[go: up one dir, main page]

KR960006414Y1 - Gas laser discharge apparatus - Google Patents

Gas laser discharge apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR960006414Y1
KR960006414Y1 KR2019930001971U KR930001971U KR960006414Y1 KR 960006414 Y1 KR960006414 Y1 KR 960006414Y1 KR 2019930001971 U KR2019930001971 U KR 2019930001971U KR 930001971 U KR930001971 U KR 930001971U KR 960006414 Y1 KR960006414 Y1 KR 960006414Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
distribution container
gas distribution
laser
flow
Prior art date
Application number
KR2019930001971U
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR940021369U (en
Inventor
임창빈
김경수
한상철
Original Assignee
엘지전선 주식회사
홍종선
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전선 주식회사, 홍종선 filed Critical 엘지전선 주식회사
Priority to KR2019930001971U priority Critical patent/KR960006414Y1/en
Publication of KR940021369U publication Critical patent/KR940021369U/en
Application granted granted Critical
Publication of KR960006414Y1 publication Critical patent/KR960006414Y1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

내용없음.None.

Description

고속 축류형 레이저의 가스분배 장치Gas distribution device for high speed axial laser

제1도는 종래 가스 분배기의 평면 및 측면도.1 is a plan view and a side view of a conventional gas distributor.

제2도는 본 고안에 의한 가스 분배기의 평명도.2 is a flatness of the gas distributor according to the present invention.

제3도는 본 고안 장치의 설치에 따른 실시예도.Figure 3 is an embodiment according to the installation of the subject innovation device.

제4도는 제3도의 A-A선 단면 구조도.4 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 가스 분배 용기 20 : 냉각수단10 gas distribution container 20 cooling means

30a, 30b : 덕트 40 : 가스포트30a, 30b: duct 40: gas port

50a, 50b : 가스 유동로50a, 50b: gas flow path

본 고안은 고속 축류형 레이저에 관한 것으로, 특히 레이저 공진기 내부에의 다수 방전관에 균일한 양의 가스 유동과 속도분포가 이루어지도록 하는데 적합한 고속 축류형 레이저의 가스 분배 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high speed axial type laser, and more particularly, to a gas distribution device of a high speed axial type laser suitable for achieving a uniform amount of gas flow and velocity distribution in a plurality of discharge tubes inside a laser resonator.

일반적으로 고속 축류형 레어지의 가스 흐름은 많은 양의 가스가 고속으로 유동하게 된다.In general, the gas flow of a high speed axial lager allows a large amount of gas to flow at a high speed.

이러한 레이저 공진기 내부에서의 가스유동 특성으로는 각각의 방전관에 균일한 양의 가스 유동과 균일한 속도 분포가 요구되며, 만일 각각의 방전관에 유동하는 가스의 양이 다르거나 속도 분포가 일정하지 않으면 균일 방전을 얻을 수 없게 되며, 이로 인해 레이저 전원공급 장치에서의 제어가 어렵게 되어 레이저 출력이 떨어지게 되므로, 각 방전관에 공급된는 가스의 공급분배가 무어보다 중요한 것이다.The gas flow characteristics inside the laser resonator require uniform flow of gas and uniform velocity distribution in each discharge tube, and uniformity if the amount of gas flowing in each discharge tube is different or the velocity distribution is not constant. Since the discharge cannot be obtained, which makes it difficult to control the laser power supply and the laser output is lowered, the supply distribution of the gas supplied to each discharge tube is more important than Moore.

이에 따른 종래의 가스분해 장치는 제1도의 (가) 및 (나)에 도시한 바와 같이, 측단면이 원형인 본체 덕트(1)의 상부로 적어도 L 길이를 갖는 위치마다 2개씩의 가스포트(2a), (2b)를 설치하되, 가스유입구(3)의 타측은 밀폐시켜서 구성된 것이다.The conventional gas cracking apparatus according to the related art has two gas ports for each position having at least L length to the top of the main body duct 1 having a circular cross-sectional side surface as shown in FIGS. 2a) and (2b) are provided, but the other side of the gas inlet 3 is sealed.

