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KR20220160967A - 이종 재질의 다층 회로기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

이종 재질의 다층 회로기판 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20220160967A
KR20220160967A KR1020210069277A KR20210069277A KR20220160967A KR 20220160967 A KR20220160967 A KR 20220160967A KR 1020210069277 A KR1020210069277 A KR 1020210069277A KR 20210069277 A KR20210069277 A KR 20210069277A KR 20220160967 A KR20220160967 A KR 20220160967A
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adhesive
circuit board
layer
ceramic substrate
printed circuit
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KR1020210069277A
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Inventor
박은하
윤상욱
김영준
최유진
박금선
김충현
Original Assignee
(주)티에스이
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Priority to US17/556,310 priority patent/US12108544B2/en
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Abstract

본 발명은 접착부; 상기 접착부의 일면에 결합되는 세라믹 기판부; 및 상기 접착부의 타면에 결합되며 상기 세라믹 기판부와 다른 재질을 포함하는 인쇄회로기판부;를 포함하고, 상기 접착부는 접착 물질을 포함하는 접착층; 상기 접착층을 관통하는 접착부 개구; 및 상기 접착부 개구 내부에 채워지는 전도성 페이스트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판을 제공한다.
본 발명의 일실시예에 따른 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법은 상기 세라믹 기판부를 제공하는 단계; 상기 인쇄회로기판부를 제공하는 단계; 상기 세라믹 기판부와 상기 인쇄회로기판부를 연결할 수 있는 상기 접착부를 제작하는 단계; 및 상기 인쇄회로기판부, 상기 접착부 및 상기 세라믹 기판부를 일괄 접합하는 단계;를 포함하고, 상기 접착부를 제작하는 단계는, 상기 접착층의 일면과 타면에 보호층을 접합하는 단계; 상기 접착층과 상기 보호층을 관통하는 상기 접착부 개구를 형성하는 단계; 상기 접착부 개구에 상기 전도성 페이스트를 채우는 단계; 및 상기 보호층을 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.

Description

이종 재질의 다층 회로기판 및 그 제조 방법 {multi-layer printed circuit board made of different materials and manufacturing method of the same}
본 발명은 다층 회로기판 및 다층 회로기판을 제조하는 방법에 관한 것이다.
반도체 공정의 미세화와 소자의 고집적화에 따라 프로브 핀(probe pin) 수 증가와 패드 크기 감소 및 파인 피치(fine pitch)화가 요구되고 있어 다층(multi layer) 기판 개발이 필요하다. 반도체 소자 회로의 복잡성과 밀도 증가로 인해 기술적, 설계적으로 한계를 도전 받고 있어 테스트 채널 확장을 위해서는 회로층 증가를 피할 수 없다
회로층의 증가는 제조 소요시간(TAT : turn around time) 및 제품 제조의 난이도 증가 요인이 될 뿐만 아니라 회로층 증가에 의한 평탄도 문제를 야기한다.
종래의 다층 회로기판 제조방법은 세라믹 기판 위에 액상 폴리이미드 또는 폴리이미드 시트를 순차적으로 형성하여 다층 회로기판을 제조하는 방식이다. 종래의 제조방법에 따르면, 다층 회로기판의 각 층은 동일한 과정이 반복되어 제조될 수 있다. 다층 회로기판의 첫번째 층이 제조된 후, 첫번째 층 제조과정과 동일한 과정이 반복되어 첫번째 층의 상부에 두번째 층이 형성될 수 있다. 이러한 방식이 반복되어 세번째, 네번째 및 그 이상의 추가적인 회로기판층이 제조될 수 있다. 구체적으로는 각 층을 제조하는 과정에서 세라믹 기판의 일면에 액상 폴리이미드 코팅, 열접합 공정, 드릴 공정, 스퍼터링(sputtering) 공정, 드라이필름 포토레지스트를 이용한 회로패턴 도금 공정, 식각 공정이 수행될 수 있다.
