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KR960007699B1 - 카르복실산 기재의부식-억제 조성물 및 그의 부식 방지용 용도 - Google Patents

카르복실산 기재의부식-억제 조성물 및 그의 부식 방지용 용도 Download PDF

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KR960007699B1
KR960007699B1 KR1019930001992A KR930001992A KR960007699B1 KR 960007699 B1 KR960007699 B1 KR 960007699B1 KR 1019930001992 A KR1019930001992 A KR 1019930001992A KR 930001992 A KR930001992 A KR 930001992A KR 960007699 B1 KR960007699 B1 KR 960007699B1
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South Korea
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acid
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carboxylic acid
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꼬뼁 앙리-쨩
세이들 아리
스뗑메 삐에르
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빠드리샤 꼬송
엘프 아토켐 에스 에이
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Abstract

내용 없음.

Description

카르복실산 기재의 부식-억제 조성물 및 그의 부식 방지용 용도
본 발명은 카르복실산 기재의 부식 억제용 조성물, 및 철(Ⅱ) 금속 및 비-철(Ⅱ)금속의 부식을 억제하기 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.
수많은 이용분야, 특히 비제한적으로 간주되어야하는 예를 들자면, 순환수를 동결 방지제로 사용하는 냉장 시스템에 있어서, 그리고 또한 자동차 냉각 회로에 있어서, 카르복실산 및 디카르복실산과 그들의 염이 부식 억제제로 매우 널리 사용되고 있음은 공지된 사실이다. 추가로, 상기 산들은 풍화 억제제로 사용되며, 이를 위해서 보호가 필요한 재료상에 코팅제로 적용된다. 지질에 가용성인 카르복실산 유도체는 또한 소위 다지방성유형의 보호를 위해, 예를들면 엔진의 기계 부품의 보호를 위해 사용된다.
기타 문헌중에서, 본 명세서에서 참고로 인용된 미합중국 특허 제4,561,990호에는 상기 목적을 위한 디카르복실산의 이용이 기술되어 있다. 유사하게, 미합중국 특허 제4,851,145호에는 상기 목적을 위하여 알킬벤조산 또는 그의 염중의 하나의 이용이 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,588,513호에는 디카르복실산 또는 그의 염의 이용이 기술되어 있다. 현재 가장 빈번히 사용되고 있는 디카르복실산은 C12산이지만, 이것은 가격이 비싸다.
미합중국 특허 제4,687,634호에는, (1) 다량의 유성 담체 및 (2) 소량의 오일 가용성 및 친수성 조용매, 및 (3) 소량의 C7유기산 및 디시클로헥실아민 염을 포함하는 부식 억제 조성물이 개시되어 있다. 이것은 또한 다지방성유형을 보호한다.
EP-O 251 480호에는, 최근 환경 보호 규정으로 인해 제거를 시도해온 트리아졸 유도체를 함유하는 삼성분 조성물이 개시되어 있다.
S.H. Tan등[CASS 90 : Corrosion-Air, Sea, Soil[Proc. Conf.] Auckland, NZ, 19~23, 1990년 11월]은 C6~C모노카르복실산 및 C~C디카르복실산계를 포함한 다양한 유기 성분의 억제 능력에 관한 시험을 개시하고 있다.
FR-A-2 257 703호에는 C5~C9산 계의 산을 포함한 조성물이 개시되어 있다. 그럼에도 불구하고, 상기 특허들은 부식방지제의 사용에서 연관되는 모든 문제점에 대한 해결책을 제공하지 못한다. 먼저, 점점 더 엄격해지고 있는 환경 보호 규정을 고려하여, 부식 방지 첨가제는 생분해될 것이 요구된다. 경수, 다시말해서 석회석 함량이 높은 물에서의 부식억제 작용을 고려하는 경우에, 부식 억제 첨가제가 침전 제거되는 것을 막기 위해서 칼슘 착물화제를 첨가하는 것이 종종 필요하다. 착물화제를 첨가하는 것은 조성물을 더욱 복합적으로 만든다. 종종, 철(Ⅱ)금속 및 비-철(Ⅱ)금속의 보호에는 서로 상이한 수단이 사용되므로, 다양한 유형의 부식 방지제를 함유하는 제제가 필요하다. 상용되는 부식 억제 제제는 이를 사용하고자 하는 용도에 따라 서로 상이한 복합 조성물이다.
