KR20240137586A - Adhesive sheet - Google Patents
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Abstract
전자 부품을 이송할 때에 사용될 수 있는 점착 시트이며, 생산 비용 향상에 기여할 수 있고, 전자 부품의 위치 정밀도, 전자 부품의 점착 시트에 대한 고정성과 박리성이 우수하고, 전자 부품의 오염 방지 및 전자 부품에 대한 대미지 방지를 가능하게 하는 점착 시트를 제공한다. 본 발명의 점착 시트는, 활성 에너지선 경화형 점착제로 구성되는 점착제층을 구비하는 점착 시트이며, 해당 활성 에너지선 경화형 점착제가, 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함하고, 해당 점착제층의 23℃에서의 초기 압입 탄성률이 4㎫ 이하이고, 해당 점착제층이, 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 150㎫ 이상이 되는 층이고, 해당 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율이, 50% 이하이다.An adhesive sheet that can be used when transporting electronic components, and which can contribute to improving production costs, has excellent positional accuracy of electronic components, fixation properties and peelability of electronic components to the adhesive sheet, and enables prevention of contamination of electronic components and prevention of damage to electronic components. The adhesive sheet of the present invention is an adhesive sheet having an adhesive layer composed of an active energy ray-curable adhesive, wherein the active energy ray-curable adhesive contains an ultraviolet absorber and/or a photopolymerization initiator, and the adhesive layer has an initial indentation elasticity at 23°C of 4 MPa or less, and the adhesive layer is a layer whose indentation elasticity at 23°C is 150 MPa or more after irradiation with ultraviolet rays of 460 mJ/cm2, and the adhesive sheet has a light transmittance at a wavelength of 355 nm of 50% or less.
Description
본 발명은 점착 시트에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive sheet.
종래로부터, 소정의 부재 상에 배치된 전자 부품을 다른 부재에 옮겨 탑재할 때에는, 점착 시트로 당해 전자 부품을 수취하고, 그 후, 당해 전자 부품을 다른 부재에 전달하는 것이 행해지고 있다. 예를 들어, LED 칩을 장치에 내장할 때에는, 부재 상에 형성된 LED 칩을, 일단, 점착 시트 상에 전사하여 수취하고, 그 후, 점착 시트로부터 소정의 장치 또는 부재에 LED 칩을 전달하도록 하여, LED 칩의 이송이 행해진다.Conventionally, when transferring an electronic component placed on a predetermined member to another member, the electronic component is received with an adhesive sheet, and then the electronic component is transferred to the other member. For example, when incorporating an LED chip into a device, the LED chip formed on the member is first transferred and received on an adhesive sheet, and then the LED chip is transferred from the adhesive sheet to a predetermined device or member, thereby transferring the LED chip.
상기와 같은 전자 부품의 이송에 있어서는, 생산 비용 향상(소요 자재의 삭감, 소요 시간·공정수의 단축 등), 전자 부품의 위치 정밀도, 전자 부품의 점착 시트에 대한 고정성과 박리성의 양립, 전자 부품의 오염 방지, 전자 부품에 대한 대미지 방지 등이 요구된다.In the transport of electronic components as described above, it is required to improve production costs (reduce required materials, shorten required time and number of processes, etc.), ensure positional accuracy of electronic components, ensure both fixation and peelability of electronic components to adhesive sheets, prevent contamination of electronic components, and prevent damage to electronic components.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 목적으로 하는 바는, 전자 부품을 이송할 때에 사용될 수 있는 점착 시트이며, 생산 비용 향상에 기여할 수 있고, 전자 부품의 위치 정밀도, 전자 부품의 점착 시트에 대한 고정성과 박리성이 우수하고, 전자 부품의 오염 방지 및 전자 부품에 대한 대미지 방지를 가능하게 하는 점착 시트를 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to provide an adhesive sheet that can be used when transporting electronic components, and that can contribute to improving production costs, has excellent positional accuracy of electronic components, fixation properties of electronic components to the adhesive sheet, and peelability, and enables prevention of contamination of electronic components and prevention of damage to electronic components.
[1] 본 발명의 점착 시트는, 활성 에너지선 경화형 점착제로 구성되는 점착제층을 구비하는 점착 시트이며, 해당 활성 에너지선 경화형 점착제가, 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함하고, 해당 점착제층의 23℃에서의 초기 압입 탄성률이 4㎫ 이하이고, 해당 점착제층이, 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 150㎫ 이상이 되는 층이고, 해당 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율이, 50% 이하이다.[1] The adhesive sheet of the present invention is an adhesive sheet having an adhesive layer composed of an active energy ray-curable adhesive, wherein the active energy ray-curable adhesive contains an ultraviolet absorber and/or a photopolymerization initiator, the adhesive layer has an initial indentation elasticity at 23°C of 4 MPa or less, the adhesive layer is a layer whose indentation elasticity at 23°C is 150 MPa or more after irradiation with ultraviolet light of 460 mJ/cm2, and the adhesive sheet has a light transmittance at a wavelength of 355 nm of 50% or less.
[2] 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착 시트는, 기재를 포함하지 않는다.[2] In one embodiment, the adhesive sheet does not include a substrate.
[3] 상기 [1] 또는 [2]의 점착 시트에 있어서, 상기 점착제층의 600초 후의 응력 완화율이 10% 이상이어도 된다.[3] In the adhesive sheet of [1] or [2], the stress relaxation rate of the adhesive layer after 600 seconds may be 10% or more.
[4] 상기 [1] 내지 [3]의 점착 시트에 있어서, 상기 점착제층의 두께가, 20㎛ 이하여도 된다.[4] In the adhesive sheets of [1] to [3] above, the thickness of the adhesive layer may be 20 ㎛ or less.
[5] 상기 [1] 내지 [4]의 점착 시트에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 광 중합 개시제를 포함하고, 해당 광 중합 개시제가, 광 분해성기를 2개 이상 갖고 있어도 된다.[5] In the adhesive sheet of the above [1] to [4], the active energy ray-curable adhesive may contain a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator may have two or more photodecomposable groups.
[6] 상기 [1] 내지 [5]의 점착 시트에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 광 중합 개시제를 포함하고, 해당 광 중합 개시제가, 인 원자 및/또는 질소 원자를 포함하는 화합물이어도 된다.[6] In the adhesive sheet of [1] to [5] above, the active energy ray-curable adhesive may contain a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator may be a compound containing a phosphorus atom and/or a nitrogen atom.
[7] 상기 [1] 내지 [6]의 점착 시트에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 활성 에너지선 반응성 화합물을 포함하고, 해당 활성 에너지선 반응성 화합물이, 관능기를 5개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트여도 된다.[7] In the adhesive sheet of the above [1] to [6], the active energy ray-curable adhesive may contain an active energy ray-reactive compound, and the active energy ray-reactive compound may be a multifunctional (meth)acrylate having five or more functional groups.
[8] 상기 [1] 내지 [7]의 점착 시트는, 전자 부품의 전사에 사용되어도 된다.[8] The adhesive sheets of [1] to [7] above may be used for transferring electronic components.
[9] 상기 [1] 내지 [8]의 점착 시트에 있어서, 레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 캐치, 및 그 후의 레이저광 조사에 의한 전자 부품의 박리를 포함하는 전자 부품의 이송에 사용되어도 된다.[9] In the adhesive sheet of the above [1] to [8], it may be used for transferring electronic components, including catching of electronic components by a laser lift-off process, and subsequent peeling of the electronic components by laser light irradiation.
[10] 상기 [8] 내지 [9]의 점착 시트에 있어서, 상기 전자 부품이, 미니 LED 또는 마이크로 LED여도 된다.[10] In the adhesive sheets of [8] to [9], the electronic component may be a mini LED or a micro LED.
[11] 본 발명의 다른 국면에 의하면, 전자 부품의 이송 방법이 제공된다. 이 전자 부품의 이송 방법은, 상기 점착 시트를 사용한, 전자 부품의 이송 방법이다.[11] According to another aspect of the present invention, a method for transporting electronic components is provided. This method for transporting electronic components is a method for transporting electronic components using the adhesive sheet.
[12] 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 전자 부품의 이송 방법은, 기판 상에 배열된 복수의 전자 부품을, 상기 점착 시트의 상기 점착제층 상에 전사하는 제1 공정; 및 해당 점착 시트 상의 해당 전자 부품을 다른 부재에 전사하는 제2 공정을 포함한다.[12] In one embodiment, the method for transferring electronic components includes a first step of transferring a plurality of electronic components arranged on a substrate onto the adhesive layer of the adhesive sheet; and a second step of transferring the electronic components on the adhesive sheet to another member.
[13] 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 공정 및 상기 제2 공정에 있어서, 동일한 상기 점착 시트가 사용된다.[13] In one embodiment, the same adhesive sheet is used in the first process and the second process.
본 발명에 따르면, 전자 부품을 이송할 때에 사용될 수 있는 점착 시트이며, 생산 비용 향상에 기여할 수 있고, 전자 부품의 위치 정밀도, 전자 부품의 점착 시트에 대한 고정성과 박리성이 우수하고, 전자 부품의 오염 방지 및 전자 부품에 대한 대미지 방지를 가능하게 하는 점착 시트를 제공할 수 있다.According to the present invention, an adhesive sheet that can be used when transporting electronic components can be provided, which can contribute to improving production costs, has excellent positional accuracy of electronic components, fixation properties and peelability of electronic components to the adhesive sheet, and enables prevention of contamination of electronic components and prevention of damage to electronic components.
도 1의 (a)는 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 점착 시트의 개략 단면도이다. (b)는 본 발명의 다른 실시 형태에 의한 점착 시트의 개략 단면도이다.Fig. 1 (a) is a schematic cross-sectional view of an adhesive sheet according to one embodiment of the present invention. (b) is a schematic cross-sectional view of an adhesive sheet according to another embodiment of the present invention.
A. 점착 시트의 개요A. Overview of the adhesive sheet
도 1의 (a)는 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 점착 시트의 개략 단면도이다. 이 실시 형태에 의한 점착 시트(100)는 점착제층(10)을 구비한다. 점착제층(10)은 활성 에너지선 경화형 점착제로 구성된다. 활성 에너지선 경화형 점착제는, 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함한다. 도 1의 (b)는 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 점착 시트의 개략 단면도이다. 이 실시 형태에 의한 점착 시트(200)는 기재(20)를 더 구비하고, 기재(20)의 적어도 편측에 점착제층(10)이 배치된다. 도시하고 있지 않지만, 본 발명의 점착 시트는 사용에 제공할 때까지의 동안, 점착면을 보호할 목적으로, 점착제층의 외측에 박리 라이너가 마련되어 있어도 된다. 또한, 점착 시트는, 본 발명의 효과가 얻어지는 한, 임의의 적절한 그 밖의 층을 더 포함하고 있어도 된다. 또한, 본 발명에 있어서는, 후술하는 바와 같이, 점착제층의 점착력 저하 및 고탄성률화에 수반하는 변형의 발생에 의해 피착체를 양호하게 박리하는 것이 가능하므로, 점착 시트로부터 피착체를 분리하기 위한 점착제층 이외의 층(소위 분리층)을 형성하지 않고 점착 시트를 구성하는 것이 가능하다. 하나의 실시 형태에 있어서, 상기 점착 시트는 전자 부품의 전사에 사용된다. 보다 상세하게는, 상기 점착 시트는 레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 수취, 및 그 후의 레이저광 조사에 의한 전자 부품의 박리를 포함하는 전자 부품의 이송에 사용될 수 있다. 전자 부품으로서는, 예를 들어 미니 LED, 마이크로 LED 등을 들 수 있다.Fig. 1 (a) is a schematic cross-sectional view of an adhesive sheet according to one embodiment of the present invention. An adhesive sheet (100) according to this embodiment has an adhesive layer (10). The adhesive layer (10) is composed of an active energy ray-curable adhesive. The active energy ray-curable adhesive contains an ultraviolet absorber and/or a photopolymerization initiator. Fig. 1 (b) is a schematic cross-sectional view of an adhesive sheet according to one embodiment of the present invention. An adhesive sheet (200) according to this embodiment further has a substrate (20), and an adhesive layer (10) is arranged on at least one side of the substrate (20). Although not shown, the adhesive sheet of the present invention may have a release liner provided on the outer side of the adhesive layer for the purpose of protecting the adhesive surface until it is put into use. In addition, the adhesive sheet may further include any other appropriate layer as long as the effects of the present invention are obtained. In addition, in the present invention, since it is possible to satisfactorily separate an adherend by the occurrence of deformation accompanying the decrease in adhesive strength and the increase in elasticity of the adhesive layer as described later, it is possible to configure an adhesive sheet without forming a layer other than an adhesive layer (so-called separation layer) for separating an adherend from the adhesive sheet. In one embodiment, the adhesive sheet is used for transferring electronic components. More specifically, the adhesive sheet can be used for transferring electronic components, including receiving electronic components by a laser lift-off process and subsequent peeling of the electronic components by laser light irradiation. Examples of the electronic components include mini LEDs and micro LEDs.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착 시트는 기재를 포함하지 않는다. 하나의 실시 형태에 있어서, 본 발명의 점착 시트는, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같이, 점착제층(1)만으로 구성된다. 기재를 포함하지 않고 구성된 점착 시트는, 레이저광 조사에 의해 피착체를 박리할 때의 에너지 이용 효율이 우수한 점에서 바람직하다. 다른 실시 형태에 있어서는, 본 발명의 점착 시트는, 도 1의 (b)에 도시하는 바와 같이, 기재 및 점착제층을 포함하고, 점착제층은 기재에 직접(즉, 그 밖의 층을 개재하지 않고) 배치된다.In one embodiment, the adhesive sheet does not include a substrate. In one embodiment, the adhesive sheet of the present invention is composed of only an adhesive layer (1), as shown in Fig. 1 (a). An adhesive sheet composed without including a substrate is preferable in that it has excellent energy utilization efficiency when peeling an adherend by laser light irradiation. In another embodiment, the adhesive sheet of the present invention includes a substrate and an adhesive layer, as shown in Fig. 1 (b), and the adhesive layer is arranged directly on the substrate (i.e., without intervening any other layer).
