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KR20230096891A - 광학 적층체 - Google Patents

광학 적층체 Download PDF

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KR20230096891A
KR20230096891A KR1020220181208A KR20220181208A KR20230096891A KR 20230096891 A KR20230096891 A KR 20230096891A KR 1020220181208 A KR1020220181208 A KR 1020220181208A KR 20220181208 A KR20220181208 A KR 20220181208A KR 20230096891 A KR20230096891 A KR 20230096891A
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KR
South Korea
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bending
ratio
optical
adhesive layer
meth
Prior art date
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Pending
Application number
KR1020220181208A
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English (en)
Inventor
마사쿠니 후지타
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20230096891A publication Critical patent/KR20230096891A/ko
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Abstract

[과제] 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합한 광학 적층체를 제공한다.
[해결 수단] 본 발명의 광학 적층체(X)는, 광학 부재(11)와, 점착제층(21)과, 광학 부재(12)와, 점착제층(22)과, 광학 부재(13)를 두께 방향(H)으로 순서대로 구비한다. 광학 부재(11, 12)간은, 점착제층(21)에 의해 접합되어 있다. 광학 부재(12, 13)간은, 점착제층(22)에 의해 접합되어 있다. 광학 적층체(X)에서는, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 10000의 제1 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제1 비율이 1.2 이하이다.

Description

광학 적층체{OPTICAL LAMINATE}
본 발명은, 광학 적층체에 관한 것이다.
디스플레이 패널은, 예를 들면, 화소 패널, 편광판 및 표면 커버 등의 광학 부재를 포함하는 적층 구조를 갖는다. 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 적층 구조에 포함되는 광학 부재끼리의 접합을 위해서, 투명한 점착제층이 이용된다. 또한, 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 예를 들면, 적층 구조의 일부를 형성하는 광학 적층체가 미리 제조된다. 그와 같은 광학 적층체가 디스플레이 패널의 제조 라인에 공급된다.
한편, 스마트폰용 및 태블릿 단말용으로, 반복해서 절곡 가능(폴더블)한 디스플레이 패널의 개발이 진행되고 있다. 폴더블 디스플레이 패널은, 구체적으로는, 굴곡 형상과 플랫한 비굴곡 형상 사이에서, 반복 변형 가능하다. 이와 같은 폴더블 디스플레이 패널에서는, 적층 구조 중의 각 광학 부재가, 반복해서 절곡 가능한 광학 부재로서 제작되고 있다. 광학 부재간의 접합에는, 얇은 점착제층이 이용된다. 폴더블 디스플레이 패널 등의 플렉시블 디바이스용의 광학 적층체에 대해서는, 예를 들면 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다.
일본 특허공개 2021-91117호 공보
폴더블 디스플레이 패널의 절곡 개소에서는, 종래, 다수회의 굴곡에 의해 광학 특성이 저하된다. 광학 특성의 저하의 원인으로서는, 예를 들면, 광학 부재와 점착제층 사이의 벗겨짐을 들 수 있다. 광학 특성의 저하는, 디스플레이 패널에 있어서의 화상 불량의 원인이 되기 때문에, 바람직하지 않다.
본 발명은, 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합한 광학 적층체를 제공한다.
본 발명 [1]은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 제2 광학 부재와, 제2 점착제층과, 제3 광학 부재를 두께 방향으로 순서대로 구비하고, 상기 제1 및 제2 광학 부재간이 상기 제1 점착제층에 의해 접합되고, 상기 제2 및 제3 광학 부재간이 상기 제2 점착제층에 의해 접합되어 있는 광학 적층체로서, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 10000의 제1 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제1 비율이 1.2 이하인, 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [2]는, 상기 제1 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제2 비율이 1.5 이하인, 상기 [1]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [3]은, 상기 제1 비율에 대한 상기 제2 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 상기 [2]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [4]는, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 50000의 제2 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제3 비율이 1.3 이하인, 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [5]는, 상기 제2 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제4 비율이 1.6 이하인, 상기 [4]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [6]은, 상기 제3 비율에 대한 상기 제4 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 상기 [5]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [7]은, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 3mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 50000의 제3 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제5 비율이 1.4 이하인, 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [8]은, 상기 제3 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제6 비율이 1.7 이하인, 상기 [7]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 [9]는, 상기 제5 비율에 대한 상기 제6 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 상기 [8]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
본 발명의 광학 적층체는, 제1 굴곡 조건(굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 굴곡 횟수 10000)에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후의 상기 제1 비율(최대 두께/최소 두께)이 1.2 이하이다. 또는, 본 발명의 광학 적층체는, 제2 굴곡 조건(굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 굴곡 횟수 50000)에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후의 상기 제3 비율(최대 두께/최소 두께)이 1.3 이하이다. 또는, 본 발명의 광학 적층체는, 제3 굴곡 조건(굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 3mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 굴곡 횟수 50000)에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후의 상기 제5 비율(최대 두께/최소 두께)이 1.4 이하이다. 본 발명의 광학 적층체는, 10000회 또는 50000회나 되는 다수의 180° 굴곡 후의 두께 변화가 이들 정도로 작다. 이와 같은 광학 적층체는, 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합하다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일 실시형태의 단면 모식도이다.
도 2의 도 2A는, 반복 굴곡 시험에 있어서 시험편이 플랫한 상태를 나타내고, 도 2B는, 반복 굴곡 시험에 있어서 시험편이 만곡된 상태를 나타낸다.
본 발명의 광학 적층체의 일 실시형태로서의 광학 적층체(X)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 광학 부재(11, 12, 13) 및 점착제층(21, 22)을 구비한다. 구체적으로는, 광학 적층체(X)는, 광학 부재(11)(제1 광학 부재)와, 점착제층(21)(제1 점착제층)과, 광학 부재(12)(제2 광학 부재)와, 점착제층(22)(제2 점착제층)과, 광학 부재(13)(제3 광학 부재)를, 두께 방향(H)으로 순서대로 구비한다. 광학 적층체(X)는, 소정의 두께의 시트 형상을 갖고, 두께 방향(H)과 직교하는 방향(면 방향)으로 넓어진다. 광학 부재(11, 12)간은, 점착제층(21)에 의해 접합되어 있다. 광학 부재(12, 13)간은, 점착제층(22)에 의해 접합되어 있다.
광학 적층체(X)는, 광학적으로 투명한 적층체이다. 광학 적층체(X)는, 플렉시블 디바이스에 있어서의 광 통과 개소에 배치된다. 플렉시블 디바이스로서는, 예를 들면, 플렉시블 디스플레이 패널을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이 패널로서는, 예를 들면, 폴더블 디스플레이 패널 및 롤러블 디스플레이 패널을 들 수 있다. 광학 부재(11, 12, 13)는, 각각, 플렉시블 디바이스에 짜 넣어지는 광학 부재이다. 광학 부재(11, 12, 13)는, 각각, 반복해서 절곡 가능한 필름상의 광학 부재이다.
광학 적층체(X)는, 제1 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분(후기하는 피굴곡 부분(P))에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R1(제1 비율)이, 1.2 이하이다. 제1 굴곡 조건이란, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 10000의 조건이다. 반복 굴곡 시험에서는, 광학 적층체(X)는, 제1 광학 부재측을 굴곡 내측 또는 굴곡 외측으로 해서 굴곡된다(후기하는 다른 조건에서의 반복 굴곡 시험에서도 마찬가지이다). 반복 굴곡 시험은, 예를 들면, U자 신축 시험기(유아사 시스템 기기제)에 의해 실시할 수 있다.