종래 제조방법으로 제작된 다층 회로기판은 각 층이 평탄하게 구현되기 어렵다. 종래의 제조방법에 따르면, 다층 회로기판의 각 층의 제조과정에서 각각 열접합 공정을 수행된다. 그런데, 각 재료간 열팽창계수(CTE : coefficient of thermal expansion)에 차이가 있으므로, 각 재료가 가열될 경우 팽창의 정도에 차이가 생겨 열응력(thermal stress)에 의한 각 재료들의 굽힘(bending)이 발생하게 된다. 이러한 굽힘(bending)에 의한 부재들의 변형으로 인해 각 층을 평탄하게 구현하기 어려워진다.
또한, 종래의 제조방법으로 다층 회로기판을 제조하는 경우 제작 기간이 상대적으로 길어지게 된다. 종래의 제조방법과 같이 세라믹 기판 위에 액상 폴리이미드를 한 개 층씩 쌓아 올리는 형식으로 회로기판을 제조하는 경우, 총 층수가 높아질수록 제조공정이 층의 개수만큼 반복되므로 회로기판의 제작 기간이 길어지게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판 및 그 제조방법은 열접합 공정을 최소화하여 각 층이 평탄하게 구현된 다층 회로기판을 제공하고, 다층 회로기판의 제작 기간을 감축시키는데 목적이 있다.
본 발명은 접착부; 상기 접착부의 일면에 결합되는 세라믹 기판부; 및 상기 접착부의 타면에 결합되며 상기 세라믹 기판부와 다른 재질을 포함하는 인쇄회로기판부;를 포함하고, 상기 접착부는 접착 물질을 포함하는 접착층; 상기 접착층을 관통하는 접착부 개구; 및 상기 접착부 개구 내부에 채워지는 전도성 페이스트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판을 제공한다.
본 발명의 일실시예에 따른 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법은 상기 세라믹 기판부를 제공하는 단계; 상기 인쇄회로기판부를 제공하는 단계; 상기 세라믹 기판부와 상기 인쇄회로기판부를 연결할 수 있는 상기 접착부를 제작하는 단계; 및 상기 인쇄회로기판부, 상기 접착부 및 상기 세라믹 기판부를 일괄 접합하는 단계;를 포함하고, 상기 접착부를 제작하는 단계는, 상기 접착층의 일면과 타면에 보호층을 접합하는 단계; 상기 접착층과 상기 보호층을 관통하는 상기 접착부 개구를 형성하는 단계; 상기 접착부 개구에 상기 전도성 페이스트를 채우는 단계; 및 상기 보호층을 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.
본 발명은 이종 재질의 기판을 별도의 접착부를 제작하여 연결하는 방식으로 다층 회로기판의 제작기간을 단축 할 수 있다. 또한, 본 발명은 세라믹 기판부, 접합부, 인쇄회로기판부를 동시 제작한 후에 최종단계에서 일괄적으로 접합하는 방식이므로, 종래에는 각 층별로 수행하였던 열 공정을 최종 단계에서 한 번만 수행할 수 있다. 열 공정의 최소화로 인해 굽힘(Bending)에 의한 문제를 완화시켜 다층 회로기판을 평탄하게 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 기판부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판부를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판을 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판의 제조방법을 나타내는 순서도이다.
도 6a 내지 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부의 제작과정 및 기능을 나타내는 설명도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부, 세라믹 기판부 및 인쇄회로기판부를 접합하기 위해 배치한 모습을 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부, 세라믹 기판부 및 인쇄회로기판부를 열압착하는 모습을 나타내는 설명도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200)를 나타내는 단면도이다.
접착부(200)는 접착층(205), 접착부 개구(215) 및/또는 전도성 페이스트(conductive paste, 220)를 포함할 수 있다.
접착층(205)은 접착 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 접착층(205)의 구성 성분은 프리프레그(prepreg : pre impregnated material)를 포함할 수 있다. 프리프레그는 강화 섬유에 특수하게 혼합된 에폭시 레진(resin)를 합침시켜 만든 재료를 의미한다. 프리프레그는 내열성 및 강도가 우수하고, 높은 화학적 안정성을 지닐 수 있다. 또한, 레진(resin)의 흐름성이 적은 프리프레그를 사용하여 치수 안정성을 지닐 수 있다.
