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KR20230144940A - Substrate attaching apparatus and substrate attaching method - Google Patents

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KR20230144940A
KR20230144940A KR1020230029251A KR20230029251A KR20230144940A KR 20230144940 A KR20230144940 A KR 20230144940A KR 1020230029251 A KR1020230029251 A KR 1020230029251A KR 20230029251 A KR20230029251 A KR 20230029251A KR 20230144940 A KR20230144940 A KR 20230144940A
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KR
South Korea
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plate
substrate
substrates
contact sheet
sticking device
Prior art date
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Pending
Application number
KR1020230029251A
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Korean (ko)
Inventor
유분 기쿠치
요시히로 야마다
류마 미즈사와
Original Assignee
도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
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Filing date
Publication date
Application filed by 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
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Abstract

The present invention equalizes the pressure applied to the bonding surfaces between a plurality of substrates. A board pasting device (100) includes a first plate (20) and a second plate (30) which sandwich a plurality of substrates (S1, S2) in a stacked state, and a pressing mechanism (30) which presses either the first plate (20) or the second plate (30) against the other, and at least one of the first plate (20) and the second plate (30) includes a plate body (31), and a deformable contact sheet (35) which is supported by the plate body (31) and abuts the substrates (S1, S2), and has higher flexibility than the plate body (31).

Description

기판 첩부 장치 및 기판 첩부 방법{SUBSTRATE ATTACHING APPARATUS AND SUBSTRATE ATTACHING METHOD}Substrate attachment device and substrate attachment method {SUBSTRATE ATTACHING APPARATUS AND SUBSTRATE ATTACHING METHOD}

본 발명은, 기판 첩부 (貼付) 장치 및 기판 첩부 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate sticking device and a substrate sticking method.

복수의 기판을 겹친 상태에서 첩부하는 기판 첩부 장치가 알려져 있다. 이와 같은 기판 첩부 장치로서, 예를 들어 피가압부와, 그 하면에 배치된 응력 분산부와, 응력 분산부의 하면에 배치된 부품 유지부를 구비한 구성이 개시되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 구성에 있어서, 부품 유지부는 응력 분산부를 구성하는 응력 분산 플레이트의 하면에 장착되어 있다. 피가압부의 상면 중앙에는, 가압 기구로부터의 가압력이 점하중으로 가해진다. 응력 분산 플레이트는, 그 상면에 원환상으로 사다리꼴상 단면 (斷面) 의 접촉부를 구비하고 있다. 복수의 기판은, 부품 유지부와 응력 분산부 사이에 협지된다. 가압 기구로부터의 가압력은, 응력 분산 플레이트에 형성된 원환상의 접촉부에 의해, 주위로 분산된다. 이와 같이, 응력 분산 플레이트를 형성함으로써, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력은 균일화된다.A substrate sticking device that attaches a plurality of substrates in an overlapping state is known. As such a substrate sticking device, for example, a configuration including a pressurized portion, a stress distribution portion disposed on the lower surface of the stress dispersing portion, and a component holding portion disposed on the lower surface of the stress dispersing portion is disclosed (for example, patent document 1 reference). In this configuration, the component holding portion is mounted on the lower surface of the stress dispersion plate constituting the stress dispersion portion. Pressing force from the pressing mechanism is applied as a point load to the center of the upper surface of the pressed portion. The stress dispersion plate is provided with a contact portion with an annular shape and a trapezoidal cross-section on its upper surface. A plurality of substrates are sandwiched between the component holding portion and the stress distribution portion. The pressing force from the pressing mechanism is distributed to the surroundings by the annular contact portion formed on the stress distribution plate. In this way, by forming the stress distribution plate, the pressing force applied to the bonding surfaces of the plurality of substrates is equalized.

일본 공개특허공보 2007-301593호Japanese Patent Publication No. 2007-301593

특허문헌 1 의 기판 첩부 장치는, 원환상의 접촉부를 개재하여 가압력을 전달하고 있으므로, 가압하는 축 방향의 연장 상에 가압력을 전달하는 부분이 없어, 가압력을 균일하게 분산시키기에는 불충분하다. 기판끼리를 적절히 붙이기 위해, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 가일층의 균일화가 요망되고 있다. 또, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일성이 낮은 경우, 예를 들어, 기판 첩부 장치의 후공정에서, 기판의 세정을 실시했을 때에, 기판 상의 전자 부품이 탈락되어 버리는 경우도 있다.Since the substrate sticking device of Patent Document 1 transmits the pressing force through an annular contact portion, there is no part that transmits the pressing force on the extension in the pressing axial direction, and it is insufficient to uniformly distribute the pressing force. In order to properly bond the substrates together, there is a demand for further uniformity of the pressing force applied to the bonding surface of the plurality of substrates. In addition, when the uniformity of the pressing force applied to the bonding surface of a plurality of substrates is low, for example, when the substrate is cleaned in the post-process of the substrate sticking device, electronic components on the substrate may fall off. there is.

본 발명은, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모하는 것이 가능한 기판 첩부 장치 및 기판 첩부 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a substrate sticking device and a substrate sticking method capable of equalizing the pressing force applied to the bonding surfaces of a plurality of substrates.

본 발명의 제 1 양태에서는, 복수의 기판을 겹친 상태에서 협지하는 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트와, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방으로 누르는 가압 기구를 갖고, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트의 적어도 일방은, 플레이트 본체와, 플레이트 본체에 지지되어 기판에 맞닿고, 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하는, 기판 첩부 장치가 제공된다.In the first aspect of the present invention, there is provided a first plate and a second plate for holding a plurality of substrates in an overlapping state, and a pressing mechanism for pressing one of the first plate and the second plate against the other, the first plate and the second plate A substrate sticking device is provided, wherein at least one of the second plates includes a plate main body and a deformable contact sheet that is supported by the plate main body and abuts the substrate and has higher flexibility than the plate main body.

본 발명의 제 2 양태에서는, 복수의 기판을 겹친 상태에서 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트로 협지함으로써 복수의 기판을 첩합 (貼合) 하는 방법으로서, 제 1 플레이트와 제 2 플레이트 사이에, 복수의 기판을 겹친 상태에서 배치하는 것과, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방을 향하여 누름으로써, 제 1 플레이트와 제 2 플레이트 사이의 복수의 기판에 가압력을 부여하는 것을 포함하고, 가압력은, 가압력에 따라 변형되는 맞닿음 시트를 개재하여, 복수의 기판에 부여되는, 기판 첩부 방법이 제공된다.In a second aspect of the present invention, a method of bonding a plurality of substrates by sandwiching the plurality of substrates with a first plate and a second plate in an overlapping state, wherein between the first plate and the second plate, a plurality of substrates are formed. It includes arranging the substrates in an overlapping state and applying a pressing force to a plurality of substrates between the first plate and the second plate by pressing one of the first plate and the second plate toward the other, where the pressing force is A method of attaching a substrate is provided, in which a plurality of substrates are provided through a contact sheet that deforms according to a pressing force.

본 발명에 의하면, 기판 첩부 장치는, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트의 적어도 일방이, 기판에 맞닿고, 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하고 있으므로, 가압 기구에 의한 가압력은, 맞닿음 시트를 개재하여 복수의 기판에 전달된다. 따라서, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모할 수 있고, 복수의 기판끼리를 적절히 접합할 수 있다.According to the present invention, in the substrate sticking device, at least one of the first plate and the second plate is in contact with the substrate and is provided with a deformable contact sheet having higher flexibility than the plate main body, so the pressing force by the pressing mechanism is , is transferred to a plurality of substrates via a contact sheet. Therefore, the pressing force applied to the bonding surface of the plurality of substrates can be equalized, and the plurality of substrates can be properly bonded to each other.

