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KR20250026619A - Wet scrubber having cleaning device and cleaning method the same - Google Patents

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KR20250026619A
KR20250026619A KR1020230107773A KR20230107773A KR20250026619A KR 20250026619 A KR20250026619 A KR 20250026619A KR 1020230107773 A KR1020230107773 A KR 1020230107773A KR 20230107773 A KR20230107773 A KR 20230107773A KR 20250026619 A KR20250026619 A KR 20250026619A
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demister
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Abstract

본 발명은 세척모드를 구비한 습식 스크러버 및 이의 세척 방법에 관한 것으로, 하우징; 하우징의 내부에 배기가스를 공급하도록 설치된 가스공급라인; 배기가스가 상승하면서 순차적으로 통과하도록 설치된 폴링과 디미스터; 폴링과 디미스터를 통과하여 정화된 가스가 배출되도록 설치된 가스배수라인; 폴링의 하측에 배치되고, 세척용 혼합물을 분무 또는 하방 분사하도록 설치된 하부노즐; 하부노즐에 세척용 혼합물을 공급하도록 연결된 노즐라인; 노즐라인에 세척용 혼합물을 공급하도록 설치된 세척용 혼합물 공급라인; 하우징에 집수된 세척용 혼합물을 배출하도록 설치된 세척용 혼합물 배수라인;과 세척용 혼합물 공급라인과 세척용 혼합물 배수라인과 노즐라인에 세척용 혼합물을 공급하도록 설치된 적어도 1개의 펌프;를 포함하여 이루어짐으로써, 배기가스를 정화함은 물론, 배기가스 정화에 이용된 폴링과 디미스터가 하우징에 내장된 상태로 세척되도록 한 것이다. The present invention relates to a wet scrubber having a washing mode and a washing method thereof, comprising: a housing; a gas supply line installed to supply exhaust gas to the inside of the housing; a poling and a demister installed to sequentially pass exhaust gas as it rises; a gas discharge line installed to discharge purified gas passing through the poling and the demister; a lower nozzle disposed below the poling and installed to spray or downwardly inject a cleaning mixture; a nozzle line connected to supply the cleaning mixture to the lower nozzle; a cleaning mixture supply line installed to supply the cleaning mixture to the nozzle line; a cleaning mixture drain line installed to discharge the cleaning mixture collected in the housing; and at least one pump installed to supply the cleaning mixture to the cleaning mixture supply line, the cleaning mixture drain line, and the nozzle line, thereby purifying exhaust gas and allowing the poling and the demister used for exhaust gas purification to be washed while being built into the housing.

Description

세척모드를 구비한 습식 스크러버 및 이의 세척 방법{Wet scrubber having cleaning device and cleaning method the same}Wet scrubber having cleaning mode and cleaning method thereof {Wet scrubber having cleaning device and cleaning method the same}

본 발명은 습식 스크러버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하우징에 장착된 폴링(palling ring)과 디미스터(demister)에 세척용 혼합물을 고압으로 분사하여 세척하도록 된 세척모드를 구비한 습식 스크러버 및 이의 세척 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a wet scrubber, and more particularly, to a wet scrubber having a cleaning mode for cleaning by spraying a cleaning mixture at high pressure onto a palling ring and a demister mounted in a housing, and a cleaning method thereof.

일반적으로 각종 산업시설과 환경 기초시설이 가동됨에 따라 배출되는 배기 가스는 유독성, 폭발성 및 부식성이 강하기 때문에 인체에 유해할 뿐만 아니라 그대로 대기 중으로 방출될 경우에는 환경오염을 유발하는 원인일 수 있다. 따라서, 이러한 배기가스는 유해 성분의 함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화 과정이 필요하고, 이와 같은 독성 물질을 제거하는 정화 과정을 거친 무해 가스만이 대기 중으로 배출되도록 법적으로 의무화되어 있다.In general, exhaust gases emitted from various industrial facilities and environmental infrastructures are highly toxic, explosive, and corrosive, which is not only harmful to the human body, but can also cause environmental pollution if released into the atmosphere. Therefore, these exhaust gases require a purification process to reduce the content of harmful components below the permissible concentration, and it is legally required that only harmless gases that have undergone the purification process to remove such toxic substances be released into the atmosphere.

이에 따라 각종 산업시설과 환경 기초시설에는 이러한 유해 가스를 정화시키기 위한 스크러버가 설치되어 있다. 여기서, 스크러버는 일반적으로 대기오염을 일으키는 유해가스 또는 악취가스에 포함된 원인이 되는 입자들을 액상 및 기체로 혼합한 도포액을 사용하여 이들을 제거하는 장치이다. 이러한 스크러버는 습식, 연소, 흡착 또는 촉매 방식이 있다. Accordingly, scrubbers are installed in various industrial facilities and environmental infrastructure to purify these harmful gases. Here, the scrubber is a device that removes particles that are the cause of harmful gases or odorous gases that generally cause air pollution by using a coating solution that is a mixture of liquid and gas. These scrubbers are available in wet, combustion, adsorption, or catalytic types.

일 예로, 종래의 습식 스크러버는 하부에서 유해가스가 유입된 후 상부로 배출되는 동안, 노즐에서 분사된 세척용 혼합물과 접촉된 유해가스가 폴링과 디미스터를 통과하도록 구성될 수 있다. 따라서, 하부에서 유입된 유해가스가 상부로 유동하는 동안 세척용 혼합물에 의해 일부 정화되고, 폴링 및 디미스터를 통과하면서 재차 정화된 후 상부로 배출될 수 있다. For example, a conventional wet scrubber may be configured so that the hazardous gas, which comes into contact with the cleaning mixture sprayed from the nozzle while the hazardous gas is introduced from the bottom and then discharged upward, passes through the polling and demister. Accordingly, the hazardous gas introduced from the bottom may be partially purified by the cleaning mixture while flowing upward, and may be purified again while passing through the polling and demister before being discharged upward.

한편, 폴링과 디미스터는 통과하는 유해가스로부터 오염물질이 탈리(脫離)되도록 함으로써, 정화된 가스가 배출되도록 할 수 있다. Meanwhile, the polling and demister can remove contaminants from the passing harmful gases, thereby allowing the purified gases to be discharged.

하지만, 이러한 폴링과 디미스터는 장시간 이용되면 오염물질이 과다하게 부착되어 정화 성능이 낮아질 수 있다. 그러므로 폴링과 디미스터를 재활용하기 위한 세척 작업이 요구될 수 있다. However, if these polling and demisters are used for a long time, excessive contaminants may be attached, which may reduce the purification performance. Therefore, a cleaning operation may be required to recycle the polling and demisters.

대한민국 등록특허 제10-1921869호(2019.02.13 공고)Republic of Korea Patent No. 10-1921869 (announced on February 13, 2019) 대한민국 등록특허 제10-0243639호(2000.02.01 공고)Republic of Korea Patent No. 10-0243639 (announced on February 1, 2000)

상기된 요구에 의해 안출된 본 발명의 목적은 폴링과 디미스터가 내장된 스크러버의 하우징에 내장된 폴링 또는 디미스터가 고압으로 분사되는 세척용 혼합물에 의해 세척되도록 한 세척모드를 구비한 습식 스크러버 및 이의 세척 방법를 제공함에 있다. The purpose of the present invention, which is achieved by the above-mentioned needs, is to provide a wet scrubber having a cleaning mode in which a polling or demister built into a housing of the scrubber having a polling and a demister built into it is cleaned by a cleaning mixture sprayed at high pressure, and a cleaning method thereof.

상술된 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 세척모드를 구비한 습식 스크러버는 하우징; 하우징의 내부에 배기가스를 공급하도록 설치된 가스공급라인; 배기가스가 상승하면서 순차적으로 통과하도록 설치된 폴링과 디미스터; 폴링과 디미스터를 통과하여 정화된 가스가 배출되도록 설치된 가스배수라인; 폴링의 하측에 배치되고, 세척용 혼합물을 분무 또는 하방 분사하도록 설치된 하부노즐; 하부노즐에 세척용 혼합물을 공급하도록 연결된 노즐라인; 노즐라인에 세척용 혼합물을 공급하도록 설치된 세척용 혼합물 공급라인; 하우징에 집수된 세척용 혼합물을 배출하도록 설치된 세척용 혼합물 배수라인;과 세척용 혼합물 공급라인과 세척용 혼합물 배수라인과 노즐라인에 세척용 혼합물을 공급하도록 설치된 적어도 1개의 펌프;를 포함하여 이루어질 수 있다.In order to achieve the above-described object, a wet scrubber having a washing mode according to the present invention may be formed by including: a housing; a gas supply line installed to supply exhaust gas to the inside of the housing; a poling and a demister installed to sequentially pass the exhaust gas as it rises; a gas drain line installed to discharge purified gas passing through the poling and the demister; a lower nozzle disposed below the poling and installed to spray or downwardly inject a washing mixture; a nozzle line connected to supply the washing mixture to the lower nozzle; a washing mixture supply line installed to supply the washing mixture to the nozzle line; a washing mixture drain line installed to discharge the washing mixture collected in the housing; and at least one pump installed to supply the washing mixture to the washing mixture supply line, the washing mixture drain line, and the nozzle line.

여기서, 가스정화모드에서는 가스공급라인을 통해 배기가스가 공급되면 폴링과 디미스터를 통과하여 정화된 후 가스배수라인을 통해 배출될 수 있다. Here, in the gas purification mode, exhaust gas is supplied through the gas supply line, purified through the polling and demister, and then discharged through the gas discharge line.

그리고 세척모드에서는 가스공급라인이 폐쇄되고, 세척용 혼합물이 하부노즐을 통해 고압으로 분사되어 폴링이 세척될 수 있다. And in the cleaning mode, the gas supply line is closed and the cleaning mixture is sprayed at high pressure through the lower nozzle so that the polling can be cleaned.

또한, 가스정화모드에서 하부노즐에서 세척용 혼합물이 분무되어 배기가스의 오염물질이 일부 정화될 수 있다. Additionally, in the gas purification mode, a cleaning mixture is sprayed from the lower nozzle so that some of the pollutants in the exhaust gas can be purified.

또한, 세척용 혼합물을 가열하기 위해 세척용 혼합물과 고온의 배기가스 간의 열교환이 이루어지도록 세척용 혼합물 공급라인과 가스공급가인이 일정 길이만큼 근접 또는 연접하게 설치되거나, 세척용 공급라인 또는 노즐라인에 히터가 설치될 수 있다. In addition, the cleaning mixture supply line and the gas supply line may be installed in close proximity or adjacent to each other by a certain length to allow heat exchange between the cleaning mixture and the high-temperature exhaust gas to heat the cleaning mixture, or a heater may be installed in the cleaning supply line or nozzle line.

또한, 디미스터의 상측 또는 하측에 배치되거나, 다단으로 제작된 디미스터에 사이에 개재되어 배치되고, 세척용 혼합물을 고압 분사하여 디미스터를 세척하도록 설치된 상부노즐; 폴링의 상측에 배치되고, 세척용 혼합물을 하방 분사하여 폴링을 세척하도록 설치된 중간노즐; 하우징의 하부에 집수된 세척용 혼합물을 회수하여 노즐라인으로 공급하도록 설치된 회수라인; 회수라인에 설치되어 세척용 혼합물을 정화하는 필터;와 폴링 내부에 삽입 설치되고, 개별품들을 교반하도록 설치된 교반기;와, 세척용 혼합물 내의 오염물질이 부유되어 회수라인에 유입되도록 세척용 혼합물을 교반하는 교반장치; 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. In addition, the device may further include at least one of: an upper nozzle disposed above or below the demister, or interposed between demisters manufactured in multiple stages, and installed to spray a cleaning mixture at high pressure to clean the demister; a middle nozzle disposed above the polling and installed to spray a cleaning mixture downward to clean the polling; a recovery line installed to recover the cleaning mixture collected at the lower part of the housing and supply it to the nozzle line; a filter installed in the recovery line to purify the cleaning mixture; a stirrer inserted and installed inside the polling and installed to stir individual products; and a stirrer device for stirring the cleaning mixture so that contaminants in the cleaning mixture float and flow into the recovery line.

여기서, 교반기는 외부 동력에 의해 제자리 회전하는 회전축과, 이 회전축에 부착되어 측면상 수직으로 회전하는 다수의 교반날개를 구비할 수 있다. 또는, 측면상 폴링의 중간 부위에 배치되어 수평으로 회전하는 회전평판과, 이 회전평판의 상면 또는 하면에 부착된 다수의 교반돌기를 구비하여 이루어질 수 있다. Here, the agitator may be provided with a rotating shaft that rotates in place by external power, and a plurality of stirring blades attached to the rotating shaft and rotating vertically laterally. Alternatively, the agitator may be provided with a rotating plate that is arranged in the middle of the lateral poling and rotates horizontally, and a plurality of stirring protrusions attached to the upper or lower surface of the rotating plate.

또한, 세척모드에서 하우징 내부에 세척용 혼합물이 하우징 내부의 폴링 또는 디미스터까지 잠기도록 채워질 수 있다. 이때, 하부노즐은 가스정화모드에서 세척용 혼합물을 미스트 형태로 분무하거나, 세척모드에서 세척용 혼합물을 고압으로 분사하여 와류를 발생시키거나 외부 공기가 공급되어 폭기를 발생시키도록 설치될 수 있다. In addition, in the cleaning mode, the cleaning mixture may be filled inside the housing so that it is submerged up to the polling or demister inside the housing. At this time, the lower nozzle may be installed to spray the cleaning mixture in the form of a mist in the gas purification mode, to spray the cleaning mixture at high pressure in the cleaning mode to generate a vortex, or to supply external air to generate aeration.