접착층(205)은 접착층(205)의 일면에 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)를 접착할 수 있다. 접착층(205)은 접착층(205)의 타면에 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 접착할 수 있다.
도 1은 접착부 개구(215)를 편의상 1개만 도시하였으나, 접착부 개구(215)의 개수는 이에 한정되지 않는다. 접착층(205)은 접착부 개구(215)를 복수 개 포함할 수 있다. .
접착부 개구(215)는 전도성 페이스트(220)를 채울 수 있는 공간을 포함할 수 있다. 전도성 페이스트(220)는 접착부 개구(215) 내부에 채워질 수 있다. 전도성 페이스트(220)는 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 전도성 페이스트(220)는 구리와 주석 합금 물질을 포함할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 기판부(300)를 나타내는 단면도이다
본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 기판부(300)는 세라믹 기판(305), 세라믹 관통홀(310), 상부 도전층(315) 및/또는 하부 도전층(320)을 포함할 수 있다.
세라믹 기판(305)은 세라믹 기판부(300) 구조의 기본이 되는 기판의 역할을 할 수 있다. 세라믹 기판(305)은 세라믹 물질을 포함할 수 있다. 세라믹 물질은 전기적 절연성 및 기계적 강도가 우수하고, 높은 열 저항성 및 화학에 대한 안정성을 지닐 수 있다.
세라믹 기판(305)은 반도체에 사용되는 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)와 열팽창계수(CTE : coefficient of thermal expansion)가 유사하여 반도체를 검사하는 용도로 사용될 수 있다.
세라믹 기판(305)은 세라믹 관통홀(310)을 포함할 수 있다. 세라믹 관통홀(310)은 세라믹 기판(305) 내에 복수 개 형성될 수 있다. 세라믹 관통홀(310)은 상부 도전층(315)과 하부 도전층(320)을 전기적으로 연결하는 통로 역할을 할 수 있다. 세라믹 관통홀(310)은 기계적 드릴 가공을 통해 형성될 수 있다.
다양한 실시예에서, 세라믹 기판(305)은 세라믹 기판(305)의 적어도 일부에 상부 도전층(315) 및 하부 도전층(320)이 위치할 수 있다. 세라믹 기판(305)의 제 1 면(305A)은 세라믹 기판(305)의 하부면이고, 세라믹 기판(305)의 제 2 면(305B)은 세라믹 기판(305)의 상부면일 수 있다. 세라믹 기판(305)은 세라믹 기판(305)의 제 1 면(305A)(예를 들면, 세라믹 기판(305)의 하부면)에 하부 도전층(320)이 위치할 수 있다. 세라믹 기판(305)은 세라믹 기판(305)의 제 2 면(305B)(예를 들면, 세라믹 기판(305)의 상부면)에 상부 도전층(315)이 위치할 수 있다.
상부 도전층(315)과 하부 도전층(320)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상부 도전층(315)과 하부 도전층(320)은 구리, 금, 니켈 중에서 어느 하나의 금속이나 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 전기전도성, 내구성, 경제성 등을 종합적으로 고려하여 구리로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다.
상부 도전층(315)과 하부 도전층(320)은 회로패턴(325)을 포함할 수 있다. 회로패턴(325)은 포토리소그래피공정, 도금 공정 및 식각공정 등을 거쳐 형성될 수 있다.
세라믹 관통홀(310)의 제 1 개구(310A)는 세라믹관통홀(310)의 하부 개구이고, 제 2 개구(310B)는 세라믹 관통홀(310)의 상부 개구일 수 있다. 하부 도전층(320)은 세라믹 관통홀(310)의 제 1 개구(310A)(예를 들면, 세라믹관통홀(310)의 하부 개구)에 형성될 수 있다. 상부 도전층(315)은 세라믹 관통홀(310)의 제 2 개구(310B)(예를 들면, 세라믹 관통홀(310)의 상부 개구)에 형성될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판부(400)를 나타내는 단면도이다.
인쇄회로기판부(400)는 도전층(405), 코어층(410), 중간층(415) 및/또는 관통홀(420)을 포함할 수 있다.
