KR950011247B1

KR950011247B1 - Chemical Polishing System of Electron Gun Electrode

Info

Publication number: KR950011247B1
Application number: KR1019920023341A
Authority: KR
Inventors: 전병윤
Original assignee: 삼성전관주식회사; 박경팔
Priority date: 1992-12-04
Filing date: 1992-12-04
Publication date: 1995-09-29
Anticipated expiration: 2012-12-04
Also published as: KR940016353A

Abstract

내용 없음.No content.

Description

Chemical Polishing System of Electron Gun Electrode

제1도는 본 발명에 의한 연마 시스템의 개략도.1 is a schematic view of a polishing system according to the present invention.

제2도는 본 발명에 관련하는 연마조의 측단면도이다.2 is a side cross-sectional view of the polishing bath according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 가열소 2 : 연마조1: heating station 2: polishing tank

3 : 순수가온수단 4 : 히팅수단3: pure heating means 4: heating means

5 : 제1관 6 : 제2관5: Hall 1 6: Hall 2

7,8 : 펌핑수단 9 : 제3관7,8: pumping means 9: third pipe

10 : 제4관 11 : 바스켓10: Building 4 11: Baskets

12 : 구동수단 15 : 커플링12: drive means 15: coupling

본 발명은 전자총 전극의 화학 연마 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 균일한 연마를 가능하게 함과 아울러 생산성을 향상시킬 수 있는 화학 연마 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical polishing system for an electron gun electrode, and more particularly, to a chemical polishing system capable of improving uniformity and improving productivity.

전자총은 음극선관의 넥크부에 장착되어 형광체를 여기시켜 발광이 되도록 하는 전자비임을 출사하는 수단으로 제공된다.The electron gun is provided as a means for emitting an electron beam mounted on the neck portion of the cathode ray tube to excite the phosphor to emit light.

이러한 전자총은 히터의 발열에 의해 전자비임을 방출하는 음극과, 이 음극으로부터 방출된 전자비임을 제어하는 제1전극과, 제어된 전자비임을 가속하는 제2전극, 그리고 이 전자비임을 포커싱하기 위해 렌즈를 구성하는 제3,4전극으로 이루어지고 있다.The electron gun is configured to focus on a cathode that emits an electron beam by the heating of a heater, a first electrode that controls the electron beam emitted from the cathode, a second electrode that accelerates the controlled electron beam, and the electron beam. It consists of the 3rd and 4th electrodes which comprise a lens.

상기한 작용은 각각의 전극에 인가되는 전압의 차이로 실현하게 되는데, 특히 제4전극에는 고압이 인가되기 때문에 이들 전극간에는 고전압에 의한 방전이 일어나게 된다.The above operation is realized by the difference in the voltages applied to the respective electrodes. In particular, since a high voltage is applied to the fourth electrode, a discharge due to a high voltage occurs between these electrodes.

이러한 방전은 전극을 제조하는 과정에서 절단면등에 절단 티끌이 있게 되면 더욱 심하게 일어난다.Such discharge occurs more severely when the cutting dust is present on the cutting surface and the like during the electrode manufacturing process.

전자총 전극은 판상의 금속재를 핀칭 및 딥드로잉 그리고 절단등에 의해 제조되기 때문에 가공 흔적이 남을 수밖에 없는데, 이 가공 흔적은 연마공정에서 제거하고 있다.Electron gun electrodes are produced by pinching, deep-drawing, and cutting a sheet metal material, and the machining traces are inevitably left. This trace is removed in the polishing process.

전자총 전극의 연마 방법으로는 전해 연마와 화학 연마가 있는데, 어떠한 방법이나 가공 흔적을 제거할 수 있지만, 전해 연마는 연마 영역이 한정되는 단점이 있기 때문에 화학 연마방법으로 가공 흔적을 제거하고 있다.The polishing method of the electron gun electrode includes electrolytic polishing and chemical polishing. Although any method or processing trace can be removed, electrolytic polishing has a disadvantage in that the polishing region is limited, and thus the processing trace is removed by the chemical polishing method.

이 화학 연마방법은 비이커에 연마 용액을 일정량 담아 약 93℃로 가온시킨 다음, 전극을 별도의 바스켓에 담아 상기한 비이커에 침전시키는 방법으로 행하고 있다.This chemical polishing method is carried out by placing a predetermined amount of the polishing solution in a beaker, warming it to about 93 ° C, and then depositing the electrode in a separate basket to precipitate in the beaker.