도 1 은, 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 기판 및 기판을 상방에서 본 도면이다.
도 3 은, 제 2 플레이트를 하강시켜, 맞닿음 시트를 기판에 부딪치게 한 상태의 종단면도이다.
도 4 는, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법의 일례를 나타내는 플로 차트이다.
도 5 는, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 6 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 7 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 8 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 9 는, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 10 은, 맞닿음 시트에 사용하는 시트 재료의 성능 평가의 결과를 나타내는 도면이다.
1 is a diagram showing an example of a substrate sticking device according to an embodiment.
Fig. 2 is a view of the substrate and the substrate as seen from above.
Fig. 3 is a vertical cross-sectional view of the second plate being lowered and the contact sheet colliding with the substrate.
Fig. 4 is a flow chart showing an example of the substrate sticking method according to the present embodiment.
Figure 5 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 6 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Fig. 7 is a process diagram showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 8 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 9 is a process diagram showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Fig. 10 is a diagram showing the results of performance evaluation of sheet materials used for contact sheets.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 설명에 한정되지 않는다. 또, 도면에 있어서는 실시형태를 알기 쉽게 설명하기 위해, 일부분을 생략하여 표현하고 있는 부분이 있다. 또한 도면에서는, 일부분을 크게 또는 강조하여 기재하는 등 적절히 축척을 변경하여 표현하고 있어, 실제의 제품과는 크기, 형상이 상이한 경우가 있다. 이하의 각 도면에 있어서, XYZ 직교 좌표계를 사용하여 도면 중의 방향을 설명한다. 이 XYZ 직교 좌표계에 있어서는, 수평면에 평행한 평면을 XY 평면으로 한다. 이 XY 평면에 있어서 기판 (S1) 과 기판 (S2) 의 반송 방향에 평행한 방향을 X 방향으로 하고, X 방향에 직교하는 방향을 Y 방향으로 한다. 또, XY 평면에 수직인 방향을 Z 방향 (높이 방향) 으로 표기한다. X 방향, Y 방향 및 Z 방향의 각각은, 도면 중의 화살표가 가리키는 방향이 + 방향이고, 화살표가 가리키는 방향과는 반대의 방향이 - 방향인 것으로 하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description. In addition, in the drawings, some parts are omitted and expressed in order to easily explain the embodiments. Additionally, in the drawings, the scale is changed appropriately, such as enlarging or emphasizing some parts, and the size and shape may be different from the actual product. In each drawing below, the direction in the drawing is explained using the XYZ orthogonal coordinate system. In this XYZ orthogonal coordinate system, the plane parallel to the horizontal plane is called the XY plane. In this XY plane, the direction parallel to the transport direction of the substrate S1 and S2 is referred to as the X direction, and the direction perpendicular to the Additionally, the direction perpendicular to the XY plane is expressed as the Z direction (height direction). Each of the X-direction, Y-direction, and Z-direction is explained assuming that the direction indicated by the arrow in the drawing is the + direction, and the direction opposite to the direction indicated by the arrow is the - direction.

<기판 첩부 장치><Substrate sticking device>

실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 에 대해 설명한다. 도 1 은, 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 의 일례를 나타내는 도면이다. 기판 첩부 장치 (100) 는, 전공정에 있어서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2) 에, 가압력을 부여함으로써, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다. 접착층 (F) 은, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 의 적어도 일방에 형성되어 있다.The substrate sticking device 100 according to the embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram showing an example of a substrate sticking device 100 according to an embodiment. The substrate sticking device 100 attaches the substrate S1 and the substrate S2 by applying a pressing force to the substrates S1 and S2 that are temporarily bonded through the adhesive layer F in the previous process. The adhesive layer (F) is formed on at least one of the substrate (S1) and the substrate (S2).

기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 예를 들어 유리 기판이지만, 유리 기판 이외의 반도체 기판, 수지성 기판 등이어도 된다. 본 실시형태에서는, 첩부되는 2 장의 기판 중, 상측 기판을 기판 (S1) 이라고 칭하고, 하측 기판을 기판 (S2) 이라고 칭한다. 또, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한 형태를 기판 (S) 이라고 칭한다. 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 모두 평면에서 보았을 때에 있어서 (Z 방향에서 보아) 원형상의 원형 기판이 사용되지만, 원형 기판에 한정되지 않고, 평면에서 보았을 때에 있어서 직사각형상 (정방형상, 장방형상) 의 각형 기판, 타원형상, 장원형상 등의 기판이어도 된다.The substrate S1 and the substrate S2 are, for example, glass substrates, but may be semiconductor substrates other than glass substrates, resin substrates, etc. In this embodiment, of the two substrates to be attached, the upper substrate is called substrate (S1), and the lower substrate is called substrate (S2). In addition, the form in which the substrate (S1) and the substrate (S2) are attached is called the substrate (S). Both the substrate S1 and the substrate S2 are circular substrates with a circular shape in a planar view (viewed from the Z direction), but they are not limited to circular substrates and are rectangular in a planar view (square, rectangular). The substrate may be a square substrate, oval-shaped, oval-shaped, etc. (above).

도 2 는, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 을 상방에서 본 도면이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 기능 영역 (Af) 을 갖고 있다. 기능 영역 (Af) 은, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 사이에서, 반도체 칩 등의 소자가 배치되어 있는 영역이다. 기능 영역 (Af) 은, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 의 외주 가장자리 (Se) 보다 직경 방향 내측에 설정되어 있다. 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 기능 영역 (Af) 의 직경 방향 외측에, 소자가 배치되어 있지 않은 외주 영역 (As) 을 갖고 있다.FIG. 2 is a view of the substrate S1 and the substrate S2 as seen from above. As shown in FIG. 2 , the substrate S1 and S2 have a functional region Af. The functional area Af is an area where elements such as a semiconductor chip are arranged between the substrate S1 and the substrate S2. The functional area Af is set radially inside the outer peripheral edge Se of the substrate S1 and S2. The substrate S1 and S2 have an outer peripheral area As in which no elements are disposed, radially outside the functional area Af.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 기판 첩부 장치 (100) 는, 챔버 (10) 와, 제 1 플레이트 (20) 와, 제 2 플레이트 (30) 와, 가압 기구 (50) 와, 제어부 (도시 생략) 를 구비한다. 제어부 (도시 생략) 는, 기판 첩부 장치 (100) 에 있어서의 각 부의 동작을 통괄하여 제어한다.As shown in FIG. 1, the substrate sticking device 100 includes a chamber 10, a first plate 20, a second plate 30, a pressing mechanism 50, and a control unit (not shown). Equipped with A control unit (not shown) collectively controls the operation of each unit in the substrate sticking device 100.

챔버 (10) 는, 기판 첩부 장치 (100) 의 기대 (基臺) (15) 상에 배치되어 있다. 챔버 (10) 는, 기대 (15) 의 외주부로부터 상방으로 세워지는 측벽 (10a) 과, 측벽 (10a) 의 상방을 덮는 천판 (10b) 을 가진 상자상으로 형성되어 있다. 챔버 (10) 는, 그 내부에 제 1 플레이트 (20) 와, 제 2 플레이트 (30) 와, 가압 기구 (50) 의 일부가 수용되어 있다. 챔버 (10) 는, 측벽 (10a) 의 일부에 개구부 (11) 를 갖고 있다. 개구부 (11) 는, 챔버 (10) 의 -X 측의 면에 형성되고, 챔버 (10) 의 내부와 외부를 연통시킨다. 개구부 (11) 는, 전공정에 있어서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2), 및 기판 (S1) 과 기판 (S2) 이 첩부된 기판 (S) 이, 각각 통과 가능한 치수로 형성되어 있다. 기판 (S1, S2) 은, 반송 장치 (도시 생략) 에 의해 개구부 (11) 를 통하여 챔버 (10) 내에 반입된다. 또, 기판 (S) 은, 개구부 (11) 를 통하여 챔버 (10) 내로부터 반출된다.The chamber 10 is arranged on the base 15 of the substrate sticking device 100. The chamber 10 is formed in a box shape with a side wall 10a extending upward from the outer periphery of the base 15 and a top plate 10b covering the upper part of the side wall 10a. The chamber 10 accommodates the first plate 20, the second plate 30, and a part of the pressing mechanism 50 therein. The chamber 10 has an opening 11 in a part of the side wall 10a. The opening 11 is formed on the -X side surface of the chamber 10 and communicates the inside and outside of the chamber 10. The opening 11 allows the substrates S1 and S2, which are temporarily bonded together via the adhesive layer F in the previous process, and the substrate S to which the substrate S1 and S2 are attached, to pass through. It is formed by dimensions. The substrates S1 and S2 are loaded into the chamber 10 through the opening 11 by a transfer device (not shown). Additionally, the substrate S is carried out from within the chamber 10 through the opening 11.

챔버 (10) 는, 개구부 (11) 를 개폐하는 게이트 밸브 (12) 를 구비하고 있다. 게이트 밸브 (12) 는, 챔버 (10) 의 -X 측의 측면에 있어서의 외측에 배치되고, 도시되지 않은 구동부에 의해, 예를 들어, 높이 방향 (Z 방향) 으로 슬라이드 가능하다. 게이트 밸브 (12) 는, 슬라이드함으로써 개구부 (11) 를 개폐하고, 개구부 (11) 를 닫음으로써 챔버 (10) 내를 밀폐 상태로 할 수 있다.The chamber 10 is equipped with a gate valve 12 that opens and closes the opening 11. The gate valve 12 is disposed on the outside of the - The gate valve 12 can open and close the opening 11 by sliding, and can keep the inside of the chamber 10 in a sealed state by closing the opening 11.

