KR20240096346A - Method for manufacturing coating film and method for manufacturing optical film - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기재의 표면에 임의의 도막을 연속적으로 형성하는 도막의 제조 방법 등에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a coating film, etc., which continuously forms an arbitrary coating film on the surface of a substrate.
장척 띠 형상의 기재의 표면에 도막을 형성하는 방법으로서, 상기 기재의 반송 도중에 상기 기재의 표면에 재료 용액을 도포해서 미경화 도막을 형성하고, 상기 미경화 도막을 건조시킨 후, 상기 미경화 도막을 경화시키는 것이 행하여지고 있다.A method of forming a coating film on the surface of a long strip-shaped substrate, wherein a material solution is applied to the surface of the substrate while the substrate is being transported to form an uncured coating film, the uncured coating film is dried, and then the uncured coating film is formed. Hardening is being done.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 점도가 0.05Pa·s∼500Pa·s인 도포액을 기재에 도포한 후, 기재의 주행 방향을 따라 풍속 8m/sec∼50m/sec의 기체를 도막에 분사하여 건조하는 것이 개시되어 있다.For example, in Patent Document 1, a coating liquid having a viscosity of 0.05 Pa·s to 500 Pa·s is applied to a substrate, and then gas at a wind speed of 8 m/sec to 50 m/sec is sprayed onto the coating film along the running direction of the substrate. Drying is disclosed.
특허문헌 1에는, 상기 점도의 도포액을 사용해서 도막을 형성하고, 그 도막에 상기 기체를 분사함으로써, 두께나 광학 기능의 균일성이 우수한 광학 필름이 얻어진다고 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses that an optical film with excellent uniformity in thickness and optical function is obtained by forming a coating film using a coating liquid of the above-mentioned viscosity and spraying the above-described gas onto the coating film.
그렇지만, 본 발명자들의 연구에 의하면, 특허문헌 1의 방법에서는 도막의 표면에 스트라이프 형상의 불균일이 생길 우려가 있다.However, according to the research of the present inventors, there is a risk that stripe-shaped unevenness may occur on the surface of the coating film in the method of Patent Document 1.
본 발명의 목적은, 미경화 도막의 불균일을 억제하여, 표면의 평활성이 우수한 도막을 제조하는 방법 및 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to provide a method for suppressing the unevenness of an uncured coating film and producing a coating film with excellent surface smoothness and a method for producing an optical film.
본 발명의 제 1 형태에 의한 도막의 제조 방법은, 장척 띠 형상의 기재를 반송 방향 상류측으로부터 반송 방향 하류측으로 연속적으로 반송하면서, 상기 기재에 재료 용액을 도포해서 미경화 도막을 형성하는 공정, 상기 미경화 도막이 형성된 상기 기재를 건조존으로 반송해서 상기 미경화 도막을 건조하는 공정을 갖고, 상기 건조존이 상기 미경화 도막을 풍건하는 풍건존과, 상기 풍건존의 상기 하류측에 설치된 존으로서 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치된 차폐면부가 설치된 건조 완화존을 갖고, 상기 풍건존이 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 상기 반송 방향 하류측을 따라 바람을 분사하고, 상기 기재의 반송 속도 AS와 상기 바람의 풍속 BS가 1≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키고 있다.The method for producing a coating film according to the first aspect of the present invention includes the steps of forming an uncured coating film by applying a material solution to a long strip-shaped substrate while continuously conveying it from the upstream side of the conveyance direction to the downstream side of the conveyance direction, An air-drying zone comprising a step of transporting the base material on which the uncured coating film is formed to a drying zone and drying the uncured coating film, wherein the drying zone air-dries the uncured coating film, and a zone installed on the downstream side of the air-drying zone. It has a drying relief zone provided with shielding surface portions opposed to each other at a predetermined interval with respect to the surface of the uncured coating film, and the air drying zone sprays wind along the downstream side of the conveyance direction with respect to the surface of the uncured coating film, The conveyance speed AS of the substrate and the wind speed BS of the wind satisfy the relationship of 1≤AS/BS≤50.
본 발명의 제 2 형태에 의한 도막의 제조 방법은, 상기 제 1 형태의 제조 방법에 있어서, 상기 재료 용액을 상기 기재에 도포하는 도포점부터 상기 차폐면부에 이르기까지의 상기 기재의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하이며, 상기 차폐면부가 상기 미경화 도막의 표면으로부터 50mm 이상 150mm 이하의 간격 H를 두고 배치되어 있고, 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5m 이상 2m 이하이며, 상기 미경화 도막의 두께 D와 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있다.The manufacturing method of the coating film according to the second aspect of the present invention is the manufacturing method of the first form, wherein the transport length L1 of the substrate from the application point where the material solution is applied to the substrate to the shielding surface portion is exceeds 0 m and is 3 m or less, the shielding surface portion is arranged at a distance H of 50 mm to 150 mm from the surface of the uncured coating film, and the length L2 of the shielding surface portion is 0.5 m to 2 m, and the uncured coating film The thickness D of and the length L2 of the shielding surface portion satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50.
본 발명의 제 3 형태에 의한 도막의 제조 방법은, 장척 띠 형상의 기재를 반송 방향 상류측으로부터 반송 방향 하류측으로 연속적으로 반송하면서, 상기 기재에 재료 용액을 도포해서 미경화 도막을 형성하는 공정, 상기 미경화 도막이 형성된 상기 기재를 건조존으로 반송해서 상기 미경화 도막을 건조하는 공정을 갖고, 상기 건조존이 상기 미경화 도막을 풍건하는 풍건존과, 상기 풍건존의 상기 하류측에 설치된 존으로서 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치된 차폐면부가 설치된 건조 완화존을 갖고, 상기 재료 용액을 상기 기재에 도포하는 도포점부터 상기 차폐면부에 이르기까지의 상기 기재의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하이며, 상기 차폐면부가 상기 미경화 도막의 표면으로부터 50mm 이상 150mm 이하의 간격 H를 두고 배치되어 있고, 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5m 이상 2m 이하이며, 상기 미경화 도막의 두께 D와 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있다.The method for producing a coating film according to the third aspect of the present invention includes the steps of forming an uncured coating film by applying a material solution to a long strip-shaped substrate while continuously conveying it from the upstream side of the conveyance direction to the downstream side of the conveyance direction, An air-drying zone comprising a step of transporting the base material on which the uncured coating film is formed to a drying zone and drying the uncured coating film, wherein the drying zone air-dries the uncured coating film, and a zone installed on the downstream side of the air-drying zone. It has a drying relief zone in which shielding surface portions are disposed facing each other at a predetermined interval with respect to the surface of the uncured coating film, and the transport length of the substrate from an application point where the material solution is applied to the substrate to the shielding surface portion. L1 exceeds 0 m and is 3 m or less, the shielding surface portion is arranged at a distance H of 50 mm or more and 150 mm or less from the surface of the uncured coating film, and the length L2 of the shielding surface portion is 0.5 m or more and 2 m or less, and the The thickness D of the cured coating film and the length L2 of the shielding surface portion satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50.
본 발명의 제 4 형태에 의한 도막의 제조 방법은, 상기 제 1 내지 제 3 중 어느 하나의 형태의 제조 방법에 있어서, 상기 건조하는 공정 후, 상기 미경화 도막을 경화시켜서 도막을 형성하는 공정을 갖는다.The manufacturing method of the coating film according to the fourth aspect of the present invention is the manufacturing method of any one of the first to third aspects, comprising the step of curing the uncured coating film to form a coating film after the drying process. have
본 발명의 다른 국면에 의하면, 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, a method for manufacturing an optical film is provided.
본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 상기 제 4 형태의 도막 및 기재 중 적어도 일방이 광학 기능을 갖는다.In the method for producing an optical film of the present invention, at least one of the coating film and the base material of the fourth aspect has an optical function.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 미경화 도막에 불균일이 생기는 것을 억제할 수 있으므로, 표면의 평활성이 우수한 도막을 얻을 수 있다. 이러한 표면 평활성이 우수한 도막을 갖는 필름은 광학 필름으로서 양호하게 사용할 수 있다.According to the production method of the present invention, the occurrence of unevenness in the uncured coating film can be suppressed, and therefore a coating film with excellent surface smoothness can be obtained. A film having such a coating film with excellent surface smoothness can be favorably used as an optical film.
도 1은 도막 제조 장치를 나타내는 개략 측면도이다.
도 2는 동 장치의 개략 평면도이다.
도 3은 도 2의 III-III선으로 절단한 단면도이다.
도 4는 도 2의 IV-IV선으로 절단한 단면도이다.1 is a schematic side view showing a coating film manufacturing apparatus.
Figure 2 is a schematic plan view of the device.
Figure 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in Figure 2.
Figure 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in Figure 2.
본 명세서에 있어서 「대략」이라는 표현은, 본 발명의 기술 분야에서 허용되는 범위를 포함하는 것을 의미한다. 또한, 본 명세서에 있어서 「하한값 X 이상 상한값 Y 이하」로 나타내어지는 수치 범위가 별개로 복수 기재되어 있는 경우, 임의의 하한값과 임의의 상한값을 선택하고, 「임의의 하한값 이상 임의의 상한값 이하」를 설정할 수 있는 것으로 한다.In this specification, the expression “approximately” means including the range permitted in the technical field of the present invention. In addition, in this specification, when multiple numerical ranges expressed as "lower limit Make it something that can be set.
[본 발명의 도막의 제조 방법의 개요][Overview of the method for producing the coating film of the present invention]
본 발명의 도막의 제조 방법(형성 방법)은, 장척 띠 형상의 기재를 반송 방향 상류측으로부터 반송 방향 하류측으로 연속적으로 반송하면서, 상기 기재에 재료 용액을 도포해서 미경화 도막을 형성하는 공정과, 상기 미경화 도막이 형성된 상기 기재를 건조존으로 반송해서 상기 미경화 도막을 건조하는 공정을 갖고, 상기 건조존이 상기 미경화 도막을 풍건하는 풍건존과, 상기 풍건존의 상기 하류측에 설치된 존으로서 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치된 차폐면부가 설치된 건조 완화존을 갖는다.The manufacturing method (forming method) of a coating film of the present invention includes the steps of forming an uncured coating film by applying a material solution to a long strip-shaped substrate while continuously conveying it from the upstream side in the conveyance direction to the downstream side in the conveyance direction; An air-drying zone comprising a step of transporting the base material on which the uncured coating film is formed to a drying zone and drying the uncured coating film, wherein the drying zone air-dries the uncured coating film, and a zone installed on the downstream side of the air-drying zone. It has a dry relief zone in which shielding surface parts are disposed facing each other at a predetermined interval with respect to the surface of the uncured coating film.
