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KR960005036B1 - 노광공정에서의 포카스상태 측정용 패턴 및 포카스상태 측정 방법 - Google Patents

노광공정에서의 포카스상태 측정용 패턴 및 포카스상태 측정 방법 Download PDF

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KR960005036B1
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문정환
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Abstract

내용 없음.

Description

노광공정에서의 포카스상태 측정용 패턴 및 포카스상태 측정 방법
제 1 도는 종래의 측정용 마크스 패턴의 평면도.
제 2 도는 종래의 측정용 마스크 패턴을 이용하여 웨이퍼상에 노광하여 패턴을 스프리트시키는 것을 설명하기 위한 도면.
제 3 도는 본 발명의 측정용 마스크 패턴의 평면도.
제 4 도는 본 발명의 측정용 마스크 패턴으로 노광단계를 변화시키면서 웨이퍼상에 스프리트시켜 현상한 모양을 보여 주는 도면.
본 발명은 반도체 제조공정중 노광공정에서 사용되는 노광장비인 스텝퍼(Stepper)를 이용하여 노광공정의 노광상태(포카스상태)를 측정하기 위한 측정용 패턴 및 포카스상태 측정 방법에 관한 것으로서, 특히 용이하게 최적의 노광정도를 찾을 수 있도록 하는 측정용 마스크 패턴과 이를 이용한 측정방법에 관한 것이다.
노광장비인 스텝퍼장비에서 최적의 노광상태를 측정하기 위하여 사용되는 종래의 방법은, 제 1 도에 도시한 바와 같은 패턴 즉 다수의 바(Bar) 형태로 된 제 1 패턴부분(10)과 다수의 홀 형태로 된 제 2 패턴부분(20)으로 구성된 측정용 마스크 패턴을 이용하여, 제 2 도에 도시한 것 같이, 웨이퍼상에 노광에너지 단계와 포카스(Focus) 단계별로 가로세로 방향으로 스프리트(Split)한다. 즉 노광에너지를 여러 단계로 변화시키고 포카스상태를 여러 단계로 변화시키면서, 다시 말하면 가로축은 노광에너지의 크기를 변화시키고, 세로축은 촛점렌즈의 위치(노광상태)를 변화시키면서 측정패턴을 통하여 웨이퍼상에 노광하여 현상하고 현미경으로 제 1 패턴부분의 선(Bar)들과 제 2 패턴부분의 홀의 해상된 정도를 확인하여 최적의 노광상태를 측정하여 알아내는 방법을 사용하였다.
이러한 종래의 방법은 포카스 단계에 따른 해상정도를 현미경으로 측정하기가 어렵고, 웨이퍼상에서 노광된 지역이 넓어 감광막 두께차이(감광막 도포시 여러 패러미터로 인하여 웨이퍼상에 도포되는 감광막에 두께차이가 발생된다.) 및 웨이퍼 굴곡으로 인하여 최적 포카스 측정에 오차가 많이 발생되었다.
본 발명은 이와같은 종래의 방법에서 측정용 마스크 패턴을 개량하여 용이하게 최적의 노광상태를 측정할 수 있도록 한 것이다.
제 3 도는 본 발명에서 제안된 포카스 측정용 패턴이다.
이 패턴은 측정용 패턴의 홀(30) 크기를 여러 단계로 하여, 즉 아주 작은 홀(30-1)부터 큰 홀(30-5)까지 다수의 홀을 직선상으로 소정개수 만큼 나열하여 형성한 것이다. 그리고, 종래의 측정패턴보다 면적이 매우 작다.
이러한 본 발명의 측정패턴을 이용하여 최적의 노광상태를 측정하는 방법은, 적정한 노광에너지로써 포카스상태를 단계별로 변화시키면서 스프리트시켜서 현상하고 현미경으로 측정하여 최적의 노광상태를 알아낸다.
제 4 도에는 포카스상태를 가로축으로 단계별로 변화시키면서 노광하여 현상한 웨이퍼상의 일부패턴 모양을 도시한 것인데 포카스상태가 나쁘면 작은 홀은 해상되지 아니하므로, 작은 홀이 뚜렷하게 해상된 노광상태가 최적의 포카스상태가 되어 용이하게 판별할 수 있다.
그리고 본 발명의 측정패턴은 종래의 측정패턴보다 면적이 매우 작으므로 스프리트 하였을 때도 감광막 두께차이 및 웨이퍼 굴곡으로 인한 영향이 적게 나타나서 최적상태 판정에 오차가 적어진다.

Claims (2)

  1. 반도체 제조공정이 노광공정시 포카스상태를 측정하기 위한 패턴에 있어서, 아주 작은 홀과 순차적으로 지름이 크지는 다수의 홀을 직선상에 소정의 개수만큼 나열하여서 된 것이 특징인 포카스상태 측정용 패턴.
  2. 반도체 제조공정의 노광공정시 포카스상태를 측정하는 방법에 있어서, 아주 작은 홀과 순차적으로 지름이 크지는 다수의 홀을 직선상에 소정의 개수만큼 나열하여서 된 포카스상태 측정용 패턴으로 웨이퍼상에 적정한 노광에너지로 포카스상태를 여러단계로 변화시키면서 스프리트시키고, 현상하여, 홀 지름이 작은 홀까지 뚜렷이 현상된 것이 최적의 노광상태라고 판단하는 것이 특징인 노광공정에서의 포카스상태 측정 방법.
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