또한, 세척용 혼합물의 수위를 감지하도록 폴링의 상측 또는, 디미스터 상측에 설치된 상부수위센서;와, 세척용 혼합물이 채워지면 폭기를 발생하도록 하우징의 바닥에 설치된 폭기기; 중 적어도 하나가 더 설치될 수 있다. In addition, at least one of an upper water level sensor installed on the upper side of the polling or on the upper side of the demister to detect the water level of the cleaning mixture; and an aerator installed on the bottom of the housing to generate aeration when the cleaning mixture is filled may be further installed.

그리고 세척용 혼합물은 물, 패각분말, 베이킹소다 및 과탄산나트륨을 포함하여 만들어질 수 있다. And a cleaning mixture can be made including water, shell powder, baking soda, and sodium percarbonate.

한편, 본 발명에 따른 세척모드를 구비한 습식 스크러버에서 배기가스를 정화하는 가스정화모드와, 가스를 정화하면서 오염된 폴링과 디미스터를 세척하는 세척모드가 일정 순번으로 작동하도록 이루어질 수 있다. Meanwhile, in a wet scrubber equipped with a cleaning mode according to the present invention, a gas purification mode for purifying exhaust gas and a cleaning mode for cleaning contaminated pollutants and demisters while purifying gas can be operated in a certain sequence.

여기서, 가스정화모드는 가스공급라인을 통해 가스가 하우징의 하부로 공급되는 제10공정(S10); 가스가 폴링과 디미서터를 차례로 통과하면서 정화되는 제12공정(S12);과, 정화된 가스가 하우징 외부로 배출되는 공정(S13);를 포함할 수 있다. Here, the gas purification mode may include a 10th process (S10) in which gas is supplied to the lower part of the housing through a gas supply line; a 12th process (S12) in which gas is purified while passing through a poling and a demister in sequence; and a process (S13) in which purified gas is discharged outside the housing.

또한, 세척모드는 폴링의 하측에 설치된 하부노즐에서 세척용 혼합물이 고압으로 상향 분사되어 폴링이 세척되는 제20공정(S20);을 포함할 수 있다. In addition, the washing mode may include a 20th process (S20) in which a washing mixture is sprayed upward at high pressure from a lower nozzle installed on the lower side of the polling to wash the polling.

여기서, 제10공정(S10)과 제12공정(S12) 사이에 가스가 유입된 하우징의 내부에서 폴링(140)의 하측에 설치된 하부노즐(160)을 통해 세척용 혼합물(W)을 미스트 형태로 분무하는 제11공정(S11);을 더 포함할 수 있다. Here, an 11th process (S11) may further be included in which a cleaning mixture (W) is sprayed in the form of a mist through a lower nozzle (160) installed on the lower side of the poling (140) inside the housing into which gas is introduced between the 10th process (S10) and the 12th process (S12).

또한, 제20공정(S20) 이후에, 세척용 혼합물의 수면 부위의 세척용 혼합물이 회수라인을 통해 회수되면서 필터에 의해 정화되어 하부노즐로 공급되는 제23공정(S23);과 폴링과 디미스터의 세척이 완료되면 세척용 혼합물이 배출되는 제24공정(S24);을 더 포함할 수 있다. In addition, after the 20th process (S20), the method may further include a 23rd process (S23) in which the washing mixture of the sleeping portion of the washing mixture is recovered through a recovery line, purified by a filter, and supplied to the lower nozzle; and a 24th process (S24) in which the washing mixture is discharged when the washing of the polling and demister is completed.

여기서, 세척모드는 폴링의 상측에 설치된 중간노즐에서 세척용 혼합물이 고압으로 분사되어 폴링이 세척되는 공정, 디미스터의 상측 또는 하측에 배치되거나, 다단으로 제작된 디미스터의 사이에 개재된 상부노즐에서 세척용 혼합물이 고압으로 분사되어 디미스터가 세척되는 공정, 폴링의 내부에 회전축과 이 회전축에서 돌출되어 측면상 수직으로 회전하는 다수의 교반날개 또는, 측면상 수평으로 회전하는 회전평판과, 이 회전평판의 상면과 하면에 부착된 다수의 교반돌기의 작동으로 개별품이 교반되는 공정, 하부노즐로 공급되는 세척용 혼합물이 가스공급라인을 유동하는 고온의 배기가스와 근접하여 열교환되거나, 히터에 의해 가열되어 승온되는 공정, 세척용 혼합물에 포함된 오염물질을 부유시켜 회수라인으로 유입되도록 세척용 혼합물을 교반하는 공정들 중 적어도 하나의 공정이 수행될 수 있다. Here, the washing mode may be performed by at least one of the following processes: a process in which a washing mixture is sprayed at high pressure from a middle nozzle installed on the upper side of the polling so that the polling is washed; a process in which a washing mixture is sprayed at high pressure from an upper nozzle disposed on the upper or lower side of the demister or interposed between demisters manufactured in multiple stages so that the demister is washed; a process in which individual products are stirred by the operation of a rotating shaft inside the polling and a plurality of stirring blades protruding from the rotating shaft and rotating vertically laterally or a rotating plate rotating horizontally laterally and a plurality of stirring protrusions attached to the upper and lower surfaces of the rotating plate; a process in which a washing mixture supplied to the lower nozzle is heat-exchanged by being in close proximity to a high-temperature exhaust gas flowing in a gas supply line or is heated by a heater so that the temperature is increased; and a process in which the washing mixture is stirred so that contaminants included in the washing mixture are floated and introduced into a recovery line.

또한, 세척모드는 제20공정(S20)과 제23공정(S23) 사이에 하우징 내부에 세척용 혼합물이 폴링 또는 디미스터가 잠기도록 채워지는 제21공정(S21);과 하우징의 내부에 배치된 폭기기에서 폭기가 발생되고, 폴링 하측의 하부노즐 또는 상측의 중간노즐 또는, 디미스터의 상측이나 하측 또는 다단의 디미스터 사이에 개재된 상부노즐에서 세척용 혼합물 고압으로 분사되어 와류가 발생되거나, 하부노즐 또는 중간노즐 또는 상부노즐에서 공기가 분출되어 폭기가 발생되어 폴링과 디미스터가 세척되는 제22공정(S22);을 더 포함할 수 있다. In addition, the washing mode may further include a 21st process (S21) in which a washing mixture is filled inside the housing between the 20th process (S20) and the 23rd process (S23) so that the polling or demister is submerged; and a 22nd process (S22) in which aeration is generated in an aerator arranged inside the housing, and the washing mixture is sprayed at high pressure from a lower nozzle on the lower side of the polling or an upper middle nozzle, or an upper nozzle interposed between the upper or lower sides of the demister or a multi-stage demister to generate a vortex, or air is ejected from the lower nozzle, the middle nozzle, or the upper nozzle to generate aeration, so that the polling and the demister are washed.

여기서, 상술된 제21공정(S21) 내지 제24공정(S24)은 제20공정(S20)이 vhg마되거나 배제된 채 수행될 수 있다. 그리고 각 공정(S20 내지 S24)들은 순차적으로 또는 적어도 2개 이상의 공정이 중첩되어 수행될 수 있다. Here, the 21st process (S21) to the 24th process (S24) described above can be performed with the 20th process (S20) being omitted or excluded. And each process (S20 to S24) can be performed sequentially or at least two or more processes can be overlapped.

전술된 바와 같이 본 발명에 따르면, 스크러버에 가스정화모드와 세척모드가 함께 구성되고, 배기가스를 정화함은 물론, 배기가스 정화에 이용된 폴링과 디미스터가 장착된 상태로 세척됨으로써, 폴링과 디미스터를 분리하여 세척하는 것보다 작업시간이 단축될 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the present invention, the scrubber is configured with both a gas purification mode and a cleaning mode, and not only does it purify exhaust gas, but the polling and demister used for exhaust gas purification are cleaned while mounted, so that the work time can be shortened compared to cleaning the polling and demister separately.

또한, 세척용 혼합물을 분사하여 폴링과 디미스터를 세척하고, 사용한 세척용 혼합물을 회수 및 정수하여 재활용함으로써, 작업 비용이 절약되고, 환경을 보호할 수 있는 효과가 있다. In addition, by spraying a cleaning mixture to clean the polling and demister, and recovering and purifying the used cleaning mixture for recycling, it is possible to save operating costs and protect the environment.

또한, 폴링 내부의 개별품이 교반되면서 폴링의 위 또는 아래에서 세척용 혼합물이 고압으로 분사되어 폴링이 세척됨으로써, 폴링의 세척 효율이 현저히 향상될 수 있는 효과가 있다. In addition, since the individual parts inside the polling are stirred and the cleaning mixture is sprayed at high pressure from above or below the polling to clean the polling, there is an effect that the cleaning efficiency of the polling can be significantly improved.

또한, 디미스터의 상측 또는 내측에서 세척용 혼합물이 고압으로 분사되어 세척됨으로써, 디미스터의 세척 효율이 현저히 향상될 수 있는 효과가 있다. In addition, since the cleaning mixture is sprayed at high pressure from the upper or inner side of the demister to clean it, the cleaning efficiency of the demister can be significantly improved.

그리고 폴링과 디미스터를 세척하기 위한 최적의 세척용 혼합물을 개발함으로써, 기존의 세척수보다 월등히 뛰어난 세척 효율을 얻을 수 있는 효과가 있다. And by developing the optimal cleaning mixture for cleaning polling and demister, it is possible to obtain a cleaning efficiency that is far superior to that of existing cleaning water.

본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 안 된다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따라 세척 장치가 장착된 습식 스크러버가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 2는 도 1의 다른 실시 예가 도시된 도면이다.
도 3은 도 1의 또 다른 실시 예가 도시된 도면이다.
도 4와 도 5는 도 1에 도시된 습식 스크러버의 세척 방법이 도시된 공정도이다.
The following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention and, together with the detailed description of the invention, serve to further understand the technical idea of the present invention; therefore, the present invention should not be construed as being limited to matters described in such drawings.
FIG. 1 is a schematic drawing of a wet scrubber equipped with a cleaning device according to a preferred embodiment of the present invention.
Figure 2 is a drawing illustrating another embodiment of Figure 1.
Figure 3 is a drawing illustrating another embodiment of Figure 1.
Figures 4 and 5 are process diagrams illustrating a method for cleaning the wet scrubber illustrated in Figure 1.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 쉽게 실시할 수 있도록 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 또한, 다양한 실시 예에서 언급된 구성들 중 각 실시 예에서 상호 유사한 구성 및 관련 구성은 대체 또는 교체되거나 추가될 수 있다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 동작 원리를 상세하게 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. Hereinafter, with reference to the attached drawings, preferred embodiments will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice the present invention. In addition, among the configurations mentioned in various embodiments, similar configurations and related configurations in each embodiment may be replaced, exchanged, or added. However, when describing the operating principle of preferred embodiments of the present invention in detail, if it is determined that a specific description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

<구성><Composition>

본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 습식 스크러버의 세척 장치는 도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 가스정화모듈(100)과 세척모듈(200)을 포함하여 이루어질 수 있다. A cleaning device of a wet scrubber according to a preferred embodiment of the present invention may include a gas purification module (100) and a cleaning module (200), as shown in FIGS. 1 and 2.

가스정화모듈(100)은 하우징(110), 가스공급라인(120), 가스배수라인(130), 폴링(140), 디미스터(150), 하부노즐(160), 상부노즐(161), 세척용 혼합물 공급라인(170), 하부수위센서(S), 노즐라인(180)과 세척용 혼합물 배수라인(190)을 포함할 수 있다. A gas purification module (100) may include a housing (110), a gas supply line (120), a gas discharge line (130), a polling (140), a demister (150), a lower nozzle (160), an upper nozzle (161), a cleaning mixture supply line (170), a lower water level sensor (S), a nozzle line (180), and a cleaning mixture discharge line (190).

여기서, 하우징(110)은 일정 크기면서 내부 공간에 폴링(140)과 디미스터(150)가 장착되도록 제작될 수 있다. 또, 하우징(110)은 배기가스가 유입되도록 하부에 설치된 가스공급라인(120)과, 내부에서 정화된 가스가 외부로 배출되도록 상부에 가공된 가스배수라인(130)을 구비할 수 있다. Here, the housing (110) can be manufactured to have a certain size and to have a polling (140) and a demister (150) mounted in the internal space. In addition, the housing (110) can be equipped with a gas supply line (120) installed at the bottom to allow exhaust gas to flow in, and a gas discharge line (130) processed at the top to allow gas purified inside to be discharged to the outside.

또한, 가스공급라인(120)은 외부의 오염된 배기가스가 하우징(110)에 유입되도록 폴링(140)의 하측에 설치될 수 있다. 이 가스공급라인(120)은 세척모듈(200)에 의해 세척 공정이 수행되는 동안 폐쇄될 수 있다. Additionally, a gas supply line (120) may be installed at the bottom of the poling (140) to allow external contaminated exhaust gas to flow into the housing (110). This gas supply line (120) may be closed while the cleaning process is performed by the cleaning module (200).

가스배수라인(130)은 하우징 내부에서 폴링(140)과 디미스터(150)를 통과하여 정화된 가스가 하우징(110) 외부로 배출되도록 상부에 설치될 수 있다. 이 가스배수라인(130)은 세척모듈(200)에 의해 세척 공정이 수행되는 동안 폐쇄될 수 있다. A gas discharge line (130) may be installed at the top so that purified gas passing through the polling (140) and demister (150) inside the housing is discharged outside the housing (110). This gas discharge line (130) may be closed while the cleaning process is performed by the cleaning module (200).

