자체로 되어 있다. 그리고, 상기 개방단의 밀변이 세정실(2)의 바닥벽(21)보다 소정높이만큼 높게 설정되어 있기 때문에, 세정실(2)의 바닥부에는 일정깊이의 세정수저류용 저류부(23)가 형성된다. 세정실(2)의 중앙상측과 중앙하측에는 다수의 세정수분출용 노즐을 구비한 노즐임(6, 6)이 설치되어 있으며, 하측 노즐암(6)은 세정실(2)의 바닥벽(21)에서 돌출된 지지체(P)에 의하여 회동이 자유롭도록 지지되어 있고, 상측 노즐암(6)은 세정실(2)의 후벽(27)에서 돌출된 지지암(61)에 설치된 지지체(P)에 의하여 회동이 자유롭도록 지지되어 있으며, 그 노즐설치부가 모든 상측을 향하도록 설정되어 있다.As shown in FIG. 1, the washing | cleaning chamber 2 is a box body whose front side is opened and a cross section is substantially square. Since the close edge of the open end is set higher than the bottom wall 21 of the washing chamber 2 by a predetermined height, the bottom 23 of the washing chamber 2 has a storage depth 23 for washing water storage. Is formed. The nozzles 6 and 6 having a plurality of nozzles for flushing water are provided on the upper and lower centers of the washing chamber 2, and the lower nozzle arm 6 is formed on the bottom wall of the washing chamber 2. It is supported by the support body P protruding from 21 so as to be free to rotate, and the upper nozzle arm 6 is supported on the support arm 61 protruding from the rear wall 27 of the cleaning chamber 2. It is supported so that rotation is free, and the nozzle installation part is set so that it may face all upper sides.

이들 노즐암(6, 6)은 그 길이가 상기 세정실(2)의 횡폭 및 안길이보다 약간 작게 설정되어 있으며, 그 회전축을 포함하여 전체가 중공형상(中空形狀)으로 구성되어 있다. 그리고, 바닥벽(21)을 관통하여 돌출되는 세정펌프(62)의 토출구가 하측 노즐암(6)에 접속되어 있으며, 이 접속부에 접속된 연락회로(60)에 의하여 상측 노즐암(6)과 상기 세정펌프(62)의 토출구가 연이어 통해서 접속되어 있다. 따라서, 세정펌프(62)에서 상기 경로를 따라 노즐암(6, 6)으로 공급되는 세정수는 그 상면에 배열된 다수의 노즐을 통하여 분출되며, 각 노즐암(6, 6)은 이 분출력의 반력(反力)에 의하여 선회구동된다.The lengths of these nozzle arms 6 and 6 are set slightly smaller than the width | variety and the depth of the said washing | cleaning chamber 2, and the whole is comprised in hollow shape including the rotating shaft. The discharge port of the cleaning pump 62 which protrudes through the bottom wall 21 is connected to the lower nozzle arm 6, and is connected to the upper nozzle arm 6 by the communication circuit 60 connected to the connection part. The discharge ports of the cleaning pump 62 are connected in series. Thus, the washing water supplied from the washing pump 62 to the nozzle arms 6, 6 along the path is ejected through a plurality of nozzles arranged on the upper surface thereof, and each nozzle arm 6, 6 discharges the dust output. It is driven by the reaction force of.

식기류(M)를 수용하기 위한 래크(4, 4)는 상기 각 노즐암(6, 6)의 상측에 자유롭게 꺼내고 넣을 수 있도록 배치되어 있으며, 모두 수지계도장(樹脂系塗裝)이 실시된 금속선재로 형성되어 있다.The racks 4 and 4 for accommodating the tableware M are arranged to be freely taken out and placed on the upper sides of the nozzle arms 6 and 6, and both are metal wire rods coated with resin-based coating. It is formed.

상측 래크(4)는 직사각형으로 된 바구니형상으로 형성되어 있으며, 세정실(2)의 양측벽에 설치된 레일(5)에 인출이 자유롭도록 지지되어 있다.The upper rack 4 is formed in a rectangular basket shape, and is supported by the rails 5 provided on both side walls of the cleaning chamber 2 so as to be freely pulled out.

따라서, 상측 래크(4)의 하단측벽에서는 지지롤러(40, 40)가 외측으로 돌출되어 있으며, 이들이 상기 레일(5)에 이동이 자유롭도록 재치되어 있다.Therefore, the support rollers 40 and 40 protrude outward from the lower side wall of the upper rack 4, and they are mounted on the rail 5 so as to be free to move.