즉, 본체 덕트(1)의 가스유입구(3) 측으로 일정량의 가스가 공급되면, 본체 덕트(1)의 가스포트(2a), (2b)를 통해 레이저 공진기의 방전관(도면 미도시)이 가스가 공급되도록 한 것이다.That is, when a certain amount of gas is supplied to the gas inlet 3 side of the main body duct 1, the discharge tube (not shown) of the laser resonator passes through the gas ports 2a and 2b of the main body duct 1. It is to be supplied.

그러나, 이와 같은 종래 가스 분배 장치는 가스 공급이 길이방향으로 이루어지는 구조로 구성됨으로서 가스유입구측 가스포트에서 공급되는 가스의 압력과 이 가스포트와 L 길이 이격된 위치의 가스포트에서 유출되는 가스 압력과는 다소 편차가 생기게 되어 가스의 균일분배를 기대할 수가 없다.However, such a conventional gas distribution device has a structure in which the gas supply is made in the longitudinal direction, so that the pressure of the gas supplied from the gas inlet-side gas port and the gas pressure flowing out of the gas port at a position separated from the gas port by L length There is a slight deviation, so we cannot expect a uniform distribution of gas.

따라서, 본 고안은 상기한 종래 기술의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 그 목적은 레이저 공진기의 안정적인 방전을 위해 균일한 가스유동 구조를 제시하여 레이저 출력을 안정화 시킴에 있다.Therefore, the present invention was devised in view of the above-described problems of the prior art, and its purpose is to stabilize the laser output by presenting a uniform gas flow structure for stable discharge of the laser resonator.

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 구체적인 수단은 중앙에 가스를 유입하는 가스 분배용기(10)를 두되, 이 가스 분배용기(10)의 내부로 유입가스를 냉각시키는 가스냉각 수단(20)을 두고, 상기 가스 분배용기(10)의 상면에는 레이저 공진기(100)의 방전관과 연결되는 적어도 복수개의 가스포트(40b), (40c)를 두며 상기 가스 분배용기(10)의 양측면에는 종단이 밀폐된 덕트(30a), (30b)를 연결하되 각 덕트(30a), (30b)의 상부로 가스포트(40a), (40d)를 설치 구성하여서 달성된다.Specific means of the present invention for achieving the above object is provided with a gas distribution container 10 for introducing a gas in the center, with a gas cooling means 20 for cooling the inlet gas into the gas distribution container 10. At least a plurality of gas ports 40b and 40c connected to the discharge tube of the laser resonator 100 are disposed on the upper surface of the gas distribution container 10, and both ends of the gas distribution container 10 have a closed end. It is achieved by connecting 30a and 30b, but installing gas ports 40a and 40d on top of each of the ducts 30a and 30b.

이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부도면과 관련하여 상술하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제2도는 본 고안에 의한 가스분배기의 평면도를 나타낸 것이며, 제3도는 본 고안의 가스 분배장치가 설치된 실시예도이고, 제4도는 제3도의 A-A선 단면도를 나타낸 것이다.2 is a plan view showing a gas distributor according to the present invention, FIG. 3 is an embodiment diagram in which the gas distribution device of the present invention is installed, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line A-A of FIG.

즉, 제2도 내지 제4도에서와 같이 본 고안 장치는 중앙에 가스분배용기(10)를 두고 그 양측으로 단면이 원형(제4도 참조) 구조를 갖는 덕트(30a), (30b)를 설치한다.That is, as shown in Figs. 2 to 4, the device of the present invention has the gas distribution container 10 in the center and the ducts 30a and 30b having a circular cross section (see Fig. 4) on both sides thereof. Install.

그리고, 상기 가스분배용기(10)의 상면과 덕트(30a), (30b)의 상부로 레이저 공진기(100)의 도시생략된 방전관측과 연결하기 위한 가스포트(40a∼40b)가 설치되어져 있다.In addition, gas ports 40a to 40b are provided on the upper surface of the gas distribution vessel 10 and the upper portions of the ducts 30a and 30b to be connected to the discharge tube side of the laser resonator 100, not shown.

또한, 상기 가스분배용기(10)의 내부에는 유입가스의 효율을 증폭시키기 위해 냉각수단(20)을 설치하여서 된 것이다.In addition, the inside of the gas distribution container 10 is to provide a cooling means 20 to amplify the efficiency of the inlet gas.