이때 비이커에 담겨진 바스켓을 상하로 이동함과 아울러 회전시키는 작업을 다수회 반복하고, 마지막으로 순수에 세정하게 되는데, 이러한 방법은 모든 작업이 작업자에 의해 이루어지는 수작업으로 진행되기 때문에 생산성이 저하되는 한 요인이 되고 있으며, 또 상하, 회전정도에 따라 연마 부위가 불균일하게 되므로 만족할만한 효과를 얻지 못하고 있는 실정이다.At this time, the basket contained in the beaker is moved up and down, and the rotating operation is repeated a number of times, and finally, the pure water is washed. This method is one factor that reduces productivity because all operations are performed by manual work performed by workers. In addition, the polishing site becomes non-uniform according to the degree of rotation up and down, the situation is not obtaining a satisfactory effect.

연마가 불균일한 전극을 사용하여 전자총 어셈블리를 구성하고 음극선관의 넥크부에 장착시켜 음극선관을 작동시키는 경우 가공 흔적에 의해 방전이 일어나는 문제점이 있다.When the cathode ray tube is operated by constructing the electron gun assembly using the non-uniform polishing electrode and attaching it to the neck portion of the cathode ray tube, there is a problem that discharge occurs due to processing traces.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 연마를 자동화하여 생산성을 높이고 균일한 연마가 이루어지도록 하여 안정된 전자총의 전극 기능을 수행할 수 있도록 하는 전자총 전극의 화학 연마 시스템을 제공하는데 있다.The present invention has been invented to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to increase the productivity by automating the polishing and to achieve a uniform polishing electron gun to perform a stable electron gun electrode function A chemical polishing system of an electrode is provided.

이를 실현하기 위하여 본 발명은, 연마용액을 가온시키기 위한 히팅수단을 보유하는 가열조와, 전극이 담겨진 바스켓을 내장하여 회전시키기 위한 구동수단을 보유하는 연마조와, 상기한 연마조를 세척하기 위한 온수를 공급하기 위한 순수가온수단과, 상기한 가열조와 연마조를 연결하여 연마용액의 공급 및 회수를 하기 위하여 연결되는 제1,2관 및 순수가온수단과 연마조를 연결하여 세척수를 공급하는 제3,4관을 포함하여 이루어지는 전자총 전극의 화학 연마시스템을 제공한다.In order to realize this, the present invention provides a heating bath having a heating means for heating the polishing solution, a polishing tank having a driving means for rotating the built-in basket containing the electrode, and hot water for washing the polishing bath. Pure water heating means for supplying, and the first and second pipes connected to connect the heating bath and the polishing tank for supply and recovery of the polishing solution and the third, for supplying the washing water by connecting the pure heating means and the polishing tank; Provided is a chemical polishing system for an electron gun electrode comprising four tubes.

상기한 가열조의 내측면은 연마용액에 부식성이 강한 PVDF로 코팅됨을 특징으로 하는 전자총 전극의 화학 연마 시스템을 제공한다. 이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 따라 더욱 상세히 설명한다.The inner surface of the heating bath provides a chemical polishing system of the electron gun electrode, characterized in that the polishing solution is coated with a highly corrosive PVDF. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

제1도는 본 발명에 의한 연마 시스템의 개략도로서, 연마액을 가온시키는 가열조(1)와, 실질적으로 전극을 연마하는 연마조(2)와, 연마조(2)를 세정하기 위한 순수를 일정한 온도로 가온하는 순수가온수단(3)을 포함하여 이루어지고 있다.1 is a schematic diagram of a polishing system according to the present invention, in which a heating bath 1 for heating a polishing liquid, a polishing bath 2 for substantially polishing an electrode, and pure water for cleaning the polishing bath 2 are fixed. It comprises a pure heating means (3) for heating to a temperature.

상기한 가열조(1)는 외측이 SUS 316재질로 이루어지고 내부는 PVDF(Polyvinylidene Fluoride)로 코팅되어 연마 용액에 쉽게 부식되지 않도록 되어 있다.The heating bath 1 is made of SUS 316 material on the outside and coated on the inside with polyvinylidene fluoride (PVDF) so as not to be easily corroded to the polishing solution.