본 발명을 이끈 연구에 있어서, 매우 뜻밖에 놀랍게도, 부식-억제 용도에 있어서, 특정한 공지의 카르복실산은 이들의 혼합물이 일반적으로 사용되는 적용 분야에서 현저히 개선된 뜻밖의 억제 작용을 일으킴과 동시에 상기-언급된 단점들을 회피할 수 있음을 알아내었다.
본 발명은 홀수개의 탄소원자를 함유하는 모노카르복실산인 카르복실산 또는 그의 유도체를 포함하는 부식 억제 조성물을 제공한다.
이하에서, 홀수개의 탄소원자를 함유하는 모노카르복실산을 홀수 카르복실산 또는 홀수산이라 언급할 것이다. 바람직하게는, 상기 산은 헵탄산, 논난산 및 운데칸산으로 구성된 군에서 선택된다. 헵탄산 및 그의 유도체, 및 운데칸산으로 구성된 군에서 선택된다. 헵탄산 및 그의 유도체, 및 운데칸산 및 그의 유도체가 특히 바람직하다.
한가지 바람직한 구현양태에 있어서, 홀수 카르복실산 또는 그의 유도체는 수용성 유도체의 형태이다.
상기 구현양태의 한가지 변형에 따르면, 홀수 카르복실산의 수용성 형태는 알칼리금속 또는 알칼리 토류금속, 유리하게는 소듐의 염으로 구성된다.
또 다른 바람직한 구현 양태에 따르면, 상기 산은 지질 가용성 형태로 존재할 수 있다.
본 발명은 또한 부식억제, 기타 적용중에서도, 냉각회로, 특히 자동차 냉각회로의 부식 억제를 위한 상기 화합물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 사실상 홀수산 또는 그의 염이 개선된 부식 억제 작용을 일으킬 수 있다는 놀랍고도 뜻밖의 연구 결과를 기초로한 것이다.
본 발명은 홀수산의 뜻밖의 용도 뿐만 아니라, 홀수산 또는 그의 염이 순수하거나 거의 순수한 상태로 첨가제로서 첨가된 모든 조성물, 및 필수적으로 홀수산으로 구성된 조성물을 모두 포함한다.
실제로, 소듐 헵타노에이트와 같은 유도체는, 인접한 지방산에 대해 이를 단독으로 또는 기타 부식 방지제와의 조합으로 사용하여 수행한 비교 시험에서 이하 증명되는 바와 같이 뛰어난 결과를 제공한다. 동일한 헵탄산(C7)의 기타 수용성 유도체, 특히 알칼리 금속 및 알칼리토류금속의 염 및 히드록실아민의 염, 예를들어 에탄올아민, 또는 지용성 유도체 예를들어 에틸아민 또는 디에틸아민과 같은 비-히드록실화 아민 염에 대해서도 유사한 시험을 행할 수 있다.
본 발명은 또한 카르복실산 또는 그의 유도체를 기재로한 모든 부식억제 조성물을 포함하며, 산 형태를 기준으로하여 계산할때 홀수개 탄소원자산 또는 그의 유도체는 상기 카르복실산의 20중량% 이상, 유리하게는 50중량% 이상을 나타낸다.
본 발명은 또한 상기 수성 조성물의 중량을 기준으로하여 0.1~10중량%의 부식 억제 조성물을 포함하는 수성 조성물에 관한 것이다.
한가지 구형양태에서, 본 발명에 따른 조성물은 또한 산화제, 유리하게는 과붕산염을 포함한다. 바람직하게는 조성물의 pH는 약 8이다.
순수한 C7및 C11커트의 실용성은 리신유 분해 증류로부터 가능해진다. 그것은 또한 CO를 C6또는 C10알파올레핀에 첨가함으로써 가능해진다. 추가로, 가오존분해를 통한 올레산 커트로부터의 분해 종류 커트는 C9산, 모노-및 디-산, C7평균 분자량과 약 30~40중량%의 Cw산의 혼합커트로 구성된 조-생성물을 산출한다. 이들 모든 커트는 그의 부식 방지 효율성으로 인해 홀수 산으로서 사용될 수 있다.