또한, 폴링(140)은 배기가스를 정화하기 위해 다수의 개별품이 수용된 부재로서, 하우징(110)에 유입된 배기가스가 통과하도록 내장될 수 있다. 이 폴링(140)은 오염된 가스가 통과할 때 가급적 넓은 면적을 통과하여 정화효율을 높일 수 있도록 다공 구조로 제작될 수 있다. 이러한 폴링(140)은 가스에서 탈리된 오염물질이 부착될 수 있다. 그리고 시간이 경과되면서 정화 능력이 떨어진 폴링(140)은 세척모듈(200)의 작동에 의해 세척될 수 있다. In addition, the polling (140) is a member that accommodates a plurality of individual parts to purify exhaust gas, and can be built in such a way that exhaust gas introduced into the housing (110) passes through it. This polling (140) can be manufactured with a porous structure so that when contaminated gas passes through, it can pass through as wide an area as possible to increase purification efficiency. Contaminants detached from the gas can be attached to this polling (140). In addition, the polling (140) whose purification ability decreases over time can be cleaned by the operation of the cleaning module (200).

또한, 디미스터(150)는 폴링(140)을 통과한 가스로부터 미스트(mist)를 제거하기 위한 부재로서, 폴링(140)을 통과한 가스가 유입된 후 가스배수라인(130)으로 유동하도록 설치될 수 있다. 물론, 디미스터(150)는 폴링(140)을 통과하였지만 가스에 잔류하는 오염물질을 재차 걸러낼 수도 있다. 그리고 시간이 경과하면서 더러워진 디미스터(150)는 세척모듈(200)의 작동에 의해 세척될 수 있다. 그리고 디미스터(150)는 일체형으로 제작되거나 상호 부착된 다단으로 제작될 수 있다. 이때, 다단 제작은 후술된 상부노즐(161)이 개재되도록 하기 위함이다. 물론, 일체형으로 제작될 때 상부노즐(161)이 삽입되어 고정될 수도 있다. In addition, the demister (150) is a member for removing mist from the gas that has passed through the polling (140), and can be installed so that the gas that has passed through the polling (140) flows to the gas discharge line (130) after being introduced. Of course, the demister (150) can also filter out contaminants remaining in the gas that has passed through the polling (140). And the demister (150) that has become dirty over time can be cleaned by the operation of the cleaning module (200). And the demister (150) can be manufactured as an integral part or manufactured in multiple stages that are mutually attached. At this time, the multi-stage manufacturing is to allow the upper nozzle (161) described below to be interposed. Of course, when manufactured as an integral part, the upper nozzle (161) can be inserted and fixed.

또한, 하부노즐(160)과 중간노즐(162)은 일 예로, 폴링(140)의 아래와 위에 위치되고, 가스 정화 모드에서 하우징(110)에 유입된 배기가스에 포함된 오염물질을 탈리시키기 위해 세척용 혼합물(W)을 미스트(mist) 형태로 분사하고, 세척 모드에서 폴링(140)을 세척하기 위해 세척용 혼합물(W)을 고압의 물줄기 형태로 강하게 분사하도록 설치될 수 있다. 그리고 하부노즐(160)과 중간노즐(162)은 세척용 혼합물(W)이 폴링(140) 또는 디미스터(150)가 잠기도록 채워진 경우, 세척용 혼합물(W)을 분사하여 와류를 발생시키거나 외부 공기를 분출하여 폭기를 발생시키도록 설치될 수 있다. 물론, 하부노즐(160)과 중간노즐(162)은 둘 다, 또는 둘 중 하나만 설치될 수 있다. In addition, the lower nozzle (160) and the middle nozzle (162) may be installed, for example, to be positioned below and above the polling (140), and to spray a cleaning mixture (W) in the form of a mist to remove pollutants contained in exhaust gas flowing into the housing (110) in the gas purification mode, and to strongly spray the cleaning mixture (W) in the form of a high-pressure stream of water to clean the polling (140) in the cleaning mode. In addition, the lower nozzle (160) and the middle nozzle (162) may be installed to spray the cleaning mixture (W) to generate a vortex or to eject outside air to generate aeration when the cleaning mixture (W) is filled to submerge the polling (140) or the demister (150). Of course, both the lower nozzle (160) and the middle nozzle (162) may be installed, or only one of them may be installed.

또한, 상부노즐(161)은 디미스터(150)의 위 또는 아래에 위치되고, 가스 정화 모드에서 가스에 포함된 오염물질을 탈리시키기 위해 세척용 혼합물(W)을 미스트 형태로 분사하거나, 세척 모드에서 디미스터(150)를 세척하기 위해 세척용 혼합물(W)을 고압의 물줄기 형태로 강하게 분사하도록 설치될 수 있다. 그리고 세척용 혼합물(W)이 디미스터(150)가 잠기도록 채워진 경우, 세척용 혼합물(W)을 분사하여 와류를 발생시킬 수도 있다. 또, 상부노즐(161)은 일체로 만들어지거나 다단으로 만들어진 디미스터(150)에 삽입되어 배치되고, 세척 모드에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 디미스터(150)를 세척하도록 설치될 수 있다. In addition, the upper nozzle (161) may be positioned above or below the demister (150) and may be installed to spray a cleaning mixture (W) in the form of a mist to remove contaminants contained in the gas in the gas purification mode, or to strongly spray a cleaning mixture (W) in the form of a high-pressure stream of water to clean the demister (150) in the cleaning mode. In addition, when the cleaning mixture (W) is filled to submerge the demister (150), the cleaning mixture (W) may be sprayed to generate a vortex. In addition, the upper nozzle (161) may be inserted and placed into a demister (150) that is formed integrally or in multiple stages and may be installed to spray a cleaning mixture (W) at high pressure to clean the demister (150) in the cleaning mode.

또한, 세척용 혼합물 공급라인(170)은 하부노즐(160), 중간노즐(162)과 상부노즐(161)에 연결된 노즐라인(180)과 연결되도록 설치될 수 있다. 이 세척용 혼합물 공급라인(170)에는 세척용 혼합물(W)의 공급을 위해 세척용 혼합물(W)의 유동 거리 및 높이에 따라 1개 이상의 펌프(P)가 설치될 수 있다. 일 예로, 도 1에서처럼 하부노즐(160), 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)의 근처에 펌프(P)를 하나 설치하고, 세척용 혼합물(W)을 저장탱크에서 펌프(P)까지 공급하는 별도의 펌프가 더 설치될 수 있다. 그리고 하우징(110)의 내부면서 폴링(140)의 아래에 위치되고, 세척 모드에서 세척용 혼합물(W)의 수위를 감지하여 일정한 수위를 유지하도록 설치된 하부수위센서(S)가 설치될 수 있다. In addition, the washing mixture supply line (170) may be installed to be connected to the nozzle line (180) connected to the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), and the upper nozzle (161). One or more pumps (P) may be installed in the washing mixture supply line (170) to supply the washing mixture (W) according to the flow distance and height of the washing mixture (W). For example, as shown in FIG. 1, one pump (P) may be installed near the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161), and a separate pump may be further installed to supply the washing mixture (W) from the storage tank to the pump (P). In addition, a lower water level sensor (S) may be installed, which is located inside the housing (110) and below the polling (140), and is installed to detect the water level of the washing mixture (W) in the washing mode and maintain a constant water level.

또한, 노즐라인(180)은 세척용 혼합물 공급라인(170)으로 유입된 세척용 혼합물(W)을 하부노즐(160) 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)로 공급하도록 연결될 수 있다. 이때, 세척용 혼합물(W)은 노즐라인(180)에 설치된 펌프 또는, 세척용 혼합물 공급라인(170)에 설치된 펌프(P)에 의해 유동되도록 구성될 수 있다. In addition, the nozzle line (180) may be connected to supply the cleaning mixture (W) introduced into the cleaning mixture supply line (170) to the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161). At this time, the cleaning mixture (W) may be configured to flow by a pump installed in the nozzle line (180) or a pump (P) installed in the cleaning mixture supply line (170).

그리고 세척용 혼합물 배수라인(190)은 하부노즐(160), 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)을 통해 분사된 세척용 혼합물(W)이 하부수위센서(S)에서 수위를 감지하면 배출하도록 하우징(110)의 하부에 설치될 수 있다. 이때, 세척용 혼합물(W)은 중력에 의해 자연 배수되거나, 강제 배수를 위해 세척용 혼합물 배수라인(190)에 별도의 펌프(도시되지 않음)가 설치될 수 있다. And the washing mixture drain line (190) can be installed at the bottom of the housing (110) so that the washing mixture (W) sprayed through the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161) is discharged when the lower water level sensor (S) detects the water level. At this time, the washing mixture (W) can be naturally drained by gravity, or a separate pump (not shown) can be installed in the washing mixture drain line (190) for forced drainage.

한편, 세척모듈(200)은 하우징(110)에 내장된 폴링(140)과 디미스터(150)를 세척하도록 구성될 수 있다. 이때, 하우징(110)의 내면도 세척될 수 있다. 이를 위해 세척모듈(200)은 상부수위센서(210), 회수라인(220), 필터(230), 폭기기(240)와 교반장치(260)를 포함할 수 있다. 여기서, 하부노즐(160), 중간노즐(162), 상부노즐(161)과 노즐라인(180)은 가스정화모듈(100)에서 세척용 혼합물(W)을 미스트로 분무하여 배기가스의 오염물질을 1차로 걸러주고, 세척모듈(200)에서 세척용 혼합물(W)을 고압으로 분사하여 폴링(140) 또는 디미스터(150)를 세척할 수 있다. Meanwhile, the washing module (200) may be configured to wash the polling (140) and the demister (150) built into the housing (110). At this time, the inner surface of the housing (110) may also be washed. To this end, the washing module (200) may include an upper water level sensor (210), a recovery line (220), a filter (230), an aerator (240), and a stirring device (260). Here, the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), the upper nozzle (161), and the nozzle line (180) may spray the washing mixture (W) as a mist from the gas purification module (100) to primarily filter out pollutants from the exhaust gas, and may spray the washing mixture (W) at high pressure from the washing module (200) to wash the polling (140) or the demister (150).

여기서, 상부수위센서(210)는 폴링(140)의 상측 또는 디미스터(150) 상측에 위치되고, 하우징(110)에 세척용 혼합물(W)이 폴링(140) 또는 디미스터(150)가 잠길 정도로 채워지게 되면 이를 감지하게 되고, 미리 설정된 수위에 도달하면 세척용 혼합물(W)의 공급이 중단되도록 설치될 수 있다. 이하, 세척용 혼합물(W)이 폴링(140)이 잠기도록 채워지는 경우로 한정하여 설명하기로 한다. Here, the upper water level sensor (210) is positioned above the polling (140) or above the demister (150), and detects when the housing (110) is filled with the cleaning mixture (W) to the extent that the polling (140) or the demister (150) is submerged, and can be installed so that the supply of the cleaning mixture (W) is stopped when the preset water level is reached. Hereinafter, the description will be limited to the case where the cleaning mixture (W) is filled to the extent that the polling (140) is submerged.

또한, 회수라인(220)은 세척모드에서 하우징(110)에 모인 세척용 혼합물(W)을 수면 부근에서 회수하여 노즐라인(180)에 공급되도록 설치될 수 있다. 이 회수라인(220)에는 세척용 혼합물(W)의 배수 및 공급을 위한 펌프(P)가 설치되도록 구성되거나 별도의 펌프가 설치될 수 있다. In addition, the recovery line (220) may be installed to recover the cleaning mixture (W) collected in the housing (110) in the cleaning mode from the vicinity of the water surface and supply it to the nozzle line (180). The recovery line (220) may be configured to be equipped with a pump (P) for draining and supplying the cleaning mixture (W), or a separate pump may be installed.

또한, 필터(230)는 회수라인(220)을 통해 유동하는 세척용 혼합물(W)을 정화시키기 위해 회수라인(220) 상에 설치될 수 있다. 이때, 필터(230)는 세척용 혼합물(W)을 구성하는 물질, 특히 마이크로미터 크기의 패각분말은 여과하지 않도록 제작될 수 있다. 따라서, 폴링(140)과 디미스터(150)를 세척하면서 발생한 오염물질이 세척용 혼합물(W)과 함께 회수라인(220)을 통해 배출된 후, 필터(230)에 의해 걸러지게 됨으로써, 세척용 혼합물(W)이 정화될 수 있다. 또는 패각분말을 여과하고, 이후 필터(230)에서 패각분말을 분리하여 별도로 세척할 수도 있다. In addition, the filter (230) may be installed on the recovery line (220) to purify the cleaning mixture (W) flowing through the recovery line (220). At this time, the filter (230) may be manufactured so as not to filter the materials constituting the cleaning mixture (W), particularly the shell powder having a micrometer size. Accordingly, the pollutants generated while washing the polling (140) and the demister (150) are discharged through the recovery line (220) together with the cleaning mixture (W), and then filtered by the filter (230), thereby purifying the cleaning mixture (W). Alternatively, the shell powder may be filtered, and then the shell powder may be separated by the filter (230) and washed separately.

또한, 폭기기(240)는 하우징(110)의 내부 바닥에 설치될 수 있다. 이 폭기기(240)는 하우징(110)에 세척용 혼합물(W)이 채워지면 세정을 위한 무수한 공기방울을 공급하여 폭기를 제공하도록 설치될 수 있다. Additionally, an aerator (240) may be installed on the inner bottom of the housing (110). The aerator (240) may be installed to provide aeration by supplying countless air bubbles for cleaning when the housing (110) is filled with a cleaning mixture (W).

그리고 교반장치(260)는 하우징(110)의 내부에 설치되고, 세척모드에서 하우징(110)의 하부에 집수되거나 채워진 세척용 혼합물(W)을 교반함으로써 세척용 혼합물(W)에 포함된 오염물질을 부유시켜 회수라인(220)으로 원활히 유입되도록 하도록 설치될 수 있다. 이 교반장치(260)는 회전축과 교반날개를 가지는 일반적인 구성일 수도 있고, 후술된 폭기기(240)일 수도 있다. And the stirring device (260) may be installed inside the housing (110) and may be installed to stir the cleaning mixture (W) collected or filled in the lower part of the housing (110) in the cleaning mode so that the contaminants included in the cleaning mixture (W) float and smoothly flow into the recovery line (220). This stirring device (260) may have a general configuration having a rotating shaft and stirring blades, or may be an aerator (240) described below.

