KR20230059143A

KR20230059143A - 기판의 장식 방법

Info

Publication number: KR20230059143A
Application number: KR1020220130728A
Authority: KR
Inventors: 얀 린티메르; 알렉시 불메
Original assignee: 코마도 쏘시에떼 아노님
Priority date: 2021-10-25
Filing date: 2022-10-12
Publication date: 2023-05-03
Anticipated expiration: 2042-10-12
Also published as: KR102791297B1; EP4170435A1; EP4170434A1; JP2023064066A; JP7446380B2; CN116027652A; US20230126038A1; CN116027652B

Abstract

기판의 장식 방법
본 발명은 다음의 단계들의 연속을 포함하는 기판 (1) 의 장식 방법에 관한 것이다:
- 기판 (1) 을 제공하는 단계;
- 기판 (1) 의 표면 위에 희생 재료 층 (2) 을 디포짓하는 단계;
- 장식적 또는 기술적 패턴 (12) 을 형성하기 위해 이 희생 재료 층 (2) 내에 복수의 공동들 (4) 을 생성하도록 희생 재료 층 (2) 을 구조화하는 단계;
- 패턴 (12) 이 제공되는 위치를 제외하고 희생 재료 층 (2) 을 제거하는 단계.

Description

기판의 장식 방법{METHOD FOR DECORATING A SUBSTRATE}

본 발명은 기판의 장식 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 연마된 기판, 특히 시계의 다이얼 위에, 그리고 보다 일반적으로는 베젤 (bezel), 미들 (middle), 백 (back), 팔찌 링크 또는 그렇지 않으면 크리스탈 (crystal) 과 같은 타임피스의 임의의 외부 부품 엘리먼트 위에 매트 (matt) 또는 새틴 (satin) 장식을 만들 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 임의의 타입의 보석류 아이템들, 특히 팔찌들에 적용된다.

시계 다이얼과 같은 기판의 일부 영역들에, 기판의 나머지 표면의 것과 상이한 시각적 양상 (visual aspect) 을 부여하기 위해 현재 사용되는 하나의 기법은, 이들 영역들을 예를 들어 레이저 빔의 작용에 노출시킨 후, 이들 영역들을 금속화하는 것으로 구성된다. 금속화 동작은, 특히 금속화될 레이저 빔에 의해 에칭된 영역들이 종종 작은 치수들을 갖고 따라서 이들 영역들 위에 금속화 층들을 정확하게 디포짓하기 어렵기 때문에 구현하기 어렵다. 실제로, 금속화 층들은 때때로 이들 금속화들이 디포짓된 레이저 빔에 의해 처리된 기판의 영역들의 치수들을 초과하고, 이웃하는 영역들을 침범한다. 반대로, 금속화 층들이 금속화되어야 하는 기판의 영역들을 완전히 커버하지 않아서, 이들 영역들이 금속화 층들 아래에서 계속 보이게 되는 것이 또한 때때로 가능하다. 양자 모두의 경우들에서, 이러한 방식으로 처리된 기판의 최종 외관은 만족스럽지 않으며, 이들 기판들의 무시할 수 없는 부분이 폐기되어야 한다. 이 기법의 다른 결점은 기판이 레이저 에칭 동작에 의해 변경된다는 것이다.

본 발명은 특히 기판을 정확하게 장식할 수 있는 방법을 제공함으로써 상기 언급된 문제들 뿐만 아니라 다른 문제들을 극복하는 것을 목표로 한다.

이를 위해, 본 발명은 다음의 단계들의 연속을 포함하는 기판의 장식 방법에 관한 것이다:

- 기판을 제공하는 단계;

- 기판의 표면 위에 적어도 하나의 희생 재료 층을 디포짓하는 단계;

- 장식적 또는 기술적 패턴 (decorative or technical pattern) 을 형성하기 위해 이 희생 재료 층 내에 복수의 공동들 (cavities) 을 생성하도록 희생 재료 층을 구조화하는 단계;

- 패턴이 제공되는 위치를 제외하고 희생 재료 층을 제거하는 단계.

본 발명의 특별한 실시형태에 따르면, 공동들은 상이한 깊이들을 갖는다.