도전층(405)은 코어층(410)의 일면과 타면에 형성될 수 있다. 도전층(405)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 도전층(405)은 구리, 금, 니켈 중에서 어느 하나의 금속이나 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 전기전도성, 내구성, 경제성 등을 종합적으로 고려하여 구리로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다.
코어층(410)은 인쇄회로기판부(400) 구조의 기본이 되는 기판의 역할을 할 수 있다. 코어층(410)은 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)와 다른 재질을 포함할 수 있다. 코어층(410)은 절연성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 코어층(410)의 구성 성분은 폴리이미드를 포함할 수 있다. 코어층(410)의 일면과 타면에는 도전층(405)이 형성될 수 있다.
중간층(415)은 코어층(410)과 코어층(410) 사이에 형성될 수 있다. 중간층(415)은 절연 및 접착 물질을 포함할 수 있으며, 각각의 코어층(410)을 연결하는 접착제의 역할을 할 수 있다.
관통홀(420)은 코어층(410)의 일면과 타면에 형성된 각 도전층(405) 사이에형성될 수 있다. 관통홀(420)은 각 도전층(405)을 전기적으로 연결하는 통로 역할을 할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판(20)을 나타내는 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판(20)은 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및/또는 인쇄회로기판부(400)를 포함할 수 있다.
다양한 실시예에서, 접착부(200)는 접착부(200)의 적어도 일부에 세라믹 기판부(300) 혹은 인쇄회로기판부(400)가 결합할 수 있다. 접착부(200)의 제 1 면(200A)은 접착부(200)의 하부면이고, 접착부(200)의 제 2 면(200B)은 접착부(200)의 상부면일 수 있다. 접착부(200)는 접착부(200)의 제 1 면(200A)(예를 들면, 접착부(200)의 하부면)에 세라믹 기판부(300)가 접착하여 결합할 수 있다. 접착부(200)는 접착부(200)의 제 2 면(200B)(예를 들면, 접착부(200)의 상부면)에 인쇄회로기판부(400)가 접착하여 결합할 수 있다.
전도성 페이스트(220)는 접착부(200)의 제 1 면(200A)에 위치하는 세라믹 기판부(300)의 상부 도전층(315)과 접착부(200)의 제 2 면(200B)에 위치한 인쇄회로기판부(400)의 도전층(405) 사이를 전기적으로 연결하는 역할을 할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판(20, 도 4 참조)의 제조방법을 나타내는 순서도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 회로기판(20, 도 4 참조)의 제조방법은 접착부(200, 도 1 참조)를 제작하고, 세라믹 기판부(300, 도 2 참조) 및 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 제공하는 단계(S21); 접착부(200, 도 1 참조), 세라믹 기판부(300, 도 2 참조) 및 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 일괄 접합하는 단계(S22);를 포함한다.
S21 단계에서, 접착층(205, 도 1 참조)을 포함하는 접착부(200, 도 1 참조)를 제작할 수 있다. (도6a, 도 6b 참조) 접착부(200, 도 1 참조)는 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)와 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 접착하여 결합할 수 있다.
S21 단계에서, 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)를 제공할 수 있다. 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)는 세라믹 기판(305, 도 2 참조), 세라믹 관통홀(310, 도 2 참조), 상부 도전층(315, 도 2 참조) 및/또는 하부 도전층(320, 도 2 참조)을 포함할 수 있다.
S21 단계에서, 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 제공할 수 있다. 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)는 도전층(405, 도 3 참조), 코어층(410, 도 3 참조), 중간층(415, 도 3 참조) 및/또는 관통홀(420, 도 3 참조)을 포함할 수 있다.