본 발명의 제조 방법의 제 1 특징점은, 상기 풍건존이 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 반송 방향 하류측을 따른 소정 풍속의 바람을 분사함으로써, 상기 기재의 반송 속도 AS와 상기 바람의 풍속 BS가 1≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키고 있는 것이다(이하, 이것을 「제 1 특징점」이라고 하는 경우가 있다). The first characteristic point of the manufacturing method of the present invention is that the wind drying zone sprays wind with a predetermined wind speed along the downstream side of the conveyance direction with respect to the surface of the uncured coating film, so that the conveyance speed AS of the substrate and the wind velocity BS of the wind are It satisfies the relationship of 1≤AS/BS≤50 (hereinafter, this may be referred to as the “first feature point”).
본 발명의 제 2 특징점은, 상기 재료 용액을 상기 기재에 도포하는 도포점부터 상기 차폐면부에 이르기까지의 상기 기재의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하이며, 상기 차폐면부가 상기 미경화 도막의 표면으로부터 50mm 이상 150mm 이하의 간격 H를 두고 배치되어 있고, 상기 미경화 도막의 두께 D와 상기 차폐면부의 길이 L이 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있는 것이다(이하, 이것을 「제 2 특징점」이라고 하는 경우가 있다).The second characteristic point of the present invention is that the transport length L1 of the substrate from the application point at which the material solution is applied to the substrate to the shielding surface portion exceeds 0 m and is 3 m or less, and the shielding surface portion is the uncured coating film. are arranged at a distance H of 50 mm or more and 150 mm or less from the surface, and the thickness D of the uncured coating film and the length L of the shielding surface portion satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50 (hereinafter referred to as “ (sometimes referred to as “second feature point”).
<기재><Description>
기재는, 평면으로 볼 때 형상의 관점에서는 장척 띠 형상이다. 상기 장척 띠 형상은, 길이 방향의 길이가 폭 방향보다 충분히 긴 평면으로 볼 때 대략 장방형상을 말한다. 장척 띠 형상의 기재는 통상 롤 형상으로 권취되어서 보관·운반된다. 롤 형상으로 감긴 기재는 거기에 도막을 형성할 때에 길이 방향으로 권출된다.The base material has a long strip shape in terms of shape when viewed in plan view. The elongated strip shape refers to a substantially rectangular shape when viewed in a plane where the length in the longitudinal direction is sufficiently longer than the width direction. Long strip-shaped substrates are usually rolled up into rolls and stored and transported. The base material wound into a roll shape is unwound in the longitudinal direction when forming a coating film thereon.
층 구성의 관점에서는, 기재의 층 구성은 단층이어도 좋고, 또는 복층이어도 좋다. 기재가 복층일 경우, 그 층수는 2 이상이며, 그 상한은 특별히 없지만, 일반적으로는 10 이하이다.From the viewpoint of layer structure, the layer structure of the substrate may be a single layer or a multiple layer structure. When the base material is multi-layered, the number of layers is 2 or more. There is no particular upper limit, but it is generally 10 or less.
단층의 기재는 광학 기능을 갖는 필름(이하, 광학 기능 필름이라고 한다), 또는 광학 기능 필름 이외의 필름으로 이루어진다. 상기 광학 기능 필름으로서는 편광 필름, 위상차 필름, 반사 방지 필름, 광확산 필름, 휘도 향상 필름, 광반사 필름 등을 들 수 있다. 상기 편광 필름은 특정한 하나의 방향으로 진동하는 광(편광)을 투과하고, 그 이외의 방향으로 진동하는 광을 차단하는 성질을 갖는 필름이다. 위상차 필름은 광학이방성을 나타내는 필름이며, 대표적으로는, 예를 들면 아크릴계 수지, 시클로올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지 등의 연신 필름 등을 들 수 있다. 광학 기능 필름 이외의 필름으로서는 무색 투명한 수지 필름 등을 들 수 있다.The single-layer substrate consists of a film having an optical function (hereinafter referred to as an optical function film) or a film other than the optical function film. Examples of the optical function film include a polarizing film, retardation film, anti-reflection film, light diffusion film, brightness enhancement film, and light reflection film. The polarizing film is a film that has the property of transmitting light (polarized light) vibrating in a specific direction and blocking light vibrating in other directions. The retardation film is a film that exhibits optical anisotropy, and representative examples include stretched films of acrylic resin, cycloolefin resin, and cellulose resin. Films other than optical function films include colorless and transparent resin films.
복층의 기재는, 광학 기능 필름이 복수 적층된 적층 필름, 광학 기능 필름 이외의 필름이 복수 적층된 적층 필름, 1층 또는 복수층의 광학 기능 필름과 1층 또는 복수층의 광학 기능 필름 이외의 필름이 적층된 적층 필름 등을 들 수 있다. The multi-layer base material includes a laminated film in which multiple optical function films are laminated, a laminated film in which multiple films other than the optical function film are laminated, one layer or multiple layers of the optical function film, and a film other than the single or multiple layers of the optical function film. These laminated laminated films, etc. can be mentioned.
기재의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 50㎛ 이상 300㎛ 이하이다.The thickness of the base material is not particularly limited, and is, for example, 50 μm or more and 300 μm or less.
<재료 용액><Material solution>
재료 용액은 도막의 형성 재료이다. 재료 용액은 형성하는 도막의 종류에 따라서 적당히 설정된다.The material solution is the forming material of the coating film. The material solution is appropriately set depending on the type of coating film to be formed.
재료 용액은 유효 성분과, 상기 유효 성분을 용해 또는 분산시키는 용매를 포함한다.The material solution contains an active ingredient and a solvent that dissolves or disperses the active ingredient.
유효 성분은 도막을 형성하는 성분이며, 각종 폴리머나 임의의 적절한 첨가제 등이 포함된다. 예를 들면, 광학 기능을 갖는 도막을 형성하는 경우에는, 재료 용액의 유효 성분으로서 광학 기능을 발현하는 유효 성분 및/또는 첨가제를 포함하는 재료 용액이 사용된다.The active ingredient is an ingredient that forms a coating film, and includes various polymers and any appropriate additives. For example, when forming a coating film with an optical function, a material solution containing an active ingredient and/or an additive that expresses an optical function as an active ingredient of the material solution is used.
상기 폴리머는, 경화 형태에 따라서 예시하면, 활성 에너지선 경화형, 열경화형, 용매 휘발형 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형이나 열경화형 등의 반응형 폴리머는 활성 에너지선(자외선이나 전자선 등)의 조사나 열 등에 의해 모노머 또는 올리고머가 중합하고 폴리머화해서 경화한다. 또한, 반응형 폴리머는, 경화 전(반응 전)에는 일반적으로 모노머 또는 올리고머의 상태이지만, 이 경화 전의 모노머 또는 올리고머도 편의상 반응형 폴리머라고 한다. 상기 용매 휘발형 폴리머는, 용매가 휘발함으로써 폴리머끼리의 얽힘이나 배향 등에 의해 경화한다.Depending on the type of curing, examples of the polymer include active energy ray curing type, thermosetting type, and solvent volatilization type. Reactive polymers, such as active energy ray curing type or thermosetting type, are cured by polymerizing monomers or oligomers by irradiation of active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, etc.) or heat. In addition, the reactive polymer is generally in the state of a monomer or oligomer before curing (before reaction), but the monomer or oligomer before this curing is also called a reactive polymer for convenience. The solvent volatilization type polymer hardens by volatilization of the solvent and entanglement and orientation of the polymers.
용매는, 상기 유효 성분을 용해 또는 분산시킬 수 있는 액상물이면 특별히 한정되지 않는다. 용매로서는, 크게 나누어 유기 용제 등의 소수성 용매; 물; 친수성 용매를 들 수 있다. 유기 용제로서는, 예를 들면 테트라히드로푸란(THF); 디옥산; 시클로헥사논; n-헥산; 톨루엔 등을 들 수 있다. 친수성 용매는 물에 대략 균일하게 용해하는 용매이며, 예를 들면 메탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜 등의 글리콜류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류; 아세트산에틸 등의 에스테르류 등을 들 수 있다. 용매는 이들에서 선택되는 1종 단독이거나, 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 또한, 용매는 상기 유기 용제에서 선택되는 적어도 1종과 친수성 용매에서 선택되는 적어도 1종을 병용해도 좋다.The solvent is not particularly limited as long as it is a liquid that can dissolve or disperse the active ingredient. Solvents are roughly divided into hydrophobic solvents such as organic solvents; water; Hydrophilic solvents may be mentioned. Examples of organic solvents include tetrahydrofuran (THF); dioxane; cyclohexanone; n-hexane; Toluene, etc. can be mentioned. Hydrophilic solvents are solvents that dissolve approximately uniformly in water, and examples include alcohols such as methanol and isopropyl alcohol; Glycols such as ethylene glycol; Cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; Ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; Ester, such as ethyl acetate, etc. are mentioned. The solvent may be one type selected from these, or two or more types may be used in combination. Additionally, the solvent may be a combination of at least one type selected from the above organic solvents and at least one type selected from hydrophilic solvents.
예를 들면, 재료 용액은 활성 에너지선 경화형 폴리머와, 이것을 용해시키는 용매와, 필요에 따라서 적량 배합되는 첨가제를 포함한다. For example, the material solution includes an active energy ray-curable polymer, a solvent that dissolves the polymer, and additives mixed in appropriate amounts as needed.
상기 활성 에너지선 경화형 폴리머는 전자선 경화형, 자외선 경화형, 가시광선 경화형으로 크게 나눌 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 폴리머는, 경화의 메커니즘의 관점에서는 라디칼 중합성 화합물과 양이온 중합성 화합물로 크게 나눌 수 있다.The active energy ray-curable polymer can be broadly divided into electron beam-curable type, ultraviolet ray-curable type, and visible light-curable type. In addition, active energy ray-curable polymers can be roughly divided into radically polymerizable compounds and cationically polymerizable compounds from the viewpoint of the curing mechanism.
라디칼 중합성 화합물로서는, (메타)아크릴로일기, 비닐기 등의 탄소-탄소 이중 결합의 라디칼 중합성의 관능기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 또한, 단관능 라디칼 중합성 화합물 또는 2관능 이상의 다관능 라디칼 중합성 화합물 중 어느 것이나 사용할 수 있다. 또한, 이들 라디칼 중합성 화합물은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 병용해도 좋다. 상기 라디칼 중합성 화합물로서는, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 예를 들면 (메타)아크릴아미드기를 갖는 (메타)아크릴아미드 유도체, (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the radically polymerizable compound include compounds having a radically polymerizable functional group of a carbon-carbon double bond, such as a (meth)acryloyl group and a vinyl group. Additionally, either a monofunctional radically polymerizable compound or a bifunctional or more polyfunctional radically polymerizable compound can be used. In addition, these radically polymerizable compounds may be used individually or in combination of two or more types. As the radically polymerizable compound, a compound having a (meth)acryloyl group is preferable, for example, a (meth)acrylamide derivative having a (meth)acrylamide group, (meth)acryloyloxy group having a (meth)acryloyloxy group. Rates, etc. can be mentioned.