여기서, 상기한 가스 분배용기(10)는 사각형 단면을 갖는 육면체로 이루어짐을 특징으로 한다.Here, the gas distribution container 10 is characterized by consisting of a cube having a rectangular cross section.

또한, 상기한 가스 분배용기(10)는 냉각수단(20)을 통해 유입가스의 분배 경로가 3원화 계통으로 이루어짐을 특징으로 한다.In addition, the gas distribution container 10 is characterized in that the distribution path of the inlet gas through the cooling means 20 consists of a three-way system.

이와 같이 구성된 본 고안의 작용 및 효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effects of the present invention configured as described above are as follows.

즉, 제2도 및 제3도에서와 같이 가스 분배용기(10)의 가스 유입구측으로 일정량의 가스를 공급하면, 이 공급가스는 가스분배용기(10) 내부의 냉각수단(20)에 의해 유동가스의 온도차에 따른 저항을 줄여주므로 가스의 유동을 원활하게 해준다.That is, when a predetermined amount of gas is supplied to the gas inlet side of the gas distribution container 10 as shown in FIGS. 2 and 3, the supply gas is flowed by the cooling means 20 inside the gas distribution container 10. It reduces the resistance of the temperature difference, so the gas flows smoothly.

상기 냉각수단(20)을 경유한 가스는 가스분배용기(10)의 상면에 설치된 가스포트(40b∼40c)를 통해 레이저 공진기(100)에 분배되는 동시, 좌, 우측면에 설치된 덕트(30a), (30b)의 가스 유동로(50a), (50b)를 따라 각 가스포트(40a), (40d)를 통해 상기와 같이 레이저 공진기(100)의 다른 방전관에 공급 분배된다.The gas passing through the cooling means 20 is distributed to the laser resonator 100 through the gas ports 40b to 40c provided on the upper surface of the gas distribution container 10, and at the same time, the duct 30a installed on the left and right sides thereof. It is supplied and distributed to other discharge tubes of the laser resonator 100 as described above through the gas ports 40a and 40d along the gas flow paths 50a and 50b of 30b.

이때, 가스분배용기(10)는 가스를 중앙으로 받아 가스유동 각도를 전환시켜 분배하게 되어 각 가스포트(40a∼40d)를 통해 유출되는 가스의 유량을 균일하게 분배할 수가 있다.At this time, the gas distribution container 10 receives the gas to the center to switch the gas flow angle is distributed, it is possible to uniformly distribute the flow rate of the gas flowing out through each gas port (40a-40d).

또한, 가스분배용기(10)의 양측면에 설치되는 덕트(30a), (30b)는 그 단면구조가 원형으로 형성된 것이므로 가스유동의 저항을 줄이게 되어 가스공급의 효율을 극대화시키게 되는 것이다.In addition, the ducts (30a, 30b) installed on both sides of the gas distribution container 10 is because the cross-sectional structure is formed in a circular shape to reduce the resistance of the gas flow to maximize the efficiency of gas supply.

이상에서 설명한 바와 같이 본 고안 장치는 가스를 중앙으로 받아 가스유동 각도를 상, 좌, 우로 변환하도록 하고, 각 경로로 유출되는 가스를 냉각시켜 공급하는 것이어서 가스유동의 균일성을 얻을 수가 있는 동시 가스유동 효율을 증대시킬 수가 있고, 아울러 가스의 중앙 공급 구조에 의해 레이저 공진기의 방전관 수가 증설될 경우 덕트 길이연장과 가스포트 증설이 가능한 장점을 제공한다.As described above, the device of the present invention receives the gas toward the center, converts the gas flow angle to the upper, left, and right sides, and cools and supplies the gas flowing out of each path, so that the uniformity of the gas flow can be obtained. The flow efficiency can be increased, and the duct length and the gas port can be extended when the number of discharge tubes of the laser resonator is increased by the central supply structure of the gas.

