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KR930701131A - System and method for projecting an image onto the retina - Google Patents

System and method for projecting an image onto the retina

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KR930701131A
KR930701131A KR1019930700441A KR930700441A KR930701131A KR 930701131 A KR930701131 A KR 930701131A KR 1019930700441 A KR1019930700441 A KR 1019930700441A KR 930700441 A KR930700441 A KR 930700441A KR 930701131 A KR930701131 A KR 930701131A
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KR
South Korea
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projection
retina
pattern
erg
rerg
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KR1019930700441A
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Korean (ko)
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아아르 피터스 대니얼
타보아다 존
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아아르 피터스 대니얼
타보아다 존
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Publication date
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Abstract

패턴 ERG(RERG) 투사기는 투사 비임을 발생시키기 위한 간섭성 광원(32), 투사 비임을 교호하는 ERG 간섭 패턴으로(선택된 공간 및 교호 주파수로)변조시키기 위한 변조 광학기(34), ERG 간섭 패턴을 선택적으로 분할하기 위한 분할 광학기(35), 및 투사 비임이 동공을 통과한 다음 분기하여, 원주변 밖의 전방 망막을 포함하는 전체 망막 시야 상에 투사되도록 투사 비임의 초점을 맞추기 위한 상형성 광학기(36)로 구성된다. RERG 시험 프로그램의 전체 망막을 선택적으로 조사하고 망막지도를 전개하기 위하여 사용할 수 있으며, …RERG 자료는 망막 신경절 세포 시력과 관련있고, 그러므로 녹내장 및 그외 질병에 의해 야기된 망막 변성을 진단하고 감시하는데 유용하다.Pattern ERG (RERG) projectors have a coherent light source 32 for generating a projection beam, modulation optics 34 for modulating (with selected spatial and alternating frequency) alternating projection beams, ERG interference pattern Splitting optics 35 for selectively dividing the beam, and image forming optics for focusing the projection beam such that the projection beam passes through the pupil and then branches to project over the entire retinal field of view including the outer retina outside the periphery. Group 36. The RERG test program can be used to selectively examine the entire retina and develop retinal maps,… RERG data are related to retinal ganglion cell vision and are therefore useful for diagnosing and monitoring retinal degeneration caused by glaucoma and other diseases.

Description

망막 상에 상(像)을 투사하기 위한 시스템 및 방법System and method for projecting an image onto the retina

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제1도는 본 발명의 망막-투사 시스템의 기능 블럭 선도이다.1 is a functional block diagram of the retina-projection system of the present invention.

제2A도는 ERG 간섭 패턴을 생성하기 위한 전단 간섭계를 포함하는, 망막의 전체 시야 상에 ERG 패턴을 투사할 수 있는 PERG 투사기로서 망막-투사시스템의 적용을 예시한다.2A illustrates the application of the retina-projection system as a PERG projector capable of projecting an ERG pattern over the entire field of view of the retina, including a shear interferometer for generating an ERG interference pattern.

제2b도는 전체 망막의 선택 구획이 조사되도록 하는, PERG 투사기로부터 ERG 패턴의 에시적인 분할을 예시한다.FIG. 2B illustrates the illustrative segmentation of the ERG pattern from a PERG projector, allowing the selective compartment of the entire retina to be irradiated.

제3도는 본 발명에 따른 PERG 투사기를 사용하여 컴퓨터 제어 PERG 시험하에 수행하기 위한 PERG 시스템의 기능 블럭선도이다.3 is a functional block diagram of a PERG system for performing under computer controlled PERG testing using a PERG projector in accordance with the present invention.

Claims (46)

