KR20230092562A

KR20230092562A - Polishing device of electrode

Info

Publication number: KR20230092562A
Application number: KR1020210182069A
Authority: KR
Inventors: 허광옥; 한상빈
Original assignee: 주식회사 포스코
Priority date: 2021-12-17
Filing date: 2021-12-17
Publication date: 2023-06-26

Abstract

본 발명은 전극 연마 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르면, 전극 연마 장치는, 베이스; 상기 베이스의 상부에 배치되는 안착판; 상기 안착판의 상부에 배치되는 제1 조립대; 상기 제1 조립대와 이격되도록 상기 안착판의 상부에 배치되는 제2 조립대; 상기 제1 조립대 및 상기 제2 조립대 사이에 결합되고, 전극을 연마하는 연마석; 및 상기 연마석을 회전시키도록 구동되는 모터를 포함할 수 있다.The present invention relates to an electrode polishing apparatus, and according to one aspect of the present invention, an electrode polishing apparatus includes a base; a seating plate disposed above the base; a first assembling table disposed above the seating plate; a second assembly stand disposed above the seating plate to be spaced apart from the first assembly stand; a grinding stone coupled between the first assembly table and the second assembly table and polishing an electrode; and a motor driven to rotate the grinding stone.

Description

Electrode polishing device {POLISHING DEVICE OF ELECTRODE}

본 발명은 전극 연마 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 냉간압연으로 생산되는 강판의 연속 압연작업을 위해 강판을 서로 연결하기 위해 용접에 사용되는 전극을 연마하는 전극 연마 장치에 대한 발명이다.The present invention relates to an electrode polishing apparatus, and more particularly, to an electrode polishing apparatus for polishing an electrode used for welding to connect steel sheets to each other for a continuous rolling operation of steel sheets produced by cold rolling.

강판을 일정 시간 동안 연속으로 용접을 진행하면 전극이 마모되고, 또한, 용융 시 발생하는 이물이 전극에 붙어 전류가 잘 흐르지 않아 용접 품질이 저하되는 문제가 발생한다. 따라서 전극의 끝단을 연마할 필요가 있다.When the steel sheet is continuously welded for a certain period of time, the electrode wears out, and foreign matter generated during melting sticks to the electrode and current does not flow well, resulting in deterioration in welding quality. Therefore, it is necessary to polish the tip of the electrode.

종래에 전극의 연마 작업은 도 1에 도시된 바와 같이, 전극 연마 장치(10)를 이용한다. 종래의 전극 연마 장치(10)는 베이스(11), 이동기(12), 연마석(15) 및 모터(19)를 포함한다. 이러한 전극 연마 장치(!0)는 고정축에 조립된 연마석(15)을 모터(19)의 동력으로 회전시켜 전극(21)과 접촉하면서 전극(21)의 끝단을 연마한다.As shown in FIG. 1 , an electrode polishing device 10 is conventionally used to polish an electrode. A conventional electrode polishing device 10 includes a base 11, a mover 12, a grinding stone 15 and a motor 19. The electrode polishing device !0 polishes the end of the electrode 21 while contacting the electrode 21 by rotating the polishing stone 15 assembled on the fixed shaft with the power of the motor 19.

이때, 연마석(15)과 전극(21)이 접촉될 때 고정축이 떨리거나 휘는 현상이 발생하여 전극(21)의 끝단에 경사면이 형성되고, 이렇게 전극(21)의 끝단이 경사면이 형성되면 용접이 원활하게 이루어지지 않아 작업 중에 강판이 장력을 견디지 못하여 용접부(23)가 파단되는 사고가 발생할 수 있다.At this time, when the abrasive stone 15 and the electrode 21 come into contact, the fixing shaft shakes or bends, so that an inclined surface is formed at the end of the electrode 21, and when the inclined surface is formed at the end of the electrode 21, welding is performed. If this is not done smoothly, an accident may occur in which the welded portion 23 is broken because the steel sheet cannot withstand the tension during operation.