라디칼 중합성 화합물을 사용하는 경우의 중합 개시제는 활성 에너지선에 따라서 적절히 선택된다. 자외선 또는 가시광선에 의해 접착제를 경화시키는 경우에는, 자외선 개열 또는 가시광선 개열의 중합 개시제가 사용된다. 이러한 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조페논계 화합물, 방향족 케톤 화합물, 아세토페논계 화합물, 방향족 케탈계 화합물, 방향족 술포닐클로라이드계 화합물, 티오크산톤계 화합물 등을 들 수 있다.When using a radically polymerizable compound, the polymerization initiator is appropriately selected depending on the active energy ray. When curing the adhesive with ultraviolet rays or visible rays, a polymerization initiator for ultraviolet ray cleavage or visible ray cleavage is used. Examples of such polymerization initiators include benzophenone-based compounds, aromatic ketone compounds, acetophenone-based compounds, aromatic ketal-based compounds, aromatic sulfonyl chloride-based compounds, and thioxanthone-based compounds.
양이온 중합성 화합물로서는, 분자 내에 양이온 중합성 관능기를 1개 갖는 단관능 양이온 중합성 화합물, 분자 내에 양이온 중합성 관능기를 2개 이상 갖는 다관능 양이온 중합성 화합물 등을 들 수 있다. 상기 양이온 중합성 관능기로서는, 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 지방족 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 옥세타닐기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄 등을 들 수 있다. 비닐에테르기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 2-히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르 등을 들 수 있다. Examples of the cationically polymerizable compound include monofunctional cationically polymerizable compounds having one cationically polymerizable functional group in the molecule, polyfunctional cationically polymerizable compounds having two or more cationically polymerizable functional groups in the molecule, and the like. Examples of the cationically polymerizable functional group include an epoxy group, oxetanyl group, and vinyl ether group. Examples of cationically polymerizable compounds having an epoxy group include aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, and aromatic epoxy compounds. Examples of cationically polymerizable compounds having an oxetanyl group include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, and 3-ethyl- 3-(phenoxymethyl)oxetane, etc. can be mentioned. Examples of cationically polymerizable compounds having a vinyl ether group include 2-hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and 4-hydroxybutyl vinyl ether.
양이온 중합성 화합물을 사용하는 경우, 양이온 중합 개시제가 배합된다. 이 양이온 중합 개시제는 가시광선, 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종 또는 루이스산을 발생하고, 양이온 중합성 화합물의 에폭시기 등과 중합 반응을 개시한다. 양이온 중합 개시제로서는, 광산 발생제와 광염기 발생제를 사용할 수 있다.When using a cationically polymerizable compound, a cationic polymerization initiator is blended. This cationic polymerization initiator generates cationic species or Lewis acids by irradiation of active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and electron beams, and initiates a polymerization reaction with the epoxy group of the cationically polymerizable compound. As a cationic polymerization initiator, a photoacid generator and a photobase generator can be used.
재료 용액의 점도는, 특별히 한정되지 않지만, 너무 작거나 또는 크면, 재료 용액을 기재에 도포할 때에 도포 불균일을 생기게 할 우려가 있다. 이러한 관점에서, 재료 용액의 23℃에서의 점도는, 예를 들면 0.002Pa·s 이상 1.0Pa·s 이하이며, 바람직하게는 0.01Pa·s 이상 0.5Pa·s 이하이다. 상기 점도 범위의 재료 용액은 주로 용매량을 조정함으로써 얻어질 수 있다.The viscosity of the material solution is not particularly limited, but if it is too small or too large, there is a risk of uneven application when applying the material solution to the substrate. From this point of view, the viscosity of the material solution at 23°C is, for example, 0.002 Pa·s or more and 1.0 Pa·s or less, and preferably 0.01 Pa·s or more and 0.5 Pa·s or less. A material solution in the above viscosity range can be obtained mainly by adjusting the amount of solvent.
상기 재료 용액의 점도는 25℃에서 시판의 E형 점도계를 사용해서 측정한 값을 말한다.The viscosity of the material solution refers to the value measured using a commercially available E-type viscometer at 25°C.
[도막 제조 장치 및 도막의 제조 방법][Coating film manufacturing device and coating film manufacturing method]
도 1 내지 도 4는, 본 발명의 방법을 실시하기 위한 도막 제조 장치(9)의 일례를 나타낸다. 도 1은 도막 제조 장치(9)의 개략 측면도이며, 도 2는 그 평면도이다. 도 2에 있어서는 도막 제조 장치(9)의 건조존(Z3)만을 나타내고 있다. 도 3 및 도 4는 도 2의 III-III선 및 IV-IV선으로 각각 절단한 단면도이다. 도 3에 있어서는 풍건존(Z31)만을 나타내고, 도 4에 있어서는 건조 완화존(Z32)만을 나타내고 있다.1 to 4 show an example of a coating film production apparatus 9 for carrying out the method of the present invention. FIG. 1 is a schematic side view of the coating film manufacturing apparatus 9, and FIG. 2 is a plan view thereof. In FIG. 2, only the drying zone Z3 of the coating film manufacturing apparatus 9 is shown. Figures 3 and 4 are cross-sectional views taken along lines III-III and lines IV-IV, respectively, of Figure 2. In Figure 3, only the wind dry zone (Z31) is shown, and in Figure 4, only the dryness relief zone (Z32) is shown.
본 명세서에 있어서, 도막 제조 장치 및 도막의 제조 방법의 설명상, 기재의 길이 방향을 「반송 방향」이라고 하고, 기재가 이송되는 측을 「반송 방향 하류측」 또는 「하류측」이라고 하고, 그 반대측을 「반송 방향 상류측」 또는 「상류측」이라고 한다. 기재의 폭 방향은 기재의 면내에 있어서 반송 방향과 직교하는 방향을 말한다.In this specification, in the description of the coating film manufacturing apparatus and the coating film manufacturing method, the longitudinal direction of the substrate is referred to as the “conveyance direction”, and the side on which the substrate is transported is referred to as the “conveyance direction downstream side” or “downstream side.” The opposite side is called “conveyance direction upstream side” or “upstream side.” The width direction of the substrate refers to a direction perpendicular to the conveyance direction within the plane of the substrate.
도막 제조 장치(9)는, 구역별로 나누면, 반송 방향 상류측으로부터 하류측을 향해서 순서대로, 롤 형상으로 감긴 기재를 권출하는 권출존(Z1)과, 상기 기재의 표면에 재료 용액을 도포해서 미경화 도막을 형성하는 도포존(Z2)과, 상기 기재의 표면에 형성된 미경화 도막을 건조하는 건조존(Z3)과, 상기 건조 후의 미경화 도막을 경화시켜서 도막을 형성하는 경화존(Z4)과, 상기 도막(경화 완료된 도막)을 갖는 기재를 권취하는 권취존(Z5)을 갖는다.When divided into zones, the coating film manufacturing apparatus 9 includes an unwinding zone Z1 for unwinding a base material wound into a roll shape in order from the upstream side in the conveyance direction toward the downstream side, and a material solution is applied to the surface of the base material. An application zone (Z2) for forming an uncured coating film, a drying zone (Z3) for drying the uncured coating film formed on the surface of the substrate, and a curing zone (Z4) for forming a coating film by curing the dried uncured coating film. and a winding zone Z5 for winding up the base material having the coating film (completely cured coating film).
건조존(Z3)은, 반송 방향 상류측으로부터 하류측을 향해서 순서대로, 미경화 도막을 풍건하는 풍건존(Z31)과, 상기 미경화 도막의 건조를 허용하면서 그 급격한 건조를 방지하는 건조 완화존(Z32)과, 상기 미경화 도막을 열에 의해 건조하는 열건조존(Z33)을 갖는다. 상기 열건조존(Z33)은 필요에 따라서 배치된다.The drying zone Z3 is an air-drying zone Z31 that air-dries the uncured coating film in order from the upstream side to the downstream side in the conveyance direction, and a drying relief zone that allows drying of the uncured coating film while preventing rapid drying thereof. (Z32) and a heat drying zone (Z33) for drying the uncured coating film by heat. The heat drying zone (Z33) is arranged as needed.
또한, 필요에 따라서, 상기 각 존 사이에 임의의 처리를 행하는 존을 갖고 있어도 좋다(도시 생략). 상기 임의의 처리로서는, (a) 기재에 임의의 필름을 적층한다, (b) 기재로부터 임의의 필름을 박리한다, (c) 기재에 임의의 층을 형성한다, (d) 기재를 연신한다 등을 들 수 있다. 예를 들면, 권출존(Z1)과 도포존(Z2) 사이에, 기재로부터 임의의 필름을 박리하는 존을 갖고 있어도 좋다. 또한, 경화존(Z4)과 권취존(Z5) 사이에, 기재에 임의의 필름을 접합하는 존을 갖고 있어도 좋다.Additionally, if necessary, there may be a zone for performing arbitrary processing between each of the above zones (not shown). The above optional treatments include (a) laminating any film on the substrate, (b) peeling any film from the substrate, (c) forming any layer on the substrate, (d) stretching the substrate, etc. can be mentioned. For example, between the unwinding zone Z1 and the application zone Z2, there may be a zone for peeling any film from the substrate. Additionally, between the curing zone Z4 and the winding zone Z5, a zone for bonding an arbitrary film to the substrate may be provided.
기계적인 구성 요소를 설명하면, 도막 제조 장치(9)는 권출부(11)로부터 권취부(12)까지 기재(7)를 반송하는 반송 장치(1)와, 재료 용액을 도포하는 도포 장치(2)와, 미경화 도막(8)에 바람을 분사하는 송풍 장치(3)와, 미경화 도막(8)의 건조를 완화하는 차폐면부(4)와, 미경화 도막(8)에 열건조하는 열건조 장치(5)와, 미경화 도막(8)을 경화시키는 경화 장치(6)를 갖는다.To explain the mechanical components, the coating film manufacturing device 9 includes a conveying device 1 that conveys the base material 7 from the unwinding section 11 to the winding section 12, and an application device 2 that applies the material solution. ), a blower 3 that sprays wind on the uncured coating film 8, a shielding surface portion 4 that alleviates drying of the uncured coating film 8, and heat that heat-dries the uncured coating film 8. It has a drying device (5) and a curing device (6) that cures the uncured coating film (8).
