KR20220115599A - liquid crystal panel - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 155
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 312
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims abstract description 60
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims abstract description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 406
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 30
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 23
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 14
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 76
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 76
- -1 For example Substances 0.000 description 73
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 71
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 53
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 31
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 23
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 21
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 17
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 17
- 239000002585 base Substances 0.000 description 17
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 12
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 12
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 11
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 9
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 6
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940114077 acrylic acid Drugs 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 5
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 4
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KANZWHBYRHQMKZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylpyrazine Chemical compound C=CC1=CN=CC=N1 KANZWHBYRHQMKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016467 AlCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Divinylene sulfide Natural products C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N methoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[SiH2]CCCOCC1CO1 GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 2
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3-dione Chemical group CCC(=O)C(C)=O TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 2
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCRYNQTXGUTACA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperazine Chemical compound C=CN1CCNCC1 DCRYNQTXGUTACA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBGPBHYPCGDFEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperidin-2-one Chemical compound C=CN1CCCCC1=O PBGPBHYPCGDFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethane-1,2-diol Chemical compound COC(O)CO CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSWFISOPXPJUCT-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-methylidenepyrrolidine-2,5-dione Chemical compound CN1C(=O)CC(=C)C1=O QSWFISOPXPJUCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-enylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC=CN1CCCC1=O BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)N1C(=O)C=CC1=O NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYZQSVQOJXJMNI-UHFFFAOYSA-N 10-hydroxy-2-methylidenedecanoic acid Chemical compound OCCCCCCCCC(=C)C(O)=O XYZQSVQOJXJMNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXDHSIJYPCDOM-UHFFFAOYSA-N 10-triethoxysilyldecyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCOC(=O)C=C ZZXDHSIJYPCDOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXBOUPUNKULVKB-UHFFFAOYSA-N 10-trimethoxysilyldecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C BXBOUPUNKULVKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCQJKEYNLSZZNO-UHFFFAOYSA-N 10-trimethoxysilyldecyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCOC(=O)C=C CCQJKEYNLSZZNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGMMQIGGQSIEGH-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NC=CO1 PGMMQIGGQSIEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZNSQRLUUXWLSB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1h-pyrrole Chemical compound C=CC1=CC=CN1 MZNSQRLUUXWLSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHWTWWXCXEGIC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylpyrimidine Chemical compound C=CC1=NC=CC=N1 ZDHWTWWXCXEGIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)CS(O)(=O)=O AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEXUTOBUVQBHCH-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-yloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=C21 OEXUTOBUVQBHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 2-pentanol Substances CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLSDAJRAVOVKLG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxymandelic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C1=CC=CC(O)=C1 OLSDAJRAVOVKLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)NC1=O FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2,2-bis(trifluoromethyl)-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O1 YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylmorpholine Chemical compound C=CN1CCOCC1 CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000552 LiCF3SO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O Piperidinium(1+) Chemical compound C1CC[NH2+]CC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- URLYGBGJPQYXBN-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound OCC1CCC(COC(=O)C=C)CC1 URLYGBGJPQYXBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVQAJHYYWVAKPP-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Ti+4].[Sn+2]=O.[O-2].[O-2] Chemical compound [O-2].[Ti+4].[Sn+2]=O.[O-2].[O-2] JVQAJHYYWVAKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCXYJRNVVZVBRB-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Ce+3].[O-2].[Ti+4] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[Ce+3].[O-2].[Ti+4] PCXYJRNVVZVBRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N [azido(phenoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(N=[N+]=[N-])OC1=CC=CC=C1 SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(2-hydroxyethoxy)phosphoryl] prop-2-enoate Chemical compound OCCOP(O)(=O)OC(=O)C=C KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021383 artificial graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 125000000853 cresyl group Chemical group C1(=CC=C(C=C1)C)* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLBJHMHFNBRQBD-UHFFFAOYSA-N dec-9-enyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCC=C LLBJHMHFNBRQBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIMISJTWARSKOJ-UHFFFAOYSA-N dec-9-enyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCC=C IIMISJTWARSKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- FRXGWNKDEMTFPL-UHFFFAOYSA-N dioctadecyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC FRXGWNKDEMTFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDEXUEFDPVHGHE-GGMCWBHBSA-L disodium;(2r)-3-(2-hydroxy-3-methoxyphenyl)-2-[2-methoxy-4-(3-sulfonatopropyl)phenoxy]propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].COC1=CC=CC(C[C@H](CS([O-])(=O)=O)OC=2C(=CC(CCCS([O-])(=O)=O)=CC=2)OC)=C1O YDEXUEFDPVHGHE-GGMCWBHBSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- YXOGSLZKOVPUMH-UHFFFAOYSA-N ethene;phenol Chemical group C=C.OC1=CC=CC=C1 YXOGSLZKOVPUMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- CGQIJXYITMTOBI-UHFFFAOYSA-N hex-5-enyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCC=C CGQIJXYITMTOBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910003473 lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide Inorganic materials 0.000 description 1
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N n-ethenylformamide Chemical class C=CNC=O ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLVJUZOHXPZVLR-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yl prop-2-enoate Chemical class C1=CC=CC2=CC(OC(=O)C=C)=CC=C21 SLVJUZOHXPZVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021382 natural graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- UHGIMQLJWRAPLT-UHFFFAOYSA-N octadecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O UHGIMQLJWRAPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002270 phosphoric acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Chemical class 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920001444 polymaleic acid Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920000417 polynaphthalene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYSDIOEHLMYRS-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hex-5-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCC=C RKYSDIOEHLMYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
본 발명은, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있는 액정 패널을 제공한다. 본 발명의 액정 패널은, 반사 방지막(10), 편광 필름(20) 및 점착제층(30)를 적층 방향으로 이 순으로 가짐과 함께, 도전층(40)을 더 갖는 반사 방지막 구비 편광 필름(15)과, 액정 셀(25)을 구비한다. 반사 방지막 구비 편광 필름과 액정 셀 사이에는 도전층이 마련되어 있지 않다. 반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 도전층의 표면 저항률은, 1.0×106Ω/□ 이하이다. 반사 방지막 구비 편광 필름은, 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태에서, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 점착제층과는 반대측의 표면으로부터 입사하였을 때, 시감 반사율 Y가 1.1% 이하인 반사광을 발생시킨다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a liquid crystal panel capable of improving visibility of a liquid crystal display device while preventing display defects due to charging of the liquid crystal display device. The liquid crystal panel of the present invention has an antireflection film 10 , a polarizing film 20 , and an adhesive layer 30 in this order in the lamination direction, and a polarizing film 15 with an antireflection film further having a conductive layer 40 . ) and a liquid crystal cell 25 . A conductive layer is not provided between the polarizing film with an antireflection film and a liquid crystal cell. The surface resistivity of the conductive layer which the polarizing film with antireflection film has is 1.0x10 6 ohm/square or less. The polarizing film with an antireflection film has a luminous reflectance Y when light from the CIE standard light source D65 is incident from the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer in a state in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with alkali-free glass so that the pressure-sensitive adhesive layer is in direct contact with the alkali-free glass. 1.1% or less of reflected light is generated.
Description
본 발명은, 액정 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal panel.
액정 표시 장치는, 예를 들어 편광 필름이 액정 셀보다도 시인측에 배치된 구조를 갖는 액정 패널과, 액정 패널에 광을 조사하는 조명 시스템을 구비한다. 액정 표시 장치는, 액정 셀에 전압을 인가하여, 액정 셀에 포함되는 액정 분자의 배향을 조절함으로써 화상을 표시한다.A liquid crystal display device is equipped with the liquid crystal panel which has a structure in which a polarizing film is arrange|positioned on the visual recognition side rather than a liquid crystal cell, for example, and the illumination system which irradiates light to a liquid crystal panel. A liquid crystal display device displays an image by applying a voltage to a liquid crystal cell and adjusting the orientation of the liquid crystal molecule contained in a liquid crystal cell.
액정 표시 장치에서는, 그 제조 시, 예를 들어 점착제층을 개재하여 편광 필름을 액정 셀에 접합할 때, 또는, 사용 시, 예를 들어 사용자가 액정 표시 장치에 접촉할 때, 정전기가 발생한다. 이 정전기에 의해, 액정 표시 장치가 대전되는 경우가 있다. 액정 표시 장치가 대전되면, 액정 셀에 포함되는 액정 분자의 배향이 흐트러져, 표시 불량이 발생할 수 있다. 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지하기 위해, 예를 들어 편광 필름측의 액정 셀의 표면에 ITO(산화인듐주석)층을 배치하는 것이 알려져 있다.In a liquid crystal display device, static electricity is generated at the time of manufacture, for example, when bonding a polarizing film to a liquid crystal cell via an adhesive layer, or when using, for example, when a user contacts a liquid crystal display device. This static electricity may cause the liquid crystal display to be charged. When the liquid crystal display device is charged, the alignment of liquid crystal molecules included in the liquid crystal cell may be disturbed, and display defects may occur. In order to prevent the display defect by charging of a liquid crystal display device, it is known, for example to arrange|position an ITO (indium tin oxide) layer on the surface of the liquid crystal cell by the side of a polarizing film.
그러나, 비용 등의 관점에서, 상기 ITO층은 생략되는 경우가 있다. 예를 들어, 특허문헌 1 및 2에는, 편광 필름측의 액정 셀의 표면에 ITO층이 배치되어 있지 않고, 점착제층 구비 편광 필름이 액정 셀에 직접 접하고 있는 액정 패널이 개시되어 있다.However, the said ITO layer may be abbreviate|omitted from a viewpoint of cost etc. For example, an ITO layer is not arrange|positioned on the surface of the liquid crystal cell by the side of a polarizing film by
편광 필름측의 액정 셀의 표면에 ITO층이 배치되어 있지 않은 액정 표시 장치는, 정전기가 특히 발생하기 쉬운 환경, 예를 들어 차량의 내부와 같이 다른 전자 기기가 주위에 존재하는 환경에서 사용된 경우에, 대전에 의한 표시 불량을 충분히 방지하는 것이 어렵다. 또한, 액정 표시 장치는, 예를 들어 차량 탑재용 디스플레이로서 사용되는 경우에, 안전성의 관점에서 양호한 시인성이 요구된다.When the liquid crystal display device in which the ITO layer is not disposed on the surface of the liquid crystal cell on the polarizing film side is used in an environment where static electricity is particularly likely to occur, for example, in an environment where other electronic devices are present, such as inside a vehicle. Therefore, it is difficult to sufficiently prevent display defects due to charging. Moreover, good visibility is calculated|required from a viewpoint of safety|security, when a liquid crystal display device is used as an on-vehicle display, for example.
그래서 본 발명은, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있는 액정 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, an object of this invention is to provide the liquid crystal panel which can improve the visibility of a liquid crystal display device while preventing the display defect by charging of a liquid crystal display device.
본 발명은,The present invention is
반사 방지막, 편광 필름 및 점착제층을 적층 방향으로 이 순으로 가짐과 함께, 도전층을 더 갖는 반사 방지막 구비 편광 필름과,A polarizing film with an antireflection film which has an antireflection film, a polarizing film, and an adhesive layer in this order in a lamination direction, and further has a conductive layer;
액정 셀liquid crystal cell
을 구비하고,to provide
상기 반사 방지막 구비 편광 필름과 상기 액정 셀 사이에는 도전층이 마련되어 있지 않고,A conductive layer is not provided between the polarizing film with an antireflection film and the liquid crystal cell,
상기 반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 상기 도전층의 표면 저항률은, 1.0×106Ω/□ 이하이고,The surface resistivity of the conductive layer of the polarizing film with an antireflection film is 1.0×10 6 Ω/□ or less,
상기 반사 방지막 구비 편광 필름은, 상기 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 상기 무알칼리 유리와 적층된 상태에서, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 상기 점착제층과는 반대측의 표면으로부터 입사하였을 때, 시감 반사율 Y가 1.1% 이하인 반사광을 발생시키는, 액정 패널을 제공한다.When the polarizing film with an antireflection film is in a state in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with the alkali-free glass so that the pressure-sensitive adhesive layer is in direct contact with the alkali-free glass, light from the CIE standard light source D65 is incident from the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer, A liquid crystal panel that generates reflected light having a luminous reflectance Y of 1.1% or less is provided.
본 발명에 따르면, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있는 액정 패널을 제공할 수 있다.Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel capable of preventing display defects due to charging of the liquid crystal display and improving the visibility of the liquid crystal display.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 액정 패널의 단면도이다.
도 2는 반사 방지막의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 3은 반사 방지막의 다른 일례를 도시하는 단면도이다.
도 4는 액정 패널의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 5는 액정 패널의 다른 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 6은 실시예 및 비교예의 반사 방지막 구비 편광 필름으로부터의 반사광의 a*값 및 b*값의 관계를 나타내는 그래프이다.1 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing an example of an antireflection film.
3 is a cross-sectional view showing another example of the antireflection film.
4 is a cross-sectional view showing a modified example of the liquid crystal panel.
5 is a cross-sectional view showing another modified example of the liquid crystal panel.
It is a graph which shows the relationship between the a * value and b * value of the reflected light from the polarizing film with an antireflection film of an Example and a comparative example.
이하, 본 발명의 상세를 설명하지만, 이하의 설명은, 본 발명을 특정 실시 형태로 제한한다는 취지는 아니다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the following description is not intended to limit the present invention to specific embodiments.
(액정 패널의 실시 형태)(Embodiment of liquid crystal panel)
도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 액정 패널(100)은, 반사 방지막 구비 편광 필름(15) 및 액정 셀(25)을 구비한다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)과 액정 셀(25) 사이에는 도전층, 예를 들어 ITO층이 마련되어 있지 않고, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 액정 셀(25)에 직접적 또는 간접적으로 접하고 있다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)과 액정 셀(25) 사이에는, 본 발명의 효과를 방해하지 않는 범위에서, 도전층 이외의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 반사 방지막(10), 편광 필름(20) 및 점착제층(30)을 적층 방향으로 이 순으로 가짐과 함께, 도전층(40)을 더 갖는다. 도전층(40)은, 예를 들어 편광 필름(20)과 점착제층(30) 사이에 배치되어 있으며, 편광 필름(20) 및 점착제층(30)의 각각에 접하고 있다. 도전층(40)이 편광 필름(20)과 점착제층(30) 사이에 배치되어 있는 경우, 도전층(40)의 열화가 억제되는 경향이 있다. 단, 도전층(40)은, 편광 필름(20)과 점착제층(30) 사이 이외에 배치되어 있어도 되고, 예를 들어 반사 방지막(10)과 편광 필름(20) 사이에 배치되어 있어도 된다.As shown in FIG. 1 , the
반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 있어서, 도전층(40)의 표면 저항률은, 1.0×106Ω/□ 이하이다. 이 정도로 낮은 표면 저항률을 갖는 도전층(40)은, 정전기가 발생하기 쉬운 환경 하라도, 액정 패널(100)을 구비하는 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지할 수 있다. 도전층(40)의 표면 저항률은, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 도전층(40)의 표면이 외부에 노출되어 있는 적층체를 준비한다. 이와 같은 적층체로서는, 예를 들어 편광 필름(20) 및 도전층(40)으로 이루어지는 적층체 L을 들 수 있다. 다음에, 준비한 적층체에 있어서의 도전층(40)의 표면에 대하여, 표면 저항률을 측정한다. 표면 저항률의 측정은, JIS K7194:1994 또는 JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 행할 수 있다. 일례로서, 도전층(40)의 표면 저항률이 1.0×105Ω/□ 미만인 경우, 도전층(40)의 표면 저항률은, 로레스타-GP MCP-T600(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제)을 사용하여, JIS K7194:1994에 규정된 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 도전층(40)의 표면 저항률이 1.0×105Ω/□ 이상인 경우, 도전층(40)의 표면 저항률은, 하이레스타-UP MCP-HT450(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제)을 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 상기 측정에 의해 얻어진 측정값을 반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 있어서의 도전층(40)의 표면 저항률로 간주할 수 있다.In the polarizing
도전층(40)의 표면 저항률은, 바람직하게는 5.0×105Ω/□ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0×105Ω/□ 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.0×104Ω/□ 이하이고, 특히 바람직하게는 1.0×103Ω/□ 이하이다. 도전층(40)의 표면 저항률의 하한값은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 1.0×102Ω/□이다. 터치 센서 또는 터치 패널을 구비하는 액정 표시 장치에 액정 패널(100)을 사용하는 경우, 액정 표시 장치에 마련되는 터치 센서 또는 터치 패널의 감도를 충분히 확보하는 관점에서, 도전층(40)의 표면 저항률은, 5.0×102Ω/□보다 커도 된다.The surface resistivity of the
반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 점착제층(30)이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태에서, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 점착제층(30)과는 반대측의 표면(전형적으로는, 반사 방지막(10)의 표면)으로부터 입사하였을 때, 시감 반사율 Y가 1.1% 이하인 반사광을 발생시킨다. 이와 같은 반사광을 발생시키는 반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 의하면, 액정 패널(100)에서의 광의 반사를 억제할 수 있고, 이에 의해 액정 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다. 또한, 시감 반사율 Y는, XYZ 표색계(CIE1931)에 있어서의 3자극값(X, Y 및 Z)의 Y값을 의미한다. 3자극값은, JIS Z8701:1999에 상세하게 규정되어 있다.The polarizing
상세하게는, 상기 시감 반사율 Y는, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 점착제층(30)에 의해, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)을 무알칼리 유리에 첩부한다. 무알칼리 유리는, 알칼리 성분(알칼리 금속 산화물)을 실질적으로 포함하지 않는 유리이며, 상세하게는, 유리에 있어서의 알칼리 성분의 중량 비율이, 예를 들어 1000ppm 이하이며, 나아가 500ppm 이하이다. 무알칼리 유리는, 예를 들어 판상이며, 0.5㎜ 이상의 두께를 갖는다. 다음에, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)과 접합된 표면과는 반대측의 무알칼리 유리의 표면에 흑색 필름을 첩부한다. 다음에, 반사 방지막(10)측의 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 표면에, 5°의 입사각으로 CIE 표준 광원 D65로부터의 광을 입사시킨다. 이때 발생한 정반사광에 대하여, 파장 360㎚ 내지 740㎚의 범위에 있어서의 분광 반사율을 특정하고, 당해 분광 반사율로부터 XYZ 표색계(CIE1931)에 있어서의 시감 반사율 Y를 특정할 수 있다.Specifically, the luminous reflectance Y can be specified by the following method. First, with the
시감 반사율 Y는, 바람직하게는 1.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.9% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.8% 이하이고, 특히 바람직하게는 0.7% 이하이다. 시감 반사율 Y의 하한값은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 0.1%이다.The luminous reflectance Y is preferably 1.0% or less, more preferably 0.9% or less, still more preferably 0.8% or less, and particularly preferably 0.7% or less. The lower limit of the luminous reflectance Y is not particularly limited, and is, for example, 0.1%.
상기 반사광의 L*a*b* 표색계(CIE1976)에 있어서의 a*값 및 b*값은, 특별히 한정되지는 않지만, 하기 관계식 (1) 및 (2)를 충족하는 것이 바람직하다.Although the a * value and b * value in the L * a * b * color space system (CIE1976) of the said reflected light are not specifically limited, It is preferable that the following relational expressions (1) and (2) are satisfied.
상기 a*값 및 b*값은, 반사광의 XYZ 표색계에 있어서의 3자극값(X, Y 및 Z)을 사용하여, JIS Z8781-4:2013에서 규정된 하기 식 (i) 및 (ii)에 의해 특정할 수 있다.The above a * values and b * values are calculated using the tristimulus values (X, Y, and Z) in the XYZ color system of the reflected light to the following formulas (i) and (ii) defined in JIS Z8781-4:2013. can be specified by
상기 a*값은, 바람직하게는 -6 이상 6 이하이고, 보다 바람직하게는 -3 이상 3 이하이다. 상기 b*값은, 바람직하게는 -15 이상 3 이하이고, 보다 바람직하게는 -10 이상 2 이하이며, 더욱 바람직하게는 -6 이상 2 이하이고, 특히 바람직하게는 -5 이상 2 이하이다. 경우에 따라서는, a*값 및 b*값은, 하기 관계식 (3) 및 (4)를 충족하고 있어도 된다.The a * value is preferably -6 or more and 6 or less, and more preferably -3 or more and 3 or less. The b * value is preferably -15 or more and 3 or less, more preferably -10 or more and 2 or less, still more preferably -6 or more and 2 or less, and particularly preferably -5 or more and 2 or less. In some cases, the a * value and the b * value may satisfy the following relational expressions (3) and (4).