또한, 종래의 용접을 위한 전극(21)의 전면 형상은 끝단이 편평하게 가공됨에 따라 도 2에 도시된 바와 같이, 소재부(24)와 면 접촉이 이루어져 전류가 한곳에 집중되지 않고 분산되는 현상이 발생하고, 전류가 낭비되고, 또한, 용접이 완전하게 이루어지지 못하는 문제가 있다.In addition, as the front end of the electrode 21 for conventional welding is processed flatly, as shown in FIG. 2, surface contact is made with the material part 24, so that the current is not concentrated in one place but dispersed. occurs, current is wasted, and welding is not completely performed.

대한민국 공개특허 제10-2003-0018340호 (2003.03.06.)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2003-0018340 (2003.03.06.) 대한민국 공개특허 제10-2009-0039994호 (2009.04.23.)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2009-0039994 (2009.04.23.) 대한민국 등록특허 제10-1419442호 (2014.07.08)Republic of Korea Patent No. 10-1419442 (2014.07.08)

본 발명의 실시예들은 상기와 같은 배경에서 발명된 것으로서, 용접 시 마모되는 전극의 끝단을 정밀하게 연마하여 재사용할 수 있는 전극 연마 장치를 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention have been invented in the above background, to provide an electrode polishing device that can be reused by precisely polishing the tip of an electrode worn during welding.

본 발명의 일 측면에 따르면, 전극 연마 장치는, 베이스; 상기 베이스의 상부에 배치되는 안착판; 상기 안착판의 상부에 배치되는 제1 조립대; 상기 제1 조립대와 이격되도록 상기 안착판의 상부에 배치되는 제2 조립대; 상기 제1 조립대 및 상기 제2 조립대 사이에 결합되고, 전극을 연마하는 연마석; 및 상기 연마석을 회전시키도록 구동되는 모터를 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, an electrode polishing apparatus includes a base; a seating plate disposed above the base; a first assembling table disposed above the seating plate; a second assembly stand disposed above the seating plate to be spaced apart from the first assembly stand; a grinding stone coupled between the first assembly table and the second assembly table and polishing an electrode; and a motor driven to rotate the grinding stone.

상기 안착판에는 하부에 소정의 길이를 갖는 하나 이상의 가이드부가 배치되고, 상기 베이스에는 상기 하나 이상의 가이드부가 삽입되는 하나 이상의 베이스 홈이 형성될 수 있다.One or more guide parts having a predetermined length may be disposed at a lower portion of the seating plate, and one or more base grooves into which the one or more guide parts are inserted may be formed in the base.

상기 베이스의 상부에 배치되고, 상기 안착판을 상하 방향으로 이동시키는 제1 이동기를 더 포함할 수 있다.It is disposed above the base and may further include a first mover for moving the seating plate in a vertical direction.

상기 안착판의 상부에 배치되고, 상기 연마석의 표면에 공기를 공급하는 제거기를 더 포함할 수 있다.It may further include an eliminator disposed on the seating plate and supplying air to the surface of the grinding stone.

상기 안착홈에 설치되고, 상기 제거기가 상기 연마석에 인접하게 이동시키기는 제2 이동기를 더 포함할 수 있다.A second mover installed in the seating groove and moving the remover adjacent to the grinding stone may be further included.

상기 제2 조립대가 상기 안착판에서 수평 방향으로 이동시키는 제3 이동기를 더 포함할 수 있다.The second assembly stand may further include a third mover for moving in a horizontal direction on the seating plate.

상기 안착판의 상면에는 상기 제2 조립대가 이동되는 것을 가이드하기 위한 안착홈이 형성될 수 있다.A seating groove for guiding movement of the second assembly table may be formed on an upper surface of the seating plate.

상기 제2 조립대에 배치되고, 상기 연마기가 삽입되어 결합되는 키이부를 더 포함할 수 있다.The second assembly table may further include a key portion into which the polishing machine is inserted and coupled.

상기 제2 조립대에 결합되고, 상기 연마석에 의해 연마되는 상기 전극의 형상을 감시하기 위한 감지기를 더 포함할 수 있다.A sensor coupled to the second assembly table and monitoring a shape of the electrode polished by the grinding stone may be further included.

상기 감지기에 결합되고, 상기 전극을 촬영하는 카메라를 더 포함할 수 있다.Coupled to the detector, a camera for photographing the electrode may be further included.