Claims (1)

중앙에 가스를 유입하는 가스 분배용기(10)를 두되, 이 가스 분배용기(10)의 내부로 유입가스를 냉각시키는 가스냉각 수단(20)을 두고, 상기 가스 분배용기(10)의 상면에는 레이저 공진기(100)의 방전관과 연결되는 적어도 복수개의 가스포트(40b), (40c)를 두며, 상기 가스 분배용기(10)의 양측면에는 종단이 밀폐된 덕트(30a), (30b)를 연결하되 각 덕트(30a), (30b)의 상부로 가스포트(40a), (40d)를 설치하여서 구성됨을 특징으로 하는 고속 축류형 레이저의 가스분배장치.A gas distribution container 10 for introducing gas is placed in the center, and a gas cooling means 20 for cooling the inflow gas into the gas distribution container 10 is provided, and a laser is disposed on the upper surface of the gas distribution container 10. At least a plurality of gas ports 40b and 40c connected to the discharge tube of the resonator 100 are provided, and both sides of the gas distribution container 10 are connected with ducts 30a and 30b, each of which has closed ends. A gas distribution device for a high speed axial laser, characterized in that the gas port 40a, 40d is provided above the duct (30a), (30b).
KR2019930001971U 1993-02-13 1993-02-13 Gas laser discharge apparatus KR960006414Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019930001971U KR960006414Y1 (en) 1993-02-13 1993-02-13 Gas laser discharge apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019930001971U KR960006414Y1 (en) 1993-02-13 1993-02-13 Gas laser discharge apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940021369U KR940021369U (en) 1994-09-24
KR960006414Y1 true KR960006414Y1 (en) 1996-07-24

Family

ID=19350752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019930001971U KR960006414Y1 (en) 1993-02-13 1993-02-13 Gas laser discharge apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR960006414Y1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR940021369U (en) 1994-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3792588A (en) Trickle irrigation unit
ES2076136T1 (en) REACTOR TUBE FOR SUPERCRITICAL OXIDATION OF WATER, WITH PARIETAL DUCTS TO CONTROL THE CONTOUR FLOW.
ATE14926T1 (en) PLATE-FORM HEAT EXCHANGER.
MX171863B (en) GAS-LIQUID TOWER STRUCTURE
GB1524279A (en) Spray cooling system
EP0062909A3 (en) An air ring having a circular array of a large multiplicity of substantially parallel cell-like passages in the air flow path leading to the outlet
KR960006414Y1 (en) Gas laser discharge apparatus
AU2018293208B2 (en) Distributor for a fluid
CZ165696A3 (en) Throttle valve for steam control
KR950004422A (en) Devices for delivering liquids to the point of use in photolithography systems
CN214132251U (en) A controllable isothermal wall rectangular nozzle structure
KR101739807B1 (en) Fluid heating device
US20220410182A1 (en) Sweeping jet device with multidirectional output
EP1790923B1 (en) Spray head
DK0957326T3 (en) Process for cooling water or similar liquid media and apparatus therefor
KR20240047478A (en) carburetor
RU2154202C2 (en) Method of and set for conditioning fluid medium flow
SU1303199A1 (en) Multirow manifold
RU1823920C (en) Method and device for cooling surface by means of jet heat exchange
SU1588990A1 (en) Heath burner
RU2151635C1 (en) Liquid saturator
SU1225594A1 (en) Arrangement for distributing suspension to ducts of inclined thin-layer settler
KR19990034052U (en) Wafer Uniform Cooling Structure of Semiconductor Manufacturing Equipment
JPH01132500A (en) Heat exchanger
SU1072912A2 (en) Liquid flow distributor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
UA0108 Application for utility model registration

Comment text: Application for Utility Model Registration

Patent event code: UA01011R08D

Patent event date: 19930213

UA0201 Request for examination

Patent event date: 19930213

Patent event code: UA02012R01D

Comment text: Request for Examination of Application

UG1501 Laying open of application
UG1604 Publication of application

Patent event code: UG16041S01I

Comment text: Decision on Publication of Application

Patent event date: 19960629

E701 Decision to grant or registration of patent right
UE0701 Decision of registration

Patent event date: 19961023

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: UE07011S01D

REGI Registration of establishment
UR0701 Registration of establishment

Patent event date: 19970106

Patent event code: UR07011E01D

Comment text: Registration of Establishment

UR1002 Payment of registration fee

Start annual number: 1

End annual number: 5

Payment date: 19970106

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20010725

Year of fee payment: 6

UR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20010725

Start annual number: 6

End annual number: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
UC1903 Unpaid annual fee