<권출존, 권취존 및 반송 장치><Unwinding zone, winding zone and conveying device>
권출존(Z1)은 가장 상류측에 배치되고, 권취존(Z5)은 가장 하류측에 배치되어 있다. 권출존(Z1)에 설치된 권출부(11)에 롤 형상으로 감긴 기재(7)가 장전되어 있다. 권출부(11)에 장전된 기재(7)는 반송 장치(1)에 의해 권출되고, 도포존(Z2), 건조존(Z3), 경화존(Z4)으로 순서대로 반송된 후, 권취존(Z5)에 설치된 권취부(12)에 권취된다.The unwinding zone Z1 is located at the most upstream side, and the unwinding zone Z5 is located at the most downstream side. A roll-shaped base material 7 is loaded into the unwinding section 11 installed in the unwinding zone Z1. The substrate 7 loaded in the unwinding section 11 is unwound by the conveying device 1, and sequentially conveyed to the application zone (Z2), drying zone (Z3), and curing zone (Z4), and then to the unwinding zone ( It is wound on the winding unit 12 installed at Z5).
반송 장치(1)는 종래 공지의 것이고, 구동 롤이나 가이드 롤 등을 갖는다. 반송 장치(1)는 장척 띠 형상의 기재(7)를 소정의 반송 속도로, 상류측으로부터 하류측으로 연속적으로 반송한다. 기재(7)의 반송 속도 AS[m/min]는 적절히 설정되고, 예를 들면 5m/min 이상 40m/min 이하이며, 바람직하게는 10m/min 이상 35m/min 이하이다.The conveying device 1 is conventionally known and has drive rolls, guide rolls, etc. The conveying device 1 continuously conveys the long strip-shaped substrate 7 from the upstream side to the downstream side at a predetermined conveying speed. The conveyance speed AS [m/min] of the base material 7 is set appropriately, for example, 5 m/min or more and 40 m/min or less, and preferably 10 m/min or more and 35 m/min or less.
<도포존 및 미경화 도막의 형성 공정><Application zone and uncured film formation process>
도포존(Z2)에는 도포 장치(2)가 설치되어 있다. 도포존(Z2)에 있어서, 상기 반송 장치(1)는 반송 방향 상류측으로부터 반송 방향 하류측으로 연속적으로 반송되는 기재(7)의 표면에 재료 용액을 연속적으로 도포한다. 재료 용액을 도포함으로써, 기재(7)의 표면에 미경화 도막(8)이 형성된다(형성 공정).An application device 2 is installed in the application zone Z2. In the application zone Z2, the conveying device 1 continuously applies the material solution to the surface of the substrate 7 that is continuously conveyed from the upstream side in the conveying direction to the downstream side in the conveying direction. By applying the material solution, an uncured coating film 8 is formed on the surface of the substrate 7 (formation process).
기재(7) 상에 도포된 박막 형상의 재료 용액이 미경화 도막(8)이다. 미경화 도막(8)은 기재(7)의 표면의 대략 전체에 형성된다. The thin film-like material solution applied on the substrate 7 is the uncured coating film 8. The uncured coating film 8 is formed on approximately the entire surface of the substrate 7.
도포 장치(2)는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 도포 장치(2)로서는, 다이 코터, 그라비어 코터, 리버스 코터, 바 코터 등을 들 수 있다. 도시예에서는 다이 코터를 예시하고 있다.The coating device 2 is not particularly limited, and a conventionally known one can be used. For example, examples of the coating device 2 include a die coater, a gravure coater, a reverse coater, and a bar coater. The illustrated example illustrates a die coater.
상기 미경화 도막(8)의 두께 D는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 30㎛ 이하이다.The thickness D of the uncured coating film 8 is not particularly limited, and is, for example, 0.1 μm or more and 50 μm or less, and preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less.
<건조존 및 건조 공정><Drying zone and drying process>
건조존(Z3)에 있어서, 미경화 도막(8) 중에 포함되는 여분의 용매를 휘발시켜, 미경화 도막(8)을 건조한다(건조 공정).In the drying zone Z3, the excess solvent contained in the uncured coating film 8 is volatilized and the uncured coating film 8 is dried (drying process).
도시예의 건조존(Z3)은 풍건존(Z31)과, 건조 완화존(Z32)과, 열건조존(Z33)을 갖는다.The drying zone Z3 in the illustrated example has an air drying zone Z31, a drying relief zone Z32, and a heat drying zone Z33.
(풍건존)(Wind dry zone)
풍건존(Z31)에는 송풍 장치(3)가 설치되어 있다.A blowing device (3) is installed in the air drying zone (Z31).
송풍 장치(3)는 기재(7)에 형성된 미경화 도막(8)의 표면에 바람을 분사하는 장치이다. 여기서, 바람은 어느 방향을 향해서 움직이는 기체의 흐름을 말한다. 송풍 장치(3)는 강제적으로 바람을 생기게 하고, 그것을 미경화 도막(8)의 표면에 작용시킨다. 송풍 장치(3)는 미경화 도막(8)의 표면에 대하여, 반송 방향 하류측을 향한 바람을 분사한다.The blower 3 is a device that blows wind onto the surface of the uncured coating film 8 formed on the base material 7. Here, wind refers to the flow of gas moving in a certain direction. The blower 3 forcibly generates wind and causes it to act on the surface of the uncured coating film 8. The blower 3 blows wind toward the downstream side in the conveyance direction to the surface of the uncured coating film 8.
송풍 장치(3)는 상기 도포 장치(2)와 후술하는 차폐면부(4) 사이의 존에 배치되어 있다. 송풍 장치(3)는 도막 제조 장치(9)의 프레임(도시 생략) 등에 고정되어 있다.The blower 3 is disposed in a zone between the application device 2 and the shielding surface portion 4 described later. The blower 3 is fixed to a frame (not shown) of the coating film production device 9 or the like.
송풍 장치(3)는 블로어 등의 송풍기(도시 생략)와, 바람을 분출하는 분출구(31)를 갖는 노즐부(32)와, 상기 송풍기와 노즐부(32) 사이를 연결하는 송풍관(33)(일부를 생략)을 갖는다.The blowing device 3 includes a blower such as a blower (not shown), a nozzle part 32 having an outlet 31 for blowing out wind, and a blowing pipe 33 connecting the blower and the nozzle part 32 ( (some parts are omitted).
상기 노즐부(32)의 분출구(31)는, 반송되는 기재(7)의 미경화 도막(8)의 표면측을 향하게 되어 있다. 상기 노즐부(32)의 분출구(31)는 기재(7)의 폭 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 개구여도 좋고, 또는 스폿적인 점 형상의 개구여도 좋다. 분출구가 점 형상의 개구인 경우, 기재(7)의 폭 방향으로 복수의 노즐부가 배치된다(도시 생략). 도시예의 노즐부(32)의 분출구(31)는 슬릿 형상이며(도 3 참조), 기재(7)의 폭 방향으로 연장되어 있다. 분출구(31)의 폭(기재(7)의 폭 방향에 대응하는 분출구(31)의 길이)은 기재(7)의 폭(기재(7)의 폭 방향의 길이)보다 작아도 좋다. 미경화 도막(8)의 표면 전체에 대략 균등하게 바람을 분사하기 위해서, 도시예와 같이, 분출구(31)의 폭은 기재(7)의 폭보다 크거나 또는 기재(7)의 폭과 대략 동일한 것이 바람직하다. 기재(7)의 폭보다 큰 분출구(31)인 경우, 분출구(31)의 폭 방향 양 단부가 기재(7)의 폭 방향 양측 가장자리보다 외측으로 돌출되어 있다.The jet port 31 of the nozzle portion 32 is directed toward the surface side of the uncured coating film 8 of the substrate 7 to be transported. The jet port 31 of the nozzle portion 32 may be a slit-shaped opening extending in the width direction of the substrate 7, or may be a spot-shaped opening. When the jet port is a point-shaped opening, a plurality of nozzle parts are arranged in the width direction of the base material 7 (not shown). The jet port 31 of the nozzle portion 32 in the illustrated example is slit-shaped (see Fig. 3) and extends in the width direction of the base material 7. The width of the jet port 31 (length of the jet port 31 corresponding to the width direction of the base material 7) may be smaller than the width of the base material 7 (length in the width direction of the base material 7). In order to spray wind approximately evenly over the entire surface of the uncured coating film 8, as shown in the illustration, the width of the jet nozzle 31 is larger than the width of the base material 7 or is approximately equal to the width of the base material 7. It is desirable. In the case of the jet port 31 being larger than the width of the base material 7, both ends of the jet port 31 in the width direction protrude outward from both edges in the width direction of the base material 7.
송풍 장치(3)에 의한 바람의 분출 각도는 특별히 한정되지 않지만, 각도가 너무 크면, 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 반송 방향 하류측을 따른 바람을 분사할 수 없을 우려가 있다. 이러한 관점에서, 바람의 분출 각도 θ는 45도 이하이며, 바람직하게는 30도 이하이다. 또한, 바람의 분출 각도 θ의 하한은 0도를 초과하고, 바람직하게는 5도 이상이다.The angle of blowing wind by the blower 3 is not particularly limited, but if the angle is too large, there is a risk that wind along the downstream side of the conveyance direction cannot be blown onto the surface of the uncured coating film 8. From this point of view, the wind blowing angle θ is 45 degrees or less, and preferably 30 degrees or less. Additionally, the lower limit of the wind blowing angle θ exceeds 0 degrees, and is preferably 5 degrees or more.
바람의 분출 각도 θ는, 도 1에 나타내는 측면으로 볼 때, 바람의 방향과 미경화 도막(8)이 이루는 내각이다. 또한, 분출구(31)로부터 나온 바람은 퍼지므로, 상기 바람의 방향은 미경화 도막(8)의 표면의 설계상의 개소 P2(설계상의 개소 P2는, 미경화 도막(8)의 표면의 어느 개소에 바람의 중심을 맞히는 것을 의도하여, 풍건 장치의 풍향을 설계할 때의 개소를 말한다)와 분출구(31)를 연결한 방향을 말한다.The wind blowing angle θ is the internal angle formed between the direction of the wind and the uncured coating film 8 when viewed from the side shown in FIG. 1. In addition, since the wind coming out of the blower outlet 31 spreads, the direction of the wind is at a design point P2 on the surface of the uncured coating film 8 (the design point P2 is at a certain point on the surface of the uncured coating film 8). Refers to the direction where the wind direction of the air drying device is designed with the intention of hitting the center of the wind) and the outlet 31 are connected.
