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KR20220052969A - 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물 및 이로 제조된 광학 수지 - Google Patents

1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물 및 이로 제조된 광학 수지 Download PDF

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KR20220052969A
KR20220052969A KR1020227009448A KR20227009448A KR20220052969A KR 20220052969 A KR20220052969 A KR 20220052969A KR 1020227009448 A KR1020227009448 A KR 1020227009448A KR 20227009448 A KR20227009448 A KR 20227009448A KR 20220052969 A KR20220052969 A KR 20220052969A
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펑 왕
웬빈 리
지에 첸
치아오 왕
치엔 우
하오 첸
영화 샹
유안 리
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완후아 케미컬 그룹 코., 엘티디
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Abstract

본 발명에서는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물 및 이로 제조된 광학 수지를 개시하였다. 상기 조성물은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 중량을 기반으로, a) 65％-95％ 중량의 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산; b) 0보다 크고 ≤0.5％ 중량이고, 바람직하게 0.02％ 중량-0.5％ 중량의 1,4-비스이소시아네이토메틸시클로헥산을 포함한다. 바람직하게, 상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 중량을 기반으로, 0보다 크고 ≤600ppm인 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산을 포함한다. 상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물은 광학 수지를 제조하는데 사용됨으로써, 혼탁 발생률 및 광학적 변형 발생률이 감소된 광학 렌즈를 얻을 수 있다.

Description

1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물 및 이로 제조된 광학 수지
본 발명은 이소시아네이트 분야에 관한 것이고, 구체적으로 광학 수지용 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물에 관한 것이다.
광학 수지는 안경, 비행기, 자동차의 유리 및 렌즈, 프리즘 등 광학 소자를 제조하는데 광범위하게 사용된다.
폴리우레탄계 수지는 광학 수지에서 가장 중요한 1종이며, 해당 유형의 수지는 폴리티올 화합물, 및 이소시아네이트 화합물의 중합반응으로 얻어진다. 해당 유형의 광학 수지는 높은 굴절률; 내충격성, 염색성, 가공성 등 우수한 특성을 구비한다. 또한 폴리우레탄 렌즈는 비교적 높은 굴절률로 인해, 렌즈를 아주 얇고, 더욱 심미적으로 만들 수 있으며, 향후 렌즈의 발전 추세이다.
하지만, 폴리우레탄 렌즈는 중합 과정에서, 원료 중 불순물 또는 이성질체의 영향으로 인해, 수지가 흐려지고 불투명해지며 광학적인 변형이 자주 나타나, 렌즈 품질의 불합격을 초래하게 된다.
따라서, 렌즈 중합의 원료 및 과정에 대해 제어할 필요가 있으며, 주로 이소시아네이트 원료를 제어함으로써, 혼탁 및 광학적 변형이 나타나는 것을 감소시킨다.
미국 특허 US5576412에서는 이소시아네이트의 가수분해성 염소를 300ppm보다 작게 제어함으로써, 쉽게 변색되지 않고, 투과율이 높은 렌즈 수지를 얻을 수 있다는 것을 개시하였고, 중국 특허 CN102516487에서는 이소시아네이트 및 폴리티올 중 수분 함량을 10-300ppm으로 제어함으로써, 맥리(striae) 및 혼탁이 생성되지 않는 광학 재료를 얻을 수 있다는 것을 개시하였다.
본 발명의 목적은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물 및 이로 제조된 광학 수지를 제공하는 것이다. 원료인 1,3-HXDI 중의 1,4-HXDI 및 시스-트랜스 이성질체(Cis-trans isomer)의 함량을 제어하고, 바람직하게 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산을 추가로 제어함으로써, 혼탁 및 광학적 변형이 발생되지 않는 고성능 광학 수지를 얻을 수 있다.