상기 점착제층은 23℃에서의 초기 압입 탄성률이 4㎫ 이하이다. 본 발명에 있어서는, 점착제층이 이러한 압입 탄성률을 가짐으로써, 전자 부품을 접착할 때, 당해 전자 부품의 일부가 바람직하게 점착제층에 메워진 상태로 할 수 있고, 당해 전자 부품을 고정성 좋게 임시 고정할 수 있다. 예를 들어, 후술하는 바와 같이, 전자 부품을 경질 기판으로부터 점착 시트에 전사하는 경우에 있어서는, 경질 기판을 제거할 때, 피착체의 위치 어긋남, 피착체의 기울어짐 등이 방지된다. 압입 탄성률은 23℃에서의 단일 압입법에 의해, 압입 속도 10㎚/s, 압입 깊이 100㎚에 의해 측정될 수 있다.The above-mentioned adhesive layer has an initial indentation elastic modulus of 4 MPa or less at 23°C. In the present invention, since the adhesive layer has such indentation elastic modulus, when bonding an electronic component, a part of the electronic component can be preferably filled with the adhesive layer, and the electronic component can be temporarily fixed with good fixation. For example, as described below, when transferring an electronic component from a rigid substrate to an adhesive sheet, misalignment of the adherend, tilting of the adherend, and the like are prevented when the rigid substrate is removed. The indentation elastic modulus can be measured by a single indentation method at 23°C, at a indentation speed of 10 nm/s, and a indentation depth of 100 nm.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착 시트는 기판(예를 들어, 사파이어 기판 등의 경질 기판) 상에 배열된 복수의 전자 부품(예를 들어, LED 칩)을, 당해 점착 시트에 전사하고; 당해 점착 시트 상의 전자 부품을 다른 부재에 전사하도록; 하여 사용될 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 기판으로부터 점착 시트에의 전자 부품의 전사는, 기판/전자 부품 계면 부분에 레이저광을 조사하는 것을 포함하는 프로세스, 즉, 레이저 리프트오프 프로세스에 의해 행해질 수 있다. 본 발명에 따르면, 상기한 바와 같이 피착체인 전자 부품의 기울어짐을 방지하는 등 바람직한 상태에서 전자 부품을 점착 시트 상에 배치할 수 있으므로, 예를 들어 레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 수취를 바람직하게 행하는 것이 가능해진다. 또한, 레이저 리프트오프 프로세스가 채용되는 경우에 있어서, 레이저광 조사의 영향에 의해 점착제층으로부터 발생하는 오염물이 피착체인 전자 부품에 부착되는 것을 방지할 수 있다.In one embodiment, the adhesive sheet can be used to transfer a plurality of electronic components (e.g., LED chips) arranged on a substrate (e.g., a hard substrate such as a sapphire substrate) to the adhesive sheet; and to transfer the electronic components on the adhesive sheet to another member. In one embodiment, the transfer of the electronic components from the substrate to the adhesive sheet can be performed by a process including irradiating a portion of the substrate/electronic component interface with laser light, i.e., a laser lift-off process. According to the present invention, since the electronic components can be arranged on the adhesive sheet in a desirable state, such as preventing the tilting of the electronic components as adherends, as described above, it becomes possible to preferably perform receiving of the electronic components by, for example, the laser lift-off process. In addition, in the case where the laser lift-off process is employed, it is possible to prevent contaminants generated from the adhesive layer due to the influence of the laser light irradiation from attaching to the electronic components as adherends.
또한, 점착 시트로부터 다른 부재에의 전사는 레이저광 조사에 의해 행할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 점착제층이 자외선 흡수제 또는 광 중합 개시제를 포함함으로써, 레이저광 조사에 의한 피착체(전자 부품)의 박리가 가능해진다. 보다 상세하게는, 점착제층에 레이저광을 조사함으로써, 자외선 흡수제 또는 광 중합 개시제가 가열되어 점착제층에 변형이 발생하고, 그 결과, 레이저광이 조사된 부분에 있어서, 박리성이 발현된다. 본 발명에 따르면, 상기와 같이 하여, 미소한 범위에서 점착제층에 변형을 발생시킬 수 있으므로, 소형 전자 부품(예를 들어, 한 변이 50㎛인 정사각형)을 가공할 때에도 당해 전자 부품을 양호하게 박리시킬 수 있다. 이러한 점착 시트를 사용하면, 박리 후에 행하는 전자 부품의 세정을 생략할 수 있다. 또한, 박리를 요하는 소형 전자 부품과, 박리를 요하지 않는 소형 전자 부품이 인접하여 임시 고정되어 있는 경우라도, 박리를 요하는 소형 전자 부품만을 박리시킬 수 있어, 소형 전자 부품이 불필요한 탈리를 방지할 수도 있다.In addition, transfer from the adhesive sheet to another member can be performed by laser light irradiation. In the present invention, since the adhesive layer contains an ultraviolet absorber or a photopolymerization initiator, peeling of the adherend (electronic component) by laser light irradiation becomes possible. More specifically, by irradiating the adhesive layer with laser light, the ultraviolet absorber or the photopolymerization initiator is heated, causing deformation in the adhesive layer, and as a result, peelability is expressed in the portion irradiated with the laser light. According to the present invention, since deformation can be caused in the adhesive layer in a minute range as described above, even when processing a small electronic component (for example, a square with one side measuring 50 μm), the electronic component can be satisfactorily peeled. Using such an adhesive sheet can omit cleaning of the electronic component after peeling. In addition, even when small electronic components requiring peeling and small electronic components not requiring peeling are temporarily fixed adjacent to each other, only the small electronic components requiring peeling can be peeled, thereby preventing unnecessary detachment of the small electronic components.
상기한 바와 같이, 본 발명의 점착 시트는 레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 수취, 및 레이저광 조사에 의한 전자 부품의 박리의 양쪽에 있어서, 우수한 특성을 발휘한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 수취, 및 레이저광 조사에 의한 전자 부품의 박리를 포함하는 방법에 의해, 전자 부품을 이송할 때, 상기 점착 시트만을 사용하여 당해 이송을 완료시킬 수 있다. 복수의 점착 시트를 요하지 않기 때문에, 전사 프로세스수를 적게 할 수 있고, 그 결과, 높은 위치 정밀도로 전자 부품을 이송할 수 있다. 또한, 생산 비용을 저감시킬 수 있다.As described above, the adhesive sheet of the present invention exhibits excellent properties in both receiving of electronic components by the laser lift-off process and peeling of electronic components by laser light irradiation. Therefore, according to the present invention, when transferring electronic components by a method including receiving of electronic components by the laser lift-off process and peeling of electronic components by laser light irradiation, the transfer can be completed using only the adhesive sheet. Since a plurality of adhesive sheets are not required, the number of transfer processes can be reduced, and as a result, electronic components can be transferred with high positional accuracy. In addition, production costs can be reduced.
상기 점착제층은 활성 에너지선 경화형 점착제로 구성된다. 활성 에너지선 경화형 점착제를 포함하는 점착 시트는 활성 에너지선을 조사함으로써, 점착제층 전체의 점착력이 저하된다. 피착체(전자 부품)가 접착된 점착 시트의 점착제층의 전체에 활성 에너지선을 조사하여, 점착력을 저하시킨 후에, 상기와 같이 레이저광을 조사함으로써, 박리 후의 접착제 잔여물을 방지할 수 있다. 이러한 점착 시트를 사용하면, 박리 후에 행하는 전자 부품의 세정을 생략할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 점착제를 포함하는 점착제층을 형성함으로써, 박리 시의 레이저 출력을 낮게 할 수 있다. 본 발명의 점착 시트는 저출력의 레이저광으로 박리성을 발현하므로, 당해 점착 시트를 사용하면, 박리 시의 피착체인 전자 부품에 대한 대미지를 저감하여, 당해 전자 부품의 파손을 방지할 수 있다. 또한, 점착제층 자체의 분해(열 분해)를 발생시키지 않는 정도의 출력의 레이저광에 의해 박리성을 발현시킬 수 있으므로, 점착제층 분해물에 의한 피착체인 전자 부품의 오염을 방지할 수 있다. 활성 에너지선으로서는, 예를 들어 감마선, 자외선, 가시광선, 적외선(열선), 라디오파, 알파선, 베타선, 전자선, 플라스마류, 전리선, 입자선 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 자외선이다.The above-described adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive. An adhesive sheet including an active energy ray-curable adhesive has the adhesive strength of the entire adhesive layer reduced by irradiating the adhesive sheet with an active energy ray. By irradiating the entire adhesive layer of the adhesive sheet to which an adherend (electronic component) is adhered with an active energy ray to reduce the adhesive strength, and then irradiating the laser light as described above, adhesive residue after peeling can be prevented. By using such an adhesive sheet, cleaning of the electronic component after peeling can be omitted. In addition, by forming the adhesive layer including an active energy ray-curable adhesive, the laser output at the time of peeling can be lowered. Since the adhesive sheet of the present invention exhibits peelability with a low-output laser light, by using the adhesive sheet, damage to the electronic component as an adherend at the time of peeling can be reduced, and breakage of the electronic component can be prevented. In addition, since the peelability can be expressed by laser light of an output level that does not cause decomposition (thermal decomposition) of the adhesive layer itself, contamination of electronic components, which are adherends, by decomposed products of the adhesive layer can be prevented. Examples of the active energy rays include gamma rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays (heat rays), radio waves, alpha rays, beta rays, electron rays, plasmas, ionizing rays, and particle rays. Ultraviolet rays are preferable.
상기 점착제층은 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 150㎫ 이상이 되는 층이다. 자외선 조사 후에 이러한 압입 탄성률을 가질 수 있는 점착제층을 구비하고 있으면, 저에너지에서의 레이저광 조사에 의해 점착제층에 변형이 발생하고, 그 결과, 피착체(전자 부품)를 양호하게 박리시킬 수 있다. 또한, 박리 시에 있어서의 전자 부품의 오염을 방지할 수 있다.The above adhesive layer is a layer having an indentation elastic modulus of 150 MPa or more at 23°C after being irradiated with ultraviolet rays of 460 mJ/cm2. If an adhesive layer capable of having such an indentation elastic modulus after irradiation with ultraviolet rays is provided, deformation occurs in the adhesive layer by irradiation with laser light at low energy, and as a result, the adherend (electronic component) can be peeled off satisfactorily. In addition, contamination of the electronic component during peeling can be prevented.
본 발명의 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율은 50% 이하이다. 본 발명에 있어서는, 당해 광 투과율을 낮게 함으로써, 박리 시의 레이저 출력을 낮게 할 수 있다. 본 발명의 점착 시트는 저출력의 레이저광으로 박리성을 발현하므로, 당해 점착 시트를 사용하면, 박리 시의 피착체인 전자 부품에 대한 대미지를 저감하여, 당해 전자 부품의 파손을 방지할 수 있다. 본 발명의 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율은, 바람직하게는 40% 이하이고, 보다 바람직하게는 30% 이하이다. 이러한 범위이면, 상기 효과는 보다 현저해진다. 또한, 점착 시트의 광 투과율이란, 점착 시트의 두께 방향의 광 투과율이고, 점착 시트의 구성층 전체층을 대상으로 하여 측정되는 광 투과율이다. 본 발명에 있어서, 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율은 점착제층에 함유하는 자외선 흡수제의 함유 비율을 조정하여 제어할 수 있다. 또한, 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율은 점착제층을 구성하는 베이스 폴리머, 광 중합 개시제의 구성에 의해서도 제어할 수 있다. 예를 들어, 점착제층에 포함되는 광 중합 개시제의 종류, 양 등에 의해, 특히 광 중합 개시제와 베이스 폴리머의 상용성에 의해, 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율을 제어할 수 있다.The light transmittance of the adhesive sheet of the present invention at a wavelength of 355 nm is 50% or less. In the present invention, by lowering the light transmittance, the laser output at the time of peeling can be lowered. Since the adhesive sheet of the present invention exhibits peelability with low-output laser light, when the adhesive sheet is used, damage to an electronic component as an adherend at the time of peeling can be reduced, and breakage of the electronic component can be prevented. The light transmittance of the adhesive sheet of the present invention at a wavelength of 355 nm is preferably 40% or less, and more preferably 30% or less. Within this range, the above-described effect becomes more remarkable. In addition, the light transmittance of the adhesive sheet is the light transmittance in the thickness direction of the adhesive sheet, and is the light transmittance measured for the entire constituent layer of the adhesive sheet. In the present invention, the light transmittance of the adhesive sheet at a wavelength of 355 nm can be controlled by adjusting the content ratio of the ultraviolet absorber contained in the adhesive layer. In addition, the light transmittance at a wavelength of 355 nm of the adhesive sheet can also be controlled by the composition of the base polymer and photopolymerization initiator constituting the adhesive layer. For example, the light transmittance at a wavelength of 355 nm of the adhesive sheet can be controlled by the type and amount of the photopolymerization initiator included in the adhesive layer, and particularly by the compatibility between the photopolymerization initiator and the base polymer.
상기 점착 시트의 가시광 투과율은, 바람직하게는 50% 이상이고, 보다 바람직하게는 60% 이상이고, 더욱 바람직하게는 70% 이상이다. 이러한 범위이면, 레이저광 조사에 의한 피착체의 박리 시에, 박리 대상이 되는 피착체를 점착 시트 너머로 양호하게 시인 가능해지는 점착 시트를 얻을 수 있다. 점착 시트의 가시광선 투과율은 높을수록 바람직하지만, 그 상한은, 예를 들어 95%(바람직하게는 100%)이다.The visible light transmittance of the above adhesive sheet is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and even more preferably 70% or more. Within this range, an adhesive sheet can be obtained in which the adherend to be peeled can be well-visible through the adhesive sheet when peeling the adherend by laser light irradiation. The higher the visible light transmittance of the adhesive sheet, the more preferable it is, but the upper limit thereof is, for example, 95% (preferably 100%).
상기 점착 시트의 헤이즈값은, 바람직하게는 70% 이하이고, 보다 바람직하게는 65% 이하이다. 이러한 범위이면, 레이저광 조사에 의한 피착체의 박리 시에, 박리 대상이 되는 피착체를 점착 시트 너머로 양호하게 시인 가능해지는 점착 시트를 얻을 수 있다. 점착 시트의 헤이즈값은 낮을수록 바람직하지만, 그 하한은, 예를 들어 0.1%이다.The haze value of the adhesive sheet is preferably 70% or less, more preferably 65% or less. Within this range, an adhesive sheet can be obtained in which the adherend to be peeled can be clearly seen through the adhesive sheet when peeling the adherend by laser light irradiation. The lower the haze value of the adhesive sheet, the more preferable it is, but the lower limit thereof is, for example, 0.1%.
상기 점착 시트를 스테인리스판에 접착한 직후의 23℃에서의 초기 점착력 A는, 바람직하게는 0.1N/20㎜ 내지 15N/20㎜이고, 보다 바람직하게는 0.5N/20㎜ 내지 10N/20㎜이다. 이러한 범위이면, 양호하게 피착체를 보유 지지할 수 있는 점착 시트를 얻을 수 있다. 점착력은 JIS Z 0237:2000에 준하여 측정된다. 구체적으로는, 2㎏의 롤러를 1왕복에 의해 점착 시트를 스테인리스판(산술 평균 표면 조도 Ra: 50±25㎚)에 접착하고, 23℃ 하에서 30분간 방치한 후, 박리 각도 180°, 박리 속도(인장 속도) 300㎜/min의 조건에서, 점착 시트를 떼어내어 측정된다. 점착제층은 활성 에너지선 조사 및 레이저광 조사에 의해 점착력이 변화하지만, 본 명세서에 있어서, 「초기 점착력」이란, 활성 에너지선 및 레이저광을 조사하기 전의 점착력을 의미한다.The initial adhesive strength A at 23°C immediately after the adhesive sheet is adhered to a stainless steel plate is preferably 0.1 N/20 mm to 15 N/20 mm, more preferably 0.5 N/20 mm to 10 N/20 mm. Within this range, an adhesive sheet capable of holding and supporting an adherend well can be obtained. The adhesive strength is measured in accordance with JIS Z 0237:2000. Specifically, the adhesive sheet is adhered to a stainless steel plate (arithmetic mean surface roughness Ra: 50±25 nm) by one reciprocation of a 2 kg roller, left for 30 minutes under 23°C, and then the adhesive sheet is peeled off and measured under the conditions of a peeling angle of 180° and a peeling speed (tensile speed) of 300 mm/min. The adhesive layer changes its adhesive strength by irradiating with active energy rays and laser light, but in this specification, “initial adhesive strength” means the adhesive strength before irradiating with active energy rays and laser light.