또한, 본 실시형태에 있어서, 개구부 (11) 를 닫음으로써 챔버 (10) 내를 밀폐 상태로 하고, 도시되지 않은 진공 펌프에 의해, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하고 있다. 이 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 흡인 (배기) 함으로써, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 할 수 있다. 또한, 챔버 (10) 는, 내부의 진공 분위기를 개방하기 위해 외부에 대해 개방 가능한 밸브를 구비하고 있어도 된다. 단, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하는 것에 한정되지 않고, 게이트 밸브 (12) 로 개구부 (11) 를 닫아서도, 챔버 (10) 내를 대기압 분위기하로 된 상태로 해도 된다. 또, 챔버 (10) 의 상면에는, 후술하는 복수의 가압축 (51) 이 관통하는 복수의 관통부 (10h) 가 형성되어 있다. 관통부 (10h) 의 각각에는, 가압축 (51) 이 승강 가능한 상태로 삽입되어 있고, 도시되지 않은 시일 부재에 의해 챔버 (10) 내의 밀폐 상태를 유지하고 있다.In addition, in this embodiment, the inside of the chamber 10 is sealed by closing the opening 11, and the inside of the chamber 10 is maintained in a vacuum atmosphere by a vacuum pump (not shown). By suctioning (exhausting) the inside of the chamber 10 with this suction device, the inside of the chamber 10 can be created in a vacuum atmosphere. Additionally, the chamber 10 may be provided with a valve that can be opened to the outside in order to open the internal vacuum atmosphere. However, the inside of the chamber 10 is not limited to creating a vacuum atmosphere, and the inside of the chamber 10 may be placed under an atmospheric pressure atmosphere even if the opening 11 is closed with the gate valve 12. In addition, on the upper surface of the chamber 10, a plurality of penetrating portions 10h through which a plurality of compression shafts 51 described later penetrate are formed. A compression shaft 51 is inserted into each of the penetrating portions 10h in a liftable state, and the sealed state within the chamber 10 is maintained by a seal member (not shown).

또한, 기판 첩부 장치 (100) 는, 챔버 (10) 를 구비하는지의 여부가 임의이고, 챔버 (10) 를 구비하지 않는 형태 (대기 개방형) 여도 된다. 또, 챔버 (10) 내는, 도시되지 않은 가스 공급 장치에 접속되어도 된다. 이 가스 공급 장치로부터 챔버 (10) 내에 소정의 가스를 공급함으로써 챔버 (10) 내의 분위기를, 소정의 가스 분위기로 치환할 수 있다. 소정의 가스로는, 예를 들어, 질소 가스 등의 기판 (S1, S2) 에 형성되어 있는 박막 등에 대해 불활성인 가스, 또는 드라이 에어 등이 사용된다.In addition, the substrate sticking device 100 may be provided with the chamber 10 or not, and may be in a form without the chamber 10 (open to the atmosphere). Additionally, the inside of the chamber 10 may be connected to a gas supply device not shown. By supplying a predetermined gas into the chamber 10 from this gas supply device, the atmosphere within the chamber 10 can be replaced with a predetermined gas atmosphere. As the predetermined gas, for example, a gas inert to the thin film formed on the substrates S1 and S2, such as nitrogen gas, or dry air, etc. are used.

제 1 플레이트 (20) 는, 챔버 (10) 내에 반입된 기판 (S1, S2) 을 하방으로부터 지지한다. 제 1 플레이트 (20) 는, 상방에서 보아 원형상이지만, 이 형태에 한정되지 않고, 예를 들어 직사각형상 (정방형상, 장방형상), 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 제 1 플레이트 (20) 는, 기판 (S1, S2) 보다 큰 외경 치수로 설정되어 있다.The first plate 20 supports the substrates S1 and S2 loaded into the chamber 10 from below. The first plate 20 has a circular shape when viewed from above, but is not limited to this shape, and may be, for example, rectangular (square, rectangular), elliptical, oval, etc. The first plate 20 is set to have an outer diameter larger than that of the substrates S1 and S2.

제 1 플레이트 (20) 는, 지지 플레이트 (21) 와, 제 1 히터 (가열부) (22) 와, 베이스 플레이트 (23) 를 갖는다. 지지 플레이트 (21), 제 1 히터 (22), 및 베이스 플레이트 (23) 는, 하측 (-Z 측) 에서부터 이 순서로 적층되어 있다. 제 1 플레이트 (20) 는, 지지 플레이트 (21) 의 하면측에 형성된 복수 개의 지주 (24) 에 의해 지지되고, 지주 (24) 를 개재하여 기대 (15) 의 상면에 고정되어 있다. 지지 플레이트 (21) 와 제 1 히터 (22) 사이, 및 제 1 히터 (22) 와 베이스 플레이트 (23) 사이는, 예를 들어 볼트 등의 체결 부재에 의해 고정되어 있다.The first plate 20 has a support plate 21, a first heater (heating section) 22, and a base plate 23. The support plate 21, the first heater 22, and the base plate 23 are stacked in this order starting from the lower side (-Z side). The first plate 20 is supported by a plurality of struts 24 formed on the lower surface side of the support plate 21, and is fixed to the upper surface of the base 15 via the props 24. The space between the support plate 21 and the first heater 22 and between the first heater 22 and the base plate 23 is fixed by fastening members such as bolts, for example.

지지 플레이트 (21) 는, 예를 들어, 금속, 수지, 세라믹스 등의 재질에 의해 형성된 판상체이다. 제 1 히터 (22) 는, 가열부의 일례이고, 예를 들어, 내부에 전열선 등의 가열 기구 (열원) 를 갖는 핫 플레이트이다. 제 1 히터 (22) 에 의해 베이스 플레이트 (23) 를 개재하여 기판 (S1, S2) 을 가열한다. 또한, 제 1 히터 (22) 는, 시트상의 열원을 사이에 두고 적층된 적층 구조체여도 된다. 또, 본 실시형태에서는, 제 1 플레이트 (20) 는, 제 1 히터 (22) 를 갖고 있지만, 갖고 있지 않은 구성으로 해도 된다.The support plate 21 is, for example, a plate-shaped body formed of a material such as metal, resin, or ceramics. The first heater 22 is an example of a heating unit, and is, for example, a hot plate having a heating mechanism (heat source) such as a heating wire inside. The first heater 22 heats the substrates S1 and S2 via the base plate 23. Additionally, the first heater 22 may be a laminated structure stacked with sheet-shaped heat sources interposed between them. In addition, in this embodiment, the first plate 20 has the first heater 22, but may be configured without it.

베이스 플레이트 (23) 는, 상면인 +Z 측의 재치면 (載置面) (23a) 에 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 이 재치된다. 베이스 플레이트 (23) 는, 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 의 열팽창 계수 완화를 위해, 예를 들어, 세라믹스로 판상으로 형성되는 세라믹 플레이트가 사용되지만, 금속, 수지 등으로 형성되어도 된다. 베이스 플레이트 (23) 의 재치면 (23a) 은, 기판 (S2) 과의 접촉면이 된다. 따라서, 재치면 (23a) 은, 평면도가 높고 또한 면 조도가 작은 (또는 경면인) 것이 바람직하다.In the base plate 23, the substrates S1 and S2 and the substrate S are placed on the +Z side mounting surface 23a, which is the upper surface. The base plate 23 is, for example, a ceramic plate formed into a plate shape made of ceramics in order to relax the thermal expansion coefficient of the substrates S1, S2, and the substrate S. However, the base plate 23 may be formed of metal, resin, etc. . The mounting surface 23a of the base plate 23 serves as a contact surface with the substrate S2. Therefore, it is desirable that the placement surface 23a has a high flatness and a small surface roughness (or a mirror surface).

지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 하면에 복수 형성되어 있다. 복수의 지주 (24) 는, 제 1 플레이트 (20) 를 챔버 (10) 의 바닥부의 기대 (15) 에 지지하기 위해 사용된다. 복수의 지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 외주부에 배치되어 있다. 지주 (24) 는, 상방에서 보아 직사각형상이지만, 원형상, 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 둘레 방향으로 간격을 두고 복수 배치되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 지주 (24) 는, 둘레 방향으로 간격을 두고 6 개 배치되어 있다. 복수 개의 지주 (24) 로 제 1 플레이트 (20) 를 지지함으로써, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력이 큰 경우여도, 제 1 플레이트 (20) 의 변형을 방지한다. 또한, 복수 개의 지주 (24) 의 개수 및 배치는, 상기한 형태에 한정되지 않고, 제 1 플레이트 (20) 의 크기, 사용되는 가압력의 크기 등에 따라 임의로 설정할 수 있다.A plurality of supports 24 are formed on the lower surface of the support plate 21 . The plurality of supports 24 are used to support the first plate 20 on the base 15 at the bottom of the chamber 10. The plurality of supports 24 are arranged on the outer periphery of the support plate 21 . The support 24 has a rectangular shape when viewed from above, but may also have a circular shape, an oval shape, an oval shape, etc. A plurality of supports 24 are arranged at intervals in the circumferential direction of the support plate 21 . In this embodiment, six pillars 24 are arranged at intervals in the circumferential direction. By supporting the first plate 20 with a plurality of supports 24, deformation of the first plate 20 is prevented even when the pressing force by the pressing mechanism 50 is large. In addition, the number and arrangement of the plurality of supports 24 are not limited to the above-described form and can be arbitrarily set depending on the size of the first plate 20, the size of the pressing force used, etc.