적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 제공하기 위한 광원; 투사 비임을 원하는 상(像)으로 변조하기 위한 변조광학기; 및 투사 비임이 동공을 통과하고 분기하여 망막 전방에서 25°후방에 이르는 임의 부분을 포함하는 시야를 제공하도록, 변조된 투사 비임을 초점 조절하기 위한 광각 상형성 광학기로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 상(像)을 선택적으로 투사하기 위한 망막-투사 시스템.A light source for providing a projection beam that is at least partially coherent light; A modulation optics for modulating the projection beam into a desired image; And a wide-angle image forming optic for focusing the modulated projection beam such that the projection beam passes through and branches and provides a field of view that includes any portion extending 25 ° from the front of the retina. Retinal-projection system for selectively projecting images onto the image. 제1항에 있어서, 상기 원주변 밖의 전방 망막을 포함하는 실질적으로 전체 망막에 걸쳐 투사되는 망막-투사시스템.The retinal-projection system of claim 1, wherein the retinal-projection system is projected over substantially the entire retina including the outer periphery of the front retina. 제2항에 있어서, 광각 상형성 광학기가 수정체의 앞면 근처에 상의 촛점을 맞추는 망막-투사 시스템.The retina-projection system of claim 2, wherein the wide-angle imaging optics focus the image near the front of the lens. 제2항에 있어서, 상기 비디오 또는 인쇄 정보를 나타내는 망막-투사 시스템.3. The retina-projection system of claim 2, wherein said retinal-projection system is representative of said video or print information. 제4항에 있어서, 변조광학기가 LCD 판넬을 포함하는 망막-투사 시스템.The retina-projection system of claim 4, wherein the modulating optics comprises an LCD panel. 제1항에 있어서, 광각 상 형성 광학기는 실질적으로 전체 망막 상에 투사 비임의 상을 형성하고, 변조광학기는 상이 망막의 선택된 영역상에 투사되도록 투사 비임의 선택된 부분을 차단하기 위한 구경을 포함하는 망막-투사 시스템.The optical imaging device of claim 1, wherein the wide-angle image forming optics form an image of the projection beam substantially over the entire retina, and the modulation optics include apertures for blocking selected portions of the projection beam such that the image is projected onto selected areas of the retina. Retina-projection system. 제6항에 있어서, 상기 ERG 패턴인 망막-투사 시스템.The retinal-projection system of claim 6, wherein the retinal-projection system is the ERG pattern. 제7항에 있어서, 변조 광학기는 투사 비임을 간섭 패턴으로 변조하여 ERG 패턴을 창출하기 위한 및 선택적으로 간섭 패턴을 교호시켜 ERG 패턴 변화를 창출하기 위한 간섭계를 포함하는 망막-투사 시스템.8. The retina-projection system of claim 7, wherein the modulation optics comprises an interferometer for modulating the projection beam into an interference pattern to create an ERG pattern and optionally alternating the interference pattern to create an ERG pattern change. 적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 제공하기 위한 광원; 원하는 ERG 패턴을 창출하도록 투사 비임을 변조하기 위한, 및 ERG 반응을 창출하도록 패턴을 변화시키기 위한 변조 광학기; 및 ERG 패턴이 망막 전방에서 25°후방에 이르는 임의 부분을 포함하는 시야를 갖는 망막의 선택된 영역상에 투사되도록 변조된 투사 비임의 초점을 맞추기 위한 광각 상형성 광학기로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 ERG 패턴을 투사하기 위한ERG 패턴 투사(RERG)시스템.A light source for providing a projection beam that is at least partially coherent light; Modulation optics for modulating the projection beam to produce a desired ERG pattern, and for changing the pattern to create an ERG response; And wide-angle image forming optics for focusing the projection beam modulated such that the ERG pattern is projected onto a selected area of the retina having a field of view that includes a portion extending 25 ° from the front of the retina. ERG pattern projection (RERG) system for projecting ERG patterns onto the 제9항에 있어서, 변조 광학기는 투사 비임을 간섭 패턴으로 변조하여 ERG 패턴을 형성하기 위한, 및 선택적으로 간섭 패턴을 교호시켜 ERG 패턴 변화를 야기하기 위한 간섭게를 포함하는 RERG 투사 시스템.10. The RERG projection system of claim 9, wherein the modulation optics comprises an interference force for modulating the projection beam into an interference pattern to form an ERG pattern, and optionally alternating the interference pattern to cause an ERG pattern change. 