상기 감지기는 상기 전극의 일면을 감싸도록 음각의 곡면을 가지고, 상기 카메라는 상기 전극의 끝단을 촬영하도록 상기 감지기의 음각의 내면에 배치될 수 있다.The sensor may have an intaglio curved surface to surround one surface of the electrode, and the camera may be disposed on an inner surface of the intaglio of the sensor to photograph an end of the electrode.

상기 제2 조립대와 결합되고, 상기 감지기를 지지하는 고정대를 더 포함할 수 있다.A fixing table coupled to the second assembly table and supporting the sensor may be further included.

상기 연마기는 상기 전극과 접촉되어 상기 전극을 연마하는 외주면 형상이 음각의 곡면 형상을 가질 수 있다.The polishing machine may have an intaglio curved shape on an outer circumferential surface for polishing the electrode in contact with the electrode.

상기 제1 조립대에 배치되고, 상기 모터의 회전력을 상기 연마석에 전달하도록 상기 연마석과 결합되는 회전 결합부를 더 포함할 수 있다.It is disposed on the first assembly table, and may further include a rotation coupling part coupled to the grinding stone to transfer the rotational force of the motor to the grinding stone.

본 발명의 일 실시예는, 강판 용접에 사용되는 전극의 형상을 최적화할 수 있고, 용접 시 마모되는 전극의 끝단을 정밀하게 연마할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the shape of an electrode used for welding a steel plate can be optimized, and the end of an electrode worn during welding can be precisely polished.

또한, 연마기를 제1 조립대 및 제2 조립대에 걸쳐 배치함에 따라 연마석이 휘거나 위치가 변형되는 것을 방지할 수 있으며, 연마석을 쉽게 교체할 수 있는 효과가 있다.In addition, as the polishing machine is disposed across the first assembly table and the second assembly table, it is possible to prevent the grinding stone from being bent or deformed, and there is an effect that the grinding stone can be easily replaced.

도 1은 종래의 전극 연마 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 종래의 전극 연마 장치로 연마한 전극에 전류가 흐르는 것을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치를 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 A 영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치로 연마한 전극에 전류가 흐르는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치에서 연마석을 교체하기 위해 조립대가 이동된 상태를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치의 조립대에 장착된 회전 결합부의 형상을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치와 종래의 전극 연마 장치의 용접 범위를 비교한 그래프이다.1 is a view showing a conventional electrode polishing apparatus.
2 is a diagram showing that current flows through an electrode polished by a conventional electrode polishing apparatus.
3 is a view showing an electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged view of area A of FIG. 3 .
5 is a view for explaining that current flows through an electrode polished by an electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a state in which an assembly table is moved to replace a polishing stone in the electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing the shape of a rotation coupling unit mounted on an assembly table of an electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
8 is a view showing an electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
9 is a graph comparing welding ranges of an electrode polishing apparatus according to an embodiment of the present invention and a conventional electrode polishing apparatus.

이하에서는 본 발명의 실시예들에 대해 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에 소개되는 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있기 위한 예로서 제공되는 것이다. 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 도면에서 생략하였으며 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments introduced below are provided as examples so that the spirit of the present invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art to which the present invention belongs. The present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted from the drawings, and in the drawings, the width, length, thickness, etc. of components may be exaggerated for convenience. Like reference numbers indicate like elements throughout the specification.

도 3 내지 도 9의 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치(100)에 대해 설며한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 연마 장치(100)는, 베이스(110), 안착판(120), 제거기(130), 제1 조립대(142), 제2 조립대(144), 연마석(150), 고정대(160), 검사기(170), 카메라(180) 및 모터(190)를 포함한다.An electrode polishing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings of FIGS. 3 to 9 . The electrode polishing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a base 110, a seating plate 120, a remover 130, a first assembly table 142, a second assembly table 144, a grinding stone ( 150), a fixture 160, a tester 170, a camera 180, and a motor 190.

베이스(110)는 전극 연마 장치(100)를 지지하고, 소정의 크기를 갖는 상면을 가질 수 있다. 이러한 베이스(110)에는 수직 방향으로 소정의 깊이를 갖는 베이스 홈(112)이 형성될 수 있다. 베이스 홈(112)은 도 3에 도시된 바와 같이, 두 개가 형성될 수 있다.The base 110 supports the electrode polishing apparatus 100 and may have an upper surface having a predetermined size. A base groove 112 having a predetermined depth in a vertical direction may be formed in the base 110. As shown in FIG. 3 , two base grooves 112 may be formed.

