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KR890701481A - 부식 및 스케일 형성을 억제하기 위해 수성 계를 처리하는 방법 - Google Patents

부식 및 스케일 형성을 억제하기 위해 수성 계를 처리하는 방법

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KR890701481A
KR890701481A KR1019890700253A KR890700253A KR890701481A KR 890701481 A KR890701481 A KR 890701481A KR 1019890700253 A KR1019890700253 A KR 1019890700253A KR 890700253 A KR890700253 A KR 890700253A KR 890701481 A KR890701481 A KR 890701481A
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carbon atoms
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KR1019890700253A
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에이. 차나드 2세 해롤드
케이. 브라이든 마크
알. 르블랑 토마스
Original Assignee
리차드 지. 워터맨
더 다우 케미칼 캄파니
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Publication date
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    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F5/00—Softening water; Preventing scale; Adding scale preventatives or scale removers to water, e.g. adding sequestering agents
    • C02F5/08—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents
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    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Abstract

내용 없음

Description

부식 및 스케일 형성을 억제하기 위해 수성 계를 처리하는 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

  1. 아크릴산으로부터 유도된 잔기와 저급 알킬 하이드록시 아크릴레이트로부터 유도된 잔기를 갖는 수용성 공중합체 및 유기 아미노알킬렌포스폰산 유기체 또는 이의 염과 수성 계에 망간 이온을 제공할 수 있는 망간 화합물과의 혼합물을 포함하며 pH가 7내지 9인 수성계를 처리하기에 적합한 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 공중합체가 일반식 (Ⅰ)의 공중합체인 조성물.
    상기식에서 R은 수소 또는 탄소수 1내지 3의 알킬 그룹이고；R1은 OH, OM(여기에서, M은 수요성 양이온이다), NH2이고；R2는 탄소수 2내지 6의 저급 알킬 그룹(OH 치환체가 알킬 그룹의 탄소원자중의 어느 하나에 결합될 수 있다)이고；R3은 수소 또는 탄소수 1내지 3의 알킬 그룹이다.
  3. 제2항에 있어서, R은 수소 또는 CH3이고；R1은 OM이고；R2OH는 CH2CHOHCH3이고；R3은 수소인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 수성 계의 pH가 8 내지 9인 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 공중합체의 분자량이 500내지, 1,000,000이고, 공중합체의 저급 알킬 하이드록실 아크릴레이트-유도된 잔기에 대한 아크릴산-유도된 잔기의 몰비가 34:1내지 1:4인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 혼합물에 대한 공중합체의 중량비가 7：1내지 0.01：1의 범위내인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 유기 아미노알킬렌포스폰산 유도체의 알킬렌 라디칼 성분이 하기 일반식으로 표시되는 조성물.
    상기식에서, X 및 Y는 독립적으로 수소, 하이드록실, 카복실, 포스폰산, 산 라디칼의 염 및 탄소수 1내지 12의 탄화수소 라디칼의 염이고；n은 1내지 3이고；단, n이 1보다 클 경우, 각각의 X 및 Y는 탄소원자에 존재하는 X 또는 Y와 동일하거나 상이할 수 있다.
  8. 제1항에 있어서, 유기 아미노할킬렌포스폰산 유도체가 일반식(Ⅱ)를 갖는 조성물.
    상기식에서 치환체 A,B,C,D,E 및 F는 독립적으로 수소.
    2-하이드록시-3-(트리알킬암모늄 할라이드)프로필 및 2-하이드록시프로필설폰산 그룹 및 산 라디칼의 염이고；X 및 Y는 독립적으로 수소, 하이드록실, 카복실, 산라이칼의 포스폰산염 및 탄소수 1내지 12의 탄화수소 라디칼의 포스폰산 염이고；n은 1내지 3이며, 단, n이 1보다 클 경우 각각의 X 및 Y는 탄소원자에 존재하는 X 또는 Y와 동일하거나 상이할 수 있으며；X' 및 Y'는 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸 라디칼이고；n'는 2또는 3이고；m 및 m'는 각각 0내지 2500이며；단, 아민 수소의 약 50% 이상은 본 명세서에서 이미 정의한 바와 같은 인-함유 그룹에 의해 치환되고；R4는 직쇄, 측쇄, 사이클릭, 헤테로사이클릭, 치환된 헤테로사이클릭, 또한 융합된 환 형 구조일 수 있는 탄화수소 잔기이며；단, m 또는 m'가 1이상인 경우, E 및 F 치환체는 다른 질소원자의 치환체와 동일하거나 상이할 수 있으며, R4는 각각 동일하거나 상이할 수 있다.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 망간 이온이 킬레이트 형태로 존재하는 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 망간 화합물이 MnO, MnO2, H2O, KMnO4, Mn(CH3COO)2, 4H2O 또는 이의 혼합물인 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항중의 어느 한 항에서 정의한 바와 같은 조성물을 수성 계에 가함을 포함하여, 수성계중에서 금속의 부식과 금속상에서 스케일의 형성을 억제하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 조성물이 공중합체 2ppm 이상, 망간이온 0.05ppm 이상 및 아미노알킬렌스폰산 유도체 1ppm 이상을 수성 계에 제공하는 방법.
    ※ 참고사항：최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890700253A 1987-06-15 1988-06-14 부식 및 스케일 형성을 억제하기 위해 수성 계를 처리하는 방법 KR910003088B1 (ko)

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US87-61648 1987-06-15
US?061,648? 1987-06-15
US07/061,648 US4774018A (en) 1987-06-15 1987-06-15 Treatment for water systems to inhibit corrosion and scale formation
PCT/US1988/002047 WO1988010238A1 (en) 1987-06-15 1988-06-14 Treatment for water systems to inhibit corrosion and scale formation

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