제10항에 있어서, 간섭계는 투사 비임을 선택된 공간 주파수로 변조시켜 선택된 줄무늬 선 간격을 생성하고, 선택된 교호 주파수로 변조시켜 ERG 반응을 생성하는 RERG 투사 시스템.11. The RERG projection system of claim 10, wherein the interferometer modulates the projection beam to a selected spatial frequency to produce a selected stripe line spacing and to modulate a selected alternating frequency to produce an ERG response. 제10항에 있어서, 간섭법 광학기가 전단 간섭계로 구성되는 RERG 투사 시스템.11. The RERG projection system of claim 10, wherein the interferometric optics is comprised of a shear interferometer. 제12항에 있어서, 전단 간섭계가 하기로 구성되는 RERG 투사 시스템; 전단 각을 형성하는 각각 마주보는 첫번째 및 두번째의 평행하지 않은 표면들에 의해 형성된 틈에 의해 분리된 첫번째 및 두번째 프리즘들; 입사 비임은 첫번째 마주보는 프리즘 표면으로부터 부분적으로 반사되어 첫번째-반사 비임을 형성하고, 및 프리즘 틈을 이동한 후에, 마주보는 프리즘 표면으로 부터 부분적으로 반사되어 두번째-반사 비임을 형성하여; 첫번째 및 두번째 반사 비임을 간섭법으로 합하여 간섭패턴을 형성하며; 두번째 프리즘은 전단 각을 선택적으로 변화시켜 간섭 패턴의 정밀 각 동조을 제공하기 위해 주축으로 장치된다.13. The system of claim 12, wherein the shear interferometer comprises: a RERG projection system; First and second prisms separated by gaps formed by opposite first and second non-parallel surfaces respectively forming a shear angle; The incident beam is partially reflected from the first opposing prism surface to form a first-reflective beam, and after moving the prism gap, it is partially reflected from the opposing prism surface to form a second-reflected beam; Combining the first and second reflection beams with the interference method to form an interference pattern; The second prism is equipped with a principal axis to selectively change the shear angle to provide precise angular tuning of the interference pattern. 제13항에 있어서, 프리즘 틈을 Kerr 유체로 채우는 RERG 투사 시스템, 이때; 마주보는 첫번째 및 두번째 표면들을 통제된 전압원에 연결된 투명한 도체 전극 층들로 코우팅시며; 간섭 패턴을 선택적으로 변화시키도록 프리즘 틈내의 굴절율을 조절하기 위한 조정가능한 시간-변화 전장을 틈내에 생성한다.14. The system of claim 13, wherein the RERG projection system fills the prism gap with Kerr fluid; Coating the opposing first and second surfaces with transparent conductor electrode layers connected to a controlled voltage source; Create an adjustable time-varying electric field in the gap to adjust the refractive index in the prism gap to selectively change the interference pattern. 제10항에 있어서, 간섭계가 Newton's고리 간섭계로 구성되는 RERG 투사 시스템.11. The RERG projection system of claim 10, wherein the interferometer is comprised of Newton's ring interferometer. 제15항에 있어서, Newton'S고리간섭계가 하기 구성되는 RERG 투사 시스템; 한측면 상을 반사하지 않게 코우팅한 평철 렌즈; 및 반사 광학 평면유리; 입사비임은 평철 렌즈에 의해 부분적으로 반사되어, 첫번째 반사비임을 형성하고 그 다음 광학 평면유리으로부터 반사되어 두번째 반사 비임을 형성하여; 첫번째 및 두번째 반사 비임을 간섭법으로 합하여 간섭 패턴을 형성한다.16. The system of claim 15, wherein the Newton's ring interferometer comprises: a RERG projection system; Flat iron lenses coated without reflecting on one side; And reflective optical flat glass; The incident beam is partially reflected by the flat iron lens to form a first reflection beam and then reflected from the optical flat glass to form a second reflection beam; The first and second reflection beams are combined by interferometry to form an interference pattern. 제16항에 있어서, 부가적으로, 선택적으로 광학 평면유리를 이동시켜 간섭패턴을 변화시키기 위한 이동수단을 포함하는 RERG 투사 시스템.17. The RERG projection system of claim 16, further comprising moving means for selectively moving the optical flat glass to change the interference pattern. 제38항에 있어서, ERG 패턴이 후방, 중간 및 전방 영역, 및 더하여 중간 및 전방 영역의 부채꼴들로 분할되는 RERG 투사 시스템.39. The RERG projection system of claim 38, wherein the ERG pattern is divided into sectors in the rear, middle and front regions, and in addition the middle and front regions. 제38항에 있어서, 분할 광학기가 LCD 판넬을 포함하는 RERG 투사 시스템.39. The RERG projection system of claim 38, wherein the splitting optics comprise an LCD panel. 