한편, 폭기기(240) 또는 상부노즐(161)이 배제될 수 있다. 도 2에서 보듯이, 폭기기(240)가 배제된 경우, 하부노즐(160) 또는 중간노즐(162)이 폭기기(240)의 기능까지 겸하도록 설치될 수 있다. 실시 예로, 하부노즐(150) 또는 중간노즐(162)은 가스정화모드에서 세척용 혼합물이 미스트 형태로 분무하고, 세척모드에서 세척용 혼합물(W))이 폴링(140) 위까지 채워진 상태에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 직접 세척, 와류 또는 소용돌이가 발생되도록 하거나, 외부 공기가 공급되어 폭기를 발생시키도록 설치될 수도 있다. 이를 위해 하부노즐(160)과 중간노즐(162)은 노즐라인(180) 이외에도 외부 공기 공급라인(도시되지 않음)과도 연결되고, 작동 제어신호에 따라 세척용 혼합물(W) 또는 외부 공기가 공급되도록 설치될 수 있다. Meanwhile, the aerator (240) or the upper nozzle (161) may be excluded. As shown in FIG. 2, when the aerator (240) is excluded, the lower nozzle (160) or the middle nozzle (162) may be installed to also perform the function of the aerator (240). As an example, the lower nozzle (150) or the middle nozzle (162) may be installed so that the cleaning mixture is sprayed in the form of mist in the gas purification mode, and the cleaning mixture (W) is filled up to the top of the poling (140) in the cleaning mode, so that the cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure to directly clean, create a vortex or swirl, or so that external air is supplied to create aeration. To this end, the lower nozzle (160) and the middle nozzle (162) may be connected to an external air supply line (not shown) in addition to the nozzle line (180), and may be installed so that the cleaning mixture (W) or external air is supplied according to an operation control signal.

한편, 세척용 혼합물(W)은 물, 패각분말, 베이킹소다 및 과탄산나트륨을 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 상기 물 100 부피비에 대하여 상기 패각분말, 베이킹소다 및 상기 과탄산나트륨은 0.05 ~ 0.25 : 0.03 ~ 0.05 : 0.03 ~ 0.05부피비로 혼합되는 것을 특징으로 한다. 상기 베이킹소다 및 과탄산나트륨은 상기 물에 대해 상호 동일한 중량비로 혼합되는 경우에 세정효과를 더 상승시킬 수 있다. 또한, 상기 세척용 혼합물(W)은 올레인산, 소이콜로이드, 알킬벤젠설포네이트, 카모마일 레쿠티타 추출물 및 살비아 오피시날리지 추출물 중에서 선택된 적어도 어느 하나 이상 더 포함될 수 있다. 따라서 상기 올레인산, 소이콜로이드, 알킬벤젠설포네이트는 상기 물 100 부피비에 대하여 0.04 ~ 0.06 : 0.12 ~ 0.2 : 0.01 ~ 0.02 : 0.015 ~0.025 : 0.015 ~ 0.025 부피비로 적어도 어느 하나 이상 혼합될 수 있다.Meanwhile, the cleaning mixture (W) is characterized by including water, shell powder, baking soda, and sodium percarbonate. Therefore, the shell powder, baking soda, and sodium percarbonate are characterized by being mixed in a volume ratio of 0.05 to 0.25 : 0.03 to 0.05 : 0.03 to 0.05 with respect to 100 volume ratio of the water. The baking soda and sodium percarbonate can further increase the cleaning effect when mixed in the same weight ratio with respect to the water. In addition, the cleaning mixture (W) may further include at least one selected from oleic acid, soy colloid, alkylbenzene sulfonate, chamomile recutita extract, and Salvia officinalis extract. Therefore, at least one of the above oleic acid, soy colloid, and alkylbenzene sulfonate can be mixed in a volume ratio of 0.04 to 0.06 : 0.12 to 0.2 : 0.01 to 0.02 : 0.015 to 0.025 : 0.015 to 0.025 with respect to 100 volume ratio of the water.

상기 패각분말은 마이크로미터 크기로 분쇄되어 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 패각분말은 하기의 6공정으로 제조될 수 있다. 즉, 패각을 준비하여 세척하는 공정와; 세척된 상기 패각을 자연광으로 24시간 ~ 72시간 동안 건조하는 공정와; 건조된 상기 패각을 롤밀로 평균입자지름이 1 ~ 3mm로 1차 분쇄하는 공정와; 1차 분쇄된 상기 패각을 400 ~500℃로 10 ~ 20시간 동안 저온소성한 후에 700 ~ 1,000℃로 5 ~ 10시간 동안 고온소성하는 소성하는 공정; 및 소성된 상기 패각을 미세한 분말로서 2차 분쇄하는 공정;를 포함하여 제조될 수 있다.The above-described shell powder can be ground into micrometer size and included in a washing mixture (W). The above-described shell powder can be manufactured through the following six processes. That is, a process of preparing and washing shells; a process of drying the washed shells under natural light for 24 to 72 hours; a process of first crushing the dried shells with a roll mill to an average particle diameter of 1 to 3 mm; a process of low-temperature firing the first-pulverized shells at 400 to 500°C for 10 to 20 hours and then high-temperature firing at 700 to 1,000°C for 5 to 10 hours; and a process of secondarily crushing the fired shells into a fine powder.

상기 패각은 바지락패각, 꼬막패각, 조개패각, 가리비패각, 굴패각 중에서 선택된 적어도 어느 하나 이상 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 바지락패각은 줄무늬, 물결무늬 등 다양한 무늬로 탄산칼슘 89 ~ 99%, 인산칼슘 1 ~ 2% 및 기타로 이루어져 있다. 상기 꼬막패각은 대체로 난형을 이루고 있으며, 탄산칼슘 89 ~ 99%, 인산칼슘 1 ~ 2% 및 기타로 이루어져 있다. 상기 조개패각은 원형에 가까운 형태를 가지고 있으며, 탄산칼슘 89 ~ 99%, 인산칼슘 1 ~ 2% 및 기타로 이루어져 있다. 상기 가리비패각은 다양한 색상을 띄며, 부채형태를 이루고 있으며, 탄산칼슘 89 ~ 99%, 인산칼슘 1 ~ 2% 및 기타로 이루어져 있다. 상기 굴패각은 거의 대부분 탄산칼슘으로 이루어져 있고, 이외에도 석고 및 기타로 이루어져 있다.The above shells may be at least one selected from clam shells, cockle shells, mussel shells, scallop shells, and oyster shells, but are not limited thereto. The clam shells have various patterns such as stripes and wavy patterns and are composed of 89 to 99% calcium carbonate, 1 to 2% calcium phosphate, and others. The cockle shells are generally oval and are composed of 89 to 99% calcium carbonate, 1 to 2% calcium phosphate, and others. The clam shells have a shape close to circular and are composed of 89 to 99% calcium carbonate, 1 to 2% calcium phosphate, and others. The scallop shells have various colors, are fan-shaped, and are composed of 89 to 99% calcium carbonate, 1 to 2% calcium phosphate, and others. The oyster shells are composed almost entirely of calcium carbonate, and also contain gypsum and others.

상기 패각을 준비하여 세척하는 공정는 패각에 있는 불순물이나 오염물질을 제거하는 공정로 담수를 이용하여 세척하는 것이 바람직할 수 있다.The process of preparing and washing the shells above is a process of removing impurities or contaminants in the shells, and it may be desirable to wash them using fresh water.

상기 건조하는 공정는 세척된 패각에 남아 있는 염분 및 악취를 제거하기 위한 것으로, 세척된 패각을 24시간 ~ 27시간 동안 건조할 수 있으나, 이에 제한되지 는 않는다.The above drying process is intended to remove salt and odor remaining in the washed shells, and the washed shells may be dried for 24 to 27 hours, but is not limited thereto.

상기 1차 분쇄하는 공정는 롤밀을 이용하여 패각을 평균입자지름이 1 ~ 3mm로 분쇄할 수 있다. 패각의 평균입자지름을 1mm 미만으로 분쇄할 경우 너무 미세하게 분쇄되어 비산될 우려가 있으며, 3mm 초과로 분쇄할 경우 하기의 소성이 제대로 이루어지지 않을 수 있다. 또다른 예로서, 상기 1차 분쇄된 패각분말을 소성 및 분쇄할 수도 있지만, 세척용 혼합물(W) 제조시 물의 온도가 28℃ 미만인 경우에는 상기 1차 분쇄된 패각분말을 이용할 수 있다. 즉, 상기 1차 분쇄된 분말이 첨가된 세척용 혼합물(W)이 들어 있는 용기내에 설치된 수중모터를 이용하여 기포를 발생시킴과 동시에 난류를 이용하여 입자가 큰 패각분말과 상기 폴링 등의 충돌로 잔여 오염물질을 1차적으로 제거하고, 시간이 지남에 따라 패각분말이 물에 녹으면서 2차적으로 잔여 오염물질을 제거할 수 있다.The above first crushing process can crush the shells with an average particle diameter of 1 to 3 mm using a roll mill. If the average particle diameter of the shells is crushed to less than 1 mm, there is a risk that the shells will be crushed too finely and may scatter, and if the shells are crushed to more than 3 mm, the firing described below may not occur properly. As another example, the above first crushed shell powder can be fired and crushed, but if the temperature of the water is lower than 28°C when preparing the washing mixture (W), the above first crushed shell powder can be used. That is, by using an underwater motor installed in a container containing the washing mixture (W) to which the above first crushed powder has been added, bubbles are generated, and at the same time, turbulence is used to primarily remove residual contaminants by collision between the large shell powder particles and the above-described pollutants, and over time, as the shell powder dissolves in water, the residual contaminants can be secondarily removed.

상기 소성하는 공정는 공기나 산소가 통하지 않는 상태에서 400 ~ 500℃에서 10 ~ 20시간 동안 저온소성한 후에, 공기하에서 700 ~ 1,000℃로 5 ~ 10시간 동안 고온소성을 실시할 수 있다. 따라서 소성온도 및 소성시간이 범위 미만인 경우에는 불순물이 남아있을 수도 있고, 소성반응이 제대로 이루어지지 않아 탄산칼슘의 함량을 증가시키는데 곤란할 수 있으며, 소성온도 및 소성시간이 범위 초과인 경우에 는 패각이 탈수 있는 문제를 야기할 수 있다. 이러한 2공정 소성은 탄산칼슘의 함량이 많아짐에 따라 항곰팡이 및 항균효과를 향상시킬 수 있다. 결국, 세척용 혼합물(W)의 항균 및 항균효과로 세척된 상기 폴링 및 상기 디미스터를 곰팡이균 등으로부터 보호할 수 있다.The above-mentioned calcination process can be performed by performing low-temperature calcination at 400 to 500°C for 10 to 20 hours in an air- or oxygen-free state, and then high-temperature calcination at 700 to 1,000°C for 5 to 10 hours in the air. Therefore, if the calcination temperature and time are below the range, impurities may remain, and the calcination reaction may not occur properly, making it difficult to increase the content of calcium carbonate, and if the calcination temperature and time are above the range, the problem of dehydration of the shell may occur. This two-step calcination can enhance the antifungal and antibacterial effects as the content of calcium carbonate increases. Ultimately, the washed polling and the demister can be protected from mold, etc. by the antibacterial and antibacterial effects of the washing mixture (W).

상기 2차 분쇄하는 공정는 평균입자지름이 1 ~ 5㎛인 패각분말로 제조할 수 있다. 2차 분쇄된 상기 패각분말의 평균입자지름이 1㎛ 미만인 경우에는 세척용 혼합물(W)의 효과발휘가 곤란할 수 있으며, 5㎛ 초과인 경우에는 다른 성분들과의 혼합이 제대로 이루어지지 않을 수 있다.The above secondary crushing process can be used to manufacture shell powder having an average particle diameter of 1 to 5 ㎛. If the average particle diameter of the secondary crushed shell powder is less than 1 ㎛, it may be difficult for the washing mixture (W) to be effective, and if it exceeds 5 ㎛, it may not be properly mixed with other ingredients.

따라서 상기 패각분말은 세척용 혼합물(W)은 물 100 부피비에 대하여 0.05 ~ 0.25 부피비로 혼합될 수 있다. 상기 패각분말의 부피비가 0.05 미만인 경우에는 세척용 혼합물(W)의 항곰팡이 및 항균효과가 제대로 이루어지지 않을 수 있으며, 0.25 초과인 경우에는 다른 성분의 함량 감소를 초래하여 세정효과가 제대로 이루어지지 않을 수 있다.Therefore, the shell powder can be mixed in a volume ratio of 0.05 to 0.25 with respect to 100 volume ratio of water in the washing mixture (W). If the volume ratio of the shell powder is less than 0.05, the antifungal and antibacterial effects of the washing mixture (W) may not be properly achieved, and if it exceeds 0.25, the content of other components may be reduced, resulting in the improper cleaning effect.