상기 목적을 구현하기 위해, 본 발명은 아래와 같은 기술방안을 사용한다:
본 발명에서는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물을 제공하며, 이는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산(1,3-HXDI)의 중량을 기반으로,
a) 65％-95％ 중량의 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산;
b) 0%보다 크고 ≤0.5％ 중량, 바람직하게 0.02％ 중량-0.5％ 중량의 1,4-비스이소시아네이토메틸시클로헥산(1,4-HXDI)을 포함하고;
상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산은 시스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 및 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산을 포함한다.
바람직한 방안으로서, 본 발명에 따른 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 중량을 기반으로, 0보다 크고 ≤600ppm, 바람직하게 0.1ppm-600ppm인 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산
Figure pct00001
을 포함한다.
본 발명에 따른 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물의 제조방법은 아래의 단계를 포함한다: (1) 염생성 공정: 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산(1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane) 원료 및 염화수소를 혼합하여 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 염산염을 제조하고; (2) 이소시아네이트화 공정: 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 염산염이 포스겐과 이소시아네이트화 반응을 진행하며, 생성물은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 및 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산을 포함하며; (3) 정제 공정: 상기 생성물을 정제하여, 본 발명에 따른 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물을 제조한다.
바람직한 방안으로서, 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물에서 1,4-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 함량, 시스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 및 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 함량은 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료의 조성을 제어함으로써 구현되며, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산은 수소가스 분위기에서 촉매를 통해 시스-트랜스 이성질체의 비율을 조절하며, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료의 중량을 기반으로, 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 50％-95％ 중량이고, 시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 5%-50% 중량이며, 바람직하게 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 65％-95％ 중량이고, 시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 5%-35% 중량이다. 또한 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물에 대한 정제 공정에서 정류(rectification) 분리시킴으로써, 시스-트랜스 이성질체의 비율을 조절할 수도 있다.
바람직한 방안으로서, 상기 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 제조방법은 다음과 같은 단계를 포함한다: 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 (시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산:트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산=50:50)이 루테늄/알루미나 촉매의 촉매 작용 하에, 수소가스 절대 압력이 4-6MPa이고, 온도가 200-220℃인 조건에서, 1-4h 동안 이성질화 반응을 진행한다.
바람직한 방안으로서, 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 함량은 정제 공정에서의 정류 조건을 제어하는 것을 통해 구현된다.
본 발명에서는 광학 수지를 제공하며, 상기 광학 수지는 본 발명에 따른 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물을 사용하여 폴리티올과 중합시켜 형성된다.
광학 수지의 제조방법은, 이소시아네티트 조성물과 폴리티올 화합물을 혼합한 후 중합시켜 광학 수지를 얻는 것이다.
본 발명에 따른 폴리티올 화합물은 지방족 폴리티올, 방향족 폴리티올, 헤테로고리가 함유된 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하는 지방족 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하는 방향족 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하고 헤테로 고리가 함유된 폴리티올 중의 1종 또는 여러 종을 포함한다.
특히 바람직하게, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메트캅토프로판, 비스(메르캅토메틸)-3,6,9-트리티아-1,11-운데칸디티올, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트)(Pentaerythritol Tetrakis(3-mercaptopropionate)), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 및 2-메르캅토에탄올로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 폴리티올 화합물을 사용한다.
바람직하게, 광학 수지의 제조방법은 중합 촉매가 존재하는 조건에서 진행되며, 바람직하게, 상기 중합 촉매는 유기 주석계 화합물이고, 디부틸주석디클로라이드(Dibutyltin dichloride), 디메틸주석디클로라이드(Dimethyltin dichloride) 등 디알킬주석 할로겐화물(dialkyltin halide)계; 디메틸주석 디아세테이트(Dimethyltin diacetate), 디부틸주석 디옥토에이트, 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate) 등 디알킬주석 디카르복실레이트계를 예로 들 수 있다.
또한, 목적에 따라, 상기 광학 수지의 제조방법에서, 선택적으로 사슬연장제(chain extender), 가교제, 광안정제, 자외선흡수제, 항산화제, 유용성 염료, 충전제, 이형제(Releasing agent) 등 보조제를 첨가한다.