연마용액은 일본국 사사끼 화학사 제품 S-Clean A액과 B액을 사용하게 되는데, 가열조(1)에 적정량 채워진 후, 이곳에 설치된 히팅수단(4)에 의해 가온되도록 이루어져 있다.The polishing solution uses S-Clean A liquid and B liquid manufactured by Sasaki Chemical Co., Ltd., Japan, and is made to be heated by the heating means 4 installed therein after the appropriate amount is filled in the heating tank 1.

상기한 히팅수단(4)은 외부로부터 전원을 공급받아 가열되는 발열수단을 갖는 히터가 사용된다.The heating means 4 is a heater having a heat generating means that is heated by receiving power from the outside.

상기한 가열조(1)는 연마조(2)로 연마용액을 공급하기 위한 제1관(5)으로 연결되어 있으며, 연마조(2)내의 연마용액을 가열조(1)로 회수시키기 위한 제2관(6)으로 연결되고 있다.The heating bath 1 is connected to the first pipe 5 for supplying the polishing solution to the polishing bath 2, and is used to recover the polishing solution in the polishing bath 2 to the heating bath 1. It is connected by two pipes (6).

상기한 제1관(5)은 가열조(1)의 아래측단에 연결되고 있으며, 원활한 공급을 위하여 펌핑수단(7)이 설치되고 있다.The first pipe 5 is connected to the lower end of the heating tank 1, and the pumping means 7 is installed for smooth supply.

또한 제2관(6)은 가열조(1)의 상측에 연결되고 있는데, 이 관에도 펌핑수단(8)이 설치되어 연마조(2)내의 연마용액을 쉽게 회수할 수 있도록 되어 있다.In addition, the second pipe 6 is connected to the upper side of the heating bath 1, and the pumping means 8 is also provided in this pipe so that the polishing solution in the polishing bath 2 can be easily recovered.

상기한 연마조(2)는 순수가온수단(3)과 제3관(9)을 통하여 연결되어 순수를 공급받을 수 있도록 되어 있으며, 이 제3관(9)은 순수가온수단(3)을 경유하지 않고도 제4관(10)에 의해서 직접 순수를 공급받을 수 있도록 되어있다.The polishing tank 2 is connected to the pure water heating means 3 and the third pipe 9 so as to receive the pure water, and the third pipe 9 passes through the pure water heating means 3. The fourth pipe 10 can be directly supplied without the pure water.

상기한 연마조(2) 및 제1,2,3,4관(5,6,9,10)들도 PVDF로 제작된다.The polishing bath 2 and the first, second, third and fourth pipes 5, 6, 9 and 10 are also made of PVDF.

제2도는 본 발명에 관련하는 연마조(2)의 측단면도로서, 연마조(2)의 내부에는 전극이 담겨지는 바스켓(11)이 회전가능하게 설치된다.2 is a side cross-sectional view of the polishing bath 2 according to the present invention, in which a basket 11 containing electrodes is rotatably provided.

이 바스켓(11)은 모터와 같은 구동수단(12)에 의해 회전하게 되는데, 이 구동수단(12)은 연마조(2)의 외측에 위치하게 되므로 바스켓(11)과 구동수단(12)은 분해 가능한 구조를 갖는다.The basket 11 is rotated by a driving means 12 such as a motor. The driving means 12 is located outside the polishing tank 2, so that the basket 11 and the driving means 12 are disassembled. It has a possible structure.

이를 위하여 본 발명에서는 구동수단(12)의 회전축(13)을 연마조(2)내로 진입시키면서 베어링을 개재하여 회전가능하게 함과 아울러 연마용액이 새어나오지 않도록 시일링하고 있으며, 또 바스켓(11)과의 연결을 위하여 각각 구동수단(12)의 회전축(13)과 바스켓(11)의 축(14)을 각각 1/2정도 커팅하여 이들 축(13)(14)이 접합되는 상태가 하나의 원을 이루도록 하고 있다.To this end, in the present invention, while allowing the rotary shaft 13 of the drive means 12 to enter the polishing tank 2, and to enable rotation through a bearing, and to prevent the polishing solution from leaking, the basket 11 Each shaft 13 and 14 are cut by cutting the rotary shaft 13 of the drive means 12 and the shaft 14 of the basket 11 for connection to each other. To achieve.