상기 베이킹소다는 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 베이킹소다는 탄산수소나트륨 또는 중탄산나트륨으로 호칭될 수 있다. 상기 베이킹소다는 세척력이 우수한 친환경적인 소재로서 약알칼리 특성을 갖는다. 상기 베이킹소다는 약알칼리로 지방산으로 이루어진 오염물질이나 기름때를 중화시켜 수용성으로 변화시킬 수 있다. 따라서 상기 베이킹소다와 물을 이용하는 경우에는 환경오염을 유발하는 세제를 사용하지 않고서도 오염물질이나 기름때를 깨끗하게 제거할 수 있다. 또한, 상기 베이킹소다는 분말, 과립형태, 액상 등일 수 있다. 분말, 과립형태 또는 액상의 상기 베이킹소다를 물과 사용할 경우에 분사력에 의해 상기 폴링 및 상기 디미스터에 고착된 오염물질을 세척할 수 있다. 또한, 세척후에 상기 폴링 및 상기 디미스터는 원색으로 복구되어 재활용할 수 있다.The baking soda may be included in the cleaning mixture (W). The baking soda may be referred to as sodium bicarbonate or sodium bicarbonate. The baking soda is an environmentally friendly material with excellent cleaning power and has weakly alkaline properties. The baking soda is weakly alkaline and can neutralize contaminants or grease made of fatty acids and change them into water-soluble ones. Therefore, when the baking soda and water are used, contaminants or grease can be cleanly removed without using a detergent that causes environmental pollution. In addition, the baking soda may be in powder, granule, liquid, etc. When the baking soda in powder, granule, or liquid form is used with water, contaminants adhered to the polling and the demister can be washed by the spraying force. In addition, after washing, the polling and the demister can be restored to their original color and recycled.

또한, 약알칼리성인 상기 베이킹소다는 산화를 지연시키는 특성이 있다. 따라서 세척수만 사용하는 경우보다 베이킹소다가 포함된 세척수를 사용하는 경우에 는 세척대상물, 즉 상기 폴링 및 상기 디미스터의 산화 발생 시간을 20배 이상 지연시킬 수 있다. 따라서 상기 폴링 및 상기 디미스터의 수명을 연장시킬 수 있다. 따라서 상기 베이킹소다는 상기 물 100 부피비에 대하여 0.03 ~ 0.05 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 베이킹소다의 부피비가 0.03 미만인 경우에는 세정효과가 발휘되지 못하여 상기 폴링 및 상기 디미스터에 오염물질이 남아있을 수 있으며, 005 초과인 경우에는 성능이 제대로 발휘되지 못할 수도 있다.In addition, the baking soda, which is slightly alkaline, has a characteristic of delaying oxidation. Therefore, when using the washing water containing baking soda, the oxidation occurrence time of the objects to be washed, i.e., the polling and the demister, can be delayed by more than 20 times compared to when using only the washing water. Therefore, the life of the polling and the demister can be extended. Therefore, the baking soda may be included in the washing mixture (W) in a volume ratio of 0.03 to 0.05 with respect to 100 volume ratio of the water. When the volume ratio of the baking soda is less than 0.03, the cleaning effect may not be exerted and contaminants may remain in the polling and the demister, and when it exceeds 0.05, the performance may not be properly exerted.

상기 과탄산나트륨(sodium percarbonate)은 세척용 혼합물에 포함될 수 있다. 상기 과탄산나트륨은 과탄산소듐 또는 과탄산소다로 호칭될 수 있다. 상기 과탄산나트륨은 흡습성의 무색 결정이고, 물에 녹는 고체이다. 상기 과탄산나트륨은 탄산소듐과 과산화수소의 부가생성물이다. 즉, 상기 과탄산나트륨을 물에 녹이면 탄산소듐과 과산화수소로 분해되고, 이 과산화수소에서 산소원자 하나만 있는 발생기산소가 발생한다. 상기 발생기 산소로 인해 표백제로 사용될 수 있다. 하기 화학식은 과탄산나트륨의 물에 의한 분해이다.The above sodium percarbonate may be included in the cleaning mixture. The sodium percarbonate may be referred to as sodium percarbonate or sodium percarbonate. The sodium percarbonate is a colorless, hygroscopic crystal and a solid that dissolves in water. The sodium percarbonate is an adduct of sodium carbonate and hydrogen peroxide. That is, when the sodium percarbonate is dissolved in water, it decomposes into sodium carbonate and hydrogen peroxide, and nascent oxygen, which has only one oxygen atom, is generated from the hydrogen peroxide. The nascent oxygen allows it to be used as a bleaching agent. The following chemical formula is the decomposition of sodium percarbonate by water.

< 화학식 > - 과탄산나트륨의 물에 의한 분해< Chemical Formula > - Decomposition of Sodium Percarbonate in Water

2 Na2CO3 · 3 H2O2 → 2 Na2CO3 + 3 H2O2 2 Na 2 CO 3 · 3 H 2 O 2 → 2 Na 2 CO 3 + 3 H 2 O 2

따라서 상기 과탄산나트륨은 상기 물 100 부피비에 대하여 0.03 ~ 0.05 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 과탄산나트륨의 부피비가 0.03 미만인 경우에는 표백성능이 저하되어 상기 폴링 및 상기 디미스터의 표백이 제대로 이루어지지 않을 수 있으며, 0.05 초과인 경우에는 표백 성능이 너무 과도해져 상기 폴링 및 상기 디미스터의 수명이 짧아질 우려가 있을 수 있다.Therefore, the sodium percarbonate may be included in the washing mixture (W) in a volume ratio of 0.03 to 0.05 with respect to 100 volume ratio of the water. When the volume ratio of the sodium percarbonate is less than 0.03, the bleaching performance may be reduced so that the bleaching of the polling and the demister may not be performed properly, and when it exceeds 0.05, the bleaching performance may be too excessive, which may shorten the lifespan of the polling and the demister.

또한, 상기 베이킹소다와 상기 과탄산나트륨은 상기 물에 대해 상호 동일한 부피비로 혼합되는 것이 바람직할 수 있다. 또 다른 실시예로서, 상기 베이킹소다와 상기 과탄산나트륨은 상기 물에 대해 다른 부피비로 혼합될 수 있다.In addition, it may be preferable that the baking soda and the sodium percarbonate are mixed in the same volume ratio with respect to the water. As another example, the baking soda and the sodium percarbonate may be mixed in different volume ratios with respect to the water.

상기 올레인산은 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 올레인산은 유산으로 호칭될 수 있다. 상기 올레인산은 대부분 동식물유 속에 함유되어 있고, 올리브유, 동백유 등의 유지류의 주성분이다. 상기 올레인산은 불포화지방산으로서 무색, 무취의 액체이다. 상기 올레인산은 화장품, 의약품 첨가제, 섬유유연제 등으로 쓰일 수 있다.The above oleic acid may be included in the washing mixture (W). The above oleic acid may be referred to as lactic acid. The above oleic acid is contained in most animal and vegetable oils and is a main component of oils such as olive oil and camellia oil. The above oleic acid is an unsaturated fatty acid and is a colorless and odorless liquid. The above oleic acid may be used as a cosmetic, pharmaceutical additive, fabric softener, etc.

따라서 상기 올레인산은 상기 물 100 부피비에 대하여 0.04 ~ 0..06 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 올레인산의 부피비가 0.04 미만인 경우에는 유화제의 성능이 미흡해질 우려가 있을 수 있으며, 0.06 초과인 경우에는 기능이 제대로 발휘되지 않을 우려가 있다.Therefore, the oleic acid may be included in the washing mixture (W) in a volume ratio of 0.04 to 0..06 with respect to 100 volume ratio of the water. If the volume ratio of the oleic acid is less than 0.04, there is a concern that the performance of the emulsifier may be insufficient, and if it exceeds 0.06, there is a concern that the function may not be properly performed.

상기 소이콜로이드는 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 소이콜로이드는 합성세제가 전혀 사용되지 않은 친환경 계면활성제이다. 상기 소이콜로이드는 계면활성제로서 세정기능이외에 아토피, 알레르기 등 피부질환 완화에 도움을 줄 수 있다. 또한, 상기 소이콜로이드는 항균, 항곰팡이, 소취 등의 효과가 있다. 본 발명에서는 상기 폴링 및 상기 디미스터 등의 항균, 항곰팡이 효과로 작용할 수 있다.The soy colloid may be included in the cleaning mixture (W). The soy colloid is an environmentally friendly surfactant that does not use any synthetic detergent at all. The soy colloid, as a surfactant, can help alleviate skin diseases such as atopy and allergies in addition to its cleansing function. In addition, the soy colloid has antibacterial, antifungal, and deodorizing effects. In the present invention, the polling and the demister can act as antibacterial and antifungal effects.

따라서 상기 소이콜로이드는 상기 물 100 부피비에 대하여 0.12 ~ 0.2 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 소이콜로이드의 부피비가 0.12 미만인 경우에는 세정기능, 항균, 항곰팡이 등이 저하될 수 있으나, 0.2 초과인 경우에는 원하는 기능이 제대로 발휘되지 않을 수 있다.Therefore, the soy colloid may be included in the cleaning mixture (W) at a volume ratio of 0.12 to 0.2 with respect to 100 volume ratio of the water. If the volume ratio of the soy colloid is less than 0.12, the cleaning function, antibacterial properties, antifungal properties, etc. may be reduced, while if it exceeds 0.2, the desired function may not be properly exhibited.

상기 알킬벤젠설포네이트는 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 알킬벤젠설포네이트는 음이온 계면활성제의 일종이다. 또한 상기 알킬벤젠설포네이트는 중성세제로서 많이 사용될 수 있다.The above alkylbenzene sulfonate may be included in the detergent mixture (W). The above alkylbenzene sulfonate is a type of anionic surfactant. In addition, the above alkylbenzene sulfonate may be widely used as a neutral detergent.

따라서 상기 알킬벤젠설포네이트는 상기 물 100 부피비에 대하여 0.01 ~ 0.02 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 알킬벤젠설포네이트의 부피비가 0.01 미만인 경우에는 세정기능이 저하될 수 있으나, 0.02 초과인 경우에는 원하는 기능이 제대로 발휘되지 않을 수 있다.Therefore, the alkylbenzene sulfonate may be included in the cleaning mixture (W) in a volume ratio of 0.01 to 0.02 with respect to 100 volume ratio of the water. When the volume ratio of the alkylbenzene sulfonate is less than 0.01, the cleaning function may be reduced, while when it exceeds 0.02, the desired function may not be properly exhibited.

상기 카모마일 레쿠티타 추출물은 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 카모마일 레쿠티타는 영국이 원산지로서 전세계적으로 재배되는 허브 중 하나이다. 상기 카모마일 레쿠티타는 한해살이풀로 잔탈이 없으며, 줄기는 곧추섰으며 둥글고겹가지가 많다.The above Chamomile Recutita extract may be included in the washing mixture (W). The above Chamomile Recutita is one of the herbs that is native to England and is cultivated worldwide. The above Chamomile Recutita is an annual plant with no hairs, an upright stem, and many round, compound branches.

또한, 상기 카모마일 레쿠티타는 베타카로틴, 나트륨, 니아신, 단백질, 당질, 아연, 비타민 A, 비타민 B1, 비타민 B2, 비타민 B6 비타민 C 및 비타민 E, 식이섬유, 화분, 지질, 아연, 엽산, 인, 철분, 칼륨, 칼슘 등을 함유하고 있다.In addition, the above chamomile recutita contains beta-carotene, sodium, niacin, protein, carbohydrates, zinc, vitamin A, vitamin B1, vitamin B2, vitamin B6, vitamin C and vitamin E, dietary fiber, pollen, lipids, zinc, folic acid, phosphorus, iron, potassium, calcium, etc.

또한, 상기 카모마일 레쿠티타는 다양한 효능으로 인해 추출물, 파우더, 에센셜 오일 등 다양한 형태와 용도로 쓰이고 있다. 특히 상기 카모마일 레쿠티타는 풍부한 비타민 C와 항산화 성분인 테르펜을 함유하고 있어 자유 라디칼을 제거할 수 있다. 이로 인해 상기 카모마일 레쿠티타는 피부진정 및 피부보습으로 건강한 피부 유지, 항염 및 항균, 활성산소 억제로 노화방지 등의 효과가 있다.In addition, the above chamomile recutita is used in various forms and for various purposes such as extracts, powders, and essential oils due to its various effects. In particular, the above chamomile recutita contains abundant vitamin C and terpene, an antioxidant, so it can remove free radicals. As a result, the above chamomile recutita has the effects of maintaining healthy skin through skin soothing and moisturizing, anti-inflammation and anti-bacterial, and inhibiting active oxygen to prevent aging.

세척용 혼합물(W)에 포함된 상기 카모마일 레쿠티나 추출물은 상기 카모마일 레쿠티타를 세척하고, 카모마일 레쿠티타 100g당 추출용매인 물, 에탄올, 메탄올을 10배씩 가하여 60℃로 환류냉각관을 부착한 추출장치로 3시간씩 3회 반복하여 추출한 후, Whatman No 1(싸이티바(Cytiva)사 제품) 로 여과하였다. 여과된 상기 추출액을 상온에서 3일동안 숙성시켜 카모마일 레쿠티나 추출물을 제조하였다. 이러한 상기 카모마일 레쿠티타 추출물을 세척용 혼합물(W)에 첨가하여, 작업시 작업자의 피부보호 뿐만 아니라, 상기 폴링 및 상기 디미스터의 항균효과를 상승시킬 수 있다.The chamomile recutina extract included in the washing mixture (W) is prepared by washing the chamomile recutita, adding 10 times each of water, ethanol, and methanol as extraction solvents per 100 g of chamomile recutita, extracting the mixture three times for 3 hours each using an extraction device equipped with a reflux cooling tube at 60°C, and then filtering with Whatman No. 1 (product of Cytiva). The filtered extract was aged at room temperature for 3 days to prepare the chamomile recutina extract. By adding the chamomile recutita extract to the washing mixture (W), not only the worker's skin protection during work can be enhanced, but also the antibacterial effect of the polling and the demister can be increased.