하측 래크(4)는 제1도에 나타낸 바와 같이, 상측 래크(4)와 마찬가지로 전체 형상이 직사각형으로 된 바구니형상으로 되어 있으며 절결부(R)를 구비하고 있다. 즉, 하측 래크(4)의 앞면에서 하면에 걸쳐서 비스듬하게 절결된 상태(본 실시예에 있어서, 해당 절결부의 크기는 높이가 6cm, 안길이가 7.5cm로 설정되어 있다.)로 된다. 그리고, 상기 하측 래크(4)의 하단측벽에서는 지지롤러(40, 40)가 외측으로 돌출되어 있으며, 이들 지지롤러(40, 40)가 하측 노즐암(6) 상측 근방의 세정실(2) 측벽에 설치된 지지레일(5)에 의하여 지지됨으로써 상기 하측 래크(4)는 하측 노즐암(6)의 상측 근방에 인출이 자유롭도록 설치된다. 또한, 상기 절결부(R)의 절결정도는 하측 래크(4)를 세정실(2)내에 수용한 상태에서 여과장치(70)를 자유롭게 착탈할 수 있을 정도로 설정되어 있다. 즉, 하측 래크(4)와 세정실(2)의 개방부 가장자리와의 간격(X)은 후술하는 여과장치(70)의 상하 높이(Y) 및 전후폭(Z)보다 크게 설정되어 있다(제3도 및 제4도 참조). 본 실시예에 있어서는, 상기 간격(X)을 12cm로 높이(Y) 및 전후폭(Z)을 10cm로 설정하고 있다. 또, 개방된 도어(3)가 하측 래크(4)에 가장 접근하는 부분[도어(3)의 하단코너부]과 상기 하측 래크(4)와의 거리는 11cm로 설정되어 있다.As shown in FIG. 1, the lower rack 4 has a basket shape in which the overall shape is rectangular, similar to the upper rack 4, and has a cutout portion R. As shown in FIG. In other words, the front surface of the lower rack 4 is cut out obliquely over the lower surface (in this embodiment, the cutout is set to 6 cm in height and 7.5 cm in depth). Then, the support rollers 40 and 40 protrude outward from the lower side wall of the lower rack 4, and the support rollers 40 and 40 are sidewalls of the cleaning chamber 2 near the lower nozzle arm 6 above. The lower rack 4 is installed in the vicinity of the upper side of the lower nozzle arm 6 by being supported by the support rails 5 provided therein. The degree of crystallinity of the cutout portion R is set such that the filtration device 70 can be freely attached and detached in a state where the lower rack 4 is accommodated in the cleaning chamber 2. That is, the space | interval X of the lower rack 4 and the edge of the opening part of the washing | cleaning chamber 2 is set larger than the up-and-down height Y and front-back width Z of the filtration apparatus 70 mentioned later (the 3 and 4). In the present embodiment, the height X and the front and rear width Z are set to 12 cm for the space X. In addition, the distance between the part (lower corner corner of the door 3) and the lower rack 4 where the door 3 opened closest to the lower rack 4 is set to 11 cm.

상기 여과장치수용실(7)은 세정실(2)의 바닥벽(21)을 하측으로 크게 돌출시켜 형성되어 있으며, 그 상단주연부에 상기 여과장치(70)가 배치된다. 그리고, 여과장치수용실(7)의 몸통측부와 상기 세정펌프(62)의 흡인구는 연이어 통해져 접속되어 있다. 따라서, 노즐암(6, 6)에서 노출되는 세정수는 상기 여과장치(70)에 의하여 여과된다. 또, 상기 여과장치수용실(7)의 바닥부에는 배수구(7a)가 형성되어 있으며, 이 배수구(7a)는 배수펌프(75)의 흡입구에 연이어 통해져 접속되어 있다. 그리고, 배수펌프(75)의 토출구에 접속된 배수파이프(74)는 케이싱(1)의 후판(1b)을 통하여 외부로 인출되어 있다. 따라서, 세정완료후에 배수펌프(75)를 동작시키면 저류부(23)내의 저류세정수가 여과장치(70)에 의하여 여과되어 외부로 배출되어 된다.The filtering device accommodating chamber 7 is formed by protruding the bottom wall 21 of the washing chamber 2 to the lower side, and the filtering device 70 is disposed at the upper periphery thereof. And the trunk | drum side part of the filtration apparatus accommodation chamber 7 and the suction port of the said washing pump 62 are connected in series. Therefore, the washing water exposed from the nozzle arms 6 and 6 is filtered by the filtration device 70. Moreover, the drain port 7a is formed in the bottom part of the said accommodating chamber 7, This drain port 7a is connected through the suction port of the drain pump 75 in series. The drain pipe 74 connected to the discharge port of the drain pump 75 is drawn out to the outside through the rear plate 1b of the casing 1. Therefore, when the drain pump 75 is operated after the cleaning is completed, the storage washing water in the reservoir 23 is filtered by the filtration device 70 and discharged to the outside.