제38항에 있어서, 분할 광학기가 하기로 구성되는 RERG 투사 시스템; 투사 비임을 후방, 중간 및 전방영역들로 분할하기 위한 고리형 구경; 및 적어도 하나의 중간 및 전방 영역을 가진 부채꼴들로 분할하기 위한 부채꼴형 구경.39. The system of claim 38, further comprising: a RERG projection system in which split optics are configured; Annular apertures for dividing the projection beam into rear, middle and front regions; And scalloped apertures for dividing into sectors having at least one intermediate and anterior region. 제9항에 있어서, 상형성 광학기는 짧은 초점 길이를 제공하는 구면 비슷한 표면들을 포함하는 RERG 투사 시스템.10. The RERG projection system of claim 9, wherein the imaging optics comprise spherical like surfaces that provide a short focal length. 제21항에 있어서, 상형성 광학기는 투사 비임의 직경을 선택적으로 조정하기 위한 줌 광학기를 포함하는 RERG 투사 시스템.22. The RERG projection system of claim 21, wherein the imaging optics comprises zoom optics for selectively adjusting the diameter of the projection beam. 제21항에 있어서, 상형성 광학기가 눈에 접촉하지 않는 RERG 투사 시스템.22. The RERG projection system of claim 21, wherein the imaging optics are not in contact with the eye. 제9항에 있어서, RERG 투사 시스템이 녹내장에 의해 야기된 망막 변성을 평가하기 위해 사용되는 RERG 투사 시스템.10. The RERG projection system of claim 9, wherein a RERG projection system is used to assess retinal degeneration caused by glaucoma. 적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 발생시키고; 투사 비임을 원하는 상(像)으로 변조시키고; 및 투사 비임이 동공을 통고하하고 분기하여 망막 전방에서 25°후방에 이르는 임의 부분을 포함하는 시야를 제공하도록, 변조된 투사 비임을 초점 맞추는 단계들로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 상(像)을 선택적으로Generating a projection beam that is at least partially coherent light; Modulating the projection beam into a desired image; And focusing the modulated projection beam such that the projection beam informs and branches the pupil to provide a field of view that includes any portion extending 25 ° back in front of the retina. Iii) optionally 투사하기 위한 망막-투사 방법.Retina-projection method for projection. 제25항에 있어서, 상기 원주변 밖의 전방 망막을 포함하는 실질적으로 전체 망막에 걸쳐 투사되는 망막-투사 방법.27. The method of claim 25, wherein the retina is projected over substantially the entire retina, including the outer periphery of the front retina. 제25항에 있어서, 상기 비디오 또는 인쇄 정보를 나타내는 망막-투사 방법.27. The method of claim 25, wherein said retinal-projection method is representative of said video or print information. 제27항에 있어서, 변조광학기가 LCD 판넬을 포함하는 망막-투사 방법.28. The retina-projection method of claim 27, wherein the modulating optics comprises an LCD panel. 제25항에 있어서, 그외에는 상이 망막의 선택된 영역상에 투사되도록 투사 비임의 선택된 부분을 차단하는 단계를 포함하는 망막-투사 방법.27. The method of claim 25, further comprising blocking selected portions of the projection beam such that the image is projected onto selected areas of the retina. 제29항에 있어서, 상기 ERG 패턴인 망막-투사방법.30. The retina-projection method according to claim 29, wherein said ERG pattern is. 적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 발생시키고; 투사 비임을 변조시켜 원하는 ERG 패턴을 창출하고; ERG 패턴이 망막 전방에서 25°후방에 이르는 임의 부분을 포함하는 시야를 갖는 망막의 선택된 영역상에 투사되도록 변조된 투사 비임의 촛점을 맞추고; 및 선택적인 패턴을 변화시켜 ERG 반응을 창출하는 것으로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 ERG 패턴을 투사하기 위한 ERG 패턴 투사(RERG)방법.Generating a projection beam that is at least partially coherent light; Modulating the projection beam to produce the desired ERG pattern; Focusing the projection beam modulated such that the ERG pattern is projected onto a selected area of the retina having a field of view that includes any portion extending 25 ° in front of the retina; And ERG pattern projection (RERG) method for projecting an ERG pattern onto a selected area of the retina, changing the selective pattern to create an ERG response. 제31항에 있어서, 투사 비임을 변조하는 단계는 투사 비임을 간섭패턴으로 변조하여 ERG 패턴을 형성하는 단계로 구성되는 RERG 투사 방법.32. The method of claim 31, wherein modulating the projection beam comprises modulating the projection beam with an interference pattern to form an ERG pattern. 제32항에 있어서, 투사 비임을 선택된 공간 주파수로 변조시켜 선택된 줄무늬선 간격으로 생성하고, 선택된 교호 주파수로 변조시켜 ERG 반응을 생성하는 RERG 투사방법.33. The RERG projection method of claim 32, wherein the projection beam is modulated at a selected spatial frequency to generate at selected stripe line intervals and to a selected alternating frequency to produce an ERG response. 