따라서 상기 카모마일 레쿠티나 추출물은 상기 물 100 부피비에 대하여 0.015 ~ 0.025 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 카모마일 레쿠티타 추출물의 부피비가 0.015 미만인 경우에는 작업자의 피부보호, 항균 효과에 곤란할 수 있으며, 0.025 초과인 경우에는 다른 성분 함량 감소로 세척용 혼합물(W)의 세정효과를 저하시킬 수 있다.Therefore, the chamomile recutina extract may be included in the cleaning mixture (W) at a volume ratio of 0.015 to 0.025 with respect to 100 volume ratio of the water. If the volume ratio of the chamomile recutina extract is less than 0.015, it may be difficult to protect the skin of workers and have an antibacterial effect, and if it exceeds 0.025, the cleaning effect of the cleaning mixture (W) may be reduced due to a decrease in the content of other ingredients.

상기 살비아 오피시날리지 추출물은 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 살비아 오피시날리지(SALVIA OFFICINALIS)는 세이지(Sage)라고 불리며 꿀풀과에 속한 상록 관목이다. 상기 세이지는 ‘건강하다’, ‘치료하다’등의 뜻에서 유래된다. 상기 살비아 오피시날리지의 원산지는 지중해 연안과 유럽 남부로서, 열대 또는 온대 지역에 널리 분포하고 있다.The above Salvia officinalis extract may be included in the washing mixture (W). The above Salvia officinalis is called sage and is an evergreen shrub belonging to the Lamiaceae family. The above sage is derived from the meaning of ‘healthy’ and ‘treating’. The above Salvia officinalis is native to the Mediterranean coast and southern Europe, and is widely distributed in tropical or temperate regions.

또한, 상기 살비아 오피시날리지는 주로 페놀, 테르페노이드, 플라보노이드 성분 등을 함유하고 있다. 상기 살비아 오피시날리지의 꽃, 잎 및 뿌리는 항균효과가 있다. 즉, 연구 결과에 따르면 상기 살비아 오피시날리지는 황색포도상구균, 용혈성 연쇄 구균 및 코리네박테리아 대해 유의한 저해 효과를 보인다. 또한 상기 살비아 오피시날리지의 오일은 황색포도상구균, 폐렴구균, Streptococcus albus 및 살모넬라 균주의 항생제인 에리트로마이신, 테트라사이클린, 클로람페니콜, 겐타마이신, 카나마이신, 스트렙토마이신 및 폴리마이신에 대한 감수성 등을 증가시킨다. 또한, 상기 살비아 오피시날리지의 올레아놀산은 HIV-1 역전사효소에 대한 억제효과가 있다. 또한 상기 살비아 오피시날리지의 헥산 및 에틸아세테이트 추출물은 염증성 사이토카인의 활성을 억제하여 항염증 효과가 있다. 또한 리포다당류로 자극된 RAW2647 세포에서 헥산과 에틸아세테이트 추출물은 TNF-α 단백질과 mRNA 발현, 인터루킨-6의 합성, 아질산염 축적 및 유도성 질소 산화물 합성 효소 mRNA 발현을 저해한다. 또한 상기 살비아 오피시날리지는 항산화, 신경 안정제등의 효과가 있다.In addition, the Salvia officinalis mainly contains phenol, terpenoid, flavonoid components, etc. The flowers, leaves and roots of the Salvia officinalis have an antibacterial effect. That is, according to the research results, the Salvia officinalis shows a significant inhibitory effect on Staphylococcus aureus, hemolytic streptococcus and corynebacteria. In addition, the oil of the Salvia officinalis increases the susceptibility of Staphylococcus aureus, Streptococcus albus and Salmonella strains to antibiotics such as erythromycin, tetracycline, chloramphenicol, gentamicin, kanamycin, streptomycin and polymyxin. In addition, the oleanolic acid of the Salvia officinalis has an inhibitory effect on HIV-1 reverse transcriptase. In addition, the hexane and ethyl acetate extracts of the above Salvia officinalis have anti-inflammatory effects by inhibiting the activity of inflammatory cytokines. In addition, the hexane and ethyl acetate extracts inhibit TNF-α protein and mRNA expression, interleukin-6 synthesis, nitrite accumulation, and inducible nitric oxide synthase mRNA expression in RAW2647 cells stimulated with lipopolysaccharide. In addition, the above Salvia officinalis has antioxidant and tranquilizing effects.

세척용 혼합물(W)에 포함된 상기 살비아 오피시날리지 추출물은 상기 살비아 오피시날리지를 세척하고, 살비아 오피시날리지 100g당 추출용매인 물, 에탄올, 메탄올을 10배씩 가하여 60℃로 환류냉각관을 부착한 추출장치로 3시간씩 3회 반복하여 추출한 후, Whatman No 1(싸이티바(Cytiva)사 제품) 로 여과하였다. 여과된 상기 추출액을 상온에서 3일동안 숙성시켜 살비아 오피시날리지 추출물을 제조하였다. 이러한 상기 살비아 오피시날리지 추출물을 세척용 혼합물(W)에 첨가하여, 작업시 작업자의 피부보호 뿐만 아니라, 상기 폴링 및 상기 디미스터의 항균효과를 상승시킬수 있다.The Salvia officinalis extract included in the washing mixture (W) is prepared by washing the Salvia officinalis, adding 10 times each of water, ethanol, and methanol as extraction solvents per 100 g of Salvia officinalis, extracting the mixture at 60°C with an extraction device equipped with a reflux cooling tube for 3 hours each, and then filtering the mixture with Whatman No. 1 (product of Cytiva). The filtered extract was aged at room temperature for 3 days to prepare the Salvia officinalis extract. By adding the Salvia officinalis extract to the washing mixture (W), not only the worker's skin can be protected during work, but also the antibacterial effect of the polling and the demister can be increased.

따라서 상기 살비아 오피시날리지 추출물은 상기 물 100 부피비에 대하여 0.015 ~ 0.025 부피비로 상기 세척용 혼합물(W)에 포함될 수 있다. 상기 살비아 오피시날리지 추출물의 부피비가 0.015 미만인 경우에는 작업자의 피부보호, 항균 효과에 곤란할 수 있으며, 0.025 초과인 경우에는 세척용 혼합물(W)의 세정효과를 저하시킬 수 있다.Therefore, the Salvia officinalis extract may be included in the cleaning mixture (W) at a volume ratio of 0.015 to 0.025 with respect to 100 volume ratio of the water. If the volume ratio of the Salvia officinalis extract is less than 0.015, it may be difficult to protect the skin of workers and have an antibacterial effect, and if it exceeds 0.025, it may reduce the cleaning effect of the cleaning mixture (W).

<작동 방법><How it works>

이하에서는 상술된 본 발명의 실시 예에 따른 습식 스크러버의 가스정화모드 및 세척모드에서의 작동에 대해 도 4와 도 5를 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, the operation of the wet scrubber in the gas purification mode and the cleaning mode according to the embodiment of the present invention described above will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

<가스정화모드><Gas purification mode>

가스정화모드는 배기가스를 정화하여 깨끗한 가스를 배출하도록 작동될 수 있다. The gas purification mode can be operated to purify the exhaust gas and discharge clean gas.

도 4에 도시된 바와 같이, 가스정화모드는 먼저, 하우징(110) 내부에 배기가스가 공급된다(S10). 오염물질이 포함된 배기가스가 가스공급라인(120)을 통해 하우징(110)의 하측 내부로 공급될 수 있다. 이렇게 공급된 배기가스는 하우징(110)의 하부에서 상부로 상승될 수 있다. As shown in Fig. 4, in the gas purification mode, first, exhaust gas is supplied into the housing (110) (S10). Exhaust gas containing pollutants can be supplied into the lower interior of the housing (110) through the gas supply line (120). The exhaust gas supplied in this way can rise from the lower part to the upper part of the housing (110).

다음으로, 세척용 혼합물(W)이 분무된다(S11). 하부노즐(160)에서 세척용 혼합물(W)이 분무되고, 이를 통해 배기가스가 1차 정화될 수 있다. 이때, 배기가스에 포함된 입자가 다소 굵은 오염물질이 세척용 혼합물(W)에 붙어 가스에서 탈리되어 낙하될 수 있다. 또, 중간노즐(162)에서도 세척용 혼합물(W)이 분무되어 배기가스가 재차 정화될 수 있다. 이 공정(S11)은 필요에 따라 생략될 수 있다. Next, the cleaning mixture (W) is sprayed (S11). The cleaning mixture (W) is sprayed from the lower nozzle (160), and through this, the exhaust gas can be purified primarily. At this time, rather coarse-grained contaminants contained in the exhaust gas can be attached to the cleaning mixture (W) and detached from the gas and dropped. In addition, the cleaning mixture (W) is sprayed from the middle nozzle (162), and the exhaust gas can be purified again. This process (S11) can be omitted as needed.

다음으로, 배기가스가 폴링(140) 및 디미스터(150)를 통과하면서 정화된다(S12). 굵은 입자의 오염물질이 제거된 가스가 폴링(140)과 디미스터(150)를 순차적으로 통과하게 될 수 있다. 이때, 상부노즐(161)이 디미스터(150) 위에 설치된 경우, 상부노즐(161)에서 가스 정화를 위한 세척용 혼합물(W)이 분무될 수 있다. Next, the exhaust gas is purified while passing through the polling (140) and the demister (150) (S12). The gas from which coarse particle contaminants have been removed may sequentially pass through the polling (140) and the demister (150). At this time, if the upper nozzle (161) is installed above the demister (150), a cleaning mixture (W) for gas purification may be sprayed from the upper nozzle (161).

끝으로, 정화된 가스가 배출된다(S13). 이렇게 폴링(140)과 디미스터(150)를 통과하면서 오염물질이 모두 제거되어 정화된 가스가 가스배수라인(130)을 통해 외부로 배출될 수 있다. Finally, the purified gas is discharged (S13). In this way, as the gas passes through the polling (140) and the demister (150), all contaminants are removed, and the purified gas can be discharged to the outside through the gas discharge line (130).

그리고 하우징(110) 하부에 낙하되어 모인 세척용 혼합물(W)은 하부수위센서(S)와 세척용 혼합물 배수라인(190)을 통해 수위가 일정하게 유지될 수 있다. 물론, 세척용 혼합물(W)이 모이지 않고 낙하 즉시 배출될 수도 있다. And the washing mixture (W) that falls and collects at the bottom of the housing (110) can be kept at a constant water level through the lower water level sensor (S) and the washing mixture drain line (190). Of course, the washing mixture (W) may not collect and may be discharged immediately upon falling.

<세척모드><Washing Mode>

세척모드는 가스를 정화하는 동안 오염된 폴링(140)과 디미스터(150)를 세척하도록 작동될 수 있다. 도 4와 도 5에 도시된 바와 같이, 세척모드는 정화모드로 작동하는 동안 오염된 폴링(140)과 디미스터(150)의 세척이 필요한 경우 선택될 수 있다. 또, 세척모드는 세척용 혼합물(W)을 분사하여 폴링(140) 또는 디미스터(150)를 세척하고, 세척용 혼합물(W)을 회수 및 정화하여 재사용한 후 배출하도록 구성된 고압분사세척과, 세척 공정에서 폴링(140) 또는 디미스터(150)가 세척용 혼합물(W)에 잠기게 하여 세척하는 폭기세척을 포함할 수 있다. 고압분사세척과 폭기세척을 단독 또는 변행하여 진행할 수 있고, 이하에서는 병행하는 경우에 대해 설명하기로 한다. The cleaning mode may be operated to clean the contaminated polling (140) and demister (150) while purifying the gas. As illustrated in FIGS. 4 and 5, the cleaning mode may be selected when cleaning of the contaminated polling (140) and demister (150) is required while operating in the purification mode. In addition, the cleaning mode may include a high-pressure spray cleaning configured to spray a cleaning mixture (W) to clean the polling (140) or demister (150), recover and purify the cleaning mixture (W), reuse it, and then discharge it, and an aeration cleaning in which the polling (140) or demister (150) is immersed in the cleaning mixture (W) during the cleaning process to clean it. The high-pressure spray cleaning and the aeration cleaning may be performed alone or in combination, and a description will be given below of a case where they are performed in parallel.

세척모드는 도 5에서 보듯이 먼저, 하부노즐(160)을 통해 세척용 혼합물(W)을 고압으로 상방 분사하여 폴링(140)을 세척할 수 있다(S20). 이로 인해 폴링(140) 내의 개별품이 세척용 혼합물(W)에 의해 세척될 수 있다. As shown in Fig. 5, the washing mode first sprays the washing mixture (W) upward at high pressure through the lower nozzle (160) to wash the polling (140) (S20). As a result, individual items within the polling (140) can be washed by the washing mixture (W).

추가로, 중간노즐(162)과 상부노즐(161)이 설치되고, 이 중간노즐(162)과 상부노즐(161)에서도 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 폴링(140)과 디미스터(150)가 세척될 수 있다. 이렇게 분사된 세척용 혼합물(W)은 오염물과 함께 하우징(110)의 하부로 모이게 되고, 후술된 순환 및 정화공정(S23)이 수행될 수 있다. 이와 달리 오염물과 함께 하우징(110)의 하부로 떨어진 세척용 혼합물(W)이 그대로 배수될 수도 있다. In addition, a middle nozzle (162) and an upper nozzle (161) are installed, and a cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure from the middle nozzle (162) and the upper nozzle (161) so that the polling (140) and the demister (150) can be cleaned. The cleaning mixture (W) sprayed in this way is collected at the bottom of the housing (110) together with contaminants, and the circulation and purification process (S23) described below can be performed. Alternatively, the cleaning mixture (W) that has fallen to the bottom of the housing (110) together with contaminants can be drained as is.

여기서, 이 세척공정(S20)은 폴링(140)만 세척되거나, 디미스터(150)도 함께 세척용 혼합물(W)로 세척되고, 세척용 혼합물(W)이 배수되도록 짧은 시간에 종료될 수도 있다. Here, the washing process (S20) may be completed in a short time so that only the polling (140) is washed, or the demister (150) is also washed with the washing mixture (W), and the washing mixture (W) is drained.

