KR20230144940A - Substrate attaching apparatus and substrate attaching method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 기판 첩부 (貼付) 장치 및 기판 첩부 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate sticking device and a substrate sticking method.
복수의 기판을 겹친 상태에서 첩부하는 기판 첩부 장치가 알려져 있다. 이와 같은 기판 첩부 장치로서, 예를 들어 피가압부와, 그 하면에 배치된 응력 분산부와, 응력 분산부의 하면에 배치된 부품 유지부를 구비한 구성이 개시되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 구성에 있어서, 부품 유지부는 응력 분산부를 구성하는 응력 분산 플레이트의 하면에 장착되어 있다. 피가압부의 상면 중앙에는, 가압 기구로부터의 가압력이 점하중으로 가해진다. 응력 분산 플레이트는, 그 상면에 원환상으로 사다리꼴상 단면 (斷面) 의 접촉부를 구비하고 있다. 복수의 기판은, 부품 유지부와 응력 분산부 사이에 협지된다. 가압 기구로부터의 가압력은, 응력 분산 플레이트에 형성된 원환상의 접촉부에 의해, 주위로 분산된다. 이와 같이, 응력 분산 플레이트를 형성함으로써, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력은 균일화된다.A substrate sticking device that attaches a plurality of substrates in an overlapping state is known. As such a substrate sticking device, for example, a configuration including a pressurized portion, a stress distribution portion disposed on the lower surface of the stress dispersing portion, and a component holding portion disposed on the lower surface of the stress dispersing portion is disclosed (for example,
특허문헌 1 의 기판 첩부 장치는, 원환상의 접촉부를 개재하여 가압력을 전달하고 있으므로, 가압하는 축 방향의 연장 상에 가압력을 전달하는 부분이 없어, 가압력을 균일하게 분산시키기에는 불충분하다. 기판끼리를 적절히 붙이기 위해, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 가일층의 균일화가 요망되고 있다. 또, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일성이 낮은 경우, 예를 들어, 기판 첩부 장치의 후공정에서, 기판의 세정을 실시했을 때에, 기판 상의 전자 부품이 탈락되어 버리는 경우도 있다.Since the substrate sticking device of
본 발명은, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모하는 것이 가능한 기판 첩부 장치 및 기판 첩부 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a substrate sticking device and a substrate sticking method capable of equalizing the pressing force applied to the bonding surfaces of a plurality of substrates.
본 발명의 제 1 양태에서는, 복수의 기판을 겹친 상태에서 협지하는 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트와, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방으로 누르는 가압 기구를 갖고, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트의 적어도 일방은, 플레이트 본체와, 플레이트 본체에 지지되어 기판에 맞닿고, 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하는, 기판 첩부 장치가 제공된다.In the first aspect of the present invention, there is provided a first plate and a second plate for holding a plurality of substrates in an overlapping state, and a pressing mechanism for pressing one of the first plate and the second plate against the other, the first plate and the second plate A substrate sticking device is provided, wherein at least one of the second plates includes a plate main body and a deformable contact sheet that is supported by the plate main body and abuts the substrate and has higher flexibility than the plate main body.
본 발명의 제 2 양태에서는, 복수의 기판을 겹친 상태에서 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트로 협지함으로써 복수의 기판을 첩합 (貼合) 하는 방법으로서, 제 1 플레이트와 제 2 플레이트 사이에, 복수의 기판을 겹친 상태에서 배치하는 것과, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방을 향하여 누름으로써, 제 1 플레이트와 제 2 플레이트 사이의 복수의 기판에 가압력을 부여하는 것을 포함하고, 가압력은, 가압력에 따라 변형되는 맞닿음 시트를 개재하여, 복수의 기판에 부여되는, 기판 첩부 방법이 제공된다.In a second aspect of the present invention, a method of bonding a plurality of substrates by sandwiching the plurality of substrates with a first plate and a second plate in an overlapping state, wherein between the first plate and the second plate, a plurality of substrates are formed. It includes arranging the substrates in an overlapping state and applying a pressing force to a plurality of substrates between the first plate and the second plate by pressing one of the first plate and the second plate toward the other, where the pressing force is A method of attaching a substrate is provided, in which a plurality of substrates are provided through a contact sheet that deforms according to a pressing force.
본 발명에 의하면, 기판 첩부 장치는, 제 1 플레이트 및 제 2 플레이트의 적어도 일방이, 기판에 맞닿고, 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하고 있으므로, 가압 기구에 의한 가압력은, 맞닿음 시트를 개재하여 복수의 기판에 전달된다. 따라서, 복수의 기판끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모할 수 있고, 복수의 기판끼리를 적절히 접합할 수 있다.According to the present invention, in the substrate sticking device, at least one of the first plate and the second plate is in contact with the substrate and is provided with a deformable contact sheet having higher flexibility than the plate main body, so the pressing force by the pressing mechanism is , is transferred to a plurality of substrates via a contact sheet. Therefore, the pressing force applied to the bonding surface of the plurality of substrates can be equalized, and the plurality of substrates can be properly bonded to each other.
도 1 은, 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 기판 및 기판을 상방에서 본 도면이다.
도 3 은, 제 2 플레이트를 하강시켜, 맞닿음 시트를 기판에 부딪치게 한 상태의 종단면도이다.
도 4 는, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법의 일례를 나타내는 플로 차트이다.
도 5 는, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 6 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 7 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 8 은, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 9 는, 기판 첩부 장치의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 10 은, 맞닿음 시트에 사용하는 시트 재료의 성능 평가의 결과를 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing an example of a substrate sticking device according to an embodiment.
Fig. 2 is a view of the substrate and the substrate as seen from above.
Fig. 3 is a vertical cross-sectional view of the second plate being lowered and the contact sheet colliding with the substrate.
Fig. 4 is a flow chart showing an example of the substrate sticking method according to the present embodiment.
Figure 5 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 6 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Fig. 7 is a process diagram showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 8 is a process chart showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Figure 9 is a process diagram showing an example of the operation of the substrate sticking device.