본 명세서에서 개시된 부식 방지 제제는 조절, 제공 및 실행이 간편하다는 장점을 가지고 있다. 존재하는 특정 활성 물질의 단점을 제거하기 위해 특정 성분을 사용하는 것이 필요한 다수의 복합 제제에 대해서는 상기 장점이 적용되지 않는다.
본 발명의 기타 목적 및 장점은 이하의 시험 결과로서 주어진 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 그러나 하기 실시예가 본 발명을 제한하는 것으로 간주하지 말하야 한다.
표에 제시된 결과는 자동차 냉각제의 보호 수준을 증명하기 위해 ASTM D-1384규격을 사용하여 수득된 것이다. 하기 시험은 자동차 냉각 시스템이외의 시스템에 대해서도 명백히 수행될 수 있으며, 따라서 본 발명이 자동차 냉각회로 부식 방지 또는 더욱 일반적으로 물 또는 수용액을 냉각제로 사용하는 냉각회로의 부식방지에 제한되는 것으로 해석하지 말아야 한다.
실시예 1
ASTM M-1384규격에 따르면,
-33.33중량%의 모노에틸렌글리콜(MEG), 저해됨(또는 대조군의 경우에는 저해되지 않음),
-ㆍ148mg/1의 황산나트륨
ㆍ165mg/1의 염화나트륨
ㆍ138mg/1의 중탄산나트륨
을 함유하는 66.67중량%의 부식수를 포함하는 다양한 엔진 냉각제 용액(Sr)을 제조한다.
상기 언급된 저해 MEG는 1.5중량%의 억제 용액(Si) 및 20g/1의 사중붕산나트륨ㆍ10H2O를 함유하는 MEG로 구성된다.
Si용액은, 용액 1ι당 g으로 표시하여,
-250g의 탄소수 6, 7, 8 또는 10을 갖는 모노카르복실산 또는 도데칸디온산의 나트륨염.
-15g의 소듐 벤조에이트,
-3g의 톨릴 트리아졸
을 함유하는 수용액이다.
하기 표에서, 용액 Sr과 접촉시킨 각종 금속의 중량 손실(mg/㎠로 표시)은 ASTM D 1384규격에 따라서 주어진다. 하기 표에서, 상기 언급된 소듐 염은 산의 탄소원자수에 상응하여 간단하게 식 NaC6,NaC7ㆍㆍㆍNa2C12(C12산은 디카르복실산임)이라 언급한다. MEG는 대조(순수 MEG)로 언급된다.
R.A. 알칼리도 차이를 나타낸다.
하기 표에 요약된 시험에서, 상기 기술된 33.33%의 저해 MEG 및 66.67%의 부식수를 갖는 Sr용액을 또한 사용하였다. 저해 MEG는 상기-언급된 소듐염의 33.33중량%를 함유하는 수용액으로 구성된 S억제 용액 자체를 3중량% 포함하는 MEG로 구성된다.
표 1 및 11에 주어진 결과를 검토해 보면, 모든 경우에서 수득되는 결과는 사용되는 카르복실산 혼합물에서 일반적으로 발견되는 C내지 C로 구성된 기타 산중의 어느 하나에 대해 얻어진 결과보다 양화하거나 적어도 동일하므로, 수득되는 부식 억제를 고려할때 헵탄산 유도체가 모든 경우에서 최상의 결과를 제공한다.
ASTM D 1384시험의 표 I 및 II는 인접한 주변의 산에 비해 헵탄산(C) 유도체의 특별한 역할을 강조한다 :
-지방산 염을 포함한 통상의 3-성분 제제에 있어서, C유도체의 전체 효용성 프로파일은 인접한 주변의 산 유도체에 비해 현저히 양호하며, C디산은 이와 비교할 수 있는 첫번째 것임이 관찰된다.
-부식 억제제로서 단지 지방산 염만을 함유하는 제제에 있어서, 표 II에 나타낸 실시예의 결과에서 볼수 있는 바와 같이, (C)유도체 컬럼은 다른 모든 컬럼에 비해 최선의 결과를 제공함을 확인할 수 있다.