폴리우레탄계 수지로 형성된 광학 재료는 일반적으로 사출 중합시키는 방식으로 제조된다. 구체적으로, 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 혼합하고, 선택적으로, 적합한 보조제를 첨가한다. 수요에 따라 적당한 방법을 사용하여 이러한 혼합액(중합성 조성물)을 탈기시킨 후, 광학 재료용 사출 몰드에 주입하는바, 일반적으로 이를 저온에서 고온으로 천천히 가열하여 중합시킨다. 그리고, 탈형하여 광학 재료를 얻는다.
본 발명에 따른 광학 수지로 제조된 렌즈를 제공한다.
이소시아네이트와 폴리티올의 중합 속도가 렌즈에 주는 영향이 비교적 크다. 중합 속도가 너무 빠르면, 수지에 광학 변형 및 기포가 생성되며, 중합 속도가 너무 느리면, 수지가 쉽게 불투명해지고 흐려지게 된다.
본 발명자는 놀랍게도, 1,3-HXDI의 1,4-HXDI의 함량 및 시스-1,3-HXDI, 트랜스-1,3-HXDI의 함량이 중합 속도에 큰 영향을 주고, 1,3-HXDI의 1,4-HXDI의 함량 및 시스-1,3-HXDI, 트랜스-1,3-HXDI의 함량을 일정한 수준으로 제어하면, 투명성이 양호하고 광학적 변형이 없는 렌즈 수지를 얻을 수 있다는 것을 발견하였다.
또한, 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 미량적인 존재는 중합반응을 더욱 안정하도록 할 수 있지만, 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산 함량이 너무 높으면, 조성물의 총 관능기 평균수의 감소로 인해, 중합이 불균일해지고, 중합체 구조에 영향을 미치게 되며, 광학적 변형이 쉽게 나타난다.
본 발명의 기술방안은 아래와 같은 유익한 효과를 가진다.
본 발명의 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물에 있어서, 1,4-HXDI의 함량, 트랜스-1,3-HXDI의 함량 및 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 함량이 상기 특정 범위에 있기 때문에, 제조된 광학 수지에 의해 얻어지는 렌즈의 광학적 변형 및 혼탁의 발생률은 모두 2% 미만이다.
도 1은 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 수소 핵자기공명 스펙트럼이다.
도 2는 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 탄소 핵자기공명 스펙트럼이다.
하기 실시예에서는 본 발명에서 제공하는 방법에 대해 추가로 설명할 것이지만, 본 발명은 열거된 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 청구 범위 내에서 공지된 임의의 기타 변형도 반드시 본 발명에 포함될 것이다.
본 발명의 이성질체의 함량 및 미량의 불순물은 가스 크로마토그래피 Agilent 7890을 사용하여 테스트한다. 가스 크로마토그래피 분석 매개변수는 다음과 같다: (1) 크로마토그래피 컬럼: DB-5(30m×0.25mm×0.25㎛); (2) 샘플 주입량: 0.5㎕; (3) 분할비율(split ratio): 1/30; (4) 샘플 주입구 온도: 260℃; (5) 컬럼 유량 속도(column flow rate): 1.5mL/min; (6) 온도 프로그래밍: 100℃에서 1min 동안 유지하고, 10℃/min의 속도로 280℃까지 승온시키고, 20min 동안 유지하며; (7) FID 검출기 온도: 280℃; (8) 수소가스 유속: 40mL/min; 공기 유속: 400mL/min.
본 발명에서 점도 테스트는 Brookfiled 로터 점도계(rotor viscometer)를 사용하여 테스트한다.
본 발명의 핵자기 분석은 Bruker 400MHz를 사용하여 테스트한다.
광학적 변형 발생률: 광학적 변형은 수지의 상이한 조성 등으로 인해 국부 및 주위에서 정상적인 굴절률이 상이한 현상을 의미한다. 고압 수은 램프(high pressure mercury lamp) 조건에서 100시트의 렌즈를 육안으로 관찰하고, 줄무늬가 있는 렌즈를 확인하여 광학적 변형이 있는 렌즈로 판정하며, 광학적 변형 발생률을 계산한다.