하나의 실시 형태에 있어서는, 점착 시트를 스테인리스판에 접착하고, 300mJ/㎠의 자외선을 조사한 후의 23℃에서의 점착력 B(경화 후 점착력 B라고도 함)는, 바람직하게는 0.2N/20㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.01N/20㎜ 내지 0.2N/20㎜이고, 보다 바람직하게는 0.02N/20㎜ 내지 0.15N/20㎜이다. 이러한 범위이면, 접착제 잔여물이 적은 점착 시트를 얻을 수 있다. 상기 자외선 조사는, 예를 들어 자외선 조사 장치(닛토 세이키사제, 상품명 「UM-810」)를 사용하여, 고압 수은등의 자외선(특성 파장: 365㎚, 적산 광량: 300mJ/㎠)을 점착제층에 조사하여 행해진다.In one embodiment, the adhesive strength B at 23°C (also referred to as the adhesive strength B after curing) after the adhesive sheet is adhered to a stainless steel plate and irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ/cm2 is preferably 0.2 N/20 mm or less, more preferably 0.01 N/20 mm to 0.2 N/20 mm, and even more preferably 0.02 N/20 mm to 0.15 N/20 mm. Within this range, an adhesive sheet with little adhesive residue can be obtained. The ultraviolet irradiation is performed, for example, by irradiating the adhesive layer with ultraviolet rays of a high-pressure mercury lamp (characteristic wavelength: 365 nm, accumulated light intensity: 300 mJ/cm2) using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Nitto Seiki Co., Ltd., product name "UM-810").
상기 경화 후 점착력 B의 상기 초기 점착력 A에 대한 저하율은, 바람직하게는 90% 이상이고, 보다 바람직하게는 95% 이상이다. 이러한 범위이면, 박리성이 우수한 점착 시트를 얻을 수 있다. 또한, 상기 저하율(%)은 (초기 점착력 A-경화 후 점착력 B)/초기 점착력 A×100의 식에 의해 구할 수 있다.The reduction rate of the adhesive strength B after curing with respect to the initial adhesive strength A is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. Within this range, an adhesive sheet having excellent peelability can be obtained. In addition, the reduction rate (%) can be obtained by the formula (initial adhesive strength A - adhesive strength B after curing) / initial adhesive strength A × 100.
점착 시트의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 내지 300㎛이고, 보다 바람직하게는 5㎛ 내지 200㎛이다.The thickness of the adhesive sheet is preferably 1 µm to 300 µm, more preferably 5 µm to 200 µm.
B. B. 점착제층Adhesive layer
상기 점착제층의 두께는, 바람직하게는 20㎛ 이하이다. 이러한 범위이면, 박리 시의 레이저 출력을 보다 낮게 하는 것을 가능하게 하고, 박리 발현성이 우수한 점착 시트를 얻을 수 있다. 점착제층의 두께는 15㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1㎛ 내지 10㎛인 것이 보다 바람직하다. 이러한 범위이면, 상기 효과가 현저해진다.The thickness of the adhesive layer is preferably 20 ㎛ or less. In this range, it is possible to lower the laser output at the time of peeling, and an adhesive sheet with excellent peeling performance can be obtained. The thickness of the adhesive layer is more preferably 15 ㎛ or less, further preferably 10 ㎛ or less, and still more preferably 1 ㎛ to 10 ㎛. In this range, the above effect becomes remarkable.
상기한 바와 같이, 상기 점착제층은 23℃에서의 초기 압입 탄성률이 4㎫ 이하이다. 점착제층의 23℃에서의 초기 압입 탄성률은, 바람직하게는 3㎫ 이하이고, 보다 바람직하게는 2㎫ 이하이다. 이러한 범위이면, 본 발명의 상기 효과가 현저해진다. 또한, 점착제층의 23℃에서의 초기 압입 탄성률은, 바람직하게는 0.1㎫ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.2㎫ 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.3㎫ 이상이고, 특히 바람직하게는 0.7㎫ 이상이다. 이러한 범위이면, 피착체를 오염시키기 어렵고, 박리성이 우수한 점착 시트를 얻을 수 있다.As described above, the adhesive layer has an initial indentation elastic modulus of 4 MPa or less at 23°C. The initial indentation elastic modulus of the adhesive layer at 23°C is preferably 3 MPa or less, more preferably 2 MPa or less. Within this range, the effects of the present invention become remarkable. In addition, the initial indentation elastic modulus of the adhesive layer at 23°C is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.2 MPa or more, even more preferably 0.3 MPa or more, and particularly preferably 0.7 MPa or more. Within this range, it is difficult to contaminate an adherend, and an adhesive sheet having excellent peelability can be obtained.
상기한 바와 같이, 상기 점착제층은 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 150㎫ 이상이 되는 층이다. 상기 점착제층은 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 200㎫ 이상이 되는 층인 것이 바람직하고, 300㎫ 이상이 되는 층인 것이 보다 바람직하고, 400㎫ 이상이 되는 층인 것이 더욱 바람직하고, 500㎫ 이상이 되는 층인 것이 특히 바람직하고, 800㎫ 이상이 되는 층인 것이 가장 바람직하다. 이러한 범위이면, 상기 효과가 현저해진다. 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후의 점착제층의 압입 탄성률의 상한은, 예를 들어 8000㎫(바람직하게는 5000㎫, 보다 바람직하게는 4000㎫)이다.As described above, the adhesive layer is a layer whose indentation elastic modulus at 23°C is 150 MPa or more after irradiation with ultraviolet rays of 460 mJ/cm2. The adhesive layer is preferably a layer whose indentation elastic modulus at 23°C is 200 MPa or more after irradiation with ultraviolet rays of 460 mJ/cm2, more preferably a layer whose indentation elastic modulus is 300 MPa or more, still more preferably a layer whose indentation elastic modulus is 400 MPa or more, particularly preferably a layer whose indentation elastic modulus is 500 MPa or more, and most preferably a layer whose indentation elastic modulus is 800 MPa or more. Within this range, the above effect becomes remarkable. The upper limit of the indentation elastic modulus of the adhesive layer after irradiation with ultraviolet rays of 460 mJ/cm2 is, for example, 8000 MPa (preferably 5000 MPa, more preferably 4000 MPa).
상기 점착제층은 600초 후의 응력 완화율이 10% 이상인 것이 바람직하고, 15% 이상인 것이 보다 바람직하고, 20% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 범위이면, 칩의 보유 지지성이 우수한 점착 시트를 얻을 수 있다. 구체적으로는, 피착체(전자 부품) 배치 후의 시간 경과에 의해서도, 점착제층 상에서의 피착체(전자 부품)의 기울어짐이 발생하기 어려운 점착 시트를 얻을 수 있다. 이러한 점착 시트를 사용하면, 위치 고정밀도로, 전자 부품의 이송을 행할 수 있다. 점착제층의 600초 후의 응력 완화율의 상한은, 예를 들어 100%(바람직하게는 80%)이다. 점착제층의 600초 후의 응력 완화율은 점착제층을 원기둥 형상으로 둥글게 한 샘플에 대해서, 23℃의 환경 온도 하에서, 길이 방향으로 50% 신장시킨 직후의 응력값 A(㎫)와, 50% 신장 상태에서 600초 경과 후의 응력값 B(㎫)로부터, (응력 완화율(%)=(A-B)/A×100)의 식에 의해 얻을 수 있다.The adhesive layer preferably has a stress relaxation rate of 10% or more after 600 seconds, more preferably 15% or more, and even more preferably 20% or more. Within this range, an adhesive sheet having excellent chip retention properties can be obtained. Specifically, an adhesive sheet in which the adherend (electronic component) is unlikely to tilt on the adhesive layer even after the passage of time after the adherend (electronic component) is placed can be obtained. Using such an adhesive sheet, electronic components can be transported with high positional accuracy. The upper limit of the stress relaxation rate of the adhesive layer after 600 seconds is, for example, 100% (preferably 80%). The stress relaxation rate of the adhesive layer after 600 seconds can be obtained from the stress value A (MPa) immediately after elongation by 50% in the longitudinal direction at an environmental temperature of 23°C for a sample in which the adhesive layer is rounded into a cylindrical shape, and the stress value B (MPa) after 600 seconds in the 50% elongated state, by the formula (stress relaxation rate (%) = (A-B)/A × 100).
상기한 바와 같이, 상기 점착제층은 활성 에너지선 경화형 점착제로 구성된다. 당해 활성 에너지선 경화형 점착제는, 상기 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함할 수 있다.As described above, the adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive. The active energy ray-curable adhesive may include the ultraviolet absorber and/or the photopolymerization initiator.
(활성 에너지선 경화형 점착제)(Active energy ray curing adhesive)
하나의 실시 형태에 있어서는, 활성 에너지선 경화형 점착제로서, 모제가 되는 베이스 폴리머와, 해당 베이스 폴리머와 결합 가능한 활성 에너지선 반응성 화합물(모노머 또는 올리고머)을 포함하는 활성 에너지선 경화형 점착제 (A1)가 사용된다. 다른 실시 형태에 있어서는, 베이스 폴리머로서 활성 에너지선 반응성 폴리머를 포함하는 활성 에너지선 경화형 점착제 (A2)가 사용된다. 바람직하게는, 상기 베이스 폴리머는 광 중합 개시제와 반응할 수 있는 관능기를 갖는다. 해당 관능기로서는, 예를 들어 히드록실기, 카르복실기 등을 들 수 있다.In one embodiment, an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (A1) is used which comprises a base polymer as a parent material and an active energy ray-reactive compound (monomer or oligomer) which can be bonded to the base polymer. In another embodiment, an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (A2) which comprises an active energy ray-reactive polymer as a base polymer is used. Preferably, the base polymer has a functional group which can react with a photopolymerization initiator. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, and the like.
상기 점착제 (A1)에 있어서 사용되는 베이스 폴리머로서는, 예를 들어 천연 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 스티렌·부타디엔 고무, 스티렌·이소프렌·스티렌 블록 공중합체 고무, 재생 고무, 부틸 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 니트릴 고무(NBR) 등의 고무계 폴리머; 실리콘계 폴리머; 아크릴계 폴리머 등을 들 수 있다. 이들 폴리머는, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도 바람직하게는, 아크릴계 폴리머이다.As the base polymer used in the above adhesive (A1), examples thereof include rubber polymers such as natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene-butadiene rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer rubber, regenerated rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, and nitrile rubber (NBR); silicone polymers; and acrylic polymers. These polymers may be used alone or in combination of two or more. Among them, acrylic polymers are preferable.
아크릴계 폴리머로서는, (메트)아크릴산알킬에스테르, (메트)아크릴산시클로알킬에스테르, (메트)아크릴산아릴에스테르 등의 탄화수소기 함유 (메트)아크릴산에스테르의 단독 중합체 또는 공중합체; 해당 탄화수소기 함유 (메트)아크릴산에스테르와 다른 공중합성 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다. (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 이소프로필에스테르, 부틸에스테르, 이소부틸에스테르, s-부틸에스테르, t-부틸에스테르, 펜틸에스테르, 이소펜틸에스테르, 헥실에스테르, 헵틸에스테르, 옥틸에스테르, 2-에틸헥실에스테르, 이소옥틸에스테르, 노닐에스테르, 데실에스테르, 이소데실에스테르, 운데실에스테르, 도데실에스테르 즉 라우릴에스테르, 트리데실에스테르, 테트라데실에스테르, 헥사데실에스테르, 옥타데실에스테르, 및 에이코실에스테르를 들 수 있다. (메트)아크릴산시클로알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산의 시클로펜틸에스테르 및 시클로헥실에스테르를 들 수 있다. (메트)아크릴산아릴에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산페닐 및 (메트)아크릴산벤질을 들 수 있다. 상기 탄화수소기 함유 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구성 단위의 함유 비율은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 40중량부 이상이고, 보다 바람직하게는 60중량부 이상이다.As acrylic polymers, examples thereof include homopolymers or copolymers of hydrocarbon group-containing (meth)acrylic acid esters such as (meth)acrylic acid alkyl esters, (meth)acrylic acid cycloalkyl esters, and (meth)acrylic acid aryl esters; copolymers of the hydrocarbon group-containing (meth)acrylic acid esters and other copolymerizable monomers; and the like. As (meth)acrylic acid alkyl esters, examples thereof include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, s-butyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, isopentyl ester, hexyl ester, heptyl ester, octyl ester, 2-ethylhexyl ester, isooctyl ester, nonyl ester, decyl ester, isodecyl ester, undecyl ester, dodecyl ester, i.e. lauryl ester, tridecyl ester, tetradecyl ester, hexadecyl ester, octadecyl ester, and eicosyl ester of (meth)acrylic acid. As the (meth)acrylic acid cycloalkyl ester, examples thereof include cyclopentyl ester and cyclohexyl ester of (meth)acrylic acid. As the (meth)acrylic acid aryl ester, examples thereof include phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate. The content ratio of the structural unit derived from the hydrocarbon group-containing (meth)acrylic acid ester is preferably 40 parts by weight or more, and more preferably 60 parts by weight or more, with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
상기 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 카르복시기 함유 모노머, 산 무수물 모노머, 히드록시기 함유 모노머, 글리시딜기 함유 모노머, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 아크릴아미드, 및 아크릴로니트릴 등의 관능기 함유 모노머 등을 들 수 있다. 카르복시기 함유 모노머로서는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 및 크로톤산을 들 수 있다. 산 무수물 모노머로서는, 예를 들어 무수 말레산 및 무수 이타콘산을 들 수 있다. 히드록시기 함유 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴, 및 (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 글리시딜기 함유 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산글리시딜 및 (메트)아크릴산메틸글리시딜을 들 수 있다. 술폰산기 함유 모노머로서는, 예를 들어 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, 및 (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산을 들 수 있다. 인산기 함유 모노머로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트를 들 수 있다. 아크릴아미드로서는, 예를 들어 N-아크릴로일모르폴린을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 상기 공중합성 모노머 유래의 구성 단위의 함유 비율은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 60중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 40중량부 이하이다.Examples of the other copolymerizable monomers include carboxyl group-containing monomers, acid anhydride monomers, hydroxyl group-containing monomers, glycidyl group-containing monomers, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, acrylamide, and functional group-containing monomers such as acrylonitrile. Examples of the carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. Examples of the acid anhydride monomers include maleic anhydride and itaconic anhydride. Examples of the hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate. Examples of the glycidyl group-containing monomers include glycidyl (meth)acrylate and methyl glycidyl (meth)acrylate. Examples of the sulfonic acid group-containing monomer include styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl(meth)acrylate, and (meth)acryloyloxynaphthalenesulfonic acid. Examples of the phosphoric acid group-containing monomer include 2-hydroxyethylacryloylphosphate. Examples of the acrylamide include N-acryloylmorpholine. These may be used singly or in combination of two or more. The content ratio of the structural unit derived from the copolymerizable monomer is preferably 60 parts by weight or less, and more preferably 40 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
아크릴계 폴리머는, 그 폴리머 골격 중에 가교 구조를 형성하기 위해, 다관능성 모노머 유래의 구성 단위를 포함할 수 있다. 다관능성 모노머로서, 예를 들어 헥산디올디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트(즉, 폴리글리시딜(메트)아크릴레이트), 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 및 우레탄(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 상기 다관능성 모노머 유래의 구성 단위의 함유 비율은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 40중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 30중량부 이하이다.Acrylic polymers may include structural units derived from polyfunctional monomers to form crosslinked structures in their polymer backbones. Examples of the polyfunctional monomers include hexanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, epoxy(meth)acrylate (i.e., polyglycidyl(meth)acrylate), polyester(meth)acrylate, and urethane(meth)acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. The content ratio of the structural unit derived from the above-mentioned multifunctional monomer is preferably 40 parts by weight or less, and more preferably 30 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
상기 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 10만 내지 300만이고, 보다 바람직하게는 20만 내지 200만이다. 중량 평균 분자량은 GPC(용매: THF)에 의해 측정될 수 있다.The weight average molecular weight of the above acrylic polymer is preferably 100,000 to 3 million, more preferably 200,000 to 2 million. The weight average molecular weight can be measured by GPC (solvent: THF).