도 2A 및 도 2B는, 굴곡 각도 180°의 반복 굴곡 시험을 모식적으로 나타낸다. 반복 굴곡 시험에서는, 광학 적층체(X)의 시험편(S)의 양 단부를 시험기의 파지부(C1, C2)에 고정한다. 반복 굴곡 시험에서는, 제1 과정과 제2 과정을 포함하는 일련의 과정을 1사이클(1왕복)로 한다. 제1 과정에서는, 시험편(S)을 플랫 형상으로부터 U자 형상으로 만곡시킨다. 제2 과정에서는, 제1 과정 후에 시험편(S)을 플랫 형상으로 되돌린다. U자 형상 시의 시험편(S)에 있어서의 양 단부간의 거리를 조정하는 것에 의해, 시험편의 굴곡 외경을 조정할 수 있다. 반복 굴곡 시험 후, 시험편(S)에 있어서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)(크로스 해칭을 붙여서 나타낸다)에 있어서의 최소 두께와 최대 두께가 측정된다. 반복 굴곡 시험의 방법은, 구체적으로는, 실시예에 관해서 후술하는 대로이다.
광학 적층체(X)는, 전술한 바와 같이, 10000회나 되는 다수의 180° 굴곡 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 비율 R1(최대 두께/최소 두께)이, 1.2 이하의 범위로 억제된다. 이와 같은 광학 적층체(X)는, 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합하다. 구체적으로는, 후기하는 실시예를 가지고 나타내는 대로이다. 비율 R1은, 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.15 이하, 보다 바람직하게는 1.1 이하이다. 비율 R1은, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다.
광학 적층체(X)는, 제1 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R2(제2 비율)가, 고온 환경하에서의 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.5 이하, 보다 바람직하게는 1.4 이하, 더 바람직하게는 1.3 이하, 특히 바람직하게는 1.0이다. 비율 R2는, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다. 비율 R1에 대한 비율 R2의 비율(R2/R1)은, 바람직하게는 0.95 이상, 더 바람직하게는 0.98 이상이고, 또한, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.2 이하, 더 바람직하게는 1.1 이하, 특히 바람직하게는 1.0이다.
광학 적층체(X)는, 본 실시형태에서는, 제2 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R3(제3 비율)이, 1.3 이하이다. 제2 굴곡 조건이란, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 50000의 조건이다. 광학 적층체(X)에서는, 50000회나 되는 다수의 180° 굴곡 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 비율 R3이 1.3 이하의 범위로 억제된다. 그 때문에, 광학 적층체(X)는, 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합하다. 구체적으로는, 후기하는 실시예를 가지고 나타내는 대로이다. 또한, 비율 R3은, 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.25 이하, 보다 바람직하게는 1.2 이하이다. 비율 R3은, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다.
광학 적층체(X)는, 제2 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R4(제4 비율)가, 고온 환경하에서의 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.6 이하, 보다 바람직하게는 1.5 이하, 더 바람직하게는 1.4 이하이다. 비율 R4는, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다. 비율 R3에 대한 비율 R4의 비율(R4/R3)은, 바람직하게는 0.95 이상, 더 바람직하게는 0.98 이상이고, 또한, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.2 이하, 더 바람직하게는 1.15 이하이다.
광학 적층체(X)는, 본 실시형태에서는, 제3 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R5(제5 비율)가, 1.4 이하이다. 제3 굴곡 조건이란, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 3mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 50000의 조건이다. 광학 적층체(X)에서는, 50000회나 되는 다수의 180° 굴곡(굴곡 외경은 3mm) 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 비율 R5가 1.4 이하의 범위로 억제된다. 그 때문에, 광학 적층체(X)는, 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 데에 적합하다. 구체적으로는, 후기하는 실시예를 가지고 나타내는 대로이다. 또한, 비율 R5는, 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.2 이하이다. 비율 R5는, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다.
광학 적층체(X)는, 제3 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 비율 R6(제6 비율)이, 고온 환경하에서의 광학 적층체(X)의 반복 굴곡 후의 광학 특성의 저하를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 1.7 이하, 보다 바람직하게는 1.6 이하, 더 바람직하게는 1.5 이하이다. 비율 R6은, 예를 들면 0.9 이상, 바람직하게는 1.00 이상, 1.00 초과 또는 1.05 이상이다. 비율 R5에 대한 비율 R6의 비율(R6/R5)은, 바람직하게는 0.95 이상, 더 바람직하게는 0.98 이상이고, 또한, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.25 이하, 더 바람직하게는 1.2 이하이다.
비율 R1∼R6의 조정 방법으로서는, 예를 들면, 점착제층(21, 22)의 점착력의 조정, 전단 저장 탄성률의 조정, 및 두께의 조정을 들 수 있다. 점착제층의 점착력의 조정 방법으로서는, 예를 들면, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머의 종류의 선택, 분자량의 조정, 및 배합량의 조정을 들 수 있다. 베이스 폴리머의 종류의 선택에는, 베이스 폴리머에 있어서의 주쇄의 종류의 선택, 및 작용기의 종류의 선택 및 양의 조정이 포함된다. 점착제층의 점착력의 조정 방법으로서는, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머 이외의 성분의 종류의 선택, 및 당해 성분의 배합량의 조정도 들 수 있다. 당해 성분으로서는, 가교제, 실레인 커플링제, 및 올리고머를 들 수 있다. 점착제층의 전단 저장 탄성률의 조정 방법으로서는, 예를 들면, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머의 종류의 선택, 분자량의 조정, 및 배합량의 조정, 및 상기 베이스 폴리머를 가교하는 가교제의 종류의 선택 및 배합량의 조정을 들 수 있다.
광학 부재(11)는, 본 실시형태에서는, 기재 필름이다. 기재 필름으로서는, 예를 들면, 수지 필름, 유리 필름, 및 금속 필름을 들 수 있다. 수지 필름의 재료로서는, 예를 들면, 폴리에스터, 폴리올레핀, 폴리이미드(PI), 폴리아마이드, 셀룰로스, 변성 셀룰로스, 폴리스타이렌, 및 폴리카보네이트를 들 수 있다. 폴리에스터로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트를 들 수 있다. 폴리올레핀으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 및 사이클로올레핀 폴리머(COP)를 들 수 있다. 폴리아마이드로서는, 예를 들면, 폴리아마이드 6, 폴리아마이드 6,6, 및 부분 방향족 폴리아마이드를 들 수 있다. 변성 셀룰로스로서는, 예를 들면 트라이아세틸셀룰로스(TAC)를 들 수 있다. 이들 수지 재료는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 유리 필름의 재료로서는, 예를 들면, 알루미노실리케이트 유리, 소다 라임 유리, 보로실리케이트 유리, 및 알루미노보로실리케이트 유리를 들 수 있다. 이들 유리 재료는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 금속 필름의 재료로서는, 예를 들면, 스테인리스, 철, 구리, 알루미늄, 마그네슘, 니켈, 아연, 크로뮴, 및 타이타늄을 들 수 있다. 이들 금속 재료는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 또한, 광학 부재(11)는, 디스플레이 패널에 있어서의 시인측에 배치되는 투명 커버 필름으로서 기능하는 기재 필름이어도 된다.
광학 부재(11)의 두께는, 광학 부재(11)에 의한 지지 기능의 확보의 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상이다. 광학 부재(11)의 두께는, 광학 적층체(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 75μm 이하이다.
광학 부재(12)는, 본 실시형태에서는, 기능성 광학 부재이다. 기능성 광학 부재로서는, 예를 들면, 필름상의 편광판(편광 필름) 및 위상차판을 들 수 있다. 기능성 광학 부재는, 바람직하게는 필름상의 기능성 광학 부재이다. 그와 같은 광학 부재로서는, 예를 들면, 필름상의 편광판(편광 필름) 및 위상차 필름을 들 수 있다.