Fig. 10 is a diagram showing the results of performance evaluation of sheet materials used for contact sheets.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 설명에 한정되지 않는다. 또, 도면에 있어서는 실시형태를 알기 쉽게 설명하기 위해, 일부분을 생략하여 표현하고 있는 부분이 있다. 또한 도면에서는, 일부분을 크게 또는 강조하여 기재하는 등 적절히 축척을 변경하여 표현하고 있어, 실제의 제품과는 크기, 형상이 상이한 경우가 있다. 이하의 각 도면에 있어서, XYZ 직교 좌표계를 사용하여 도면 중의 방향을 설명한다. 이 XYZ 직교 좌표계에 있어서는, 수평면에 평행한 평면을 XY 평면으로 한다. 이 XY 평면에 있어서 기판 (S1) 과 기판 (S2) 의 반송 방향에 평행한 방향을 X 방향으로 하고, X 방향에 직교하는 방향을 Y 방향으로 한다. 또, XY 평면에 수직인 방향을 Z 방향 (높이 방향) 으로 표기한다. X 방향, Y 방향 및 Z 방향의 각각은, 도면 중의 화살표가 가리키는 방향이 + 방향이고, 화살표가 가리키는 방향과는 반대의 방향이 - 방향인 것으로 하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description. In addition, in the drawings, some parts are omitted and expressed in order to easily explain the embodiments. Additionally, in the drawings, the scale is changed appropriately, such as enlarging or emphasizing some parts, and the size and shape may be different from the actual product. In each drawing below, the direction in the drawing is explained using the XYZ orthogonal coordinate system. In this XYZ orthogonal coordinate system, the plane parallel to the horizontal plane is called the XY plane. In this XY plane, the direction parallel to the transport direction of the substrate S1 and S2 is referred to as the X direction, and the direction perpendicular to the Additionally, the direction perpendicular to the XY plane is expressed as the Z direction (height direction). Each of the X-direction, Y-direction, and Z-direction is explained assuming that the direction indicated by the arrow in the drawing is the + direction, and the direction opposite to the direction indicated by the arrow is the - direction.
<기판 첩부 장치><Substrate sticking device>
실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 에 대해 설명한다. 도 1 은, 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 의 일례를 나타내는 도면이다. 기판 첩부 장치 (100) 는, 전공정에 있어서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2) 에, 가압력을 부여함으로써, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다. 접착층 (F) 은, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 의 적어도 일방에 형성되어 있다.The
기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 예를 들어 유리 기판이지만, 유리 기판 이외의 반도체 기판, 수지성 기판 등이어도 된다. 본 실시형태에서는, 첩부되는 2 장의 기판 중, 상측 기판을 기판 (S1) 이라고 칭하고, 하측 기판을 기판 (S2) 이라고 칭한다. 또, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한 형태를 기판 (S) 이라고 칭한다. 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 모두 평면에서 보았을 때에 있어서 (Z 방향에서 보아) 원형상의 원형 기판이 사용되지만, 원형 기판에 한정되지 않고, 평면에서 보았을 때에 있어서 직사각형상 (정방형상, 장방형상) 의 각형 기판, 타원형상, 장원형상 등의 기판이어도 된다.The substrate S1 and the substrate S2 are, for example, glass substrates, but may be semiconductor substrates other than glass substrates, resin substrates, etc. In this embodiment, of the two substrates to be attached, the upper substrate is called substrate (S1), and the lower substrate is called substrate (S2). In addition, the form in which the substrate (S1) and the substrate (S2) are attached is called the substrate (S). Both the substrate S1 and the substrate S2 are circular substrates with a circular shape in a planar view (viewed from the Z direction), but they are not limited to circular substrates and are rectangular in a planar view (square, rectangular). The substrate may be a square substrate, oval-shaped, oval-shaped, etc. (above).