상기 점착제 (A1)에 사용될 수 있는 상기 활성 에너지선 반응성 화합물로서는, 예를 들어 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 알릴기, 아세틸렌기 등의 중합성 탄소-탄소 다중 결합을 갖는 관능기를 갖는 광 반응성의 모노머 또는 올리고머를 들 수 있다. 해당 광 반응성의 모노머의 구체예로서는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물; 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트; 에폭시(메트)아크릴레이트; 올리고에스테르(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 메타크릴로이소시아네이트, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트(2-이소시아나토에틸메타크릴레이트), m-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트 등의 모노머를 사용해도 된다. 광 반응성의 올리고머의 구체예로서는, 상기 모노머의 2 내지 5량체 등을 들 수 있다. 광 반응성의 올리고머의 분자량은, 바람직하게는 100 내지 3000이다.As the active energy ray reactive compound that can be used in the above adhesive (A1), examples thereof include a photoreactive monomer or oligomer having a functional group having a polymerizable carbon-carbon multiple bond, such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, an acetylene group, etc. Specific examples of the photoreactive monomer include esters of (meth)acrylic acid and polyhydric alcohols, such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and polyethylene glycol di(meth)acrylate; polyfunctional urethane (meth)acrylate; epoxy (meth)acrylate; and oligoester (meth)acrylate. In addition, monomers such as methacryloisocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (2-isocyanatoethyl methacrylate), m-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, etc. may be used. Specific examples of the photoreactive oligomer include dimers to pentamers of the above monomers. The molecular weight of the photoreactive oligomer is preferably 100 to 3000.
하나의 실시 형태에 있어서는, 활성 에너지선 반응성 화합물로서, 관능기를 5개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트, 또는 관능기를 5개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트의 올리고머가 사용된다. 이러한 활성 에너지선 반응성 화합물을 사용하면, 활성 에너지선(예를 들어, 자외선) 조사에 의해서 고탄성이 될 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층을 고탄성률화할 수 있으면, 저출력의 레이저광에 의해, 상기의 박리 조작을 행할 수 있다.In one embodiment, as the active energy ray reactive compound, a polyfunctional (meth)acrylate having five or more functional groups, or an oligomer of a polyfunctional (meth)acrylate having five or more functional groups, is used. By using such an active energy ray reactive compound, an adhesive layer that can be made highly elastic by irradiation with an active energy ray (for example, ultraviolet ray) can be formed. If the adhesive layer can be made highly elastic, the above-described peeling operation can be performed by a low-power laser light.
또한, 상기 활성 에너지선 반응성 화합물로서, 에폭시화 부타디엔, 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴아미드, 비닐실록산 등의 모노머; 또는 해당 모노머로 구성되는 올리고머를 사용해도 된다.In addition, as the above-mentioned active energy ray reactive compound, a monomer such as epoxidized butadiene, glycidyl methacrylate, acrylamide, vinyl siloxane, or an oligomer composed of the monomer may be used.
또한, 상기 활성 에너지선 반응성 화합물로서, 오늄염 등의 유기염류와, 분자 내에 복수의 복소환을 갖는 화합물의 혼합물을 사용해도 된다. 해당 혼합물은 활성 에너지선(예를 들어, 자외선, 전자선)의 조사에 의해 유기염이 개열되어 이온을 생성하고, 이것이 개시종이 되어 복소환의 개환 반응을 일으켜서 3차원 그물눈 구조를 형성할 수 있다. 상기 유기염류로서는, 예를 들어 요오도늄염, 포스포늄염, 안티모늄염, 술포늄염, 보레이트염 등을 들 수 있다. 상기 분자 내에 복수의 복소환을 갖는 화합물에 있어서의 복소환으로서는, 옥시란, 옥세탄, 옥솔란, 티이란, 아지리딘 등을 들 수 있다.In addition, as the above-mentioned active energy ray reactive compound, a mixture of an organic salt such as an onium salt and a compound having multiple heterocycles in the molecule may be used. In the above-mentioned mixture, the organic salt is cleaved by irradiation with an active energy ray (e.g., ultraviolet ray, electron beam) to generate an ion, which becomes an initiating species and causes a ring-opening reaction of a heterocycle to form a three-dimensional network structure. Examples of the above-mentioned organic salt include iodonium salts, phosphonium salts, antimonium salts, sulfonium salts, borate salts, and the like. Examples of the heterocycle in the compound having multiple heterocycles in the molecule include oxirane, oxetane, oxolane, thiirane, aziridine, and the like.
상기 점착제 (A1)에 있어서, 활성 에너지선 반응성 화합물의 함유 비율은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1중량부 내지 500중량부이고, 보다 바람직하게는 5중량부 내지 300중량부이고, 더욱 바람직하게는 40중량부 내지 150중량부이다.In the above adhesive (A1), the content ratio of the active energy ray reactive compound is preferably 0.1 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 300 parts by weight, and even more preferably 40 to 150 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the base polymer.
상기 점착제 (A2)에 포함되는 활성 에너지선 반응성 폴리머(베이스 폴리머)로서는, 예를 들어 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 알릴기, 아세틸렌기 등의 탄소-탄소 다중 결합을 갖는 관능기를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 활성 에너지선 반응성 폴리머의 구체예로서는, 다관능 (메트)아크릴레이트로 구성되는 폴리머; 광 양이온 중합형 폴리머; 폴리비닐신나메이트 등의 신나모일기 함유 폴리머; 디아조화된 아미노노볼락 수지; 폴리아크릴아미드; 등을 들 수 있다.As the active energy ray reactive polymer (base polymer) included in the above adhesive (A2), for example, a polymer having a functional group having a carbon-carbon multiple bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, an acetylene group, etc. can be mentioned. Specific examples of the active energy ray reactive polymer include a polymer composed of a multifunctional (meth)acrylate; a photocationically polymerizable polymer; a polymer containing a cinnamoyl group such as polyvinyl cinnamate; a diazotized aminonovolac resin; a polyacrylamide; etc.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 아크릴계 폴리머(전구체 수지)의 측쇄, 주쇄 및/또는 주쇄 말단에, 활성 에너지선 중합성의 탄소-탄소 다중 결합이 도입되어 구성된 활성 에너지선 반응성 폴리머가 사용된다. 아크릴계 폴리머(전구체 수지)에 대한 방사선 중합성의 탄소-탄소 이중 결합의 도입 방법으로서는, 예를 들어 소정의 관능기(제1 관능기)를 갖는 모노머를 포함하는 원료 모노머를 공중합시켜서 아크릴계 폴리머(전구체 수지)를 얻은 후, 제1 관능기와의 사이에서 반응을 발생시켜 결합할 수 있는 소정의 관능기(제2 관능기)와 방사선 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물(이하, 단순히, 탄소 이중 결합을 갖는 화합물이라고도 함)을, 탄소-탄소 이중 결합의 방사선 중합성을 유지한 상태로 아크릴계 폴리머에 대하여 축합 반응 또는 부가 반응시키는 방법을 들 수 있다.In one embodiment, an active energy ray-reactive polymer is used, which is configured by introducing an active energy ray-polymerizable carbon-carbon multiple bond into the side chain, main chain and/or main chain terminal of the acrylic polymer (precursor resin). As a method for introducing a radiation polymerizable carbon-carbon double bond into the acrylic polymer (precursor resin), an example of which is a method in which a raw material monomer including a monomer having a predetermined functional group (first functional group) is copolymerized to obtain an acrylic polymer (precursor resin), and then a compound having a predetermined functional group (second functional group) capable of reacting and bonding with the first functional group and a radiation polymerizable carbon-carbon double bond (hereinafter, also simply referred to as a compound having a carbon double bond) is subjected to a condensation reaction or addition reaction with the acrylic polymer while maintaining the radiation polymerizability of the carbon-carbon double bond.
상기 탄소 이중 결합을 갖는 화합물의 도입량은 아크릴계 폴리머(전구체 수지) 고형분 100중량부에 대하여, 바람직하게는 10중량부 이상이고, 보다 바람직하게는 12중량부 이상이고, 더욱 바람직하게는 15중량부 이상이다. 이러한 범위이면, 저극성인 활성 에너지선 반응성 폴리머(베이스 폴리머)를 얻을 수 있고, 당해 베이스 폴리머를 사용하면, 자외선 조사 후의 탄성률이 비교적 낮은 점착제층이어도, 저에너지에서의 레이저광 조사에 의한 피착체 박리를 바람직하게 행할 수 있다. 탄소 이중 결합을 갖는 화합물의 도입량의 상한은 아크릴계 폴리머(전구체 수지) 고형분 100중량부에 대하여, 예를 들어 80중량부(바람직하게는 60중량부, 보다 바람직하게는 50중량부)이다.The amount of the compound having the above-mentioned carbon double bond to be introduced is preferably 10 parts by weight or more, more preferably 12 parts by weight or more, and even more preferably 15 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the acrylic polymer (precursor resin) solid content. Within this range, a low-polarity, active energy ray-reactive polymer (base polymer) can be obtained, and when the base polymer is used, even if the adhesive layer has a relatively low elastic modulus after ultraviolet irradiation, peeling of the adherend by low-energy laser irradiation can be preferably performed. The upper limit of the amount of the compound having the above-mentioned carbon double bond to be introduced is, for example, 80 parts by weight (preferably 60 parts by weight, more preferably 50 parts by weight) relative to 100 parts by weight of the acrylic polymer (precursor resin) solid content.
제1 관능기와 제2 관능기의 조합으로서는, 예를 들어 카르복시기와 에폭시기, 에폭시기와 카르복시기, 카르복시기와 아지리딜기, 아지리딜기와 카르복시기, 히드록시기와 이소시아네이트기, 이소시아네이트기와 히드록시기를 들 수 있다. 이들 조합 중, 반응 추적의 용이성의 관점에서는 히드록시기와 이소시아네이트기의 조합이나, 이소시아네이트기와 히드록시기의 조합이 바람직하다. 또한, 반응성이 높은 이소시아네이트기를 갖는 폴리머를 제작하는 것은 기술적 난이도가 높은 바, 아크릴계 폴리머의 제작 또는 입수의 용이성의 관점에서는 아크릴계 폴리머측의 상기 제1 관능기가 히드록시기이고 또한 상기 제2 관능기가 이소시아네이트기인 경우가 보다 바람직하다. 이 경우, 방사선 중합성 탄소-탄소 이중 결합과 제2 관능기인 이소시아네이트기를 병유하는 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 메타크릴로일이소시아네이트, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 및 m-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트를 들 수 있다. 또한, 제1 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머로서는, 상기의 히드록시기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 2-히드록시에틸비닐에테르나, 4-히드록시부틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르 등의 에테르계 화합물 유래의 구성 단위를 포함하는 것도 바람직하다.As a combination of the first functional group and the second functional group, examples thereof include a carboxyl group and an epoxy group, an epoxy group and a carboxyl group, a carboxyl group and an aziridyl group, an aziridyl group and a carboxyl group, a hydroxyl group and an isocyanate group, and an isocyanate group and a hydroxyl group. Among these combinations, from the viewpoint of the ease of tracking the reaction, a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group or a combination of an isocyanate group and a hydroxyl group is preferable. In addition, since the technical difficulty of producing a polymer having a highly reactive isocyanate group is high, from the viewpoint of the ease of producing or obtaining an acrylic polymer, it is more preferable when the first functional group on the acrylic polymer side is a hydroxyl group and the second functional group is an isocyanate group. In this case, as the isocyanate compound having both a radiation polymerizable carbon-carbon double bond and an isocyanate group as the second functional group, examples thereof include methacryloyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and m-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate. In addition, as the acrylic polymer having the first functional group, it is preferable that it contains a structural unit derived from the above-mentioned hydroxyl group-containing monomer, and it is also preferable that it contains a structural unit derived from an ether compound such as 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, or diethylene glycol monovinyl ether.
상기 활성 에너지선 반응성 폴리머(베이스 폴리머)의 유리 전이 온도 Tg는, 바람직하게는 -60℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 -50℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 -40℃ 이상이다. 이러한 범위이면, 저극성인 활성 에너지선 반응성 폴리머(베이스 폴리머)를 얻을 수 있고, 당해 베이스 폴리머를 사용하면, 자외선 조사 후의 탄성률이 비교적 낮은 점착제층이어도, 저에너지에서의 레이저광 조사에 의한 피착체 박리를 바람직하게 행할 수 있다. 활성 에너지선 반응성 폴리머(베이스 폴리머)의 유리 전이 온도 Tg의 상한은, 바람직하게는 0℃이고, 보다 바람직하게는 -20℃이다. 베이스 폴리머의 Tg란, 베이스 폴리머를 구성하는 각 모노머의 단독 중합체(호모폴리머)의 Tg 및 해당 모노머의 중량 분율(중량 기준의 공중합 비율)에 기초하여, 폭스(Fox)의 식으로부터 구해지는 값을 말한다. Fox의 식이란, 이하에 나타내는 바와 같이, 공중합체의 Tg와, 해당 공중합체를 구성하는 모노머의 각각을 단독 중합한 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다.The glass transition temperature Tg of the above-mentioned active energy ray reactive polymer (base polymer) is preferably -60°C or higher, more preferably -50°C or higher, and even more preferably -40°C or higher. Within this range, a low-polar active energy ray reactive polymer (base polymer) can be obtained, and when the base polymer is used, even if the adhesive layer has a relatively low elastic modulus after ultraviolet irradiation, peeling of the adherend by irradiation with laser light at low energy can be preferably performed. The upper limit of the glass transition temperature Tg of the active energy ray reactive polymer (base polymer) is preferably 0°C, and more preferably -20°C. The Tg of the base polymer refers to a value obtained from Fox's formula based on the Tg of the homopolymer (homopolymer) of each monomer constituting the base polymer and the weight fraction (copolymerization ratio on a weight basis) of the monomer. Fox's equation is, as shown below, a relationship between the Tg of a copolymer and the glass transition temperature Tgi of a homopolymer obtained by homopolymerizing each of the monomers constituting the copolymer.
상기 Fox의 식에 있어서, Tg는 공중합체의 유리 전이 온도(단위: K), Wi는 해당 공중합체에 있어서의 모노머 i의 중량 분율(중량 기준의 공중합 비율), Tgi는 모노머 i의 호모폴리머의 유리 전이 온도(단위: K)를 나타낸다. 호모폴리머의 Tg로서는, 공지 자료에 기재된 값을 채용하는 것으로 한다.In the above Fox equation, Tg represents the glass transition temperature of the copolymer (unit: K), Wi represents the weight fraction of monomer i in the copolymer (copolymerization ratio on a weight basis), and Tgi represents the glass transition temperature of the homopolymer of monomer i (unit: K). As the Tg of the homopolymer, a value described in a known material is adopted.
상기 점착제 (A2)는, 상기 활성 에너지선 반응성 화합물(모노머 또는 올리고머)을 더 포함하고 있어도 된다.The above adhesive (A2) may further contain the above active energy ray reactive compound (monomer or oligomer).