도 3 은, 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 맞닿음 시트 (35) 를 기판 (S1, S2) 에 부딪치게 한 상태의 종단면도이다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 2 플레이트 (30) 는, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부할 때에, 기판 (S1, S2) 을 제 1 플레이트 (20) 측 (-Z 측) 을 향하여 가압한다. 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 의 상측에 배치되어 있다. 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 와 마찬가지로, 상방에서 보아 원형상이지만, 이 형태에 한정되지 않고, 예를 들어, 직사각형상 (정방형상, 장방형상), 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 제 2 플레이트 (30) 는, 기판 (S1, S2) 보다 큰 외경 치수로 설정되어 있다. 제 2 플레이트 (30) 의 외경 치수는, 제 1 플레이트 (20) 와 동일하지만, 이 형태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 에 대해 외경 치수가 커도 되고, 또는 작아도 된다.FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the second plate 30 being lowered so that the contact sheet 35 is struck against the substrates S1 and S2. As shown in FIG. 3, when attaching the substrates S1 and S2, the second plate 30 faces the substrates S1 and S2 toward the first plate 20 (-Z side). Pressurize. The second plate 30 is disposed above the first plate 20. The second plate 30, like the first plate 20, has a circular shape when viewed from above, but is not limited to this shape and may have, for example, a rectangular shape (square, rectangular shape), oval shape, or oval shape. etc. may also be used. The second plate 30 is set to have an outer diameter larger than that of the substrates S1 and S2. The outer diameter dimension of the second plate 30 is the same as that of the first plate 20, but is not limited to this form. For example, the second plate 30 may have a larger or smaller outer diameter than the first plate 20 .

제 2 플레이트 (30) 는, 후술하는 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 의 하단에 유지되어 있고, 가압축 (51) 의 승강에 수반하여 승강한다. 제 2 플레이트 (30) 는, 플레이트 본체 (31) 와, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하고 있다. 플레이트 본체 (31) 는, 수압 플레이트 (32) 와, 제 2 히터 (가열부) (33) 와, 가압 플레이트 (34) 를 구비하고 있다. 수압 플레이트 (32), 제 2 히터 (33), 가압 플레이트 (34), 및 맞닿음 시트 (35) 는, 상측에서부터 이 순서로 적층되어 있다. 수압 플레이트 (32), 제 2 히터 (33), 및 가압 플레이트 (34) 는, 각각 평면에서 보았을 때에 원형의 판상이고, 동일한 외경을 갖고 있다. 플레이트 본체 (31) 를 구성하는 수압 플레이트 (32) 와, 제 2 히터 (33) 와, 가압 플레이트 (34) 는, 예를 들어 볼트 등의 체결 부재에 의해 고정되어 있다.The second plate 30 is held at the lower end of the pressing shaft 51 of the pressing mechanism 50, which will be described later, and moves up and down as the pressing shaft 51 rises and falls. The second plate 30 includes a plate main body 31 and an abutting sheet 35. The plate main body 31 is provided with a hydraulic plate 32, a second heater (heating section) 33, and a pressure plate 34. The pressure plate 32, the second heater 33, the pressure plate 34, and the contact sheet 35 are stacked in this order from the top. The hydraulic plate 32, the second heater 33, and the pressure plate 34 each have a circular plate shape in plan view and have the same outer diameter. The hydraulic plate 32, the second heater 33, and the pressure plate 34, which constitute the plate main body 31, are fixed by fastening members such as bolts, for example.

수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 측, 요컨대 상측에 배치되어 있다. 수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 의 하단부에 접속되어 있다. 수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 으로부터 가압력을 받기 때문에, 소정의 강도로 형성되는 것이 바람직하다. 수압 플레이트 (32) 는, 예를 들어, 금속, 수지, 세라믹스 등에 의해 형성된다. 본 실시형태에서는, 수압 플레이트 (32) 는, 금속 플레이트이다.The pressure plate 32 is disposed on the pressurizing mechanism 50 side, that is, on the upper side. The hydraulic plate 32 is connected to the lower end of the pressing shaft 51 of the pressing mechanism 50. Since the hydraulic plate 32 receives a pressing force from the pressing shaft 51 of the pressing mechanism 50, it is preferably formed to have a predetermined strength. The hydraulic plate 32 is formed of, for example, metal, resin, ceramics, etc. In this embodiment, the hydraulic plate 32 is a metal plate.

제 2 히터 (33) 는, 가압 플레이트 (34) 와 수압 플레이트 (32) 사이에 배치되어 있다. 제 2 히터 (33) 는, 가압 플레이트 (34) 의 상면에 배치되어 있다. 제 2 히터 (33) 는, 제 1 플레이트 (20) 의 제 1 히터 (22) 와 마찬가지로, 예를 들어, 내부에 전열선 등의 가열 기구 (열원) 를 갖는 핫 플레이트이다. 제 2 히터 (도시 생략) 는, 가압 플레이트 (34) 를 개재하여 기판 (S1) 을 가열한다. 또한, 제 2 히터 (도시 생략) 는, 제 1 히터 (22) 와 마찬가지로, 시트상의 열원을 사이에 두고 적층된 적층 구조체여도 된다. 또, 본 실시형태에서는, 플레이트 본체 (31) 는, 제 2 히터 (33) 를 구비하고 있지만, 구비하고 있지 않은 구성으로 해도 된다.The second heater 33 is disposed between the pressure plate 34 and the water pressure plate 32. The second heater 33 is disposed on the upper surface of the pressure plate 34. The second heater 33, like the first heater 22 of the first plate 20, is a hot plate that has a heating mechanism (heat source) such as a heating wire inside, for example. A second heater (not shown) heats the substrate S1 via the pressure plate 34. In addition, like the first heater 22, the second heater (not shown) may be a laminated structure stacked with a sheet-like heat source interposed therebetween. In addition, in this embodiment, the plate main body 31 is provided with the second heater 33, but may be configured without it.

가압 플레이트 (34) 는, 제 2 히터 (33) 의 하측에 형성되어 있다. 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1) 을 상방으로부터 가압하기 위한 가압면 (34a) 을 -Z 측의 하면에 구비한다. 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 의 열팽창 계수 완화를 위해, 예를 들어, 세라믹스로 판상으로 형성되는 세라믹 플레이트가 사용되지만, 금속, 수지 등으로 판상으로 형성되어도 된다.The pressure plate 34 is formed below the second heater 33. The pressure plate 34 is provided with a pressure surface 34a on the lower surface on the -Z side for pressing the substrate S1 from above. The pressure plate 34 is, for example, a ceramic plate formed into a plate shape made of ceramics to alleviate the thermal expansion coefficient of the substrates S1, S2, and the substrate S. However, the pressure plate 34 is formed into a plate shape made of metal, resin, etc. It's okay.

맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 에 지지되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 에 대해 제 1 플레이트 (20) 측, 요컨대 하측에 형성되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 가압 플레이트 (34) 의 가압면 (34a) 을 따라 고정되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 예를 들어, 접착, 흡착 등에 의해, 가압면 (34a) 에 고정되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 적절한 수단에 의해, 가압면 (34a) 에 대해 착탈 가능하게 구성되는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 는, 하측을 향하고, 기판 (S1) 에 맞닿는 맞닿음면 (35f) 을 갖고 있다.The contact sheet 35 is supported on the plate main body 31. The contact sheet 35 is formed on the first plate 20 side, that is, on the lower side, with respect to the plate main body 31. The contact sheet 35 is fixed along the pressing surface 34a of the pressing plate 34. The contact sheet 35 is fixed to the pressing surface 34a by, for example, adhesion, adsorption, or the like. The contact sheet 35 is preferably configured to be removable from the pressing surface 34a by appropriate means. The contact sheet 35 faces downward and has an contact surface 35f that abuts the substrate S1.

맞닿음 시트 (35) 는, 하방에서 보아 원형으로 형성되어 있지만 원형에 한정되지 않는다. 예를 들어 평면에서 보았을 때에 있어서 직사각형상 (정방형상, 장방형상) 의 각형 기판, 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 재료에 의해 형성되어 있다. 가압 플레이트 (34) 를 하강시킴으로써 기판 (S1, S2) 에 하중을 인가하였을 때에, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 수압 플레이트 (32) 로부터 제 2 히터 (33), 가압 플레이트 (34), 맞닿음 시트 (35) 를 거쳐, 복수의 기판 (S1, S2) 에 전달된다. 이 때, 맞닿음 시트 (35) 는, 가압력에 의해 상하 방향 (시트 두께 방향) 으로 변형됨으로써, 기판 (S1, S2) 에 작용하는 압력 변동폭의 균일화를 도모한다.The contact sheet 35 is formed in a circular shape when viewed from below, but is not limited to a circular shape. For example, the substrate may be rectangular (square, rectangular), elliptical, oval, etc. in plan view. The contact sheet 35 is formed of a deformable material that has higher flexibility than the plate main body 31. When a load is applied to the substrates S1 and S2 by lowering the pressure plate 34, the pressing force by the pressure mechanism 50 is applied from the pressure plate 32 to the second heater 33, the pressure plate 34, It is transmitted to the plurality of substrates S1 and S2 via the contact sheet 35. At this time, the contact sheet 35 is deformed in the vertical direction (sheet thickness direction) by the pressing force to equalize the pressure fluctuation width acting on the substrates S1 and S2.