ASTM D-1384 물중에 1중량% 농도로 소듐 헵타노에이트 염이 존재할때의 결과는 하기에서 구리의 경우에 대해 연구한다.
실질적으로 3μA/㎠ 정도 값의 일정한 음극 전류 밀도를 사용하면, 부식 정도의 감소가 관찰되며, 특히 200~950mV/ESC에 위치한 정체점이 나타난다. 헵타노에이트의 부재시에는, 부식 포텐션 이상의 음극 전류에서 구리에 대한 I=f(E)곡선이 연속 증가하는 것이 나타난다.
어떠한 이론에도 구속되지 않기를 원하면서, 본 출원인은 소듐 헵타노에이트 용액(0.08M ; pH=8)의 억제 작용이 Cu(OH)산화물 필름상에 C카르복실레이트 음이온이 흡착됨에 기인하는 것이라고 믿고 있다.
실시예 2
하기 표 Ⅲ 및 Ⅶ는 강철의 제조 시료를 고정된 온도에서 소정의 기간동안 단순히 물에 침지시켰을때의 시험 결과를 나타내고 있다. 그것의 표면 상태 변화는 육안 관찰하여, 그의 외관을 세가지 부류로 분류한다 : 양호, 변색, 녹슴. 동일한 조작자에 의해 세정 절차를 표준화한 후에 각 시료의 특정한 중량 손실을 측정함으로써 시험을 완결한다. 이 시험은 상이한 제품에 대한 비교 성능을 확인하기 위해 사용되는 고속 및 저가의 선택 방법의 일부이다.
48시간 및 92시간의 기간에 걸쳐 45 로 유지시킨 온도에서, 인접한 주변의 커트와 비교할때, 중앙 손실결과는 (C)헵탄산 유도체에 대한 결과를 고려하여 표현된 것이다. ASTM D-1384규격에서 사용되는 제제에 존재하는 기타 성분을 첨가하지 않은채로도, C유도체는 지금까지 우수하다고 여겨졌던 C유도체를 명백히 압도한다.
주어진 표에 의하여, 0.1% 첨가제 및 1% 물로부터 각 시료의 중량 손실에 대한 보호정도의 영향을 평가할 수 있다. 각각의 시험에 대하여, 순수에서 시험된 대조군의 결과를 기재하였다. 각각의 수성 부식 형태에서 수행되는 시험의 횟수도 나타내었다.
시험은 경우에 따라 48시간 또는 92시간에 걸쳐 수행되며, 양호(Good), 변색(Rusted) 또는 붉어짐(Reddish), 및 녹슴(Met)를 의미하는 각각의 문자 G, R, M을 시표의 외관에 따라 부여하고, 투명(Glear), 적갈색(Rusty) 및 혼탁(Turbid)을 의미하는 각각의 문자 C, R 및 T는 액체의 외관에 관련된다. 표면적이 30㎠인 XC 18 강철 판으로 구성된 시료에 대해, 물 및 NaCx(이것은 C,C,C,C또는 C(디산) 카르복실산의 나트륨 염을 나타냄)을 함유하는 용액을 사용하여 45 C에서 부식 시험을 수행한다.
NaCx의 비율은 다음과 같다.
ㆍ표 Ⅲ ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ0.10%
ㆍ표 Ⅳ ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ0.25%
ㆍ표 Ⅴ ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ0.50%
ㆍ표 Ⅵ ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ0.75%
ㆍ표 Ⅶ ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ1.00%
상기 표의 각각에서 주어진 대조군은 단지 물만을 함유한 것이다.
실시예 3
플랜트 부식을 제한하기 위해 영구적으로 감시되는 공업 부품에 이용가능한 부식수를 사용하여 시험을 행함으로써 상기 시험을 더욱 보충한다.
C카르복실 산을 기재로하는 적절한 공업제품에 대한 보호를 확인하기 위해 투여량을 달리하면서 시험한 결과를 표에 기재하였다. 결과는 각종의 경우에 대해 1년당 마이크론으로 주어지는 부식 형태로 표현된다.