상기 활성 에너지선 경화형 점착제는 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함할 수 있다. 사용되는 자외선 흡수제 및 광 중합 개시제의 상세는, 상기한 바와 같다.The above-mentioned active energy ray-curable adhesive may contain an ultraviolet absorber and/or a photopolymerization initiator. Details of the ultraviolet absorber and photopolymerization initiator used are as described above.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 활성 에너지선 경화형 점착제는 광 증감제를 포함할 수 있다.In one embodiment, the active energy ray curable adhesive may include a photosensitizer.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광 증감제는, 상기 광 중합 개시제와 병용될 수 있다. 당해 광 증감제는 스스로가 광을 흡수하여 얻은 에너지를 광 중합 개시제에 전달함으로써, 광 중합 개시제로부터 라디칼을 발생시킬 수 있으므로, 광 중합 개시제 자신의 흡수 피크가 없는 장파장측의 광으로 중합을 진행시킬 수 있다. 이 때문에, 광 증감제를 함유시킴으로써, 상기 자외선 흡수제의 흡수 파장과 광 중합 개시제로부터 라디칼을 발생하는 것이 가능한 파장의 차를 크게 하는 것이 가능해진다. 그 결과, 점착제층의 광 중합과 자외선 흡수제에 의한 박리를 서로 영향을 주지 않고 행할 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 광 중합 개시제로서의 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온(예를 들어, BASF사제, 상품명 「이르가큐어 651」)과, 광 증감제가 병용된다. 이러한 광 증감제로서는, 가와사키 가세이 고교 가부시키가이샤제의 상품명 「UVS-581」, 9,10-디에톡시안트라센(예를 들어, 가와사키 가세이 고교사제, 상품명 「UVS1101」) 등을 들 수 있다.In one embodiment, the photosensitizer can be used in combination with the photopolymerization initiator. Since the photosensitizer can generate radicals from the photopolymerization initiator by transferring energy obtained by absorbing light itself to the photopolymerization initiator, the polymerization can proceed with light on the long-wavelength side that does not have an absorption peak of the photopolymerization initiator itself. Therefore, by containing the photosensitizer, it becomes possible to increase the difference between the absorption wavelength of the ultraviolet absorber and the wavelength at which radicals can be generated from the photopolymerization initiator. As a result, the photopolymerization of the adhesive layer and the peeling by the ultraviolet absorber can be performed without affecting each other. In one embodiment, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (for example, manufactured by BASF, trade name “Irgacure 651”) as a photopolymerization initiator and the photosensitizer are used in combination. Examples of such photosensitizers include Kawasaki Chemical Industry Co., Ltd.'s product name "UVS-581" and 9,10-diethoxyanthracene (e.g., Kawasaki Chemical Industry Co., Ltd.'s product name "UVS1101").
상기 광 증감제의 그 밖의 예로서는, 9,10-디부톡시안트라센(예를 들어, 가와사키 가세이 고교사제, 상품명 「UVS-1331」), 2-이소프로필티오크산톤, 벤조페논, 티오크산톤 유도체, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 티오크산톤 유도체로서는, 예를 들어 에톡시카르보닐티오크산톤, 이소프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.Other examples of the photosensitizer include 9,10-dibutoxyanthracene (e.g., manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “UVS-1331”), 2-isopropylthioxanthone, benzophenone, thioxanthone derivatives, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, etc. Examples of the thioxanthone derivatives include ethoxycarbonylthioxanthone, isopropylthioxanthone, etc.
상기 광 증감제의 함유 비율은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01중량부 내지 2중량부이고, 보다 바람직하게는 0.5중량부 내지 2중량부이다.The content ratio of the above-mentioned photosensitizer is preferably 0.01 to 2 parts by weight, and more preferably 0.5 to 2 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
바람직하게는, 상기 활성 에너지선 경화형 점착제는 가교제를 포함한다. 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 멜라민계 가교제, 과산화물계 가교제, 요소계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 아민계 가교제 등을 들 수 있다.Preferably, the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive contains a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, an oxazoline-based crosslinking agent, an aziridine-based crosslinking agent, a melamine-based crosslinking agent, a peroxide-based crosslinking agent, a urea-based crosslinking agent, a metal alkoxide-based crosslinking agent, a metal chelate-based crosslinking agent, a metal salt-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking agent, and an amine-based crosslinking agent.
상기 가교제의 함유 비율은 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.5중량부 내지 10중량부이고, 보다 바람직하게는 1중량부 내지 8중량부이다.The content ratio of the crosslinking agent is preferably 0.5 to 10 parts by weight, and more preferably 1 to 8 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the base polymer of the adhesive.
하나의 실시 형태에 있어서는 이소시아네이트계 가교제가 바람직하게 사용된다. 이소시아네이트계 가교제는 다종의 관능기와 반응할 수 있는 점에서 바람직하다. 상기 이소시아네이트계 가교제의 구체예로서는, 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류; 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류; 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트류; 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(닛폰 폴리우레탄 고교사제, 상품명 「코로네이트 L」), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(닛폰 폴리우레탄 고교사제, 상품명 「코로네이트 HL」), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(닛폰 폴리우레탄 고교사제, 상품명 「코로네이트 HX」) 등의 이소시아네이트 부가물; 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 이소시아네이트기를 3개 이상 갖는 가교제가 사용된다.In one embodiment, an isocyanate-based crosslinking agent is preferably used. An isocyanate-based crosslinking agent is preferable because it can react with various functional groups. Specific examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate; aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; Isocyanate adducts such as trimethylolpropane/tolylene diisocyanate terpolymer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industries, Ltd., trade name “Coronate L”), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate terpolymer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industries, Ltd., trade name “Coronate HL”), and isocyanurate of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industries, Ltd., trade name “Coronate HX”); etc. A crosslinking agent having three or more isocyanate groups is preferably used.
활성 에너지선 경화형 점착제는, 필요에 따라서, 임의의 적절한 첨가제를 더 포함할 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들어 활성 에너지선 중합 촉진제, 라디칼 포착제, 점착 부여제, 가소제(예를 들어, 트리멜리트산에스테르계 가소제, 피로멜리트산에스테르계 가소제 등), 안료, 염료, 충전제, 노화 방지제, 도전재, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 박리 조정제, 연화제, 계면 활성제, 난연제, 산화 방지제 등을 들 수 있다.The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive may further contain any suitable additives as needed. Examples of the additives include an active energy ray polymerization accelerator, a radical scavenger, a tackifier, a plasticizer (for example, a trimellitic acid ester plasticizer, a pyromellitic acid ester plasticizer, etc.), a pigment, a dye, a filler, an anti-aging agent, a conductive agent, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a peeling regulator, a softener, a surfactant, a flame retardant, an antioxidant, and the like.
(자외선 흡수제)(UV absorber)
자외선 흡수제로서는, 자외선(예를 들어, 파장 355㎚)을 흡수하는 화합물이면, 임의의 적절한 자외선 흡수제가 사용될 수 있다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제, 살리실레이트계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 그 중에서도 바람직하게는, 트리아진계 자외선 흡수제 또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제이고, 특히 바람직하게는 트리아진계 자외선 흡수제이다. 특히, 점착제로서 아크릴계 점착제를 사용하는 경우에, 당해 아크릴계 점착제의 베이스 폴리머와의 상용성이 높다는 점에서, 트리아진계 자외선 흡수제는 바람직하게 사용될 수 있다. 트리아진계 자외선 흡수제는, 수산기를 갖는 화합물로 구성되어 있는 것이 보다 바람직하고, 히드록시페닐트리아진계 화합물로 구성된 자외선 흡수제(히드록시페닐트리아진계 자외선 흡수제)인 것이 특히 바람직하다.As the ultraviolet absorber, any appropriate ultraviolet absorber can be used as long as it is a compound that absorbs ultraviolet rays (for example, having a wavelength of 355 nm). Examples of the ultraviolet absorber include a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber, a salicylate-based ultraviolet absorber, and a cyanoacrylate-based ultraviolet absorber. Among these, a triazine-based ultraviolet absorber or a benzotriazole-based ultraviolet absorber is preferable, and a triazine-based ultraviolet absorber is particularly preferable. In particular, when an acrylic adhesive is used as the adhesive, a triazine-based ultraviolet absorber can be preferably used because of its high compatibility with the base polymer of the acrylic adhesive. The triazine-based ultraviolet absorber is more preferably composed of a compound having a hydroxyl group, and is particularly preferable an ultraviolet absorber composed of a hydroxyphenyltriazine-based compound (hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber).
히드록시페닐트리아진계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 2-(4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일)-5-히드록시페닐과 [(C10-C16(주로 C12-C13) 알킬옥시)메틸]옥시란의 반응 생성물(상품명 「TINUVIN 400」, BASF사제), 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-[3-(도데실옥시)-2-히드록시프로폭시]페놀), 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 (2-에틸헥실)-글리시드산에스테르의 반응 생성물(상품명 「TINUVIN 405」, BASF사제), 2,4-비스(2-히드록시-4-부톡시페닐)-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3,5-트리아진(상품명 「TINUVIN 460」, BASF사제), 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-[(헥실)옥시]-페놀(상품명 「TINUVIN 1577」, BASF사제), 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-[2-(2-에틸헥사노일옥시)에톡시]-페놀(상품명 「아데카스탭 LA-46」, (주)ADEKA제), 2-(2-히드록시-4-[1-옥틸옥시카르보닐에톡시]페닐)-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진(상품명 「TINUVIN 479」, BASF사제), BASF사제의 상품명 「TINUVIN 477」등을 들 수 있다.As hydroxyphenyl triazine-based ultraviolet absorbers, for example, the reaction product of 2-(4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hydroxyphenyl and [(C10-C16 (mainly C12-C13) alkyloxy)methyl]oxirane (trade name "TINUVIN 400", manufactured by BASF), 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-[3-(dodecyloxy)-2-hydroxypropoxy]phenol), the reaction product of 2-(2,4-dihydroxyphenyl)-4,6-bis-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl)-glycidic acid ester (trade name "TINUVIN 405", BASF Corporation), 2,4-bis(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-6-(2,4-dibuthoxyphenyl)-1,3,5-triazine (trade name "TINUVIN 460", BASF Corporation), 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[(hexyl)oxy]-phenol (trade name "TINUVIN 1577", BASF Corporation), 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[2-(2-ethylhexanoyloxy)ethoxy]-phenol (trade name "ADEKASTAP LA-46", ADEKA Corporation), Examples include 2-(2-hydroxy-4-[1-octyloxycarbonylethoxy]phenyl)-4,6-bis(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazine (trade name “TINUVIN 479”, manufactured by BASF), and BASF’s trade name “TINUVIN 477”.
벤조트리아졸계 자외선 흡수제(벤조트리아졸계 화합물)로서는, 예를 들어 2-(2-히드록시-5-tert-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸(상품명 「TINUVIN PS」, BASF사제), 벤젠프로판산 및 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시(C7-9 측쇄 및 직쇄 알킬)의 에스테르 화합물(상품명 「TINUVIN 384-2」, BASF사제), 옥틸3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트 및 2-에틸헥실-3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-일)페닐]프로피오네이트의 혼합물(상품명 「TINUVIN 109」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀(상품명 「TINUVIN 900」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀(상품명 「TINUVIN 928」, BASF제), 메틸3-(3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트/폴리에틸렌글리콜 300의 반응 생성물(상품명 「TINUVIN 1130」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸(상품명 「TINUVIN P」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀(상품명 「TINUVIN 234」, BASF사제), 2-[5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일]-4-메틸-6-(tert-부틸)페놀(상품명 「TINUVIN 326」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-펜틸페놀(상품명 「TINUVIN 328」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀(상품명 「TINUVIN 329」, BASF사제), 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀](상품명 「TINUVIN 360」, BASF사제), 메틸3-(3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트와 폴리에틸렌글리콜 300의 반응 생성물(상품명 「TINUVIN 213」, BASF사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-도데실-4-메틸페놀(상품명 「TINUVIN 571」, BASF사제), 2-[2-히드록시-3-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미드-메틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸(상품명 「Sumisorb 250」, 스미토모 가가쿠(주)제), 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸(상품명 「SEESORB 703」, 시프로 가세이사제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미딜메틸)페놀(상품명 「SEESORB 706」, 시프로 가세이사제), 2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸(시프로 가세이사제의 상품명 「SEESORB 7012BA」), 2-tert-부틸-6-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸페놀(상품명 「KEMISORB 73」, 케미프로 가세이사제), 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀](상품명 「아데카스탭 LA-31」, (주)ADEKA제), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-셀룰로오스(상품명 「아데카스탭 LA-32」, (주)ADEKA제), 2-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-tert-부틸-4-메틸페놀(상품명 「아데카스탭 LA-36」, (주)ADEKA제) 등을 들 수 있다.As benzotriazole-based UV absorbers (benzotriazole-based compounds), for example, 2-(2-hydroxy-5-tert-butylphenyl)-2H-benzotriazole (trade name "TINUVIN PS", manufactured by BASF), ester compounds of benzenepropanoic acid and 3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy (C7-9 branched and straight-chain alkyl) (trade name "TINUVIN 384-2", manufactured by BASF), octyl 3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate, and Mixture of 2-ethylhexyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-yl)phenyl]propionate (trade name "TINUVIN 109", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol (trade name "TINUVIN 900", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol (trade name "TINUVIN 928", manufactured by BASF), methyl 3-(3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate/polyethylene glycol 300 Product (trade name "TINUVIN 1130", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-p-cresol (trade name "TINUVIN P", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol (trade name "TINUVIN 234", manufactured by BASF), 2-[5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl]-4-methyl-6-(tert-butyl)phenol (trade name "TINUVIN 326", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-di-tert-pentylphenol (trade name "TINUVIN 328", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol (trade name "TINUVIN 329", manufactured by BASF), 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol] (trade name "TINUVIN 360", manufactured by BASF), reaction product of methyl 3-(3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate and polyethylene glycol 300 (trade name "TINUVIN 213", manufactured by BASF), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol (trade name "TINUVIN 571", manufactured by BASF), 2-[2-Hydroxy-3-(3,4,5,6-tetrahydrophthalimide-methyl)-5-methylphenyl]benzotriazole (trade name "Sumisorb 250", manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chloro-2H-benzotriazole (trade name "SEESORB 703", manufactured by Cipro Kasei Co., Ltd.), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-methyl-6-(3,4,5,6-tetrahydrophthalimidylmethyl)phenol (trade name "SEESORB 706", manufactured by Cipro Kasei Co., Ltd.), 2-(4-Benzoyloxy-2-hydroxyphenyl)-5-chloro-2H-benzotriazole (trade name "SEESORB", manufactured by Cipro Kasei Co., Ltd.) Examples thereof include 2-tert-butyl-6-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)-4-methylphenol (trade name "KEMISORB 73", manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd.), 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-tert-octylphenol] (trade name "ADEKA STAP LA-31", manufactured by ADEKA Co., Ltd.), 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-p-cellulose (trade name "ADEKA STAP LA-32", manufactured by ADEKA Co., Ltd.), 2-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)-6-tert-butyl-4-methylphenol (trade name "ADEKA STAP LA-36", manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
상기 자외선 흡수제는 염료 또는 안료여도 된다. 안료로서는, 예를 들어 아조계, 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계, 레이크계, 페릴렌계, 페리논계, 퀴나크리돈계, 티오인디고계, 디옥산진계, 이소인돌리논계, 퀴노프탈론계 등의 안료를 들 수 있다. 염료로서는 아조계, 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계, 카르보닐계, 인디고계, 퀴논이민계, 메틴계, 퀴놀린계, 니트로계 등의 염료를 들 수 있다.The above ultraviolet absorber may be a dye or a pigment. Examples of the pigment include azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, lake pigments, perylene pigments, perinone pigments, quinacridone pigments, thioindigo pigments, dioxanzine pigments, isoindolinone pigments, and quinophthalone pigments. Examples of the dye include azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, carbonyl pigments, indigo pigments, quinone imines, methine pigments, quinoline pigments, and nitro pigments.