상기 설계상의 개소 P2는, 후술하는 차폐면부(4)보다 반송 방향 상류측이다. 송풍 장치(3)에 의한 바람이 차폐면부(4)와 미경화 도막(8) 사이로 들어가는 것을 방지하는 관점에서, 상기 설계상의 개소 P2는, 예를 들면 차폐면부(4)의 전단(4a)으로부터 반송 방향 상류측으로 20cm 이상 300cm 이하의 범위가 되고, 바람직하게는 차폐면부(4)의 전단(4a)으로부터 반송 방향 상류측으로 50cm 이상 150cm 이하의 범위가 된다. 즉, 바람을 맞히는 설계상의 개소 P2와 차폐면부(4)의 전단(4a)의 길이 L3(도 1 참조)이 상기 범위가 된다.The location P2 in the design is located upstream in the conveyance direction from the shielding surface portion 4 described later. From the viewpoint of preventing the wind generated by the blower 3 from entering between the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8, the design point P2 is, for example, from the front end 4a of the shielding surface portion 4. It is a range of 20 cm to 300 cm upstream in the conveyance direction, and preferably is a range of 50 cm to 150 cm upstream in the conveyance direction from the front end 4a of the shielding surface portion 4. That is, the design point P2 facing the wind and the length L3 (see Fig. 1) of the front end 4a of the shielding surface portion 4 are within the above range.
상기 바람의 풍속 BS[m/sec]는 적절히 설정된다. 풍건존(Z31)에서의 풍건에 의해 미경화 도막(8)의 표면에 불균일이 생기는 것을 억제하는 관점에서, 송풍 장치(3)에 의한 풍속 BS[m/sec]는 기재(7)의 반송 속도 AS[m/min]와의 관계를 고려해서 설정되는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 기재(7)의 반송 속도 AS[m/min]와 바람의 풍속 BS[m/sec]가 1≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키도록, 반송되는 기재(7)의 미경화 도막(8)의 표면에 바람을 분사하는 것이 바람직하다. 또한, 기재(7)의 반송 속도 AS[m/min]와 바람의 풍속 BS[m/sec]가 2≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키도록, 반송되는 기재(7)의 미경화 도막(8)의 표면에 바람을 분사하는 것이 보다 바람직하다. 풍속 BS의 구체적인 값은, 예를 들면 0.3m/sec 이상 50m/sec 이하이다.The wind speed BS [m/sec] of the wind is set appropriately. From the viewpoint of suppressing unevenness on the surface of the uncured coating film 8 due to air drying in the air drying zone Z31, the wind speed BS [m/sec] by the blower 3 is the conveyance speed of the base material 7. It is desirable to set it considering the relationship with AS [m/min]. Specifically, the conveying speed AS [m/min] of the substrate 7 and the wind speed BS [m/sec] of the substrate 7 are adjusted to satisfy the relationship of 1≤AS/BS≤50. It is desirable to spray wind onto the surface of the cured coating film 8. In addition, the uncured coating film of the substrate 7 to be conveyed such that the conveyance speed AS [m/min] of the substrate 7 and the wind speed BS [m/sec] satisfy the relationship of 2≤AS/BS≤50. It is more preferable to spray wind on the surface of (8). The specific value of wind speed BS is, for example, 0.3 m/sec or more and 50 m/sec or less.
또한, 상기 송풍 장치(3)로부터의 바람은, 특별히 가열 등이 행하여지지 않고, 상기 바람의 온도는, 도막 제조 장치(9)가 설치되어 있는 장소의 분위기 온도이다. 송풍 장치(3)로부터 분출되는 기체(바람)는 임의이고, 예를 들면 도막 제조 장치(9)가 설치되어 있는 장소의 분위기 등이다.In addition, the wind from the blower 3 is not particularly heated, and the temperature of the wind is the ambient temperature of the place where the coating film production device 9 is installed. The gas (wind) blown out from the blower 3 is arbitrary, for example, the atmosphere of the place where the coating film production device 9 is installed.
(건조 완화존)(Dryness relief zone)
건조 완화존(Z32)에는 차폐면부(4)가 설치되어 있다. 차폐면부(4)는 기재(7)와 협동하여, 상기 차폐면부(4)와 미경화 도막(8) 사이에, 휘발한 용매가 고농도로 체류하는 공간(S)을 구획한다. 차폐면부(4)에 의해 미경화 도막(8)과의 사이에 상기 공간(S)이 형성됨으로써, 상기 미경화 도막(8)의 건조(용매의 휘발)를 허용하면서 그 급격한 건조를 방지할 수 있다. 이 건조를 허용하면서 급격한 건조를 방지하는 것을 「건조 완화」라고 하는 경우가 있다. 또한, 휘발은 미경화 도막(8) 중의 용매가 기화해서 미경화 도막(8)으로부터 발출되는 것을 말한다.A shielding surface portion 4 is installed in the dry relief zone Z32. The shielding surface portion 4 cooperates with the base material 7 to define a space S in which the volatilized solvent resides at a high concentration between the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8. By forming the space S between the uncured coating film 8 and the shielding surface portion 4, it is possible to prevent rapid drying while allowing drying (volatilization of the solvent) of the uncured coating film 8. there is. Preventing rapid drying while allowing this drying is sometimes called “drying relief.” In addition, volatilization refers to the solvent in the uncured coating film 8 vaporizing and being ejected from the uncured coating film 8.
차폐면부(4)는 반송되는 기재(7)의 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 대향해서 배치되어 있다. 차폐면부(4)는 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치되어 있다.The shielding surface portion 4 is disposed opposite to the surface of the uncured coating film 8 of the substrate 7 to be transported. The shielding surface portions 4 are arranged opposite to the surface of the uncured coating film 8 at a predetermined interval.
차폐면부(4)와 미경화 도막(8)의 표면의 간격 H는 적절히 설정된다. 이 간격 H는, 휘발한 용매가 고농도로 체류하는 공간(S)의 크기에 영향을 주고 있고, 그것이 너무 크면, 차폐면부(4)를 설치한 의의가 없고, 그것이 너무 작으면, 상기 공간(S) 내에 있어서 휘발한 용매의 농도가 지나치게 높아진다. 이러한 관점에서, 차폐면부(4)와 미경화 도막(8)의 표면의 간격 H는 50mm 이상 150mm 이하이며, 바람직하게는 70mm 이상 120mm 이하이다.The gap H between the surface of the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8 is appropriately set. This gap H affects the size of the space S where the volatilized solvent stays at a high concentration. If it is too large, there is no point in providing the shielding surface portion 4, and if it is too small, the space S ), the concentration of volatilized solvent becomes excessively high. From this viewpoint, the distance H between the shielding surface portion 4 and the surface of the uncured coating film 8 is 50 mm or more and 150 mm or less, and is preferably 70 mm or more and 120 mm or less.
차폐면부(4)는, 상기 간격 H를 가지면서 미경화 도막(8)을 덮는 면을 갖고 있으면, 그 전체적인 구성은 특별히 한정되지 않는다. 도시예에서는, 차폐면부(4)를 구성하는 부재로서, 판 형상의 부재(41)가 사용되고 있다. 이 판 형상의 부재(41)의 일방면이 차폐면부(4)를 구성하고 있다. 차폐면부(4)(예를 들면 판 형상의 부재(41))의 형성 재료는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 경질 수지, 금속 등을 들 수 있다.The overall structure of the shielding surface portion 4 is not particularly limited as long as it has a surface covering the uncured coating film 8 with the above-mentioned gap H. In the illustrated example, a plate-shaped member 41 is used as a member constituting the shielding surface portion 4. One side of this plate-shaped member 41 constitutes the shielding surface portion 4. The material for forming the shielding surface portion 4 (for example, the plate-shaped member 41) is not particularly limited, and examples include hard resin and metal.
차폐면부(4)는, 물결 형상 등의 요철 형상으로 형성되어 있어도 좋지만, 도시예에서는, 차폐면부(4)는 평탄 형상이다. 또한, 차폐면부(4)가 요철 형상으로 형성되어 있는 경우, 상기 간격 H를 확정할 때의 차폐면부(4)의 기준은, 그 차폐면부(4)의 요철을 평균화한 평면을 기준으로 한다. 차폐면부(4)는 미경화 도막(8)에 대하여 평행으로 배치되어 있다. 또한, 특별히 도시하지 않지만, 차폐면부(4)는 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 약간 경사져 배치되어 있어도 좋다. 차폐면부(4)가 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 경사져 있는 경우, 상기 간격 H는 평균값으로 한다.The shielding surface portion 4 may be formed in an uneven shape such as a wave shape, but in the illustrated example, the shielding surface portion 4 has a flat shape. In addition, when the shielding surface portion 4 is formed in an uneven shape, the standard of the shielding surface portion 4 when determining the above-mentioned interval H is based on a plane that averages the unevenness of the shielding surface portion 4. The shielding surface portion 4 is arranged in parallel with the uncured coating film 8. In addition, although not specifically shown, the shielding surface portion 4 may be disposed at a slight incline with respect to the surface of the uncured coating film 8. When the shielding surface portion 4 is inclined with respect to the surface of the uncured coating film 8, the above interval H is taken as an average value.
차폐면부(4)는, 상기 송풍 장치(3)와 후술하는 열건조 장치(5) 사이의 존에 배치되어 있다. 차폐면부(4)는, 도막 제조 장치(9)의 프레임(도시 생략) 등에 고정되어 있다. 차폐면부(4)는, 특별히 가열 등이 행하여지지 않고, 차폐면부(4) 그 자체의 온도는, 도막 제조 장치(9)가 설치되어 있는 장소의 분위기 온도이다.The shielding surface portion 4 is disposed in a zone between the blower 3 and the heat drying device 5 described later. The shielding surface portion 4 is fixed to a frame (not shown) of the coating film production device 9 or the like. The shielding surface portion 4 is not particularly heated, and the temperature of the shielding surface portion 4 itself is the ambient temperature of the location where the coating film production device 9 is installed.