상기 여과장치(70)는 제2도 내지 제4도에 나타낸 바와 같이, 제1필터(710) 및 그 바닥벽 트인구멍(710c)에 끼워지는 제2필터(711)로 이루어지는 외측필터(71)와, 상기 제2필터(711)의 상단 주연부에 배치되어 그 내부에 수용되는 내측필터(72)로 구성되어 있으며, 상기 각 필터(710, 711, 72)에는 각각 손잡이(710a, 711a, 72a)가 형성되어 있다. 상기 여과장치는 여과장치수용실(7)의 트인구멍 상단가장자리에 제1필터(710)의 틀체(710d)가 걸어맞춰지도록 되어 있으며, 상기 각 필터(710, 711, 72)를 여과장치수용실(7)에 수용한 상태에 있어서는, 상기 제2필터(711)의 하단이 상기 배수구(7a)를 포위하는 상태에서 여과장치수용실(7)의 바닥벽 상면과 맞닿도록 되어 있다. 또, 여과장치수용실(7)의 바닥벽에는 배수구(7a) 주위에 제2필터(711)의 하단을 위치결정하기 위한 환상(環狀)의 직립돌기(7b)가 돌출형성되어 있다.As shown in FIGS. 2 to 4, the filtration device 70 includes an outer filter 71 including a first filter 710 and a second filter 711 fitted into the bottom wall opening 710c. And an inner filter 72 disposed on the upper periphery of the second filter 711 and accommodated therein, each of the filters 710, 711, 72 having handles 710a, 711a, 72a, respectively. Is formed. The filtration device is such that the frame 710d of the first filter 710 is engaged with the upper edge of the open hole of the filtration device accommodation chamber 7, and the respective filters 710, 711, 72 are connected to the filtration device accommodation room. In the state accommodated in (7), the lower end of the second filter 711 is in contact with the upper surface of the bottom wall of the filtration device accommodation chamber 7 in the state surrounding the drain port 7a. Further, an annular upright protrusion 7b for projecting the lower end of the second filter 711 around the drain port 7a is formed on the bottom wall of the filtration device accommodation chamber 7.

상기 제1필터(710)는 상측으로 갈수록 확대되는 편평한 접시형상체로 되어 있다. 또, 이 제1필터(710)는 직경 1.2mm정도의 구멍(710b, 710b)이 다수개 형성되어 있는 스테인레스제 펀칭플레이트로 형성되어 있으며, 그 바닥벽 중앙에는 제2필터(711)를 끼우기 위한 트인구멍(710c)이 형성되어 있음과 아울러 그 상단 외주연부에는 폴리프로필렌수지제로 된 틀체(710d)가 장착되어 있다.The first filter 710 is a flat plate-shaped body that extends toward the upper side. In addition, the first filter 710 is formed of a stainless punching plate formed with a plurality of holes 710b and 710b having a diameter of about 1.2 mm, and the second filter 711 is fitted in the center of the bottom wall. An open hole 710c is formed, and a frame 710d made of polypropylene resin is attached to the outer peripheral edge of the upper end thereof.

상기 제2필터(711)는 폴리프로필렌수지제의 통형상으로 된 틀체(711b)내부에 직경 0.2mm정도의 작은구멍이 무수하게 형성되어 있는 스테인레스제 스크린(711c)을 장착한 것으로서, 상기 틀체(711b)의 상단 외주에는 상기 제1필터(710)의 트인구멍(710c) 주연부에 걸어맞춰지는 걸어맞춤돌기(711d)가 형성되어 있다. 또, 상기 틀체(711b)의 외면과 스크린(711c)의 외면에는 단차(段差 ; 711e)가 형성되어 있다(제5도 참조).The second filter 711 is provided with a stainless screen 711c having a myriad of small pores having a diameter of about 0.2 mm formed in a tubular frame 711b made of polypropylene resin. On the outer circumference of the upper end of 711b, a engaging protrusion 711d is engaged with the periphery of the open hole 710c of the first filter 710. Further, a step 711e is formed on the outer surface of the frame 711b and the outer surface of the screen 711c (see Fig. 5).