상기 자외선 흡수제를 구성하는 화합물의 분자량은, 바람직하게는 1000 이하이고, 보다 바람직하게는 800 이하이고, 더욱 바람직하게는 600 이하이다. 상기 범위의 분자량을 갖는 자외선 흡수제는 베이스 폴리머와의 상용성이 우수하므로, 당해 자외선 흡수제를 사용하면, 레이저광이 조사되었을 때에 레이저 조사 개소에만 변형이 발생하기 때문에, 매우 낮은 레이저 에너지로 박리하는 것이 가능해진다. 그 결과, 점착제층의 열 분해를 방지할 수 있다. 이러한 점착제층을 형성하면, 피착체를 오염시키기 어려운 점착 시트를 얻을 수 있다. 자외선 흡수제를 구성하는 화합물의 분자량의 하한은, 예를 들어 100이다.The molecular weight of the compound constituting the above ultraviolet absorber is preferably 1000 or less, more preferably 800 or less, and even more preferably 600 or less. Since the ultraviolet absorber having a molecular weight in the above range has excellent compatibility with the base polymer, when the ultraviolet absorber is used, deformation occurs only at the laser irradiation location when irradiated with laser light, so that peeling with extremely low laser energy becomes possible. As a result, thermal decomposition of the adhesive layer can be prevented. When such an adhesive layer is formed, an adhesive sheet that is difficult to contaminate an adherend can be obtained. The lower limit of the molecular weight of the compound constituting the ultraviolet absorber is, for example, 100.
상기 자외선 흡수제의 최대 흡수 파장은, 바람직하게는 300㎚ 내지 450㎚이고, 보다 바람직하게는 320㎚ 내지 400㎚이고, 더욱 바람직하게는 330㎚ 내지 380㎚이다. 자외선 흡수제의 최대 흡수 파장과 상기 광 중합 개시제의 최대 흡수 파장의 차는, 바람직하게 10㎚ 이상이고, 보다 바람직하게는 25㎚ 이상이다.The maximum absorption wavelength of the above ultraviolet absorbent is preferably 300 nm to 450 nm, more preferably 320 nm to 400 nm, and even more preferably 330 nm to 380 nm. The difference between the maximum absorption wavelength of the ultraviolet absorbent and the maximum absorption wavelength of the photopolymerization initiator is preferably 10 nm or more, and more preferably 25 nm or more.
상기 자외선 흡수제의 함유 비율은 점착제층 중의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1중량부 내지 50중량부이고, 보다 바람직하게는 2중량부 내지 30중량부이고, 더욱 바람직하게는 3중량부 내지 25중량부이다. 이러한 범위이면, 활성 에너지선의 조사에 의해 점착제층 전체의 점착력을 양호하게 저하시킬 때, 점착제층의 경화가 양호하게 진행되고, 또한 레이저광 조사에 의해, 양호한 박리성을 나타내는 점착 시트를 얻을 수 있다.The content ratio of the above ultraviolet absorber is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 2 to 30 parts by weight, and even more preferably 3 to 25 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the base polymer in the adhesive layer. Within this range, when the adhesive strength of the entire adhesive layer is satisfactorily reduced by irradiation with an active energy ray, curing of the adhesive layer progresses satisfactorily, and furthermore, an adhesive sheet exhibiting good peelability can be obtained by irradiation with a laser light.
(광 중합 개시제)(photopolymerization initiator)
광 중합 개시제로서는, 임의의 적절한 개시제를 사용할 수 있다. 광 중합 개시제로서는, 예를 들어 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, α-히드록시-α,α'-디메틸아세토페논, 2-메틸-2-히드록시프로피오페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 α-케톨계 화합물; 메톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노프로판-1 등의 아세토페논계 화합물; 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 아니소인메틸에테르 등의 벤조인에테르계 화합물; 벤질디메틸케탈 등의 케탈계 화합물; 2-나프탈렌술포닐클로라이드 등의 방향족 술포닐클로라이드계 화합물; 1-페논-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심 등의 광 활성 옥심계 화합물; 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 화합물; 캄포퀴논; 할로겐화 케톤; 아실포스핀옥시드; 아실포스포네이트 등을 들 수 있다. 광 중합 개시제의 사용량은, 임의의 적절한 양으로 설정될 수 있다.As the photopolymerization initiator, any appropriate initiator can be used. As the photopolymerization initiator, for example, α-ketol compounds such as 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, α-hydroxy-α,α'-dimethylacetophenone, 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; acetophenone compounds such as methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and 2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-2-morpholinopropane-1; benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and anisoin methyl ether; ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal; Examples thereof include aromatic sulfonyl chloride compounds such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; photoactive oxime compounds such as 1-phenone-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime; benzophenone compounds such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, and 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone; thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; camphorquinone; halogenated ketones; acylphosphine oxides; and acylphosphonates. The amount of the photopolymerization initiator to be used can be set to any appropriate amount.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광 중합 개시제로서, 광 분해성기를 2개 이상(바람직하게는 2개 내지 5개) 갖는 광 중합 개시제가 사용된다. 이러한 광 중합 개시제를 사용하면, 활성 에너지선(예를 들어, 자외선) 조사에 의해서 고탄성이 될 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층을 고탄성률화할 수 있으면, 저출력의 레이저광에 의해, 상기의 박리 조작을 행할 수 있다. 광 분해성기란, 조사된 활성 에너지선을 흡수하여 라디칼을 발생시키는 관능기를 의미하고, 그 구체예로서는 케톤기, 할로겐화 알킬기, 에스테르기, 술폰기, 퍼옥시기 등을 들 수 있다.In one embodiment, as the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator having two or more photodecomposable groups (preferably 2 to 5) is used. When such a photopolymerization initiator is used, an adhesive layer that can be made highly elastic by irradiation with an active energy ray (e.g., ultraviolet ray) can be formed. If the adhesive layer can be made highly elastic, the peeling operation described above can be performed by a low-power laser light. The photodecomposable group means a functional group that absorbs an irradiated active energy ray and generates a radical, and specific examples thereof include a ketone group, a halogenated alkyl group, an ester group, a sulfone group, a peroxy group, and the like.
광 분해성기를 2개 이상 갖는 광 중합 개시제로서는, 예를 들어 2-히드록시-1-[4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐]-2-메틸-프로판-1-온(상품명 Omnirad 127, BASF 재팬제), 1-[4-(4-벤조익실페닐설파닐)페닐]-2-메틸-2-(4-메틸페닐술포닐)프로판-1-온(상품명 ESURE1001M), 메틸벤조일포메이트(상품명 SPEEDCURE MBF LAMBSON제), O-에톡시이미노-1-페닐프로판-1-온(상품명 SPEEDCURE PDO LAMBSON제), 올리고[2-히드록시-2-메틸-4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논(상품명 ESCURE KIPI50 LAMBERTI제) 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator having two or more photolytic groups include 2-hydroxy-1-[4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl]-2-methyl-propan-1-one (trade name: Omnirad 127, manufactured by BASF Japan), 1-[4-(4-benzoicylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(4-methylphenylsulfonyl)propan-1-one (trade name: ESURE1001M), methyl benzoyl formate (trade name: SPEEDCURE MBF manufactured by LAMBSON), O-ethoxyimino-1-phenylpropan-1-one (trade name: SPEEDCURE PDO manufactured by LAMBSON), and oligo[2-hydroxy-2-methyl-4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone (trade name: ESCURE KIPI50 manufactured by LAMBERTI).
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광 중합 개시제로서, 인 원자 및/또는 질소 원자를 포함하는 화합물이 사용된다. 이러한 광 중합 개시제로서는, 예를 들어 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온(상품명 Omnirad 907, BASF 재팬제), 2-벤질-2-(디메틸아미노)-4'-모르폴리노부티로페논(상품명 Omnirad 369, BASF 재팬제), 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)부탄-1-온(상품명 Omnirad 379, BASF 재팬제), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드(상품명 Omnirad 819, BASF 재팬제), 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥시드(상품명 Omnirad TPO, BASF 재팬제), 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐-2-(O-벤조일옥심)](상품명 Omnirad OXE01, BASF 재팬제), 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(상품명 Omnirad OXE02, BASF 재팬제) 등을 들 수 있다. 이러한 광 중합 개시제를 사용하면, 활성 에너지선(예를 들어, 자외선) 조사에 의해서 고탄성이 될 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층을 고탄성률화할 수 있으면, 저출력의 레이저광에 의해, 상기의 박리 조작을 행할 수 있다.In one embodiment, a compound containing a phosphorus atom and/or a nitrogen atom is used as the photopolymerization initiator. Examples of such photopolymerization initiators include 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one (trade name Omnirad 907, manufactured by BASF Japan), 2-benzyl-2-(dimethylamino)-4'-morpholinobutyrophenone (trade name Omnirad 369, manufactured by BASF Japan), 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)butan-1-one (trade name Omnirad 379, manufactured by BASF Japan), bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphineoxide (trade name Omnirad 819, manufactured by BASF Japan), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphineoxide (trade name Omnirad TPO, manufactured by BASF Japan), Examples thereof include 1,2-octanedione-1-[4-(phenylthio)phenyl-2-(O-benzoyloxime)] (trade name: Omnirad OXE01, manufactured by BASF Japan), ethanone-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-1-(O-acetyloxime) (trade name: Omnirad OXE02, manufactured by BASF Japan). When such a photopolymerization initiator is used, an adhesive layer that can be made highly elastic by irradiation with an active energy ray (e.g., ultraviolet ray) can be formed. If the adhesive layer can be made highly elastic, the above-mentioned peeling operation can be performed by a low-output laser light.
상기 광 중합 개시제의 함유 비율은 점착제층 중의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1중량부 내지 30중량부이고, 보다 바람직하게는 2중량부 내지 20중량부이고, 더욱 바람직하게는 3중량부 내지 15중량부이다. 이러한 범위이면, 활성 에너지선의 조사에 의해 점착제층 전체의 점착력을 양호하게 저하시킬 때, 점착제층의 경화가 양호하게 진행되고, 또한 레이저광 조사에 의한 점착제층의 변형량이 많아, 양호한 박리성을 나타내는 점착 시트를 얻을 수 있다.The content ratio of the above photopolymerization initiator is preferably 1 to 30 parts by weight, more preferably 2 to 20 parts by weight, and even more preferably 3 to 15 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the base polymer in the adhesive layer. In this range, when the adhesive strength of the entire adhesive layer is satisfactorily reduced by irradiation with an active energy ray, curing of the adhesive layer progresses satisfactorily, and furthermore, the amount of deformation of the adhesive layer due to irradiation with a laser light is large, so that an adhesive sheet exhibiting good peelability can be obtained.
C. 기재C. Description
상기 기재는 임의의 적절한 수지로 구성될 수 있다. 해당 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리부텐계 수지, 폴리메틸펜텐계 수지 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 불소계 수지, 실리콘계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아이오노머 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 바람직하게는 폴리올레핀계 수지이다.The above-mentioned description may be composed of any suitable resin. Examples of the resin include polyolefin resins such as polyethylene resins, polypropylene resins, polybutene resins, and polymethylpentene resins, polyurethane resins, polyester resins, polyimide resins, polyetherketone resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, fluorine resins, silicone resins, cellulose resins, and ionomer resins. Among them, a polyolefin resin is preferable.
상기 기재의 두께는, 바람직하게는 2㎛ 내지 300㎛이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 내지 100㎛이고, 더욱 바람직하게는 2㎛ 내지 50㎛이다.The thickness of the above-mentioned substrate is preferably 2 µm to 300 µm, more preferably 2 µm to 100 µm, and even more preferably 2 µm to 50 µm.
기재의 파장 355㎚의 광 투과율은, 바람직하게는 70% 이상이고, 보다 바람직하게는 80% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90% 이상이고, 특히 바람직하게는 95% 이상이다. 기재의 전광선 투과율의 상한은, 예를 들어 98%(바람직하게는 99%)이다.The light transmittance of the substrate at a wavelength of 355 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. The upper limit of the total light transmittance of the substrate is, for example, 98% (preferably 99%).
D. 점착 시트의 제조 방법D. Method for manufacturing adhesive sheet
상기 점착 시트는, 임의의 적절한 방법에 의해 제조될 수 있다. 점착 시트는, 예를 들어 기재 또는 박리 라이너 상에, 상기 점착제를 도공하여 얻어질 수 있다. 도공 방법으로서는 바 코터 도공, 에어 나이프 도공, 그라비아 도공, 그라비아 리버스 도공, 리버스 롤 도공, 립 도공, 다이 도공, 딥 도공, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 등 다양한 방법을 채용할 수 있다. 또한, 별도, 박리 라이너에 점착제층을 형성한 후, 그것을 기재에 접합하는 방법 등을 채용해도 된다.The above-mentioned adhesive sheet can be manufactured by any suitable method. The adhesive sheet can be obtained, for example, by coating the adhesive on a substrate or a release liner. Various methods such as bar coater coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, and screen printing can be adopted as the coating method. In addition, a method of separately forming an adhesive layer on a release liner and then bonding it to a substrate, etc. can also be adopted.
E. 전자 부품의 이송 방법E. Method of transporting electronic components
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착 시트를 사용한 전자 부품의 이송 방법이 제공된다. 당해 이송 방법은, 예를 들어 기판 상에 배열된 복수의 전자 부품을, 상기 점착 시트의 점착제층 상에 전사하는 제1 공정; 및 당해 점착 시트 상의 전자 부품을 다른 부재에 전사하는 제2 공정을 포함한다. 바람직하게는, 제1 공정 및 제2 공정에 있어서, 동일한 점착 시트가 사용된다. 즉, 상기 이송 방법에 있어서는, 추가의 전사 공정을 포함하지 않고, 상기 전자 부품의 이송이 행해질 수 있다.In one embodiment, a method for transferring electronic components using the adhesive sheet is provided. The transfer method includes, for example, a first step of transferring a plurality of electronic components arranged on a substrate onto an adhesive layer of the adhesive sheet; and a second step of transferring the electronic components on the adhesive sheet to another member. Preferably, the same adhesive sheet is used in the first step and the second step. That is, in the transfer method, the electronic components can be transferred without including an additional transfer step.
제1 공정에 있어서, 기판으로부터 점착 시트에의 전자 부품의 전사는 기판/전자 부품 계면 부분에 레이저광을 조사하는 것을 포함하는 프로세스, 즉, 레이저 리프트오프 프로세스에 의해 행해질 수 있다. 레이저 리프트오프 프로세스의 여러 조건은, 임의의 적절한 조건으로 할 수 있다.In the first process, the transfer of the electronic component from the substrate to the adhesive sheet can be performed by a process including irradiating a laser light to a portion of the substrate/electronic component interface, i.e., a laser lift-off process. Various conditions of the laser lift-off process can be any suitable conditions.
상기 기판으로서는, 예를 들어 사파이어 기판 등의 경질 기판이 사용될 수 있다.As the above substrate, a hard substrate such as a sapphire substrate can be used, for example.
하나의 실시 형태에 있어서는, 제2 공정은 이하의 조작을 포함하는, 즉, 제2 공정은 (i) 점착 시트에 활성 에너지선(예를 들어, 자외선)을 조사하여, 점착 시트의 점착제층의 점착력을 저하시키고, (ii) 박리성 발현을 원하는 개소에 레이저광을 조사하여, 점착제층에 변형을 발생시켜서 점착력을 더 저하시키는 것을 포함한다. 당해 방법에 의하면, 레이저광을 조사한 개소에 있어서만, 전자 부품을 박리시킬 수 있다. 본 발명의 점착 시트를 사용하면, 자연 낙하할 정도까지 점착력을 저하시킬 수 있으므로, 매우 작은(예를 들어, 한 변이 50㎛인 정사각형) 전자 부품이어도, 각각 따로 박리시키는 것이 가능하다.In one embodiment, the second process includes the following operations, namely, the second process includes (i) irradiating the adhesive sheet with an active energy ray (e.g., ultraviolet ray) to reduce the adhesive strength of the adhesive layer of the adhesive sheet, and (ii) irradiating a location where peelability is desired with laser light to cause deformation in the adhesive layer to further reduce the adhesive strength. According to the method, electronic components can be peeled only at the location where the laser light has been irradiated. Since the adhesive sheet of the present invention can reduce the adhesive strength to the extent that it naturally falls off, even very small electronic components (e.g., a square with a side of 50 µm) can be peeled separately.