본 발명의 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층 내에 생성된 공동들의 적어도 일부는 기판까지 이 희생 재료 층을 가로지른다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층은 물리적 기상 증착에 의해, 화학적 기상 증착에 의해 또는 그렇지 않으면 기판이 전기 전도성인 경우 전기도금에 의해 기판의 표면에 디포짓된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층은 하나 이상의 금속 재료(들) 또는 그렇지 않으면 이 또는 이들 금속 재료(들)의 산화물들, 질화물들, 탄화물들 또는 카르복시질화물들 (carboxinitrides) 에 의해 제조된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 금속 재료는 크롬, 지르코늄, 티타늄 및 알루미늄에 의해 형성된 군으로부터 선택된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층은 100 nm 내지 10 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층은 500 nm 내지 2 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층 내의 공동들은 습식 또는 건식 화학적 에칭에 의해, 레이저 절제 (laser ablation) 에 의해 또는 그렇지 않으면 포토리소그래피에 의해 생성된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 습식 또는 건식 화학적 에칭은 희생 재료 층의 전체 표면에 영향을 미치거나 또는 그렇지 않으면 희생 재료 층 위에 설정되고 윤곽들이 희생 재료 층에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴에 대응하는 마스크의 개구들을 통해 이루어진다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 포토리소그래피는 직접 레이저 빔에 의한 절제에 의해 또는 이 희생 재료 층 위에 설정되고 윤곽들이 희생 재료 층에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴에 대응하는 마스크의 개구들을 통한 광 방사 (light radiation) 에 의해 희생 재료 층 내에 공동들을 생성하는 것으로 구성된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 내부에 공동들을 생성하기 위한 희생 재료 층의 구조화 후에, 그리고 패턴이 제공되는 위치를 제외하고 기판의 전체 표면 위의 희생 재료 층의 제거 전에, 적어도 하나의 추가 마감 층 (finishing layer) 이 희생 재료 층 위에 디포짓된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 추가 마감 층은 하나 이상의 금속 재료(들) 또는 그렇지 않으면 이들 금속 재료들의 산화물들, 질화물들, 탄화물들 또는 카르복시질화물들에 의해 제조된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 추가 마감 층이 제조되는 금속 재료는 크롬, 지르코늄, 금, 티타늄 및 알루미늄에 의해 형성된 군으로부터 선택된다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 희생 재료 층의 구조화 및 가능하게는 추가 마감 층의 디포지션 후에, 다음의 단계들이 수행된다:

- 추가 마감 층으로 코팅될 수 있는 희생 재료 층 위에 감광성 수지 층을 디포짓하는 단계;

- 감광성 수지 층을 직접 레이저 빔의 작용에 노출시키거나 또는 그렇지 않으면 희생 재료 층에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴에 대응하는 위치들에서 선택적으로 광 방사에 노출시키는 단계;

- 감광성 수지 층 및 감광성 수지 층이 인솔레이트 (insolate) 되지 않은 위치들에서 추가 마감 층에 의해 커버될 수 있는 하부 희생 재료 층을 제거하는 단계;

- 희생 재료 층이 보존되어야 하는 위치들에 존재하는 감광성 수지 층을 제거하는 단계.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 기판은 시계 케이스를 위한 또는 보석류 아이템을 위한 외부 부품 엘리먼트이다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 기판은 브릿지 (bridge), 플레이트, 베젤, 미들, 크리스탈, 다이얼, 백 또는 팔찌 링크이다.

본 발명의 또 다른 특별한 실시형태에 따르면, 기판은 연마된 양상을 갖는다.