또한, 세척공정(S20)에서는 폴링(140)의 내부에 설치된 회전축(251)과 이 회전축(251)에 부착되어 측면상 수직으로 회전하는 다수의 교반날개(252) 또는, 회전평판(253)과 이 회전평판(253)의 상하면에 돌출되어 수평으로 회전하는 다수의 교반돌기(254)에 의해 폴링(140)의 각 개별품들이 교반될 수 있다. 따라서, 개별품들이 교반되면서 세척되기 때문에 세척효율이 현저히 향상될 수 있다. In addition, in the washing process (S20), individual parts of the poling (140) can be stirred by a rotating shaft (251) installed inside the poling (140) and a plurality of stirring blades (252) attached to the rotating shaft (251) and rotating vertically laterally, or a rotating plate (253) and a plurality of stirring protrusions (254) protruding from the upper and lower surfaces of the rotating plate (253) and rotating horizontally. Accordingly, since the individual parts are washed while being stirred, the washing efficiency can be significantly improved.

그리고 하부노즐(160)로 공급되는 세척용 혼합물(W)이 가스공급라인(120)을 통해 유동하는 고온의 배기가스와 근접하게 배치되어 열교환되거나, 히터(171)에 의해 가열되어 승온됨으로써, 세척 효율이 현저히 향상될 수 있다. And, since the washing mixture (W) supplied through the lower nozzle (160) is placed in close proximity to the high-temperature exhaust gas flowing through the gas supply line (120) and exchanges heat with it, or is heated by the heater (171) and increases in temperature, the washing efficiency can be significantly improved.

다음으로, 하우징(110) 내부에 세척용 혼합물(W)을 채운다(S21). 위의 공정(S20)이 진행되는 동안 세척용 혼합물(W)이 집수되고, 집수되는 동안 추가로 공급되거나, 위 공정(S20)에 사용된 세척용 혼합물(W)이 완전 배수된 다음 새로운 세척용 혼합물(W)이 집수되어 하우징(110)에 채워질 수 있다. 이 세척용 혼합물(W)은 폴링(140) 또는 디미스터(150)가 잠기도록 채워질 수 있고, 그 수위는 상부수위센서(210)에 의해 감지되며, 설정 수위에 도달하면 공급이 중단될 수 있다. 이때, 하우징(110)은 세척용 혼합물(W)의 수압을 견디면서 밀폐되도록 제작될 수 있다. Next, the housing (110) is filled with a cleaning mixture (W) (S21). While the above process (S20) is in progress, the cleaning mixture (W) is collected, and while being collected, it may be additionally supplied, or the cleaning mixture (W) used in the above process (S20) may be completely drained, and then a new cleaning mixture (W) may be collected and filled into the housing (110). The cleaning mixture (W) may be filled so that the polling (140) or the demister (150) is submerged, and the water level thereof may be detected by the upper water level sensor (210), and when the set water level is reached, the supply may be stopped. At this time, the housing (110) may be manufactured to be sealed while withstanding the water pressure of the cleaning mixture (W).

다음으로, 세척용 혼합물(W)에 폭기 또는 와류를 발생시켜 폴링(140)과 디미스터(150)를 재차 세척한다(S22). 세척용 혼합물(W)이 하우징(110)에 채워지면 하부노즐(160), 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)에서 세척용 혼합물(W)이 고압의 물줄기 형태로 강하게 분사되어 와류가 발생되거나, 외부 공기가 공급되어 폭기가 발생될 수 있다. 다른 예로, 하우징(110)의 바닥에 폭기기(240)가 설치된 경우, 폭기기(240)에서 폭기가 발생되고, 하부노즐(160), 중간노즐(162)과 상부노즐161)에서 강한 고압의 물줄기만 분사되어 와류 또는 소용돌이가 발생될 수 있다. 즉, 폴링(140)의 하측과 상측에 위치된 하부노즐(160)과 중간노즐(162)에서 고압으로 분출된 세척용 혼합물(W)에 의해 폴링(140)이 세척될 수 있다. 이때, 세척공정(S20)에서 진행되고 있는 교반기(250)에 의해 폴링(140)의 각 개별품의 교반작업은 계속 진행될 수 있다. Next, the cleaning mixture (W) is aerated or vortexed to wash the polling (140) and the demister (150) again (S22). When the cleaning mixture (W) is filled in the housing (110), the cleaning mixture (W) may be strongly sprayed in the form of a high-pressure water stream from the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161) to generate a vortex, or external air may be supplied to generate aeration. As another example, when an aerator (240) is installed at the bottom of the housing (110), aeration may be generated from the aerator (240), and only a high-pressure water stream may be sprayed from the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), and the upper nozzle (161) to generate a vortex or whirlpool. That is, the polling (140) can be washed by the washing mixture (W) sprayed at high pressure from the lower nozzle (160) and the middle nozzle (162) located at the lower and upper sides of the polling (140). At this time, the stirring operation of each individual piece of the polling (140) can be continuously performed by the stirrer (250) that is being performed in the washing process (S20).

또한, 디미스터(150)의 상측에 위치되거나 디미스터(161)에 측면으로 삽입된 상부노즐(161)에서 고압으로 분출된 세척용 혼합물(W)에 의해 디미스터(150)가 세척될 수 있다. Additionally, the demister (150) can be cleaned by a cleaning mixture (W) sprayed at high pressure from an upper nozzle (161) located on the upper side of the demister (150) or inserted laterally into the demister (161).

이렇게 일정시간 동안 하부노즐(160), 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)을 통해 세척용 혼합물(W)이 분사되거나 폭기와 와류가 발생되어 폴링(140)과 디미스터(150)가 세척될 수 있다. 이때, 폴링(140)과 디미스터(150)에서 탈리된 오염물질이 폭기와 와류에 의해 세척용 혼합물(W)의 수면으로 떠오르거나 바닥에 가라앉을 수 있다. 그리고 폭기기(240) 또는 교반장치(260)에 의해 오염물질이 부유되고, 회수라인()으로 원활히 회수되어 필터(230)에 의해 정화될 수 있다. In this way, the cleaning mixture (W) is sprayed through the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161) for a certain period of time, or aeration and vortex are generated so that the polling (140) and the demister (150) can be cleaned. At this time, the contaminants detached from the polling (140) and the demister (150) can float to the surface of the cleaning mixture (W) or sink to the bottom due to the aeration and vortex. Then, the contaminants are suspended by the aerator (240) or the stirring device (260), and can be smoothly recovered through the recovery line () and purified by the filter (230).

다음으로, 세척용 혼합물(W)이 순환 및 정화된다(S23). 이 순환 및 정화 공정(S23)은 상기된 세척 공정(S20) 이후에 실행거나, 공정(S21)과 공정(S22) 이후에 실행될 수 있다. Next, the washing mixture (W) is circulated and purified (S23). This circulation and purification process (S23) may be performed after the washing process (S20) described above, or after process (S21) and process (S22).

이 공정(S23)은 회수라인(220)이 개방되고, 오염물질과 함께 세척용 혼합물(W)이 회수라인(220)을 통해 회수될 수 있다. 회수된 세척용 혼합물(W)은 필터(230)를 통과하면서 오염물질이 걸러지고, 정화된 세척용 혼합물(W)이 노즐라인(180)을 통해 하부노즐(160), 중간노즐(162) 및/또는 상부노즐(161)로 공급될 수 있다. 여기서, 세척용 혼합물(W)에 포함된 오염물질이 부유되도록 하기 위해 하우징(110) 내부에 설치된 교반장치(260)에 의해 세척용 혼합물(W)이 교반될 수 있다. 이 교반을 통해 바닥에 가라앉은 오염물질이 부유되어 회수라인(220)으로 유입될 수 있다. In this process (S23), the recovery line (220) is opened, and the cleaning mixture (W) together with contaminants can be recovered through the recovery line (220). The recovered cleaning mixture (W) passes through the filter (230) to filter out contaminants, and the purified cleaning mixture (W) can be supplied to the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), and/or the upper nozzle (161) through the nozzle line (180). Here, the cleaning mixture (W) can be stirred by a stirring device (260) installed inside the housing (110) so that the contaminants included in the cleaning mixture (W) float. Through this stirring, the contaminants that have settled on the bottom can float and flow into the recovery line (220).

끝으로, 세척용 혼합물(W)이 배출된다(S24). 이렇게 세척용 혼합물(W)에 의해 폴링(140)과 디미스터(150)의 세척이 끝나면, 세척용 혼합물(W)의 순환 및 정화가 중지되고, 하부노즐(160), 중간노즐(162)과 상부노즐(161)에서의 세척용 혼합물(W)의 분사가 중지될 수 있다. 그리고 하우징(110)에 채워진 세척용 혼합물(W)이 세척용 혼합물 배수라인(190)을 통해 하부수위센서(S) 아래 또는 완전히 배출될 수 있다. 이때 배출되는 세척용 혼합물(W)은 별도로 정화하여 재사용할 수도 있다. Finally, the cleaning mixture (W) is discharged (S24). When the cleaning of the polling (140) and the demister (150) is completed by the cleaning mixture (W), the circulation and purification of the cleaning mixture (W) are stopped, and the spraying of the cleaning mixture (W) from the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), and the upper nozzle (161) can be stopped. Then, the cleaning mixture (W) filled in the housing (110) can be discharged below or completely through the cleaning mixture drain line (190) to the lower water level sensor (S). The cleaning mixture (W) discharged at this time can be purified separately and reused.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술한 실시 예들은 모든 면에 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허등록청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허등록청구범위의 의미 및 범위 그리고 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As described above, those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical idea or essential characteristics thereof. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the patent registration claims described below rather than the detailed description, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the patent registration claims and equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100:가스정화모듈
110:하우징 120:가스공급라인
130:가스배수라인 140:폴링
150:디미스터 160:하부노즐
161:상부노즐 162:중간노즐
170:세척용 혼합물 공급라인 171:히터
180:노즐라인
190:세척용 혼합물 배수라인.
200:세척모듈
210:상부수위센서 220:회수라인
230:필터 240:폭기기
250:교반기 251:회전축
252:교반날개 253:회전평판
254:교반돌기 260:교반장치.
P:펌프 S:하부수위센서
W:세척용 혼합물.
100:Gas purification module
110:Housing 120:Gas supply line
130: Gas drain line 140: Poling
150: Demister 160: Lower nozzle
161:Upper nozzle 162:Middle nozzle
170: Washing mixture supply line 171: Heater
180:Nozzle line
190: Washing mixture drain line.
200:Washing module
210: Upper water level sensor 220: Recovery line
230:Filter 240:Aerator
250: Stirrer 251: Rotating shaft
252: Stirrer blade 253: Rotating plate
254: Stirrer 260: Stirrer.
P: Pump S: Lower water level sensor
W: Cleaning mixture.

Claims (13)