상기 (i)에 있어서의 활성 에너지선은 점착제층의 표면 전체면에 조사될 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는 적산 광량 200mJ/㎠ 내지 600mJ/㎠의 자외선이 조사된다.The active energy ray in the above (i) can be irradiated to the entire surface of the adhesive layer. In one embodiment, ultraviolet rays having an accumulated light amount of 200 mJ/cm2 to 600 mJ/cm2 are irradiated.
상기 (ii)에 있어서의 레이저광으로서는, 예를 들어 파장 200㎚ 내지 360㎚(바람직하게는 355㎚)의 레이저광이 사용된다. 레이저광 출력은, 예를 들어 100mJ/㎠ 내지 1200mJ/㎠이다.As the laser light in the above (ii), for example, a laser light having a wavelength of 200 nm to 360 nm (preferably 355 nm) is used. The laser light output is, for example, 100 mJ/cm2 to 1200 mJ/cm2.
하나의 실시 형태에 있어서, 상기 전자 부품은 미니 LED 또는 마이크로 LED이다.In one embodiment, the electronic component is a mini LED or micro LED.
실시예Example
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예에 있어서의 시험 및 평가 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 「부」 및 「%」는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited to these examples. The test and evaluation methods in the examples are as follows. In addition, unless specifically stated, "part" and "%" are based on weight.
(1) 점착력(1) Adhesion
점착 시트의 PET 박리 라이너를 박리하고, 두께 25㎛의 PET(도레이제 루미러 S10)를 접합하였다. 그 후 다른 한쪽의 면의 PET 박리 라이너를 박리하고, 2㎏의 롤러를 1왕복에 의해 SUS304에 접합하고, JIS Z 0237:2000에 준한 방법(박리 각도 180°, 박리 속도(인장 속도) 300㎜/min, 측정 온도: 23℃)으로 점착력을 측정하여 초기 점착력으로 하였다.The PET release liner of the adhesive sheet was peeled, and a PET (Lumilar S10 manufactured by Toray) having a thickness of 25 ㎛ was bonded. Thereafter, the PET release liner on the other side was peeled, and the sheet was bonded to SUS304 by one reciprocation of a 2 kg roller, and the adhesive strength was measured by a method according to JIS Z 0237:2000 (peel angle 180°, peel speed (tensile speed) 300 mm/min, measurement temperature: 23°C), and this was used as the initial adhesive strength.
마찬가지의 방법으로, SUS304에 점착 시트를 접합한 후, 점착 시트측으로부터 자외선 조사 장치(닛토 세이키제, 상품명 「UM-810」)를 사용하고, 고압 수은등의 자외선(특정 파장: 365㎚, 적산 광량: 300mJ/㎠)을 전체면에 조사한 후, 마찬가지로 점착력을 측정하고, 경화 후 점착력으로 하였다.In the same way, after bonding an adhesive sheet to SUS304, an ultraviolet irradiation device (product name "UM-810" manufactured by Nitto Seiki) was used from the adhesive sheet side, and ultraviolet rays (specific wavelength: 365 nm, accumulated light intensity: 300 mJ/cm2) from a high-pressure mercury lamp were irradiated to the entire surface, and the adhesive strength was measured in the same way, which was taken as the adhesive strength after curing.
(2) 파장 355㎚ 광 투과율(2) Light transmittance at wavelength 355 nm
점착 시트의 PET 박리 라이너를 박리하고, 대형 슬라이드 글래스(마츠나미 글래스제, 상품명 「S9111」)에 핸드 롤러를 사용하여 접합하고, 다른 한쪽의 면의 PET 박리 라이너를 박리한 상태에서 측정을 행하였다. 구체적으로는, 분광 광도계(상품명 「분광 광도계 U-4100」, 히타치 하이테크 사이언스제)를 사용하여, 대형 슬라이드 글래스 상의 점착 시트에 대해서, 점착 시트 자체에 있어서의 파장 355㎚의 투과율을 측정하였다.The PET release liner of the adhesive sheet was peeled off, and the sheet was bonded to a large slide glass (product name "S9111" manufactured by Matsunami Glass) using a hand roller, and measurements were made while the PET release liner on one side was peeled off. Specifically, a spectrophotometer (product name "Spectrophotometer U-4100" manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used to measure the transmittance at a wavelength of 355 nm of the adhesive sheet itself on the large slide glass.
(3) 압입 탄성률(3) Compression elastic modulus
점착 시트의 PET 박리 라이너를 박리하고, 대형 슬라이드 글래스(마츠나미 글래스제, 상품명 「S9111」)에 핸드 롤러를 사용하여 접합하였다. 얻어진 샘플의 슬라이드 글래스면측으로부터 자외선 조사 장치(닛토 세이키제, 상품명 「UM-810」)를 사용하여, 고압 수은등의 자외선(특정 파장: 365㎚, 적산 광량: 460mJ/㎠)을 전체면에 조사하였다. 그 후, 다른 한쪽의 PET 박리 라이너를 박리하여 점착제층을 노출시키고, Hysitron사제 트라이보 인덴터 TI-950을 사용하여, 압입 탄성률을 측정하였다. 측정은 23℃에서의 단일 압입법에 의해, 압입 속도 10㎚/s, 압입 깊이 100㎚로 행하였다.The PET release liner of the adhesive sheet was peeled off, and it was bonded to a large slide glass (Matsunami Glass, product name "S9111") using a hand roller. The entire surface of the obtained sample was irradiated with ultraviolet rays (specific wavelength: 365 nm, accumulated light intensity: 460 mJ/cm2) of a high-pressure mercury lamp from the slide glass side using an ultraviolet irradiation device (Nitto Seiki, product name "UM-810"). Thereafter, the other PET release liner was peeled off to expose the adhesive layer, and the indentation elastic modulus was measured using a tribo indenter TI-950 manufactured by Hysitron. The measurement was performed by a single indentation method at 23°C, at an indentation speed of 10 nm/s, and an indentation depth of 100 nm.
(4) 600초 후의 응력 완화율(4) Stress relaxation rate after 600 seconds
점착제층을 길이 50㎜×폭 40㎜의 사이즈로 잘라내어, 둥근, 원기둥 형상 시험편(직경: 0.5643㎜, 길이: 40㎜)을 얻었다. 이 시험편을 23℃, 50%RH의 분위기 하에서, 초기 척간 거리 20㎜로 하고, 인장 속도 50㎜/분으로 인장 시험기(상품명 「AFX-50NX」, 시마즈 세이사쿠쇼사제)를 사용하여, 연신률 50%까지 연신(신장)시켜서 정지하여, 응력값 A(㎫)를 측정하였다. 그 후, 정지로부터 600초 경과하였을 때의 응력값 B(㎫)를 측정하였다. 응력값 A, B로부터 하기 식에 의해, 응력 완화율을 구하였다.The adhesive layer was cut to a size of 50 mm in length × 40 mm in width to obtain a round, cylindrical test piece (diameter: 0.5643 mm, length: 40 mm). This test piece was stretched (elongated) to an elongation of 50% using a tensile tester (product name "AFX-50NX", manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.) at an initial chuck distance of 20 mm and a tensile speed of 50 mm/min in an atmosphere of 23°C and 50% RH, then stopped, and the stress value A (MPa) was measured. Thereafter, the stress value B (MPa) when 600 seconds had elapsed from the stop was measured. The stress relaxation rate was obtained from the stress values A and B by the following formula.
응력 완화율(%)=(A-B)/A×100Stress relaxation rate (%) = (A-B)/A × 100
(5) 레이저 리프트오프(LLO) 평가(5) Laser lift-off (LLO) evaluation
한 변이 4인치인 석영 유리 상에 점착제를 접합한 후, LED 칩이 점착제면에 오도록 사파이어 기반을 접합하였다. 접합은 진공+프레스 기구 구비 보호 테이프 첩부 장치(상품명 「DV 3000」, 닛토 세이키사제)를 사용하여, 진공 시간: 90초간, 압착 조건: 0.25㎫, 압착 시간: 0초간으로 하였다.After bonding the adhesive on a quartz glass surface with one side measuring 4 inches, a sapphire substrate was bonded so that the LED chip was on the adhesive surface. Bonding was performed using a protective tape bonding device equipped with a vacuum + press mechanism (trade name: “DV 3000”, manufactured by Nitto Seiki Co., Ltd.), with the vacuum time: 90 seconds, the pressing conditions: 0.25 MPa, and the pressing time: 0 seconds.
압착 완료 후, 사파이어면으로부터 레이저(엠 레이즈사제 엑시머 레이저)를 조사하고, LLO를 실시하였다. LLO 조건은, 파장: 248㎚, 에너지 밀도: 900mJ/㎤로 하였다. LLO 후, 사파이어 유리를 제거하고, 수율을 확인하였다. 수율: 90% 이상을 양호(○), 80% 이상 90% 미만을 가능(△), 80% 미만을 불가(×)로 하였다.After the pressing was completed, a laser (excimer laser manufactured by M-Rayze) was irradiated from the sapphire surface to perform LLO. The LLO conditions were wavelength: 248 nm, energy density: 900 mJ/cm2. After the LLO, the sapphire glass was removed and the yield was confirmed. Yield: 90% or more was considered good (○), 80% or more and less than 90% was considered possible (△), and less than 80% was considered unacceptable (×).
점착 테이프 상의 LED 칩을 공초점 현미경(제품명 「OLS 5100」, 시마즈 세이사쿠쇼사제)을 사용하여 관찰하고, 칩 100개의 기울기 각도를 측정하여, 평균값을 산출하였다. 기울기 평균값이 0.15° 이하인 경우를 우수(◎), 0.15°보다 크고 0.25° 이하인 경우를 양호(○), 0.25°보다 큰 경우를 불가(×)로 하였다.The LED chips on the adhesive tape were observed using a confocal microscope (product name: “OLS 5100”, manufactured by Shimadzu Corporation), the inclination angles of 100 chips were measured, and the average value was calculated. When the average inclination value was 0.15° or less, it was rated as excellent (◎), when it was greater than 0.15° and less than 0.25°, it was rated as good (○), and when it was greater than 0.25°, it was rated as unacceptable (×).
(6) Laser Transfer 평가(6) Laser Transfer Evaluation
LLO 후, 얻어진 샘플의 석영 유리면측으로부터, 질소 분위기 하에서 자외선 조사 장치(상품명 「UM 810」, 닛토 세이키사제)를 사용하여, 점착제를 광 경화시켰다. 경화 조건은 고압 수은등의 자외선을 사용하여, 파장: 365㎚ 환산, 460mJ/㎠로 하였다.After LLO, the adhesive was photo-cured from the quartz glass side of the obtained sample under a nitrogen atmosphere using an ultraviolet irradiation device (trade name “UM 810”, manufactured by Nitto Seiki Co., Ltd.). The curing conditions were ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp, wavelength: 365 nm (equivalent to 460 mJ/cm2).
그 후, 석영 유리측으로부터 목적으로 하는 칩 위치에만 레이저(파장: 355㎚, 펄스 폭: 5ns)를 조사하여, Laser Transfer를 행하였다. 100mJ/㎠로부터 1200mJ/㎠까지 100mJ/㎠ 간격의 레이저광을 조사하여, 가장 위치 정밀도가 양호했던 에너지를 Energy값으로 하고, 500mJ/㎠ 이하인 경우를 우수(◎), 500mJ/㎠보다 크고 1000mJ/㎠ 이하인 경우를 양호(○), 1000mJ/㎠보다 큰 경우, 및 1200mJ/㎠로 전사 불가였던 경우를 불가(×)로 하였다.Thereafter, laser (wavelength: 355 nm, pulse width: 5 ns) was irradiated only to the target chip position from the quartz glass side to perform Laser Transfer. Laser light was irradiated at 100 mJ/cm2 intervals from 100 mJ/cm2 to 1200 mJ/cm2, and the energy with the best positional accuracy was set as the Energy value. A case of 500 mJ/cm2 or less was rated as Excellent (◎), a case of more than 500 mJ/cm2 and less than or equal to 1000 mJ/cm2 was rated as Good (○), and a case of more than 1000 mJ/cm2 and a case where transfer was not possible at 1200 mJ/cm2 was rated as Unable (×).
전사 후의 칩을 디지털 마이크로스코프(상품명 「VHX2000」, 키엔스사제)를 사용하여 관찰하고, 위치 정밀도를 평가하였다. 칩 긴 변 방향의 어긋남 거리가 2㎛ 이하인 경우를 우수(◎), 2㎛보다 크고 5㎛ 이하인 경우를 양호(○), 5㎛보다 큰 경우를 불가(×)로 하였다.The chips after transcription were observed using a digital microscope (product name: "VHX2000", manufactured by Keyence Co., Ltd.) and the positional accuracy was evaluated. When the misalignment distance in the long side of the chip was 2 ㎛ or less, it was rated as excellent (◎), when it was greater than 2 ㎛ and less than 5 ㎛, it was rated as good (○), and when it was greater than 5 ㎛, it was rated as unacceptable (×).
[제조예 1] 아크릴 폴리머 A의 조정[Manufacturing Example 1] Adjustment of acrylic polymer A
2-메톡시에틸아크릴레이트 100중량부, 아크릴로일모르폴린 27중량부, 아크릴산2-히드록시에틸 22중량부를 혼합하여, 모노머 조성물을 조제하였다.A monomer composition was prepared by mixing 100 parts by weight of 2-methoxyethyl acrylate, 27 parts by weight of acryloylmorpholine, and 22 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate.
이어서, 질소 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 반응 용기에 질소를 도입하고, 질소 분위기 하에서, 톨루엔 500중량부, 상기 모노머 조성물 149중량부, 및 벤조일퍼옥사이드(BPO) 0.3중량부를 투입하고, 60℃에서 5시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 24중량부를 첨가하여 반응시켜서, 공중합체 중의 아크릴산2-히드록시에틸의 측쇄 말단 OH기에 NCO기를 부가하고, 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 아크릴계 폴리머 A를 함유하는 아크릴계 폴리머 용액 A를 얻었다.Next, nitrogen was introduced into a reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, and under a nitrogen atmosphere, 500 parts by weight of toluene, 149 parts by weight of the above monomer composition, and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide (BPO) were charged and stirred at 60°C for 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and 24 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added and reacted to obtain an acrylic polymer solution A containing an acrylic polymer A having a carbon-carbon double bond at the terminal by adding an NCO group to the side chain terminal OH group of 2-hydroxyethyl acrylate in the copolymer.
[제조예 2] 아크릴 폴리머 B의 조정[Manufacturing Example 2] Adjustment of Acrylic Polymer B
2-에틸헥실아크릴레이트 100중량부, 아크릴로일모르폴린 25.5중량부, 히드록시에틸아크릴레이트 18.5중량부를 혼합하여, 모노머 조성물을 조제하였다.A monomer composition was prepared by mixing 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 25.5 parts by weight of acryloylmorpholine, and 18.5 parts by weight of hydroxyethyl acrylate.