안착판(120)은 베이스(110)의 상부에 배치되고, 베이스(110)와 소정의 간격이 이겨된 상태로 배치될 수 있다. 안착판(120)은 상부에 제거기(130), 제1 조립대(142) 및 제2 조립대(144)가 배치되고, 제1 조립대(142) 및 제2 조립대(144)를 지지한다. 이를 위해 안착판(120)은 소정의 넓이를 가질 수 있다.The seating plate 120 is disposed above the base 110, and may be disposed in a state where a predetermined distance from the base 110 is overcome. The mounting plate 120 has a remover 130, a first assembly stand 142 and a second assembly stand 144 disposed thereon, and supports the first assembly stand 142 and the second assembly stand 144. . To this end, the seating plate 120 may have a predetermined width.

안착판(120)의 하부에 제1 이동기(122)가 배치된다. 제1 이동기(122)는 안착판(120)과 베이스(110)와의 거리를 이격시킬 수 있게 동작할 수 있다. 이러한 제1 이동기(122)는 유압에 의해 동작될 수 있으며, 이를 위해 실린더가 포함될 수 있다.The first mover 122 is disposed below the seating plate 120 . The first mover 122 may operate to separate a distance between the seating plate 120 and the base 110 . The first mover 122 may be operated by hydraulic pressure, and a cylinder may be included for this purpose.

또한, 안착판(120)의 하부에 가이드부(124)가 배치될 수 있다. 가이드부(124)는 수직 방향으로 소정의 길이를 가지며, 상단이 안착판(120)의 하면에 결합되고, 하단이 베이스(110)의 베이스 홈(112)이 삽입된 상태로 배치될 수 있다. 따라서 제1 이동기(122)의 동작으로 안착판(120)이 베이스(110)에서 상하 방향으로 이동될 때, 가이드부(124)에 의해 안착판(120)이 틸팅되는 것을 방지할 수 있다. 베이스(110)에 베이스 홈(112)이 두 개가 형성된 것과 같이, 가이드부(124)는 두 개가 구비될 수 있다.In addition, a guide unit 124 may be disposed under the seating plate 120 . Guide portion 124 has a predetermined length in the vertical direction, the upper end coupled to the lower surface of the seating plate 120, the lower end may be disposed in a state in which the base groove 112 of the base 110 is inserted. Therefore, when the seating plate 120 is moved vertically in the base 110 by the operation of the first mover 122 , it is possible to prevent the seating plate 120 from being tilted by the guide part 124 . As two base grooves 112 are formed in the base 110, two guide parts 124 may be provided.

그리고 안착판(120)의 상면에 소정의 길이 및 소정의 깊이를 갖는 이동 홈(126)이 형성될 수 있다. 이동 홈(126)은 제2 조립대(144)가 안착판(120) 상에서 수평 방향으로 이동될 때, 제2 조립대(144)의 이동을 가이드할 수 있다.In addition, a moving groove 126 having a predetermined length and a predetermined depth may be formed on the upper surface of the seating plate 120 . The moving groove 126 may guide the movement of the second assembly table 144 when the second assembly table 144 moves in a horizontal direction on the seating plate 120 .

제거기(130)는 안착판(120)의 상부에 배치되고, 외부에서 공급되는 공기를 연마석(150)에 공급할 수 있다. 이를 위해 제거기(130)에는 복수의 에어홀이 형성될 수 있으며, 외부에 배치된 에어분사기(미도시)로부터 공기를 공급받을 수 있다. 따라서 제거기(130)는 연마석(150)에 인접하게 위치하여 연마석(150)에 공기를 공급하여 연마석(150)의 표면에 부착된 이물질을 제거할 수 있다.The remover 130 may be disposed above the seating plate 120 and supply air supplied from the outside to the grinding stone 150 . To this end, a plurality of air holes may be formed in the remover 130, and air may be supplied from an air sprayer (not shown) disposed outside. Therefore, the remover 130 may be located adjacent to the grinding stone 150 and supply air to the grinding stone 150 to remove foreign substances attached to the surface of the grinding stone 150 .