또한, a*값 및 b*값은, 하기 관계식 (5) 및 (6)을 충족하고 있어도 된다.In addition, the a * value and the b * value may satisfy|fill the following relational expressions (5) and (6).
상기 반사광의 L*값은, 예를 들어 12 이하이고, 바람직하게는 10 이하이며, 보다 바람직하게는 8 이하이고, 더욱 바람직하게는 7 이하이다. L*값의 하한값은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 3이다. L*값은, 상기 3자극값을 사용하여, JIS Z8781-4:2013에서 규정된 하기 식 (iii)에 의해 특정할 수 있다.The L * value of the reflected light is, for example, 12 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 7 or less. The lower limit of the L * value is not particularly limited, and is, for example, three. L * value can be specified by the following formula (iii) prescribed|regulated by JIS Z8781-4:2013 using the said tristimulus value.
L*값=0, a*값=0 및 b*값=0을 충족하는 광(색상이 완전히 뉴트럴한 광)과, 상기 반사광의 색차 ΔE는, 예를 들어 22 이하이고, 바람직하게는 18 이하이며, 보다 바람직하게는 15 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 이하이며, 특히 바람직하게는 8 이하이다. 색차 ΔE의 하한값은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 3이다. 색차 ΔE는, 반사광의 L*값, a*값 및 b*값을 사용하여, 하기 식 (iv)에 기초하여 산출할 수 있다.The color difference ΔE between light satisfying L * value=0, a * value=0 and b * value=0 (light with a completely neutral color) and the reflected light is, for example, 22 or less, preferably 18 or less , more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less, and particularly preferably 8 or less. The lower limit of the color difference ΔE is not particularly limited, and is, for example, three. The color difference ΔE can be calculated based on the following formula (iv) using the L * value, a * value, and b * value of the reflected light.
[반사 방지막][Anti-reflection film]
도 2에 도시한 바와 같이, 반사 방지막(10)은, 제1 고굴절률층(1), 제1 저굴절률층(2), 제2 고굴절률층(3) 및 제2 저굴절률층(4)을 적층 방향으로 이 순으로 갖는다. 제1 고굴절률층(1)은, 예를 들어 편광 필름(20)에 접하고 있다. 제2 저굴절률층(4)은, 예를 들어 이들 층 중, 가장 시인측에 위치한다.As shown in FIG. 2 , the
고굴절률층(1 및 3)은, 저굴절률층(2 및 4)보다도 높은 굴절률을 갖는 층이며, 그 굴절률은, 예를 들어 1.6 내지 3.2의 범위에 있다. 제1 고굴절률층(1)의 굴절률은, 제2 고굴절률층(3)과 동일해도 되고, 달라도 된다. 본 명세서에 있어서, 「굴절률」은, 특별히 언급하지 않는 한, 온도 25℃에서 파장 λ=550㎚의 광을 사용하여, JIS K0062:1992의 규정에 준거하여 측정된 값을 의미한다.The high-refractive-
본 발명의 바람직한 일 형태에서는, 고굴절률층(1 및 3)은, 예를 들어 바인더 수지와 당해 바인더 수지 중에 분산된 무기 미립자를 포함한다. 바인더 수지는, 대표적으로는 전리선 경화형 수지의 경화물이며, 보다 구체적으로는 자외선 경화형 수지의 경화물이다. 자외선 경화형 수지로서는, 라디칼 중합이 가능한 치환기를 갖는 중합체 또는 올리고머를 포함하는 수지, 예를 들어 (메트)아크릴레이트 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지로서의 (메트)아크릴레이트 수지는, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 아크릴(메트)아크릴레이트, 에테르(메트)아크릴레이트 등의 중합체 또는 올리고머를 포함한다. (메트)아크릴레이트 수지는, 상기 중합체 또는 올리고머에 더하여, 라디칼 중합성 모노머(전구체)를 더 포함하고 있어도 된다. 이 모노머의 분자량은, 예를 들어 200 내지 700이다. 이 모노머의 구체예로서는, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA: 분자량 298), 네오펜틸글리콜디아크릴레이트(NPGDA: 분자량 212), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA: 분자량 632), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA: 분자량 578), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA: 분자량 296)를 들 수 있다. 전리선 경화형 수지는, 필요에 따라서, 개시제를 포함하고 있어도 된다. 개시제로서는, 예를 들어 UV 라디칼 발생제(시바·스페셜티·케미컬사제 이르가큐어 907, 동 127, 동 192 등)나 과산화벤조일을 들 수 있다. 상기 바인더 수지는, 전리선 경화형 수지의 경화물 이외에 다른 수지를 포함하고 있어도 된다. 다른 수지는, 열경화성 수지여도 되고, 열가소성 수지여도 된다. 다른 수지로서는, 지방족계 수지(예를 들어, 폴리올레핀), 우레탄계 수지 등을 들 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the high refractive index layers 1 and 3 include, for example, a binder resin and inorganic fine particles dispersed in the binder resin. Binder resin is typically the hardened|cured material of ionizing-ray-curable resin, and more specifically, it is hardened|cured material of ultraviolet curable resin. As ultraviolet curable resin, the resin containing the polymer or oligomer which has a substituent which can radically superpose|polymerize, for example, (meth)acrylate resin is mentioned. The (meth)acrylate resin as the ultraviolet curable resin includes, for example, polymers or oligomers such as epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, acrylic (meth)acrylate, ether (meth)acrylate do. (meth)acrylate resin may further contain the radically polymerizable monomer (precursor) in addition to the said polymer or oligomer. The molecular weight of this monomer is 200-700, for example. As a specific example of this monomer, pentaerythritol triacrylate (PETA: molecular weight 298), neopentyl glycol diacrylate (NPGDA: molecular weight 212), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA: molecular weight 632), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA: molecular weight 578) and trimethylolpropane triacrylate (TMPTA: molecular weight 296) are mentioned. Ionizing-ray-curable resin may contain the initiator as needed. Examples of the initiator include UV radical generators (Irgacure 907, Copper 127, Copper 192, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and benzoyl peroxide. The said binder resin may contain other resin other than the hardened|cured material of ionizing-ray-curable resin. A thermosetting resin may be sufficient as another resin, and a thermoplastic resin may be sufficient as it. As other resin, an aliphatic resin (for example, polyolefin), a urethane resin, etc. are mentioned.
바인더 수지의 굴절률은, 예를 들어 1.40 내지 1.60이다. 바인더 수지의 배합량은, 형성되는 고굴절률층 100중량부에 대하여, 예를 들어 10중량부 내지 80중량부이며, 바람직하게는 20중량부 내지 70중량부이다.The refractive index of binder resin is 1.40-1.60, for example. The blending amount of the binder resin is, for example, 10 parts by weight to 80 parts by weight, and preferably 20 parts by weight to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the high refractive index layer to be formed.
무기 미립자의 재료는, 예를 들어 금속 산화물이다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화지르코늄(지르코니아)(굴절률: 2.19), 산화알루미늄(굴절률: 1.56 내지 2.62), 산화티타늄(굴절률: 2.49 내지 2.74), 산화규소(굴절률: 1.25 내지 1.46)를 들 수 있다. 이들 금속 산화물은, 광의 흡수가 작을 뿐만 아니라, 전리선 경화형 수지나 열가소성 수지 등의 유기 재료보다도 높은 굴절률을 갖고 있기 때문에, 고굴절률층(1 및 3)의 굴절률의 조정에 적합하다. 무기 미립자는, 산화지르코늄 또는 산화티타늄을 포함하는 것이 바람직하다.The material of the inorganic fine particles is, for example, a metal oxide. Specific examples of the metal oxide include zirconium oxide (zirconia) (refractive index: 2.19), aluminum oxide (refractive index: 1.56 to 2.62), titanium oxide (refractive index: 2.49 to 2.74), and silicon oxide (refractive index: 1.25 to 1.46). . These metal oxides are suitable for adjustment of the refractive index of the high refractive index layers 1 and 3 because not only light absorption is small, but also has a refractive index higher than organic materials such as ionizing ray-curable resins and thermoplastic resins. It is preferable that an inorganic fine particle contains a zirconium oxide or a titanium oxide.
무기 미립자의 굴절률은, 예를 들어 1.60 이상이고, 바람직하게는 1.70 내지 2.80이며, 보다 바람직하게는 2.00 내지 2.80이다. 1.60 이상의 굴절률을 갖는 무기 미립자는, 고굴절률층(1 및 3)의 굴절률을 조정하는 것에 적합하다. 무기 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 1㎚ 내지 100㎚이고, 바람직하게는 10㎚ 내지 80㎚이며, 보다 바람직하게는 20㎚ 내지 70㎚이다. 무기 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 레이저 회절식 입도계 등에 의해 측정되는 입도 분포에 있어서, 체적 누적 50%에 상당하는 입경(d50)을 의미한다.The refractive index of the inorganic fine particles is, for example, 1.60 or more, preferably 1.70 to 2.80, and more preferably 2.00 to 2.80. The inorganic fine particles having a refractive index of 1.60 or more are suitable for adjusting the refractive index of the high refractive index layers 1 and 3 . The average particle diameter of the inorganic fine particles is, for example, 1 nm to 100 nm, preferably 10 nm to 80 nm, and more preferably 20 nm to 70 nm. The average particle diameter of the inorganic fine particles means a particle diameter (d50) corresponding to 50% of the cumulative volume in a particle size distribution measured by, for example, a laser diffraction particle size meter or the like.
무기 미립자는, 표면 개질되어 있지 않아도 되지만, 표면 개질되어 있는 것이 바람직하다. 표면 개질된 무기 미립자는, 바인더 수지 중에 양호하게 분산되는 경향이 있다. 표면 개질은, 예를 들어 무기 미립자의 표면에 표면 개질제를 도포하여, 표면 개질제층을 형성함으로써 행해진다. 표면 개질제로서는, 예를 들어 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제 등의 커플링제; 지방산계 계면 활성제 등의 계면 활성제를 들 수 있다. 이와 같은 표면 개질제를 사용하면, 바인더 수지와 무기 미립자의 습윤성이 향상되어, 바인더 수지와 무기 미립자의 계면이 안정화되는 경향이 있다.Although the inorganic fine particles do not need to be surface-modified, it is preferable that the surface-modification is carried out. The surface-modified inorganic fine particles tend to be well dispersed in the binder resin. Surface modification is performed, for example by apply|coating a surface modifier to the surface of an inorganic fine particle, and forming a surface modifier layer. As a surface modifier, For example, coupling agents, such as a silane-type coupling agent and a titanate-type coupling agent; Surfactants, such as fatty acid type surfactant, are mentioned. When such a surface modifier is used, the wettability between the binder resin and the inorganic fine particles is improved, and the interface between the binder resin and the inorganic fine particles tends to be stabilized.
무기 미립자의 배합량은, 형성되는 고굴절률층 100중량부에 대하여, 예를 들어 10중량부 내지 90중량부이며, 보다 바람직하게는 20중량부 내지 80중량부이다. 무기 미립자의 배합량이 상기 범위 내이면, 반사 방지막은, 충분한 기계 특성을 가짐과 함께, 반사광의 시감 반사율 Y를 충분히 저감할 수 있는 경향이 있다.The blending amount of the inorganic fine particles is, for example, 10 parts by weight to 90 parts by weight, and more preferably 20 parts by weight to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the high refractive index layer to be formed. When the compounding amount of the inorganic fine particles is within the above range, the antireflection film tends to have sufficient mechanical properties and can sufficiently reduce the luminous reflectance Y of the reflected light.
바인더 수지와 무기 미립자를 포함하는 고굴절률층(1 및 3)의 굴절률은, 예를 들어 1.6 내지 2.6이며, 바람직하게는 1.7 내지 2.2이다.The refractive indices of the high refractive index layers 1 and 3 containing binder resin and inorganic fine particles are, for example, 1.6 to 2.6, preferably 1.7 to 2.2.
본 발명의 다른 바람직한 일 형태에서는, 고굴절률층(1 및 3)은, 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하고, 바람직하게는 실질적으로 금속 산화물 또는 금속 질화물로 이루어진다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화티타늄(TiO2), 인듐/주석 산화물(ITO), 산화니오븀(Nb2O5), 산화이트륨(Y2O3), 산화인듐(In2O3), 산화주석(SnO2), 산화지르코늄(ZrO2), 산화하프늄(HfO2), 산화안티몬(Sb2O3), 산화탄탈(Ta2O5), 산화아연(ZnO), 산화텅스텐(WO3)을 들 수 있다. 금속 질화물의 구체예로서는, 질화규소(Si3N4)를 들 수 있다. 고굴절률층(1 및 3)은, 바람직하게는 산화니오븀(Nb2O5) 또는 산화티타늄(TiO2)을 포함한다. 금속 산화물 또는 금속 질화물로 구성되는 고굴절률층의 굴절률은, 예를 들어 2.00 내지 2.60이며, 바람직하게는 2.10 내지 2.45이다.In another preferred embodiment of the present invention, the high refractive index layers 1 and 3 contain a metal oxide or a metal nitride, and preferably substantially consist of a metal oxide or a metal nitride. Specific examples of the metal oxide include titanium oxide (TiO 2 ), indium/tin oxide (ITO), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), and tin oxide. (SnO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zinc oxide (ZnO), tungsten oxide (WO 3 ) can be heard Specific examples of the metal nitride include silicon nitride (Si 3 N 4 ). The high refractive index layers 1 and 3 preferably include niobium oxide (Nb 2 O 5 ) or titanium oxide (TiO 2 ). The refractive index of the high refractive index layer composed of a metal oxide or a metal nitride is, for example, 2.00 to 2.60, preferably 2.10 to 2.45.
제1 고굴절률층(1)의 재료는, 제2 고굴절률층(3)과 동일해도 되고, 달라도 된다.The material of the first high
제1 고굴절률층(1)의 물리막 두께는, 예를 들어 9㎚ 내지 15㎚이며, 바람직하게는 11㎚ 내지 13㎚이다. 제1 고굴절률층(1)의 광학막 두께는, 예를 들어 20㎚ 내지 35㎚이며, 바람직하게는 25㎚ 내지 30㎚이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 광학막 두께는, 파장 550㎚의 광의 굴절률과 물리막 두께의 곱으로 나타내어지는 값이다.The physical film thickness of the first high
제2 고굴절률층(3)의 물리막 두께는, 예를 들어 98㎚ 내지 124㎚이며, 바람직하게는 111㎚ 내지 120㎚이다. 제2 고굴절률층(3)의 광학막 두께는, 예를 들어 230㎚ 내지 290㎚이며, 바람직하게는 260㎚ 내지 280㎚이다.The physical film thickness of the second high
저굴절률층(2 및 4)은, 고굴절률층(1 및 3)보다도 낮은 굴절률을 갖는 층이며, 그 굴절률은, 예를 들어 1.35 내지 1.55이고, 바람직하게는 1.40 내지 1.50이다. 저굴절률층(2 및 4)과, 고굴절률층(1 및 3)의 굴절률의 차를 적절하게 조절함으로써, 광의 반사를 억제할 수 있는 경향이 있다. 제1 저굴절률층(2)의 굴절률은, 제2 저굴절률층(4)과 동일해도 되고, 달라도 된다.The low-refractive-
저굴절률층(2 및 4)의 재료로서는, 예를 들어 금속 산화물 및 금속 불화물을 들 수 있다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화규소(SiO2)를 들 수 있다. 금속 불화물의 구체예로서는, 불화마그네슘, 불화규소산을 들 수 있다. 저굴절률층(2 및 4)의 재료는, 굴절률의 관점에서 불화마그네슘 및 불화규소산이 바람직하고, 제조 용이성, 기계적 강도, 내습성 등의 관점에서 산화규소가 바람직하고, 각종 특성을 종합적으로 고려하면 산화규소가 바람직하다. 제1 저굴절률층(2)의 재료는, 제2 저굴절률층(4)과 동일해도 되고, 달라도 된다.As a material of the low-refractive-
저굴절률층(2 및 4)의 재료는, 경화성의 불소 함유계 수지의 경화물이어도 된다. 경화성의 불소 함유계 수지는, 예를 들어 불소 함유 모노머 유래의 구성 단위와 가교성 모노머 유래의 구성 단위를 갖는다. 불소 함유 모노머의 구체예로서는, 예를 들어 플루오로올레핀류(플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등), 부분적으로 또는 완전히 불소화된 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 유도체류(비스코트 6FM(오사카 유키 가가쿠사제), M-2020(다이킨사제) 등), 완전히 또는 부분적으로 불소화된 비닐에테르류 등을 들 수 있다. 가교성 모노머로서는, 예를 들어 글리시딜메타크릴레이트 등의 분자 내에 가교성 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머; 카르복실기, 히드록실기, 아미노기, 술폰산기 등의 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머((메트)아크릴산, 메틸올(메트)아크릴레이트, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트 등)를 들 수 있다. 불소 함유계 수지는, 상술한 화합물 이외의 다른 모노머(예를 들어, 올레핀계 모노머, (메트)아크릴레이트계 모노머, 스티렌계 모노머) 유래의 구성 단위를 갖고 있어도 된다.The material of the low-refractive-
제1 저굴절률층(2)의 물리막 두께는, 예를 들어 26㎚ 내지 34㎚이며, 바람직하게는 27㎚ 내지 31㎚이다. 제1 저굴절률층(2)의 광학막 두께는, 예를 들어 38㎚ 내지 50㎚이며, 바람직하게는 40㎚ 내지 45㎚이다.The physical film thickness of the first low
제2 저굴절률층(4)의 물리막 두께는, 예를 들어 68㎚ 내지 88㎚이며, 바람직하게는 72㎚ 내지 79㎚이다. 제2 저굴절률층(4)의 광학막 두께는, 예를 들어 100㎚ 내지 128㎚이며, 바람직하게는 105㎚ 내지 115㎚이다.The physical film thickness of the second low
고굴절률층 및 저굴절률층의 제작 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 이들 층이 수지를 포함하는 경우, 소위 웨트 프로세스(수지 조성물을 도포한 후에 경화)에 의해, 이들 층을 형성할 수 있다. 이들 층이 금속 산화물, 금속 불화물, 금속 질화물 등으로 구성되는 경우, 소위 드라이 프로세스에 의해, 이들 층을 형성할 수 있다. 드라이 프로세스의 구체예로서는, PVD(Physical Vapor Deposition)법, CVD(Chemical Vapor Deposition)법을 들 수 있다. PVD법으로서는, 예를 들어 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온빔 어시스트법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 들 수 있다. CVD법으로서는, 예를 들어 플라스마 CVD법을 들 수 있다. 반사광의 색상의 변동을 저감하는 관점에서, 드라이 프로세스로서는, 스퍼터링법이 바람직하다.The manufacturing method of a high refractive index layer and a low refractive index layer is not specifically limited. When these layers contain a resin, these layers can be formed by what is called a wet process (curing after apply|coating a resin composition). When these layers are composed of a metal oxide, metal fluoride, metal nitride or the like, these layers can be formed by a so-called dry process. Specific examples of the dry process include a PVD (Physical Vapor Deposition) method and a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. Examples of the PVD method include a vacuum vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion beam assist method, a sputtering method, and an ion plating method. As CVD method, plasma CVD method is mentioned, for example. From a viewpoint of reducing the fluctuation|variation in the hue of reflected light, as a dry process, the sputtering method is preferable.