이러한 특징들 덕분에, 본 발명은 특히 이 기판의 표면 상태를 수정하거나 변경하지 않고 기판을 장식할 수 있는 방법을 제공한다. 특히, 본 발명에 따른 방법이 기판에 직접적으로가 아니라 이 기판 위에 디포짓된 재료 층에 장식적 또는 기술적 패턴을 구조화하는 것으로 구성된다는 사실을 고려할 때, 기판이 제조되는 재료의 성질 (때때로 매우 단단함) 에 의존하지 않으며, 패턴이 기판의 표면에 형성될 층을 제조하기 위해 광범위한 재료들이 이용가능하다는 것이 이해되어야 한다. 더욱이, 패턴을 형성하는 공동들 내부의 주변 광의 다중 반사들의 세트를 통해, 이 패턴은 특히 기판이 연마된 표면 상태를 가질 때 기판의 나머지 표면에서 현저하게 두드러지는 매트 투 새틴 (matt to satin) 양상을 갖는다. 또한, 고려된 구현 모드에 관계없이, 본 발명에 따른 방법은 시계 다이얼들 또는 시계 크리스탈들과 같은 기판들을 장식하길 원할 때 빈번히 직면하게 되는 포지셔닝 정확성의 문제들을 극복할 수 있음에 유의해야 한다.

본 발명의 다른 특징들 및 이점들은 본 발명에 따른 장식 방법의 실시형태의 다음의 상세한 설명으로부터 더 명확히 나타날 것이며, 이 예는 첨부 도면을 참조하여 단지 예시적이고 비한정적인 목적들을 위해서만 제공되고, 첨부 도면에서:
- 도 1 은 희생 재료 층이 디포짓되는 표면 위의 기판의 단면도이다;
- 도 2 는 기판을 화학적 에칭 배스에 침지함으로써 희생 재료 층 내에 공동들을 제조하는 것을 예시한다;
- 도 3 은 장식적 또는 기술적 패턴을 형성하기 위해 이 희생 재료 층 내에 복수의 공동들을 생성하도록 희생 재료 층을 구조화하는 단계를 예시하는 도 1 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 4 는 이 희생 재료 층의 구조화 후에 희생 재료 층 위에 추가 마감 층을 디포짓하는 단계를 예시하는 도 3 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 5 는 추가 마감 층 위에 감광성 수지 층을 디포짓하는 단계를 예시하는 도 4 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 6 은 감광성 수지 층이 인솔레이트되지 않은 영역들에서 이 감광성 수지 층의 제거를 예시하는 도 5 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 7 은 감광성 수지 층이 인솔레이트되지 않은 영역들에서 희생 재료 층 및 마감 층을 제거하는 단계를 예시하는 도 6 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 8 은 희생 재료 층이 구조화되고 장식적 패턴을 형성하기 위해 남아 있어야 하는 위치들에서 인솔레이트된 잔류 감광성 수지 층의 제거를 예시하는 도 7 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 9 는 제 1 감광성 수지 층이 위에 디포짓되는 희생 재료 층으로 코팅된 기판을 개략적으로 예시한다;
- 도 10 은 공동들을 생성하기 위해 선택적으로 인솔레이트되는 감광성 수지 층을 예시한다;
- 도 11 은 인솔레이트되지 않은 제 1 영역들이 제거되고 광에 노출되지 않은 제 2 영역들만이 존재하도록 하는 감광성 수지 층의 현상을 예시한다;
- 도 12 는 희생 재료 층 내에, 패턴을 형성하도록 의도된 공동들을 생성한 후에, 희생 재료 층이 적어도 하나의 추가 마감 층에 의해 커버되는 경우를 예시한다;
- 도 13 은 노출되지 않은 제 1 영역들과, 직접 레이저 빔에 의해 또는 마스크를 통해 인솔레이트되고 희생 재료 층에 형성되어야 하는 패턴에 대응하는 제 2 영역들을 구별할 수 있는 제 2 감광성 수지 층의, 추가 마감 층 위에의 디포지션을 예시하는 도 12 의 도면과 유사한 도면이다;
- 도 14 는 직접 레이저 빔에 의한 또는 마스크를 통한 감광성 수지 층의 인솔레이션 후에 감광성 수지 층의 현상을 예시하는 도 13 의 도면과 유사한 도면으로, 노출되지 않은 제 1 영역들은 제거되고 광에 노출되고 원하는 패턴에 대응하는 제 2 영역들만이 존재한다;
- 도 15 는 광에 노출된 감광성 수지 층의 부분들의 제거를 예시하는 도 14 의 도면과 유사한 도면이다.