편광 필름으로서는, 예를 들면, 이색성 물질에 의한 염색 처리와 그 후의 연신 처리를 거친 친수성 고분자 필름을 들 수 있다. 이색성 물질로서는, 예를 들면, 아이오딘 및 이색성 염료를 들 수 있다. 친수성 고분자 필름으로서는, 예를 들면, 폴리바이닐 알코올(PVA) 필름, 부분 포말화 PVA 필름, 및 에틸렌·아세트산 바이닐 공중합체의 부분 비누화 필름을 들 수 있다. 편광 필름으로서는, 폴리엔 배향 필름도 들 수 있다. 폴리엔 배향 필름의 재료로서는, 예를 들면, PVA의 탈수 처리물, 및 폴리염화 바이닐의 탈염산 처리물을 들 수 있다. 편광 필름은, 두께 방향의 일방면 및/또는 타방면에, 접착제를 개재시켜 접합된 보호 필름을 갖고 있어도 된다. 편광 필름으로서의 광학 부재(12)의 두께는, 광학 부재(12)의 기능 및 강도를 확보하는 관점에서, 바람직하게는 1μm 이상, 보다 바람직하게는 5μm 이상이다. 편광 필름으로서의 광학 부재(12)의 두께는, 광학 적층체(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 50μm 이하, 보다 바람직하게는 35μm 이하이다.
위상차 필름으로서는, 예를 들면, λ/2 파장 필름 및 λ/4 파장 필름, 및 시야각 보상 필름을 들 수 있다. 위상차 필름의 재료로서는, 예를 들면, 연신 처리에 의해 복굴절화된 고분자 필름을 들 수 있다. 고분자 필름으로서는, 예를 들면, 셀룰로스 필름 및 폴리에스터 필름을 들 수 있다. 셀룰로스 필름으로서는, 예를 들면 트라이아세틸셀룰로스 필름을 들 수 있다. 폴리에스터 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 및 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름을 들 수 있다. 위상차 필름으로서는, 셀룰로스 필름 등의 기재와, 당해 기재 상의 액정성 폴리머 등 액정 화합물의 배향층을 구비하는 필름도 바람직하게 이용할 수 있다. 위상차 필름으로서의 광학 부재(12)의 두께는, 광학 부재(12)의 기능 및 강도를 확보하는 관점에서, 바람직하게는 1μm 이상, 보다 바람직하게는 2μm 이상이다. 위상차 필름으로서의 광학 부재(12)의 두께는, 광학 적층체(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 50μm 이하, 보다 바람직하게는 40μm 이하이다.
광학 부재(13)는, 본 실시형태에서는, 필름상의 화소 패널이다. 화소 패널로서는, 예를 들면, 유기 EL 패널 및 액정 패널을 들 수 있다. 광학 부재(13)의 두께는, 광학 부재(13)의 기능 확보의 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상이다. 광학 부재(13)의 두께는, 광학 적층체(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 150μm 이하, 보다 바람직하게는 100μm 이하이다.
점착제층(21)은, 제1 점착제 조성물로 형성된 감압 접착제층이다. 점착제층(21)은, 광학적으로 투명한 점착제층(광학 점착제층)이다. 제1 점착제 조성물은, 적어도 베이스 폴리머를 함유한다.
베이스 폴리머는, 점착제층(21)에 있어서 점착성을 발현시키는 점착 성분이다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들면, 아크릴 폴리머, 실리콘 폴리머, 폴리에스터 폴리머, 폴리유레테인 폴리머, 폴리아마이드 폴리머, 폴리바이닐 에터 폴리머, 아세트산 바이닐/염화 바이닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀 폴리머, 에폭시 폴리머, 불소 폴리머, 및 고무 폴리머를 들 수 있다. 베이스 폴리머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 점착제층(21)에 있어서의 양호한 투명성 및 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는 아크릴 폴리머가 바람직하다.
아크릴 폴리머는, (메트)아크릴산 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 「(메트)아크릴」은, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다.
(메트)아크릴산 에스터로서는, 바람직하게는, (메트)아크릴산 알킬 에스터가 이용되고, 보다 바람직하게는, 알킬기의 탄소수가 1∼20인 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 이용된다. (메트)아크릴산 알킬 에스터는, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 가져도 되고, 지환식 알킬기 등의 환상의 알킬기를 가져도 된다.
직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실(즉 라우릴 (메트)아크릴레이트), (메트)아크릴산 아이소트라이데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 세틸, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, 및 (메트)아크릴산 노나데실을 들 수 있다.
지환식 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 사이클로알킬 에스터, 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터, 및 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터를 들 수 있다. (메트)아크릴산 사이클로알킬 에스터로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 사이클로펜틸, (메트)아크릴산 사이클로헥실, (메트)아크릴산 사이클로헵틸, 및 (메트)아크릴산 사이클로옥틸을 들 수 있다. 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터로서는, 예를 들면 (메트)아크릴산 아이소보닐을 들 수 있다. 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터로서는, 예를 들면, 다이사이클로펜탄일 (메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일옥시에틸 (메트)아크릴레이트, 트라이사이클로펜탄일 (메트)아크릴레이트, 1-아다만틸 (메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸 (메트)아크릴레이트, 및 2-에틸-2-아다만틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 점착제층(21)에 있어서, 플렉시블 디바이스 용도의 점착제층에 요구되는 연질성과 점착력의 균형을 취하는 관점에서, 바람직하게는, 탄소수 3∼15의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로부터 선택되는 적어도 하나가 이용되고, 보다 바람직하게는, 탄소수 3∼15의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로부터 선택되는, 알킬기의 탄소수가 상대적으로 작은 제1의 (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 알킬기의 탄소수가 상대적으로 큰 제2의 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 병용되고, 더 바람직하게는, 탄소수 4∼8의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 탄소수 9∼13의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 병용되며, 한층 바람직하게는, 탄소수 4∼8의 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 탄소수 9∼13의 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 병용된다.
모노머 성분에 있어서의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 점착제층(21)에 있어서 점착성 등의 기본 특성을 적절히 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량% 이상, 보다 바람직하게는 70질량% 이상, 더 바람직하게는 90질량% 이상이다. 동 비율은, 예를 들면 99질량% 이하이다. 제1 및 제2의 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 병용되는 경우, 모노머 성분에 있어서의 제1의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 점착제층(21)의 연질성과 점착력의 균형의 관점에서, 바람직하게는 40질량% 이상, 보다 바람직하게는 50질량% 이상이고, 또한, 바람직하게는 70질량% 이하, 보다 바람직하게는 60질량% 이하이다. 모노머 성분에 있어서의 제2의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 점착제층(21)의 연질성과 점착력의 균형의 관점에서, 바람직하게는 20질량% 이상, 보다 바람직하게는 30질량% 이상이고, 또한, 바람직하게는 50질량% 이하, 보다 바람직하게는 45질량% 이하이다.
모노머 성분은, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들면, 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 하이드록시기 함유 모노머, 카복시기 함유 모노머, 및 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머로의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다.
하이드록시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 2-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 3-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, 및 (4-하이드록시메틸사이클로헥실)메틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
모노머 성분에 있어서의 하이드록시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 및 점착제층(21)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 1질량% 이상, 더 바람직하게는 2질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(21)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 20질량% 이하, 보다 바람직하게는 10질량% 이하이다.
카복시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 카복시에틸 아크릴레이트, 카복시펜틸 아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 및 아이소크로톤산을 들 수 있다.