도 2 는, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 을 상방에서 본 도면이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 기능 영역 (Af) 을 갖고 있다. 기능 영역 (Af) 은, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 사이에서, 반도체 칩 등의 소자가 배치되어 있는 영역이다. 기능 영역 (Af) 은, 기판 (S1) 및 기판 (S2) 의 외주 가장자리 (Se) 보다 직경 방향 내측에 설정되어 있다. 기판 (S1) 및 기판 (S2) 은, 기능 영역 (Af) 의 직경 방향 외측에, 소자가 배치되어 있지 않은 외주 영역 (As) 을 갖고 있다.FIG. 2 is a view of the substrate S1 and the substrate S2 as seen from above. As shown in FIG. 2 , the substrate S1 and S2 have a functional region Af. The functional area Af is an area where elements such as a semiconductor chip are arranged between the substrate S1 and the substrate S2. The functional area Af is set radially inside the outer peripheral edge Se of the substrate S1 and S2. The substrate S1 and S2 have an outer peripheral area As in which no elements are disposed, radially outside the functional area Af.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 기판 첩부 장치 (100) 는, 챔버 (10) 와, 제 1 플레이트 (20) 와, 제 2 플레이트 (30) 와, 가압 기구 (50) 와, 제어부 (도시 생략) 를 구비한다. 제어부 (도시 생략) 는, 기판 첩부 장치 (100) 에 있어서의 각 부의 동작을 통괄하여 제어한다.As shown in FIG. 1, the
챔버 (10) 는, 기판 첩부 장치 (100) 의 기대 (基臺) (15) 상에 배치되어 있다. 챔버 (10) 는, 기대 (15) 의 외주부로부터 상방으로 세워지는 측벽 (10a) 과, 측벽 (10a) 의 상방을 덮는 천판 (10b) 을 가진 상자상으로 형성되어 있다. 챔버 (10) 는, 그 내부에 제 1 플레이트 (20) 와, 제 2 플레이트 (30) 와, 가압 기구 (50) 의 일부가 수용되어 있다. 챔버 (10) 는, 측벽 (10a) 의 일부에 개구부 (11) 를 갖고 있다. 개구부 (11) 는, 챔버 (10) 의 -X 측의 면에 형성되고, 챔버 (10) 의 내부와 외부를 연통시킨다. 개구부 (11) 는, 전공정에 있어서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2), 및 기판 (S1) 과 기판 (S2) 이 첩부된 기판 (S) 이, 각각 통과 가능한 치수로 형성되어 있다. 기판 (S1, S2) 은, 반송 장치 (도시 생략) 에 의해 개구부 (11) 를 통하여 챔버 (10) 내에 반입된다. 또, 기판 (S) 은, 개구부 (11) 를 통하여 챔버 (10) 내로부터 반출된다.The
챔버 (10) 는, 개구부 (11) 를 개폐하는 게이트 밸브 (12) 를 구비하고 있다. 게이트 밸브 (12) 는, 챔버 (10) 의 -X 측의 측면에 있어서의 외측에 배치되고, 도시되지 않은 구동부에 의해, 예를 들어, 높이 방향 (Z 방향) 으로 슬라이드 가능하다. 게이트 밸브 (12) 는, 슬라이드함으로써 개구부 (11) 를 개폐하고, 개구부 (11) 를 닫음으로써 챔버 (10) 내를 밀폐 상태로 할 수 있다.The
또한, 본 실시형태에 있어서, 개구부 (11) 를 닫음으로써 챔버 (10) 내를 밀폐 상태로 하고, 도시되지 않은 진공 펌프에 의해, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하고 있다. 이 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 흡인 (배기) 함으로써, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 할 수 있다. 또한, 챔버 (10) 는, 내부의 진공 분위기를 개방하기 위해 외부에 대해 개방 가능한 밸브를 구비하고 있어도 된다. 단, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하는 것에 한정되지 않고, 게이트 밸브 (12) 로 개구부 (11) 를 닫아서도, 챔버 (10) 내를 대기압 분위기하로 된 상태로 해도 된다. 또, 챔버 (10) 의 상면에는, 후술하는 복수의 가압축 (51) 이 관통하는 복수의 관통부 (10h) 가 형성되어 있다. 관통부 (10h) 의 각각에는, 가압축 (51) 이 승강 가능한 상태로 삽입되어 있고, 도시되지 않은 시일 부재에 의해 챔버 (10) 내의 밀폐 상태를 유지하고 있다.In addition, in this embodiment, the inside of the
또한, 기판 첩부 장치 (100) 는, 챔버 (10) 를 구비하는지의 여부가 임의이고, 챔버 (10) 를 구비하지 않는 형태 (대기 개방형) 여도 된다. 또, 챔버 (10) 내는, 도시되지 않은 가스 공급 장치에 접속되어도 된다. 이 가스 공급 장치로부터 챔버 (10) 내에 소정의 가스를 공급함으로써 챔버 (10) 내의 분위기를, 소정의 가스 분위기로 치환할 수 있다. 소정의 가스로는, 예를 들어, 질소 가스 등의 기판 (S1, S2) 에 형성되어 있는 박막 등에 대해 불활성인 가스, 또는 드라이 에어 등이 사용된다.In addition, the
제 1 플레이트 (20) 는, 챔버 (10) 내에 반입된 기판 (S1, S2) 을 하방으로부터 지지한다. 제 1 플레이트 (20) 는, 상방에서 보아 원형상이지만, 이 형태에 한정되지 않고, 예를 들어 직사각형상 (정방형상, 장방형상), 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 제 1 플레이트 (20) 는, 기판 (S1, S2) 보다 큰 외경 치수로 설정되어 있다.The
제 1 플레이트 (20) 는, 지지 플레이트 (21) 와, 제 1 히터 (가열부) (22) 와, 베이스 플레이트 (23) 를 갖는다. 지지 플레이트 (21), 제 1 히터 (22), 및 베이스 플레이트 (23) 는, 하측 (-Z 측) 에서부터 이 순서로 적층되어 있다. 제 1 플레이트 (20) 는, 지지 플레이트 (21) 의 하면측에 형성된 복수 개의 지주 (24) 에 의해 지지되고, 지주 (24) 를 개재하여 기대 (15) 의 상면에 고정되어 있다. 지지 플레이트 (21) 와 제 1 히터 (22) 사이, 및 제 1 히터 (22) 와 베이스 플레이트 (23) 사이는, 예를 들어 볼트 등의 체결 부재에 의해 고정되어 있다.The
지지 플레이트 (21) 는, 예를 들어, 금속, 수지, 세라믹스 등의 재질에 의해 형성된 판상체이다. 제 1 히터 (22) 는, 가열부의 일례이고, 예를 들어, 내부에 전열선 등의 가열 기구 (열원) 를 갖는 핫 플레이트이다. 제 1 히터 (22) 에 의해 베이스 플레이트 (23) 를 개재하여 기판 (S1, S2) 을 가열한다. 또한, 제 1 히터 (22) 는, 시트상의 열원을 사이에 두고 적층된 적층 구조체여도 된다. 또, 본 실시형태에서는, 제 1 플레이트 (20) 는, 제 1 히터 (22) 를 갖고 있지만, 갖고 있지 않은 구성으로 해도 된다.The
베이스 플레이트 (23) 는, 상면인 +Z 측의 재치면 (載置面) (23a) 에 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 이 재치된다. 베이스 플레이트 (23) 는, 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 의 열팽창 계수 완화를 위해, 예를 들어, 세라믹스로 판상으로 형성되는 세라믹 플레이트가 사용되지만, 금속, 수지 등으로 형성되어도 된다. 베이스 플레이트 (23) 의 재치면 (23a) 은, 기판 (S2) 과의 접촉면이 된다. 따라서, 재치면 (23a) 은, 평면도가 높고 또한 면 조도가 작은 (또는 경면인) 것이 바람직하다.In the