본 발명은 기판의 표면 상태를 수정하거나 변경하지 않고 이 기판의 표면에 장식적 또는 기술적 패턴을 제조하는 것으로 구성되는 일반적인 발명 아이디어에 기초한다. 이를 위해, 본 발명은 기판의 표면에, 원하는 장식적 또는 기술적 패턴의 형상에 대응하는 레이아웃에 따라 복수의 실질적으로 깊은 공동들이 제조될 소위 희생 재료 층을 디포짓하는 것을 제안한다. 가능하게는 표면 상태를 마무리하고 하부 희생 재료 층의 컬러를 조정하기 위해 하나 이상의 추가 마감 층(들)으로 코팅되는, 이들 그룹들의 공동들은, 이들 공동들로 침투하는 입사 주변 광의 다중 반사들의 작용을 통해, 육안으로 인지할 수 있을 원하는 패턴을 형성할 것이다. 또한, 이들 공동들의 수 및 깊이에 의존하여, 결과적인 패턴은 특히 기판이 연마된 표면 상태를 가질 때, 이 패턴이 위에 구조화된 기판의 주변 표면으로부터 현저하게 두드러지게 될 매트 또는 새틴 양상을 가질 것이다.

전체적으로 일반 참조 부호 1 로 지칭된 기판이 도 1 에서 단면으로 도시된다. 반드시 그런 것은 아니지만 바람직하게는, 이 기판 (1) 은 연마된 표면 상태를 갖는다. 이 기판 (1) 은 한정 없이, 브릿지, 플레이트, 베젤, 미들, 크리스탈, 다이얼, 백 또는 그렇지 않으면 팔찌 링크와 같은 시계제작을 위한 임의의 타입의 부품으로 구성될 수도 있다. 또한, 팔찌, 반지 또는 로켓 (locket) 과 같은 보석류 아이템으로 구성될 수도 있다. 보다 일반적으로, 본 특허 출원의 맥락에서 기판은 본 발명에 따른 방법의 구현을 가능하게 하는 임의의 지지부 (support part) 로서 이해되어야 한다.

본 발명에 따르면, 그리고 도 1 에 도시된 바와 같이, 기판은 희생 재료 층 (2) 에 의해 커버된다. 이 희생 재료 층 (2) 은 바람직하게는 크롬, 크롬 질화물, 크롬 산질화물, 지르코늄, 지르코늄 질화물 및 지르코늄 산질화물에 의해 형성된 군으로부터 선택되는 금속 재료에 의해 제조된다. 이 희생 재료 층 (2) 은 통상적으로 100 nm 내지 10 ㎛ 로 구성되고, 바람직하게는 500 nm 내지 2 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는다. 물론, 희생 재료 층 (2) 의 두께는 이들 값들을 초과할 수 있다. 희생 재료 층 (2) 은 또한 적어도 2 개의 상이한 금속 재료들의 또는 그렇지 않으면 이들 금속 재료들의 산화물들, 질화물들, 탄화물들 또는 카르복시질화물들의 조합으로부터 발생할 수도 있다.

희생 재료 층 (2) 은 물리적 기상 증착, 화학적 기상 증착 또는 그렇지 않으면 기판 (1) 이 전기 전도성인 경우 전기도금과 같은 임의의 적합한 기법에 의해 기판 (1) 의 표면에 디포짓된다.

기판 (1) 의 표면에 희생 재료 층 (2) 의 디포지션 후에, 이 희생 재료 층 (2) 은 내부에 복수의 공동들 (4) 을 생성하도록 구조화된다.

희생 재료 층 (2) 내의 공동들 (4) 의 구조화는 임의의 적합한 기법에 의해 이루어질 수도 있다. 도 2 에 예시된 예로서, 희생 재료 층 (2) 으로 코팅된 기판 (1) 은 화학적 에칭 배스 (6) 에 침지되고, 희생 재료 층 (2) 의 일부 영역들은, 적절한 경우에, 배스 (6) 의 작용을 받지 않도록 마스킹될 수 있다. 이러한 방식으로, 희생 재료 층 (2) 의 표면은 배스 (6) 의 부식 작용을 받게 될 것이다. 이러한 화학적 에칭은 완벽하게 균일하지 않고 그 효과들은 특히 기판 (1) 이 배스 (6) 에 유지되는 시간에 의존하기 때문에, 희생 재료 층 (2) 내에 형성된 공동들 (4) 은 모두 동일한 깊이를 갖지 않을 것이다.