I.W.=공업용수
Sol. T=140g/1헵탄산 나트륨염 및 0.5g/1 소듐 벤조에이트를 함유하는 수용액
공업용수(I.W.)는 하기의 평균 특징을 갖는다 :
-pH : 7.7
-CAT : 7.0 F(완전 알칼리적량 적정( F))
-TsM : 5.8mg.1 (전체 현탁물)
-THT : 14.4 F(전체 함수정량 적정( F))
-CaHT : 10.2 F(칼슘 함수정량 적정( F))
-MgHT : 4.2 F(마그네슘 함수정량 적정( F))
-Cl : 56.7mg1
-총 Fe : 0.8mg.1
-여과 Fe : 0.14mg.1
-N-NH: 0.2mg.1 (질소의 mg.1 로 표현된 암모니아성질소-암모늄 이온)
상기 결과는 놀랍고도 예상치 못한 것이며, 헵탄산 및 그의 염이 매우 다양한 금속에 대해 매우 개선된 부식 억제 효과를 나타냄을 알 수 있다. 헵탄산이 분명히 부작용을 갖지 않는다는 사실을 제쳐놓고라도, 헵탄산은 지금까지 사용되어 왔던 바람직하지 않은 부작용, 예를들면 칼슘의 착물화작용을 나타낼 수 있는 다중 화합물 조성물의 사용을 회피할 수 있으며, 또한 헵탄산 조성물은 생분해된다는 장점이 있으므로 자연에 해를 끼치지 않는다.
실시예 4
편극저항(Rp) 측정 기술에 의해, 연구하고자 하는 금속 표면에서의 부식전류를 측정하기 위한 시험을 수 행할 수 있다. 구리에 대하여, 0.1~0.2μA/㎠의 전류가 통상의 보호에 상응하며 ; 한편, 2~3μA/㎠의 전류는 25μ/년의 마모를 야기시키므로 이는 허용될 수 없다. 통상의 나쁜 매질에 있어서는 구리상에 현저한 부식이 존재하지 않으며, 수성 매질중의 부식은 통풍이 잘되는 환경에서 분명히 나타난다.
BZT(벤조트리아졸)은 NaSO매질중에서 0.1M로 사용되었을때 R에 대해 하기 측정 결과를 제공한다.
인접한 주변의 나트륨 염에 대한 보충제 또는 대체제로서 소듐 헵타노에이트를 사용하면, 동일한 R측정기술에 사용하였을때, 통풍이 잘되는 매질중에서 하기 결과가 제공된다 :
따라서, 특정한 산화도에 대하여 구리와 헵탄산 유도체의 활성도가 나타난다.
공업 설비에 대해 시험을 수행한다. 전해질이 포함된 물중에서 1달에 걸쳐 장기간 침지시켰을때 하기의 결과가 수득되었다.
따라서, 염류 용액은 구리를 공격하여 1% 농도로 Na헵타노에이트가 존재한다면 모든 부식을 방지할 수 있다. 표면 공격은 관찰되지 않으며, 단지 소량의 C염을 첨가한 후에도 일부가 완전히 깨끗하게 남아있다.
보호층의 안정성은 또한 TGA(열-중량 분석)에 의해 측정되며, 결과는 200 C 이하에서 완전한 안정성이 있음을 증명한다.
어떠한 이론에도 구속되지 않기를 원하면서, 본 출원인은, 구리 금속의 특징에 따라서, 강력한 산화제의 존재에 의해 용액중에 금속 양이온이 생성되는 것으로 믿고 있다. 이어서, 양이온은 용액의 pH를 고려하여 매질중에 존재하는 산 형태의 음이온과 함께 안정한 화합물을 형성한다.
이렇게 형성된 소수성의 염은 즉시 원래의 금속 층과 함께 재결합하는 것으로 나타난다. 이 메카니즘은 공지되어 있는 금속의 인산염화 또는 크롬화 처리와 개념적으로 동등한 것이긴 하지만, 그리 격렬하지는 않다. 금속체상에 용해/결합/재부착이 일어나는 방식은, 순수 금속에서 출발하는 결정체 성장에 의하여 보호층이 형성되는 메카니즘이 아니라, 단순한 흡착에 의한 것으로 추측된다.