지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 하면에 복수 형성되어 있다. 복수의 지주 (24) 는, 제 1 플레이트 (20) 를 챔버 (10) 의 바닥부의 기대 (15) 에 지지하기 위해 사용된다. 복수의 지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 외주부에 배치되어 있다. 지주 (24) 는, 상방에서 보아 직사각형상이지만, 원형상, 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 지주 (24) 는, 지지 플레이트 (21) 의 둘레 방향으로 간격을 두고 복수 배치되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 지주 (24) 는, 둘레 방향으로 간격을 두고 6 개 배치되어 있다. 복수 개의 지주 (24) 로 제 1 플레이트 (20) 를 지지함으로써, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력이 큰 경우여도, 제 1 플레이트 (20) 의 변형을 방지한다. 또한, 복수 개의 지주 (24) 의 개수 및 배치는, 상기한 형태에 한정되지 않고, 제 1 플레이트 (20) 의 크기, 사용되는 가압력의 크기 등에 따라 임의로 설정할 수 있다.A plurality of
도 3 은, 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 맞닿음 시트 (35) 를 기판 (S1, S2) 에 부딪치게 한 상태의 종단면도이다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 2 플레이트 (30) 는, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부할 때에, 기판 (S1, S2) 을 제 1 플레이트 (20) 측 (-Z 측) 을 향하여 가압한다. 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 의 상측에 배치되어 있다. 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 와 마찬가지로, 상방에서 보아 원형상이지만, 이 형태에 한정되지 않고, 예를 들어, 직사각형상 (정방형상, 장방형상), 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 제 2 플레이트 (30) 는, 기판 (S1, S2) 보다 큰 외경 치수로 설정되어 있다. 제 2 플레이트 (30) 의 외경 치수는, 제 1 플레이트 (20) 와 동일하지만, 이 형태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 에 대해 외경 치수가 커도 되고, 또는 작아도 된다.FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the
제 2 플레이트 (30) 는, 후술하는 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 의 하단에 유지되어 있고, 가압축 (51) 의 승강에 수반하여 승강한다. 제 2 플레이트 (30) 는, 플레이트 본체 (31) 와, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하고 있다. 플레이트 본체 (31) 는, 수압 플레이트 (32) 와, 제 2 히터 (가열부) (33) 와, 가압 플레이트 (34) 를 구비하고 있다. 수압 플레이트 (32), 제 2 히터 (33), 가압 플레이트 (34), 및 맞닿음 시트 (35) 는, 상측에서부터 이 순서로 적층되어 있다. 수압 플레이트 (32), 제 2 히터 (33), 및 가압 플레이트 (34) 는, 각각 평면에서 보았을 때에 원형의 판상이고, 동일한 외경을 갖고 있다. 플레이트 본체 (31) 를 구성하는 수압 플레이트 (32) 와, 제 2 히터 (33) 와, 가압 플레이트 (34) 는, 예를 들어 볼트 등의 체결 부재에 의해 고정되어 있다.The
수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 측, 요컨대 상측에 배치되어 있다. 수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 의 하단부에 접속되어 있다. 수압 플레이트 (32) 는, 가압 기구 (50) 의 가압축 (51) 으로부터 가압력을 받기 때문에, 소정의 강도로 형성되는 것이 바람직하다. 수압 플레이트 (32) 는, 예를 들어, 금속, 수지, 세라믹스 등에 의해 형성된다. 본 실시형태에서는, 수압 플레이트 (32) 는, 금속 플레이트이다.The
제 2 히터 (33) 는, 가압 플레이트 (34) 와 수압 플레이트 (32) 사이에 배치되어 있다. 제 2 히터 (33) 는, 가압 플레이트 (34) 의 상면에 배치되어 있다. 제 2 히터 (33) 는, 제 1 플레이트 (20) 의 제 1 히터 (22) 와 마찬가지로, 예를 들어, 내부에 전열선 등의 가열 기구 (열원) 를 갖는 핫 플레이트이다. 제 2 히터 (도시 생략) 는, 가압 플레이트 (34) 를 개재하여 기판 (S1) 을 가열한다. 또한, 제 2 히터 (도시 생략) 는, 제 1 히터 (22) 와 마찬가지로, 시트상의 열원을 사이에 두고 적층된 적층 구조체여도 된다. 또, 본 실시형태에서는, 플레이트 본체 (31) 는, 제 2 히터 (33) 를 구비하고 있지만, 구비하고 있지 않은 구성으로 해도 된다.The
가압 플레이트 (34) 는, 제 2 히터 (33) 의 하측에 형성되어 있다. 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1) 을 상방으로부터 가압하기 위한 가압면 (34a) 을 -Z 측의 하면에 구비한다. 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1, S2), 및 기판 (S) 의 열팽창 계수 완화를 위해, 예를 들어, 세라믹스로 판상으로 형성되는 세라믹 플레이트가 사용되지만, 금속, 수지 등으로 판상으로 형성되어도 된다.The
맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 에 지지되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 에 대해 제 1 플레이트 (20) 측, 요컨대 하측에 형성되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 가압 플레이트 (34) 의 가압면 (34a) 을 따라 고정되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 예를 들어, 접착, 흡착 등에 의해, 가압면 (34a) 에 고정되어 있다. 맞닿음 시트 (35) 는, 적절한 수단에 의해, 가압면 (34a) 에 대해 착탈 가능하게 구성되는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 는, 하측을 향하고, 기판 (S1) 에 맞닿는 맞닿음면 (35f) 을 갖고 있다.The
맞닿음 시트 (35) 는, 하방에서 보아 원형으로 형성되어 있지만 원형에 한정되지 않는다. 예를 들어 평면에서 보았을 때에 있어서 직사각형상 (정방형상, 장방형상) 의 각형 기판, 타원형상, 장원형상 등이어도 된다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 재료에 의해 형성되어 있다. 가압 플레이트 (34) 를 하강시킴으로써 기판 (S1, S2) 에 하중을 인가하였을 때에, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 수압 플레이트 (32) 로부터 제 2 히터 (33), 가압 플레이트 (34), 맞닿음 시트 (35) 를 거쳐, 복수의 기판 (S1, S2) 에 전달된다. 이 때, 맞닿음 시트 (35) 는, 가압력에 의해 상하 방향 (시트 두께 방향) 으로 변형됨으로써, 기판 (S1, S2) 에 작용하는 압력 변동폭의 균일화를 도모한다.The