이러한 제거기(130)가 연마석(150)이 인접하게 배치될 수 있게 제거기(130)의 하부에 제2 이동기(132)가 배치될 수 있다. 제2 이동기(132)는 제거기(130)가 상하 방향으로 이동되도록 동작할 수 있다. 제2 이동기(132)는 유압에 의해 동작될 수 있으며, 이를 위해 실린더가 포함될 수 있다. 또한, 필요에 따라 제2 이동기(132)는 안착판(120)에 삽입된 상태로 배치될 수 있다.A second mover 132 may be disposed below the remover 130 so that the polishing stone 150 may be disposed adjacent to the remover 130 . The second mover 132 may operate to move the remover 130 in a vertical direction. The second mover 132 may be operated by hydraulic pressure, and a cylinder may be included for this purpose. Also, if necessary, the second mover 132 may be disposed in a state inserted into the seat plate 120 .

제1 조립대(142) 및 제2 조립대(144)는 연마석(150)과 결합하기 위해 안착판(120)의 상부에 배치된다. 여기서, 제1 조립대(142)는 안착판(120)의 상면에 결합되어 배치된다. 제1 조립대(142)는 도 3에 도시된 바와 같이, 안착판(120)에서 수직 방향으로 소정의 길이를 가지도록 배치될 수 있다.The first assembly table 142 and the second assembly table 144 are disposed above the seating plate 120 to be combined with the grinding stone 150 . Here, the first assembling table 142 is disposed coupled to the upper surface of the seating plate 120 . As shown in FIG. 3 , the first assembly table 142 may be arranged to have a predetermined length in a vertical direction from the seating plate 120 .

제2 조립대(144)는 안착판(120)의 상면에 배치되고, 수직 방향으로 소정의 길이를 가지도록 배치될 수 있다. 이러한 제2 조립대(144)는 안착판(120)에 형성된 이동 홈(126)에 삽입된 상태로 배치되고, 제2 조립대(144)가 이동 홈(126)을 따라 수평 방향으로 이동될 수 있도록 제3 이동기(144a)가 배치될 수 있다. 제3 이동기(144a)는 제2 조립대(144)의 측면에 배치될 수 있으며, 유압에 의해 동작될 수 있고, 이를 위해 실린더가 포함될 수 있다.The second assembly stand 144 is disposed on the upper surface of the seating plate 120 and may be disposed to have a predetermined length in a vertical direction. The second assembly stand 144 is disposed in a state of being inserted into the movable groove 126 formed in the seating plate 120, and the second assembly stand 144 can be moved in a horizontal direction along the movable groove 126. The third mover 144a may be disposed so as to The third mover 144a may be disposed on the side of the second assembly stand 144 and may be operated by hydraulic pressure, and a cylinder may be included for this purpose.

제1 조립대(142)의 내측에는 회전 결합부(146)가 배치될 수 있다. 회전 결합부(146)는 도 7에 도시된 바와 같이, 외형 형상이 대략 원형 형상을 가질 수 있고, 연마기가 결합될 수 있게 다각형 형상의 결합홀(146a)이 형성될 수 있다. 결합홀(146a)의 형상은 필요에 따라 다양한 형상을 가질 수 있다.A rotation coupling part 146 may be disposed inside the first assembly table 142 . As shown in FIG. 7 , the rotary coupling part 146 may have a substantially circular external shape, and a polygonal coupling hole 146a may be formed to allow the polishing machine to be coupled thereto. The shape of the coupling hole 146a may have various shapes as needed.

키이부(148)는 연마석(150)이 결합될 수 있으며, 이를 위해 키이부(148)는 제2 조립대(144)에 결합될 수 있다. 키이부(148)는 소정의 길이를 가지며, 제2 조립대(144)에 수평 방향으로 결합될 수 있다. 이러한 키이부(148)는 제2 조립대(144)에 제1 조립대(142)를 향해 결합될 수 있다.The grinding stone 150 may be coupled to the key unit 148 , and for this purpose, the key unit 148 may be coupled to the second assembly table 144 . The key portion 148 has a predetermined length and can be coupled to the second assembly table 144 in a horizontal direction. The key unit 148 may be coupled to the second assembly table 144 toward the first assembly table 142 .