차폐면부(4)의 배치는 적절히 설정된다. 차폐면부(4)는, 그 전단(4a)이 도포 장치(2)에 의한 재료 용액의 도포점 P1로부터 하류측으로 3m 이하에 위치하도록 배치되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 배치에 의해, 풍건존(Z31)에 의한 미경화 도막(8)의 풍건을 효과적으로 행할 수 있다. 상기 차폐면부(4)의 전단(4a)은, 하류측으로 반송되는 기재(7)가 차폐면부(4) 중 최초로 도달하는 단부이다. 또한, 상기 도포점 P1은, 기재(7)의 표면에 재료 용액이 부착되기 시작하는 개소를 말한다. 상기 차폐면부(4)의 전단(4a)이 도포점 P1로부터 하류측으로 3m 이하에 위치한다란, 상기 도포점 P1로부터 상기 차폐면부(4)에 이르기까지의 상기 기재(7)의 반송 길이 L1과 동일한 의미이다. 따라서, 그 기재(7)의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하인 것이 바람직하다. 또한, 상기 기재(7)의 반송 길이 L1은 1m 이상 2.5m 이하인 것이 보다 바람직하다.The arrangement of the shielding surface portion 4 is appropriately set. The shielding surface portion 4 is preferably arranged so that its front end 4a is located 3 m or less downstream from the application point P1 of the material solution by the application device 2. With this arrangement, air drying of the uncured coating film 8 in the air drying zone Z31 can be effectively performed. The front end 4a of the shielding surface portion 4 is the end where the substrate 7 conveyed downstream first reaches the shielding surface portion 4. In addition, the application point P1 refers to a location where the material solution begins to adhere to the surface of the substrate 7. If the front end 4a of the shielding surface portion 4 is located 3 m or less downstream from the application point P1, the transport length L1 of the substrate 7 from the application point P1 to the shielding surface portion 4 and It has the same meaning. Therefore, it is preferable that the transport length L1 of the substrate 7 exceeds 0 m and is 3 m or less. Moreover, it is more preferable that the transport length L1 of the substrate 7 is 1 m or more and 2.5 m or less.
차폐면부(4)의 폭(기재(7)의 폭 방향에 대응하는 차폐면부(4)의 길이)은 기재(7)의 폭보다 작아도 좋다. 미경화 도막(8)의 전체에 걸쳐서 균등한 건조 완화 효과를 기대할 수 있는 점에서, 차폐면부(4)의 폭은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 기재(7)의 폭보다 크거나 또는 기재(7)의 폭과 대략 동일한 것이 바람직하다. 기재(7)의 폭보다 큰 차폐면부(4)의 경우, 차폐면부(4)의 폭 방향 양 단부가 기재(7)의 폭 방향 양측 가장자리보다 외측으로 돌출되어 있다.The width of the shielding surface portion 4 (the length of the shielding surface portion 4 corresponding to the width direction of the substrate 7) may be smaller than the width of the substrate 7. Since a uniform drying relief effect can be expected over the entire uncured coating film 8, the width of the shielding surface portion 4 is larger than the width of the base material 7, as shown in FIG. 2, or is smaller than the width of the base material (7). It is preferable that it is approximately the same as the width of 7). In the case of the shielding surface portion 4 that is larger than the width of the substrate 7, both ends of the shielding surface portion 4 in the width direction protrude outward from both edges in the width direction of the substrate 7.
또한, 차폐면부(4)의 전단(4a), 후단(4b) 및 양 측단(4c, 4d)에서 선택되는 적어도 1개의 단과 미경화 도막(8) 사이는 개방되어 있는 것이 바람직하다. 도시예에서는, 차폐면부(4)의 둘레단(전단(4a), 후단(4b) 및 양 측단(4c, 4d))과 미경화 도막(8) 사이는 개방되어 있다. 차폐면부(4)의 적어도 1개의 단과 미경화 도막(8) 사이가 개방되어 있음으로써, 그 개방 부분으로부터 외부로 용매가 확산된다. 이 때문에, 차폐면부(4)와 미경화 도막(8) 사이의 공간(S)의 용매 농도가 포화량에 도달하는 일없이, 그 공간(S)에 있어서 건조 완화 효과를 충분히 발휘할 수 있다.In addition, it is preferable that the space between the uncured coating film 8 and at least one end selected from the front end 4a, the rear end 4b, and both side ends 4c, 4d of the shielding surface portion 4 is open. In the illustrated example, the space between the peripheral ends (front end 4a, rear end 4b, and both side ends 4c, 4d) of the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8 is open. Since the space between at least one end of the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8 is open, the solvent diffuses outward from the open portion. For this reason, the drying relief effect can be sufficiently exerted in the space S between the shielding surface portion 4 and the uncured coating film 8 without the solvent concentration in the space S reaching a saturation level.
차폐면부(4)의 길이 L2(기재(7)의 반송 방향에 대응하는 차폐면부(4)의 길이)는 적절히 설정된다. 건조 완화의 관점에서, 차폐면부(4)의 길이 L2는, 미경화 도막(8)의 두께 D와의 관계를 고려해서 설정되는 것이 바람직하다. 자세하게는, 미경화 도막(8)의 두께 D가 크면 상대적으로 미경화 도막(8)으로부터의 용매의 휘발량이 크고, 미경화 도막(8)의 두께 D가 작으면 용매의 휘발량은 작다. 미경화 도막(8)의 두께 D가 클 경우에는, 그것에 대응해서 차폐면부(4)의 길이 L2를 크게 함으로써, 건조 완화존(Z32)에 있어서 적절한 양의 용매를 휘발시킬 수 있다. 한편, 미경화 도막(8)의 두께 D가 작을 경우에는, 그것에 대응해서 차폐면부(4)의 길이 L2를 작게 함으로써, 건조 완화존(Z32)에 있어서 적절한 양의 용매를 휘발시킬 수 있다. 즉, 미경화 도막(8)의 두께 D에 대응해서 차폐면부(4)의 길이 L2의 장단을 설정함으로써, 건조 완화존(Z32)에 있어서, 미경화 도막(8)의 두께 D에 구애받지 않고, 용매를 급격히 휘발시키는 일없이, 적절한 양의 용매를 휘발시킬 수 있다. 이러한 관점에서, 미경화 도막(8)의 두께 D[㎛]와 차폐면부(4)의 길이 L2[m]는 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있는 것이 바람직하다. 또한, 미경화 도막(8)의 두께 D[㎛]와 차폐면부(4)의 길이 L2[m]는 0.8≤D/L2≤30의 관계를 충족시키고 있는 것이 보다 바람직하고, 특히 1≤D/L2≤10의 관계를 충족시키고 있는 것이 더욱 바람직하다.The length L2 of the shielding surface portion 4 (the length of the shielding surface portion 4 corresponding to the conveyance direction of the base material 7) is appropriately set. From the viewpoint of drying relief, the length L2 of the shielding surface portion 4 is preferably set in consideration of the relationship with the thickness D of the uncured coating film 8. In detail, when the thickness D of the uncured coating film 8 is large, the volatilization amount of the solvent from the uncured coating film 8 is relatively large, and when the thickness D of the uncured coating film 8 is small, the volatilization amount of the solvent is small. When the thickness D of the uncured coating film 8 is large, an appropriate amount of solvent can be volatilized in the drying relaxation zone Z32 by increasing the length L2 of the shielding surface portion 4 correspondingly. On the other hand, when the thickness D of the uncured coating film 8 is small, the length L2 of the shielding surface portion 4 is made correspondingly small, so that an appropriate amount of solvent can be volatilized in the drying relaxation zone Z32. That is, by setting the length L2 of the shielding surface portion 4 in accordance with the thickness D of the uncured coating film 8, in the drying relief zone Z32, the thickness D of the uncured coating film 8 is not limited. , an appropriate amount of solvent can be volatilized without rapidly volatilizing the solvent. From this viewpoint, it is desirable that the thickness D [μm] of the uncured coating film 8 and the length L2 [m] of the shielding surface portion 4 satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50. In addition, it is more preferable that the thickness D [μm] of the uncured coating film 8 and the length L2 [m] of the shielding surface portion 4 satisfy the relationship of 0.8≤D/L2≤30, especially 1≤D/ It is more preferable to satisfy the relationship L2≤10.
상기 차폐면부(4)의 길이 L2의 구체적인 값은 0.5m 이상 2m 이하인 것이 바람직하고, 0.8m 이상 1.7m 이하인 것이 보다 바람직하다.The specific value of the length L2 of the shielding surface portion 4 is preferably 0.5 m or more and 2 m or less, and more preferably 0.8 m or more and 1.7 m or less.
(열건조존)(heat drying zone)
열건조존(Z33)에는, 열에 의해 미경화 도막(8)을 건조하는 열건조 장치(5)가 설치되어 있다.In the heat drying zone Z33, a heat drying device 5 is installed to dry the uncured coating film 8 by heat.
열건조 장치(5)는 특별히 한정되지 않고, 오븐, 온풍을 분사하는 히터 등을 사용할 수 있다.The heat drying device 5 is not particularly limited, and an oven, a heater that sprays warm air, etc. can be used.
기재(7)를 열건조존(Z33)에 통과시킴으로써, 미경화 도막(8) 중의 용매를 충분히 휘발시킬 수 있다.By passing the substrate 7 through the heat drying zone Z33, the solvent in the uncured coating film 8 can be sufficiently volatilized.
<경화존 및 경화 공정><Curing zone and curing process>
경화존(Z4)에 있어서, 미경화 도막(8)을 경화시킨다(경화 공정). 이것에 의해, 기재(7)의 표면에 도막(81)(경화 후의 도막(81))이 형성된다.In the curing zone Z4, the uncured coating film 8 is cured (curing process). As a result, the coating film 81 (coating film 81 after curing) is formed on the surface of the substrate 7.
경화존(Z4)에는 경화 장치(6)가 설치되어 있다. 경화 장치(6)는 재료 용액의 경화 형태에 준한 적절한 것이 사용된다. 예를 들면, 재료 용액이 자외선 등의 활성 에너지선 경화형인 경우, 경화 장치(6)로서, 자외선 등의 활성 에너지선 조사 장치가 사용된다. 또한, 재료 용액이 열경화형인 경우, 경화 장치(6)로서, 가열 장치가 사용된다. 또한, 상기 열건조존(Z33)의 열에 의해 열경화형의 재료가 경화하는 경우에는 경화 장치(6)를 생략해도 좋다. 또한, 재료 용액이 용매 휘발형인 경우, 상기 열건조존(Z33)에 있어서 미경화 도막(8)이 경화하므로, 경화 장치(6)는 생략된다.A curing device 6 is installed in the curing zone Z4. As the curing device 6, an appropriate one according to the curing form of the material solution is used. For example, when the material solution is a curing type of active energy rays such as ultraviolet rays, an active energy ray irradiation device such as ultraviolet rays is used as the curing device 6. Additionally, when the material solution is of a thermosetting type, a heating device is used as the curing device 6. In addition, when a thermosetting type material is cured by the heat of the heat drying zone Z33, the curing device 6 may be omitted. In addition, when the material solution is a solvent volatilization type, the uncured coating film 8 is cured in the heat drying zone Z33, so the curing device 6 is omitted.
도막이 형성된 기재(7)는, 필요에 따라서 임의의 적절 처리가 행하여진 후, 권취부(12)에 권취된다.The base material 7 on which the coating film is formed is wound around the winding unit 12 after any appropriate treatment is performed as necessary.