도 3 에 도시된 바와 같이, 일단 기판 (1) 이 화학적 에칭 배스 (6) 로부터 제거되면, 일부가 심지어 기판 (1) 까지 희생 재료 층 (2) 을 그 전체에 걸쳐 가로지를 수 있는 상이한 깊이들을 갖는 공동들 (4) 이 화학적 에칭에 노출된 희생 재료 층 (2) 의 전체 표면 위에 형성된다.

표현되지 않은 본 발명의 다른 실시형태에 따르면, 희생 재료 층 (2) 의 습식 에칭 대신에, 공동들 (4) 을 생성하기 위해 기판 (1) 을 부식성 가스 분위기에 배치함으로써 이 희생 재료 층 (2) 의 건식 에칭을 진행하는 것이 가능하다.

표현되지 않은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따르면, 희생 재료 층 (2) 의 화학적 에칭 대신에, 레이저 빔에 의한 절제에 의해 이 희생 재료 층 (2) 을 구조화하는 것이 또한 가능하다.

희생 재료 층 (2) 내의 공동들 (4) 의 구조화 후에, 희생 재료 층 (2) 은 반드시 그런 것은 아니지만 바람직하게는, 도 4 에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 추가 마감 층 (8) 으로 코팅될 수 있다. 이 추가 마감 층 (8) 은 예를 들어, 물리적 또는 화학적 기상 증착에 의해 디포짓될 수 있다. 이 추가 마감 층 (8) 은 희생 재료 층 (2) 과 동일한 재료로 제조될 수 있다. 이 추가 마감 층 (8) 은 임의의 금속 재료, 금속 재료 산질화물 또는 금속 재료들의 합금에 의해 제조된다; 특히 금, 크롬, 지르코늄, 티타늄 또는 알루미늄으로 제조될 수 있다. 이 적어도 하나의 추가 마감 층 (8) 은 표면 상태를 마무리하고 하부 희생 재료 층 (2) 의 컬러를 조정하도록 의도된다.

도 5 에 예시된 바와 같이, 추가 마감 층 (8) 의 디포지션 후에, 감광성 수지 층 (10) 이 이 추가 마감 층 (8) 위에 디포짓된다. 그 후, 이 감광성 수지 층 (10) 은 희생 재료 층 (2) 에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴 (12) 에 대응하는 위치들에서 광 방사에 의해 선택적으로 인솔레이트된다 (insolated). 따라서, 감광성 수지 층 (10) 에서, 광 방사에 노출되지 않은 제 1 영역들 (10A) 과 광 방사에 노출되고 원하는 패턴 (12) 에 대응하는 제 2 영역들 (10B) 을 구별할 수 있다. 감광성 수지 층 (10) 은 예를 들어 직접 움직임들이 컴퓨터에 의해 제어되는 레이저 빔에 의해, 또는 그렇지 않으면 개구들이 기판 (1) 의 표면에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴 (12) 을 생성하도록 보존되어야 하는 희생 재료 층 (2) 의 영역들에 대응하는 마스크를 통한, 광 방사, 예를 들어, 자외선에 의해 선택적으로 인솔레이트될 수 있다.

감광성 수지 층 (10) 의 선택적 인솔레이션 후에, 이 감광성 수지 층 (10) 은 자외선 방사에 노출되지 않은 제 1 영역들 (10A) 이 제거되고 광에 노출되고 원하는 패턴 (12) 에 대응하는 제 2 영역들 (10B) 만이 존재하도록 현상된다 (도 6 참조).

그 다음, 도 7 에 예시된 바와 같이, 감광성 수지 층 (10) 에 의해 커버되지 않은 희생 재료 층 (2) 및 추가 마감 층 (8) 의 부분들은 기판 (1) 을 다시 노출시킬 때까지 제거된다.

마지막으로 (도 8), 자외선 방사에 노출된 감광성 수지 층 (10) 의 제 2 영역들 (10B) 이 차례로 제거된다.