이 때문에, 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 낮은 압축 영률을 갖는 재료를 포함하여 형성되어 있다. 플레이트 본체 (31) 에 있어서, 맞닿음 시트 (35) 의 상측에 배치된 가압 플레이트 (34) 는, 예를 들어 세라믹스제인 경우, 그 압축 영률은, 300000 (㎫) 이다. 또, 플레이트 본체 (31) 의 가압 플레이트 (34) 가, 예를 들어 스테인리스제인 경우, 압축 영률 E 는 193000 (㎫) 이다. 요컨대, 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1, S2) 에 하중을 인가하였을 때에 가압면 (34a) 에 발생하는 상하 방향에 있어서의 변위량 (변형량) 은, 거의 발생하지 않는다. 이에 대해, 맞닿음 시트 (35) 에 있어서, 가압 플레이트 (34) 로 하중을 인가하였을 때에 기판 (S1, S2) 에 작용하는 압력 변동폭의 균일화를 도모하기 위해서는, 이하에 나타내는 바와 같은 조건을 만족하는 재료를 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 것이 바람직하다.For this reason, the contact sheet 35 is formed of a material having a compressive Young's modulus lower than that of the plate main body 31. In the plate body 31, when the pressure plate 34 disposed above the contact sheet 35 is made of ceramics, for example, its compressive Young's modulus is 300,000 (MPa). Moreover, when the pressurizing plate 34 of the plate main body 31 is made of stainless steel, for example, the compression Young's modulus E is 193000 (MPa). In short, when a load is applied to the pressure plate 34 to the substrates S1 and S2, almost no displacement (amount of strain) in the vertical direction occurs on the pressure surface 34a. On the other hand, in order to equalize the pressure fluctuation range acting on the substrates S1 and S2 when a load is applied to the pressure plate 34 in the contact sheet 35, the conditions as shown below are satisfied. It is preferred to use the material for the abutting sheet 35.

예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 기판 (S1, S2) 에 가고정 또는 고정하지 않는 편이 바람직하고, 즉, 본 실시형태와 같이, 플레이트 본체 (31) 에 지지되어 있는 것이 바람직하고, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때에, 하중의 방향으로 50 um 이상 360 um 이하의 범위에서 변위 (변형) 되는 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위량이, 상기 범위를 하회하는 경우, 하중을 인가하였을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는다. 또, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위량이, 상기 범위를 상회하는 경우, 기판 (S1, S2) 에 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 있다.For example, it is preferable that the contact sheet 35 is not temporarily fixed or fixed to the substrates S1 and S2, that is, it is preferably supported on the plate main body 31 as in the present embodiment, When a load of 1.0 t per unit area is applied to the substrates S1 and S2, it is preferable that the substrate is formed including a material that is displaced (deformed) in the range of 50 um or more and 360 um or less in the direction of the load. If the amount of displacement of the abutting sheet 35 when a load of 1.0 t per unit area is applied to the substrates S1 and S2 is below the above range, the displacement of the abutting sheet 35 when the load is applied is It is small, and a sufficient pressure equalization effect is not obtained. Moreover, if the amount of displacement of the contact sheet 35 when a load of 1.0 t per unit area is applied to the substrates S1 and S2 exceeds the above range, a sufficient load may not be applied to the substrates S1 and S2. There is a possibility.

또한, 단위 면적당 하중으로서, 예를 들어 1.0 t 을 예시하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 실제로, 기판 첩부 장치 (100) 로 기판 (S1, S2) 의 첩합을 실시할 때의 하중에 맞추어, 하중을 적절히 변화시켜도 된다. 또, 맞닿음 시트 (35) 는, 제 2 히터 (33) 에 의한 가열 온도에 저항하는 내열성을 가진 재료로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 제 2 히터 (33) 에 의한 가열 온도는, 예를 들어 150 ℃ 정도이다.In addition, as the load per unit area, for example, 1.0 t is exemplified, but it is not limited to this. In fact, the load may be appropriately changed in accordance with the load when bonding the substrates S1 and S2 with the substrate sticking device 100. In addition, the contact sheet 35 is preferably formed of a heat-resistant material that resists the heating temperature by the second heater 33. The heating temperature by the second heater 33 is, for example, about 150°C.

예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 압축 영률이 예를 들어 0.2 ∼ 2 ㎫ 인 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 압축 영률의 보다 바람직한 범위는, 0.3 ∼ 0.9 ㎫ 이다. 예를 들어, 압축 영률이, 상기 범위를 상회하는 경우, 하중을 인가한 경우의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 압축 영률이, 상기 범위를 하회하는 경우, 기판 (S1, S2) 의 일부 또는 전부에 대해 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 남는다.For example, the contact sheet 35 is preferably formed of a material with a compressive Young's modulus of, for example, 0.2 to 2 MPa. A more preferable range of the compressive Young's modulus of the contact sheet 35 is 0.3 to 0.9 MPa. For example, when the compressive Young's modulus exceeds the above range, the displacement when a load is applied is small, and a sufficient pressure equalization effect may not be obtained. On the other hand, when the compressive Young's modulus is below the above range, there remains a possibility that a sufficient load is not applied to part or all of the substrates S1 and S2.

또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 고무 경도가, 예를 들어 5 ∼ 36 인 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 고무 경도의 보다 바람직한 범위는 15 ∼ 36 이고, 더욱 바람직한 범위는 20 ∼ 30 이다. 예를 들어, 고무 경도가, 상기 범위를 상회하는 경우, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 고무 경도가, 상기 범위를 하회하는 경우, 기판 (S1, S2) 의 일부 또는 전부에 대해 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 남는다. 또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 다공질 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 다공질 재료를 포함하여 맞닿음 시트 (35) 를 형성함으로써, 압력 균일화 효과가 얻어지기 쉬워진다. 또한, 본 실시형태에서 사용되는 고무 경도에 대해서는, JIS K 7312 준거의 C 형 경도계를 사용하여 측정된 수치이다.In addition, for example, the contact sheet 35 is preferably formed of a material having a rubber hardness of, for example, 5 to 36. A more preferable range of the rubber hardness of the contact sheet 35 is 15 to 36, and a more preferable range is 20 to 30. For example, when the rubber hardness exceeds the above range, a sufficient pressure equalization effect may not be obtained. On the other hand, when the rubber hardness is below the above range, there remains a possibility that a sufficient load is not applied to part or all of the substrates S1 and S2. Also, for example, the contact sheet 35 is preferably formed of a porous material. By forming the contact sheet 35 including a porous material, the pressure equalization effect becomes easy to obtain. In addition, the rubber hardness used in this embodiment is a value measured using a C-type hardness tester based on JIS K 7312.

또, 기판 첩부 장치 (100) 로 기판 (S) 을 양산하는 경우, 맞닿음 시트 (35) 는, 상기한 바와 같은 각 조건을, 하중을 반복하여 작용시킨 경우, 어느 일정한 횟수가 경과해도, 그 성능이 현저하게 저하되지 않는 것이 요망된다. 이들 각 조건을 만족하는, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 소재로는, 예를 들어, 불소 스펀지 (기재 부착) 를 사용할 수 있다. 또한, 기판 첩부 처리를 복수회 실시하지 않는 경우이면, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 소재로서, PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷도 사용할 수 있다.In addition, when mass producing the substrate S with the substrate sticking device 100, the contact sheet 35 is maintained even after a certain number of times has elapsed when the load is repeatedly applied under each of the above-mentioned conditions. It is desired that performance is not significantly deteriorated. As a material used for the contact sheet 35 that satisfies each of these conditions, for example, a fluorine sponge (with base material) can be used. In addition, if the substrate sticking process is not performed multiple times, a gasket made of PTFE (polytetrafluoroethylene) can also be used as the material used for the contact sheet 35.