본 발명의 방법에 의하면, 표면의 평활성이 우수한 도막(81)을 얻을 수 있다. 이것은, 미경화 도막(8)을 건조시키는 건조 공정에 있어서, 미경화 도막(8)의 표면에 스트라이프 형상의 불균일(스트라이프 형상의 볼록 또는 오목)이 생기는 것을 억제할 수 있기 때문이다. 그 이유는 명확하지 않지만, 본 발명자들은 다음과 같이 추정하고 있다.According to the method of the present invention, a coating film 81 with excellent surface smoothness can be obtained. This is because, in the drying process of drying the uncured coating film 8, the occurrence of stripe-shaped unevenness (stripe-shaped convexity or depression) on the surface of the uncured coating film 8 can be suppressed. Although the reason is not clear, the present inventors estimate as follows.
즉, 기재(7)를 상류측으로부터 하류측으로 반송하면, 미경화 도막(8)의 표면은 그것과 반대를 향한 바람을 받는다. 이 바람은, 기재(7)의 반송에 따라 기재(7)의 표면(미경화 도막(8)의 표면)에 생기는, 하류측으로부터 상류측을 향한 기체의 흐름이다(이하, 「반송 기류」라고 한다). 도 1에 있어서, 반송 기류의 방향을 흰 화살표로 나타내고 있다. 이 반송 기류의 강도는 기재(7)의 반송 속도 AS에 비례한다. 또한, 반송 장치(1)의 진동이나 도막 제조 장치(9)의 설치 장소의 분위기(예를 들면, 설치 장소의 공조 설비) 등의 요인으로, 상기 기재(7)의 표면에 작용하는 반송 기류는, 일률적으로 하류측으로부터 상류측을 향한 기체의 흐름이 아니라, 여기저기에서 강약을 생기게 하거나 또는 방향을 미묘하게 변하게 하는 등의 흐트러짐을 생기게 하고 있다고 추정된다. 이러한 반송 기류의 흐트러짐은 미경화 도막(8)의 표면에 불균일을 생기게 하는 원인이 된다. 본 발명의 풍건존(Z31)은 제 1 특징점을 갖고 있다. 풍건존(Z31)에서, 1≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키고 또한 미경화 도막(8)의 표면에 대하여 반송 방향 하류측을 따라 바람을 미경화 도막(8)에 분사함으로써, 상기 반송 기류의 흐트러짐을 제거할 수 있다. 이 때문에, 미경화 도막(8)의 표면에 불균일이 생기는 것을 억제할 수 있고, 또한 바람을 분사하므로, 미경화 도막(8) 중의 용매의 휘발을 촉진할 수 있다.That is, when the base material 7 is transported from the upstream side to the downstream side, the surface of the uncured coating film 8 receives wind directed opposite to it. This wind is a gas flow from the downstream side to the upstream side that is generated on the surface of the substrate 7 (surface of the uncured coating film 8) as the substrate 7 is conveyed (hereinafter referred to as “conveyance air flow”). do). In Fig. 1, the direction of the conveying air flow is indicated by a white arrow. The intensity of this conveying air flow is proportional to the conveying speed AS of the base material 7. In addition, due to factors such as vibration of the conveyance device 1 and the atmosphere of the installation location of the coating film production device 9 (e.g., air conditioning equipment at the installation location), the conveyance air current acting on the surface of the substrate 7 may , it is presumed that the gas does not flow uniformly from the downstream side to the upstream side, but is disrupted, such as by creating strengths and weaknesses here and there or by subtly changing the direction. This disturbance of the conveying air flow causes unevenness to occur on the surface of the uncured coating film 8. The air dry zone (Z31) of the present invention has the first characteristic point. In the wind drying zone Z31, the relationship of 1≤AS/BS≤50 is satisfied and wind is sprayed onto the uncured coating film 8 along the conveyance direction downstream with respect to the surface of the uncured coating film 8, thereby conveying the uncured coating film 8. Disturbances in airflow can be removed. For this reason, it is possible to suppress the occurrence of unevenness on the surface of the uncured coating film 8, and by spraying wind, volatilization of the solvent in the uncured coating film 8 can be promoted.
다음에, 상기 풍건에 의해 불균일의 발생을 억제하면서 건조를 촉진해도, 미경화 도막(8)은 충분히 건조되어 있지 않으므로, 그 풍건존(Z31) 후, 반송 기류에 의해 미경화 도막(8)의 표면에 불균일이 생길 우려가 있다. 특히, 바람을 분사하여 건조가 촉진된 직후에 있어서는, 적극적인 바람을 분사하지 않아도 용매가 휘발하기 쉬운 상태에 있다. 이 점, 본 발명에 있어서는, 풍건존(Z31)을 반송한 직후에, 제 2 특징점을 갖는 건조 완화존(Z32)으로 기재(7)를 반송하고 있다. 제 2 특징점에 의해, 건조 완화존(Z32)에는, 차폐면부(4)와 미경화 도막(8)의 표면 사이에 공간(S)이 형성된다. 이 공간(S) 내에서는 기재(7)의 미경화 도막(8)으로부터 용매가 휘발하지만, 상기 차폐면부(4)에 의해 칸막이된 공간(S) 내에 있어서는 용매 농도가 높아지므로, 용매가 급격하게 휘발하는 것을 방지할 수 있다. 급격한 건조를 방지하는 건조 완화존(Z32)을 설치함으로써, 풍건 후, 아직 불안정한 미경화 도막(8)이 천천히 건조되어, 미경화 도막(8)의 표면에 불균일이 생기는 것을 억제할 수 있다.Next, even if drying is promoted while suppressing the occurrence of unevenness by the air drying, the uncured coating film 8 is not sufficiently dried. Therefore, after the air drying (Z31), the uncured coating film 8 is dried by the conveying air stream. There is a risk of unevenness in the surface. In particular, immediately after drying is promoted by blowing wind, the solvent is likely to volatilize even without actively blowing wind. In this regard, in the present invention, immediately after conveying the air drying zone Z31, the substrate 7 is conveyed to the drying relief zone Z32 having the second characteristic point. Due to the second characteristic point, a space S is formed between the shielding surface portion 4 and the surface of the uncured coating film 8 in the dry relaxation zone Z32. In this space S, the solvent volatilizes from the uncured coating film 8 of the base material 7, but since the solvent concentration increases in the space S partitioned by the shielding surface portion 4, the solvent rapidly evaporates. Volatilization can be prevented. By providing a drying relief zone Z32 to prevent rapid drying, the uncured coating film 8, which is still unstable, is dried slowly after air drying, thereby suppressing the occurrence of unevenness on the surface of the uncured coating film 8.
[기타][etc]
상기 도막 제조 장치 및 도막의 제조 방법에 있어서, 제 1 특징점을 갖는 풍건존(Z31)과 제 2 특징점을 갖는 건조 완화존(Z32) 쌍방을 설치하고 있지만, 제 1 특징점 또는 제 2 특징점 중 어느 하나만을 갖고 있어도 좋다(도시 생략). 예를 들면, 제 1 특징점을 갖지 않는 풍건존과 제 2 특징점을 갖는 건조 완화존(Z32)으로, 미경화 도막(8)이 형성된 기재(7)를 반송해도 좋다. 예를 들면, 풍건존에 있어서 송풍 장치로 강제적인 바람을 분사하지 않고 기재(7)를 반송한 후(이 경우의 풍건존에서는, 기재(7)의 반송에 따르는 반송 기류가 미경화 도막(8)의 표면에 작용하고 있다), 제 2 특징점을 갖는 건조 완화존(Z32)으로 기재(7)를 반송해도 좋다. 또는, 풍건존에 있어서 송풍 장치(3)에서 제 1 특징점의 조건을 만족하지 않는 바람을 미경화 도막(8)에 분사한 후, 제 2 특징점을 갖는 건조 완화존(Z32)으로 기재(7)를 반송해도 좋다. 또는, 제 1 특징점을 갖는 풍건존(Z31)으로 기재(7)를 반송한 후, 제 2 특징점의 조건을 만족하지 않는 차폐면부를 갖는 건조 완화존으로 기재(7)를 반송해도 좋다.In the coating film manufacturing apparatus and coating film manufacturing method, both a wind drying zone Z31 having a first characteristic point and a drying relaxation zone Z32 having a second characteristic point are provided, but only one of the first characteristic point or the second characteristic point is provided. You may have it (not shown). For example, the base material 7 on which the uncured coating film 8 is formed may be transported to an air-drying zone without the first characteristic point and a drying relaxation zone Z32 with the second characteristic point. For example, after transporting the base material 7 in the air dry zone without forcibly spraying wind with a blower (in this air dry zone, the transport airflow accompanying the transfer of the base material 7 causes the uncured coating film 8 ), the base material 7 may be conveyed to the drying relaxation zone Z32 having the second characteristic point. Alternatively, in the air dry zone, after blowing wind that does not satisfy the conditions of the first characteristic point from the blower 3 to the uncured coating film 8, it is described as a drying relief zone Z32 having the second characteristic point (7). You may return it. Alternatively, after conveying the substrate 7 to the air drying zone Z31 having the first characteristic point, the substrate 7 may be conveyed to the drying relaxation zone having the shielding surface portion that does not satisfy the conditions of the second characteristic point.
실시예Example
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더욱 상세히 서술한다. 단, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, examples and comparative examples will be shown to describe the present invention in more detail. However, the present invention is not limited to the following examples.
[기재][write]
기재는, 두께 60㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름 가부시키가이샤제의 상품명 「TG60UL」)을 사용했다.As the substrate, a 60-μm-thick triacetylcellulose film (trade name “TG60UL” manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was used.
[재료 용액][Material solution]
재료 용액은 유기 용제(메틸이소부틸케톤)에 자외선 경화형 폴리머(펜타에리트리톨트리아크릴레이트)가 용해되어 있는 용액(오사카 유키 카가쿠 코교 가부시키가이샤제의 상품명 「비스코트 #300」)을 사용했다. 이 재료 용액의 점도는 25℃에서 0.007Pa·s였다. 상기 점도는 25도에서 E형 점도계를 사용해서 측정했다.The material solution was a solution in which an ultraviolet curable polymer (pentaerythritol triacrylate) was dissolved in an organic solvent (methyl isobutyl ketone) (trade name “Viscott #300” manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.). . The viscosity of this material solution was 0.007 Pa·s at 25°C. The viscosity was measured using an E-type viscometer at 25 degrees.
[실시예 1][Example 1]
도 1 내지 도 4에 나타내는 바와 같은 도막 제조 장치(9)를 사용했다. 제조 장치의 각 설정은 다음과 같이 했다.A coating film manufacturing apparatus 9 as shown in FIGS. 1 to 4 was used. Each setting of the manufacturing device was as follows.
도포 장치(2): 다이 코터.Applicator (2): Die coater.
미경화 도막(8)의 두께 D: 15㎛.Thickness D of the uncured coating film 8: 15 μm.