기판 (1) 의 표면에 존재하는 희생 재료 층 (2) 의 영역들 내에 형성된 공동들 (4) 은 모두 동일한 깊이를 갖지 않아서, 이들 공동들 (4) 로 침투하는 입사 광의 다중 반사들의 작용을 통해, 공동들 (4) 의 네트워크에 의해 형성된 장식적 또는 기술적 패턴 (12) 은 특히 기판이 연마된 표면 상태를 가질 때, 기판 (1) 의 나머지 표면에서 뚜렷하게 두드러지게 될 매트 또는 새틴 양상을 가질 것이다. 실제로, 공동들 (4) 의 조합에 의해 형성된 장식적 또는 기술적 패턴들 (12) 은 이들 공동들 (4) 의 깊이에 의존하여, 희생 재료 층 (2) 에 의해 커버되지 않는 기판 (1) 의 나머지 표면의 광도 (radiance) 와 현저한 시각적 대조를 생성하는 매트 또는 새틴 양상을 갖는다.

또한, 바람직하게는, 공동들 (4) 은 원하는 최종 패턴 (12) 의 치수들보다 큰 치수들을 갖는 네트워크를 형성하도록 예를 들어 배스 (6) 의 부식 작용에 대한 희생 재료 층 (2) 의 표면의 노출 후에 희생 재료 층 (2) 내에 구조화됨에 유의해야 한다. 다음으로, 기판 (1) 에 대한 패턴 (12) 의 적절한 포지셔닝을 위해, 감광성 수지 층이 전체에 걸쳐 인솔레이트되는 마스크에 대한 이 기판 (1) 의 적절한 정렬을 위해 결정된 마진이 제공되며, 이는 매우 유리하다.

본 발명의 다른 실시형태가 도 9 내지 도 15 에 예시된다. 도 9 에서, 기판 (1) 은 제 1 감광성 수지 층 (14) 이 위에 디포짓되는 희생 재료 층 (2) 으로 코팅된다.

그 후, 도 10 에 도시된 바와 같이, 이 감광성 수지 층 (14) 은 공동들 (4) 을 생성하도록 선택적으로 인솔레이트된다. 감광성 수지 층 (14) 의 이러한 선택적 인솔레이션은 예를 들어 직접 레이저 빔에 의해 또는 개구들이 보존되어야 하는 희생 재료 층 (2) 의 영역들에 대응하는 마스크를 통해 수행될 수도 있다. 따라서, 감광성 수지 층 (14) 에서, 선택적 조명에 노출되지 않은 제 1 영역들 (14A) 과, 선택적으로 조명되고 보존되어야 하는 희생 재료 층 (2) 의 부분들에 대응하는 제 2 영역들 (14B) 을 구별할 수 있다.

선택적 인솔레이션 후에, 감광성 수지 층 (14) 은 도 11 에 도시된 바와 같이, 제 1 영역들 (14A) 이 제거되고 광에 노출된 제 2 영역들 (14B) 만이 존재하도록 현상된다. 그 다음, 감광성 수지 층 (14) 에 의해 커버되지 않은 희생 재료 층 (2) 의 부분들은 기판 (1) 을 다시 노출시킬 때까지 화학적 에칭에 의해 제거된다. 마지막으로, 선택적 조명에 노출된 감광성 수지 층 (14) 의 제 2 영역들 (14B) 은 차례로 제거되어, 공동들 (4) 이 내부에 구조화된 희생 재료 층 (2) 의 부분들만이 존재한다.

그 후, 도 12 에 개략적으로 예시된 바와 같이, 기판 (1) 은 적어도 하나의 추가 마감 층 (16) 에 의해 커버되고, 그 추가 마감 층 자체는 도 13 에 도시된 바와 같이 제 2 감광성 수지 층 (18) 에 의해 커버된다. 그 후, 이 제 2 감광성 수지 층 (18) 은 예를 들어 레이저 빔에 의해 또는 개구들이 기판 (1) 의 표면에 나타나야 하는 장식적 또는 기술적 패턴 (20) 을 생성하도록 보존되어야 하는 희생 재료 층 (2) 의 영역들에 대응하는 마스크를 통해 선택적으로 인솔레이트된다.