상기 내측필터(72)는 폴리프로렌수지제의 바닥에 있는 통형상으로 되어 있으며, 그 측벽에는 상하보안으로 긴 구멍이 여러개 형성되어 있음과 아울러 바닥벽에는 직경 2.5mm정도의 작은구멍이 다수개 형성되어 있다. 그리고, 내측필터(72)의 상단 외주에는 상기 제2필터(711)의 틀체(711b)상단 주연부에 걸어맞춰지는 걸어맞춤돌기(72b)가 형성되어 있다.The inner filter 72 has a tubular shape at the bottom of the polypropylene resin, and a plurality of long holes are formed on the side wall of the polypropylene resin, and the bottom wall has a plurality of small holes about 2.5 mm in diameter. Formed. And, on the outer periphery of the upper end of the inner filter 72, engaging projections 72b are engaged with the upper periphery of the frame body 711b of the second filter 711.

본 실시예에 있어서는, 세정수가 저류부(23)내에 저류되어 있으며, 이 저류세정수가 상하 노즐암(6, 6)을 통하여 분출되어 세정동작이 실행된다. 이 세정동작을 위하여 세정실(2)의 후벽(27) 상부에는 제1도에 나타낸 바와같이 급수관(25) 하류단의 급수구(2a)가 형성되어 있으므로, 상기 급수관(25)을 통하여 공급되는 세정수가 상기 급수구(2a)에서 저류부(23)내로 공급된다.In this embodiment, the washing water is stored in the reservoir 23, and the washing water is sprayed through the upper and lower nozzle arms 6 and 6 to perform the washing operation. The water supply port 2a at the downstream end of the water supply pipe 25 is formed in the upper portion of the rear wall 27 of the cleaning chamber 2 for this cleaning operation, so that it is supplied through the water supply pipe 25. Washing water is supplied into the reservoir 23 from the water supply port 2a.

상기 급수를 제어하기 위하여 제6도에 나타낸 바와 같이, 저류부(23)내의 수위를 검지하는 수위센서(78)과 여과장치수용실(7)과 연이어 통해져 형성되어 있음과 아울러, 이 수위센서(78)의 출력이 급수제어장치(C₁)에 인가되며, 다시 이 급수제어장치(C1)로 부터의 출력이 급수관(25)내에 끼워 설치되어 있는 개폐밸브(22)로 입력된다. 따라서, 시동조작에 의하여 상기 개폐밸브(22)가 열리면서 급수구(2a)에서 저류부(23)로 급수가 이루어지며, 상기 저류부(23)내의 수위가 설정치로 된 시점에서 급수제어장치(C₁)의 출력에 의하여 개폐밸브(22)가 닫힘으로써 소정량의 세정수가 자동공급된다.In order to control the water supply, as shown in FIG. 6, the water level sensor 78 is formed through the water level sensor 78 for detecting the water level in the reservoir 23 and the filtering device accommodation chamber 7, and this water level sensor The output of the 78 is applied to the water supply control device C ₁ , and the output from the water supply control device C ₁ is again input to the on-off valve 22 fitted in the water supply pipe 25. Accordingly, water is supplied from the water supply port 2a to the storage unit 23 while the on-off valve 22 is opened by the start operation, and the water supply control device C at the time when the water level in the storage unit 23 becomes the set value. _The on / off valve 22 is closed by the output of ₁ ), and the predetermined amount of washing water is automatically supplied.

식기세정기에 있어서, 세정실(2)의 저류부(23)내에 저류된 상기 세정수는 세정펌프(62)에 의하여 상하 노즐암(6, 6)에서 각각 상하 래크(4, 4)로 분출된 후 저류부(23)내로 되돌아오는데, 이 때 세정수의 온도가 제어되어 세정효율이 높이도록 되어 있다.In the dishwasher, the washing water stored in the reservoir 23 of the washing chamber 2 is ejected from the upper and lower nozzle arms 6 and 6 by the washing pump 62 to the upper and lower racks 4 and 4, respectively. After returning to the storage 23, the temperature of the washing water is controlled to increase the washing efficiency.