또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 두께가, 예를 들어 0.5 ㎜ 이상 2.0 ㎜ 이하이고 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 두께의 보다 바람직한 범위는, 0.5 ㎜ 이상 1.5 ㎜ 이하이다. 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 의 두께가, 상기 범위를 상회하는 경우, 하중을 인가하였을 때에 제 2 히터 (33) 에 의한 열이 기판 (S1, S2) 에 전해지기 어려워진다. 또, 맞닿음 시트 (35) 의 두께가 상기 범위를 하회하는 경우, 하중을 인가하였을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는다.Moreover, for example, it is preferable that the contact sheet 35 is formed including a material with a thickness of, for example, 0.5 mm or more and 2.0 mm or less. A more preferable range of the thickness of the contact sheet 35 is 0.5 mm or more and 1.5 mm or less. For example, when the thickness of the contact sheet 35 exceeds the above range, it becomes difficult for heat from the second heater 33 to be transmitted to the substrates S1 and S2 when a load is applied. Moreover, when the thickness of the contact sheet 35 is less than the above range, the displacement of the contact sheet 35 when a load is applied is small, and a sufficient pressure equalization effect is not obtained.

또, 맞닿음 시트 (35) 의 상면, 및 하면의 적어도 일방에는, 예를 들어 기판 (S1) 으로부터의 이형성을 높이는 등의, 기능성을 가진 기재를 형성하도록 해도 된다. 기재는, 피막 등이어도 된다. 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 의 상면, 및 하면의 적어도 일방에는, 예를 들어 폴리이미드층을 형성하도록 해도 된다.Additionally, a base material having functionality such as enhancing release properties from the substrate S1 may be formed on at least one of the upper and lower surfaces of the contact sheet 35. The base material may be a film or the like. For example, you may form a polyimide layer, for example, on at least one of the upper surface and the lower surface of the contact sheet 35.

맞닿음 시트 (35) 의 외형 (외경) 치수는, 기판 (S1, S2) 의 외형 치수보다 작게 설정되어 있다. 이로써, 맞닿음 시트 (35) 가 기판 (S1, S2) 에 맞닿았을 때에는, 맞닿음 시트 (35) 의 외측으로 기판 (S1, S2) 의 외주부가 돌출된다. 맞닿음 시트 (35) 의 외형 (외경) 치수를, 기판 (S1, S2) 의 외형 치수보다 크게 하면, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부가, 기판 (S1, S2) 보다 직경 방향 외측으로 비어져 나온다. 그러면, 기판 (S1, S2) 의 가압을 반복하는 동안에, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부는 변위되지 않고, 그 내측에서 기판 (S1, S2) 에 맞닿는 부분이, 반복된 변위에 의해 눌려 찌부러진다. 그 결과, 맞닿음 시트 (35) 와 기판 (S1, S2) 의 위치 어긋남 등에 의해, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부의 눌려 찌부러져 있지 않은 부분이 기판 (S1, S2) 에 맞닿으면, 그 부분에서 과도하게 큰 압력이 가해져 버릴 가능성이 있다. 맞닿음 시트 (35) 의 외경 치수를, 기판 (S1, S2) 의 외경 치수와 동일하게 한 경우에도, 동일한 문제가 발생할 가능성이 있다.The outer diameter (outer diameter) dimension of the contact sheet 35 is set smaller than the outer diameter of the substrates S1 and S2. Accordingly, when the contact sheet 35 comes into contact with the substrates S1 and S2, the outer peripheral portions of the substrates S1 and S2 protrude to the outside of the contact sheet 35. When the outer diameter (outer diameter) size of the contact sheet 35 is made larger than the external size of the substrates S1 and S2, the outer peripheral portion of the contact sheet 35 protrudes radially outward from the substrates S1 and S2. It comes out. Then, while repeating the pressing of the substrates S1 and S2, the outer peripheral portion of the contact sheet 35 is not displaced, and the portion abutting the substrates S1 and S2 on the inside thereof is pressed and crushed by the repeated displacement. . As a result, when the non-crushed portion of the outer peripheral portion of the contact sheet 35 contacts the substrates S1 and S2 due to a misalignment between the contact sheet 35 and the substrates S1 and S2, etc. There is a possibility that excessive pressure may be applied to the area. Even when the outer diameter size of the contact sheet 35 is made the same as the outer diameter size of the substrates S1 and S2, the same problem may occur.

맞닿음 시트 (35) 는, 기판 (S1, S2) 의 기능 영역 (Af) 을 덮도록 형성되어 있는 것이 바람직하다. 요컨대, 맞닿음 시트 (35) 의 외경 치수는, 기능 영역 (Af) 의 외경 치수보다 크게 설정하는 것이 바람직하다. 이로써, 가압시에, 맞닿음 시트 (35) 의 전체가, 기능 영역 (Af) 에 맞닿아, 압력의 균일화를 유효하게 도모할 수 있다.The contact sheet 35 is preferably formed to cover the functional area Af of the substrates S1 and S2. In other words, it is preferable that the outer diameter size of the contact sheet 35 is set larger than the outer diameter size of the functional area Af. As a result, when applying pressure, the entire contact sheet 35 comes into contact with the functional area Af, and the pressure can be effectively equalized.

가압 기구 (50) 는, 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부할 때에, 기판 (S1) 을 기판 (S2) 측 (제 1 플레이트 (20) 측) 을 향하여 가압한다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 가압 기구 (50) 는, 가압축 (51) 과, 가압축 (51) 을 구동시키는 구동부 (도시 생략) 를 구비한다. 가압축 (51) 은, 상방에서 보아 수압 플레이트 (32) 의 중앙부에 배치되고, 수압 플레이트 (32) 의 중앙부에 하중 (가압력) 을 부가한다.The pressing mechanism 50 lowers the second plate 30 and moves the substrate S1 toward the substrate S2 (first plate 20 side) when attaching the substrate S1 to the substrate S2. Pressure toward. As shown in FIG. 1, the pressing mechanism 50 includes a pressing shaft 51 and a drive unit (not shown) that drives the pressing shaft 51. The pressing shaft 51 is disposed in the central portion of the hydraulic plate 32 when viewed from above, and applies a load (pressing force) to the central portion of the hydraulic plate 32.

가압축 (51) 은, 관통부 (10h) 를 통하여 챔버 (10) 내에 삽입되어 있다. 가압축 (51) 은, 각각 원형 단면의 봉상체이고, 부여되는 하중에 의해 변형되지 않거나, 또는 변형이 억제된 외경 및 재질 (예를 들어 금속, 수지, 세라믹스 등) 에 의해 형성된다. 구동부 (도시 생략) 는, 가압축 (51) 을 구동한다. 구동부는, 예를 들어, 에어 실린더 장치, 유압 실린더 장치, 전동 회전 모터를 사용한 볼 나사 기구 등이 사용된다.The compression shaft 51 is inserted into the chamber 10 through the penetration portion 10h. The compression shafts 51 are each rod-shaped with a circular cross-section, and are formed of an outer diameter and a material (for example, metal, resin, ceramics, etc.) that are not deformed by an applied load or whose deformation is suppressed. The driving unit (not shown) drives the compression shaft 51. As the driving unit, for example, an air cylinder device, a hydraulic cylinder device, a ball screw mechanism using an electric rotation motor, etc. are used.

구동부는, 제어부 (도시 생략) 에 의해 제어된다. 구동부 (도시 생략) 에 의해 가압축 (51) 에 부여하는 하중, 및 하중을 부여하는 구동 타이밍은, 미리 설정된 프로그램 등에 기초하여 제어부 (도시 생략) 에 의해 통괄하여 제어된다. 또, 구동부 (도시 생략) 의 동작의 일부 또는 전부는, 오퍼레이터에 의한 조작에 의해 실시되어도 된다.The driving unit is controlled by a control unit (not shown). The load applied to the pressing shaft 51 by the drive unit (not shown) and the drive timing for applying the load are collectively controlled by the control unit (not shown) based on a preset program or the like. In addition, part or all of the operation of the drive unit (not shown) may be performed by operation by an operator.

<기판 첩부 방법><Substrate attachment method>

다음으로, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법에 대해 설명한다. 도 4 는, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법의 일례를 나타내는 플로 차트이다. 이 기판 첩부 방법은, 예를 들어, 제어부 (도시 생략) 로부터의 지시에 의해 실행된다. 도 5 내지 도 8 은, 기판 첩부 장치 (100) 의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다. 또한, 이들 공정도에서는, 각 부의 움직임이 알기 쉬워지도록, 기재를 간략화하고 있다. 이하, 도 4 의 플로 차트를 따라 설명한다.Next, the substrate sticking method according to this embodiment will be described. Fig. 4 is a flow chart showing an example of the substrate sticking method according to the present embodiment. This substrate sticking method is executed, for example, by instructions from a control unit (not shown). 5 to 8 are process diagrams showing an example of the operation of the substrate sticking device 100. In addition, in these process charts, the description is simplified so that the movement of each part is easy to understand. Hereinafter, description will be made according to the flow chart in FIG. 4.