혼탁 발생률: 고압 수은 램프 조건에서 100시트의 렌즈를 육안으로 관찰하고, 혼탁된 렌즈를 확인하여 혼탁이 있는 렌즈로 판정하며, 혼탁 발생률을 계산한다.
중합 속도: 중합성 조성물을 제조할 때의 시간을 0시간으로 하고, 5시간 후의 점도를 지표로 하여 평가한다.
1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 이성질화
교반기, 온도계, 가스진입튜브가 설치된 스테인리스강 반응솥에, 1000g의 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산(Tokyo Chemical, 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산: 시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산=50:50), 16g의 루테늄/알루미나 촉매(Sigma Aldrich), 1000g의 헵탄을 첨가하고, 수소가스로 반응솥을 3회 치환하며, 500rpm 조건에서 교반하고, 210℃, 수소가스 절대압력이 5MPa인 조건에서 1-4h 동안 반응시키며, 반응이 종료되면 실온으로 냉각하고, 여과하여 촉매를 제거한다. 용매를 제거하고, 정류 분리시켜 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료를 얻는다. 반응시간이 상이함에 따라, 각각 다음과 같은 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료를 얻는다.
표 1은 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 이성질화 조건 및 결과이다.
1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료 반응시간/h 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량/%
(A) 1 65
(B) 1.5 75
(C) 2 80
(D) 2.5 85
(E) 3 90
(F) 3.5 95
1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산 구조의 확정
스테인리스강 반응솥에서, 1420g의 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료(B)를 12240g의 오르토-디클로로벤젠에 용해시키고, 800L/h 속도로 염화수소가스를 통입시켜, 염생성 반응을 진행시키며, 온도를 <30℃로 제어하고, 염생성이 완성된 후, 유백색 점성물질을 얻으며, 150℃까지 승온하고, 500L/h의 속도로 포스겐을 통입시켜, 광화학반응을 진행하며, 반응하지 않은 포스겐은 응축되어 회수된 후, 알칼리 세척 시스템에 들어가 분해된다. 반응액이 투명해지면, 광화학반응은 완성되고, 질소가스를 통입시켜 반응하지 않은 포스겐을 제거하며, 후속으로 용매를 제거한 후, 1,3-HXDI 조생성물을 얻는다.
500g의 1,3-HXDI 조생성물을 190℃ 조건에서 2h 동안 열처리하고, 얻어진 샘플을 정류 분리시킨 후, 정류탑 중간 부분에서 시료를 주입하며, 탑정 작동 압력은 100Pa이고, 탑저 재비등기 온도가 140℃일 때, 탑정 온도는 110℃이고, 환류비를 20:1로 제어하여 안정적인 상태에 도달한 후, 탑정으로부터 25g의 경질 조성분을 채집한다. 가스 크로마토그래피 분석을 거친 후, 해당 경질 조성분에는 불순물인 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산이 99%가 함유되어 있으며, 핵자기 데이터는 1H NMR(400MHz, DMSO) δ 3.40-3.36(m, 1H), 3.19-3.15(m, 1H), 1.61-1.40(m, 7H), 1.27-1.24(m, 3H), 0.95-0.97(d, 3H); 13CNMR(100MHz, DMSO): δ122.7, 53.6, 39.1, 34.4, 31.8, 31.5, 31.2, 21.0, 20.6이다.
실시예 1
스테인리스강 반응솥에서, 1420g의 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료(B)를 12240g의 오르토-디클로로벤젠에 용해시키고, 800L/h 속도로 염화수소가스를 통입시켜, 염생성 반응을 진행시키며, 온도를 <30℃로 제어하고, 염생성이 완성된 후, 유백색 점성물질을 얻으며, 150℃까지 승온하고, 500L/h의 속도로 포스겐을 통입시켜, 광화학반응을 진행하며, 반응하지 않은 포스겐은 응축되어 회수된 후, 알칼리 세척 시스템에 들어가 분해된다. 반응액이 투명해지면, 광화학반응은 완성되고, 질소가스를 통입시켜 반응하지 않은 포스겐을 제거하며, 후속으로 용매를 제거한 후, 1,3-HXDI 조생성물을 얻는다.