상기 세정수의 온도를 소정온도로 유지하기 위하여, 세정실(2)의 바닥벽(21) 표면에는 히터(20)가 설치됨과 아울러 상기 바닥벽(21)의 이면에는 온도검지센서(S)가 설치되어 있다. 그리고, 온도검지센서(S)의 검지온도가 온도제어장치(C₂)에 입력되며, 이 온도제어장치(C₂)의 출력에 의하여 상기 히터(20)가 제어됨으로써, 저류부(23)내의 온도가 세정동작의 진행정도에 적합한 온도로 관리된다.In order to maintain the temperature of the washing water at a predetermined temperature, a heater 20 is installed on the surface of the bottom wall 21 of the cleaning chamber 2 and a temperature detection sensor S is provided on the rear surface of the bottom wall 21. It is installed. Then, the detection temperature of the temperature detection sensor (S) is input to a temperature control device (C _2), in the temperature control of the heater 20 is controlled by the output of the device (C _2). Thus, the reservoir unit 23, The temperature is managed at a temperature suitable for the progress of the cleaning operation.

세정공정종류후에 건조공정이 실행되는데, 이 건조를 위하여 세정실(2)의 벽면과 케이싱(1)의 벽면 사이에 급기장치(8)가 설치됨과 아울러 배기장치가 내장되어 있다.After the type of cleaning process, a drying process is performed. For this drying, an air supply device 8 is provided between the wall surface of the cleaning chamber 2 and the wall surface of the casing 1, and an exhaust device is incorporated.

상기 급기장치(8)는 케이싱(1)의 앞면 상단부에 형성된 급기구(10)에서 세정실(2)을 구성하는 후벽(27)하부에 형성된 트인구멍(81)에 이르는 역 L자 형상의 급기통로(83)내에 급기팬(80)을 내장한 구성으로서, 상기 급기장치(8)에 의하여 공급되는 공기의 온도는 히터(20)에 의하여 소정온도로 설정된다.The air supply device 8 is an inverted L-shaped air supply that extends from the air supply port 10 formed at the upper front end of the casing 1 to the open hole 81 formed at the bottom of the rear wall 27 constituting the cleaning chamber 2. In the configuration in which the air supply fan 80 is incorporated in the passage 83, the temperature of the air supplied by the air supply device 8 is set to a predetermined temperature by the heater 20.

한편, 배기장치는 케이싱(1)의 앞면 상단부에 형성된 배수구(36)와 세정실(2)을 구성하는 천정벽(26)의 중앙부에 형성된 유입구(35)가 배기통로(34)에 의하여 연이어 통해져 있는 구성이다.On the other hand, the exhaust device is connected to the drain port 36 formed in the upper end of the casing 1 and the inlet 35 formed in the central portion of the ceiling wall 26 constituting the cleaning chamber 2 by the exhaust passage 34. It is a broken structure.

본 실시예의 식기세정기는, 제어장치(C)에 의하여 각부의 동작이 소정 타이머로 실행되도록 되어 있는 것으로서, 상하 래크(4, 4)내에 식기를 수용하여 이 상하 래크(4, 4)를 세정실(2)내에 넣고, 이 상태에서 시동스위치를 조작하면 급수스위치가 온(ON)되어 상기 제어장치(C)에 포함된 급수제어장치(C₁)에 의하여 급수관(25)에서 소정량의 세정수가 공급되어 저류부(23)내에 저류된 후, 급수동작이 자동적으로 정지된다. 이어서, 세정동작신호가 제어장치(C)에서 출력되며, 상기 저류세정수가 세정펌프(62)로 흡인되어 여과장치(70)를 통과한 후 노즐암(6, 6)으로 압송되어 노즐을 통하여 분출되는 세정수에 의하여 세정동작이 실행된다. 이 때, 식기에서 세정된 찌꺼기는 제1필터 및 제2필터(710, 711)와 내측필터(72)에 의하여 포집되는데, 비교적 큰 찌꺼기는 내측필터(72)에 형성된 구멍부의 지름관계에서 볼 때, 상기 내측필터(72)에 의하여 포집된다. 또한, 상기 세정시에는 상기 제어장치(C)에 포함된 온도제어장치(C2)에 의하여 저류부(23)내의 세정수의 온도가 소정온도로 유지된다.The dishwasher of this embodiment is configured such that the operation of each part is executed by a predetermined timer by the control device C. The dish washing machine accommodates the dishes in the upper and lower racks 4 and 4 to clean the upper and lower racks 4 and 4. (2) When the start switch is operated in this state, the water supply switch is turned on, and the predetermined amount of washing water is supplied from the water supply pipe 25 by the water supply control device C ₁ included in the control device C. After being supplied and stored in the reservoir 23, the water supply operation is automatically stopped. Subsequently, a cleaning operation signal is output from the control device C. The storage wash water is sucked into the cleaning pump 62, passed through the filtration device 70, and then pumped to the nozzle arms 6 and 6 and ejected through the nozzle. The washing operation is performed by the washing water. At this time, the residue washed in the tableware is collected by the first filter, the second filter 710, 711 and the inner filter 72, the relatively large residue is seen in the diameter relationship of the hole formed in the inner filter 72 It is collected by the inner filter 72. In addition, at the time of washing | cleaning, the temperature of the washing | cleaning water in the storage part 23 is maintained by predetermined temperature by the temperature control apparatus C2 contained in the said control apparatus C.