모노머 성분에 있어서의 카복시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 점착제층(21)에 있어서의 응집력의 확보, 및 점착제층(21)에 있어서의 대(對)피착체 밀착력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상, 더 바람직하게는 0.8질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 산에 의한 피착체의 부식 리스크의 회피의 관점에서, 바람직하게는 10질량% 이하, 보다 바람직하게는 5질량% 이하이다.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 예를 들면, N-바이닐-2-피롤리돈, N-메틸바이닐피롤리돈, N-바이닐피리딘, N-바이닐피페리돈, N-바이닐피리미딘, N-바이닐피페라진, N-바이닐피라진, N-바이닐피롤, N-바이닐이미다졸, N-바이닐옥사졸, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-바이닐모폴린, N-바이닐-3-모폴린온, N-바이닐-2-카프로락탐, N-바이닐-1,3-옥사진-2-온, N-바이닐-3,5-모폴린다이온, N-바이닐피라졸, N-바이닐아이소옥사졸, N-바이닐싸이아졸, 및 N-바이닐아이소싸이아졸을 들 수 있다.
모노머 성분에 있어서의, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 비율은, 점착제층(21)에 있어서의 응집력의 확보, 및 점착제층(21)에 있어서의 대피착체 밀착력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(21)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
모노머 성분은, 다른 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들면, 산 무수물 모노머, 설폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 사이아노기 함유 모노머, 알콕시기 함유 모노머, 및 방향족 바이닐 화합물을 들 수 있다. 이들 다른 공중합성 모노머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
모노머 성분은, 점착제층(21)에 있어서의 점착력의 확보와 변형 시의 발생 응력의 억제의 양립의 관점에서, 바람직하게는, 제1의 (메트)아크릴산 알킬 에스터(알킬기의 탄소수가 상대적으로 작다)와, 제2의 (메트)아크릴산 알킬 에스터(알킬기의 탄소수가 상대적으로 크다)와, 하이드록시기 함유 모노머와, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 포함한다. 제1의 (메트)아크릴산 알킬 에스터는, 바람직하게는, 탄소수 4∼8의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 4∼8의 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터이며, 더 바람직하게는, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 및 아크릴산 n-뷰틸(BA)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이다. 제2의 (메트)아크릴산 알킬 에스터는, 바람직하게는, 탄소수 9 이상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터이고, 보다 바람직하게는 라우릴 아크릴레이트(LA)이다. 하이드록시기 함유 모노머는, 바람직하게는, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 및 아크릴산 2-하이드록시에틸(2HEA)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이다. 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머는, 바람직하게는 N-바이닐-2-피롤리돈(NVP)이다.
베이스 폴리머는, 바람직하게는, 가교 구조를 갖는다. 베이스 폴리머로의 가교 구조의 도입 방법으로서는, 가교제와 반응 가능한 작용기를 갖는 베이스 폴리머와 가교제를 점착제 조성물에 배합하고, 베이스 폴리머와 가교제를 점착 시트 중에서 반응시키는 방법(제1의 방법), 및 베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분에 가교제로서의 다작용 모노머를 포함시키고, 당해 모노머 성분의 중합에 의해, 폴리머쇄에 분지 구조(가교 구조)가 도입된 베이스 폴리머를 형성하는 방법(제2의 방법)을 들 수 있다. 이들 방법은, 병용되어도 된다.
상기 제1의 방법에서 이용되는 가교제로서는, 예를 들면, 베이스 폴리머에 포함되는 작용기(하이드록시기 및 카복시기 등)와 반응하는 화합물을 들 수 있다. 그와 같은 가교제로서는, 예를 들면, 아이소사이아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 에폭시 가교제, 옥사졸린 가교제, 아지리딘 가교제, 카보다이이미드 가교제, 및 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 가교제로서는, 베이스 폴리머에 있어서의 하이드록시기 및 카복시기와의 반응성이 높아 가교 구조의 도입이 용이한 점에서, 바람직하게는, 아이소사이아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 및 에폭시 가교제가 이용된다.
아이소사이아네이트 가교제로서는, 예를 들면, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 수첨 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 수첨 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 테트라메틸자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 나프탈린 다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인 트라이아이소사이아네이트, 및 폴리메틸렌 폴리페닐 아이소사이아네이트를 들 수 있다. 또한, 아이소사이아네이트 가교제로서는, 이들 아이소사이아네이트의 유도체도 들 수 있다. 당해 아이소사이아네이트 유도체로서는, 예를 들면, 아이소사이아누레이트 변성체 및 폴리올 변성체를 들 수 있다. 아이소사이아네이트 가교제의 시판품으로서는, 예를 들면, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제), 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제), 및 타케네이트 600(1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 미쓰이 화학제)을 들 수 있다.
과산화물 가교제로서는, 다이벤조일 퍼옥사이드, 다이(2-에틸헥실) 퍼옥시다이카보네이트, 다이(4-t-뷰틸사이클로헥실) 퍼옥시다이카보네이트, 다이-sec-뷰틸 퍼옥시다이카보네이트, t-뷰틸 퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시피발레이트, 및 t-뷰틸 퍼옥시피발레이트를 들 수 있다.
에폭시 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로하이드린형의 에폭시 수지, 에틸렌글라이콜 다이글라이시딜 에터, 폴리에틸렌글라이콜 다이글라이시딜 에터, 글리세린 다이글라이시딜 에터, 글리세린 트라이글라이시딜 에터, 1,6-헥세인다이올 글라이시딜 에터, 트라이메틸올프로페인 트라이글라이시딜 에터, 다이글라이시딜아닐린, 다이아민 글라이시딜 아민, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일릴렌 다이아민, 및 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인을 들 수 있다.
아이소사이아네이트 가교제(특히, 2작용의 아이소사이아네이트 가교제) 및 과산화물 가교제는, 점착제층(21)의 유연성의 확보의 관점에서 바람직하다. 아이소사이아네이트 가교제(특히, 3작용의 아이소사이아네이트 가교제)는, 점착제층(21)의 내구성 확보의 관점에서 바람직하다. 베이스 폴리머에 있어서, 2작용 아이소사이아네이트 가교제 및 과산화물 가교제는, 보다 유연한 2차원 가교를 형성하는 데 비해, 3작용 아이소사이아네이트 가교제는, 보다 강고한 3차원 가교를 형성한다. 점착제층(21)의 내구성과 유연성의 양립의 관점에서는, 3작용 아이소사이아네이트 가교제와, 과산화물 가교제 및/또는 2작용 아이소사이아네이트 가교제의 병용이 바람직하다.
제1의 방법에 있어서의 가교제의 배합량은, 점착제층(21)의 응집력을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면 0.01질량부 이상이고, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.1질량부 이상, 더 바람직하게는 0.2질량부 이상이다. 점착제층(21)에 있어서 양호한 택성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 가교제의 배합량은, 예를 들면 5질량부 이하이고, 바람직하게는 3질량부 이하, 보다 바람직하게는 2질량부 이하이다.
상기 제2의 방법에서는, 모노머 성분(단작용 모노머와, 가교 구조를 도입하기 위한 다작용 모노머를 포함한다)은, 한번에 중합시켜도 되고, 다단계로 중합시켜도 된다. 다단계 중합의 방법에서는, 우선, 단작용 모노머를 중합시키고(예비중합), 이에 의해 부분 중합물(저중합도의 중합물과 미반응의 모노머의 혼합물)을 함유하는 프리폴리머 조성물을 조제한다. 다음으로, 프리폴리머 조성물에 가교제로서의 다작용 모노머를 첨가한 후, 부분 중합물과 다작용 모노머를 중합시킨다(본중합).