키이부(148)는 연마석(150)과 결합될 때, 연마석(150)의 회전축에 형성된 홀에 키이부(148)가 삽입되어 결합된다. 그리고 연마석(150)의 홀 내측면에 소정의 돌기가 형성되고, 키이부(148)의 외주면에 소정의 홈이 형성되어 연마석(150)의 홀 내측면에 형성된 돌기가 키이부(148)의 외주면에 형성된 홈에 끼워져 키이부(148)와 연마석(150)이 결합될 수 있다. 그에 따라 연마석(150)이 회전될 때, 키이부(148)도 함께 회전될 수 있다.When the key part 148 is combined with the grinding stone 150, the key part 148 is inserted into a hole formed in the rotation shaft of the grinding stone 150 and coupled thereto. In addition, a predetermined projection is formed on the inner surface of the hole of the grinding stone 150 and a predetermined groove is formed on the outer circumferential surface of the key portion 148, so that the projection formed on the inner surface of the hole of the grinding stone 150 is the outer circumferential surface of the key portion 148. The key portion 148 and the abrasive stone 150 may be coupled by being inserted into the groove formed thereon. Accordingly, when the grinding stone 150 is rotated, the key portion 148 may also be rotated together.

연마석(150)은 전극을 연마하기 위해 구비되고, 회전되어 전극을 연마할 수 있다. 본 실시예에서, 연마석(150)을 이용하여 상부 전극(210)을 연마하는 것에 대해 설명한다. 이를 위해 연마석(150)은 외주면에 회전 방향으로 상부 전극(210)이 삽입될 수 있도록 소정의 홈이 형성된다. 연마석(150)의 외주면에 형성된 홈은 도시된 바와 같이, 상부 전극(210)의 끝단이 곡선으로 연마될 수 있게 곡선의 형상을 가질 수 있다.The polishing stone 150 is provided for polishing the electrode and can be rotated to polish the electrode. In this embodiment, polishing of the upper electrode 210 using the grinding stone 150 will be described. To this end, a predetermined groove is formed on the outer circumferential surface of the grinding stone 150 so that the upper electrode 210 can be inserted in the rotational direction. As shown, the groove formed on the outer circumferential surface of the polishing stone 150 may have a curved shape so that the tip of the upper electrode 210 can be curved.

따라서 연마석(150)은 모터(190)의 구동에 의해 회전되어 접촉된 상부 전극(210)의 끝단을 소정의 시간 동안(예컨대, 약 15초) 상부 전극(210) 끝단을 연마할 수 있다.Accordingly, the polishing stone 150 may be rotated by driving the motor 190 to polish the contacted end of the upper electrode 210 for a predetermined time (eg, about 15 seconds).

고정대(160)는 제2 조립체에 결합되고, 검사기(170)가 고정될 수 있다. 이러한 고정되는 도시된 바와 같이, 절곡된 상태로 배치되고, 고정대(160)의 끝단에 검사기(170)가 배치될 수 있다.The fixing table 160 may be coupled to the second assembly, and the inspection device 170 may be fixed thereto. As shown in this fixing, it is disposed in a bent state, and the inspection device 170 may be disposed at the end of the fixing table 160.

검사기(170)는 상부 전극(210)의 끝단을 검사하기 위해 배치되고, 상부 전극(210)의 끝단 형상을 검사할 수 있는 다양한 장치가 포함될 수 있다. 이러한 검사기(170)는 상부 전극(210)의 끝단을 감싸는 형상을 가질 수 있으며, 예컨대, 음각의 곡면을 가질 수 있다. 따라서 상부 전극(210)이 검사기(170)의 음각 형상에 인접하게 배치될 수 있다.The inspector 170 is disposed to inspect the end of the upper electrode 210, and may include various devices capable of inspecting the shape of the end of the upper electrode 210. The tester 170 may have a shape surrounding the end of the upper electrode 210, and may have, for example, an intaglio curved surface. Accordingly, the upper electrode 210 may be disposed adjacent to the intaglio shape of the inspector 170 .

카메라(180)는 검사기(170)에 결합되고, 영상으로 상부 전극(210)의 끝단 형상을 촬영할 수 있다. 이렇게 카메라(180)를 통해 촬영된 영상을 통해 작업자는 상부 전극(210)의 끝단 형상을 실시간을 확인할 수 있다.The camera 180 is coupled to the inspector 170 and can capture the shape of the tip of the upper electrode 210 as an image. The operator can check the shape of the tip of the upper electrode 210 in real time through the image captured by the camera 180 in this way.