이어서, 질소 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 반응 용기에 질소를 도입하고, 질소 분위기 하에서, 톨루엔 60중량부, 상기 모노머 조성물 144중량부, 및 벤조일퍼옥사이드(BPO) 0.3중량부를 투입하고, 60℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 12중량부를 첨가하여 반응시켜서, 공중합체 중의 아크릴산2-히드록시에틸의 측쇄 말단 OH기에 NCO기를 부가하고, 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 아크릴계 폴리머 B를 함유하는 아크릴계 폴리머 용액 B를 얻었다.Next, nitrogen was introduced into a reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, and under a nitrogen atmosphere, 60 parts by weight of toluene, 144 parts by weight of the above monomer composition, and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide (BPO) were charged and stirred at 60°C for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and 12 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added and reacted to obtain an acrylic polymer solution B containing an acrylic polymer B having a carbon-carbon double bond at the terminal by adding an NCO group to the side chain terminal OH group of 2-hydroxyethyl acrylate in the copolymer.
[제조예 3] 아크릴 폴리머 C의 조정[Manufacturing Example 3] Adjustment of acrylic polymer C
이소노닐아크릴레이트 100중량부, 히드록시에틸아크릴레이트 32중량부를 혼합하여, 모노머 조성물을 조정하였다.The monomer composition was adjusted by mixing 100 parts by weight of isononyl acrylate and 32 parts by weight of hydroxyethyl acrylate.
이어서, 질소 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 반응 용기에 질소를 도입하고, 질소 분위기 하에서, 아세트산에틸 280중량부, 상기 모노머 조성물 132중량부, 및 벤조일퍼옥사이드(BPO) 0.3중량부를 투입하고, 60℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 56중량부를 첨가하여 반응시켜서, 공중합체 중의 아크릴산2-히드록시에틸의 측쇄 말단 OH기에 NCO기를 부가하고, 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 아크릴계 폴리머 C를 함유하는 아크릴계 폴리머 용액 C를 얻었다.Next, nitrogen was introduced into a reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, and under a nitrogen atmosphere, 280 parts by weight of ethyl acetate, 132 parts by weight of the above monomer composition, and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide (BPO) were charged and stirred at 60°C for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and 56 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added and reacted to obtain an acrylic polymer solution C containing an acrylic polymer C having a carbon-carbon double bond at the terminal by adding an NCO group to the side chain terminal OH group of 2-hydroxyethyl acrylate in the copolymer.
[제조예 4] 아크릴 폴리머 D의 조정[Manufacturing Example 4] Adjustment of Acrylic Polymer D
2-에틸헥실아크릴레이트 88.8중량부, 히드록시에틸아크릴레이트 11.2중량부를 혼합하여, 모노머 조성물을 조정하였다.The monomer composition was adjusted by mixing 88.8 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate and 11.2 parts by weight of hydroxyethyl acrylate.
이어서, 질소 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 반응 용기에 질소를 도입하고, 질소 분위기 하에서, 톨루엔 150중량부, 상기 모노머 조성물 100중량부, 및 벤조일퍼옥사이드(BPO) 0.3중량부를 투입하고, 60℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 12중량부를 첨가하여 반응시켜서, 공중합체 중의 아크릴산2-히드록시에틸의 측쇄 말단 OH기에 NCO기를 부가하고, 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 아크릴계 폴리머 D를 함유하는 아크릴계 폴리머 용액 D를 얻었다.Next, nitrogen was introduced into a reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, and under a nitrogen atmosphere, 150 parts by weight of toluene, 100 parts by weight of the above monomer composition, and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide (BPO) were charged and stirred at 60°C for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and 12 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added and reacted to obtain an acrylic polymer solution D containing an acrylic polymer D having a carbon-carbon double bond at the terminal by adding an NCO group to the side chain terminal OH group of 2-hydroxyethyl acrylate in the copolymer.
[실시예 1][Example 1]
(점착제의 조제)(Preparation of adhesive)
아크릴 폴리머 A를 100중량부 포함하는 아크릴계 폴리머 용액 A에, 가교제(미츠이 가가쿠사제, 상품명 「타케네이트 D-101A」) 3중량부, 자외선 흡수제(BASF사제, 상품명 「Tinuvin PS」) 5중량부, 광 중합 개시제(BASF사제, 상품명 「Omnirad TPO」) 3중량부를 첨가하여 점착제(1)를 얻었다.To an acrylic polymer solution A containing 100 parts by weight of acrylic polymer A, 3 parts by weight of a crosslinking agent (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., trade name “Takenate D-101A”), 5 parts by weight of an ultraviolet absorber (manufactured by BASF Co., Ltd., trade name “Tinuvin PS”), and 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF Co., Ltd., trade name “Omnirad TPO”) were added, thereby obtaining an adhesive (1).
(점착 시트)(Adhesive sheet)
PET 박리 라이너(두께: 38㎛)의 실리콘 처리면에, 상기 점착제(1)를 도포하고, 그 후, 130℃에서 2분간 가열하여, 두께 5㎛의 점착제층을 형성하였다.The adhesive (1) was applied to the silicone-treated surface of a PET release liner (thickness: 38 μm), and then heated at 130°C for 2 minutes to form an adhesive layer with a thickness of 5 μm.
핸드 롤러를 사용하여, 점착제층 상에 PET 박리 라이너를 접합하고, 박리 라이너 구비 점착 시트를 얻었다.Using a hand roller, a PET release liner was bonded onto the adhesive layer, and an adhesive sheet provided with a release liner was obtained.
얻어진 박리 라이너 구비 점착 시트를 상기 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The obtained adhesive sheet equipped with a peeling liner was subjected to the above evaluation. The results are shown in Table 1.
[실시예 2 내지 14, 비교예 1 내지 5][Examples 2 to 14, Comparative Examples 1 to 5]
표 1에 나타내는 아크릴계 폴리머 용액, 가교제, 자외선 흡수제, 활성 에너지선 반응성 화합물(올리고머), 광 중합 개시제를, 표 1에 나타내는 배합량으로 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착 시트를 얻었다. 얻어진 점착 시트를 상기 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.An adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the acrylic polymer solution, crosslinking agent, ultraviolet absorber, active energy ray reactive compound (oligomer), and photopolymerization initiator shown in Table 1 were used in the blending amounts shown in Table 1. The obtained adhesive sheet was subjected to the above evaluation. The results are shown in Table 1.
활성 에너지선 반응성 화합물(올리고머)을 사용한 실험예에 있어서는, 점착제의 제조 시에 당해 올리고머를 첨가하여 점착제를 얻었다.In an experimental example using an active energy ray reactive compound (oligomer), the oligomer was added during the production of the adhesive to obtain the adhesive.
실시예 및 비교예에서 사용한 화합물 등은, 이하와 같다.The compounds used in the examples and comparative examples are as follows.
(가교제)(Bridger)
·D-101A: 이소시아네이트계 가교제, 미츠이 가가쿠사제, 상품명 「타케네이트 D-101A」·D-101A: Isocyanate crosslinking agent, manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., trade name "Takenate D-101A"
·코로네이트 HX: 이소시아네이트계 가교제, ·도소사제, 상품명 「코로네이트/HX」·Coronate HX: Isocyanate crosslinking agent, ·Manufactured by Tososa Corporation, trade name "Coronate/HX"
(자외선 흡수제)(UV absorber)
·Tinuvin PS: BASF사제, 상품명 「Tinuvin PS」, 2-(2-히드록시-5-tert-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸·Tinuvin PS: BASF, trade name "Tinuvin PS", 2-(2-hydroxy-5-tert-butylphenyl)-2H-benzotriazole
·Tinuvin 405: BASF사제, 상품명 「Tinuvin 405」, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 (2-에틸헥실)-글리시드산에스테르의 반응 생성물·Tinuvin 405: BASF, trade name "Tinuvin 405", reaction product of 2-(2,4-dihydroxyphenyl)-4,6-bis-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl)-glycidic acid ester
·Tinuvin 460: BASF사제, 상품명 「Tinuvin 460」, 2,4-비스(2-히드록시-4-부톡시페닐)-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3,5-트리아진·Tinuvin 460: BASF, trade name "Tinuvin 460", 2,4-bis(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-6-(2,4-dibuthoxyphenyl)-1,3,5-triazine
·Tinuvin 477: BASF사제, 상품명 「Tinuvin 460」, 히드록시페닐트리아진 화합물·Tinuvin 477: BASF, trade name "Tinuvin 460", hydroxyphenyltriazine compound
·KEMISORB 111: 케미프로 가세이제, 상품명 「KEMISORB 111」·KEMISORB 111: Chemipro Gassei, product name "KEMISORB 111"
·KEMISORB 71: 케미프로 가세이제, 상품명 「KEMISORB 71」,·KEMISORB 71: Chemipro Gassei, product name 「KEMISORB 71」,
(활성 에너지선 반응성 화합물(올리고머))(Active energy ray reactive compound (oligomer))
·UV-1700TL: 우레탄아크릴레이트계 다관능 올리고머, 닛폰 고세이 가가쿠사제, 상품명 「UV-1700TL」 ·UV-1700TL: Urethane acrylate multifunctional oligomer, manufactured by Nippon Gosei Chemical Co., Ltd., product name "UV-1700TL"
·DPHA: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트·DPHA: Dipentaerythritol hexaacrylate
(광 중합 개시제)(photopolymerization initiator)
·Omni 127D: BASF사제, 상품명 「Omnirad 127D」, 화합물명: 2-hydroxy-1-(4-(4-(2-hydroxy-2-methylpropionyl)benzyl)phenyl)-2-methylpropan-1-one·Omni 127D: BASF, trade name 「Omnirad 127D」, chemical compound name: 2-hydroxy-1-(4-(4-(2-hydroxy-2-methylpropionyl)benzyl)phenyl)-2-methylpropan-1-one
·Omni TPO: BASF사제, 상품명 「Omnirad TPO」, 화합물명: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide·Omni TPO: manufactured by BASF, trade name "Omnirad TPO", compound name: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide
·Omni 379: BASF사제, 상품명 「Omnirad 379」, 화합물명: 2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one·Omni 379: BASF, trade name 「Omnirad 379」, chemical name: 2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one
·Omni 369: BASF사제, 상품명 「Omnirad 369」, 화합물명: 2-benzyl-2-(dimethylamino)-4'-morpholinobutyrophenone·Omni 369: BASF, trade name 「Omnirad 369」, chemical name: 2-benzyl-2-(dimethylamino)-4'-morpholinobutyrophenone
10: 점착제층
20: 기재
100, 200: 점착 시트10: Adhesive layer
20: Description
100, 200: Adhesive sheet
Claims (13)
해당 활성 에너지선 경화형 점착제가, 자외선 흡수제 및/또는 광 중합 개시제를 포함하고,
해당 점착제층의 23℃에서의 초기 압입 탄성률이, 4㎫ 이하이고,
해당 점착제층이, 460mJ/㎠의 자외선을 조사한 후에, 23℃에서의 압입 탄성률이 150㎫ 이상이 되는 층이고,
해당 점착 시트의 파장 355㎚의 광 투과율이, 50% 이하인,
점착 시트.An adhesive sheet having an adhesive layer composed of an active energy ray curable adhesive,
The active energy ray curable adhesive comprises an ultraviolet absorber and/or a photopolymerization initiator,
The initial indentation elastic modulus of the adhesive layer at 23°C is 4 MPa or less,
The adhesive layer is a layer having an indentation elastic modulus of 150 MPa or more at 23°C after being irradiated with 460 mJ/cm2 of ultraviolet rays.
The light transmittance of the adhesive sheet at a wavelength of 355 nm is 50% or less.
Adhesive sheet.
기재를 포함하지 않는, 점착 시트.In the first paragraph,
Adhesive sheet, not including substrate.
상기 점착제층의 600초 후의 응력 완화율이 10% 이상인, 점착 시트.In the first paragraph,
An adhesive sheet, wherein the stress relaxation rate of the adhesive layer after 600 seconds is 10% or more.
상기 점착제층의 두께가, 20㎛ 이하인, 점착 시트.In the first paragraph,
An adhesive sheet having a thickness of the adhesive layer of 20㎛ or less.
상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 광 중합 개시제를 포함하고,
해당 광 중합 개시제가, 광 분해성기를 2개 이상 갖는,
점착 시트.In the first paragraph,
The above active energy ray curable adhesive contains a photopolymerization initiator,
The photopolymerization initiator has two or more photolytic groups,
Adhesive sheet.
상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 광 중합 개시제를 포함하고,
해당 광 중합 개시제가, 인 원자 및/또는 질소 원자를 포함하는 화합물인,
점착 시트.In the first paragraph,
The above active energy ray curable adhesive contains a photopolymerization initiator,
The photopolymerization initiator is a compound containing a phosphorus atom and/or a nitrogen atom,
Adhesive sheet.
상기 활성 에너지선 경화형 점착제가 활성 에너지선 반응성 화합물을 포함하고,
해당 활성 에너지선 반응성 화합물이, 관능기를 5개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트인,
점착 시트.In the first paragraph,
The above active energy ray curable adhesive comprises an active energy ray reactive compound,
The active energy ray reactive compound is a polyfunctional (meth)acrylate having five or more functional groups.
Adhesive sheet.
전자 부품의 전사에 사용되는, 점착 시트.In the first paragraph,
An adhesive sheet used for transferring electronic components.
레이저 리프트오프 프로세스에 의한 전자 부품의 캐치, 및 그 후의 레이저광 조사에 의한 전자 부품의 박리를 포함하는 전자 부품의 이송에 사용되는, 점착 시트.In the first paragraph,
An adhesive sheet used for transferring electronic components, including catching electronic components by a laser lift-off process and then peeling off the electronic components by laser light irradiation.
상기 전자 부품이, 미니 LED 또는 마이크로 LED인, 점착 시트.In clause 8 or 9,
An adhesive sheet wherein the electronic component is a mini LED or micro LED.
기판 상에 배열된 복수의 전자 부품을, 상기 점착 시트의 상기 점착제층 상에 전사하는 제1 공정; 및
해당 점착 시트 상의 해당 전자 부품을 다른 부재에 전사하는 제2 공정을 포함하는,
전자 부품의 이송 방법.In Article 11,
A first process of transferring a plurality of electronic components arranged on a substrate onto the adhesive layer of the adhesive sheet; and
A second process comprising transferring the electronic component on the adhesive sheet to another member;
Method of transporting electronic components.
상기 제1 공정 및 상기 제2 공정에 있어서, 동일한 상기 점착 시트가 사용되는, 전자 부품의 이송 방법.In Article 12,
A method for transporting electronic components, wherein the same adhesive sheet is used in the first process and the second process.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2022-014821 | 2022-02-02 | ||
JP2022014821 | 2022-02-02 | ||
JP2022149386A JP2023113108A (en) | 2022-02-02 | 2022-09-20 | Adhesive sheet |
JPJP-P-2022-149386 | 2022-09-20 | ||
PCT/JP2022/038941 WO2023149023A1 (en) | 2022-02-02 | 2022-10-19 | Adhesive sheet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240137586A true KR20240137586A (en) | 2024-09-20 |
Family
ID=87552102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247025008A Pending KR20240137586A (en) | 2022-02-02 | 2022-10-19 | Adhesive sheet |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20240137586A (en) |
TW (1) | TW202344647A (en) |
WO (1) | WO2023149023A1 (en) |
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---|---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2021131518A1 (en) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 日東電工株式会社 | Adhesive sheet |
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-
2022
- 2022-10-19 KR KR1020247025008A patent/KR20240137586A/en active Pending
- 2022-10-19 WO PCT/JP2022/038941 patent/WO2023149023A1/en active Application Filing
- 2022-11-22 TW TW111144523A patent/TW202344647A/en unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW202344647A (en) | 2023-11-16 |
WO2023149023A1 (en) | 2023-08-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20240724 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application |