먼저, 챔버 (10) 의 게이트 밸브 (12) 를 열고, 기판 (S) 을 반입한다 (스텝 S01). 도 5 에 나타내는 바와 같이, 제어부 (도시 생략) 는, 도시되지 않은 구동부를 구동시켜 게이트 밸브 (12) 를 상승시켜, 개구부 (11) 를 개방시킨다. 계속해서, 반송 장치 (도시 생략) 에 의해, 전공정에서 미리 접착층 (F) 을 개재하여 겹친 복수의 기판 (S1, S2) 을 챔버 (10) 내에 반입한다. 이 때, 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 에 대해 상방으로 이간시켜 둔다. 반송 장치 (도시 생략) 는, 기판 (S1, S2) 을 유지한 상태에서 개구부 (11) 로부터 챔버 (10) 의 내부에 진입하고, 중첩된 기판 (S1, S2) 을 제 1 플레이트 (20) 의 베이스 플레이트 (23) 상에 재치한다 (스텝 S02).First, the gate valve 12 of the chamber 10 is opened, and the substrate S is brought in (step S01). As shown in FIG. 5, the control unit (not shown) drives a drive unit (not shown) to raise the gate valve 12 and open the opening 11. Subsequently, a plurality of substrates S1 and S2, which were already overlapped through an adhesive layer F in the previous process, are brought into the chamber 10 by a transfer device (not shown). At this time, the second plate 30 is spaced upward with respect to the first plate 20. A transfer device (not shown) enters the inside of the chamber 10 from the opening 11 while holding the substrates S1 and S2, and transfers the overlapping substrates S1 and S2 to the first plate 20. It is placed on the base plate 23 (step S02).

계속해서, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 게이트 밸브 (12) 를 닫고, 도시되지 않은 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 배기하여, 예를 들어, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 한다 (스텝 S03). 또한, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하는 대신에, 도시되지 않은 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 배기하면서, 챔버 (10) 내에 클린 에어를 공급하여, 예를 들어, 챔버 (10) 내를, 대기압 조건하에서 클린 에어로 치환해도 된다.Subsequently, as shown in FIG. 6, the gate valve 12 is closed, and the inside of the chamber 10 is evacuated by a suction device (not shown) to create a vacuum atmosphere, for example, in the chamber 10 (step S03). In addition, instead of creating a vacuum atmosphere in the chamber 10, clean air is supplied into the chamber 10 while exhausting the inside of the chamber 10 by a suction device (not shown), for example, the chamber 10 The inside may be replaced with clean air under atmospheric pressure conditions.

계속해서, 제어부 (도시 생략) 는, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 구동부 (도시 생략) 를 구동시켜 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 제 1 플레이트 (20) 의 베이스 플레이트 (23) 상에 지지된 기판 (S1, S2) 에, 제 2 플레이트 (30) 의 가압 플레이트 (34) 를 맞닿게 한다 (스텝 S04). 계속해서, 이 상태에서, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 에 의해 기판 (S1, S2) 을 소정의 시간 가열하여 프리히트 처리를 실시한다. 프리히트 처리는, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 의 온도를 예를 들어 150 ℃ 내지 250 ℃ 로 하여 실시한다.Subsequently, as shown in FIG. 7 , the control unit (not shown) drives the drive unit (not shown) to lower the second plate 30 together with the pressing shaft 51, thereby lowering the base of the first plate 20. The pressure plate 34 of the second plate 30 is brought into contact with the substrates S1 and S2 supported on the plate 23 (step S04). Subsequently, in this state, the substrates S1 and S2 are heated for a predetermined period of time by the first heater 22 and the second heater (not shown) to perform a preheat treatment. The preheat treatment is performed by setting the temperature of the first heater 22 and the second heater (not shown) to, for example, 150°C to 250°C.

계속해서, 가압축 (51) 으로 하중을 부가하여, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다 (스텝 S05). 제어부 (도시 생략) 는, 구동부 (도시 생략) 를 구동하여 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 (30) 사이에서 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 가압함으로써, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다. 이 때, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 에 의한 가열을 계속하게 하여, 제 1 플레이트 (20) 및 제 2 플레이트 (30) 를 소정의 온도로 유지시켜도 된다. 기판 (S1) 과 기판 (S2) 은, 접착층 (F) 이 열에 의해 용융됨으로써 접착되고, 또한, 제 2 플레이트 (30) 에 의한 기판 (S1) 측으로부터의 가압에 의해, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 이 강고하게 첩부된다.Subsequently, a load is applied to the compression shaft 51 to attach the substrate S1 and the substrate S2 (step S05). The control unit (not shown) drives the drive unit (not shown) to lower the second plate 30 together with the pressing shaft 51, and moves the substrate S1 between the first plate 20 and the second plate 30. ) and the substrate S2, the substrate S1 and the substrate S2 are attached. At this time, heating by the first heater 22 and the second heater (not shown) may be continued to maintain the first plate 20 and the second plate 30 at a predetermined temperature. The substrate S1 and the substrate S2 are bonded by melting the adhesive layer F by heat, and further, by applying pressure from the side of the substrate S1 by the second plate 30, the substrate S1 and the substrate are bonded together. (S2) is firmly attached.

기판 (S1) 과 기판 (S2) 의 첩부 완료 후, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 구동부 (도시 생략) 를 구동시켜 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 상승시킨다 (스텝 S06). 그 후, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 게이트 밸브 (12) 를 열어 기판 (S) 을 챔버 (10) 로부터 반출한다 (스텝 S07). 게이트 밸브 (12) 를 상승시켜 개구부 (11) 를 개방한 후, 반송 장치 (도시 없음) 로, 제 1 플레이트 (20) 의 지지 플레이트 (21) 상에 재치된 기판 (S) 을 챔버 (10) 의 외부로 반출시킨다. 그 후, 제어부 (도시 생략) 는, 게이트 밸브 (12) 를 닫고, 일련의 처리를 종료시킨다.After completion of sticking of the substrate S1 and S2, as shown in FIG. 8, a drive unit (not shown) is driven to raise the second plate 30 together with the pressing shaft 51 (step S06). Thereafter, as shown in FIG. 9 , the gate valve 12 is opened and the substrate S is unloaded from the chamber 10 (step S07). After raising the gate valve 12 to open the opening 11, the substrate S placed on the support plate 21 of the first plate 20 is transferred to the chamber 10 using a transfer device (not shown). taken out of the After that, the control unit (not shown) closes the gate valve 12 and ends the series of processes.

이상과 같이, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 는, 맞닿음 시트 (35) 를 포함하므로, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 플레이트 본체 (31) 로부터 맞닿음 시트 (35) 를 거쳐 복수의 기판 (S1, S2) 에 전달된다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 높은 유연성을 가져 변형 가능하다. 이로써, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 제 2 히터 (33) 에 보다 균일하게 전달된다. 따라서, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 에 의하면, 복수의 기판 (S1, S2) 끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모할 수 있다.As described above, since the substrate sticking device 100 according to the present embodiment includes the abutting sheet 35, the pressing force by the pressing mechanism 50 applies the abutting sheet 35 from the plate main body 31. It is then transferred to a plurality of substrates (S1, S2). The contact sheet 35 has higher flexibility than the plate main body 31 and is deformable. Thereby, the pressing force by the pressing mechanism 50 is transmitted more uniformly to the second heater 33. Therefore, according to the substrate sticking device 100 according to the present embodiment, it is possible to equalize the pressing force applied to the bonding surfaces of the plurality of substrates S1 and S2.

(실시예)(Example)

다음으로, 상기한 바와 같은 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 복수의 재료에 대해, 성능 평가를 실시하였으므로, 그 결과를 이하에 나타낸다.Next, performance evaluation was performed on a plurality of materials used for the contact sheet 35 as described above, and the results are shown below.

여기서, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 시트 재료로서, 이하와 같은 것을 사용하였다.Here, as the sheet material used for the contact sheet 35, the following was used.

시험체 1 : 두께 1 ㎜ 의 불소 스펀지 (기재 부착)Test specimen 1: Fluorine sponge with a thickness of 1 mm (with base material)

시험체 2 : 두께 0.5 ㎜ 의 PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷Test specimen 2: Gasket made of PTFE (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 0.5 mm

시험체 3 : 두께 1 ㎜ 의 PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷Test specimen 3: Gasket made of PTFE (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 1 mm

비교예 : 맞닿음 시트는 사용하지 않는다Comparative example: Contact sheets are not used

상기의 시험체 1 ∼ 3 의 시트 재료를, 각각, 기판 첩부 장치 (100) 의 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 사이에 기판 (S1, S2) 을 협지하고, 4000 kgf 의 하중을 가하였을 때의, 시트 재료에 있어서의 압력 변동폭을 압력 변동폭계로 계측하였다. 또, 비교예로서, 맞닿음 시트 (35) 를 사용하지 않고, 기판 첩부 장치 (100) 의 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 사이에 기판 (S1, S2) 을 협지하고, 4000 kgf 의 하중을 가하였을 때의, 압력 변동폭을 압력 변동폭계로 계측하였다.When the sheet materials of the above test specimens 1 to 3 were sandwiched between the first plate 20 and the second plate of the substrate sticking device 100 with the substrates S1 and S2, respectively, and a load of 4000 kgf was applied. The pressure fluctuation range in the sheet material was measured with a pressure fluctuation meter. In addition, as a comparative example, the substrates S1 and S2 are sandwiched between the first plate 20 and the second plate of the substrate sticking device 100 without using the contact sheet 35, and a load of 4000 kgf is applied. When applied, the pressure fluctuation range was measured with a pressure fluctuation meter.