도 2의 반사 방지막(10)은, 고굴절률층 및 저굴절률층 이외의 다른 부재를 더 갖고 있어도 된다. 도 3은 반사 방지막의 다른 일례를 도시하고 있다. 도 3의 반사 방지막(11)은, 기재(5) 및 점착제층(6)을 더 갖는다. 기재(5)는, 예를 들어 제1 고굴절률층(1)과 편광 필름(20) 사이에 배치되며, 제1 고굴절률층(1)에 접하고 있다. 점착제층(6)은, 예를 들어 기재(5)와 편광 필름(20) 사이에 배치되며, 기재(5) 및 편광 필름(20)의 각각에 접하고 있다.The
기재(5)는, 예를 들어 투명성을 갖는 수지 필름을 포함한다. 이와 같은 수지 필름의 재료로서는, 예를 들어 셀룰로오스계 수지(트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등), 폴리아미드계 수지(나일론-6, 나일론-66 등), 폴리이미드계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등), 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등), 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리에테르이미드계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리비닐알코올 수지, 에틸렌비닐알코올 수지, (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴로니트릴 수지 등을 들 수 있다. 기재(5)는, 단일의 수지 필름의 층이어도 되고, 복수의 수지 필름의 적층체여도 되고, 수지 필름과 후술하는 하드 코트층의 적층체여도 된다. 기재(5)는, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 가소제, 활제, 착색제, 산화 방지제, 난연제 등을 들 수 있다.The
본 발명의 바람직한 일 형태에서는, 기재(5)는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름이다. 트리아세틸셀룰로오스 필름은, 편광자의 보호 필름으로서도 기능할 수 있다. 그 때문에, 트리아세틸셀룰로오스 필름으로 이루어지는 기재(5)를 갖는 반사 방지막(11)을 사용함으로써, 편광 필름(20)이 시인측에 갖고 있는 투명 보호 필름을 생략할 수 있는 경우가 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the
본 발명의 다른 바람직한 일 형태에서는, 기재(5)는, 하드 코트층을 포함한다. 기재(5)는, 하드 코트층으로 구성되어 있어도 되고, 수지 필름 및 하드 코트층의 적층체여도 된다. 하드 코트층은, 예를 들어 전리선 경화형 수지의 경화층이다. 전리선으로서는, 예를 들어 자외선, 가시광, 적외선, 전자선을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선이다. 즉, 전리선 경화형 수지는, 바람직하게는 자외선 경화형 수지이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들어 (메트)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. (메트)아크릴계 수지로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일옥시기를 포함하는 다관능성 모노머가 자외선에 의해 경화된 경화물(중합물)을 들 수 있다. 다관능성 모노머는, 예를 들어 1종 또는 2종 이상을 조합하여 사용된다. 다관능성 모노머는, 예를 들어 광중합 개시제와 혼합하여 사용된다.In another preferable aspect of this invention, the
하드 코트층에는, 무기 미립자 또는 유기 미립자가 분산되어 있어도 된다. 미립자의 평균 입경(d50)은, 예를 들어 0.01㎛ 내지 3㎛이다. 하드 코트층에 분산되어 있는 미립자로서는, 굴절률, 안정성, 내열성 등의 관점에서, 산화규소(SiO2)가 바람직하다. 하드 코트층은, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 레벨링제, 충전제, 분산제, 가소제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 산화 방지제, 틱소트로피화제를 들 수 있다. 또한, 하드 코트층의 표면에는, 요철 형상이 형성되어 있어도 된다. 표면에 요철 형상을 갖는 하드 코트층은, 광 확산 기능(안티글레어)을 갖는다.In the hard coat layer, inorganic fine particles or organic fine particles may be dispersed. The average particle diameter (d50) of the microparticles|fine-particles is 0.01 micrometer - 3 micrometers, for example. As microparticles|fine-particles disperse|distributed in the hard-coat layer, a viewpoint of a refractive index, stability, heat resistance, etc. to silicon oxide (SiO2) is preferable. The hard-coat layer may contain the additive. As a specific example of an additive, a leveling agent, a filler, a dispersing agent, a plasticizer, a ultraviolet absorber, surfactant, antioxidant, and a thixotropy agent are mentioned. Moreover, the uneven|corrugated shape may be formed in the surface of a hard-coat layer. The hard-coat layer which has an uneven|corrugated shape on the surface has a light-diffusion function (anti-glare).
기재(5)의 물리막 두께는, 특별히 한정되지는 않는다. 기재(5)가 단일의 수지 필름의 층 또는 복수의 수지 필름의 적층체인 경우, 기재(5)의 물리막 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 200㎛의 범위에 있다. 기재(5)가 하드 코트층을 포함하는 경우, 하드 코트층의 물리막 두께는, 예를 들어 1㎛ 내지 50㎛의 범위에 있다.The physical film thickness of the
기재(5)의 굴절률(기재(5)가 적층 구조를 갖는 경우에는, 가장 제1 고굴절률층(1)측의 층의 굴절률)은, 예를 들어 1.3 내지 1.8이며, 바람직하게는 1.4 내지 1.7이다.The refractive index of the base material 5 (the refractive index of the layer on the first high
점착제층(6)은, 점착제를 포함하는 층이다. 점착제층(6)에 포함되는 점착제로서는, 예를 들어 점착성을 갖는 수지를 들 수 있다. 이와 같은 수지로서는, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다. 점착제층(6)은, 아크릴계 수지로 구성된 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.The
점착제층(6)은, 필요에 따라서, 첨가제를 더 포함하고 있어도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어 가교제, 점착 부여제, 가소제, 안료, 염료, 충전제, 노화 방지제, 도전재, 자외선 흡수제, 광 안정제, 박리 조정제, 연화제, 계면 활성제, 난연제, 산화 방지제 등을 들 수 있다. 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 과산화물계 가교제, 멜라민계 가교제, 요소계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 아민계 가교제 등을 들 수 있다.The
점착제층(6)의 물리막 두께는, 예를 들어 5㎛ 내지 100㎛이며, 바람직하게는 10㎛ 내지 50㎛이다.The physical film thickness of the pressure-
반사 방지막(11)은, 기재(5) 및 점착제층(6) 이외의 다른 부재를 더 갖고 있어도 된다. 반사 방지막(11)은, 예를 들어 기재(5) 및 제1 고굴절률층(1) 사이에 배치된 안티글레어층을 더 갖고 있어도 된다. 반사 방지막(11)은, 특정 부재간(예를 들어, 기재(5)와 제1 고굴절률층(1) 사이, 또는, 안티글레어층과 제1 고굴절률층(1) 사이)에 배치된 밀착층을 더 갖고 있어도 된다. 밀착층은, 부재끼리의 밀착성을 향상시키는 층이며, 예를 들어 실리콘이나 SiOx(x<2)를 포함한다. 밀착층의 물리막 두께는, 예를 들어 1㎚ 내지 10㎚이며, 바람직하게는 2㎚ 내지 5㎚이다. 밀착층의 굴절률은, 예를 들어 1 내지 2.5이다.The
반사 방지막(10 및 11)은, 제2 저굴절률층(4)보다도 시인측에 배치되며, 제2 저굴절률층(4)에 접하는 방오층을 더 갖고 있어도 된다. 방오층은, 방오 효과를 갖는 층이며, 예를 들어 불소계 수지, 실리콘계 수지로부터 선택되는 적어도 하나를 포함한다. 방오층의 물리막 두께는, 예를 들어 5㎚ 내지 13㎚이며, 바람직하게는 5㎚ 내지 10㎚이다. 방오층의 굴절률은, 예를 들어 1 내지 2이다.The
반사 방지막(10 및 11)에 대하여 CIE 표준 광원 D65로부터 광이 입사하였을 때 발생하는 반사광은, L*a*b* 표색계에 있어서의 a1 *값 및 b1 *값의 절댓값이 작은 것이 바람직하다. a1 *값은, 예를 들어 -6 이상 6 이하이고, 보다 바람직하게는 -3 이상 3 이하이다. b1 *값은, 예를 들어 -15 이상 3 이하이고, 바람직하게는 -10 이상 2 이하이고, 보다 바람직하게는 -5 이상 2 이하이다. a1 *값 및 b1 *값은, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 반사 방지막(10)의 제1 고굴절률층(1), 제1 저굴절률층(2), 제2 고굴절률층(3) 및 제2 저굴절률층(4)을 이 순으로 흑색 필름에 적층시키거나, 또는, 반사 방지막(11)의 점착제층(6)에 의해, 반사 방지막(11)을 흑색 필름에 첩부한다. 다음에, 제2 저굴절률층측의 반사 방지막(10 또는 11)의 표면에, 5°의 입사각으로 CIE 표준 광원 D65로부터의 광을 입사시킨다. 이때 발생한 정반사광에 대하여, 파장 360㎚ 내지 740㎚의 범위에 있어서의 분광 반사율을 특정하고, 당해 분광 반사율로부터 XYZ 표색계에 있어서의 3자극값을 특정한다. 얻어진 3자극값을 사용하여, 상술한 식 (i) 및 (ii)에 의해 a1 *값 및 b1 *값을 특정한다.It is preferable that the absolute values of the a 1 * value and the b 1 * value in the L * a * b * color space are small for the reflected light generated when light is incident on the
상기 반사광의 시감 반사율 Y1은, 예를 들어 0.3% 이하이고, 바람직하게는 0.2% 이하이다.The luminous reflectance Y 1 of the reflected light is, for example, 0.3% or less, and preferably 0.2% or less.
[편광 필름][Polarizing film]
편광 필름(20)은, 편광자 및 투명 보호 필름을 포함하는 적층체이다. 투명 보호 필름은, 예를 들어 층상의 편광자의 주면(가장 넓은 면적을 갖는 표면)에 접하여 배치되어 있다. 편광자는, 2개의 투명 보호 필름 사이에 배치되어 있어도 된다. 편광자로서는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드, 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 것; 폴리비닐알코올의 탈수 처리물, 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 편광자는, 폴리비닐알코올계 필름, 및 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.The
편광자의 두께는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 80㎛ 이하이다. 편광자의 두께는, 10㎛ 이하, 바람직하게는 1 내지 7㎛여도 된다. 이와 같은 박형의 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하다. 박형 편광자는, 치수 변화가 억제되어 있어, 내구성이 우수하다. 박형의 편광자에 의하면, 편광 필름(20)을 박형화할 수 있다.The thickness of a polarizer is not specifically limited, For example, it is 80 micrometers or less. The thickness of the polarizer may be 10 µm or less, preferably 1 to 7 µm. Such a thin polarizer has little thickness nonuniformity and is excellent in visibility. A dimensional change is suppressed and the thin polarizer is excellent in durability. According to the thin polarizer, the
투명 보호 필름의 재료로서는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 투명 보호 필름의 재료는, (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지여도 된다. 편광 필름(20)이 2개의 투명 보호 필름을 갖는 경우, 2개의 투명 보호 필름의 재료는, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다. 예를 들어, 편광자의 한쪽의 주면에 대하여, 접착제를 개재하여, 열가소성 수지로 구성된 투명 보호 필름이 접합되고, 편광자의 다른 쪽의 주면에 대하여, 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 구성된 투명 보호 필름이 접합되어 있어도 된다. 투명 보호 필름은, 임의의 첨가제를 1종류 이상 포함하고 있어도 된다.As a material of a transparent protective film, the thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy, etc. is used, for example. Specific examples of such a thermoplastic resin include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and (meth)acrylic resins. Resin, cyclic polyolefin resin (norbornene resin), polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, and these mixtures are mentioned. The material of the transparent protective film may be a thermosetting resin or ultraviolet curable resin such as (meth)acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone. When the
투명 보호 필름은, 방현 특성, 반사 방지 특성 등의 광학 특성을 갖고 있어도 된다. 투명 보호 필름은, 위상차막으로서 기능하는 필름이어도 된다. 본 명세서에 있어서, 위상차막은, 면내 방향 또는 두께 방향으로 복굴절을 갖는 막을 의미한다. 위상차막으로서 기능하는 필름으로서는, 예를 들어 고분자 필름을 연신시킨 것, 액정 재료를 배향시켜, 고정화시킨 것 등을 들 수 있다.The transparent protective film may have optical characteristics, such as an anti-glare characteristic and an antireflection characteristic. The transparent protective film may be a film functioning as a retardation film. In this specification, the retardation film means a film|membrane which has birefringence in an in-plane direction or thickness direction. As a film which functions as a retardation film, the thing which stretched the polymer film, orientated and fixed the liquid crystal material, etc. are mentioned, for example.
편광자와 투명 보호 필름을 접합하기 위한 접착제는, 광학적으로 투명하면 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 수계, 용제계, 핫 멜트계, 라디칼 경화형, 양이온 경화형 등의 접착제, 바람직하게는 수계 접착제 및 라디칼 경화형 접착제를 들 수 있다.The adhesive for bonding the polarizer and the transparent protective film is not particularly limited as long as it is optically transparent. For example, an adhesive such as a water-based, solvent-based, hot-melt-based, radical-curable, or cation-curable adhesive, preferably a water-based adhesive and A radical hardening-type adhesive agent is mentioned.
편광 필름(20)의 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 500㎛이다. 편광 필름(20)의 전광선 투과율은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 30% 내지 50%이다. 본 명세서에 있어서, 「전광선 투과율」은, 파장 380㎚ 내지 700㎚의 범위의 광의 투과율을 의미한다. 전광선 투과율은, JIS K7361-1:1997의 규정에 준거하여 측정할 수 있다. 전광선 투과율의 측정에는, CIE 표준 광원 D65를 사용한다.The thickness of the
편광 필름(20)에 대하여 CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 입사하였을 때의 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값은, -6.0 내지 0이 바람직하고, -3.0 내지 -0.5가 보다 바람직하고, -1.8 내지 -1.2가 특히 바람직하다. 상기 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 b값은, 1.0 내지 10이 바람직하고, 1.5 내지 5.0이 보다 바람직하고, 2.2 내지 4.0이 특히 바람직하다. 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값 및 b값은, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 분광 광도계의 적분구를 사용하여, 편광 필름(20)에 있어서의 CIE 표준 광원 D65로부터의 광의 투과율을 측정한다. 얻어진 투과율에 대하여, JIS Z8701:1999에 규정된 2도 시야 XYZ계에 의해 시감도 보정(780 내지 380㎚: 5㎚마다)을 행함으로써, 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값 및 b값을 특정할 수 있다.-6.0 to 0 are preferable, as for the a-value in Hunter Lab colorimetric system of transmitted light when light from CIE standard light source D65 is incident with respect to
[반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 도전층][Electroconductive layer which polarizing film with antireflection film has]
도전층(40)은, 도전 재료를 포함하는 층이다. 도전 재료는, ITO 이외의 재료여도 되고, 예를 들어 도전성 폴리머, 도전성 폴리머와 도펀트의 복합체, 이온성 계면 활성제, 도전성 미립자, 이온성 화합물 등이다. 도전층(40)은, 투명성, 전광선 투과율, 외관, 대전 방지 효과, 및 고온 또는 다습 환경 하에서의 대전 방지 효과의 안정성의 관점에서, 도전성 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. 도전층(40)이 도전 재료로서 도전성 폴리머를 포함하는 경우, 도전성 미립자를 포함하는 경우에 비해, 도전층(40)의 두께를 비교적 크게 조정해도 헤이즈가 발생하기 어렵다. 그 때문에, 도전층(40)이 액정 셀(25)과 편광자 사이에 배치되어 있는 경우라도, 도전성 폴리머를 포함하는 도전층(40)은, 편광 해소를 발생시키기 어려워, 액정 표시 장치가 표시하는 화상의 콘트라스트를 저하시키기 어렵다. 도전층(40)이 도전 재료로서 도전성 폴리머를 포함하는 경우, 도전성 미립자를 포함하는 경우에 비해, 도전층(40)의 굴절률이 낮은 경향이 있다. 그 때문에, 도전성 폴리머를 포함하는 도전층(40)은, 액정 패널(100)의 광의 반사율을 보다 저하시키는 것에 적합하다.The
도전성 폴리머로서는, 예를 들어 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리퀴녹살린, 폴리아세틸렌, 폴리페닐렌비닐렌, 폴리나프탈렌 및 이들의 유도체를 들 수 있다. 도전 재료는, 이들 도전성 폴리머를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 도전성 폴리머로서는, 폴리티오펜, 폴리아닐린 및 이들의 유도체가 바람직하고, 폴리티오펜 유도체가 특히 바람직하다. 폴리티오펜, 폴리아닐린 및 이들의 유도체는, 예를 들어 수용성 또는 수분산성을 갖는 도전성 폴리머로서 기능한다. 도전성 폴리머가 수용성 또는 수분산성을 갖는 경우, 도전성 폴리머의 수용액 또는 수분산액을 사용하여 도전층(40)을 제작할 수 있다. 이 경우, 도전층(40)의 제작에 비수계의 유기 용제를 사용할 필요가 없기 때문에, 유기 용제에 의한 편광 필름(20) 등의 변질을 억제할 수 있다.Examples of the conductive polymer include polythiophene, polyaniline, polypyrrole, polyquinoxaline, polyacetylene, polyphenylenevinylene, polynaphthalene, and derivatives thereof. The electrically-conductive material may contain the 1 type(s) or 2 or more types of these conductive polymers. As the conductive polymer, polythiophene, polyaniline and derivatives thereof are preferable, and polythiophene derivatives are particularly preferable. Polythiophene, polyaniline, and derivatives thereof function, for example, as a conductive polymer having water solubility or water dispersibility. When the conductive polymer has water solubility or water dispersibility, the
도전성 폴리머는, 친수성 관능기를 갖고 있어도 된다. 친수성 관능기로서는, 예를 들어 술폰기, 아미노기, 아미드기, 이미노기, 히드록실기, 머캅토기, 히드라지노기, 카르복실기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이들의 염(예를 들어, 4급 암모늄염기)을 들 수 있다. 도전성 폴리머가 친수성 관능기를 갖는 경우, 도전성 폴리머가 물에 녹기 쉽거나, 또는, 미립자상의 도전성 폴리머가 물에 분산되기 쉬운 경향이 있다.The conductive polymer may have a hydrophilic functional group. Examples of the hydrophilic functional group include a sulfone group, an amino group, an amide group, an imino group, a hydroxyl group, a mercapto group, a hydrazino group, a carboxyl group, a sulfate ester group, a phosphoric acid ester group, and salts thereof (eg, quaternary ammonium salts). group) can be mentioned. When the conductive polymer has a hydrophilic functional group, the conductive polymer tends to dissolve in water, or the conductive polymer in particulate form tends to be easily dispersed in water.
도전성 및 화학적 안정성의 관점에서, 도전성 폴리머는, 폴리(3,4-2 치환 티오펜)인 것이 바람직하다. 폴리(3,4-2 치환 티오펜)로서는, 예를 들어 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜) 및 폴리(3,4-디알콕시티오펜)을 들 수 있고, 바람직하게는 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜)이다. 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜)은, 예를 들어 이하의 식 (I)으로 표시되는 구조 단위를 갖는다.From the viewpoint of conductivity and chemical stability, the conductive polymer is preferably poly(3,4-2-substituted thiophene). As poly(3,4-2 substituted thiophene), poly(3,4-alkylenedioxythiophene) and poly(3,4- dialkoxythiophene) are mentioned, for example, Preferably poly( 3,4-alkylenedioxythiophene). Poly(3,4-alkylenedioxythiophene) has a structural unit represented by the following formula (I), for example.
식 (I)에 있어서, R1은, 예를 들어 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기이다. 알킬렌기는, 직쇄상이어도 되고, 분지쇄상이어도 된다. 알킬렌기로서는, 예를 들어 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,3-프로필렌기, 1,4-부틸렌기, 1-메틸-1,2-에틸렌기, 1-에틸-1,2-에틸렌기, 1-메틸-1,3-프로필렌기 및 2-메틸-1,3-프로필렌기를 들 수 있고, 바람직하게는 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,3-프로필렌기이며, 보다 바람직하게는 1,2-에틸렌기이다. 도전성 폴리머는, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT)인 것이 바람직하다.In formula (I), R< 1 > is a C1-C4 alkylene group, for example. The alkylene group may be linear or branched. Examples of the alkylene group include a methylene group, 1,2-ethylene group, 1,3-propylene group, 1,4-butylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1-ethyl-1,2- ethylene group, 1-methyl-1,3-propylene group, and 2-methyl-1,3-propylene group are exemplified, preferably methylene group, 1,2-ethylene group, 1,3-propylene group, more Preferably, it is a 1,2-ethylene group. The conductive polymer is preferably poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT).