실시예 5
C, C및 C산을 이용하여 아연에 대해 하기 실험을 수행한다 :
-상응하는 산을 소다로 pH 8까지 중화시킴으로써 소듐 운데카노에이트 또는 도데카노에이트를 제조한다 :
-이것을 소듐에 대해 원하는 농도가 수득될때까지 희석한다(NaC및 NaC에 대해 0.005~0.05%, NaC에 대해 0.005~0.01%) ;
-스턴-게리(Stern-Geary)방법을 사용하여 광택이 나는 아연 전극의 편극 저항을 측정한다. 수득된 결과는 운데카노에이트가 부식억제력과 수성 매질 용해성간에 매우 양호한 정도의 교환성을 특징으로 함을 나타낸다.
0.01M NaC중에서 아연의 편극 저항은 사실상 1075KΩㆍ㎠이며, 이는 0.18×10 μA/㎠의 부식 전류에 상응하고, 다시말하자면 실제적으로 0이다.
NaC를 사용했을때 수득된 결과는 초기에는 동일한 것으로 나타날 수도 있으나(0.01M에 대해 1000KΩㆍ㎠보다 양호한 편극 저항 R를 나타냄), 생성물은 용해도의 한계로 인해 백색 침전물이 석출되므로, 부품의 외관이 손상된다.
NaC(0.01M)을 사용했을 때 R는 단지 140KΩㆍ㎠의 값을 가지며 이것은 아연의 빈약한 부식 저항성을 반영한 것이다.
상기 세가지 생성물을 다시 매우 낮은 농도(5×10 M)로 사용했을 때, NaC및 NaC는 매우 일반적인 성능(10~20KΩㆍ㎠정도의 R)을 가지는 반면, NaC의 성능에는 실질적인 변화가 없다.
더욱 높은 농도(0.05M)에서 NaC는 침전 석출되며, NaC의 R는 1400KΩㆍ㎠이고 NaC의 R는 단지 260KΩㆍ㎠이다.
실시예 6
상기 실시예에서 사용된 것과 동일한 조건하에서 카르복실레이트를 제조한다. 급속 고형화에 의해 수득된 Mg-lZn-15Al 합금에 대하여 시험을 수행한다.
카르복실레이트를 첨가한 ASTM물중에 pH 8에서 시험을 수행한다. 결과를 하기 표 나타낸다 :

Claims (17)

  1. 카르복실산 또는 그의 유도체를 함유하는 부식억제 조성물에 있어서, 상기 카르복실산 또는 그의 유도체중 20중량% 이상(산 형태를 기준으로 하여 산출됨)이 홀수개 탄소원자를 가지는 모노 카르복실산 또는 그의 유도체임을 특징으로 하는 부식억제 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 산이 헵탄산, 노난산 및 운데칸산으로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 산이 헵탄산임을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 산이 수용성 유도체의 형태임을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 수용성 유도체가 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염임을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 수용성 유도체가 나트륨 염임을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물이 필수적으로 홀수개의 탄소원자를 함유하는 상기 모노카르복실산 또는 그의 유도체로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물이 추가로 산화제를 포함함을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물이 pH 8을 가짐을 특징으로 하는 조성물.
  10. 카르복실산 또는 그의 유도체를 함유하며, 상기 카르복실산 또는 그의 유도체중 20중량% 이상(산 형태를 기준으로 하여 산출됨)이 홀수개 탄소원자를 가지는 모노카르복실산 또는 그의 유도체임을 특징으로 하는 제 1 항의 부식억제 조성물을, 수성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.1-10중량% 포함하는 수성 조성물.
  11. 부식 억제용으로 사용됨을 특징으로 하는 제 1 항에 따른 조성물.
  12. 제 11 항에 있어서, 철(II)금속에 적용됨을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 11 항에 있어서, 비-철(II)금속에 적용됨을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 비-철(II)금속이 구리임을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 비-철(II)금속이 마그네슘임을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 13 항에 있어서, 상기 비-철(II)금속이 아연임을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항에 있어서, 홀수개 탄소원자를 가지는 모노카르복실산 또는 그의 유도체는 상기 카르복실산 또는 그의 유도체중 50중량% 이상(산형태를 기준으로 하여 산출됨을 특징으로 하는 조성물.
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