그리고 상기한 축(13)(14)의 커팅부 외주에 세레이션을 형성하여 이 세레이션을 타고 이동할 수 있는 커플링(15)을 이들축의 외주에 끼워마춤하여 이 커플링(15)이 축(13)(14)의 어느 하나의 축으로 이동함으로서 2개의 축이 분리되도록 하고 있다.Then, a serration is formed on the outer periphery of the cutting portions of the shafts 13 and 14, and the coupling 15 which can move through the serration is fitted to the outer periphery of these shafts so that the coupling 15 is the shaft ( 13) The two axes are separated by moving to any one of the axes of (14).

본 발명에서는 세레이션을 이용한 커플링(15) 결합이 바스켓(11) 회전시 그 기능을 할 수 없는 것에 대비하여 커플링(15)을 관통하는 스크류(16)로 고정토록 하고 있다.In the present invention, the coupling 15 coupling using the serration is fixed by a screw 16 penetrating the coupling 15 in preparation for the basket 11 being unable to function.

상기한 바스켓(11)은 축(14)에 연결되는 뚜껑(C)을 갖으며, 이 뚜껑(C)은 바스켓(11)의 그물망과 같은 망사체에 씌워져 전극을 넣거나 뺄때 분리할 수 있도록 된다. 바스켓(11)은 그 내부로 연마 용액이 들어갈 수 있는 구멍이 다수개 뚫려져 있는 구조이면 본 발명을 실시하는데 문제가 없으므로 본 발명은 바스켓의 구조에 대해서는 한정하지 않는다.The basket 11 has a lid (C) connected to the shaft (14), the lid (C) is covered with a mesh such as a mesh of the basket 11 to be separated when the electrode is put or removed. If the basket 11 has a structure in which a plurality of holes into which the polishing solution can enter are formed, there is no problem in carrying out the present invention, and thus the present invention is not limited to the structure of the basket.

도면중 각각의 관에 설치되고 있는 밸브는 연마용액이나 세정수드을 필요에 따라 공급 또는 차단하기 위하여 제공되는 것이므로 상세한 설명은 생략한다.Since the valves provided in the respective pipes in the drawings are provided to supply or shut off the polishing solution or the washing sod as necessary, detailed description thereof will be omitted.

이와 같이 이루어지는 본 발명의 화학 연마 시스템은, 스크류(16)를 풀고 커플링(15)을 이동시켜 2개의 축(13)(14)이 분리되도록 한 다음, 연마조(2)내에서 바스켓(11)을 들어낸 후, 이 바스켓(11)에 연마코자 하는 전극을 다수개 넣고 다시 바스켓(11)의 축(14)과 구동수단(12)의 축(14)을 커플링(15)으로 결합한 다음, 가열조(1)내에 연마용액을 채운다음 히팅수단(4)을 작동시켜 연마용액이 대략 93℃가 될때까지 가열한다.The chemical polishing system of the present invention thus made loosens the screw 16 and moves the coupling 15 so that the two shafts 13 and 14 are separated and then the basket 11 in the polishing bath 2. ), And then put a plurality of electrodes to be polished into the basket 11, and then combine the shaft 14 of the basket 11 and the shaft 14 of the driving means 12 with the coupling 15, Then, the polishing solution is filled in the heating bath 1 and the heating means 4 is operated to heat the polishing solution until the polishing solution is approximately 93 ° C.

이 히팅수단(4)은 온도조절기에 의해 적정온도가 유지되도록 이루어지고 있는데, 이것은 통상적으로 사용되는 기술이므로 설명은 생략하고 있다.The heating means 4 is made to maintain the proper temperature by the temperature controller, which is omitted because it is a commonly used technique.

가열조(1)내에서 연마용액이 적정온도로 가열되면 펌핑수단(7)을 작동시켜 가열조(1)내의 연마용액이 제1관(5)을 통하여 연마조(2)내로 유입되도록 하여, 바스켓(11)이 연마용액에 잠기도록 한다.When the polishing solution in the heating bath 1 is heated to an appropriate temperature, the pumping means 7 is operated so that the polishing solution in the heating bath 1 flows into the polishing bath 2 through the first pipe 5, The basket 11 is immersed in the polishing solution.

이때 연마용액은 바스켓(11)이 망사체로 이루어져 있으므로 그 내부로 스며들면서 실질적으로 전극이 연마 용액에 잠겨 있는 상태를 만든다.At this time, the polishing solution is made of a mesh 11, so that the electrode penetrates into the inside and substantially makes the electrode immersed in the polishing solution.