S22 단계에서, 접착부(200, 도 1 참조), 세라믹 기판부(300, 도 2 참조) 및 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)를 일괄 접합할 수 있다. 접합을 위해 접착부(200, 도 7 참조), 세라믹 기판부(300, 도 7 참조) 및 인쇄회로기판부(400, 도 7 참조)를 배치할 수 있다. (도 7 참조) 배치된 접착부(200, 도 8 참조), 세라믹 기판부(300, 도 8 참조) 및 인쇄회로기판부(400, 도 8 참조)는 프레스 장치(미도시)를 이용하여 열압착되어 일괄 접합될 수 있다. (도 8 참조)
도 6a 내지 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200)의 제작과정 및기능을 나타내는 설명도이다. 도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200)의 제작 과정 및 기능을 도시하는 순서도이다. 도 6b는 도 6a에 도시된 순서에 따라 접착부(200)가 제작되는 과정 및 접착부(200)의 기능을 나타내는 설명도이다.
도 6a 내지 도 6b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200)의 제작 과정은 접착층(205)과 보호층(210)을 접합하는 단계(S201); 접착층(205)과 보호층(210)을 관통하는 접착부 개구(215)를 형성하는 단계(S202); 접착부 개구(215)에 전도성 페이스트(220)을 채우는 단계(S203); 보호층(210)을 제거하는 단계(S204);를 포함한다. 완성된 접착부(200)는 접착부(200)의 일면과 타면에 회로기판(230)을 접합 하는 기능(S205);을 수행할 수 있다.
S201 단계에서, 보호층(210)이 접착층(205)의 일면과 타면에 접합될 수 있다. 보호층(210)은 접착부 개구(215) 및 전도성 페이스트(220) 형성 단계(S202, S203)에서 접착층(205)의 손상을 방지하거나, 접착층(205)에 이물질이 유입되는 것을 막아줄 수 있다.
보호층(210)의 구성 성분은 PET(polyethylene terephthalate)를 포함할 수 있다. PET는 열가소성 필름으로 성형이 용이하고, 이물질 유입을 막아 접착층(205)을 보호하는 데 효과적일 수 있다.
S202 단계에서, 접착층(205)과 보호층(210)을 관통하는 접착부 개구(215)가 형성될 수 있다.
접착부 개구(215)는 전도성 페이스트(220)를 채울 수 있는 공간을 포함할 수 있다.
접착층(205)과 보호층(210)은 적어도 일부에 접착부 개구(215)를 포함할 수 있다. 접착부 개구(215)는 기계적 드릴 방식으로 형성될 수 있다.
도 6b는 접착부 개구(215)를 편의상 1개만 도시하였으나, 접착부 개구(215)의 개수는 이에 한정되지 않으며, 접착층(205) 및 보호층(210)은 접착부 개구(215)를 복수 개 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200)를 제작하는 과정은 접착부 개구(215)을 형성한 후에 접착부 개구(215) 내부를 세정하는 공정을 포함할 수 있다. 접착부 개구(215) 내부를 세정하기 위해 플라즈마(plasma)를 이용한 세정 공정이 이용될 수 있다. 세정 공정은 접착부 개구(215)를 형성하는 과정에서 생성된 먼지 등을 제거하여 S203 단계에서 전도성 페이스트(220)를 접착부 개구(215) 내부에 채우기 용이하도록 할 수 있다.
S203 단계에서, 접착부 개구(215) 내부에 전도성 페이스트(220)가 채워질 수 있다. 접착부 개구(215) 내부에 전도성 페이스트(220)가 채워지기 위해 별도의 부재를 이용하여 물질을 구멍에 밀어 넣는 방식이 사용될 수 있다. 스퀴저(squeezer, 미도시)와 같이 물질에 압력을 가할 수 있는 부재가 전도성 페이스트(220)를 접착부 개구(215)내부에 밀어 넣기 위해 사용될 수 있다.
S204 단계에서, 접착층(205)의 일면과 타면에 형성되어 있는 보호층(210)이 제거될 수 있다. 보호층(210)은 S202 단계 및 S203 단계에서 접착층(205)의 손상을 방지하기 위한 역할을 하지만, 접착층(205)에 회로기판(230)을 접합 할 때는 다른 기능을 하지 않을 수 있으므로, S204 단계에서 제거될 수 있다.
S201 내지 S204 단계의 제작 공정이 모두 수행된 경우, 접착부(200, 도 1 참조)가 제작될 수 있다.