하우징(110),
상기 하우징(110)의 내부에 배기가스를 공급하도록 설치된 가스공급라인(120);
상기 배기가스가 상승하면서 순차적으로 통과하도록 설치된 폴링(140)과 디미스터(150);
상기 폴링(140)과 디미스터(150)를 통과하여 정화된 가스가 배출되도록 설치된 가스배수라인(130);
상기 폴링(140)의 하측에 배치되고, 세척용 혼합물(W)을 분무 또는 분사하도록 설치된 하부노즐(160);
상기 하부노즐(160)에 세척용 혼합물(W)을 공급하도록 연결된 노즐라인(180);
상기 노즐라인(180)에 세척용 혼합물(W)을 공급하도록 설치된 세척용 혼합물 공급라인(170);
상기 하우징(110)에 집수된 세척용 혼합물(W)을 배출하도록 설치된 세척용 혼합물 배수라인(190);과
상기 세척용 혼합물 공급라인(170), 세척용 혼합물 배수라인(190)과 노즐라인(180)에 세척용 혼합물(W)을 공급하도록 설치된 적어도 1개의 펌프(P);를 포함하고,
가스정화모드에서는 가스공급라인(120)을 통해 배기가스가 하우징(110)에 공급되면, 폴링(140)과 디미스터(150)를 통과하여 정화된 후 가스배수라인(130)을 통해 배출되고,
세척모드에서는 가스공급라인(120)이 폐쇄되고, 세척용 혼합물(W)이 하부노즐(160)을 통해 고압으로 분사되어 폴링(140)이 세척되도록 이루어진 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
Housing (110),
A gas supply line (120) installed to supply exhaust gas to the interior of the above housing (110);
Polling (140) and demister (150) installed so that the above exhaust gas passes through sequentially as it rises;
A gas discharge line (130) installed to discharge purified gas passing through the above polling (140) and demister (150);
A lower nozzle (160) positioned on the lower side of the above-mentioned polling (140) and installed to spray or inject a cleaning mixture (W);
A nozzle line (180) connected to supply a washing mixture (W) to the lower nozzle (160);
A cleaning mixture supply line (170) installed to supply a cleaning mixture (W) to the above nozzle line (180);
A washing mixture drain line (190) installed to discharge the washing mixture (W) collected in the above housing (110); and
At least one pump (P) installed to supply the washing mixture (W) to the washing mixture supply line (170), the washing mixture drain line (190) and the nozzle line (180);
In the gas purification mode, exhaust gas is supplied to the housing (110) through the gas supply line (120), purified through the polling (140) and demister (150), and then discharged through the gas discharge line (130).
A wet scrubber having a cleaning mode in which the gas supply line (120) is closed and a cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure through a lower nozzle (160) to clean the polling (140).
청구항 1에서,
상기 가스정화모드에서는 하부노즐(160)에서 세척용 혼합물(W)이 분무되어 배기가스의 오염물질이 일부 정화되도록 이루어진 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 1,
A wet scrubber having a cleaning mode in which a cleaning mixture (W) is sprayed from a lower nozzle (160) in the above gas cleaning mode to partially clean pollutants in exhaust gas.
청구항 1에서,
상기 세척용 혼합물(W)을 가열하기 위해 상기 세척용 혼합물(W)과 고온의 배기가스 간의 열교환이 이루어지도록 세척용 혼합물 공급라인(170)과 가스공급라인(120)이 일정 길이만큼 근접 또는 연접하게 설치되거나, 상기 세척용 혼합물 공급라인(170) 또는 노즐라인(180)에 히터(171)가 설치되도록 이루어진 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 1,
A wet scrubber having a cleaning mode in which a cleaning mixture supply line (170) and a gas supply line (120) are installed in close proximity or in contact with each other by a certain length so that heat exchange occurs between the cleaning mixture (W) and high-temperature exhaust gas to heat the cleaning mixture (W), or a heater (171) is installed in the cleaning mixture supply line (170) or the nozzle line (180).
청구항 1에서,
상기 디미스터(150)의 상측 또는 하측에 배치되거나, 다단으로 제작된 디미스터(150)에 사이에 개재되어 배치되고, 세척용 혼합물(W)을 고압 분사하여 디미스터(150)를 세척하도록 설치된 상부노즐(160);
상기 폴링(140)의 상측에 배치되고, 세척용 혼합물(W)을 하방 분사하여 폴링(140)을 세척하도록 설치된 중간노즐(162);
상기 하우징(110)의 하부에 집수된 세척용 혼합물(W)을 회수하여 노즐라인(180)으로 공급하도록 설치된 회수라인(220);
상기 회수라인(220)에 설치되어 세척용 혼합물(W)을 정화하는 필터(230);와
상기 폴링(140) 내부에 삽입 설치되고, 개별품들을 교반하도록 설치된 교반기(250);와
상기 세척용 혼합물(W) 내의 오염물질이 부유되어 회수라인(220)에 유입되도록 세척용 혼합물(W)을 교반하는 교반장치(260); 중 적어도 하나를 더 포함하도록 이루어진 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 1,
An upper nozzle (160) installed to wash the demister (150) by spraying a cleaning mixture (W) at high pressure, which is arranged on the upper or lower side of the demister (150) or interposed between demisters (150) manufactured in multiple stages;
An intermediate nozzle (162) positioned above the above-mentioned polling (140) and installed to spray a cleaning mixture (W) downward to clean the polling (140);
A recovery line (220) installed to recover the washing mixture (W) collected at the bottom of the housing (110) and supply it to the nozzle line (180);
A filter (230) installed in the above recovery line (220) to purify the washing mixture (W); and
A stirrer (250) inserted and installed inside the above-mentioned polling (140) and installed to stir individual products; and
A wet scrubber having a washing mode further comprising at least one of: a stirring device (260) for stirring the washing mixture (W) so that contaminants in the washing mixture (W) float and flow into the recovery line (220);
청구항 4에서,
상기 교반기(250)는 외부 동력에 의해 제자리 회전하는 회전축(251)과, 이 회전축(251)에 부착되어 측면상 수직으로 회전하는 다수의 교반날개(252)를 구비하거나,
측면상 폴링(140)의 중간 부위에 배치되어 수평으로 회전하는 회전평판(253)과, 이 회전평판(253)의 상면 또는 하면에 부착된 다수의 교반돌기(254)를 구비하여 이루어진 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 4,
The above-mentioned stirrer (250) has a rotating shaft (251) that rotates in place by external power, and a plurality of stirring blades (252) that are attached to the rotating shaft (251) and rotate vertically laterally, or
A wet scrubber having a cleaning mode, comprising a rotating plate (253) that is positioned in the middle of a side-view polling (140) and rotates horizontally, and a plurality of stirring protrusions (254) attached to the upper or lower surface of the rotating plate (253).
청구항 4에서,
상기 세척모드에서 하우징(110) 내부에 세척용 혼합물(W)이 하우징(110) 내부의 폴링(140) 또는 디미스터(150)까지 잠기도록 채워지고,
상기 하부노즐(160)은 가스정화모드에서 세척용 혼합물(W)을 미스트 형태로 분무하거나, 세척모드에서 세척용 혼합물(W)을 고압으로 분사하여 와류를 발생시키거나 외부 공기가 공급되어 폭기를 발생시키도록 설치되는 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 4,
In the above washing mode, the washing mixture (W) is filled inside the housing (110) so that it is submerged up to the polling (140) or demister (150) inside the housing (110).
The above lower nozzle (160) is a wet scrubber equipped with a cleaning mode in which the cleaning mixture (W) is sprayed in the form of a mist in the gas purification mode, the cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure in the cleaning mode to generate a vortex, or external air is supplied to generate aeration.
청구항 6에서,
상기 세척용 혼합물(W)의 수위를 감지하도록 폴링(140)의 상측 또는, 디미스터(150) 상측에 설치된 상부수위센서(210);와
상기 세척용 혼합물(W)이 채워지면 폭기를 발생하도록 하우징(110)의 바닥에 설치된 폭기기(240); 중 적어도 하나가 더 설치되는 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 6,
An upper water level sensor (210) installed on the upper side of the polling (140) or on the upper side of the demister (150) to detect the water level of the above-mentioned washing mixture (W); and
A wet scrubber having a washing mode in which at least one of an aerator (240) installed on the bottom of the housing (110) to generate aeration when the above washing mixture (W) is filled is further installed.
청구항 1에서,
상기 세척용 혼합물(W)은 물, 패각분말, 베이킹소다와 과탄산나트륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 세척모드를 구비한 습식 스크러버.
In claim 1,
A wet scrubber having a washing mode, characterized in that the above washing mixture (W) contains water, shell powder, baking soda and sodium percarbonate.
스크러버에서,
배기가스를 정화하는 가스정화모드와, 가스를 정화하면서 오염된 폴링(140)과 디미스터(150)를 세척하는 세척모드가 일정 순번으로 작동하고,
상기 가스정화모드는,
가스공급라인(120)을 통해 가스가 하우징(110)의 하부로 공급되는 제10공정(S10);
상기 가스가 폴링(140)과 디미스터(150)를 차례로 통과하면서 정화되는 제12공정(S12);과
정화된 가스가 하우징(110) 외부로 배출되는 제13공정(S13);을 포함하고,
상기 세척모드는,
폴링(140)의 하측에 설치된 하부노즐(160)에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 상향 분사되어 폴링(140)이 세척되는 제20공정(S20);을 포함하는 것을 특징으로 하는 세척모드를 구비한 습식 스크러버의 세척 방법.
In the scrubber,
The gas purification mode, which purifies exhaust gas, and the cleaning mode, which cleans the polluted polling (140) and demister (150) while purifying gas, operate in a certain sequence.
The above gas purification mode is,
A 10th process (S10) in which gas is supplied to the lower part of the housing (110) through a gas supply line (120);
The 12th process (S12) in which the above gas is purified by passing through the polling (140) and the demister (150) in sequence;
Including the 13th process (S13) in which purified gas is discharged outside the housing (110);
The above washing mode is,
A method for cleaning a wet scrubber having a cleaning mode, characterized by including a 20th process (S20) in which a cleaning mixture (W) is sprayed upward at high pressure from a lower nozzle (160) installed on the lower side of a polling (140) to clean the polling (140).
청구항 9에서,
상제 제10공정(S10)과 제12공정(S12) 사이에 가스가 유입된 하우징(110)의 내부에서 폴링(140)의 하측에 설치된 하부노즐(160)을 통해 세척용 혼합물(W)을 미스트 형태로 분무하는 제11공정(S11);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세척모드를 구비한 습식 스크러버의 세척 방법.
In claim 9,
A method for cleaning a wet scrubber having a cleaning mode, characterized in that it further includes an eleventh process (S11) of spraying a cleaning mixture (W) in the form of mist through a lower nozzle (160) installed on the lower side of a poling (140) inside a housing (110) into which gas is introduced between the tenth process (S10) and the twelfth process (S12).
청구항 9에서,
상기 제20공정(S20) 이후에,
상기 하우징(110)에 수집된 세척용 혼합물(W)이 회수라인(220)을 통해 회수되면서 필터(230)에 의해 정화되어 하부노즐(160)로 공급되는 제23공정(S23);과
상기 폴링(140)과 디미스터(150)의 세척이 완료되면 세척용 혼합물(W)이 배출되는 제24공정(S24);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버의 세척 방법.
In claim 9,
After the above 20th process (S20),
The 23rd process (S23) in which the washing mixture (W) collected in the housing (110) is recovered through the recovery line (220) and purified by the filter (230) and supplied to the lower nozzle (160);
A method for cleaning a wet scrubber, characterized in that it further includes a 24th step (S24) in which a cleaning mixture (W) is discharged when the cleaning of the above polling (140) and demister (150) is completed.
청구항 11에서,
상기 세척모드는
상기 폴링(140)의 상측에 설치된 중간노즐(162)에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 폴링(140)이 세척되는 공정,
상기 디미스터(150)의 상측 또는 하측에 배치되거나, 다단으로 제작된 디미스터(150)의 사이에 개재된 상부노즐(161)에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 디미스터(150)가 세척되는 공정,
상기 폴링(140)의 내부에 회전축(251)과, 이 회전축(251)에서 돌출되어 측면상 수직으로 회전하는 다수의 교반날개(252) 또는, 측면상 수평으로 회전하는 회전평판(253)과, 이 회전평판(253)의 상면과 하면에 부착된 다수의 교반돌기(254)의 작동으로 개별품이 교반되는 공정,
상기 하부노즐(160)로 공급되는 세척용 혼합물(W)이 가스공급라인(120)을 유동하는 고온의 배기가스와 근접하여 열교환되거나, 히터(171)에 의해 가열되어 승온되는 공정과,
상기 세척용 혼합물(W)에 포함된 오염물질을 부유시켜 회수라인(220)으로 유입되도록 세척용 혼합물(W)을 교반하는 공정들 중 적어도 하나의 공정이 더 수행되는 것을 특징으로 하는 세척모드를 구비한 습식 스크러버의 세척 방법.
In claim 11,
The above washing mode is
A process in which a cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure from a middle nozzle (162) installed on the upper side of the above-mentioned polling (140) to clean the polling (140).
A process in which a cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure from an upper nozzle (161) positioned above or below the demister (150) or interposed between demisters (150) manufactured in multiple stages, thereby cleaning the demister (150).
A process in which individual products are stirred by the operation of a rotating shaft (251) inside the above-mentioned poling (140), a plurality of stirring blades (252) protruding from the rotating shaft (251) and rotating vertically laterally, or a rotating plate (253) rotating horizontally laterally, and a plurality of stirring protrusions (254) attached to the upper and lower surfaces of the rotating plate (253).
A process in which the washing mixture (W) supplied through the lower nozzle (160) is heated by being close to the high-temperature exhaust gas flowing through the gas supply line (120) and is heated by a heater (171),
A method for cleaning a wet scrubber having a cleaning mode, characterized in that at least one process among the processes of stirring the cleaning mixture (W) so that pollutants contained in the cleaning mixture (W) float and flow into the recovery line (220) is further performed.
청구항 11에서,
상기 세척모드는,
상기 제20공정(S20)과 제23공정(S23) 사이에,
상기 하우징(110) 내부에 세척용 혼합물(W)이 폴링(140) 또는 디미스터(150)가 잠기도록 채워지는 제21공정(S21);
상기 하우징(110)의 내부에 배치된 폭기기(240)에서 폭기가 발생되고, 폴링(140) 하측의 하부노즐(160) 또는 상측의 중간노즐(162) 또는, 디미스터(140)의 상측이나 하측 또는 다단의 디미스터(140) 사이에 개재된 상부노즐(161)에서 세척용 혼합물(W)이 고압으로 분사되어 와류가 발생되거나, 하부노즐(160) 또는 중간노즐(162) 또는 상부노즐(161)에서 공기가 분출되어 폭기가 발생되어 폴링(140)과 디미스터(150)가 세척되는 제22공정(S22);을 더 포함하고,
상기 제21공정(S21) 내지 제24공정(S24)은 제20공정(S20)이 포함되거나 배제된 채 수행되며,
상기 공정(S20 내지 S24)들은 순차적으로 수행되거나, 적어도 2개의 공정이 중첩되어 수행되는 것을 특징으로 하는 세척모드를 구비한 습식 스크러버의 세척 방법.
In claim 11,
The above washing mode is,
Between the 20th process (S20) and the 23rd process (S23),
A 21st process (S21) in which a cleaning mixture (W) is filled inside the housing (110) so that the polling (140) or demister (150) is submerged;
The method further includes a 22nd process (S22) in which aeration is generated in an aerator (240) disposed inside the housing (110), and a cleaning mixture (W) is sprayed at high pressure from a lower nozzle (160) on the lower side of the polling (140) or an upper middle nozzle (162) or an upper nozzle (161) interposed between the upper or lower side of the demister (140) or a multi-stage demister (140) to generate a vortex, or air is ejected from the lower nozzle (160), the middle nozzle (162), or the upper nozzle (161) to generate aeration, thereby cleaning the polling (140) and the demister (150).
The above 21st process (S21) to 24th process (S24) are performed with or without the 20th process (S20).
A method for cleaning a wet scrubber having a cleaning mode, characterized in that the above processes (S20 to S24) are performed sequentially or at least two processes are performed in an overlapping manner.
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Patent event date: 20240619

Patent event code: PE09021S01D

E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20241227

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

AMND Amendment
PX0901 Re-examination

Patent event code: PX09012R01I

Patent event date: 20250213

Comment text: Amendment to Specification, etc.

PG1501 Laying open of application
PX0701 Decision of registration after re-examination

Patent event date: 20250327

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PX07013S01D

X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
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Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20250401

Patent event code: PR07011E01D

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Payment date: 20250401

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