다작용 모노머로서는, 예를 들면, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 1분자 중에 2개 이상 함유하는 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 다작용 모노머로서는, 활성 에너지선 중합(광중합)에 의해 가교 구조를 도입 가능한 관점에서, 다작용 아크릴레이트가 바람직하다.
다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2작용 (메트)아크릴레이트, 3작용 (메트)아크릴레이트, 및 4작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
2작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 에틸렌글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 글리세린 다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 스테아르산 변성 펜타에리트리톨 다이(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일 다이(메트)아크릴레이트, 다이(메트)아크릴로일아이소사이아누레이트, 및 알킬렌 옥사이드 변성 비스페놀 다이(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
3작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 및 트리스(아크릴로일옥시에틸)아이소사이아누레이트를 들 수 있다.
4작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 다이트라이메틸올프로페인 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 모노하이드록시 펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 및 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
가교제로서의 다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 바람직하게는, 2작용의 (메트)아크릴레이트가 이용되고, 보다 바람직하게는, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트가 이용되고, 더 바람직하게는, 1,6-헥세인다이올 다이메타크릴레이트가 이용된다.
모노머 성분에 있어서의, 제2의 방법에 있어서의 가교제로서의 다작용 모노머의 배합량은, 점착제층(21)의 응집력을 확보하는 관점에서, 단작용 모노머 100질량부에 대해서, 예를 들면 0.01질량부 이상이고, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.07질량부 이상이다. 점착제층(21)에 있어서 양호한 택성을 확보하는 관점에서, 다작용 모노머의 배합량은, 단작용 모노머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 3질량부 이하, 보다 바람직하게는 2질량부 이하, 한층 바람직하게는 1질량부 이하이다.
아크릴 폴리머는, 전술한 모노머 성분을 중합시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들면, 용액 중합, 무용제에서의 광중합(예를 들면 UV 중합), 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있다. 용액 중합의 용매로서는, 예를 들면, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다. 또한, 중합의 개시제로서는, 예를 들면, 열중합 개시제 및 광중합 개시제가 이용된다. 중합 개시제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.08질량부 이상, 더 바람직하게는 0.1질량부 이상이고, 또한, 바람직하게는 1질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5질량부 이하, 더 바람직하게는 0.3질량부 이하이다.
열중합 개시제로서는, 예를 들면, 아조 중합 개시제 및 과산화물 중합 개시제를 들 수 있다. 아조 중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN), 2,2'-아조비스-2-메틸뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산) 다이메틸, 4,4'-아조비스-4-사이아노발레리안산, 아조비스아이소발레로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로페인)다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로페인]다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 및 2,2'-아조비스(N,N'-다이메틸렌아이소뷰틸아미딘)다이하이드로클로라이드를 들 수 있다. 과산화물 중합 개시제로서는, 예를 들면, 다이벤조일 퍼옥사이드, t-뷰틸 퍼말레에이트, 및 과산화 라우로일을 들 수 있다.
광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인 에터계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 설폰일 클로라이드계 광중합 개시제, 광활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 싸이오잔톤계 광중합 개시제, 및 아실포스핀 옥사이드계 광중합 개시제를 들 수 있다.
베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(21)에 있어서의 응집력 확보의 관점에서, 바람직하게는 10만 이상, 보다 바람직하게는 30만 이상, 더 바람직하게는 50만 이상이다. 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(21)의 유연성 확보의 관점에서, 바람직하게는 300만 이하, 보다 바람직하게는 250만 이하, 더 바람직하게는 200만 이하이다. 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래프(GPC)에 의해 측정되고 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들면 -80℃ 이상이다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)에 대해서는, 하기의 Fox의 식에 기초하여 구해지는 유리 전이 온도(이론치)를 이용할 수 있다. Fox의 식은, 폴리머의 유리 전이 온도 Tg와, 당해 폴리머를 구성하는 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다. 하기의 Fox의 식에 있어서, Tg는 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타내고, Wi는 당해 폴리머를 구성하는 모노머 i의 중량 분율을 나타내고, Tgi는 모노머 i로 형성되는 호모폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타낸다. 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는 문헌치를 이용할 수 있다. 예를 들면, 「Polymer Handbook」(제4판, John Wiley & Sons, Inc., 1999년) 및 「신(新)고분자 문고 7 도료용 합성 수지 입문」(기타오카 교조 저, 고분자 간행회, 1995년)에는, 각종 호모폴리머의 유리 전이 온도가 예시되어 있다. 한편, 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는, 일본 특허공개 2007-51271호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 방법에 의해 구하는 것도 가능하다.
Fox의 식 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)]
점착제 조성물은, 베이스 폴리머에 더하여 올리고머를 포함하고 있어도 된다. 베이스 폴리머로서 아크릴 폴리머가 이용되는 경우, 바람직하게는, 올리고머로서 아크릴 올리고머가 이용된다. 또한, 올리고머는, 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
아크릴 올리고머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 당해 모노머 성분은, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들면, 아크릴 폴리머에 관해서 전술한 (메트)아크릴산 알킬 에스터를 들 수 있다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴 폴리머에 관해서 전술한 공중합성 모노머(극성기 함유 모노머 등)를 들 수 있다. 아크릴 올리고머는, 바람직하게는, 알킬기의 탄소수가 3∼8인 (메트)아크릴산 알킬 에스터와 극성기 함유 모노머의 공중합체이다. 당해 (메트)아크릴산 알킬 에스터는, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴산 n-뷰틸, 더 바람직하게는 아크릴산 n-뷰틸이다. 극성기 함유 모노머는, 바람직하게는 카복시기 함유 모노머, 보다 바람직하게는 아크릴산이다. 아크릴 올리고머의 모노머 성분에 있어서의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 바람직하게는 70질량% 이상, 보다 바람직하게는 80질량% 이상, 더 바람직하게는 90질량% 이상이다. 동 비율은, 예를 들면 99질량% 이하이다.
아크릴 올리고머는, 당해 아크릴 올리고머의 모노머 성분을 중합하는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들면, 용액 중합, 무용제에서의 광중합(예를 들면 UV 중합), 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있다. 용액 중합의 용매로서는, 예를 들면, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다. 아크릴 올리고머의 중합에 있어서는, 중합 개시제를 이용해도 되고, 분자량의 조정을 목적으로 해서 연쇄 이동제를 이용해도 된다. 중합의 개시제로서는, 예를 들면, 열중합 개시제 및 광중합 개시제가 이용된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.08질량부 이상이고, 또한, 바람직하게는 1질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.
아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(21)에 있어서의 응집력 확보의 관점에서, 바람직하게는 1000 이상, 보다 바람직하게는 1500 이상, 더 바람직하게는 2000 이상이다. 동 분자량은, 점착제층(21)의 유연성 확보의 관점에서, 바람직하게는 30000 이하, 보다 바람직하게는 10000 이하, 더 바람직하게는 8000 이하이다.
제1 점착제 조성물에 있어서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 점착제층(21)의 접착력을 충분히 높이기 위해서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 10질량부 이상, 보다 바람직하게는 20질량부 이상, 더 바람직하게는 35질량부 이상이다. 한편, 점착제층(21)의 투명성의 확보의 관점에서는, 점착제층(21)에 있어서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 50질량부 이하, 보다 바람직하게는 45질량부 이하이다. 점착제층(21)에 있어서는, 아크릴 올리고머의 함유량이 지나치게 큰 경우, 당해 아크릴 올리고머의 상용성의 저하에 기인하여, 헤이즈가 상승하여 투명성이 저하되는 경향이 있다.