도펀트로서는, 예를 들어 다가 음이온을 들 수 있다. 도전성 폴리머가 폴리티오펜(또는 그의 유도체)인 경우, 다가 음이온은, 폴리티오펜(또는 그의 유도체)과 이온쌍을 형성하여, 폴리티오펜(또는 그의 유도체)을 수중에 안정적으로 분산 시킬 수 있다. 다가 음이온으로서는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 폴리아크릴산, 폴리말레산, 폴리메타크릴산 등의 카르복실산 폴리머류; 폴리스티렌술폰산, 폴리비닐술폰산, 폴리이소프렌술폰산 등의 술폰산 폴리머류 등을 들 수 있다. 다가 음이온은, 비닐카르복실산류 또는 비닐술폰산류와, 다른 모노머류의 공중합체여도 된다. 다른 모노머류로서는, 예를 들어 (메트)아크릴레이트 화합물; 스티렌, 비닐나프탈렌 등의 방향족 비닐 화합물을 들 수 있다. 다가 음이온은, 폴리스티렌술폰산(PSS)인 것이 특히 바람직하다. 도전성 폴리머와 도펀트의 복합체로서는, 예를 들어 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)과 폴리스티렌술폰산의 복합체(PEDOT/PSS)를 들 수 있다.As a dopant, a polyvalent anion is mentioned, for example. When the conductive polymer is polythiophene (or a derivative thereof), the polyvalent anion forms an ion pair with polythiophene (or a derivative thereof), and polythiophene (or a derivative thereof) can be stably dispersed in water. . It does not specifically limit as a polyhydric anion, For example, Carboxylic acid polymers, such as polyacrylic acid, polymaleic acid, and polymethacrylic acid; Sulfonic acid polymers, such as polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, and polyisoprene sulfonic acid, etc. are mentioned. The polyvalent anion may be a copolymer of vinyl carboxylic acids or vinyl sulfonic acids and other monomers. As other monomers, For example, (meth)acrylate compound; and aromatic vinyl compounds such as styrene and vinylnaphthalene. The polyvalent anion is particularly preferably polystyrene sulfonic acid (PSS). Examples of the composite of the conductive polymer and the dopant include a composite of poly(3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (PEDOT/PSS).
이온성 계면 활성제로서는, 예를 들어 4급 암모늄염형, 포스포늄염형, 술포늄염형 등의 양이온계 계면 활성제; 카르복실산형, 술포네이트형, 술페이트형, 포스페이트형, 포스파이트형 등의 음이온계 계면 활성제; 술포베타인형, 알킬베타인형, 알킬이미다졸륨베타인형 등의 양성 이온계 계면 활성제; 다가 알코올 유도체, β-시클로덱스트린 포접 화합물, 소르비탄 지방산 모노에스테르, 소르비탄 지방산 디에스테르, 폴리알킬렌옥시드 유도체, 아민옥시드 등의 비이온계 계면 활성제를 들 수 있다.As an ionic surfactant, For example, Cationic surfactant, such as a quaternary ammonium salt type, a phosphonium salt type, and a sulfonium salt type; anionic surfactants such as carboxylic acid type, sulfonate type, sulfate type, phosphate type and phosphite type; amphoteric surfactants such as sulfobetaine type, alkylbetaine type, and alkylimidazolium betaine type; and nonionic surfactants such as polyhydric alcohol derivatives, β-cyclodextrin inclusion compounds, sorbitan fatty acid monoesters, sorbitan fatty acid diesters, polyalkylene oxide derivatives, and amine oxides.
도전성 미립자로서는, 예를 들어 산화주석계, 산화안티몬계, 산화인듐계, 산화아연계 등의 금속 산화물 미립자를 들 수 있고, 산화주석계 미립자가 바람직하다. 산화주석계 미립자의 재료로서는, 예를 들어 산화주석, 안티몬 도프 산화주석, 인듐 도프 산화주석, 알루미늄 도프 산화주석, 텅스텐 도프 산화주석, 산화티타늄-산화세륨-산화주석의 복합체, 산화티타늄-산화주석의 복합체 등을 들 수 있다. 도전성 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 1 내지 100㎚이며, 바람직하게는 2 내지 50㎚이다. 도전성 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 레이저 회절식 입도계 등에 의해 측정되는 입도 분포에 있어서, 체적 누적 50%에 상당하는 입경(d50)을 의미한다.Examples of the conductive fine particles include fine metal oxide fine particles such as a tin oxide type, an antimony oxide type, an indium oxide type, and a zinc oxide type, and a tin oxide type fine particle is preferable. Examples of the material of the tin oxide-based fine particles include tin oxide, antimony-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, aluminum-doped tin oxide, tungsten-doped tin oxide, titanium oxide-cerium oxide-tin oxide composite, titanium oxide-tin oxide. and complexes of The average particle diameter of electroconductive fine particles is 1-100 nm, for example, Preferably it is 2-50 nm. The average particle diameter of electroconductive fine particles means the particle diameter (d50) corresponding to 50% of volume accumulation in the particle size distribution measured by the laser diffraction type particle size meter etc., for example.
이온성 화합물로서는, 예를 들어 알칼리 금속염 및/또는 유기 양이온-음이온염을 들 수 있다. 알칼리 금속염으로서는, 예를 들어 알칼리 금속의 유기염 및 무기염을 들 수 있다. 본 명세서에 있어서, 유기 양이온-음이온염은, 유기 양이온을 포함하는 유기염을 의미한다. 유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온은, 유기 음이온이어도 되고, 무기 음이온이어도 된다. 유기 양이온-음이온염은, 이온성 액체 또는 이온성 고체라 불리는 경우가 있다.Examples of the ionic compound include alkali metal salts and/or organic cation-anion salts. As an alkali metal salt, the organic salt and inorganic salt of an alkali metal are mentioned, for example. In the present specification, the organic cation-anion salt means an organic salt containing an organic cation. An organic anion may be sufficient as the anion contained in organic cation-anion salt, and an inorganic anion may be sufficient as it. The organic cation-anion salt is sometimes called an ionic liquid or an ionic solid.
알칼리 금속염에 포함되는 알칼리 금속 이온으로서는, 예를 들어 리튬 이온, 나트륨 이온 및 칼륨 이온을 들 수 있고, 리튬 이온이 바람직하다.As an alkali metal ion contained in an alkali metal salt, a lithium ion, a sodium ion, and a potassium ion are mentioned, for example, A lithium ion is preferable.
알칼리 금속의 유기염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 -, (CN)2N- 및 하기 일반식 (a) 내지 (d)로 표시되는 음이온을 들 수 있다.As an anion contained in the organic salt of an alkali metal, For example, CH 3 COO − , CF 3 COO − , CH 3 SO 3 − , CF 3 SO 3 − , (CF 3 SO 2 ) 3 C − , C 4 F 9 SO 3 - , C 3 F 7 COO - , (CF 3 SO 2 )(CF 3 CO)N - , - O 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 - , (CN) 2 N - and the following general formula (a ) to the anions represented by (d) are mentioned.
(a) (CnF2n + 1SO2)2N- (단, n은 1 내지 10의 정수)(a) (C n F 2n + 1 SO 2 ) 2 N - (provided that n is an integer of 1 to 10)
(b) CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m은 1 내지 10의 정수)(b) CF 2 (C m F 2m SO 2 ) 2 N - (provided that m is an integer of 1 to 10)
(c) -O3S(CF2)lSO3 - (단, l은 1 내지 10의 정수)(c) -O 3 S(CF 2 ) l SO 3 - (provided that l is an integer of 1 to 10)
(d) (CpF2p + 1SO2)N-(CqF2q + 1SO2) (단, p 및 q는, 서로 독립적으로 1 내지 10의 정수)(d) (C p F 2p + 1 SO 2 )N - (C q F 2q + 1 SO 2 ) (provided that p and q are each independently an integer of 1 to 10)
알칼리 금속의 유기염에 포함되는 음이온은, 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온에 의하면, 알칼리 금속의 유기염은, 이온 해리성이 우수한 이온 화합물로서 기능한다.It is preferable that the anion contained in the organic salt of an alkali metal contains a fluorine atom. According to the anion containing a fluorine atom, the organic salt of an alkali metal functions as an ionic compound excellent in ionic dissociation.
알칼리 금속의 무기염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (FSO2)2N-, CO3 2- 등을 들 수 있다.Examples of the anion contained in the inorganic salt of alkali metal include Cl - , Br - , I - , AlCl 4 - , Al 2 Cl 7 - , BF 4 - , PF 6 - , ClO 4 - , NO 3 - , AsF 6 - , SbF 6 - , NbF 6 - , TaF 6 - , (FSO 2 ) 2 N - , CO 3 2- , and the like.
알칼리 금속염에 포함되는 음이온으로서는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 상기 일반식 (a)로 표시되는 (퍼플루오로알킬술포닐)이미드가 바람직하고, 특히 (CF3SO2)2N-로 표시되는 (트리플루오로메탄술포닐)이미드가 바람직하다.Examples of the anion contained in the alkali metal salt include (perfluoroalkylsulfonyl)imides represented by the general formula (a), such as (CF 3 SO 2 ) 2 N - and (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - preferred, and particularly preferred is (trifluoromethanesulfonyl)imide represented by (CF 3 SO 2 ) 2 N − .
알칼리 금속의 유기염으로서는, 예를 들어 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C, KO3S(CF2)3SO3K, LiO3S(CF2)3SO3K 등을 들 수 있고, 바람직하게는 LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C이며, 보다 바람직하게는 Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N이다. 알칼리 금속의 유기염은, 불소 함유 리튬 이미드염인 것이 바람직하고, (퍼플루오로알킬술포닐)이미드리튬염인 것이 특히 바람직하다.As an organic salt of an alkali metal, For example, sodium acetate, sodium alginate, sodium ligninsulfonate, sodium toluenesulfonate, LiCF3SO3 , Li ( CF3SO2 ) 2N , Li ( C2F5SO2 ) 2N , Li(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 3 C, KO 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 K, LiO 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 K, etc. and preferably LiCF 3 SO 3 , Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) ) 3 C, and more preferably Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N. It is preferable that it is a fluorine-containing lithium imide salt, and, as for the organic salt of an alkali metal, it is especially preferable that it is a (perfluoroalkyl sulfonyl) imi lithium salt.
알칼리 금속의 무기염으로서는, 예를 들어 과염소산리튬 및 요오드화리튬을 들 수 있다.As an inorganic salt of an alkali metal, lithium perchlorate and lithium iodide are mentioned, for example.
유기 양이온-음이온염에 포함되는 유기 양이온으로서는, 예를 들어 피리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피롤린 골격을 갖는 양이온, 피롤 골격을 갖는 양이온, 이미다졸륨 양이온, 테트라히드로피리미디늄 양이온, 디히드로피리미디늄 양이온, 피라졸륨 양이온, 피라졸리늄 양이온, 테트라알킬암모늄 양이온, 트리알킬술포늄 양이온, 테트라알킬포스포늄 양이온 등을 들 수 있다.Examples of the organic cation contained in the organic cation-anion salt include a pyridinium cation, a piperidinium cation, a pyrrolidinium cation, a cation having a pyrroline skeleton, a cation having a pyrrole skeleton, an imidazolium cation, tetrahydropyri and a midinium cation, a dihydropyrimidinium cation, a pyrazolium cation, a pyrazolinium cation, a tetraalkylammonium cation, a trialkylsulfonium cation, and a tetraalkylphosphonium cation.
유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, (FSO2)2N-, -O3S(CF2)3SO3 - 및 상술한 일반식 (a) 내지 (d)로 표시되는 음이온을 들 수 있다. 유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온은, 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온에 의하면, 유기 양이온-음이온염은, 이온 해리성이 우수한 이온 화합물로서 기능한다.Examples of the anion contained in the organic cation-anion salt include Cl - , Br - , I - , AlCl 4 - , Al 2 Cl 7 - , BF 4 - , PF 6 - , ClO 4 - , NO 3 - , CH 3 COO - , CF 3 COO - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , (CF 3 SO 2 ) 3 C - , AsF 6 - , SbF 6 - , NbF 6 - , TaF 6 - , (CN) 2 N - , C 4 F 9 SO 3 - , C 3 F 7 COO - , (CF 3 SO 2 )(CF 3 CO)N - , (FSO 2 ) 2 N - , - O 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 − and anions represented by the general formulas (a) to (d) described above. It is preferable that the anion contained in organic cation-anion salt contains a fluorine atom. According to the anion containing a fluorine atom, an organic cation-anion salt functions as an ionic compound excellent in ionic dissociation.
이온성 화합물로서는, 상술한 알칼리 금속염 및 유기 양이온-음이온염에 한정되지 않고, 예를 들어 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제1철, 염화제2철, 황산암모늄 등의 무기염도 들 수 있다. 도전 재료는, 상술한 이온성 화합물을 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The ionic compound is not limited to the alkali metal salts and organic cation-anion salts described above, and examples thereof include inorganic salts such as ammonium chloride, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride and ammonium sulfate. have. The electrically-conductive material may contain the above-mentioned
도전 재료로서는, 상술한 재료에 한정되지 않고, 예를 들어 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙, 천연 그래파이트, 인조 그래파이트 등의 탄소 재료; 티타늄 블랙; 4급 암모늄염 등의 양이온형 도전성기, 베타인 화합물 등의 양성 이온형 도전성기, 술폰산염 등의 음이온형 도전성기 혹은 글리세린 등의 비이온형 도전성기를 갖는 단량체의 단독 중합체, 또는, 당해 단량체와 다른 단량체의 공중합체(예를 들어, 4급 암모늄염기를 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 유래의 구조 단위를 갖는 중합체 등의 이온 도전성을 갖는 중합체); 에틸렌 및 메타크릴레이트의 공중합체 등의 친수성 폴리머를 아크릴계 수지 등에 알로이화시킨 것(영구 대전 방지제)도 들 수 있다.As an electrically-conductive material, It is not limited to the material mentioned above, For example, Carbon materials, such as acetylene black, Ketjen black, natural graphite, and artificial graphite; titanium black; A homopolymer of a monomer having a cationic conductive group such as a quaternary ammonium salt, an amphoteric conductive group such as a betaine compound, an anionic conductive group such as a sulfonate, or a nonionic conductive group such as glycerin, or the monomer and copolymers of other monomers (for example, polymers having ion conductivity, such as polymers having structural units derived from acrylates or methacrylates having a quaternary ammonium base); Also mentioned are those obtained by alloying a hydrophilic polymer such as a copolymer of ethylene and methacrylate with an acrylic resin or the like (permanent antistatic agent).
도전층(40)은, 도전 재료 이외에, 바인더 등의 다른 재료를 더 포함하고 있어도 된다. 바인더는, 예를 들어 도전 재료의 피막 형성성을 향상시킴과 함께, 편광 필름(20)에 대한 도전층(40)의 밀착성 및 접착성(투묘력)을 향상시키는 경향이 있다. 바인더로서는, 예를 들어 옥사졸린기 함유 폴리머, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있고, 바람직하게는 옥사졸린기 함유 폴리머, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지이며, 특히 바람직하게는 폴리우레탄계 수지이다. 도전층(40)은, 이들 바인더를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 도전층(40)에 있어서의 바인더의 함유율은, 예를 들어 1wt% 내지 90wt%이며, 바람직하게는 10wt% 내지 80wt%이다.The
도전층(40)의 두께는, 예를 들어 5㎚ 내지 180㎚이며, 바람직하게는 150㎚이고, 보다 바람직하게는 120㎚ 이하이며, 더욱 바람직하게는 100㎚ 이하이고, 특히 바람직하게는 80㎚ 이하이며, 그 중 특히 바람직하게는 50㎚ 이하이다. 도전층(40)의 두께는, 10㎚ 이상이어도 되고, 20㎚ 이상이어도 된다.The thickness of the
반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 있어서, 도전층(40)에 의한 전광선 투과율의 손실 A는, 예를 들어 0.9% 이하이고, 바람직하게는 0.8% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.6% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.5% 이하이며, 특히 바람직하게는 0.4% 이하이고, 그 중 특히 바람직하게는 0.2% 미만이다. 손실 A의 하한값은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 0.01%이다. 손실 A는, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 편광 필름(20)의 전광선 투과율 T1과, 편광 필름(20) 및 도전층(40)으로 이루어지는 적층체 L의 전광선 투과율 T2를 측정한다. 적층체 L의 전광선 투과율 T2는, 편광 필름(20)측으로부터 광을 입사시킨 경우의 값이다. 전광선 투과율 T1과 전광선 투과율 T2의 차(T1-T2)를 손실 A로서 특정할 수 있다.In the
반사 방지막 구비 편광 필름(15)에서는, 상기 손실 A가 0.5%보다 큰 경우에, 도전층(40)의 표면 저항률이 특히 낮은 값이어도 된다. 일례로서, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 있어서, (i) 상기 손실 A가 0.5% 이하이고, 또한 도전층(40)의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 것, 및 (ii) 상기 손실 A가 0.9% 이하이고, 또한 도전층(40)의 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인 것 중 적어도 하나가 성립하고 있어도 된다.In the
도전층(40)과 편광 필름(20)의 투묘력은, 예를 들어 10.0N/25㎜ 이상이며, 바람직하게는 12.0N/25㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 14.0N/25㎜ 이상이며, 더욱 바람직하게는 18.0N/25㎜ 이상이다. 상기 투묘력은, 다음의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 평가 대상인 반사 방지막 구비 편광 필름(15)을 폭 25㎜×길이 150㎜로 잘라내어 시험편으로 한다. 다음에, 양면 테이프를 개재하여, 시험편이 구비하는 반사 방지막(10)의 표면 전체를 스테인리스제 시험판에 중첩하고, 2kg의 롤러를 1왕복시켜, 이들을 압착시킨다. 다음에, 시험편이 구비하는 점착제층(30)을 평가용 시트에 중첩하고, 2kg의 롤러를 1왕복시켜, 이들을 압착시킨다. 평가용 시트는, 폭 30㎜×길이 150㎜의 사이즈를 갖고, 시험 중에 점착제층(30)으로부터 박리되지 않는 것인 한 특별히 한정되지는 않는다. 평가용 시트로서는, 예를 들어 ITO 필름(125 테트라이트 OES(오이케 고교사제) 등)을 사용할 수 있다. 다음에, 시판되는 인장 시험기를 사용하여, 평가용 시트를 파지한 상태에서, 박리 각도 180°, 인장 속도 300㎜/min으로 점착제층(30) 및 도전층(40)을 편광 필름(20)으로부터 박리하였을 때의 박리력의 평균값을 도전층(40)과 편광 필름(20)의 투묘력으로서 특정한다. 또한, 상기 시험은, 23℃의 분위기 하에서 행한다.The anchoring force of the
[점착제층][Adhesive layer]
점착제층(30)은, 점착제를 포함하는 층이다. 점착제층(30)에 포함되는 점착제로서는, 예를 들어 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다. 점착제층(30)에 포함되는 점착제로서는, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 습윤성, 응집성, 접착성 등의 점착 특성을 갖고, 내후성, 내열성 등이 우수한 점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하다.The
아크릴계 점착제는, 베이스 폴리머로서 (메트)아크릴계 폴리머를 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 예를 들어 (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 의미한다. 「주성분」은, 폴리머에 중량 기준으로 가장 많이 포함되는 구조 단위를 의미한다.An acrylic adhesive contains a (meth)acrylic-type polymer as a base polymer. The (meth)acrylic polymer contains, for example, a structural unit derived from (meth)acrylic acid ester as a main component. In this specification, "(meth)acrylic acid" means acrylic acid and/or methacrylic acid. "Main component" means a structural unit that is included in the polymer the most on a weight basis.