송풍 장치(3)의 바람의 분출 각도 θ: 15도.Wind blowing angle θ of the blower 3: 15 degrees.
바람을 맞히는 개소 P2(길이 L3): 100cm.Point facing the wind P2 (length L3): 100cm.
기재(7)의 반송 속도 AS: 30m/min.Transport speed AS of base material (7): 30 m/min.
풍속 BS: 1m/sec.Wind speed BS: 1m/sec.
반송 길이 L1: 2m.Transport length L1: 2m.
차폐면부(4)와 미경화 도막(8)의 간격 H: 100mm.Spacing H between the shielding surface portion (4) and the uncured coating film (8): 100 mm.
차폐면부(4)의 길이 L2: 1.5m.Length L2 of the shielding surface (4): 1.5 m.
열건조 장치(5): 60℃∼80℃의 오븐.Heat drying device (5): Oven at 60°C to 80°C.
경화 장치(6): 자외선 조사 장치.Curing device (6): Ultraviolet irradiation device.
기재(7)를 상기 속도 AS로 반송하고, 도포 장치(2)로 기재(7)의 표면에 두께 D의 미경화 도막(8)을 연속적으로 형성하고, 그 기재(7)를 풍건존(Z31), 건조 완화존(Z32) 및 열건조존(Z33)으로 순서대로 반송하고, 경화 장치(6)로 미경화 도막(8)을 경화시킴으로써, 실시예 1의 도막을 얻었다.The base material 7 is transported at the above speed AS, an uncured coating film 8 of thickness D is continuously formed on the surface of the base material 7 using the coating device 2, and the base material 7 is subjected to air drying (Z31). ), sequentially conveyed to the drying relaxation zone (Z32) and the heat drying zone (Z33), and curing the uncured coating film (8) with the curing device (6), thereby obtaining the coating film of Example 1.
도막(경화 후의 도막)의 표면의 상태를 육안으로 관찰했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.The state of the surface of the coating film (coating film after curing) was observed with the naked eye. The results are shown in Table 1.
표 1의 도막 표면의 상태의 난의 「○」는 불균일 형상의 헤이즈를 시인할 수 없는 레벨이었던 것을 나타내고, 「△」는 불균일 형상의 헤이즈를 조금 시인할 수 있었지만, 디스플레이의 표시 품위에 영향을 주지 않는 레벨이었던 것을 나타내고, 「×」는 불균일 무늬를 강하게 시인할 수 있어, 디스플레이의 표시 품위를 현저하게 저하시키는 레벨이었던 것을 나타낸다. 여기서, 상기 「헤이즈」란, 투명 필름에 있어서, 투명한 부분과 백탁을 시인할 수 있는 부분이 랜덤으로 발생해 있는 상태를 말한다."○" in the column for the state of the coating film surface in Table 1 indicates that it was at a level where the haze of the non-uniform shape could not be recognized, and "△" indicates that the haze of the non-uniform shape was slightly visible, but it did not affect the display quality of the display. It indicates that it was a level that did not provide a level, and “×” indicates that it was a level that caused the non-uniform pattern to be strongly visible and significantly lowered the display quality of the display. Here, the above-mentioned “haze” refers to a state in which transparent portions and portions where cloudiness can be visually observed occur randomly in a transparent film.
또한, 표 1의 AS/BS의 난 중 소수점이 생긴 수치는 소수점 2자리를 사사오입하고 있다.Additionally, the numbers with decimal points in the AS/BS column of Table 1 are rounded off to 2 decimal places.
[실시예 2 내지 11 및 비교예 1 내지 11][Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 11]
기재(7)의 반송 속도 AS, 풍속 BS, 반송 길이 L1, 간격 H, 차폐면부(4)의 길이 L2, 및 미경화 도막(8)의 두께 D 중 몇 개를 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 도막을 형성했다. 또한, 비교예 11은 차폐면부를 설치하지 않았다.Some of the conveyance speed AS, wind speed BS, conveyance length L1, gap H, length L2 of the shielding surface portion 4, and thickness D of the uncured coating film 8 of the base material 7 were changed as shown in Table 1. Except for this, a coating film was formed in the same manner as in Example 1. Additionally, Comparative Example 11 did not provide a shielding surface.
그들 도막의 표면 상태의 관찰 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the observation results of the surface conditions of these coating films.
4: 차폐면부
7: 기재
8: 미경화 도막
9: 도막 제조 장치
P1: 재료 용액의 도포점
L1: 기재의 반송 길이
L2: 차폐면부의 길이
Z2: 도포존
Z3: 건조존
Z31: 풍건존
Z32: 건조 완화존4: Shielding face part
7: Listing
8: Uncured film
9: Paint film manufacturing device
P1: Application point of material solution
L1: Transport length of substrate
L2: Length of shielding surface
Z2: Application zone
Z3: Drying zone
Z31: Wind dry zone
Z32: Dry relief zone
Claims (5)
상기 미경화 도막이 형성된 상기 기재를 건조존으로 반송해서 상기 미경화 도막을 건조하는 공정을 갖고,
상기 건조존이, 상기 미경화 도막을 풍건하는 풍건존과, 상기 풍건존의 상기 하류측에 설치된 존으로서 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치된 차폐면부가 설치된 건조 완화존을 갖고,
상기 풍건존이 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 상기 반송 방향 하류측을 따라 바람을 분사하고,
상기 기재의 반송 속도 AS와 상기 바람의 풍속 BS가 1≤AS/BS≤50의 관계를 충족시키고 있는, 도막의 제조 방법.A process of forming an uncured coating film by applying a material solution to a long strip-shaped substrate while continuously conveying it from the upstream side of the conveyance direction to the downstream side of the conveyance direction,
A step of transporting the substrate on which the uncured coating film is formed to a drying zone and drying the uncured coating film,
The drying zone includes an air-drying zone for air-drying the uncured coating film, and a drying relief zone installed on the downstream side of the air-drying zone and equipped with a shielding surface portion facing the surface of the uncured coating film at a predetermined distance. With
The air drying zone sprays wind along the downstream side of the conveyance direction with respect to the surface of the uncured coating film,
A method for producing a coating film, wherein the conveyance speed AS of the substrate and the wind speed BS of the wind satisfy the relationship of 1≤AS/BS≤50.
상기 재료 용액을 상기 기재에 도포하는 도포점부터 상기 차폐면부에 이르기까지의 상기 기재의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하이며,
상기 차폐면부가 상기 미경화 도막의 표면으로부터 50mm 이상 150mm 이하의 간격 H를 두고 배치되어 있고,
상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5m 이상 2m 이하이며,
상기 미경화 도막의 두께 D와 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있는, 도막의 제조 방법.According to claim 1,
The conveyance length L1 of the substrate from the application point where the material solution is applied to the substrate to the shielding surface portion exceeds 0 m and is 3 m or less,
The shielding surface portion is arranged at a distance H of 50 mm or more and 150 mm or less from the surface of the uncured coating film,
The length L2 of the shielding surface is 0.5 m or more and 2 m or less,
A method for producing a coating film, wherein the thickness D of the uncured coating film and the length L2 of the shielding surface portion satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50.
상기 미경화 도막이 형성된 상기 기재를 건조존으로 반송해서 상기 미경화 도막을 건조하는 공정을 갖고,
상기 건조존이, 상기 미경화 도막을 풍건하는 풍건존과, 상기 풍건존의 상기 하류측에 설치된 존으로서 상기 미경화 도막의 표면에 대하여 소정의 간격을 두고 대향 배치된 차폐면부가 설치된 건조 완화존을 갖고,
상기 재료 용액을 상기 기재에 도포하는 도포점부터 상기 차폐면부에 이르기까지의 상기 기재의 반송 길이 L1이 0m를 초과하고 3m 이하이며,
상기 차폐면부가 상기 미경화 도막의 표면으로부터 50mm 이상 150mm 이하의 간격 H를 두고 배치되어 있고,
상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5m 이상 2m 이하이며,
상기 미경화 도막의 두께 D와 상기 차폐면부의 길이 L2가 0.5≤D/L2≤50의 관계를 충족시키고 있는, 도막의 제조 방법.A process of forming an uncured coating film by applying a material solution to a long strip-shaped substrate while continuously conveying it from the upstream side of the conveyance direction to the downstream side of the conveyance direction,
A step of transporting the substrate on which the uncured coating film is formed to a drying zone and drying the uncured coating film,
The drying zone includes an air-drying zone for air-drying the uncured coating film, and a drying relief zone installed on the downstream side of the air-drying zone and equipped with a shielding surface portion facing the surface of the uncured coating film at a predetermined distance. With
The conveyance length L1 of the substrate from the application point where the material solution is applied to the substrate to the shielding surface portion exceeds 0 m and is 3 m or less,
The shielding surface portion is arranged at a distance H of 50 mm or more and 150 mm or less from the surface of the uncured coating film,
The length L2 of the shielding surface is 0.5 m or more and 2 m or less,
A method for producing a coating film, wherein the thickness D of the uncured coating film and the length L2 of the shielding surface portion satisfy the relationship of 0.5≤D/L2≤50.
상기 건조하는 공정 후, 상기 미경화 도막을 경화시켜서 도막을 형성하는 공정을 갖는, 도막의 제조 방법.The method according to any one of claims 1 to 3,
A method for producing a coating film, comprising a step of curing the uncured coating film to form a coating film after the drying process.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2022-202149 | 2022-12-19 | ||
| JP2022202149A JP2024087360A (en) | 2022-12-19 | 2022-12-19 | Manufacturing method of coating film, and manufacturing method of optical film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240096346A true KR20240096346A (en) | 2024-06-26 |
Family
ID=91511888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020230145618A Pending KR20240096346A (en) | 2022-12-19 | 2023-10-27 | Method for manufacturing coating film and method for manufacturing optical film |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2024087360A (en) |
| KR (1) | KR20240096346A (en) |
| CN (1) | CN118218216A (en) |
| TW (1) | TW202426984A (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005215210A (en) | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Nitto Denko Corp | Optical film manufacturing method, optical film, optical member using the same, and image display device |
-
2022
- 2022-12-19 JP JP2022202149A patent/JP2024087360A/en active Pending
-
2023
- 2023-10-16 TW TW112139393A patent/TW202426984A/en unknown
- 2023-10-27 KR KR1020230145618A patent/KR20240096346A/en active Pending
- 2023-12-07 CN CN202311677839.4A patent/CN118218216A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005215210A (en) | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Nitto Denko Corp | Optical film manufacturing method, optical film, optical member using the same, and image display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2024087360A (en) | 2024-07-01 |
| CN118218216A (en) | 2024-06-21 |
| TW202426984A (en) | 2024-07-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20231027 |
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