제1 점착제 조성물은, 필요에 따라서 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들면, 실레인 커플링제, 용제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 산화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 계면활성제, 및 대전 방지제를 들 수 있다. 용제로서는, 예를 들면, 아크릴 폴리머 또는 아크릴 올리고머의 중합 시에 필요에 따라서 이용되는 중합 용매, 및 중합 후에 중합 반응 용액에 첨가되는 용제를 들 수 있다. 그와 같은 용제로서는, 예를 들면, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다.
점착제층(21)의 두께는, 광학 부재(11, 12)에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 15μm 이상이다. 점착제층(21)의 두께는, 플렉시블 디바이스의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하, 특히 바람직하게는 50μm 이하이다.
점착제층(21)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더 바람직하게는 1% 이하이다. 점착제층(21)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거해서, 헤이즈미터를 사용하여 측정할 수 있다. 헤이즈미터로서는, 예를 들면, 닛폰 덴쇼쿠 공업사제의 「NDH2000」, 및 무라카미 색채 기술연구소사제의 「HM-150형」을 들 수 있다.
점착제층(21)의 전광선 투과율은, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상이다. 점착제층(21)의 전광선 투과율은, 예를 들면 100% 이하이다. 점착제층(21)의 전광선 투과율은, JIS K 7375(2008년)에 준거해서, 측정할 수 있다.
점착제층(22)은, 제2 점착제 조성물로 형성된 감압 점착제층이다. 점착제층(22)은, 광학 점착제층이다. 제2 점착제 조성물은, 적어도 베이스 폴리머를 함유한다. 제2 점착제 조성물에 함유되는 베이스 폴리머로서는, 예를 들면, 제1 점착제 조성물에 관해서 상기한 베이스 폴리머를 들 수 있다. 제1 점착제 조성물 중의 베이스 폴리머와, 제2 점착제 조성물 중의 베이스 폴리머는, 동일해도 되고, 상이해도 된다. 제2 점착제 조성물은, 베이스 폴리머 이외의 성분을 함유해도 된다. 제2 점착제 조성물에 함유되는 동 성분으로서는, 예를 들면, 제1 점착제 조성물에 관해서 상기한, 베이스 폴리머 이외의 성분을 들 수 있다. 제1 점착제 조성물의 조성과 제2 점착제 조성물의 조성은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.
점착제층(22)의 두께는, 광학 부재(12, 13)에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 15μm 이상이다. 점착제층(22)의 두께는, 플렉시블 디바이스의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하, 특히 바람직하게는 50μm 이하이다.
점착제층(22)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이하이다. 점착제층(22)의 전광선 투과율은, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상이다. 점착제층(22)의 전광선 투과율은, 예를 들면 100% 이하이다.
광학 적층체(X)는, 예를 들면, 다음과 같이 해서 제조할 수 있다.
우선, 광학 부재(11, 12, 13)와, 점착제층(21, 22)을 준비한다.
점착제층(21)은, 예를 들면, 박리 라이너 부착 점착제층(21)으로서 준비할 수 있다. 박리 라이너 부착 점착제층(21)은, 박리 라이너 상에 제1 점착제 조성물(바니시)을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조하는 것에 의해 형성할 수 있다. 제1 점착제 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 및 다이 코팅을 들 수 있다(다른 점착제 조성물의 후기하는 도포의 방법에 대해서도 마찬가지이다). 박리 라이너 상의 점착제층(21) 상에 추가로 다른 박리 라이너를 적층해도 된다.
점착제층(22)은, 예를 들면, 박리 라이너 부착 점착제층(22)으로서 준비할 수 있다. 박리 라이너 부착 점착제층(22)은, 박리 라이너 상에 제2 점착제 조성물(바니시)을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조하는 것에 의해 형성할 수 있다. 박리 라이너 부착 점착제층(22) 상에 추가로 다른 박리 라이너를 적층해도 된다.
다음으로, 광학 부재(11)와 광학 부재(12)를 점착제층(21)에 의해 접합한다. 예를 들면, 우선, 광학 부재(12)의 두께 방향 일방면(도 1 중 하면)에 점착제층(21)을 첩합(貼合)한다. 첩합 전에, 광학 부재(12)의 표면을 코로나 처리 또는 플라즈마 처리하는 것이 바람직하고, 추가로 점착제층(21)의 표면도 코로나 처리 또는 플라즈마 처리하는 것이 보다 바람직하다(광학 부재와 점착제층 사이의 후술하는 첩합에 있어서도 마찬가지이다). 다음으로, 광학 부재(12) 상의 점착제층(21)으로부터 박리 라이너를 박리한다. 다음으로, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층(21)의 노출면에 광학 부재(11)를 첩합한다.
다음으로, 광학 부재(12)와 광학 부재(13)를 점착제층(22)에 의해 접합한다. 예를 들면, 우선, 광학 부재(12)의 두께 방향 타방면(도 1 중 상면)에 점착제층(22)을 첩합한다. 다음으로, 광학 부재(12) 상의 점착제층(22)으로부터 박리 라이너를 박리한다. 다음으로, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층(22)의 노출면에 광학 부재(13)를 첩합한다.
이상과 같이 해서, 광학 적층체(X)를 제조할 수 있다.
실시예
본 발명에 대하여, 이하에 실시예를 나타내어 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은, 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 이하에 기재되어 있는 배합량(함유량), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 전술한 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합량(함유량), 물성치, 파라미터 등의 상한(「이하」 또는 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한(「이상」 또는 「초과」로서 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다.
〔실시예 1〕
<베이스 폴리머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 53질량부와, 라우릴 아크릴레이트(LA) 40질량부와, N-바이닐-2-피롤리돈(NVP) 5질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 2질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸을 포함하는 제1 혼합물(고형분 농도 47질량%)을, 56℃에서 6시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이에 의해, 아크릴 폴리머를 함유하는 제1 폴리머 용액을 얻었다. 제1 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 약 180만이었다. 제1 혼합물의 고형분 농도는, 용매의 양의 조정에 의해 조정했다.
<점착제 조성물의 조제>
제1 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액의 아크릴 폴리머(베이스 폴리머) 100질량부당, 제1의 가교제(품명 「타케네이트 D110N」, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제) 0.03질량부와, 제2의 가교제(품명 「나이퍼 BMT」, 다이벤조일 퍼옥사이드, 니혼 유지사제) 0.4질량부를 가하고 혼합하여, 제1 점착제 조성물을 조제했다.
<점착제층의 형성>
편면에 박리 처리면을 갖는 박리 라이너(품명 「다이아포일 MRF#38」, 두께 38μm, 미쓰비시 케미컬사제)의 박리 처리면 상에, 제1 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성했다. 다음으로, 박리 라이너 상의 도막을, 100℃에서 1분간의 가열과 그 후의 150℃에서 3분간의 가열에 의해 건조하여, 두께 50μm의 투명한 점착제층(점착제층 A1)을 형성했다. 이상과 같이 해서, 박리 라이너 부착 제1 점착 시트(두께 50μm)를 2매 제작했다.