(메트)아크릴계 폴리머의 주골격을 형성하기 위한 (메트)아크릴산에스테르에 포함되는 에스테르 부분((메트)아크릴산기 이외의 부분)의 탄소수는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 1 내지 18이다. (메트)아크릴산에스테르의 에스테르 부분은, 페닐기, 페녹시기 등의 방향족환을 포함하고 있어도 되고, 알킬기를 포함하고 있어도 된다. 이 알킬기는, 직쇄상이어도 되고, 분지쇄상이어도 된다. (메트)아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. (메트)아크릴계 폴리머에 있어서, (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위에 포함되는 에스테르 부분의 탄소수의 평균값은, 3 내지 9인 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착 특성, 내구성, 위상차의 조정, 굴절률의 조정 등의 관점에서, 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에 의해 점착제층(30)의 위상차를 조정함으로써, 편광 필름(20)이 열 수축하고, 점착제층(30)이 연신됨으로써 발생하는 액정 표시 장치의 광 누설을 억제할 수 있다. 또한, 이 (메트)아크릴산에스테르는, 점착제층(30)의 굴절률을 조정하여, 점착제층(30)과 피착체(액정 셀)의 굴절률의 차를 저감시키는 것에 적합하다. 굴절률의 차가 저감되면, 점착제층(30)과 피착체의 계면에서의 광의 반사가 억제되어, 디스플레이의 시인성을 향상시킬 수 있다.The number of carbon atoms of the ester moiety (parts other than the (meth)acrylic acid group) contained in the (meth)acrylic acid ester for forming the main skeleton of the (meth)acrylic polymer is not particularly limited, and is, for example, 1 to 18. The ester part of (meth)acrylic acid ester may contain aromatic rings, such as a phenyl group and a phenoxy group, and may contain the alkyl group. Linear may be sufficient as this alkyl group, and branched form may be sufficient as it. The (meth)acrylic polymer may contain 1 type(s) or 2 or more types of structural units derived from (meth)acrylic acid ester. (meth)acrylic polymer WHEREIN: It is preferable that the average value of carbon number of the ester part contained in the structural unit derived from (meth)acrylic acid ester is 3-9. It is preferable that the (meth)acrylic-type polymer has a structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester containing an aromatic ring from viewpoints of adhesive characteristics, durability, adjustment of retardation, adjustment of refractive index, etc. By adjusting the retardation of the pressure-
방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, o-페닐페놀(메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 크레졸(메트)아크릴레이트, 페놀에틸렌옥시드 변성 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 메톡시벤질(메트)아크릴레이트, 클로로벤질(메트)아크릴레이트, 크레실(메트)아크릴레이트, 스티릴(메트)아크릴레이트 등의 벤젠환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르; 히드록시에틸화 β-나프톨아크릴레이트, 2-나프토에틸(메트)아크릴레이트, 2-나프톡시에틸아크릴레이트, 2-(4-메톡시-1-나프톡시)에틸(메트)아크릴레이트 등의 나프탈렌환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르; 비페닐(메트)아크릴레이트 등의 비페닐환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 점착제층(30)의 점착 특성이나 내구성을 향상시키는 관점에서, 벤질(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트가 바람직하다.As (meth)acrylic acid ester containing an aromatic ring, For example, benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, o-phenylphenol (meth)acrylate, phenoxy (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxypropyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth)acrylate, ethylene oxide-modified cresol (meth)acrylate, phenol ethylene Oxide-modified (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, methoxybenzyl (meth)acrylate, chlorobenzyl (meth)acrylate, cresyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid ester containing benzene rings, such as styryl (meth)acrylate; Hydroxyethylated β-naphthol acrylate, 2-naphthoethyl (meth) acrylate, 2-naphthoxyethyl acrylate, 2-(4-methoxy-1-naphthoxy) ethyl (meth) acrylate, etc. (meth)acrylic acid ester containing a naphthalene ring; (meth)acrylic acid ester containing biphenyl rings, such as biphenyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. Among these, from a viewpoint of improving the adhesive characteristic and durability of the
방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에 의해 점착제층(30)의 굴절률을 조정하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 있어서의 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위의 함유율은, 3중량% 내지 25중량%인 것이 바람직하다. 이 함유율은, 22중량% 이하가 보다 바람직하고, 20중량% 이하가 더욱 바람직하다. 이 함유율은, 8중량% 이상이 보다 바람직하고, 12중량% 이상이 더욱 바람직하다. 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위의 함유율이 25중량% 이하이면, 편광 필름(20)의 수축에 의한 액정 표시 장치의 광 누설을 억제할 수 있음과 함께, 점착제층(30)의 리워크성을 향상시킬 수 있는 경향이 있다. 이 함유율이 3중량% 이상이면, 액정 표시 장치의 광 누설을 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.When the refractive index of the pressure-
(메트)아크릴계 폴리머는, 접착성 및 내열성을 향상시키는 관점에서, 상술한 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래되는 구조 단위 이외에, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 포함하는 중합성 관능기를 갖는 공중합 모노머에서 유래되는 구조 단위를 1종류 이상 갖고 있어도 된다. 이 공중합 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸아크릴레이트 등의 히드록실기 함유 모노머; (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기 함유 모노머; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머; 아크릴산의 카프로락톤 부가물; 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머 등을 들 수 있다.The (meth)acrylic polymer, in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester containing the aromatic ring described above, from the viewpoint of improving adhesiveness and heat resistance, (meth)acryloyl group, unsaturated double bonds such as vinyl group You may have one or more types of structural units derived from the copolymerization monomer which has a polymerizable functional group containing. As this copolymerization monomer, for example, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxyhexyl, (meth)acrylic acid ) hydroxyl group-containing monomers such as 8-hydroxyoctyl acrylic acid, 10-hydroxydecyl (meth)acrylic acid, 12-hydroxylauryl (meth)acrylic acid, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl acrylate; carboxyl group-containing monomers such as (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid; acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride; caprolactone adduct of acrylic acid; Sulfonic acid groups such as styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth)acrylate, and (meth)acryloyloxynaphthalenesulfonic acid containing monomers; Phosphoric acid group containing monomers, such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate, etc. are mentioned.
상기 공중합 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드 등의 (N-치환)아미드계 모노머; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 (메트)아크릴산알킬아미노알킬에스테르계 모노머; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬계 모노머; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머; N-아크릴로일모르폴린 등의 모르폴린계 모노머; N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필 말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머; N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 등도 들 수 있다.As said copolymerization monomer, For example, (meth)acrylamide, N,N- dimethyl (meth)acrylamide, N-butyl (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-methylolpropane ( (N-substituted) amide-based monomers such as meth)acrylamide; (meth)acrylic acid alkylaminoalkyl ester monomers such as (meth)acrylic acid aminoethyl, (meth)acrylic acid N,N-dimethylaminoethyl, and (meth)acrylic acid t-butylaminoethyl; (meth)acrylic acid alkoxyalkyl monomers such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate; N-(meth)acryloyloxymethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-8-oxyoctamethylenesuccinimide, etc. of succinimide-based monomers; morpholine-based monomers such as N-acryloylmorpholine; maleimide-based monomers such as N-cyclohexyl maleimide, N-isopropyl maleimide, N-lauryl maleimide, and N-phenyl maleimide; N-methylitaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, N-cyclohexyl itaconimide Itaconimide-type monomers, such as mide|mid and N- lauryl itaconimide, etc. are mentioned.
상기 공중합 모노머로서는, 예를 들어 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 들 수 있다. 또한, 공중합 모노머로서는, 예를 들어 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀 모노머; 비닐에테르 등의 에테르기 함유 비닐 모노머도 들 수 있다.Examples of the copolymer monomer include vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, and vinyl. vinyl-based monomers such as midazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N-vinylcarboxylic acid amides, styrene, α-methylstyrene, and N-vinylcaprolactam; cyanoacrylate-based monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing acrylic monomers, such as (meth)acrylic-acid glycidyl; glycol-based acrylic ester monomers such as (meth)acrylic acid polyethylene glycol, (meth)acrylic acid polypropylene glycol, (meth)acrylic acid methoxyethylene glycol, and (meth)acrylic acid methoxypolypropylene glycol; Acrylic acid ester-type monomers, such as (meth)acrylic-acid tetrahydrofurfuryl, fluorine (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, etc. are mentioned. Moreover, as a copolymerization monomer, For example, Olefin monomers, such as isoprene, a butadiene, and isobutylene; Ether group-containing vinyl monomers, such as vinyl ether, are also mentioned.
상기 공중합 모노머로서는, 예를 들어 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 4-비닐부틸트리메톡시실란, 4-비닐부틸트리에톡시실란, 8-비닐옥틸트리메톡시실란, 8-비닐옥틸트리에톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리에톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리에톡시실란 등의 실란계 모노머도 들 수 있다.Examples of the copolymer monomer include 3-acryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 4-vinylbutyltrimethoxysilane, 4-vinylbutyltriethoxysilane, and 8- Vinyloctyltrimethoxysilane, 8-vinyloctyltriethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-acryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltri Silane-type monomers, such as ethoxysilane and 10-acryloyloxydecyl triethoxysilane, are also mentioned.
상기 공중합 모노머로서는, 예를 들어 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타 (메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물((메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 갖는 다관능성 모노머); 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물이 2개 이상 부가된 화합물(예를 들어, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 및 우레탄(메트)아크릴레이트) 등을 사용할 수도 있다.As said copolymerization monomer, for example, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di( Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, such as (meth) acrylic acid and an ester of a polyhydric alcohol ((meth) acryloyl group, polyfunctional monomers having two or more unsaturated double bonds such as vinyl groups); A compound in which two or more compounds having an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group are added to a skeleton of polyester, epoxy, or urethane (for example, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth) ) acrylate and urethane (meth)acrylate) may be used.
(메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 상술한 공중합 모노머에서 유래되는 구조 단위의 함유율은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 0wt% 내지 20wt%이며, 바람직하게는 0.1wt% 내지 15wt%이고, 보다 바람직하게는 0.1wt% 내지 10wt%이다.The content rate of the structural unit derived from the above-mentioned copolymerization monomer in the (meth)acrylic polymer is not particularly limited, and is, for example, 0 wt% to 20 wt%, preferably 0.1 wt% to 15 wt%, more preferably It is preferably 0.1 wt% to 10 wt%.
공중합 모노머로서는, 접착성 및 내구성의 관점에서, 히드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머가 바람직하다. 공중합 모노머로서, 히드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머를 병용해도 된다. 공중합 모노머는, 예를 들어 점착제층(30)을 형성하기 위한 점착제 조성물이 가교제를 포함하는 경우에, 가교제와의 반응점으로서 기능한다. 히드록실기 함유 모노머, 카르복실기 함유 모노머 등은, 분자간 가교제와의 반응성이 우수하기 때문에, 얻어지는 점착제층(30)의 응집성 및 내열성을 향상시키는 것에 적합하다. 특히, 히드록실기 함유 모노머는, 점착제층(30)의 리워크성을 향상시키는 것에 적합하다. 카르복실기 함유 모노머는, 점착제층(30)의 내구성과 리워크성을 양립시키는 것에 적합하다.As a copolymerization monomer, a hydroxyl-group containing monomer and a carboxyl group containing monomer are preferable from a viewpoint of adhesiveness and durability. As a copolymerization monomer, you may use together a hydroxyl-group containing monomer and a carboxyl group containing monomer. A copolymerization monomer functions as a reaction point with a crosslinking agent, when the adhesive composition for forming the
공중합 모노머로서 히드록실기 함유 모노머를 사용하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 히드록실기 함유 모노머에서 유래되는 구조 단위의 함유율은, 0.01wt% 내지 15wt%인 것이 바람직하고, 0.03wt% 내지 10wt%인 것이 보다 바람직하고, 0.05wt% 내지 7wt%인 것이 더욱 바람직하다. 공중합 모노머로서 카르복실기 함유 모노머를 사용하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 카르복실기 함유 모노머에서 유래되는 구조 단위의 함유율은, 0.05wt% 내지 10wt%인 것이 바람직하고, 0.1wt% 내지 8wt%인 것이 보다 바람직하고, 0.2wt% 내지 6wt%인 것이 더욱 바람직하다.When a hydroxyl group-containing monomer is used as the copolymerization monomer, the content rate of the structural unit derived from the hydroxyl group-containing monomer in the (meth)acrylic polymer is preferably 0.01 wt% to 15 wt%, and 0.03 wt% to 0.03 wt% It is more preferable that it is 10 wt%, and it is still more preferable that it is 0.05 wt% - 7 wt%. When a carboxyl group-containing monomer is used as the copolymerization monomer, the content rate of the structural unit derived from the carboxyl group-containing monomer in the (meth)acrylic polymer is preferably 0.05 wt% to 10 wt%, and 0.1 wt% to 8 wt% It is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.2 wt% - 6 wt%.
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들어 50만 내지 300만이며, 내구성, 특히 내열성의 관점에서, 바람직하게는 70만 내지 270만이며, 보다 바람직하게는 80만 내지 250만이다. (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 50만 이상인 경우, 점착제층(30)은, 실용상 충분한 내열성을 갖는 경향이 있다. (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 300만 이하인 경우, 점착제층(30)을 제작하기 위한 도공액의 점도를 용이하게 조절할 수 있는 경향이 있다. 도공액의 점도를 용이하게 조절할 수 있으면, 도공액에 다량의 희석 용제를 첨가할 필요가 없기 때문에, 점착제층(30)의 제조 비용을 억제할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의한 측정 결과를 폴리스티렌 환산한 값을 말한다.The weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer is, for example, 500,000 to 3 million, preferably 700,000 to 2.7 million, more preferably 800,000 to 2.5 million from the viewpoint of durability and particularly heat resistance. When the weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer is 500,000 or more, the pressure-
(메트)아크릴계 폴리머는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지의 중합 반응에 의해 제작할 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체여도 되고, 블록 공중합체여도 되고, 그래프트 공중합체여도 된다.A (meth)acrylic polymer can be produced by well-known polymerization reactions, such as solution polymerization, block polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerization. The (meth)acrylic polymer may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.
점착제층(30)에 포함되는 점착제는, 베이스 폴리머가 가교제에 의해 가교된 구조를 갖고 있어도 된다. 예를 들어, 베이스 폴리머로서 (메트)아크릴계 폴리머를 사용하는 경우에는, 가교제로서, 유기계 가교제 또는 다관능성 금속 킬레이트를 사용할 수 있다. 유기계 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트란, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것을 의미한다. 다가 금속을 구성하는 원자로서는, 예를 들어 Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트에 포함되는 유기 화합물은, 예를 들어 산소 원자 등을 포함한다. 이 유기 화합물로서는, 예를 들어 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-
점착제에 있어서, 가교제의 사용량은, (메트)아크릴계 폴리머 100중량부에 대하여, 3중량부 이하가 바람직하고, 0.01 내지 3중량부가 보다 바람직하고, 0.02 내지 2중량부가 더욱 바람직하고, 0.03 내지 1중량부가 특히 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive, the amount of the crosslinking agent used is preferably 3 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 3 parts by weight, still more preferably 0.02 to 2 parts by weight, and 0.03 to 1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer. Particular preference is given to
점착제층(30)은, 점착제 이외의 다른 재료를 더 포함하고 있어도 된다. 다른 재료로서는, 예를 들어 도전 재료, 실란 커플링제 및 그 밖의 첨가제를 들 수 있다. 도전 재료는, 점착제층(30)의 표면 저항률을 저하시켜, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지하는 것에 적합하다. 도전 재료로서는, 도전층(40)에서 상술한 것을 들 수 있다. 점착제층(30)에 포함되는 도전 재료는, 베이스 폴리머와의 상용성 및 점착제층(30)의 투명성의 관점에서, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 특히, 점착제층(30)이 (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함하는 아크릴계 점착제를 포함하는 경우, 도전 재료로서 이온성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 이온성 화합물은, 대전 방지 성능의 관점에서 이온성 액체인 것이 바람직하다.The
점착제층(30)은, 점착제의 베이스 폴리머(예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머) 100중량부에 대하여, 도전 재료(예를 들어, 이온성 화합물)를 0.05 내지 20중량부 포함하는 것이 바람직하다. 점착제층(30)이 도전 재료를 0.05중량부 이상 포함함으로써, 점착제층(30)의 표면 저항률이 충분히 저하되어, 점착제층(30)의 대전 방지 성능이 충분히 향상되는 경향이 있다. 점착제층(30)은, 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 도전 재료를 0.1중량부 이상 포함하는 것이 바람직하고, 0.5중량부 이상 포함하는 것이 보다 바람직하다. 점착제층(30)에 실용상 충분한 내구성을 부여하는 관점에서, 점착제층(30)은, 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 도전 재료를 20중량부 이하 포함하는 것이 바람직하고, 10중량부 이하 포함하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the
그 밖의 첨가제로서는, 예를 들어 폴리알킬렌글리콜(예를 들어, 폴리프로필렌글리콜) 등의 폴리에테르 화합물, 착색제, 안료, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 충전제, 유기 충전제, 금속 분말 등을 사용하는 용도에 따라서 적절히 사용할 수 있다. 첨가제는, 분체여도 되고, 입자상이어도 되고, 박상이어도 된다. 첨가제로서, 제어 가능한 범위 내에서 환원제를 사용함으로써 산화 환원계를 구성해도 된다. 점착제층(30)에 착색제 등의 색소를 첨가함으로써, 액정 패널(100)로부터의 반사광의 색상을 조절할 수 있는 경우가 있다. 점착제층(30)은, 점착제의 베이스 폴리머(예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머) 100중량부에 대하여, 그 밖의 첨가제를 5중량부 이하 포함하는 것이 바람직하고, 3중량부 이하 포함하는 것이 보다 바람직하고, 1중량부 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하다.Examples of other additives include polyether compounds such as polyalkylene glycol (eg, polypropylene glycol), colorants, pigments, dyes, surfactants, plasticizers, tackifiers, surface lubricants, leveling agents, softeners, It can be used suitably according to the use which uses antioxidant, antioxidant, a light stabilizer, a ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, an inorganic filler, an organic filler, metal powder, etc. The additive may be powder, particulate, or thin. As an additive, you may comprise a redox system by using a reducing agent within a controllable range. By adding a dye such as a colorant to the pressure-