도 10 은, 시트 재료의 평가 결과를 나타내는 도면이다. 여기서, 시험체 1 ∼ 3 의 시트 재료의 압축 영률을, 다음 식 (1) 로 구하고, 도 10 에 나타냈다.Fig. 10 is a diagram showing the evaluation results of the sheet material. Here, the compressive Young's modulus of the sheet materials of test specimens 1 to 3 was determined by the following equation (1) and shown in FIG. 10.

E = F × L/(A·ΔL) ··· (1) E = F × L/(A·ΔL) ··· (1)

여기서, F 는 하중, A 는 시트 재료의 평면적, L 은 시트 재료의 두께, ΔL 은 시트 재료의 두께의 변위량이다. 또한, 비교예에 있어서의 압축 영률은, 플레이트 (제 2 플레이트) 를 구성하는 스테인리스의 값이다.Here, F is the load, A is the planar area of the sheet material, L is the thickness of the sheet material, and ΔL is the amount of displacement of the thickness of the sheet material. In addition, the compressive Young's modulus in the comparative example is the value of the stainless steel constituting the plate (second plate).

도 10 에 나타내는 바와 같이, 시험체 1 ∼ 3 에 대해서는, 각각, 압축 영률, 1 ton 하중시의 시트 재료의 내구성, 1 ton 의 하중을 반복하여 500 회 가하였을 때의 시트 재료에 작용한 압력의 최소값과 최대값의 차 (압력 변동폭) 의 각각은, 시트 재료를 사용하지 않은 비교예와 비교하여, 각 조건을 충분히 만족하였다. 여기서, 내구성의 판단은, 압력 변동폭에 의해 판단한다. 이것은, 반복 하중에 의해 시트가 완전히 찌부러져, 압력 균일성을 올리는 효과가 없어지면 압력 변동폭이 커지는 것에 의한 것이다. 시험체 1 ∼ 3 에 대해서는, 비교예에 비하여, 압력 변동폭이 현저하게 작으므로, 시트 재료로서의 내구성은 충분히 갖고 있는 것으로 판단할 수 있다.As shown in FIG. 10, for test specimens 1 to 3, the compressive Young's modulus, durability of the sheet material under a 1 ton load, and minimum value of the pressure applied to the sheet material when a 1 ton load was repeatedly applied 500 times, respectively. and the difference between the maximum value (pressure fluctuation range), respectively, sufficiently satisfied each condition compared to the comparative example in which no sheet material was used. Here, durability is judged based on the pressure fluctuation range. This is because the pressure fluctuation range increases when the sheet is completely crushed by repeated loading and the effect of increasing pressure uniformity is lost. Regarding test specimens 1 to 3, the pressure fluctuation range is significantly smaller than that of the comparative example, so it can be judged that they have sufficient durability as a sheet material.

이상, 실시형태에 대해 설명하였지만, 본 발명은, 상기한 설명에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 각종 변경이 가능하다. 예를 들어, 상기한 실시형태에서는, 상측에 배치된 제 2 플레이트 (30) 를 가압 기구 (50) 에 의해 이동시키고, 제 2 플레이트 (30) 에, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하는 구성을 예로 들어 설명하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 하측에 배치된 제 1 플레이트 (20) 를 가압 기구 (50) 에 의해 이동시키고, 이 제 1 플레이트 (20) 에, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하는 구성이어도 된다.Although the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above description, and various changes are possible without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the second plate 30 disposed on the upper side is moved by the pressing mechanism 50, and the second plate 30 is provided with an abutting sheet 35. Although the description is given as an example, it is not limited to this. For example, the configuration may be such that the first plate 20 disposed on the lower side is moved by the pressing mechanism 50, and the abutting sheet 35 is provided on the first plate 20.

또, 상기한 실시형태에서는, 전공정에서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2) 을, 기판 첩부 장치 (100) 로 첩부하는 구성을 예로 들어 설명하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 기판 첩부 장치 (100) 로, 기판 (S1, S2) 을 순차 반입하고, 기판 (S1, S2) 을, 접착층 (F) 을 개재하여 첩합한 후, 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 (30) 사이에서 기판 (S1, S2) 을 가압함으로써, 기판 (S1, S2) 을 첩부하는 구성이어도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the configuration in which the substrates S1 and S2, which are temporarily bonded through the adhesive layer F in the previous process, are attached by the substrate sticking device 100 has been described as an example, but the configuration is not limited to this. No. For example, the substrates S1 and S2 are sequentially loaded into the substrate sticking device 100, and the substrates S1 and S2 are bonded via the adhesive layer F, and then bonded to the first plate 20 and the second plate 20. A configuration may be used in which the substrates S1 and S2 are attached by pressing the substrates S1 and S2 between the two plates 30 .

20 : 제 1 플레이트
30 : 제 2 플레이트
31 : 플레이트 본체
35 : 맞닿음 시트
50 : 가압 기구
100 : 기판 첩부 장치
Af : 기능 영역
S, S1, S2 : 기판
20: first plate
30: second plate
31: plate body
35: abutting sheet
50: pressurizing mechanism
100: Substrate attachment device
Af: functional area
S, S1, S2: Substrate

Claims (10)

복수의 기판을 겹친 상태에서 협지하는 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트와,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방으로 누르는 가압 기구를 갖고,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트의 적어도 일방은,
플레이트 본체와,
상기 플레이트 본체에 지지되어 상기 기판에 맞닿고, 상기 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하는, 기판 첩부 장치.
A first plate and a second plate sandwiching a plurality of substrates in an overlapping state;
It has a pressing mechanism that presses one of the first plate and the second plate against the other,
At least one of the first plate and the second plate,
plate body,
A substrate sticking device comprising a deformable contact sheet that is supported by the plate main body and abuts the substrate, and has higher flexibility than the plate main body.
제 1 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 상기 기판의 기능 영역을 덮도록 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.
According to claim 1,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed to cover a functional area of the substrate.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 상기 플레이트 본체보다 낮은 압축 영률을 갖는 재료를 포함하여 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed of a material having a compressive Young's modulus lower than that of the plate main body.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 고무 경도가 15 ∼ 36 인, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
The said contact sheet is a board|substrate sticking device whose rubber hardness is 15-36.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 다공질 재료를 사용하여 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device in which the contact sheet is formed using a porous material.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 0.5 ㎜ 이상 1.5 ㎜ 이하의 두께를 갖고 있는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet has a thickness of 0.5 mm or more and 1.5 mm or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트는, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 부여되었을 때에, 상기 하중의 방향으로 50 um 이상 변형되는 재료에 의해 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device wherein the contact sheet is formed of a material that deforms by 50 um or more in the direction of the load when a load of 1.0 t per unit area is applied.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트의 일방 또는 쌍방은, 상기 기판을 가열하기 위한 가열부를 구비하고,
상기 맞닿음 시트는, 상기 가열부에 의한 가열 온도에 저항하는 내열성을 가진 재료로 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
One or both of the first plate and the second plate are provided with a heating unit for heating the substrate,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed of a material with heat resistance that resists the heating temperature by the heating unit.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 맞닿음 시트의 외형 치수는, 상기 기판의 외형 치수보다 작아, 상기 맞닿음 시트가 상기 기판에 맞닿았을 때에, 상기 맞닿음 시트의 외측으로 상기 기판의 외주부가 돌출되는, 기판 첩부 장치.
The method of claim 1 or 2,
The external dimension of the contact sheet is smaller than that of the substrate, and when the contact sheet contacts the substrate, the outer peripheral portion of the substrate protrudes outside the contact sheet.
복수의 기판을 겹친 상태에서 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트로 협지함으로써 상기 복수의 기판을 첩합하는 방법으로서,
상기 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트 사이에, 상기 복수의 기판을 겹친 상태에서 배치하는 것과,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방을 향하여 누름으로써, 상기 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트 사이의 상기 복수의 기판에 가압력을 부여하는 것을 포함하고,
상기 가압력은, 상기 가압력에 따라 변형되는 맞닿음 시트를 개재하여, 상기 복수의 기판에 부여되는, 기판 첩부 방법.
A method of joining a plurality of substrates by sandwiching them with a first plate and a second plate in an overlapping state, comprising:
placing the plurality of substrates in an overlapping state between the first plate and the second plate;
Applying a pressing force to the plurality of substrates between the first plate and the second plate by pressing one of the first plate and the second plate toward the other,
A substrate sticking method wherein the pressing force is applied to the plurality of substrates through an abutting sheet that is deformed according to the pressing force.
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