이 때문에, 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 낮은 압축 영률을 갖는 재료를 포함하여 형성되어 있다. 플레이트 본체 (31) 에 있어서, 맞닿음 시트 (35) 의 상측에 배치된 가압 플레이트 (34) 는, 예를 들어 세라믹스제인 경우, 그 압축 영률은, 300000 (㎫) 이다. 또, 플레이트 본체 (31) 의 가압 플레이트 (34) 가, 예를 들어 스테인리스제인 경우, 압축 영률 E 는 193000 (㎫) 이다. 요컨대, 가압 플레이트 (34) 는, 기판 (S1, S2) 에 하중을 인가하였을 때에 가압면 (34a) 에 발생하는 상하 방향에 있어서의 변위량 (변형량) 은, 거의 발생하지 않는다. 이에 대해, 맞닿음 시트 (35) 에 있어서, 가압 플레이트 (34) 로 하중을 인가하였을 때에 기판 (S1, S2) 에 작용하는 압력 변동폭의 균일화를 도모하기 위해서는, 이하에 나타내는 바와 같은 조건을 만족하는 재료를 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 것이 바람직하다.For this reason, the
예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 기판 (S1, S2) 에 가고정 또는 고정하지 않는 편이 바람직하고, 즉, 본 실시형태와 같이, 플레이트 본체 (31) 에 지지되어 있는 것이 바람직하고, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때에, 하중의 방향으로 50 um 이상 360 um 이하의 범위에서 변위 (변형) 되는 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위량이, 상기 범위를 하회하는 경우, 하중을 인가하였을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는다. 또, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 기판 (S1, S2) 에 부여되었을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위량이, 상기 범위를 상회하는 경우, 기판 (S1, S2) 에 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 있다.For example, it is preferable that the
또한, 단위 면적당 하중으로서, 예를 들어 1.0 t 을 예시하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 실제로, 기판 첩부 장치 (100) 로 기판 (S1, S2) 의 첩합을 실시할 때의 하중에 맞추어, 하중을 적절히 변화시켜도 된다. 또, 맞닿음 시트 (35) 는, 제 2 히터 (33) 에 의한 가열 온도에 저항하는 내열성을 가진 재료로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 제 2 히터 (33) 에 의한 가열 온도는, 예를 들어 150 ℃ 정도이다.In addition, as the load per unit area, for example, 1.0 t is exemplified, but it is not limited to this. In fact, the load may be appropriately changed in accordance with the load when bonding the substrates S1 and S2 with the
예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 압축 영률이 예를 들어 0.2 ∼ 2 ㎫ 인 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 압축 영률의 보다 바람직한 범위는, 0.3 ∼ 0.9 ㎫ 이다. 예를 들어, 압축 영률이, 상기 범위를 상회하는 경우, 하중을 인가한 경우의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 압축 영률이, 상기 범위를 하회하는 경우, 기판 (S1, S2) 의 일부 또는 전부에 대해 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 남는다.For example, the
또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 고무 경도가, 예를 들어 5 ∼ 36 인 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 고무 경도의 보다 바람직한 범위는 15 ∼ 36 이고, 더욱 바람직한 범위는 20 ∼ 30 이다. 예를 들어, 고무 경도가, 상기 범위를 상회하는 경우, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 고무 경도가, 상기 범위를 하회하는 경우, 기판 (S1, S2) 의 일부 또는 전부에 대해 충분한 하중이 부여되지 않을 가능성이 남는다. 또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 다공질 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 다공질 재료를 포함하여 맞닿음 시트 (35) 를 형성함으로써, 압력 균일화 효과가 얻어지기 쉬워진다. 또한, 본 실시형태에서 사용되는 고무 경도에 대해서는, JIS K 7312 준거의 C 형 경도계를 사용하여 측정된 수치이다.In addition, for example, the
또, 기판 첩부 장치 (100) 로 기판 (S) 을 양산하는 경우, 맞닿음 시트 (35) 는, 상기한 바와 같은 각 조건을, 하중을 반복하여 작용시킨 경우, 어느 일정한 횟수가 경과해도, 그 성능이 현저하게 저하되지 않는 것이 요망된다. 이들 각 조건을 만족하는, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 소재로는, 예를 들어, 불소 스펀지 (기재 부착) 를 사용할 수 있다. 또한, 기판 첩부 처리를 복수회 실시하지 않는 경우이면, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 소재로서, PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷도 사용할 수 있다.In addition, when mass producing the substrate S with the
또, 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 는, 두께가, 예를 들어 0.5 ㎜ 이상 2.0 ㎜ 이하이고 재료를 포함하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 맞닿음 시트 (35) 의 두께의 보다 바람직한 범위는, 0.5 ㎜ 이상 1.5 ㎜ 이하이다. 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 의 두께가, 상기 범위를 상회하는 경우, 하중을 인가하였을 때에 제 2 히터 (33) 에 의한 열이 기판 (S1, S2) 에 전해지기 어려워진다. 또, 맞닿음 시트 (35) 의 두께가 상기 범위를 하회하는 경우, 하중을 인가하였을 때의 맞닿음 시트 (35) 의 변위가 적어, 충분한 압력 균일화 효과가 얻어지지 않는다.Moreover, for example, it is preferable that the