인솔레이션 후에, 감광성 수지 층 (18) 에서, 선택적 조명에 노출되지 않은 제 1 영역들 (18A) 과, 선택적으로 조명되고 보존되어야 하는 희생 재료 층 (2) 및 추가 마감 층 (8) 의 부분들에 대응하는 제 2 영역들 (18B) 을 구별할 수 있다. 그 후, 감광성 수지 층 (18) 은 도 14 에 도시된 바와 같이, 제 1 영역들 (18A) 이 제거되고 광에 노출된 제 2 영역들 (18B) 만이 존재하도록 현상된다.

그 후, 감광성 수지에 의해 커버되지 않은 추가 마감 층 (16) 및 희생 재료 층 (2) 의 부분들을 제거하도록 기판 (1) 에 화학적 에칭이 실시된다. 마지막으로, 도 15 에 도시된 바와 같이, 기판 (1) 이 획득되는데, 그 일부 영역들은 노출되고 연마된 양상을 갖는 반면, 기판 (1) 의 다른 영역들은 추가 마감 층 (16) 으로 코팅되고 새틴 또는 매트 양상을 갖는 장식적 또는 기술적 패턴 (20) 을 형성하도록 공동들 (4) 이 내부에 구조화되는 희생 재료 층 (2) 에 의해 커버된다.

본 발명은 방금 설명된 실시형태에 한정되지 않고, 그리고 첨부된 청구범위에 의해서 정의된 바와 같이 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 당업자에 의해 다양한 간단한 수정들 및 변형들이 고려될 수 있다는 것은 말할 필요도 없다. 특히, 기판 (1) 위에 디포짓된 제 1 층은 장식적 또는 기술적 패턴 (20) 이 구조화되는 위치를 제외하고 완전히 제거되도록 의도되기 때문에 희생 재료 층 (2) 으로 지칭된다는 것이 이해되어야 한다. 이러한 이유로 이 희생 재료 층 (2) 은 저항력이 있고 값싼 재료로 제조되는 것이 바람직하다. 더욱이, 희생 재료 층 (2) 이 두꺼울수록, 공동들 (4) 을 구조화하기가 더 쉬울 것임에 유의해야 한다. 그러나, 박리 문제들을 야기할 수 있는 내부 기계적 응력들이 이 층에 나타날 위험을 무릅쓰고, 이 희생 재료 층 (2) 은 너무 두껍지 않도록 보장되어야 한다. 또한, 기판 (1) 은 바람직하게는 연마되고 및/또는 불투명함에 유의해야 한다.

1. 기판
2. 희생 재료 층
4. 공동들
6. 배스
8. 추가 마감 층
10. 감광성 수지 층
10A. 제 1 영역들
10B. 제 2 영역들
12. 패턴
14. 제 1 감광성 수지 층
14A. 제 1 영역들
14B. 제 2 영역들
16. 추가 마감 층
18. 제 2 감광성 수지 층
18A. 제 1 영역들
18B. 제 2 영역들
20. 패턴