상기 세정동작이 완료되면, 제어장치(C)의 출력에 의하여 배수펌프(75)가 작동하여 저류부(23)내의 저류수가 여과장치(70)를 통하여 배수파이프(74)로 배출되며, 여과장치(70)에 찌꺼기의 포집이 이루어진다. 이때, 제2필터(711)는 그 하단이 배수구(7a)를 포위하는 상태로 여과장치수용실(7)의 바닥벽과 맞닿아 있기 때문에, 상기 저류수는 상기 제2필터(711)에 장착된 스크린(711c)의 외면 전역에서 그 내부로 진입하여 상기 배수구(7a)로 유출된다. 따라서, 제1필터(710)의 구멍(710b, 710b)을 통과한 찌꺼기는 제2필터(711)에 의하여 최종적으로 포집되는데, 스크린(711c)에 형성된 작은구멍의 지름관계에서 볼 때 비교적 작은 찌꺼기가 이것에 포집되며, 이 찌꺼기는 스크린(711c)의 외면전역에 부착된다.When the cleaning operation is completed, the drain pump 75 is operated by the output of the control device (C) to discharge the storage water in the storage unit 23 to the drain pipe 74 through the filtering device 70, the filtering device At 70, collection of debris is made. At this time, since the second filter 711 is in contact with the bottom wall of the filter accommodation chamber 7 in a state where the lower end thereof surrounds the drain hole 7a, the reservoir is mounted on the second filter 711. The entire surface of the screen 711c enters the interior of the screen 711c and flows out of the drain 7a. Therefore, the residue passing through the holes 710b and 710b of the first filter 710 is finally collected by the second filter 711, which is relatively small in terms of the diameter relation of the small holes formed in the screen 711c. Is collected in this area, and this debris is attached to the entire surface of the screen 711c.

그 후, 마무리공정, 건조공정이 실행되어 급기장치(8)에 의하여 공기가 세정실(2)내로 공급되고, 다시 배기장치를 통하여 외부로 배출된다. 이 건조공정은 소정시간 계속된 후 종료된다.Thereafter, the finishing step and the drying step are executed, and the air is supplied into the cleaning chamber 2 by the air supply device 8 and discharged to the outside through the exhaust device again. This drying process is continued after a predetermined time.