도 6b의 S205 단계는 S201 내지 S204 단계를 거쳐 완성된 접착부(200)의 역할을 도시한다. S205 단계에서, 접착부(200)의 일면과 타면에 회로기판(230)이 접착하여 결합될 수 있다. 도 6b에 도시된 회로기판(230)은 세라믹 기판부(300, 도 2 참조)나 인쇄회로기판부(400, 도 3 참조)와 같은 회로패턴이 형성되어 있는 기판을 의미할 수 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)를 접합하기 위해 배치한 모습을 나타내는 단면도이다.
다양한 실시예에서, 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)는 이격을 두고 배치될 수 있다. 접착부(200)는 접착부(200)의 제 1 면(200A)(예를 들면, 접착부(200)의 하부면)에 세라믹 기판부(300)가 이격을 두고 위치할 수 있다. 접착부(200)는 접착부(200)의 제 2 면(200B)(예를 들면, 접착부(200)의 상부면)에 인쇄회로기판부(400)가 이격을 두고 위치할 수 있다.
도 7은 접착부(200)가 접착부 개구(215) 및 전도성 페이스트(220)를 한 개 포함한 것으로 도시하였으나, 접착부(200)에 포함된 접착부 개구(215) 및 전도성 페이스트(220)의 개수는 이에 한정되지 않는다.
전도성 페이스트(220)는 세라믹 기판부(300)에 포함된 상부 도전층(315) 및 인쇄회로기판부(400)에 포함된 도전층(405)의 전부 또는 일부와 만날 수 있는 위치에 형성될 수 있다. 예를 들면, 전도성 페이스트(220)는 접착부(200)의 제 1 면(200A)(하부면)에 이격을 두고 위치하는 세라믹 기판부(300)의 상부 도전층(315)과 만날 수 있는 위치에 형성될 수 있다. 또한, 전도성 페이스트(220)는 접착부(200)의 제 2 면(200B)(상부면)에 이격을 두고 위치하는 인쇄회로기판부(400)의 도전층(405)과 만날 수 있는 위치에 형성될 수 있다.
접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)의 위치는 지지부재(미도시)를 이용하여 임시적으로 고정될 수 있다. 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)의 일측과 타측에는 지지부재(미도시)를 임시적으로 결합시키기 위한 홀(미도시)이 형성될 수 있다. 상기 지지부재(미도시)는 상기 홀(미도시)에 임시적으로 결합되여 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)를 이격을 두고 정렬시킬 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)를 열압착하는 모습을 나타내는 설명도이다.
세라믹 기판부(300)의 제 1 면(300A)은 세라믹 기판부(300)의 하부면이고, 제 2 면(300B)은 세라믹 기판부(300)의 상부면일 수 있다. 인쇄회로기판(400)의 제 1 면(400A)은 인쇄회로기판부(400)의 하부면이고, 제 2 면(400B)은 인쇄회로기판부(400)의 상부면일 수 있다.
인쇄회로기판부(400)의 제 2 면(400B)(예를 들면, 인쇄회로기판부(400)의 상부면) 및 세라믹 기판부(300)의 제 1 면(300A)(예를 들면, 세라믹 기판부(300)의 하부면)에 프레스 장치(미도시)가 위치할 수 있다.
이러한 프레스 장치(미도시)는 핫프레스(hot press) 장치 일 수 있으며, 인쇄회로기판부(400)의 제 2 면(400B)(상부면)과 세라믹 기판부(300)의 제 1 면(300A)(하부면)에 열과 압력을 가하는 역할을 할 수 있다. 상기 프레스 장치(미도시)에서 발생하는 열과 압력은 접착부(200)로 전달될 수 있다. 전달된 열과 압력을 통해 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400) 간의 간격이 없어지고 압착이 될 수 있다.
접착부(200)는 열과 압력을 받아 경화되어 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)를 완전하게 접착시킬 수 있다.
전도성 페이스트(220)는 열과 압력을 전달받아 소결(Sintering) 작용을 할 수 있다. 즉, 프레스 장치(미도시)에서 발생한 열과 압력으로 인하여 전도성 페이스트(220)는 분말 상태에서 합금 상태로 변화할 수 있으며, 이를 통해 다층 회로기판(20)의 구성에 필요한 기계적 강도를 지닐 수 있다.