또, 맞닿음 시트 (35) 의 상면, 및 하면의 적어도 일방에는, 예를 들어 기판 (S1) 으로부터의 이형성을 높이는 등의, 기능성을 가진 기재를 형성하도록 해도 된다. 기재는, 피막 등이어도 된다. 예를 들어, 맞닿음 시트 (35) 의 상면, 및 하면의 적어도 일방에는, 예를 들어 폴리이미드층을 형성하도록 해도 된다.Additionally, a base material having functionality such as enhancing release properties from the substrate S1 may be formed on at least one of the upper and lower surfaces of the
맞닿음 시트 (35) 의 외형 (외경) 치수는, 기판 (S1, S2) 의 외형 치수보다 작게 설정되어 있다. 이로써, 맞닿음 시트 (35) 가 기판 (S1, S2) 에 맞닿았을 때에는, 맞닿음 시트 (35) 의 외측으로 기판 (S1, S2) 의 외주부가 돌출된다. 맞닿음 시트 (35) 의 외형 (외경) 치수를, 기판 (S1, S2) 의 외형 치수보다 크게 하면, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부가, 기판 (S1, S2) 보다 직경 방향 외측으로 비어져 나온다. 그러면, 기판 (S1, S2) 의 가압을 반복하는 동안에, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부는 변위되지 않고, 그 내측에서 기판 (S1, S2) 에 맞닿는 부분이, 반복된 변위에 의해 눌려 찌부러진다. 그 결과, 맞닿음 시트 (35) 와 기판 (S1, S2) 의 위치 어긋남 등에 의해, 맞닿음 시트 (35) 의 외주부의 눌려 찌부러져 있지 않은 부분이 기판 (S1, S2) 에 맞닿으면, 그 부분에서 과도하게 큰 압력이 가해져 버릴 가능성이 있다. 맞닿음 시트 (35) 의 외경 치수를, 기판 (S1, S2) 의 외경 치수와 동일하게 한 경우에도, 동일한 문제가 발생할 가능성이 있다.The outer diameter (outer diameter) dimension of the
맞닿음 시트 (35) 는, 기판 (S1, S2) 의 기능 영역 (Af) 을 덮도록 형성되어 있는 것이 바람직하다. 요컨대, 맞닿음 시트 (35) 의 외경 치수는, 기능 영역 (Af) 의 외경 치수보다 크게 설정하는 것이 바람직하다. 이로써, 가압시에, 맞닿음 시트 (35) 의 전체가, 기능 영역 (Af) 에 맞닿아, 압력의 균일화를 유효하게 도모할 수 있다.The
가압 기구 (50) 는, 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부할 때에, 기판 (S1) 을 기판 (S2) 측 (제 1 플레이트 (20) 측) 을 향하여 가압한다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 가압 기구 (50) 는, 가압축 (51) 과, 가압축 (51) 을 구동시키는 구동부 (도시 생략) 를 구비한다. 가압축 (51) 은, 상방에서 보아 수압 플레이트 (32) 의 중앙부에 배치되고, 수압 플레이트 (32) 의 중앙부에 하중 (가압력) 을 부가한다.The
가압축 (51) 은, 관통부 (10h) 를 통하여 챔버 (10) 내에 삽입되어 있다. 가압축 (51) 은, 각각 원형 단면의 봉상체이고, 부여되는 하중에 의해 변형되지 않거나, 또는 변형이 억제된 외경 및 재질 (예를 들어 금속, 수지, 세라믹스 등) 에 의해 형성된다. 구동부 (도시 생략) 는, 가압축 (51) 을 구동한다. 구동부는, 예를 들어, 에어 실린더 장치, 유압 실린더 장치, 전동 회전 모터를 사용한 볼 나사 기구 등이 사용된다.The
구동부는, 제어부 (도시 생략) 에 의해 제어된다. 구동부 (도시 생략) 에 의해 가압축 (51) 에 부여하는 하중, 및 하중을 부여하는 구동 타이밍은, 미리 설정된 프로그램 등에 기초하여 제어부 (도시 생략) 에 의해 통괄하여 제어된다. 또, 구동부 (도시 생략) 의 동작의 일부 또는 전부는, 오퍼레이터에 의한 조작에 의해 실시되어도 된다.The driving unit is controlled by a control unit (not shown). The load applied to the
<기판 첩부 방법><Substrate attachment method>
다음으로, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법에 대해 설명한다. 도 4 는, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 방법의 일례를 나타내는 플로 차트이다. 이 기판 첩부 방법은, 예를 들어, 제어부 (도시 생략) 로부터의 지시에 의해 실행된다. 도 5 내지 도 8 은, 기판 첩부 장치 (100) 의 동작의 일례를 나타내는 공정도이다. 또한, 이들 공정도에서는, 각 부의 움직임이 알기 쉬워지도록, 기재를 간략화하고 있다. 이하, 도 4 의 플로 차트를 따라 설명한다.Next, the substrate sticking method according to this embodiment will be described. Fig. 4 is a flow chart showing an example of the substrate sticking method according to the present embodiment. This substrate sticking method is executed, for example, by instructions from a control unit (not shown). 5 to 8 are process diagrams showing an example of the operation of the
먼저, 챔버 (10) 의 게이트 밸브 (12) 를 열고, 기판 (S) 을 반입한다 (스텝 S01). 도 5 에 나타내는 바와 같이, 제어부 (도시 생략) 는, 도시되지 않은 구동부를 구동시켜 게이트 밸브 (12) 를 상승시켜, 개구부 (11) 를 개방시킨다. 계속해서, 반송 장치 (도시 생략) 에 의해, 전공정에서 미리 접착층 (F) 을 개재하여 겹친 복수의 기판 (S1, S2) 을 챔버 (10) 내에 반입한다. 이 때, 제 2 플레이트 (30) 는, 제 1 플레이트 (20) 에 대해 상방으로 이간시켜 둔다. 반송 장치 (도시 생략) 는, 기판 (S1, S2) 을 유지한 상태에서 개구부 (11) 로부터 챔버 (10) 의 내부에 진입하고, 중첩된 기판 (S1, S2) 을 제 1 플레이트 (20) 의 베이스 플레이트 (23) 상에 재치한다 (스텝 S02).First, the
계속해서, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 게이트 밸브 (12) 를 닫고, 도시되지 않은 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 배기하여, 예를 들어, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 한다 (스텝 S03). 또한, 챔버 (10) 내를 진공 분위기로 하는 대신에, 도시되지 않은 흡인 장치에 의해 챔버 (10) 내를 배기하면서, 챔버 (10) 내에 클린 에어를 공급하여, 예를 들어, 챔버 (10) 내를, 대기압 조건하에서 클린 에어로 치환해도 된다.Subsequently, as shown in FIG. 6, the
계속해서, 제어부 (도시 생략) 는, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 구동부 (도시 생략) 를 구동시켜 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 제 1 플레이트 (20) 의 베이스 플레이트 (23) 상에 지지된 기판 (S1, S2) 에, 제 2 플레이트 (30) 의 가압 플레이트 (34) 를 맞닿게 한다 (스텝 S04). 계속해서, 이 상태에서, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 에 의해 기판 (S1, S2) 을 소정의 시간 가열하여 프리히트 처리를 실시한다. 프리히트 처리는, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 의 온도를 예를 들어 150 ℃ 내지 250 ℃ 로 하여 실시한다.Subsequently, as shown in FIG. 7 , the control unit (not shown) drives the drive unit (not shown) to lower the