모터(190)는 제1 조립대(142)의 외측에 배치되고, 연마기를 회전시키기 위해 구동될 수 있다. 이러한 모터(190)는 외부에서 공급되는 전원에 의해 구동될 수 있다. 이렇게 모터(190)가 구동됨에 따라 회전 결합부(146) 및 키이부(148)가 함께 회전될 수 있다.The motor 190 may be disposed outside the first assembly table 142 and driven to rotate the grinder. The motor 190 may be driven by power supplied from the outside. As the motor 190 is driven in this way, the rotation coupling part 146 and the key part 148 may be rotated together.

상기와 같은 전극 연마 장치(100)는, 연마석(150)을 교체하고자 하는 경우에 제거기(130)가 연마기와 이격되도록 안착부 측으로 이동되도록 제2 이동기(132)가 구동된다. 그리고 제1 조립대(142)가 제2 조립대(144)에서 거리가 멀어지도록 제3 이동기(144a)가 구동된다. 따라서 제2 조립대(144)는 수평 방향으로 안착부에 형성된 이동 홈(126)을 따라 이동될 수 있다. 이렇게 제2 조립대(144)가 이동되면, 연마석(150)을 키이부(148)에서 이탈시킬 수 있고, 다른 연마석(150)을 키이부(148)에 장착할 수 있다.In the electrode polishing device 100 as described above, when the polishing stone 150 is to be replaced, the second mover 132 is driven so that the remover 130 is moved toward the seating part to be separated from the grinder. In addition, the third mover 144a is driven so that the first assembly table 142 is farther away from the second assembly table 144 . Accordingly, the second assembly table 144 can be moved along the moving groove 126 formed in the seating portion in the horizontal direction. When the second assembly table 144 is moved in this way, the grinding stone 150 can be separated from the key part 148 and another grinding stone 150 can be mounted on the key part 148 .

연마석(150)이 교체되면, 제2 조립대(144)가 이동 홈(126)을 따라 이동되어 연마석(150)이 회전 결합부(146)에 결합될 수 있다. 그리고 제어기가 연마석(150)에 인접하도록 제2 이동기(132)가 구동될 수 있다.When the abrasive stone 150 is replaced, the second assembling table 144 is moved along the moving groove 126 so that the abrasive stone 150 can be coupled to the rotation coupling part 146 . In addition, the second mover 132 may be driven so that the controller is adjacent to the grinding stone 150 .

그리고 연마석(150)을 이용하여 상부 전극(210)을 연마하기 위해 안착판(120)이 베이스(110)와의 거리가 멀어지도록 이동되어 연마석(150)과 상부 전극(210)이 밀착될 수 있다. 이렇게 연마석(150)과 상부 전극(210)이 밀착된 상태에서 모터(190)가 구동됨에 따라 상부 전극(210)의 끝단이 연마될 수 있다.In addition, in order to polish the upper electrode 210 using the grinding stone 150, the seating plate 120 is moved to be farther away from the base 110, so that the grinding stone 150 and the upper electrode 210 may come into close contact. As the motor 190 is driven in a state where the polishing stone 150 and the upper electrode 210 are in close contact, the tip of the upper electrode 210 may be polished.

또한, 상부 전극(210)을 연마하는 동안 제거기(130)에서 공기가 연마기에 분사되어 연마석(150)의 표면에 부착된 이물질이 제거될 수 있다.In addition, while the upper electrode 210 is being polished, air is sprayed from the remover 130 to the grinder so that foreign substances attached to the surface of the polishing stone 150 can be removed.

본 실시예에서, 상부 전극(210) 및 하부 전극(220)의 끝단이 곡선으로 형성되도록 연마됨에 따라 도 5에 도시된 바와 같이, 상부 전극(210) 및 하부 전극(220)이 오버랩되어 소재부(240)에 접촉되는 부분에 용접 전류가 집중될 수 있다. 그에 따라 용접부(230)의 두께를 줄일 수 있으며, 전류가 퍼지지 않아 아크가 발생되는 것을 방지할 수 있다.In this embodiment, as the ends of the upper electrode 210 and the lower electrode 220 are polished to form a curved shape, as shown in FIG. A welding current may be concentrated on a portion in contact with 240 . Accordingly, the thickness of the welded part 230 can be reduced, and arc generation due to non-spreading of current can be prevented.