이어서, 내경이 20mm이고, 길이가 1500mm이며, 내부에 규칙적인 충전제가 충진되어 있는 유리 정류탑을 사용하여, 얻어진 1,3-HXDI 조생성물에 대해 정류시키고, 예열기로 1,3-HXDI 조생성물을 120℃까지 예열한 후, 정류탑 중간 부분에서 시료를 주입하고, 탑정 작동 압력은 100Pa이며, 탑저 재비등기 온도가 145℃일 때, 탑정 온도는 115℃이고, 환류비를 30:1로 제어하여, 안정적인 상태에 도달한 후, 탑정으로부터 1,3-HXDI 조성물을 채집한다. 가스 크로마토그래피 분석을 거친 후, 조성물에서 1,3-HXDI의 중량을 기반으로, 조성물에서 1,4-HXDI 함량은 0.1wt％이고, 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 함량은 10ppm이며; 1,3-HXDI에서 트랜스 이성질체는 75％를 차지한다.
25℃에서 53.7g의 상기에서 제조된 1,3-HXDI 조성물, 촉매로서 0.075g의 디부틸주석디클로라이드, 0.10g의 산성 포스페이트(Stepan 회사, 제품명은 Zelec UN), 0.05g의 자외선흡수제(공동 약품회사에서 제조, 제품명은 BioSorb 583)를 혼합하여 용해시킨다. 나아가, 48g의 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메트캅토프로판 (Chambroad Petrochemicals)을 첨가하고, 혼합하여, 균일한 혼합액(중합성 조성물)을 형성한다. 균일한 혼합물을 제조할 때의 시간을 0시간으로 하고, 5시간 후의 점도를 측정한다.
25℃에서 53.7g의 1,3-HXDI 조성물, 촉매로서 0.075 부(즉 0.075g)의 디부틸주석디클로라이드, 0.10 부(즉 0.10g) 산성 포스페이트(Stepan 회사, 제품명은 Zelec UN), 0.05 부(즉 0.05g)의 자외선흡수제(공동 약품회사에서 제조, 제품명은 BioSorb 583)를 혼합하여 용해시킨다. 나아가, 48 부(즉 48g)의 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메트캅토프로판(Chambroad Petrochemicals)을 첨가하고, 혼합하여, 균일한 혼합액(중합성 조성물)을 형성한다. 해당 균일한 혼합액을 600Pa 조건에서 1시간 동안 탈기시킨 후, 1㎛ PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 필터로 여과시킨다. 그리고, 직경이 75mm인 4D 유리 금형과 테이프로 이루어진 렌즈용 사출 몰드에 주입한다. 해당 사출 몰드를 오븐에 넣어, 40℃에서 2시간 동안 유지시키고, 4시간 후 50℃까지 승온시켜 2시간 동안 유지시키며, 3시간 후 60℃까지 승온시키고 2시간 동안 유지시킨다. 3시간 더 지난 후 70℃까지 승온시켜 2시간 동안 유지시키고, 3시간 후 100℃까지 승온시키며, 나아가 1시간 후 130℃까지 승온시키고 2시간 동안 유지시킨다. 중합이 종료된 후, 오븐에서 사출 몰드를 꺼내고, 탈형시켜, 렌즈를 얻는다. 얻어진 렌즈를 다시 120℃에서 3시간 동안 어닐링시킨다. 동일한 방법에 따라 100시트의 렌즈를 제조하고, 맥리 발생률(즉 광학적 변형 발생률), 혼탁 발생률을 계산한다. 결과는 표 2와 같다.
실시예 2-6, 비교예 1-5
1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료를 변형시키고, 상이한 환류비를 조절하여, 상이한 지표의 샘플을 얻는바, 표 2와 같다.
표 2는 실시예 1-6 및 비교예 1-5의 조건과 결과이다.