상기 공정이 종료된 후 여과장치(70)에 포집된 찌꺼기를 제거할 때에는, 도어(3)를 열어 제2필터(711)의 손잡이(711a)를 들어올려 상기 제2필터(711)를 내측필터(72)와 함께 꺼낸 후, 다시 제1필터(710)를 꺼내어 이들 각 필터(710, 711, 72)를 청소하면 된다. 이 때, 하측 래크(4)에는 절결부(R)가 형성되어 있으며, 이 절결부(R)는 하측 래크(4)와 세정실(2)의 개방부 가장 자리와의 간격(X)이 여과장치(70)의 상하 높이(Y) 및 전후폭(Z)보다 크게 형성되어 있기 때문에, 상기 하측 래크(4)를 세정실(2)내에 수납한 상태에서 내측필터(72)가 장착된 제2필터(711)와 제1필터(710)를 용이하게 꺼낼 수 있다. 이 때, 상기한 바와 같이 제2필터(711)에 포집된 찌꺼기는 스크린(711c)의 외면 전역에 부착되어 있는데, 틀체(711b)와 스크린(711c) 사이에는 단차(711e)가 형성되어 있기 때문에, 이 찌꺼기는 상기 단차(711e) 부분으로 들어간 상태에서 스크린(711c)면에 부착되므로, 제2필터(711)를 제1필터(710)에서 분리하였을 때에 이 찌꺼기가 제1필터(710)의 트인구멍(710c) 주연부로 잘려져서 떨어지는 문제점을 발생하지 않는다. 또 상기 실시예의 식기세정기에 있어서는, 상기 각 필터(710, 711, 72)를 일체로 빼낼 수 있도록 상기 절결부(R)가 크게 형성되어 있기 때문에, 제1필터(710)의 손잡이 (710a)를 들어올림으로써 각 필터(710, 711, 72)전체를 동시에 빼내어 청소할 수도 있다.After removing the waste collected in the filtration apparatus 70 after the process is completed, the door 3 is opened to lift the handle 711a of the second filter 711 to return the second filter 711 to the inner filter. After taking out together with 72, the first filter 710 may be taken out again and the respective filters 710, 711 and 72 may be cleaned. At this time, the notch part R is formed in the lower rack 4, and this notch part R filters the space | interval X of the lower rack 4 and the edge of the opening part of the washing | cleaning chamber 2 by filtration. Since it is formed larger than the upper and lower height Y and the front and rear width Z of the apparatus 70, the 2nd in which the inner filter 72 was attached in the state which accommodated the said lower rack 4 in the washing chamber 2 The filter 711 and the first filter 710 can be easily taken out. At this time, the debris collected by the second filter 711 is attached to the entire outer surface of the screen 711c, because the step 711e is formed between the frame 711b and the screen 711c. The debris is attached to the screen 711c in the state where the debris enters the step 711e, so that when the second filter 711 is separated from the first filter 710, the debris of the first filter 710 is removed. It does not cause the problem of being cut off by the periphery of the open hole 710c. Further, in the dish washing machine of the above embodiment, the cutout portion R is formed large so that the respective filters 710, 711 and 72 can be pulled out integrally, so that the handle 710a of the first filter 710 is removed. By lifting up, the whole filter 710,711,72 can also be taken out and cleaned simultaneously.

또한 본 실시예에 있어서, 내측필터(72)는 제2필터(711)에서 자유롭게 빼낼 수 있도록 설치하였으나, 상기 제2필터(711)로 일체로 형성하여도 된다.In addition, in the present embodiment, the inner filter 72 is provided to be freely removed from the second filter 711, but may be formed integrally with the second filter 711.

Claims

A storage portion 23 formed at the bottom of the washing chamber 2 in which the front side is opened; A filtration device 70 accommodated in the filtration device accommodation chamber 7 formed successively under the reservoir 23; A rack (4) accommodated above the reservoir (23); The washing water stored in the reservoir 23 is passed through the filtration device 70 in the filter accommodation chamber 7 to be discharged to the object to be cleaned in the rack 4, and then, to the reservoir 23. In the dishwasher of the type which returns, the cutout part is formed in the lower part of the front surface of the lower rack 4, and the filtration apparatus 70 is put in the state which accommodated the rack 4 in the washing chamber 2 with the crystallinity degree. A dishwasher characterized in that it is set so that it can be attached or detached in the filtration apparatus accommodation chamber (7).

A storage portion 23 formed at the bottom of the washing chamber 2 in which the front side is opened; A filtration device 70 accommodated in the filtration device accommodation chamber 7 formed successively under the reservoir 23; A rack (4) accommodated above the reservoir (23); And the washing water stored in the reservoir 23 is passed through the filtration device 70 in the filtration device accommodation chamber 7 to be discharged to the object to be cleaned in the rack 4, and then to the reservoir 23. In the dishwasher having a return type, a relatively flat first filter 710 having the filter device 7 fitted to the edge of the open hole of the filter accommodation room 7 and having the open hole 710c formed in the bottom wall thereof. Wow ; A cylindrical member having an outer diameter that can be fitted into the open hole 710c of the first filter 710 and having a engaging protrusion 710d engaged at an upper portion of the periphery of the open hole 710c. 2 filter 711; A bottomed cylindrical inner filter 72 fitted in the upper end of the second filter 711; And the inside of the second filter (711) is connected to a washing water discharge outlet formed at the bottom of the filtration device accommodation chamber (7).