그리고 구동수단(12)을 작동시키게 되면 축(13)을 통하여 구동수단(12)의 회전력이 바스켓(11)으로 전달되므로 바스켓(11)은 연마용액내에서 회전하는 상태가 된다.When the driving means 12 is operated, the rotational force of the driving means 12 is transmitted to the basket 11 through the shaft 13, so that the basket 11 is rotated in the polishing solution.

이때 바스켓(11)의 회전은 약 60초에서 90초 동안 이루어지고 정지하게 되는데, 이것은 타이머를 이용하여 구동수단(12)을 제어할 수 있다.At this time, the rotation of the basket 11 is made and stopped for about 60 to 90 seconds, which can control the driving means 12 using a timer.

이러한 작동이 이루어진 후, 펌핑수단(8)을 작동시키게 되면 연마조(2)내의 연마용액이 제2관(6)을 통하여 다시 가열조(1)내로 복귀되므로 연마조(2)는 비어 있는 상태가 되는데, 이때 순수가온수단(3)을 작동시키게 되면 제3관(9)을 통하여 온수가 연마조(2)내로 공급된다.After such an operation is performed, when the pumping means 8 is operated, the polishing solution in the polishing vessel 2 is returned to the heating vessel 1 again through the second pipe 6, so that the polishing vessel 2 is empty. In this case, when the pure water heating means (3) to operate the hot water is supplied into the polishing tank (2) through the third pipe (9).

순수가온수단(3)은 통상 사용되고 있는 순간 온수기의 원리를 이용한 장치로서 대략 60℃에서 80℃정도로 가열할 수 있는 수단이면 족하다.Pure water heating means (3) is a device using the principle of the instantaneous water heater used in general, it is sufficient that the means capable of heating from approximately 60 ℃ to about 80 ℃.

온수의 공급은 바스켓(11)내에 들어있는 전극의 표면에 묻은 연마용액을 씻어내기 위한 것으로서 바스켓(11)이 잠길 정도의 양을 공급한 다음, 구동수단(12)을 작동시켜 세정되도록 하는 작업을 2-3회 반복한다.The hot water supply is for washing the polishing solution on the surface of the electrode in the basket 11, supplying the amount of the basket 11 to be locked, and then operating the driving means 12 to clean it. Repeat 2-3 times.

그리고 이 온수를 배수한 다음, 순수가온수단(3)을 통하지 않고 제4관(10)을 통하여 항온의 순수를 연마조(2)내로 공급하여 상기한 방법과 같이 세정작업을 한 다음, 배수하고 커플링(15)을 풀고 바스켓(11)을 들어내면 연마가 완료된다.After draining the hot water, the pure water of constant temperature is supplied into the polishing tank 2 through the fourth pipe 10 without passing through the pure water heating means 3, and then washed in the same manner as described above. Loosen the coupling 15 and lift the basket 11 to complete polishing.

이상 설명한 바와같이 본 발명에 의한 연마 시스템은 연마용액 및 순수의 가열과 공급, 그리고 배수를 자동으로 행함은 물론 세정작업을 자동화할 수 있어 종래의 시스템에 비하여 생산성을 높일 수 있으며, 또 이러한 연마방법은 전극이 담겨진 바스켓이 구동수단에 의해 일정한 속도로 회전하게 되므로 전표면에 걸쳐 균일한 연마가 이루어지게 되므로 보다 신뢰성 높은 제품을 생산할 수 있는 이점이 있다.As described above, the polishing system according to the present invention can automatically heat, supply, and drain the polishing solution and pure water, as well as automate the cleaning operation, thereby increasing productivity compared to the conventional system. Since the basket containing the silver electrode rotates at a constant speed by the driving means, uniform polishing is performed over the entire surface, thereby producing a more reliable product.

Claims

A heating tank having a heating means for heating the polishing solution, a polishing tank having a electrode therein and a driving means for rotating the built-in basket made of a mesh body, and a pure water for supplying hot water for cleaning the polishing bath. A heating means, first and second tubes connected to the heating and polishing baths for supply and recovery of the polishing solution, and third and fourth pipes connecting the pure heating means and the polishing bath to supply washing water. Chemical polishing system of electron gun electrode.

2. The chemical polishing system of an electron gun electrode as recited in claim 1, wherein the inner surface of the heating bath is coated with a highly corrosive PVDF in the polishing solution.