점착제층(30)의 두께는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 5 내지 100㎛이며, 바람직하게는 10 내지 50㎛이다.The thickness of the
반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 있어서, 점착제층(30)의 표면 저항률은, 특별히 한정되지는 않지만, 1.0×1014Ω/□ 미만이어도 되고, 1.0×1012Ω/□ 이하인 것이 바람직하다. 점착제층(30)의 표면 저항률의 하한값은, 특별히 한정되지는 않지만, 내구성의 관점에서, 예를 들어 1.0×108Ω/□이다. 점착제층(30)의 표면 저항률은, 다음의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 점착제층(30)의 표면이 외부에 노출되어 있는 적층체를 준비한다. 이와 같은 적층체로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 세퍼레이터 필름 상에 점착제층(30)이 배치된 적층체를 들 수 있다. 다음에, 준비한 적층체에 있어서의 점착제층(30)의 표면에 대하여, 표면 저항률을 측정한다. 표면 저항률의 측정은, 하이레스타-UP MCP-HT450(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제)을 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 이 측정에 의해 얻어진 측정값을 점착제층(30)의 표면 저항률로 간주할 수 있다.In the
[다른 층][Other floor]
반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 반사 방지막(10), 편광 필름(20), 도전층(40) 및 점착제층(30) 이외의 다른 층을 더 구비하고 있어도 된다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 1개 또는 2개 이상의 다른 층을 포함하고 있어도 된다. 다른 층은, 예를 들어 반사 방지막(10)보다도 시인측에 배치되며, 반사 방지막(10)에 접하고 있다. 다른 층으로서는, 예를 들어 표면 보호 필름 및 위상차막을 들 수 있다.The
표면 보호 필름은, 예를 들어 지지 필름과, 지지 필름의 적어도 편면에 배치된 점착제층을 갖는다. 표면 보호 필름의 점착제층은, 경박리제, 도전 재료 등을 포함하고 있어도 된다. 표면 보호 필름의 점착제층이 도전 재료를 포함하는 경우, 표면 보호 필름을 반사 방지막(10)에 접합하고, 그 후, 표면 보호 필름을 박리함으로써, 반사 방지막(10)에 도전 재료를 함유시켜, 그 표면에 도전 기능을 부여할 수 있다. 도전 재료로서는, 도전층(40)에서 상술한 것을 들 수 있다. 표면 보호 필름의 박리에 의해 반사 방지막(10)의 표면에 도전 기능을 부여하기 위해서는, 표면 보호 필름의 점착제층이 도전 재료와 함께, 경박리제를 포함하는 것이 바람직하다. 경박리제로서는, 예를 들어 폴리오르가노실록산 등의 실리콘 수지를 들 수 있다. 반사 방지막(10)의 표면에 부여하는 도전 기능은, 도전 재료 및 경박리제의 사용량에 의해 적절히 조정할 수 있다.A surface protection film has a support film and the adhesive layer arrange|positioned at the at least single side|surface of a support film, for example. The adhesive layer of a surface protection film may contain the light peeling agent, an electrically-conductive material, etc. When the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film contains a conductive material, the surface protection film is bonded to the
다른 층은, 부재간의 밀착성을 향상시키기 위한 접착 용이층을 포함하고 있어도 된다. 다른 층이 접착 용이층인 경우, 당해 접착 용이층은, 편광 필름(20)의 표면에 배치되어 있어도 된다. 또한, 접착 용이층 대신에, 편광 필름(20)의 표면에, 코로나 처리, 플라스마 처리 등의 접착 용이화 처리가 실시되어 있어도 된다.Another layer may contain the easily bonding layer for improving the adhesiveness between members. When another layer is an easily bonding layer, the said easily bonding layer may be arrange|positioned on the surface of the
[반사 방지막 구비 편광 필름의 제조 방법][Method for producing polarizing film with anti-reflection film]
도전층(40)을 갖는 반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 제작할 수 있다. 먼저, 도전 재료의 용액 또는 분산액을 조제한다. 용액 또는 분산액의 용매는, 예를 들어 물이며, 수용성의 유기 용매를 더 포함하고 있어도 된다. 수용성의 유기 용매로서는, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, tert-부탄올, n-아밀알코올, 이소아밀알코올, sec-아밀알코올, tert-아밀알코올, 1-에틸-1-프로판올, 2-메틸-1-부탄올, n-헥산올, 시클로헥산올 등의 알코올류를 들 수 있다.The
다음에, 도전 재료의 용액 또는 분산액을 편광 필름(20)의 표면에 도포한다. 얻어진 도포막을 건조시킴으로써, 편광 필름(20) 상에 도전층(40)이 형성된다. 이에 의해, 편광 필름(20) 및 도전층(40)으로 이루어지는 적층체 L이 얻어진다.Next, a solution or dispersion of a conductive material is applied to the surface of the
다음에, 적층체 L의 편광 필름(20) 상에 반사 방지막(10)(또는 11)을 배치하여, 적층체 L1을 제작한다. 다음에, 점착제를 포함하는 용액을 조제한다. 이 용액을 세퍼레이터의 표면에 도포함으로써 도포막이 얻어진다. 세퍼레이터는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용할 수 있다. 다음에, 도포막을 건조시킴으로써, 세퍼레이터 상에 점착제층(30)이 형성된다. 얻어진 점착제층(30)을 적층체 L1의 도전층(40) 상에 전사함으로써, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)을 제작할 수 있다.Next, the antireflection film 10 (or 11) is arrange|positioned on the
[액정 셀][Liquid Crystal Cell]
액정 셀(25)은, 예를 들어 액정층(50), 제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70)을 구비하고 있다. 액정층(50)은, 예를 들어 제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70) 사이에 배치되어 있으며, 제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70)의 각각에 접하고 있다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 점착제층(30)은, 예를 들어 액정 셀(25)의 제1 투명 기판(60)에 접하고 있다. 액정 패널(100)은, 예를 들어 점착제층(30)과 제1 투명 기판(60) 사이에 ITO층을 갖고 있지 않다.The
액정층(50)은, 예를 들어 전계가 존재하지 않는 상태에서 호모지니어스 배향한 액정 분자를 포함한다. 이와 같은 액정 분자를 포함하는 액정층(50)은, IPS(In-Plane-Switching) 방식에 적합하다. 단, 액정층(50)은, TN(Twisted Nematic)형, STN(Super Twisted Nematic)형, π형, VA(Vertical Alig㎚ent)형 등에 사용되어도 된다. 액정층(50)의 두께는, 예를 들어 1.5㎛ 내지 4㎛이다.The
제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70)의 재료로서는, 예를 들어 유리 및 폴리머를 들 수 있다. 본 명세서에서는, 폴리머로 구성된 투명 기판을 폴리머 필름이라 칭하는 경우가 있다. 투명 기판을 구성하는 폴리머로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로올레핀, 폴리카르보네이트 등을 들 수 있다. 유리로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 0.1㎜ 내지 1㎜이다. 폴리머로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 200㎛이다.As a material of the 1st
액정 셀(25)은, 액정층(50), 제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70) 이외의 다른 층을 더 포함하고 있어도 된다. 다른 층으로서는, 예를 들어 컬러 필터, 접착 용이층 및 하드 코트층을 들 수 있다. 컬러 필터는, 예를 들어 액정층(50)보다도 시인측에 배치되어 있으며, 바람직하게는 제1 투명 기판(60)과 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 점착제층(30) 사이에 위치한다. 접착 용이층 및 하드 코트층은, 예를 들어 제1 투명 기판(60) 또는 제2 투명 기판(70)의 표면 상에 배치되어 있다.The
[다른 부재][Other Absence]
액정 패널(100)은, 반사 방지막 구비 편광 필름(15) 및 액정 셀(25) 이외의 다른 부재를 더 구비하고 있어도 된다. 예를 들어, 액정 패널(100)은, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면에 전기적으로 접속하고 있는 도통 구조(도시하지 않음)를 더 구비하고 있어도 된다. 도통 구조를 접지에 접속하면, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)이 정전기에 의해 대전되는 것을 억제하기 쉽다. 도통 구조는, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면 전체를 덮고 있어도 되고, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면을 부분적으로 덮고 있어도 된다. 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면 전체의 면적에 대한 도통 구조에 의해 덮인 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면의 면적의 비율은, 예를 들어 1% 이상이며, 바람직하게는 3% 이상이다.The
도통 구조의 재료로서는, 예를 들어 은, 금 등의 금속으로 구성된 도전성 페이스트; 도전성 접착제; 다른 도전 재료를 들 수 있다. 도통 구조는, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 측면으로부터 신장되는 배선이어도 된다.As a material of a conduction structure, For example, the electrically conductive paste comprised from metals, such as silver and gold|metal|money; conductive adhesive; Another electrically conductive material is mentioned. The conduction|electrical_connection structure may be wiring extended from the side surface of the
액정 패널(100)은, 편광 필름(20) 이외의 다른 광학 필름을 더 구비하고 있어도 된다. 다른 광학 필름으로서는, 예를 들어 편광 필름, 반사판, 반투과판, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치에 사용되는 필름을 들 수 있다. 위상차 필름은, 예를 들어 1/2 파장판, 1/4 파장판 등을 포함한다. 액정 패널(100)은, 이들 중 1종 또는 2종 이상의 다른 광학 필름을 구비하고 있어도 된다.The
다른 광학 필름이 편광 필름인 경우, 당해 편광 필름은, 예를 들어 점착제 층을 통해, 액정 셀(25)의 제2 투명 기판(70)과 접합된다. 이 편광 필름은, 예를 들어 편광 필름(20)에 대하여 상술한 구성을 갖는다. 다른 광학 필름으로서의 편광 필름에 있어서, 편광자의 투과축(또는 흡수축)은, 예를 들어 편광 필름(20)에 있어서의 편광자의 투과축(또는 흡수축)과 직교하고 있다. 편광 필름과 제2 투명 기판(70)을 접합하기 위한 점착제층의 재료로서는, 점착제층(30)에 대하여 상술한 것을 사용할 수 있다. 이 점착제층의 두께는, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 1 내지 100㎛이며, 바람직하게는 2 내지 50㎛이고, 보다 바람직하게는 2 내지 40㎛이며, 더욱 바람직하게는 5 내지 35㎛이다.When the other optical film is a polarizing film, the polarizing film is bonded to the second
본 실시 형태의 액정 패널(100)에 의하면, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)의 도전층(40)의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하로 조절됨으로써, 정전기가 발생하기 쉬운 환경 하라도, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지할 수 있다. 예를 들어, 액정 패널(100)은, ESD(Electro-Static Discharge) 시험을 행한 경우에 양호한 결과를 나타낸다. ESD 시험은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 실시된다. 먼저, 액정 패널(100)을 백라이트 장치 상에 세트한다. 다음에, 액정 패널(100)의 시인측(반사 방지막(10)측)에 정전기를 부여한다. 정전기의 부여는, 인가 전압이 10㎸로 조절된 정전기 방전총(Electrostatic discharge Gun)을 사용한다. 정전기를 부여하면, 액정 패널(100)의 일부가 하얗게 된다. 정전기를 부여하고 나서, 하얗게 된 부분이 소실될 때까지의 시간 T를 측정한다. 액정 패널(100)에 있어서, 시간 T는, 예를 들어 10초 이하이고, 바람직하게는 1초 이하이며, 보다 바람직하게는 0.5초 이하이다. 또한, ESD 시험은, 23℃, 55%RH의 조건에서 행한다.According to the
본 발명자들은, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)과 액정 셀(25) 사이에, ITO층 등의 도전층이 마련되어 있지 않은 구성을 채용함으로써, 액정 패널(100)에서의 광의 반사를 크게 억제할 수 있음을 새롭게 알아냈다. 액정 패널(100)은, 양호한 시인성이 요구되는 용도, 특히 차량 탑재용 디스플레이의 용도에 적합하다. 차량 탑재용 디스플레이로서는, 예를 들어 카 내비게이션 장치용 패널, 클러스터 패널, 미러 디스플레이 등을 들 수 있다. 클러스터 패널은, 차량의 주행 속도나 엔진의 회전수 등을 표시하는 패널이다. 특히, 액정 패널(100)은, 터치 센서를 필요로 하지 않는 용도, 예를 들어 클러스터 패널이나 미러 디스플레이에 적합하다.The present inventors, by adopting a configuration in which a conductive layer such as an ITO layer is not provided between the
(액정 패널의 변형예)(Modified example of liquid crystal panel)
액정 패널(100)이 구비하는 반사 방지막 구비 편광 필름(15)은, 상술한 부재 이외의 다른 부재를 더 구비하고 있어도 된다. 도 4에 도시한 바와 같이, 본 변형예에 관한 액정 패널(110)에 있어서, 반사 방지막 구비 편광 필름(16)은, 반사 방지막(10)과 편광 필름(20) 사이에 배치된 투명 기판(45) 및 점착제층(46)을 더 갖고 있다. 투명 기판(45) 및 점착제층(46)을 제외하고, 액정 패널(110)의 구조는, 액정 패널(100)의 구조와 동일하다. 따라서, 액정 패널(100)과 변형예의 액정 패널(110)에서 공통되는 요소에는 동일한 참조 부호를 붙이고, 그들의 설명을 생략하는 경우가 있다. 즉, 이하의 각 실시 형태에 관한 설명은, 기술적으로 모순되지 않는 한, 서로 적용된다. 이하의 각 실시 형태는, 기술적으로 모순되지 않는 한, 서로 조합되어도 된다.The
투명 기판(45)은, 예를 들어 반사 방지막(10)의 제1 고굴절률층(1)에 접하고 있다. 단, 반사 방지막 구비 편광 필름(16)은, 반사 방지막(10) 대신에, 도 3에서 설명한 반사 방지막(11)을 갖고 있어도 된다. 이때, 반사 방지막(11)의 점착제층(6)이 투명 기판(45)에 접하고 있다. 점착제층(46)은, 예를 들어 투명 기판(45)과 편광 필름(20) 사이에 배치되며, 투명 기판(45) 및 편광 필름(20)의 각각에 접하고 있다.The
투명 기판(45)으로서는, 제1 투명 기판(60) 및 제2 투명 기판(70)에 대하여 상술한 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 유리로 구성되어 있다. 본 명세서에서는, 유리로 구성된 투명 기판(45)을 「커버 유리」라 칭하는 경우가 있다.As the
점착제층(46)으로서는, 점착제층(30)에 대하여 상술한 것을 사용할 수 있다. 특히, 점착제층(46)은, 시판되고 있는 광학 투명 점착제(OCA: Optical Clear Adhesive)를 포함하는 것이 바람직하다. 점착제층(46)은, 예를 들어 LUCIACS(등록 상표) CS9621T 등의 점착 테이프를 사용하여 형성할 수 있다.As the
(액정 패널의 다른 변형예)(Another modification of the liquid crystal panel)
액정 패널(100 또는 110)은, 터치 센서 또는 터치 패널을 더 구비하고 있어도 된다. 도 5는 터치 패널(80)을 구비한 액정 패널(120)을 도시하고 있다. 터치 패널(80)을 제외하고, 액정 패널(120)의 구조는, 액정 패널(100)의 구조와 동일하다.The
액정 패널(120)에 있어서, 터치 패널(80)은, 예를 들어 반사 방지막(10)보다도 시인측에 배치되어 있다. 터치 패널(80)은, 반사 방지막 구비 편광 필름(15)에 접하고 있지 않고, 터치 패널(80)과 반사 방지막 구비 편광 필름(15) 사이에는 공극(공기층)이 형성되어 있다. 액정 패널(120)은, 소위 아웃 셀형 액정 패널이다. 터치 패널(80)로서는, 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등을 채용할 수 있다. 터치 패널(80)이 저항막 방식인 경우, 터치 패널(80)은, 예를 들어 스페이서를 개재하여, 투명 도전성 박막을 갖는 2개의 전극판이 대향하도록 배치된 구조를 갖는다. 터치 패널(80)이 정전 용량 방식인 경우, 터치 패널(80)은, 예를 들어 소정의 패턴 형상을 갖는 투명 도전성 박막을 구비한 투명 도전성 필름으로 구성되어 있다.In the
(액정 표시 장치의 실시 형태)(Embodiment of liquid crystal display device)
본 실시 형태의 액정 표시 장치는, 예를 들어 액정 패널(100) 및 조명 시스템을 구비하고 있다. 액정 표시 장치에서는, 액정 패널(100) 대신에, 액정 패널(110 또는 120)도 사용 가능하다. 액정 표시 장치에 있어서, 액정 패널(100)은, 예를 들어 조명 시스템보다도 시인측에 배치되어 있다. 조명 시스템은, 예를 들어 백라이트 또는 반사판을 갖고, 액정 패널(100)에 광을 조사한다.The liquid crystal display device of this embodiment is equipped with the
실시예Example
이하, 실시예에 의해, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명은, 이하에 나타내는 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 이하에서는, 특별히 언급하지 않는 경우, 「%」는 「중량%」를 나타내고, 「부」는 「중량부」를 나타내고, 「두께」는 「물리막 두께」를 나타낸다. 특별히 언급하지 않는 경우, 실내의 온도 및 습도는, 23℃, 65%RH이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. This invention is not limited to the Example shown below. In the following, unless otherwise specified, "%" indicates "weight %", "part" indicates "part by weight", and "thickness" indicates "physical film thickness". Unless otherwise specified, the indoor temperature and humidity are 23°C and 65%RH.
<(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량><Weight average molecular weight of (meth)acrylic polymer>
이하의 실시예에 있어서, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량(Mw)은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의해 측정하였다. (메트)아크릴계 폴리머의 Mw/Mn에 대해서도, 마찬가지로 측정하였다.In the following examples, the weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic polymer was measured by GPC (gel permeation chromatography). Mw/Mn of the (meth)acrylic polymer was similarly measured.
·분석 장치: 도소사제, HLC-8120GPCAnalysis device: Tosoh Corporation, HLC-8120GPC
·칼럼: 도소사제, G7000HXL+GMHXL+GMHXL ·Column: Tosoh Corporation, G7000H XL +GMH XL +GMH XL
·칼럼 사이즈: 각 7.8㎜φ×30㎝ 합계 90㎝·Column size: 7.8 mm φ × 30 cm each, 90 cm in total
·칼럼 온도: 40℃·Column temperature: 40℃
·유량: 0.8mL/minFlow rate: 0.8 mL/min
·주입량: 100μL・Injection amount: 100μL
·용리액: 테트라히드로푸란·Eluent: tetrahydrofuran
·검출기: 시차 굴절계 (RI)Detector: Differential Refractometer (RI)
·표준 시료: 폴리스티렌・Standard sample: polystyrene
<점착제층 A><Adhesive layer A>
먼저, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 76.9부, 벤질아크릴레이트 18부, 아크릴산 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.1부를 투입함으로써 모노머 혼합물을 얻었다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100부와 함께 투입하였다. 혼합물을 완만하게 교반하면서, 플라스크 내에 대하여 질소 가스를 도입하여 질소 치환하였다. 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행함으로써, 중량 평균 분자량(Mw) 200만, Mw/Mn=4.1의 아크릴계 폴리머 용액을 조제하였다.First, a monomer mixture by introducing 76.9 parts of butyl acrylate, 18 parts of benzyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, and 0.1 parts of 4-hydroxybutyl acrylate into a four-neck flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube and a cooler. got Furthermore, 0.1 parts of 2,2'- azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator were thrown in with 100 parts of ethyl acetate with respect to 100 parts of monomer mixture (solid content). While the mixture was gently stirred, nitrogen gas was introduced into the flask to replace nitrogen. An acrylic polymer solution having a weight average molecular weight (Mw) of 2 million and Mw/Mn = 4.1 was prepared by carrying out a polymerization reaction for 8 hours while maintaining the liquid temperature in the flask at around 55°C.
다음에, 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부에 대하여, 0.45부의 이소시아네이트 가교제(도소사제의 코로네이트 L, 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트), 0.1부의 과산화물 가교제(닛본 유시사제의 나이퍼 BMT) 및 0.2부의 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사제의 KBM-403, γ-글리시독시프로필메톡시실란)를 더 배합함으로써, 아크릴계 점착제 조성물 용액을 조제하였다.Next, with respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution, 0.45 parts of an isocyanate crosslinking agent (Coronate L manufactured by Tosoh Corporation, trimethylolpropantolylene diisocyanate), 0.1 parts of a peroxide crosslinking agent (Nyper BMT manufactured by Nippon Yushi Corporation), and 0.2 parts of a silane coupler The acrylic adhesive composition solution was prepared by further mix|blending the ring agent (KBM-403 by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., γ-glycidoxypropylmethoxysilane).
다음에, 얻어진 용액을 세퍼레이터(미쓰비시 가가쿠 폴리에스테르 필름사제의 MRF38)의 편면에 도포하였다. 세퍼레이터는, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이었다. 얻어진 도포막을 155℃에서 1분간 건조시킴으로써 세퍼레이터의 표면에 점착제층 A를 형성하였다. 점착제층 A의 두께는, 20㎛였다.Next, the obtained solution was apply|coated to the single side|surface of a separator (MRF38 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film). The separator was a polyethylene terephthalate film treated with a silicone-based release agent. By drying the obtained coating film at 155 degreeC for 1 minute, the adhesive layer A was formed on the surface of a separator. The thickness of the adhesive layer A was 20 micrometers.
<점착제층 B><Adhesive layer B>
아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부에 대하여, 1부의 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(LiTFSI, 미쓰비시 머티리얼사제)을 더 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물 용액을 조제한 것을 제외하고, 점착제층 A와 동일한 방법에 의해, 점착제층 B를 제작하였다.With respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution, 1 part of bis(trifluoromethanesulfonyl)imilithium (LiTFSI, manufactured by Mitsubishi Materials) was further blended to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive composition solution, except that the pressure-sensitive adhesive layer A and By the same method, the adhesive layer B was produced.
<점착제층 C><Adhesive layer C>
먼저, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 94.9부, 아크릴산 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.1부를 투입함으로써 모노머 혼합물을 얻었다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산 에틸 100부와 함께 투입하였다. 혼합물을 완만하게 교반하면서, 플라스크 내에 대하여 질소 가스를 도입하여 질소 치환하였다. 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행함으로써, 중량 평균 분자량(Mw) 210만, Mw/Mn=4.0의 아크릴계 폴리머 용액을 조제하였다.First, a monomer mixture was obtained by putting 94.9 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, and 0.1 parts of 4-hydroxybutyl acrylate into a four-neck flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube and a cooler. Moreover, 0.1 part of 2,2'- azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was thrown in with 100 parts of ethyl acetate with respect to 100 parts of monomer mixture (solid content). While the mixture was gently stirred, nitrogen gas was introduced into the flask to replace nitrogen. An acrylic polymer solution having a weight average molecular weight (Mw) of 2.1 million and Mw/Mn = 4.0 was prepared by maintaining the liquid temperature in the flask at around 55°C and performing a polymerization reaction for 8 hours.
다음에, 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부에 대하여, 0.45부의 이소시아네이트 가교제(도소사제의 코로네이트 L, 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트), 0.1부의 과산화물 가교제(닛본 유시사제의 나이퍼 BMT), 및 0.2부의 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사제의 KBM-403, γ-글리시독시프로필메톡시실란)를 더 배합함으로써, 아크릴계 점착제 조성물 용액을 조제하였다.Next, with respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution, 0.45 parts of an isocyanate crosslinking agent (Coronate L manufactured by Tosoh Corporation, trimethylolpropantolylene diisocyanate), 0.1 parts of a peroxide crosslinking agent (Niper BMT manufactured by Nippon Yushi Corporation), and 0.2 parts of silane An acrylic pressure-sensitive adhesive composition solution was prepared by further adding a coupling agent (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., γ-glycidoxypropylmethoxysilane).