프레스 장치(미도시)를 통한 열압착을 완료한 후에 접착부(200), 세라믹 기판부(300) 및 인쇄회로기판부(400)의 일측과 타측에 임시적으로 결합되어 있는 지지부재(미도시)가 제거될 수 있다.
이상으로 본 발명에 관하여 실시예를 들어 설명하였지만 반드시 이에 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범주 내에서는 얼마든지 수정 및 변형 실시가 가능하다.
20: 다층 회로기판 200: 접착부
205: 접착층 210: 보호층
215: 접착부 개구 220: 전도성 페이스트
230: 회로기판 300: 세라믹 기판부
305: 세라믹 기판 310: 세라믹 관통홀
315: 상부 도전층 320: 하부 도전층
400: 인쇄회로기판부 405: 도전층
410: 코어층 415: 중간층
420: 관통홀
200A : 접착부 제 1 면 200B : 접착부 제 2 면
300A : 세라믹 기판부 제 1 면 300B : 세라믹 기판부 제 2 면
305A : 세라믹 기판 제 1 면 305B : 세라믹 기판 제 2 면
310A : 세라믹 관통홀 제 1 개구 310B : 세라믹 관통홀 제 2 개구
400A : 인쇄회로기판부 제 1 면 400B : 인쇄회로기판부 제 2 면

Claims (10)

  1. 접착부;
    상기 접착부의 일면에 결합되는 세라믹 기판부; 및
    상기 접착부의 타면에 결합되며 상기 세라믹 기판부와 다른 재질을 포함하는 인쇄회로기판부;를 포함하고,
    상기 접착부는,
    접착 물질을 포함하는 접착층;
    상기 접착층을 관통하여 형성되는 접착부 개구; 및
    상기 접착부 개구 내부에 채워지는 전도성 페이스트;를 포함하는 이종 재질의 다층 회로기판
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 접착층의 구성 성분은 프리프레그(prepreg)를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 접착층은 상기 접착부 개구를 복수 개 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판
  4. 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법에 있어서,
    상기 세라믹 기판부를 제공하는 단계;
    상기 인쇄회로기판부를 제공하는 단계;
    상기 세라믹 기판부와 상기 인쇄회로기판부를 연결할 수 있는 상기 접착부를 제작하는 단계; 및
    상기 인쇄회로기판부, 상기 접착부 및 상기 세라믹 기판부를 일괄 접합하는 단계;를 포함하고,
    상기 접착부를 제작하는 단계는,
    상기 접착층의 일면과 타면에 보호층을 접합하는 단계;
    상기 접착층과 상기 보호층을 관통하는 상기 접착부 개구를 형성하는 단계;
    상기 접착부 개구에 상기 전도성 페이스트를 채우는 단계; 및
    상기 보호층을 제거하는 단계;를 포함하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 접착층의 구성 성분은 프리프레그(prepreg)를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 보호층의 구성 성분은 PET(polyethylene terephthalate)를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  7. 제 4항에 있어서,
    상기 접착층은 상기 접착부 개구를 복수 개 포함하는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  8. 제 4항에 있어서,
    상기 접착부 개구는 기계적 드릴을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  9. 제 4항에 있어서,
    상기 접착부 개구를 형성하는 단계 이후에 상기 접착부 개구를 세정하는 단계를 더 포함하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
  10. 제 4항에 있어서,
    상기 일괄접합단계는,
    상기 인쇄회로기판부, 상기 접착부 및 상기 세라믹 기판부의 일측과 타측을 지지부재로 고정하는 단계;
    상기 인쇄회로기판부의 일면과 상기 세라믹 기판부의 일면을 가열 및 가압하여 상기 인쇄회로기판부, 상기 접착부 및 상기 세라믹 기판부를 접합하는 단계; 및
    상기 지지부재를 제거하는 단계;를 포함하는 이종 재질의 다층 회로기판 제조방법.
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