계속해서, 가압축 (51) 으로 하중을 부가하여, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다 (스텝 S05). 제어부 (도시 생략) 는, 구동부 (도시 생략) 를 구동하여 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 하강시켜, 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 (30) 사이에서 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 가압함으로써, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 을 첩부한다. 이 때, 제 1 히터 (22) 및 제 2 히터 (도시 생략) 에 의한 가열을 계속하게 하여, 제 1 플레이트 (20) 및 제 2 플레이트 (30) 를 소정의 온도로 유지시켜도 된다. 기판 (S1) 과 기판 (S2) 은, 접착층 (F) 이 열에 의해 용융됨으로써 접착되고, 또한, 제 2 플레이트 (30) 에 의한 기판 (S1) 측으로부터의 가압에 의해, 기판 (S1) 과 기판 (S2) 이 강고하게 첩부된다.Subsequently, a load is applied to the
기판 (S1) 과 기판 (S2) 의 첩부 완료 후, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 구동부 (도시 생략) 를 구동시켜 가압축 (51) 과 함께 제 2 플레이트 (30) 를 상승시킨다 (스텝 S06). 그 후, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 게이트 밸브 (12) 를 열어 기판 (S) 을 챔버 (10) 로부터 반출한다 (스텝 S07). 게이트 밸브 (12) 를 상승시켜 개구부 (11) 를 개방한 후, 반송 장치 (도시 없음) 로, 제 1 플레이트 (20) 의 지지 플레이트 (21) 상에 재치된 기판 (S) 을 챔버 (10) 의 외부로 반출시킨다. 그 후, 제어부 (도시 생략) 는, 게이트 밸브 (12) 를 닫고, 일련의 처리를 종료시킨다.After completion of sticking of the substrate S1 and S2, as shown in FIG. 8, a drive unit (not shown) is driven to raise the
이상과 같이, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 는, 맞닿음 시트 (35) 를 포함하므로, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 플레이트 본체 (31) 로부터 맞닿음 시트 (35) 를 거쳐 복수의 기판 (S1, S2) 에 전달된다. 맞닿음 시트 (35) 는, 플레이트 본체 (31) 보다 높은 유연성을 가져 변형 가능하다. 이로써, 가압 기구 (50) 에 의한 가압력은, 제 2 히터 (33) 에 보다 균일하게 전달된다. 따라서, 본 실시형태에 관련된 기판 첩부 장치 (100) 에 의하면, 복수의 기판 (S1, S2) 끼리의 접합면에 가해지는 가압력의 균일화를 도모할 수 있다.As described above, since the
(실시예)(Example)
다음으로, 상기한 바와 같은 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 복수의 재료에 대해, 성능 평가를 실시하였으므로, 그 결과를 이하에 나타낸다.Next, performance evaluation was performed on a plurality of materials used for the
여기서, 맞닿음 시트 (35) 에 사용하는 시트 재료로서, 이하와 같은 것을 사용하였다.Here, as the sheet material used for the
시험체 1 : 두께 1 ㎜ 의 불소 스펀지 (기재 부착)Test specimen 1: Fluorine sponge with a thickness of 1 mm (with base material)
시험체 2 : 두께 0.5 ㎜ 의 PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷Test specimen 2: Gasket made of PTFE (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 0.5 mm
시험체 3 : 두께 1 ㎜ 의 PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 제 개스킷Test specimen 3: Gasket made of PTFE (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 1 mm
비교예 : 맞닿음 시트는 사용하지 않는다Comparative example: Contact sheets are not used
상기의 시험체 1 ∼ 3 의 시트 재료를, 각각, 기판 첩부 장치 (100) 의 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 사이에 기판 (S1, S2) 을 협지하고, 4000 kgf 의 하중을 가하였을 때의, 시트 재료에 있어서의 압력 변동폭을 압력 변동폭계로 계측하였다. 또, 비교예로서, 맞닿음 시트 (35) 를 사용하지 않고, 기판 첩부 장치 (100) 의 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 사이에 기판 (S1, S2) 을 협지하고, 4000 kgf 의 하중을 가하였을 때의, 압력 변동폭을 압력 변동폭계로 계측하였다.When the sheet materials of the
도 10 은, 시트 재료의 평가 결과를 나타내는 도면이다. 여기서, 시험체 1 ∼ 3 의 시트 재료의 압축 영률을, 다음 식 (1) 로 구하고, 도 10 에 나타냈다.Fig. 10 is a diagram showing the evaluation results of the sheet material. Here, the compressive Young's modulus of the sheet materials of
E = F × L/(A·ΔL) ··· (1) E = F × L/(A·ΔL) ··· (1)
여기서, F 는 하중, A 는 시트 재료의 평면적, L 은 시트 재료의 두께, ΔL 은 시트 재료의 두께의 변위량이다. 또한, 비교예에 있어서의 압축 영률은, 플레이트 (제 2 플레이트) 를 구성하는 스테인리스의 값이다.Here, F is the load, A is the planar area of the sheet material, L is the thickness of the sheet material, and ΔL is the amount of displacement of the thickness of the sheet material. In addition, the compressive Young's modulus in the comparative example is the value of the stainless steel constituting the plate (second plate).