번호 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산원료 환류비 트랜스-1,3-HXDI함량/% 1,4-HXDI 함량/% 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산 함량/ppm 5h 후 점도/cp 광학적 변형 발생률 혼탁 발생률
실시예 1 （B） 30:1 75 0.1 10 280 0 0
2 （C） 20:1 80 0.2 50 300 0 1
3 （D） 10:1 85 0.3 150 350 1 0
4 （E） 8:1 90 0.4 400 360 0 1
5 （F） 5:1 95 0.5 600 380 1 1
6 （A） 40:1 65 0.02 0.1 270 0 0
비교예 1 （F） 50:1 96 0.2 50 470 4 2
2 （B） 8:1 75 0.6 10 450 5 3
3 （B） 1:1 75 0.1 700 200 6 4
4 （A） 10:1 60 0.1 10 210 3 5
5 （B） 50:1 75 0.1 0 450 5 4
표 2에서 "트랜스-1,3-HXDI 함량/%"는 1,3-HXDI의 중량을 기반으로, 트랜스-1,3-HXDI가 차지하는 함량을 의미한다.
"트랜스-1,4-HXDI 함량/%"는 1,3-HXDI의 중량을 기반으로, 트랜스-1,4-HXDI가 차지하는 함량을 의미한다.
"1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 함량/ppm"은 1,3-HXDI의 중량을 기반으로, 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산의 함량을 의미한다.

Claims (9)

1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 중량을 기반으로,
a) 65％-95％ 중량의 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산;
b) 0%보다 크고 ≤0.5％ 중량이며, 바람직하게 0.02％ 중량-0.5％ 중량의 1,4-비스이소시아네이토메틸시클로헥산을 포함하며;
상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산은 시스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 및 트랜스-1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산을 포함하는, 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물.
제 1 항에 있어서,
상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물은, 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산의 중량을 기반으로, 0ppm보다 크고 ≤600ppm, 바람직하게 0.1ppm-600ppm인 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산을 포함하는 것을 특징으로 하는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 조성물의 제조방법은, (1) 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료 및 염화수소를 혼합하여 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 염산염을 제조하는 염생성 공정; (2) 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 염산염이 포스겐과 이소시아네이트화 반응을 진행하며, 생성물은 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 및 1-이소시아네이토메틸-3-메틸시클로헥산을 포함하는 이소시아네이트화 공정; (3) 단계 (2)에 따른 생성물을 정제하여, 상기 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물을 제조하는 정제 공정; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물.
제 3 항에 있어서,
1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료의 중량을 기반으로 하면, 상기 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 원료에서, 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 50％-95％ 중량이고, 시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 5%-50% 중량이며, 바람직하게 트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 65％-95％ 중량이고, 시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 함량은 5%-35% 중량인 것을 특징으로 하는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물.
제 5 항에 있어서,
상기 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산의 제조방법은, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산(시스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산:트랜스-1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산=50:50)이 루테늄/알루미나 촉매의 촉매 작용 하에, 수소가스 절대 압력이 4-6MPa이고, 온도가 200-220℃인 조건에서, 1-4h 동안 이성질화 반응을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 1,3-비스이소시아네이토메틸시클로헥산 조성물과 폴리티올 화합물을 포함하는 원료를 중합시켜 제조하는 광학 수지.
제 6 항에 있어서,
상기 폴리티올 화합물은 지방족 폴리티올, 방향족 폴리티올, 헤테로고리가 함유된 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하는 지방족 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하는 방향족 폴리티올, 메르캅토기 외에 황원자를 더 포함하고 헤테로고리가 함유된 폴리티올 중의 1종 또는 여러 종을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 수지.
제 7 항에 있어서,
상기 폴리티올 화합물은 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메트캅토프로판, 비스(메르캅토메틸)-3,6,9-트리티아-1,11-운데칸디티올, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판 및 2-메르캅토에탄올 중의 1종 또는 여러 종을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 수지.
제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 광학 수지로 제조된 렌즈.
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