<광학 적층체의 제작>
우선, 편면에 액정 위상차층을 갖는 편광 필름(두께 32μm)의 양면을, 플라즈마 처리했다(동 편광 필름에 있어서의 액정 위상차층측의 면을 제1면으로 하고, 그 반대측의 면을 제2면으로 한다). 각 플라즈마 처리에서는, 플라즈마 조사 장치(품명 「AP-TO5」, 세키스이 공업사제)를 사용하고, 전압을 160V로 하고, 주파수를 10kHz로 하고, 처리 속도를 5000mm/분으로 했다(후기하는 플라즈마 처리에 있어서도 마찬가지이다). 다음으로, 2매의 제1 점착 시트의 노출면과, 편광 필름의 제1면 및 제2면을 첩합했다. 이 첩합에서는, 25℃의 환경하에 있어서, 2kg의 롤러를 1왕복시키는 작업에 의해, 박리 라이너 부착 제1 점착 시트와 편광 필름을 압착시켰다(후기하는 첩합에 있어서도 마찬가지이다). 다음으로, 편광 필름의 제1면 상의 제1 점착 시트로부터 박리 라이너를 박리했다. 다음으로, 이 박리에 의해 노출된 제1 점착 시트의 노출면을 플라즈마 처리했다. 한편, 제3 광학 부재로서의 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(품명 「다이아포일」, 두께 125μm, 미쓰비시 케미컬사제)도 플라즈마 처리했다. 그리고, 편광 필름의 제1면 상의 제1 점착 시트의 노출면과, PET 필름의 플라즈마 처리면을 첩합했다. 다음으로, 편광 필름의 제2면 상의 제1 점착 시트로부터 박리 라이너를 박리했다. 다음으로, 이 박리에 의해 노출된 제1 점착 시트의 노출면을 플라즈마 처리했다. 한편, 제1 광학 부재로서의 폴리이미드(PI) 필름(품명 「카프톤 300V」, 두께 75μm, 도레이 듀폰사제)도 플라즈마 처리했다. 그리고, 편광 필름의 제2면 상의 제1 점착 시트의 노출면과, 폴리이미드 필름의 플라즈마 처리면을 첩합했다.
이상과 같이 해서, 실시예 1의 광학 적층체를 제작했다. 실시예 1의 광학 적층체는, 제1 광학 부재로서의 PI 필름(두께 75μm)과, 제1 점착제층으로서의 점착제층 A1(두께 50μm)과, 제2 광학 부재로서의 편광 필름(두께 32μm)과, 제2 점착제층으로서의 점착제층 A1(두께 50μm)과, 제3 광학 부재로서의 PET 필름(두께 125μm)을, 두께 방향으로 순서대로 구비한다. 이 적층 구조에 있어서의 PET 필름은, 전술한 필름상 화소 패널을 모방한 요소이다(후기하는 실시예 및 비교예에 있어서도 마찬가지이다).
〔실시예 2〕
<베이스 폴리머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 n-뷰틸(BA) 98질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 2질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸을 포함하는 제2 혼합물(고형분 농도 47질량%)을, 56℃에서 6시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이에 의해, 아크릴 폴리머를 함유하는 제2 폴리머 용액을 얻었다. 제2 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 약 170만이었다. 제2 혼합물의 고형분 농도는, 용매의 양의 조정에 의해 조정했다.
<올리고머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 n-뷰틸(BA) 95질량부와, 아크릴산(AA) 5질량부와, 2-머캅토에탄올 3질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 톨루엔을 포함하는 제3 혼합물(고형분 농도 40질량%)을, 70℃에서 8시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이에 의해, 중량 평균 분자량 5000의 올리고머를 함유하는 올리고머 용액을 얻었다. 제3 혼합물의 고형분 농도는, 용매의 양의 조정에 의해 조정했다.
<점착제 조성물의 조제>
제2 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액의 아크릴 폴리머(베이스 폴리머) 100질량부당, 제1의 가교제(품명 「타케네이트 D110N」, 미쓰이 화학제) 0.03질량부와, 제2의 가교제(품명 「나이퍼 BMT」, 니혼 유지사제) 1.5질량부와, 상기 올리고머 40질량부를 가하고 혼합하여, 제2 점착제 조성물을 조제했다.
<점착제층의 형성>
제1 점착제 조성물 대신에 제2 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 1에 있어서의 박리 라이너 부착 제1 점착 시트와 마찬가지로 해서, 박리 라이너 부착 제2 점착 시트(두께 50μm의 점착제층 A2)를 제작했다.
<광학 적층체의 제작>
박리 라이너 부착 제1 점착 시트 대신에 박리 라이너 부착 제2 점착 시트를 이용한 것 이외에는, 실시예 1의 광학 적층체와 마찬가지로 해서, 실시예 2의 광학 적층체를 제작했다. 실시예 2의 광학 적층체는, 제1 광학 부재로서의 PI 필름(두께 75μm)과, 제1 점착제층으로서의 점착제층 A2(두께 50μm)와, 제2 광학 부재로서의 편광 필름(두께 32μm)과, 제2 점착제층으로서의 점착제층 A2(두께 50μm)와, 제3 광학 부재로서의 PET 필름(두께 125μm)을, 두께 방향으로 순서대로 구비한다.
〔비교예 1〕
<점착제 조성물의 조제>
제2 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액의 아크릴 폴리머(베이스 폴리머) 100질량부당, 제1의 가교제(품명 「타케네이트 D110N」, 미쓰이 화학제) 0.2질량부와, 제2의 가교제(품명 「나이퍼 BMT」, 니혼 유지사제) 0.2질량부를 가하고 혼합하여, 제3 점착제 조성물을 조제했다.
<점착제층의 형성>
제1 점착제 조성물 대신에 제3 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 1에 있어서의 박리 라이너 부착 제1 점착 시트와 마찬가지로 해서, 박리 라이너 부착 제3 점착 시트(두께 50μm의 점착제층 A3)를 제작했다.
<광학 적층체의 제작>
박리 라이너 부착 제1 점착 시트 대신에 박리 라이너 부착 제3 점착 시트를 이용한 것 이외에는, 실시예 1의 광학 적층체와 마찬가지로 해서, 비교예 1의 광학 적층체를 제작했다. 비교예 1의 광학 적층체는, 제1 광학 부재로서의 PI 필름(두께 75μm)과, 제1 점착제층으로서의 점착제층 A3(두께 50μm)과, 제2 광학 부재로서의 편광 필름(두께 32μm)과, 제2 점착제층으로서의 점착제층 A3(두께 50μm)과, 제3 광학 부재로서의 PET 필름(두께 125μm)을, 두께 방향으로 순서대로 구비한다.
<반복 굴곡 시험, 두께 측정, 신뢰성 평가>
실시예 1, 2 및 비교예 1의 각 광학 적층체에 대하여, 이하와 같이, 반복 굴곡 시험, 두께 측정, 및 신뢰성 평가를 실시했다.
우선, 광학 적층체로부터 시험편(폭 25mm×길이 100mm)을 잘라냈다. 실시예 1, 2 및 비교예 1의 각 광학 적층체에 대하여, 5매의 시험편을 준비했다. 다음으로, 시험편에 있어서, 반복 굴곡 시험에서의 굴곡이 예정되는 부분의 두께를, 주사 전자 현미경(품명 「JSM-7100F」, 니혼 덴시사제)에 의해 측정했다. 그 두께는 균일(322μm)했다(반복 굴곡 시험 전의 후기하는 시험편에 있어서도 마찬가지이다). 다음으로, 도 2A에 나타내는 바와 같이, 시험편(S)의 양 단부를, U자 신축 시험기(유아사 시스템 기기제)의 파지부(C1, C2)에 고정했다. 다음으로, 온도 25℃ 및 상대습도 55%의 환경하에 있어서, 동 시험기에 의해, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 10000의 조건(제1 굴곡 조건)에서, 반복 굴곡 시험을 실시했다(제1 굴곡 시험). 반복 굴곡 시험에서는, 제1 과정과 제2 과정을 포함하는 일련의 과정을 1사이클(1왕복)로 하고, 이 1사이클을 복수회(굴곡 횟수) 반복했다. 제1 과정에서는, 시험편(S)을, PI 필름측을 굴곡의 내측으로 해서, 플랫 형상(도 2A)으로부터 U자 형상(도 2B)으로 만곡시켰다. 제2 과정에서는, 제1 과정 후에 시험편(S)을 플랫 형상(도 2A)으로 되돌렸다.