다음에, 얻어진 용액을 세퍼레이터(미쓰비시 가가쿠 폴리에스테르 필름사제의 MRF38)의 편면에 도포하였다. 세퍼레이터는, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이었다. 얻어진 도포막을 155℃에서 1분간 건조시킴으로써, 세퍼레이터의 표면에 점착제층 C를 형성하였다. 점착제층 C의 두께는, 12㎛였다.Next, the obtained solution was apply|coated to the single side|surface of a separator (MRF38 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film). The separator was a polyethylene terephthalate film treated with a silicone-based release agent. By drying the obtained coating film at 155 degreeC for 1 minute, the adhesive layer C was formed in the surface of a separator. The thickness of the adhesive layer C was 12 micrometers.
<반사 방지막 AR1><Anti-reflection film AR1>
먼저, 안티글레어층을 형성하기 위한 수지로서, 자외선 경화형 우레탄아크릴레이트 수지(미쓰비시 케미컬(주)제, 상품명 「UV1700TL」, 고형분 농도 80중량%) 50중량부, 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 주성분으로 하는 다관능 아크릴레이트(오사카 유키 가가쿠 고교(주)제, 상품명 「비스코트 #300」, 고형분 농도 100중량%) 50중량부를 준비하였다. 이들 수지의 고형분 100중량부당, (메트)아크릴산에스테르와 스티렌의 공중합체를 포함하는 입자(세키스이 가세힝 고교(주)제, 상품명 「테크폴리머 SSX504TNR」, 중량 평균 입경: 3.0㎛)를 4중량부, 틱소트로피 부여제로서 유기 점토인 합성 스멕타이트(쿠니미네 고교(주)제, 상품명 「스메쿠톤 SAN」)를 1.5중량부, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명 「OMNIRAD907」)를 3중량부, 레벨링제(DIC(주)제, 상품명 「GRANDIC PC4100」, 고형분 농도 10중량%)를 0.015중량부 혼합하였다. 이 혼합물에 대하여, 고형분 농도가 50중량%가 되도록, 톨루엔/시클로펜타논 혼합 용매(중량비 80/20)로 희석하여, 안티글레어층을 형성하기 위한 재료(도공액)를 조제하였다.First, as a resin for forming the anti-glare layer, 50 parts by weight of an ultraviolet curable urethane acrylate resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name "UV1700TL",
다음에, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(후지 필름(주)제, 상품명 「TD60UL」)을 준비하였다. 이 투명 플라스틱 필름(TAC 필름)의 편면에, 바 코터를 사용하여, 안티글레어층을 형성하기 위한 재료(도공액)를 도포하여, 도막을 형성하였다. 다음에, 도막이 형성된 투명 플라스틱 필름을 80℃에서 1분간 가열함으로써 도막을 건조시켰다. 다음에, 이 도막에 대하여, 고압 수은 램프로 적산 광량 300mJ/㎠의 자외선을 조사함으로써 경화 처리를 행하였다. 이에 의해, 두께 8.0㎛의 안티글레어층이 형성되어, 안티글레어층 구비 TAC 필름이 얻어졌다. 안티글레어층 구비 TAC 필름의 헤이즈는, 8%였다.Next, a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name "TD60UL") was prepared. A material (coating solution) for forming an anti-glare layer was applied to one side of this transparent plastic film (TAC film) using a bar coater to form a coating film. Next, the coating film was dried by heating the transparent plastic film on which the coating film was formed at 80 degreeC for 1 minute. Next, the hardening process was performed with respect to this coating film by irradiating the ultraviolet-ray of 300 mJ/cm<2> of accumulated light quantity with a high-pressure mercury-vapor lamp. Thereby, the 8.0-micrometer-thick anti-glare layer was formed, and the TAC film with an anti-glare layer was obtained. The haze of the TAC film with an anti-glare layer was 8 %.
다음에, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 이 안티글레어층 구비 TAC 필름을 도입하고, 필름을 주행시킴으로써 안티글레어층의 표면에 봄바드 처리(Ar 가스에 의한 플라스마 처리)를 행하였다. 다음에, 안티글레어층의 표면 상에, 밀착층으로서, 물리막 두께가 3㎚인 SiOx층(x<2)을 성막하였다. 다음에, 밀착층 상에, 물리막 두께가 12㎚인 Nb2O5층(제1 고굴절률층), 물리막 두께가 29㎚인 SiO2층(제1 저굴절률층), 물리막 두께가 116㎚인 Nb2O5층(제2 고굴절률층) 및 물리막 두께가 78㎚인 SiO2층(제2 저굴절률층)을 순서대로 성막하여, 적층체 a를 제작하였다. 이들 산화물 박막을 형성할 때는, 아르곤의 도입량 및 배기량을 조정하여 장치 내의 압력을 일정하게 유지하면서, 플라스마 발광 모니터링(PEM) 제어에 의해, 도입하는 산소의 양을 조정하였다.Next, this TAC film with an anti-glare layer was introduced into a roll-to-roll sputtering film forming apparatus, and the surface of the anti-glare layer was subjected to bombardment treatment (plasma treatment with Ar gas) by running the film. Next, an SiO x layer (x<2) having a physical film thickness of 3 nm (x<2) was formed as an adhesive layer on the surface of the antiglare layer. Next, on the adhesion layer, an Nb 2 O 5 layer having a physical film thickness of 12 nm (first high refractive index layer), a SiO 2 layer having a physical film thickness of 29 nm (first low refractive index layer), and a physical film thickness were A 116 nm Nb 2 O 5 layer (second high refractive index layer) and a SiO 2 layer (second low refractive index layer) having a physical film thickness of 78 nm were sequentially formed to prepare a laminate a. When these oxide thin films were formed, the amount of oxygen introduced was adjusted by plasma emission monitoring (PEM) control while the pressure in the apparatus was kept constant by adjusting the amount of argon introduced and the amount of exhaust.
다음에, 적층체 a의 제2 저굴절률층(SiO2층)의 표면에, 방오층으로서, 불소계 수지로 이루어지는 층(물리막 두께: 9㎚)을 형성하였다. 또한, 적층체 a의 TAC 필름의 표면에 점착제층 C를 전사함으로써 반사 방지막 AR1을 제작하였다.Next, on the surface of the second low-refractive-index layer (SiO 2 layer) of the laminate a, as an antifouling layer, a layer (physical film thickness: 9 nm) made of a fluorine-based resin was formed. Furthermore, the antireflection film AR1 was produced by transcribe|transferring the adhesive layer C on the surface of the TAC film of the laminated body a.
<반사 방지막 AR2 내지 AR10><Anti-reflection film AR2 to AR10>
각 층의 물리막 두께를 표 1에 나타내는 값으로 변경한 것을 제외하고, 반사 방지막 AR1과 동일한 방법에 의해, 반사 방지막 AR2 내지 AR10을 제작하였다.Antireflection films AR2 to AR10 were produced in the same manner as for the antireflection film AR1, except that the physical film thickness of each layer was changed to the value shown in Table 1.
<편광 필름 P1><Polarizing film P1>
먼저, 이하의 방법에 의해 아크릴 필름을 제작하였다. 교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 용량 30L의 가마형 반응기에, 8,000g의 메타크릴산메틸(MMA), 2,000g의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸(MHMA), 10,000g의 4-메틸-2-펜타논(메틸이소부틸케톤, MIBK), 5g의 n-도데실머캅탄을 투입하였다. 반응기 내에 질소를 도입하면서, 반응기 내의 혼합물을 105℃까지 승온하여 환류시켰다. 다음에, 중합 개시제로서 5.0g의 t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트(카야카르본 BIC-7, 가야쿠아쿠조사제)를 첨가함과 함께, 10.0g의 t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트와 230g의 MIBK로 이루어지는 용액을 4시간에 걸쳐 적하하여, 용액 중합을 행하였다. 용액 중합은, 환류 하, 약 105 내지 120℃에서 행하였다. 용액의 적하 후에, 다시 4시간에 걸쳐 숙성을 행하였다.First, an acrylic film was produced by the following method. In a kiln-type reactor with a capacity of 30 L equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, 8,000 g of methyl methacrylate (MMA), 2,000 g of 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate (MHMA), 10,000 g of 4-methyl-2-pentanone (methylisobutyl ketone, MIBK) and 5 g of n-dodecyl mercaptan were added. While introducing nitrogen into the reactor, the temperature of the mixture in the reactor was raised to 105° C. and refluxed. Next, while adding 5.0 g of t-butylperoxyisopropyl carbonate (Kayacarbon BIC-7, manufactured by Kayaku Corporation) as a polymerization initiator, 10.0 g of t-butylperoxyisopropylcarbonate The solution consisting of nitrate and 230 g of MIBK was dripped over 4 hours, and solution polymerization was performed. Solution polymerization was performed at about 105-120 degreeC under reflux. After the solution was added dropwise, aging was further performed for 4 hours.
다음에, 얻어진 중합체 용액에, 30g의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물(Phoslex A-18, 사카이 가가쿠 고교제)을 첨가하고, 환류 하, 약 90 내지 120℃에서 5시간, 환화 축합 반응을 행하였다. 다음에, 얻어진 용액을, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 내지 400hPa(10 내지 300㎜Hg), 리어 벤트수 1개, 포어 벤트수 4개의 벤트 타입 스크루 2축 압출기(φ=29.75㎜, L/D=30)에, 수지량 환산으로 2.0kg/h의 처리 속도로 도입하였다. 압출기 내에서는, 한층 더한 환화 축합 반응과 함께 탈휘가 진행되었다. 이에 의해, 락톤환 함유 중합체의 투명한 펠릿을 얻었다.Next, to the obtained polymer solution, 30 g of a stearyl phosphate/distearyl phosphate mixture (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) was added, and the cyclization condensation reaction was carried out at about 90 to 120° C. under reflux for 5 hours. was done. Next, the obtained solution was subjected to a barrel temperature of 260° C., a rotation speed of 100 rpm, a pressure reduction degree of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a vent type screw twin screw extruder (φ=29.75) with one rear vent and four fore vents. mm, L/D = 30) at a treatment rate of 2.0 kg/h in terms of the amount of resin. In the extruder, devolatilization proceeded with further cyclization condensation reaction. Thereby, the transparent pellet of a lactone ring containing polymer was obtained.
얻어진 락톤환 함유 중합체에 대하여, 다이내믹 TG의 측정을 행한바, 0.17질량%의 질량 감소를 검지하였다. 또한, 이 락톤환 함유 중합체는, 중량 평균 분자량이 133,000, 멜트 플로 레이트가 6.5g/10min, 유리 전이 온도가 131℃였다.With respect to the obtained lactone ring containing polymer, when dynamic TG was measured, the mass decrease of 0.17 mass % was detected. Moreover, this lactone ring containing polymer had a weight average molecular weight of 133,000, a melt flow rate of 6.5 g/10min, and a glass transition temperature of 131 degreeC.
얻어진 펠릿과, 아크릴로니트릴-스티렌(AS) 수지(도요 AS AS20, 도요 스티렌사제)를 질량비 90/10으로, 단축 압출기(스크루 30㎜φ)를 사용하여 혼련 압출함으로써, 투명한 펠릿을 얻었다. 얻어진 펠릿의 유리 전이 온도는 127℃였다.The obtained pellets and acrylonitrile-styrene (AS) resin (Toyo AS AS20, Toyo Styrene Co., Ltd. make) were kneaded and extruded using a single screw extruder (screw 30 mmφ) at a mass ratio of 90/10 to obtain transparent pellets. The glass transition temperature of the obtained pellets was 127 degreeC.
50㎜φ 단축 압출기를 사용하여, 이 펠릿을 400㎜ 폭의 코트 행거 타입 T다이로부터 용융 압출함으로써, 두께 120㎛의 필름을 제작하였다. 2축 연신 장치를 사용하여, 필름을 150℃의 온도 조건 하, 세로 2.0배 및 가로 2.0배로 연신함으로써, 두께 30㎛의 연신 필름(아크릴 필름)을 얻었다. 이 연신 필름의 광학 특성을 측정한바, 전광선 투과율이 93%이며, 면내 위상차 Δnd가 0.8㎚이고, 두께 방향 위상차 Rth가 1.5㎚였다.A film having a thickness of 120 µm was produced by melt-extruding this pellet from a coat hanger type T-die having a width of 400 mm using a 50 mm phi single screw extruder. A 30-micrometer-thick stretched film (acrylic film) was obtained by extending|stretching a film to 2.0 times in length and 2.0 times in width under 150 degreeC temperature conditions using the biaxial stretching apparatus. When the optical properties of this stretched film were measured, the total light transmittance was 93%, the in-plane retardation Δnd was 0.8 nm, and the thickness direction retardation Rth was 1.5 nm.
다음에, 이하의 방법에 의해 편광 필름 P1을 제작하였다. 먼저, 속도비가 서로 다른 복수의 롤 사이에 있어서, 두께 45㎛의 폴리비닐알코올 필름을 농도 0.3%의 요오드 용액(온도 30℃) 중에서 1분간 염색하면서, 연신 배율이 3배가 되도록 연신하였다. 다음에, 얻어진 연신 필름을 붕산의 농도가 4%이며, 요오드화칼륨의 농도가 10%인 수용액(온도 60℃) 중에 0.5분간 침지하면서, 총 연신 배율이 6배가 되도록 연신하였다. 다음에, 연신 필름을 농도 1.5%의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(온도 30℃) 중에 10초간 침지함으로써 세정하였다. 다음에, 연신 필름을 50℃에서 4분간 건조시킴으로써 두께 18㎛의 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 한쪽의 주면에, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 두께 40㎛의 TAC 필름(코니카 미놀타제, 상품명 「KC4UY」)을 접합하였다. 편광자의 다른 쪽의 주면에는, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 상술한 두께 30㎛의 아크릴 필름을 접합하였다. 이에 의해, 편광 필름 P1을 얻었다.Next, the polarizing film P1 was produced by the following method. First, between a plurality of rolls having different speed ratios, a polyvinyl alcohol film having a thickness of 45 µm was stretched so that the draw ratio became 3 times while dyeing for 1 minute in an iodine solution having a concentration of 0.3% (temperature of 30° C.). Next, the obtained stretched film was stretched so that the total draw ratio was 6 times while immersing the resulting stretched film in an aqueous solution having a concentration of boric acid of 4% and a concentration of potassium iodide of 10% (temperature of 60°C) for 0.5 minutes. Next, the stretched film was washed by immersing it in an aqueous solution (temperature: 30°C) containing potassium iodide having a concentration of 1.5% for 10 seconds. Next, the 18-micrometer-thick polarizer was obtained by drying a stretched film at 50 degreeC for 4 minutes. A 40-micrometer-thick TAC film (made by Konica Minolta, trade name "KC4UY") was bonded to one main surface of the obtained polarizer via a polyvinyl alcohol-type adhesive agent. The 30-micrometer-thick acrylic film mentioned above was bonded to the other main surface of a polarizer via a polyvinyl alcohol-type adhesive agent. Thereby, the polarizing film P1 was obtained.
(실시예 1)(Example 1)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 PT-436) 50부 및 물 50부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.5중량%인 도포액을 조제하였다. 다음에, 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 도포하였다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작하였다. 이에 의해, 도전층 구비 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는, 30㎚였다.First, the coating liquid whose solid content concentration is 0.5 weight% was prepared by mixing 50 parts of solutions (Denatron PT-436 manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) and 50 parts of water containing PEDOT/PSS. Next, the coating liquid was apply|coated to the surface of the acrylic film side of the polarizing film P1. The conductive layer was produced by drying the obtained coating film at 80 degreeC for 2 minutes. Thereby, the polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 30 nm.
다음에, 반사 방지막 AR1의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합하였다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR1/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 실시예 1의 반사 방지막 구비 편광 필름을 제작하였다.Next, the adhesive layer C of the antireflection film AR1 was bonded together on the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Moreover, the polarizing film with an antireflection film of Example 1 which has the structure of antireflection film AR1/polarizing film P1/conductive layer/adhesive layer A was produced by transferring the adhesive layer A to the surface of a conductive layer.
(실시예 2)(Example 2)
도전층의 두께가 90㎚가 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름 P1에 도포한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 2의 반사 방지막 구비 편광 필름을 제작하였다.The polarizing film with an antireflection film of Example 2 was produced by the method similar to Example 1 except having apply|coated the coating liquid of PEDOT/PSS to the polarizing film P1 so that the thickness of a conductive layer might be set to 90 nm.
(실시예 3 내지 12 및 비교예 1 내지 2)(Examples 3 to 12 and Comparative Examples 1 to 2)
반사 방지막, 도전층 및 점착제층을 표 2에 나타내는 조합으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 실시예 3 내지 12 및 비교예 1 내지 2의 반사 방지막 구비 편광 필름을 제작하였다. 또한, 비교예 2에서는, 편광 필름 P1에 도전층을 형성하지 않고, 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 점착제층 A를 직접 접합하였다.In the same manner as in Example 1, except that the antireflection film, the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer were changed to the combination shown in Table 2, the polarizing films with the antireflection film of Examples 3 to 12 and Comparative Examples 1 to 2 were produced. . In addition, in the comparative example 2, the adhesive layer A was directly bonded to the surface by the side of the acryl film of the polarizing film P1, without providing a conductive layer in the polarizing film P1.
(실시예 13)(Example 13)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 9부 및 물 91부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.27중량%인 도포액을 조제하였다. 다음에, 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 도포하였다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작하였다. 이에 의해, 도전층 구비 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는, 100㎚였다.First, a coating liquid having a solid content concentration of 0.27 wt% was prepared by mixing 9 parts of a solution containing PEDOT/PSS (Denatron P-580W manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) and 91 parts of water. Next, the coating liquid was apply|coated to the surface of the acrylic film side of the polarizing film P1. The conductive layer was produced by drying the obtained coating film at 80 degreeC for 2 minutes. Thereby, the polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 100 nm.
다음에, 반사 방지막 AR4의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합하였다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR4/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 실시예 13의 반사 방지막 구비 편광 필름을 제작하였다.Next, the adhesive layer C of the antireflection film AR4 was bonded together on the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Moreover, the polarizing film with an antireflection film of Example 13 which has the structure of antireflection film AR4/polarizing film P1/conductive layer/adhesive layer A was produced by transferring the adhesive layer A to the surface of a conductive layer.
(비교예 3)(Comparative Example 3)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 8.6부, 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머를 포함하는 용액(상품명: 에포크로스 WS-700, 닛폰 쇼쿠바이제) 1부, 및 물 90.4부를 혼합하여, 도전층을 형성하기 위한 도포액(고형분 농도 0.5중량%)을 조제하였다. 얻어진 도포액에 있어서, 폴리티오펜계 폴리머의 농도가 0.04중량%이며, 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머의 농도가 0.25중량%였다.First, 8.6 parts of a solution containing PEDOT/PSS (Denatron P-580W manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.), and 1 part of a solution containing an oxazoline group-containing acrylic polymer (trade name: Epocross WS-700, manufactured by Nippon Shokubai) and 90.4 parts of water were mixed to prepare a coating liquid (solid content concentration of 0.5% by weight) for forming a conductive layer. The obtained coating liquid WHEREIN: The density|concentration of a polythiophene type polymer was 0.04 weight%, and the density|concentration of an oxazoline group containing acrylic polymer was 0.25 weight%.
다음에, 얻어진 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 주면에 도포하였다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작하였다. 이에 의해, 도전층 구비 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는, 60㎚였다.Next, the obtained coating liquid was apply|coated to the main surface by the side of the acrylic film of the polarizing film P1. The conductive layer was produced by drying the obtained coating film at 80 degreeC for 2 minutes. Thereby, the polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 60 nm.
다음에, 반사 방지막 AR10의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합하였다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR10/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 비교예 3의 반사 방지막 구비 편광 필름을 제작하였다.Next, the adhesive layer C of the antireflection film AR10 was bonded together on the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Moreover, the polarizing film with an antireflection film of the comparative example 3 which has the structure of antireflection film AR10/polarizing film P1/conductive layer/adhesive layer A was produced by transferring the adhesive layer A to the surface of a conductive layer.
