KR20220076324A - 반송 장치, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
[해결 수단] 기판을 반송하면서 성막하는 인라인형의 성막 장치의 반송 장치는, 재치된 기판을 반송하는 복수의 반송 롤러와, 복수의 반송 롤러마다 설치되어, 반송 롤러를 둘러싸는 집진 커버를 구비하고, 집진 커버는, 반송 롤러의 축 방향에서 반송 롤러의 기판측의 측면을 덮는 전면부와, 반송 롤러의 상측을 덮는 상면부를 포함하고, 상면부는, 반송 롤러의 상방 둘레면을 노출시키는 개구부를 갖는다.
Description
도 2는 성막 장치의 성막 처리를 나타내는 도면이다.
도 3은 반송 유닛과 증착 유닛의 분리를 나타내는 도면이다.
도 4는 일 실시형태에 따른 반송 유닛의 개략도이다.
도 5는 반송 유닛의 면 X에서의 단면도이다.
도 6은 반송 유닛의 면 Y에서의 단면도이다.
도 7은 반송 롤러 및 집진 커버의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 8은 반송 롤러 및 집진 커버의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 9는 반송 롤러 및 집진 커버의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 10은 반송 롤러 및 집진 커버의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
2: 반송 유닛
3: 증착 유닛
22: 반송 롤러
700: 집진 커버 부품
701: 상면부
710: 집진 커버 부품
751: 마그넷
Claims (12)
- 기판을 반송하면서 성막하는 인라인형의 성막 장치의 반송 장치로서,
재치된 기판을 반송하는 복수의 반송 롤러와,
상기 복수의 반송 롤러마다 설치되어, 상기 반송 롤러를 둘러싸는 커버를 구비하고,
상기 커버는,
상기 반송 롤러의 회전축 방향에서, 상기 반송 롤러의 상기 기판측의 측면을 덮는 전면부와,
연직 방향에서, 상기 반송 롤러의 둘레면의 상측을 덮는 상면부를 포함하고,
상기 상면부는, 상기 반송 롤러의 상기 둘레면의 일부를 노출시키는 개구를 갖는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 상면부는, 기판의 반송 방향에 대해 경사져 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제2항에 있어서,
상기 상면부는, 상기 반송 방향을 따라 배열된 제1 경사부와 제2 경사부를 포함하고,
상기 제1 경사부와 상기 제2 경사부의 사이에 상기 개구가 있고,
상기 제1 경사부와 상기 제2 경사부의 각각은, 상기 개구쪽의 단부가, 상기 반송 방향에 있어서 상기 개구와는 반대쪽의 단부보다, 상기 연직 방향에서 높게 되도록 경사져 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 커버는, 상기 회전축 방향에 수직하고, 상기 연직 방향에 수직한 방향으로, 상기 반송 롤러의 상기 둘레면을 덮는 측면부를 구비하고,
상기 전면부는, 상기 측면부로부터 착탈 가능한 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제4항에 있어서,
상기 상면부는, 상기 측면부에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제4항에 있어서,
상기 상면부는, 상기 전면부에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 커버는,
상기 반송 롤러의 상기 회전축 방향에서, 상기 반송 롤러의 샤프트측의 측면을 덮는 배면부와,
상기 반송 롤러의 상기 회전축 방향에 수직하며, 상기 연직 방향에 수직한 방향으로, 상기 반송 롤러의 상기 둘레면을 덮는 측면부를 구비하고,
상기 측면부는, 상기 배면부에 대하여 착탈 가능하고,
상기 전면부는 상기 측면부와 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 커버는, 상기 반송 롤러의 하방 둘레면을 덮는 트레이를 구비하고,
상기 트레이는, 상기 전면부에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제8항에 있어서,
상기 트레이의 하방에 마그넷이 배치되는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 기판을 반송하면서 성막하는 인라인형의 성막 장치로서,
기판을 반송하는 반송 유닛과,
상기 반송 유닛의 하방에 배치되어, 상기 반송 유닛에 의해 반송되는 기판에 증착 재료를 방출하는 증착 유닛을 구비하고,
상기 반송 유닛은,
재치된 기판을 반송하는 복수의 반송 롤러와,
상기 복수의 반송 롤러마다 설치되어, 상기 반송 롤러를 둘러싸는 커버를 구비하고,
상기 커버는,
상기 반송 롤러의 회전축 방향에서, 상기 반송 롤러의 상기 기판측의 측면을 덮는 전면부와,
연직 방향에서, 상기 반송 롤러의 둘레면의 상측을 덮는 상면부를 포함하고,
상기 상면부는, 상기 반송 롤러의 상기 둘레면의 일부를 노출시키는 개구를 갖는 것을 특징으로 하는 성막 장치. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 반송 장치에 의해 상기 기판을 반송하는 반송 공정과,
반송되는 상기 기판에 증착 재료를 방출하는 증착 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 성막 방법. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 반송 장치에 의해 상기 기판을 반송하는 반송 공정과,
반송되는 상기 기판에 증착 재료를 방출하는 증착 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63171425A (ja) * | 1987-01-08 | 1988-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
JP2010147256A (ja) | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Ulvac Japan Ltd | 基板搬送装置及びこれを用いた成膜装置 |
KR20120114410A (ko) * | 2010-02-25 | 2012-10-16 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 에칭 방법 및 장치 |
JP2014173170A (ja) | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
JP2018172212A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 平田機工株式会社 | ローラ組立体、ローラユニット及びコンベア装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11158630A (ja) * | 1997-11-26 | 1999-06-15 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空搬送装置 |
JP4381160B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2009-12-09 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
EP1698715A1 (de) * | 2005-03-03 | 2006-09-06 | Applied Films GmbH & Co. KG | Anlage zum Beschichten eines Substrats und Einschubelement |
JP5055776B2 (ja) * | 2006-02-03 | 2012-10-24 | 大日本印刷株式会社 | 成膜装置 |
EP2096192A1 (en) * | 2008-02-28 | 2009-09-02 | Applied Materials, Inc. | Backside coating prevention device. |
TW201346050A (zh) * | 2012-02-06 | 2013-11-16 | Tokyo Electron Ltd | 成膜裝置及成膜方法 |
TWI575330B (zh) * | 2012-03-27 | 2017-03-21 | 尼康股份有限公司 | 光罩搬送裝置、光罩保持裝置、基板處理裝置、及元件製造方法 |
JP2020152954A (ja) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | 東レエンジニアリング株式会社 | 成膜装置 |
JP7324028B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2023-08-09 | 日東電工株式会社 | ガラス基材の搬送装置、積層ガラスの製造装置、および、積層ガラスの製造方法 |
-
2020
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-
2021
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63171425A (ja) * | 1987-01-08 | 1988-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
JP2010147256A (ja) | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Ulvac Japan Ltd | 基板搬送装置及びこれを用いた成膜装置 |
KR20120114410A (ko) * | 2010-02-25 | 2012-10-16 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 에칭 방법 및 장치 |
JP2014173170A (ja) | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
JP2018172212A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 平田機工株式会社 | ローラ組立体、ローラユニット及びコンベア装置 |
Also Published As
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