Claims

기판 (1) 의 장식 방법으로서,
다음의 단계들의 연속을 포함하는, 기판 (1) 의 장식 방법:
- 상기 기판 (1) 을 제공하는 단계;
- 상기 기판 (1) 의 표면 위에 희생 재료 층 (2) 을 디포짓하는 단계;
- 장식적 또는 기술적 패턴 (12; 20) 을 형성하기 위해 상기 희생 재료 층 (2) 내에 상이한 깊이들을 갖는 복수의 공동들 (4) 을 생성하도록 상기 희생 재료 층 (2) 을 구조화하는 단계;
- 상기 패턴 (12; 20) 이 제공되는 위치를 제외하고 상기 희생 재료 층 (2) 을 제거하는 단계.
제 1 항에 있어서,
내부에 상기 공동들 (4) 을 생성하기 위한 상기 희생 재료 층 (2) 의 구조화 후에, 그리고 상기 패턴 (12; 20) 이 제공되는 위치를 제외하고 상기 기판 (1) 의 전체 표면 위의 상기 희생 재료 층 (2) 의 제거 전에, 적어도 하나의 추가 마감 층 (8) 이 상기 희생 재료 층 (2) 위에 디포짓되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 2 항에 있어서,
상기 추가 마감 층 (8) 은 하나 이상의 금속 재료(들) 또는 그렇지 않으면 이들 금속 재료들의 산화물들, 질화물들, 탄화물들 또는 카르복시질화물들에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 3 항에 있어서,
상기 추가 마감 층 (8) 이 제조되는 상기 금속 재료(들) 는 크롬, 지르코늄, 금, 티타늄 및 알루미늄에 의해 형성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 내에 생성된 상기 공동들 (4) 중 적어도 일부는 상기 기판 (1) 까지 상기 희생 재료 층 (2) 을 가로지르는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 은 물리적 기상 증착에 의해, 화학적 기상 증착에 의해 또는 그렇지 않으면 상기 기판 (1) 이 전기 전도성인 경우 전기도금에 의해 상기 기판 (1) 의 상기 표면에 디포짓되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 은 하나 이상의 금속 재료(들) 또는 그렇지 않으면 이 또는 이들 금속 재료(들)의 산화물들, 질화물들, 탄화물들 또는 카르복시질화물들에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 금속 재료는 크롬, 지르코늄, 티타늄 및 알루미늄에 의해 형성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 은 100 nm 내지 10 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 8 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 은 100 nm 내지 10 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 9 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 은 500 nm 내지 2 ㎛ 로 구성된 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 내의 상기 공동들 (4) 은 습식 또는 건식 화학적 에칭에 의해, 레이저 절제에 의해 또는 그렇지 않으면 포토리소그래피에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 12 항에 있어서,
상기 습식 또는 건식 화학적 에칭은 상기 희생 재료 층 (2) 의 전체 표면에 영향을 미치거나 또는 그렇지 않으면 상기 희생 재료 층 위에 설정되고 윤곽들이 상기 희생 재료 층 (2) 에 나타나야 하는 상기 장식적 또는 기술적 패턴 (12; 20) 에 대응하는 마스크의 개구들을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 12 항에 있어서,
상기 포토리소그래피는 직접 레이저 빔에 의한 절제에 의해 또는 상기 희생 재료 층 (2) 위에 설정되고 윤곽들이 상기 희생 재료 층에 나타나야 하는 상기 장식적 또는 기술적 패턴 (12; 20) 에 대응하는 마스크의 개구들을 통한 광 방사에 의해 상기 희생 재료 층 (2) 내에 상기 공동들 (4) 을 생성하는 것으로 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 2 항에 있어서,
상기 희생 재료 층 (2) 의 구조화 및 가능하게는 상기 추가 마감 층 (8) 의 디포지션 후에, 다음의 단계들이 수행되는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법:
- 상기 추가 마감 층 (8) 으로 코팅될 수 있는 상기 희생 재료 층 (2) 위에 감광성 수지 층 (18) 을 디포짓하는 단계;
- 상기 감광성 수지 층 (18) 을 직접 레이저 빔의 작용에 노출시키거나 또는 그렇지 않으면 상기 희생 재료 층 (2) 에 나타나야 하는 상기 장식적 또는 기술적 패턴 (12; 20) 에 대응하는 위치들에서 선택적으로 광 방사에 노출시키는 단계;
- 상기 감광성 수지 층 (18) 및 상기 감광성 수지 층 (18) 이 노출되지 않은 위치들에서 상기 추가 마감 층 (8) 에 의해 커버될 수 있는 하부 희생 재료 층 (2) 을 제거하는 단계;
- 상기 희생 재료 층 (2) 이 보존되어야 하는 위치들에 존재하는 상기 감광성 수지 층 (18) 을 제거하는 단계.
제 1 항에 있어서,
상기 기판 (1) 은 시계 케이스를 위한 또는 보석류 아이템을 위한 외부 부품 엘리먼트인 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 기판 (1) 은 브릿지, 플레이트, 베젤, 미들, 크리스탈, 다이얼, 백 또는 팔찌 링크인 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 기판 (1) 은 연마된 및/또는 불투명한 양상 (aspect) 을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 (1) 의 장식 방법.