도 10 에 나타내는 바와 같이, 시험체 1 ∼ 3 에 대해서는, 각각, 압축 영률, 1 ton 하중시의 시트 재료의 내구성, 1 ton 의 하중을 반복하여 500 회 가하였을 때의 시트 재료에 작용한 압력의 최소값과 최대값의 차 (압력 변동폭) 의 각각은, 시트 재료를 사용하지 않은 비교예와 비교하여, 각 조건을 충분히 만족하였다. 여기서, 내구성의 판단은, 압력 변동폭에 의해 판단한다. 이것은, 반복 하중에 의해 시트가 완전히 찌부러져, 압력 균일성을 올리는 효과가 없어지면 압력 변동폭이 커지는 것에 의한 것이다. 시험체 1 ∼ 3 에 대해서는, 비교예에 비하여, 압력 변동폭이 현저하게 작으므로, 시트 재료로서의 내구성은 충분히 갖고 있는 것으로 판단할 수 있다.As shown in FIG. 10, for
이상, 실시형태에 대해 설명하였지만, 본 발명은, 상기한 설명에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 각종 변경이 가능하다. 예를 들어, 상기한 실시형태에서는, 상측에 배치된 제 2 플레이트 (30) 를 가압 기구 (50) 에 의해 이동시키고, 제 2 플레이트 (30) 에, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하는 구성을 예로 들어 설명하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 하측에 배치된 제 1 플레이트 (20) 를 가압 기구 (50) 에 의해 이동시키고, 이 제 1 플레이트 (20) 에, 맞닿음 시트 (35) 를 구비하는 구성이어도 된다.Although the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above description, and various changes are possible without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the
또, 상기한 실시형태에서는, 전공정에서 접착층 (F) 을 개재하여 임시로 첩합된 기판 (S1, S2) 을, 기판 첩부 장치 (100) 로 첩부하는 구성을 예로 들어 설명하였지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 기판 첩부 장치 (100) 로, 기판 (S1, S2) 을 순차 반입하고, 기판 (S1, S2) 을, 접착층 (F) 을 개재하여 첩합한 후, 제 1 플레이트 (20) 와 제 2 플레이트 (30) 사이에서 기판 (S1, S2) 을 가압함으로써, 기판 (S1, S2) 을 첩부하는 구성이어도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the configuration in which the substrates S1 and S2, which are temporarily bonded through the adhesive layer F in the previous process, are attached by the
20 : 제 1 플레이트
30 : 제 2 플레이트
31 : 플레이트 본체
35 : 맞닿음 시트
50 : 가압 기구
100 : 기판 첩부 장치
Af : 기능 영역
S, S1, S2 : 기판20: first plate
30: second plate
31: plate body
35: abutting sheet
50: pressurizing mechanism
100: Substrate attachment device
Af: functional area
S, S1, S2: Substrate
Claims (10)
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방으로 누르는 가압 기구를 갖고,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트의 적어도 일방은,
플레이트 본체와,
상기 플레이트 본체에 지지되어 상기 기판에 맞닿고, 상기 플레이트 본체보다 높은 유연성을 갖는 변형 가능한 맞닿음 시트를 구비하는, 기판 첩부 장치.A first plate and a second plate sandwiching a plurality of substrates in an overlapping state;
It has a pressing mechanism that presses one of the first plate and the second plate against the other,
At least one of the first plate and the second plate,
plate body,
A substrate sticking device comprising a deformable contact sheet that is supported by the plate main body and abuts the substrate, and has higher flexibility than the plate main body.
상기 맞닿음 시트는, 상기 기판의 기능 영역을 덮도록 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.According to claim 1,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed to cover a functional area of the substrate.
상기 맞닿음 시트는, 상기 플레이트 본체보다 낮은 압축 영률을 갖는 재료를 포함하여 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed of a material having a compressive Young's modulus lower than that of the plate main body.
상기 맞닿음 시트는, 고무 경도가 15 ∼ 36 인, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
The said contact sheet is a board|substrate sticking device whose rubber hardness is 15-36.
상기 맞닿음 시트는, 다공질 재료를 사용하여 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device in which the contact sheet is formed using a porous material.
상기 맞닿음 시트는, 0.5 ㎜ 이상 1.5 ㎜ 이하의 두께를 갖고 있는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet has a thickness of 0.5 mm or more and 1.5 mm or less.
상기 맞닿음 시트는, 단위 면적당 1.0 t 의 하중이 부여되었을 때에, 상기 하중의 방향으로 50 um 이상 변형되는 재료에 의해 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
A substrate sticking device wherein the contact sheet is formed of a material that deforms by 50 um or more in the direction of the load when a load of 1.0 t per unit area is applied.
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트의 일방 또는 쌍방은, 상기 기판을 가열하기 위한 가열부를 구비하고,
상기 맞닿음 시트는, 상기 가열부에 의한 가열 온도에 저항하는 내열성을 가진 재료로 형성되어 있는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
One or both of the first plate and the second plate are provided with a heating unit for heating the substrate,
A substrate sticking device, wherein the contact sheet is formed of a material with heat resistance that resists the heating temperature by the heating unit.
상기 맞닿음 시트의 외형 치수는, 상기 기판의 외형 치수보다 작아, 상기 맞닿음 시트가 상기 기판에 맞닿았을 때에, 상기 맞닿음 시트의 외측으로 상기 기판의 외주부가 돌출되는, 기판 첩부 장치.The method of claim 1 or 2,
The external dimension of the contact sheet is smaller than that of the substrate, and when the contact sheet contacts the substrate, the outer peripheral portion of the substrate protrudes outside the contact sheet.
상기 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트 사이에, 상기 복수의 기판을 겹친 상태에서 배치하는 것과,
상기 제 1 플레이트 및 상기 제 2 플레이트 중 어느 일방을 어느 타방을 향하여 누름으로써, 상기 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트 사이의 상기 복수의 기판에 가압력을 부여하는 것을 포함하고,
상기 가압력은, 상기 가압력에 따라 변형되는 맞닿음 시트를 개재하여, 상기 복수의 기판에 부여되는, 기판 첩부 방법.A method of joining a plurality of substrates by sandwiching them with a first plate and a second plate in an overlapping state, comprising:
placing the plurality of substrates in an overlapping state between the first plate and the second plate;
Applying a pressing force to the plurality of substrates between the first plate and the second plate by pressing one of the first plate and the second plate toward the other,
A substrate sticking method wherein the pressing force is applied to the plurality of substrates through an abutting sheet that is deformed according to the pressing force.
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