반복 굴곡 시험 후, 시험편(S)에 있어서 반복 굴곡된 피굴곡 부분(P)(도 2A 및 도 2B에서는 크로스 해칭을 붙임)에 있어서의 최소 두께와 최대 두께를, 주사 전자 현미경(품명 「JSM-7100F」, 니혼 덴시사제)에 의해 측정했다(두께 측정). 그 결과를, 시험 후의 최소 두께 h11 및 최대 두께 h12로서, 표 1에 나타낸다. 최소 두께 h11에 대한 최대 두께 h12의 비율 R1(제1 비율)도 표 1에 나타낸다.
또한, 시험편(S)의 피굴곡 부분(P)의 외관을 관찰했다. 그리고, 광학 적층체에 있어서의 광학 부재간의 접합 신뢰성에 대하여, 5매의 시험편 전부에 있어서, 피굴곡 부분(P)의 표면이 평탄하고 겉보기에 변화가 없는 경우를 "우수"라고 평가하고, 3매 또는 4매의 시험편에 있어서, 피굴곡 부분(P)의 표면이 평탄하고 겉보기에 변화가 없는 경우(즉, 1매 또는 2매의 시험편에 있어서, 피굴곡 부분(P)의 표면에 근소하게 요철이 확인된 경우)를 "양호"라고 평가하고, 5매의 시험편 전부에 있어서, 피굴곡 부분(P)의 표면에 요철이 확인된 경우를 "불량"이라고 평가했다(신뢰성 평가). 그 결과를 표 1에 나타낸다.
광학 적층체로부터 잘라낸 다른 시험편(폭 25mm×길이 100mm)에 대하여, 반복 굴곡 시험으로서 제1 굴곡 시험 대신에 제2 굴곡 시험을 실시한 것 이외에는, 전술한 것과 마찬가지의 반복 굴곡 시험, 두께 측정 및 신뢰성 평가를 실시했다. 제2 굴곡 시험은, 온도 85℃ 및 드라이의 환경하에 있어서, 상기 제1 굴곡 조건에서 실시했다. 시험 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께 h21과 최대 두께 h22, 최소 두께 h21에 대한 최대 두께 h22의 비율 R2(제2 비율), 및 상기 비율 R1에 대한 비율 R2의 비율(R2/R1)을 표 1에 나타낸다. 또한, 신뢰성 평가의 결과도 표 1에 나타낸다.
광학 적층체로부터 잘라낸 다른 시험편(폭 25mm×길이 100mm)에 대하여, 반복 굴곡 시험으로서 제1 굴곡 시험 대신에 제3 굴곡 시험을 실시한 것 이외에는, 전술한 것과 마찬가지의 반복 굴곡 시험, 두께 측정 및 신뢰성 평가를 실시했다. 제3 굴곡 시험은, 온도 25℃ 및 상대습도 55%의 환경하에 있어서, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 50000의 조건(제2 굴곡 조건)에서 실시했다. 시험 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께 h31과 최대 두께 h32, 및 최소 두께 h31에 대한 최대 두께 h32의 비율 R3(제3 비율)을 표 1에 나타낸다. 또한, 신뢰성 평가의 결과도 표 1에 나타낸다.
광학 적층체로부터 잘라낸 다른 시험편(폭 25mm×길이 100mm)에 대하여, 반복 굴곡 시험으로서 제1 굴곡 시험 대신에 제4 굴곡 시험을 실시한 것 이외에는, 전술한 것과 마찬가지의 반복 굴곡 시험, 두께 측정 및 신뢰성 평가를 실시했다. 제4 굴곡 시험은, 온도 85℃ 및 드라이의 환경하에 있어서, 상기 제2 굴곡 조건에서 실시했다. 시험 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께 h41과 최대 두께 h42, 최소 두께 h41에 대한 최대 두께 h42의 비율 R4(제4 비율), 및 상기 비율 R3에 대한 비율 R4의 비율(R4/R3)을 표 1에 나타낸다. 또한, 신뢰성 평가의 결과도 표 1에 나타낸다.
광학 적층체로부터 잘라낸 다른 시험편(폭 25mm×길이 100mm)에 대하여, 반복 굴곡 시험으로서 제1 굴곡 시험 대신에 제5 굴곡 시험을 실시한 것 이외에는, 전술한 것과 마찬가지의 반복 굴곡 시험, 두께 측정 및 신뢰성 평가를 실시했다. 제5 굴곡 시험은, 온도 25℃ 및 상대습도 55%의 환경하에 있어서, 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 3mm, 굴곡 속도 60왕복/분, 및 굴곡 횟수 50000의 조건(제3 굴곡 조건)에서 실시했다. 시험 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께 h51과 최대 두께 h52, 및 최소 두께 h51에 대한 최대 두께 h52의 비율 R5(제5 비율)를 표 1에 나타낸다. 또한, 신뢰성 평가의 결과도 표 1에 나타낸다.
광학 적층체로부터 잘라낸 다른 시험편(폭 25mm×길이 100mm)에 대하여, 반복 굴곡 시험으로서 제1 굴곡 시험 대신에 제6 굴곡 시험을 실시한 것 이외에는, 전술한 것과 마찬가지의 반복 굴곡 시험, 두께 측정 및 신뢰성 평가를 실시했다. 제6 굴곡 시험은, 온도 85℃ 및 드라이의 환경하에 있어서, 상기 제3 굴곡 조건에서 실시했다. 시험 후의 피굴곡 부분(P)에 있어서의 최소 두께 h61과 최대 두께 h62, 최소 두께 h61에 대한 최대 두께 h62의 비율 R6(제6 비율), 및 상기 비율 R5에 대한 비율 R6의 비율(R6/R5)을 표 1에 나타낸다. 또한, 신뢰성 평가의 결과도 표 1에 나타낸다.
Figure pat00001
X: 광학 적층체
11: 광학 부재(제1 광학 부재)
12: 광학 부재(제2 광학 부재)
13: 광학 부재(제3 광학 부재)
21: 점착제층(제1 점착제층)
22: 점착제층(제2 점착제층)
H: 두께 방향

Claims (9)

  1. 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 제2 광학 부재와, 제2 점착제층과, 제3 광학 부재를 두께 방향으로 순서대로 구비하고, 상기 제1 및 제2 광학 부재간이 상기 제1 점착제층에 의해 접합되고, 상기 제2 및 제3 광학 부재간이 상기 제2 점착제층에 의해 접합되어 있는 광학 적층체로서,
    굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 10000의 제1 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제1 비율이 1.2 이하인, 광학 적층체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제2 비율이 1.5 이하인, 광학 적층체.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1 비율에 대한 상기 제2 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 광학 적층체.
  4. 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 4mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 50000의 제2 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제3 비율이 1.3 이하인, 광학 적층체.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제2 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제4 비율이 1.6 이하인, 광학 적층체.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제3 비율에 대한 상기 제4 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 광학 적층체.
  7. 굴곡 각도 180°, 굴곡 외경 3mm, 굴곡 속도 60왕복/분 및 굴곡 횟수 50000의 제3 굴곡 조건에 의한 25℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제5 비율이 1.4 이하인, 광학 적층체.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제3 굴곡 조건에 의한 85℃에서의 반복 굴곡 시험 후, 당해 시험에서 반복 굴곡된 부분에 있어서의 최소 두께에 대한 최대 두께의 제6 비율이 1.7 이하인, 광학 적층체.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제5 비율에 대한 상기 제6 비율의 비율이 0.95 이상 1.3 이하인, 광학 적층체.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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