<반사 방지막 구비 편광 필름의 광학 특성><Optical properties of polarizing film with anti-reflection film>
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지막 구비 편광 필름에 대하여, 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태에서, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 반사 방지막으로부터 입사하였을 때 발생하는 반사광의 시감 반사율 Y, L*값, a*값 및 b*값, 그리고, L*값=0, a*값=0 및 b*값=0을 충족하는 광과 반사광의 색차 ΔE를 상술한 방법에 의해 평가하였다. 이때, 반사 방지막 구비 편광 필름은, 한 변이 50㎜인 정사각형으로 잘라내어 사용하였다. 무알칼리 유리로서는, 코닝사제의 EG-XG(두께 0.7㎜)를 사용하였다. 흑색 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)제의 것을 사용하였다. 분광 반사율은, 분광 광도계(코니카 미놀타사제, 상품명 「CM2600D」)를 사용하여 측정하였다. 광학 특성을 평가하기 위한 평가 샘플은, 반사 방지막 구비 편광 필름/무알칼리 유리/흑색 PET 필름의 구성을 갖고 있었다. 단, 비교예 1의 반사 방지막 구비 편광 필름에 대해서는, 표면에 비정질성의 ITO층(두께 20㎚)이 형성된 무알칼리 유리를 사용하여 반사광을 평가하였다. 즉, 비교예 1에 있어서, 평가 샘플은, 반사 방지막 구비 편광 필름/ITO층/무알칼리 유리/흑색 PET 필름의 구성을 갖고 있었다. ITO층의 제작에는, 스퍼터링을 이용하였다. ITO층에 포함되는 ITO의 Sn 비율은, 3중량%였다. Sn 비율은, ITO에 있어서의 Sn 원자의 중량/(Sn 원자의 중량+In 원자의 중량)으로부터 산출하였다.With respect to the polarizing film with antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples, in a state in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with alkali-free glass so that it is in direct contact with the alkali-free glass, light from the CIE standard light source D65 is incident from the antireflection film. The method described above for the luminous reflectance Y, L * value, a * value and b * value of the reflected light, and the color difference ΔE between light and reflected light satisfying L * value=0, a * value=0 and b * value=0 was evaluated by At this time, the polarizing film with an antireflection film was cut out into the square whose one side is 50 mm, and was used. As the alkali-free glass, EG-XG (thickness 0.7 mm) manufactured by Corning Corporation was used. As a black film, the thing made from polyethylene terephthalate (PET) was used. The spectral reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, trade name "CM2600D"). The evaluation sample for evaluating an optical characteristic had the structure of polarizing film with antireflection film/alkali free glass/black PET film. However, about the polarizing film with an antireflection film of the comparative example 1, the reflected light was evaluated using the alkali free glass in which the amorphous ITO layer (
<반사 방지막의 광학 특성><Optical properties of anti-reflection film>
반사 방지막 AR1 내지 AR10에 대하여, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 입사하였을 때 발생하는 반사광의 시감 반사율 Y1, a1 *값 및 b1 *값을 상술한 방법에 의해 평가하였다. 흑색 필름, 분광 광도계 등은, 반사 방지막 구비 편광 필름의 광학 특성의 평가에 이용한 것과 동일한 것을 사용하였다.For the antireflection films AR1 to AR10, the luminous reflectance Y 1 , a 1 * value, and b 1 * value of the reflected light generated when light from the CIE standard light source D65 was incident was evaluated by the method described above. The black film, the spectrophotometer, etc. used the thing similar to what was used for evaluation of the optical characteristic of the polarizing film with an antireflection film.
<점착제층의 표면 저항률><Surface resistivity of adhesive layer>
점착제층 A 및 B의 표면 저항률(Ω/□)은, 점착제층 A 또는 B를 세퍼레이터의 표면에 형성한 단계에서 측정하였다. 표면 저항률의 측정에는, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타-UP MCP-HT450)를 사용하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 250V이며, 인가 시간이 10초였다.The surface resistivity (Ω/□) of the pressure-sensitive adhesive layers A and B was measured at the stage in which the pressure-sensitive adhesive layer A or B was formed on the surface of the separator. For the measurement of the surface resistivity, a resistivity meter (Hiresta-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) was used. As for measurement conditions, the applied voltage was 250 V, and the application time was 10 seconds.
<도전층의 표면 저항률><Surface resistivity of conductive layer>
실시예 및 비교예에 있어서, 도전층의 표면 저항률(Ω/□)은, 도전층을 편광 필름 P1의 표면에 형성한 단계에서 측정하였다. 실시예 13 및 비교예 3에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타-UP MCP-HT450)를 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이며, 인가 시간이 10초였다. 실시예 1 내지 12 및 비교예 1에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 로레스타-GP MCP-T600)를 사용하여, JIS K7194:1994에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이며, 인가 시간이 10초였다.In an Example and a comparative example, the surface resistivity (Ω/□) of the conductive layer was measured at the stage in which the conductive layer was formed in the surface of the polarizing film P1. In Example 13 and Comparative Example 3, the measurement of the surface resistivity of the conductive layer used a resistivity meter (Hiresta-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) and conformed to the method specified in JIS K6911:1995. was done. The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the application time was 10 seconds. In Examples 1 to 12 and Comparative Example 1, the measurement of the surface resistivity of the conductive layer uses a resistivity meter (Loresta-GP MCP-T600 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech), and the method specified in JIS K7194:1994 was carried out in accordance with The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the application time was 10 seconds.
<편광 필름의 표면 저항률><Surface resistivity of polarizing film>
비교예 2에서는, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타-UP MCP-HT450)를 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여, 편광 필름 P1의 표면 저항률을 측정하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이며, 인가 시간이 10초였다. 편광 필름 P1의 표면 저항률은, 1.0×1014Ω/□를 상회하였다.In the comparative example 2, based on the method prescribed|regulated to JISK6911:1995, the surface resistivity of the polarizing film P1 was measured using the resistivity meter (The Mitsubishi Chemical Analytech company Hiresta-UP MCP-HT450). The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the application time was 10 seconds. The surface resistivity of the polarizing film P1 exceeded 1.0×10 14 Ω/□.
<도전층에 의한 전광선 투과율의 손실 A><Loss A of total light transmittance due to conductive layer>
먼저, 편광 필름 P1의 전광선 투과율 T1을 JIS K7361-1:1997의 규정에 준거하여, 분광 광도계(니혼 분코사제의 V7100)를 사용하여 측정하였다. 마찬가지의 방법으로, 도전층을 편광 필름 P1의 표면에 형성한 단계에서, 편광 필름 P1 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L의 전광선 투과율 T2를 측정하였다. 적층체 L의 전광선 투과율 T2는, 편광 필름 P1측으로부터 광을 입사시켜 측정하였다. 편광 필름 P1의 전광선 투과율 T1과 전광선 투과율 T2의 차(T1-T2)를 산출하고, 얻어진 산출값을 도전층에 의한 전광선 투과율의 손실 A로 간주하였다.First, the total light transmittance T1 of the polarizing film P1 was measured using the spectrophotometer (Nippon Bunko Corporation V7100) based on the prescription|regulation of JISK7361-1:1997. In the same manner, at the stage in which the conductive layer was formed on the surface of the polarizing film P1, the total light transmittance T2 of the laminate L consisting of the polarizing film P1 and the conductive layer was measured. The total light transmittance T2 of the laminated body L was measured by injecting light from the polarizing film P1 side. The difference (T1-T2) of the total light transmittance T1 of the polarizing film P1 and the total light transmittance T2 was computed, and the calculated value obtained was regarded as the loss A of the total light transmittance by a conductive layer.
<ESD 시험><ESD Test>
먼저, 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지막 구비 편광 필름을 액정 셀의 시인측의 표면에 접합하여 액정 패널을 제작하였다. 단, 비교예 1에 대해서는, 표면에 비정질성의 ITO층(두께 20㎚)이 형성된 액정 셀을 사용하였다. 즉, 비교예 1에 있어서, 액정 패널은, 반사 방지막 구비 편광 필름/ITO층/액정 셀의 구성을 갖고 있었다. ITO층의 제작에는, 스퍼터링을 이용하였다. ITO층에 포함되는 ITO의 Sn 비율은, 3중량%였다. 다음에, 반사 방지막 구비 편광 필름의 측면을 덮도록, 5㎜ 폭으로, 은 페이스트를 도포하였다. 은 페이스트를 건조시킴으로써, 은으로 구성된 도통 구조를 형성하였다. 이 도통 구조를 통해, 액정 패널을 외부의 접지 전극과 전기적으로 접속시켰다. 다음에, 액정 패널을 백라이트 장치 상에 세트하였다. 다음에, 인가 전압이 10㎸로 조절된 정전기 방전(ESD)총을 사용하여, 액정 패널의 시인측(반사 방지막측)에 정전기를 부여하였다. 이에 의해, 액정 패널의 일부가 하얗게 되었다. 정전기를 부여하고 나서, 하얗게 된 부분이 소실될 때까지의 시간 T를 측정하였다. 표 2에서는, 이하의 시간 T에 관한 기준에 기초하여, ESD 시험의 결과를 평가하였다. 또한, ESD 시험은, 23℃, 55%RH의 조건에서 행하였다.First, the polarizing film with an antireflection film obtained by the Example and the comparative example was bonded together on the surface of the visual recognition side of a liquid crystal cell, and the liquid crystal panel was produced. However, for Comparative Example 1, a liquid crystal cell in which an amorphous ITO layer (
(평가 기준)(Evaluation standard)
A: 0.5초 이하A: 0.5 seconds or less
B: 0.5초를 초과하고, 1초 이하B: Exceeds 0.5 second and less than 1 second
C: 1초를 초과하고, 10초 이하C: More than 1 second and less than 10 seconds
D: 10초를 초과함D: Exceeded 10 seconds
<색감><Color>
상기 ESD 시험에서 제작한 액정 패널을 시인측(반사 방지막측)으로부터 눈으로 보아 관찰하여, 색감을 평가하였다. 표 2의 색감의 항목에 있어서, A는, 색감이 확인되지 않은 것을 의미한다. B는, 색감이 아주 조금 확인된 것을 의미한다. C는, 색감이 조금 확인된 것을 의미한다. D는, 색감이 확인된 것을 의미한다.The liquid crystal panel produced in the ESD test was visually observed from the visual side (anti-reflection film side) to evaluate the color tone. In the item of color in Table 2, A means that no color is confirmed. B means that very little color was confirmed. C means that a little color was confirmed. D means that the color was confirmed.
표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 도전층을 갖는 실시예 1 내지 13의 반사 방지막 구비 편광 필름은, 비교예 2 및 3에 비해 ESD 시험의 결과가 양호하여, 액정 패널의 대전을 충분히 억제할 수 있다고 추정된다. 실시예 3 및 비교예 1의 ESD 시험의 결과로부터는, 도전층과 함께, 도전 재료가 첨가된 점착제층을 사용함으로써, ITO층을 사용하는 경우보다도 액정 패널의 대전을 충분히 억제할 수 있음을 알 수 있다.As can be seen from Table 2, the polarizing films with an antireflection film of Examples 1 to 13 having a conductive layer having a surface resistivity of 1.0 × 10 6 Ω/□ or less have better ESD test results than Comparative Examples 2 and 3 Therefore, it is estimated that charging of the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed. From the results of the ESD test of Example 3 and Comparative Example 1, it was found that by using the adhesive layer to which the conductive material was added together with the conductive layer, the charging of the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed compared to the case where the ITO layer is used. can
또한, 반사광의 시감 반사율 Y의 값이 충분히 낮은 실시예 1 내지 13의 반사 방지막 구비 편광 필름을 구비한 액정 패널에서는, 광의 반사가 충분히 억제되어 있었다. 이들 액정 패널은, 액정 표시 장치의 시인성을 향상시키는 것에 적합하다고 추정된다. 이에 반해, 비교예 1에서는, ITO층의 존재에 의해 시감 반사율 Y가 크게 상승되어 있어, 액정 패널에서의 광의 반사를 충분히 억제할 수 없었다.Moreover, in the liquid crystal panel provided with the polarizing film with an antireflection film of Examples 1-13 whose value of the luminous reflectance Y of reflected light is sufficiently low, reflection of light was fully suppressed. It is estimated that these liquid crystal panels are suitable for improving the visibility of a liquid crystal display device. On the other hand, in the comparative example 1, the luminous reflectance Y was raised largely by presence of an ITO layer, and reflection of the light in a liquid crystal panel could not fully be suppressed.
본 발명의 액정 패널은, 양호한 시인성이 요구되는 용도, 예를 들어 차량 탑재용 디스플레이 등의 용도에 적합하게 이용할 수 있다.The liquid crystal panel of this invention can be used suitably for the use by which favorable visibility is calculated|required, for example, uses, such as an in-vehicle display.
Claims (15)
액정 셀
을 구비하고,
상기 반사 방지막 구비 편광 필름과 상기 액정 셀 사이에는 도전층이 마련되어 있지 않고,
상기 반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 상기 도전층의 표면 저항률은, 1.0×106Ω/□ 이하이고,
상기 반사 방지막 구비 편광 필름은, 상기 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 상기 무알칼리 유리와 적층된 상태에서, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 상기 점착제층과는 반대측의 표면으로부터 입사하였을 때, 시감 반사율 Y가 1.1% 이하인 반사광을 발생시키는, 액정 패널.A polarizing film with an antireflection film which has an antireflection film, a polarizing film, and an adhesive layer in this order in a lamination direction, and further has a conductive layer;
liquid crystal cell
to provide
A conductive layer is not provided between the polarizing film with an antireflection film and the liquid crystal cell,
The surface resistivity of the conductive layer of the polarizing film with an antireflection film is 1.0×10 6 Ω/□ or less,
The polarizing film with an anti-reflection film, when the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with the alkali-free glass so that it is in direct contact with the alkali-free glass, light from the CIE standard light source D65 is incident from the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer, A liquid crystal panel that generates reflected light having a luminous reflectance Y of 1.1% or less.
상기 반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 상기 도전층은, 상기 편광 필름과 상기 점착제층 사이에 배치되어 있는, 액정 패널.According to claim 1,
The said conductive layer which the said polarizing film with an antireflection film has is arrange|positioned between the said polarizing film and the said adhesive layer, The liquid crystal panel.
상기 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인, 액정 패널.3. The method of claim 1 or 2,
The liquid crystal panel, wherein the surface resistivity is 1.0×10 4 Ω/□ or less.
상기 표면 저항률이 5.0×102Ω/□보다 큰, 액정 패널.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The liquid crystal panel, wherein the surface resistivity is greater than 5.0×10 2 Ω/□.
상기 시감 반사율 Y가 0.9% 이하인, 액정 패널.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The luminous reflectance Y is 0.9% or less, the liquid crystal panel.
상기 반사 방지막 구비 편광 필름이 갖는 상기 도전층에 의한 전광선 투과율의 손실이 0.9% 이하인, 액정 패널.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The liquid crystal panel whose loss of total light transmittance by the said conductive layer which the said polarizing film with an antireflection film has is 0.9 % or less.
상기 반사광의 L*a*b* 표색계에 있어서의 a*값 및 b*값이 하기 관계식 (1) 및 (2)를 충족하는, 액정 패널.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A liquid crystal panel wherein the a * value and the b * value in the L * a * b * color space system of the reflected light satisfy the following relational expressions (1) and (2).
상기 a*값이 -6 이상 6 이하인, 액정 패널.8. The method of claim 7,
The a * value is -6 or more and 6 or less, the liquid crystal panel.
상기 a*값이 -3 이상 3 이하인, 액정 패널.9. The method of claim 8,
The a * value is -3 or more and 3 or less, the liquid crystal panel.
상기 b*값이 -15 이상 3 이하인, 액정 패널.10. The method according to any one of claims 7 to 9,
wherein the b * value is -15 or more and 3 or less.
상기 b*값이 -10 이상 2 이하인, 액정 패널.11. The method of claim 10,
The b * value is -10 or more and 2 or less, the liquid crystal panel.
상기 b*값이 -6 이상 2 이하인, 액정 패널.12. The method of claim 11,
wherein the b * value is -6 or more and 2 or less.
상기 반사 방지막은, 제1 고굴절률층, 제1 저굴절률층, 제2 고굴절률층 및 제2 저굴절률층을 적층 방향으로 이 순으로 갖는, 액정 패널.13. The method according to any one of claims 1 to 12,
The said antireflection film has a 1st high refractive index layer, a 1st low refractive index layer, a 2nd high refractive index layer, and a 2nd low refractive index layer in this order in a lamination direction, The liquid crystal panel.
상기 제1 고굴절률층의 광학막 두께가 20㎚ 내지 35㎚이고,
상기 제1 저굴절률층의 광학막 두께가 38㎚ 내지 50㎚이며,
상기 제2 고굴절률층의 광학막 두께가 230㎚ 내지 290㎚이고,
상기 제2 저굴절률층의 광학막 두께가 100㎚ 내지 128㎚인, 액정 패널.14. The method of claim 13,
The optical film thickness of the first high refractive index layer is 20 nm to 35 nm,
The optical film thickness of the first low refractive index layer is 38 nm to 50 nm,
An optical film thickness of the second high refractive index layer is 230 nm to 290 nm,
An optical film thickness of the second low refractive index layer is 100 nm to 128 nm, a liquid crystal panel.
상기 점착제층이 도전 재료를 포함하는, 액정 패널.15. The method according to any one of claims 1 to 14,
A liquid crystal panel comprising a conductive material in the pressure-sensitive adhesive layer.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2019-225878 | 2019-12-13 | ||
JP2019225878A JP7497153B2 (en) | 2019-12-13 | 2019-12-13 | LCD panel |
PCT/JP2020/038059 WO2021117323A1 (en) | 2019-12-13 | 2020-10-07 | Liquid crystal panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220115599A true KR20220115599A (en) | 2022-08-17 |
Family
ID=76329712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227023636A Pending KR20220115599A (en) | 2019-12-13 | 2020-10-07 | liquid crystal panel |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7497153B2 (en) |
KR (1) | KR20220115599A (en) |
CN (1) | CN114761865B (en) |
TW (1) | TWI858158B (en) |
WO (1) | WO2021117323A1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5679337B2 (en) | 2008-07-18 | 2015-03-04 | エルジー・ケム・リミテッド | Liquid crystal display |
WO2018181477A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | In-cell liquid crystal panel and liquid crystal display device |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4340509B2 (en) | 2003-10-15 | 2009-10-07 | 光錫 徐 | Transparent antistatic triacetyl cellulose film for liquid crystal display |
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IN2014DN06950A (en) | 2012-02-28 | 2015-04-10 | Heraeus Precious Metals Gmbh | |
JP5812311B1 (en) | 2014-08-08 | 2015-11-11 | ナガセケムテックス株式会社 | Transparent conductor, liquid crystal display device, and method of manufacturing transparent conductor |
JP2016114906A (en) * | 2014-12-18 | 2016-06-23 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate and picture display unit |
CN109153245B (en) * | 2016-05-30 | 2020-05-05 | 住友化学株式会社 | Resin laminate, display device, and polarizing plate |
KR102097797B1 (en) | 2016-12-09 | 2020-05-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | Composition for static dissipative coating layer, polarizing plate comprising the same and optical display apparatus comprising the same |
CN110476093A (en) * | 2017-03-28 | 2019-11-19 | 日东电工株式会社 | Polarizing coating with adhesive phase, polarizing coating of the inline type liquid crystal display panel with adhesive phase, inline type liquid crystal display panel and liquid crystal display device |
JP2019032524A (en) * | 2017-08-08 | 2019-02-28 | 日東電工株式会社 | Antireflection film |
-
2019
- 2019-12-13 JP JP2019225878A patent/JP7497153B2/en active Active
-
2020
- 2020-10-07 KR KR1020227023636A patent/KR20220115599A/en active Pending
- 2020-10-07 CN CN202080080315.5A patent/CN114761865B/en active Active
- 2020-10-07 WO PCT/JP2020/038059 patent/WO2021117323A1/en active Application Filing
- 2020-10-13 TW TW109135372A patent/TWI858158B/en active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5679337B2 (en) | 2008-07-18 | 2015-03-04 | エルジー・ケム・リミテッド | Liquid crystal display |
WO2018181477A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | In-cell liquid crystal panel and liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114761865A (en) | 2022-07-15 |
WO2021117323A1 (en) | 2021-06-17 |
JP7497153B2 (en) | 2024-06-10 |
JP2021096307A (en) | 2021-06-24 |
CN114761865B (en) | 2024-12-20 |
TWI858158B (en) | 2024-10-11 |
TW202122886A (en) | 2021-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20220708 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20241004 Patent event code: PE09021S01D |