또한, 연마석(150)이 키이부(148)에 끼워진 상태에서, 반대 측이 회전 결합부(146)에 결합됨에 따라 연마석(150)이 회전되는 동안 떨리거나 틸팅되지 않을 수 있어 전극을 연마할 때 편연마가 발생하지 않을 수 있다.In addition, in a state where the grinding stone 150 is inserted into the key part 148, as the opposite side is coupled to the rotation coupling part 146, the grinding stone 150 may not shake or tilt while rotating, so that when polishing the electrode Partial polishing may not occur.

그리고 상기와 같이, 전극 연마 장치(100)를 이용하여 전극을 연마함에 따라 도 9에 도시된 바와 같이, 종래에 비해 용접부(230)의 두께를 줄일 수 있다.And, as described above, as the electrode is polished using the electrode polishing device 100, as shown in FIG. 9, the thickness of the welded portion 230 can be reduced compared to the prior art.

100: 전극 연마 장치
110: 베이스 112: 베이스 홈
120: 안착판 122: 제1 이동기
124: 가이드부 126: 이동 홈
130: 제거기 132: 제2 이동기
142: 제1 조립대 144: 제2 조립대
144a: 제3 이동기
146: 회전 결합부 146a: 결합홀
148: 키이부
150: 연마석 160: 고정대
170: 검사기 180: 카메라
190: 모터
210: 상부 전극 220: 하부 전극
230: 용접부 240: 소재부100: electrode polishing device
110: base 112: base groove
120: seating plate 122: first mover
124: guide part 126: moving groove
130: remover 132: second mover
142: first assembly table 144: second assembly table
144a: third mover
146: rotation coupling part 146a: coupling hole
148: Kiibu
150: grinding stone 160: fixture
170: Inspector 180: Camera
190: motor
210: upper electrode 220: lower electrode
230: welding part 240: material part

Claims

Base;
a seating plate disposed above the base;
a first assembling table disposed above the seating plate;
a second assembly stand disposed above the seating plate to be spaced apart from the first assembly stand;
a grinding stone coupled between the first assembly table and the second assembly table and polishing an electrode; and
Including a motor driven to rotate the grinding stone,
electrode polishing device.

According to claim 1,
At least one guide part having a predetermined length is disposed at a lower portion of the seating plate,
The base is formed with one or more base grooves into which the one or more guide parts are inserted.
electrode polishing device.

According to claim 1,
Disposed on the upper part of the base, further comprising a first mover for moving the seating plate in the vertical direction,
electrode polishing device.

According to claim 1,
Further comprising an eliminator disposed on the upper portion of the seating plate and supplying air to the surface of the grinding stone.
electrode polishing device.

According to claim 4,
Further comprising a second mover installed in the seating groove and moving the remover adjacent to the grinding stone,
electrode polishing device.

According to claim 1,
The second assembly unit further comprises a third mover for moving in the horizontal direction on the seating plate,
electrode polishing device.

According to claim 6,
A seating groove for guiding the movement of the second assembly table is formed on the upper surface of the seating plate.
electrode polishing device.

According to claim 1,
Further comprising a key portion disposed on the second assembly table and into which the grinder is inserted and coupled.
electrode polishing device.

According to claim 1,
Further comprising a sensor coupled to the second assembly table and monitoring the shape of the electrode polished by the grinding stone.
electrode polishing device.

According to claim 9,
Coupled to the sensor, further comprising a camera for photographing the electrode,
electrode polishing device.

According to claim 10,
The sensor has an intaglio curved surface to surround one surface of the electrode,
The camera is disposed on the inner surface of the intaglio of the detector to photograph the tip of the electrode.
electrode polishing device.

According to claim 9,
Further comprising a fixing table coupled to the second assembly table and supporting the sensor,
electrode polishing device.

According to claim 1,
The polishing machine is in contact with the electrode and the outer peripheral surface shape for polishing the electrode has a curved surface shape of intaglio,
electrode polishing device.

According to claim 1,
Disposed on the first assembly table, further comprising a rotational coupling portion coupled to the grinding stone to transmit the rotational force of the motor to the grinding stone,
electrode polishing device.