제32항에 있어서, 투사 비임을 변조하는 단계는 전단 간섭계로 수행되는 RERG 투사방법.33. The method of claim 32, wherein modulating the projection beam is performed with a shear interferometer. 제31항에 있어서, 투사 비임을 변조하는 단계는 Newton's 고리 간섭계예 의해 수행되는 RERG 투사 방법.32. The method of claim 31, wherein modulating the projection beam is performed by Newton's Ring Interferometer. 제31항에 있어서, 그외에 투사 비임의 직경을 선택적으로 조정시키는 단계를 포함하는 RERG 투사 방법.32. The method of claim 31, further comprising selectively adjusting the diameter of the projection beam. 제31항에 있어서, RERG 투사방법이 녹내장에 의해 야기된 망막 변성을 평가하는데 사용되는 RERG 투사방법.32. The RERG projection method of claim 31, wherein the RERG projection method is used to assess retinal degeneration caused by glaucoma. 하기로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 REG 패턴을 투사하기 위한 ERG 패턴 투사(RERG)시스템; 적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 제공하기 위한 광원; 투사 비임을 변조시켜 원하는 ERG 패턴을 창출하기 위한, 및 선택적으로 패턴을 변화시켜 ERG 반응을 창출하기 위한 변조 광학기; ERG 패턴을 선택적으로 분할하기 위한 분할 광학기; 및 분할된 ERG 패턴이 망막의 영역상에 투사되도록 변조된 투사 비임을 촛점을 맞추기 위한 상형성 광학기.An ERG pattern projection (RERG) system for projecting an REG pattern onto a selected region of the retina, configured as follows; A light source for providing a projection beam that is at least partially coherent light; Modulation optics for modulating the projection beam to produce a desired ERG pattern, and optionally for changing the pattern to create an ERG response; Splitting optics for selectively splitting the ERG pattern; And imaging optics for focusing the projection beam modulated such that the divided ERG pattern is projected onto the area of the retina. 하기로 구성되는, 망막의 선택된 영역상에 ERG 패턴을 투사하기 위한 ERG 패턴 투사(RERG)방법; 적어도 부분적으로 간섭성의 광선인 투사 비임을 발생시키고; 투사 비임을 변조시켜 원하는 ERG 패턴을 창출하고; 선택적으로 ERG 패턴을 분할시키고; ERG 패턴의 망막의 선택된 영역상에 투사되도록 변조된 투사 비임의 초점을 맞추고; 및 선택적으로 패턴을 변화시켜 ERG 반응을 창출한다.An ERG pattern projection (RERG) method for projecting an ERG pattern onto a selected area of the retina, consisting of: Generating a projection beam that is at least partially coherent light; Modulating the projection beam to produce the desired ERG pattern; Optionally split the ERG pattern; Focusing the projection beam modulated to project onto selected areas of the retina of the ERG pattern; And optionally changing the pattern to create an ERG response. 제39항에 있어서, ERG 패턴이 후방, 중간 및 전방 영역으로 및 더하여 중간 및 전방 영역의 부채꼴들로 분한되는 RERG 투사방법.40. The method according to claim 39, wherein the ERG pattern is divided into posterior, middle and front regions, and further into sectors of the middle and front regions. 제1항에 있어서, 광각 상형성 광학기에 대한 시야는 후방 영역에 대해 전방인 망막의 임의 부분을 포함하는 망막-투사 시스템.The retina-projection system of claim 1, wherein the field of view for the wide angle imaging optics comprises any portion of the retina that is anterior to the posterior region. 제9항에 있어서, 상형성 광학기에 대한 시야는 후방 영역에 대해 전방인 망막의 임의 부분을 포함하는 RERG 투사 시스템.10. The RERG projection system of claim 9, wherein the field of view for the imaging optics comprises any portion of the retina that is anterior to the posterior region. 제25항에 있어서, 시야는 후방 영역에 대해 전방인 망막의 임의 부분을 포함하는 망막-투사 시스템.27. The retina-projection system of claim 25, wherein the field of view comprises any portion of the retina that is anterior to the posterior region. 제31항에 있어서, 시야는 후방 영역에 대해 전방인 망막의 임의 부분을 포함하는 망막-투사 시스템.32. The retina-projection system of claim 31, wherein the field of view comprises any portion of the retina that is anterior to the posterior region. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
KR1019930700441A 1990-08-17 1991-07-29 System and method for projecting an image onto the retina Withdrawn KR930701131A (en)

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