[go: up one dir, main page]

KR20210124234A - 광학 요소의 지지 - Google Patents

광학 요소의 지지 Download PDF

Info

Publication number
KR20210124234A
KR20210124234A KR1020217024649A KR20217024649A KR20210124234A KR 20210124234 A KR20210124234 A KR 20210124234A KR 1020217024649 A KR1020217024649 A KR 1020217024649A KR 20217024649 A KR20217024649 A KR 20217024649A KR 20210124234 A KR20210124234 A KR 20210124234A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
clamping
optical
optical element
holding
base element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
KR1020217024649A
Other languages
English (en)
Inventor
오이겐 안젤름
칼 펜클
크리스토프 뮐러
랄프 모저
Original Assignee
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 filed Critical 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Publication of KR20210124234A publication Critical patent/KR20210124234A/ko
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/021—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 광학 요소(109) 및 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하는, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치에 관한 것이다. 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하며, 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 연결되고 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지한다. 여기서, 각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개이다.

Description

광학 요소의 지지
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 35 U.S.C. §119 하에 2019년 2월 6일자로 출원된 독일 특허 출원 제10 2019 201 509.3호 및 2020년 2월 3일자로 출원된 미국 특허 출원 제16/780,446호에 대한 우선권을 주장하며, 이들 각각의 전체 내용은 본 명세서에 참조로 포함된다.
본 발명은 UV 노광 광, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 이용하기에 적절한 마이크로리소그래피 광학 장치에 관한 것이다. 더욱이, 본 발명은 그러한 장치를 포함하는 광학 이미징 디바이스에 관한 것이다. 본 발명은 임의의 원하는 광학 이미징 방법과 함께 사용될 수 있다. 본 발명은 마이크로전자 회로 및 그러한 프로세스에 사용되는 광학 구성요소(예를 들어, 광학 마스크)의 제조 또는 검사에 특히 유리하게 사용될 수 있다.
마이크로전자 회로의 제조와 함께 사용되는 광학 디바이스는 통상적으로 이미징 광 경로에 배열된 렌즈 요소, 거울 또는 광학 격자와 같은 하나 이상의 광학 요소를 포함하는 복수의 광학 요소 유닛을 포함한다. 상기 광학 요소는 통상적으로 물체의 이미지(예를 들어, 마스크 상에 형성된 패턴)를 기판(예를 들어, 소위 웨이퍼)으로 전사하기 위해 이미징 프로세스에서 협력한다. 광학 요소는 통상적으로 적절한 경우 별개의 이미징 유닛에 유지되는 하나 이상의 기능 그룹으로 결합된다. 특히 소위 진공 자외선 범위(vacuum ultraviolet range)(VUV, 예를 들어 193 nm의 파장)의 파장으로 작동하는 주로 굴절 시스템(principally refractive system)의 경우, 그러한 이미징 유닛은 흔히 하나 이상의 광학 요소를 유지하는 광학 모듈의 스택으로 형성된다. 상기 광학 모듈은 통상적으로 하나 이상의 광학 요소 홀더를 지지하는 실질적으로 링 형상의 외부 지지 유닛을 갖는 지지 구조를 포함하고, 광학 요소 홀더는 차례로 광학 요소를 유지한다.
반도체 구성요소의 일취월장하는 소형화로 인해 그 제조에 사용되는 광학 시스템의 해상도 증가에 대한 일정한 요구가 있다. 해상도 증가에 대한 이러한 요구는 광학 시스템의 증가된 개구수(numerical aperture)(NA) 및 증가된 이미징 정확도에 대한 요구를 필요로 한다.
증가된 광학 해상도를 획득하기 위한 한 가지 접근법은 이미징 프로세스에 사용되는 광의 파장을 감소시키는 것이다. 최근의 경향은 소위 극자외선(extreme ultraviolet)(EUV) 범위의 광, 통상적으로 5 nm 내지 20 nm의 파장, 대부분의 경우에 약 13 nm의 파장에서 사용되는 시스템의 개발을 점점 더 촉진하고 있다. 이 EUV 범위에서는 더 이상 종래의 굴절 광학 시스템을 사용할 수 없다. 이는, 이 EUV 범위에서, 굴절 광학 시스템에 사용되는 재료가 사용 가능한 광 출력으로 허용 가능한 이미징 결과를 달성하기에 너무 높은 흡광도를 갖는다는 점 때문이다. 결과적으로, 이 EUV 범위에서는, 이미징 프로세스에 반사 광학 시스템을 사용해야 한다.
EUV 범위에서 높은 개구수(예를 들어, NA > 0.4 내지 0.5)를 갖는 순수 반사 광학 시스템으로의 이러한 천이는 이미징 디바이스의 설계와 관련하여 상당한 문제를 초래한다.
앞서 설명한 요소는 서로에 대한 이미징 프로세스에 참여하는 광학 요소의 위치 및/또는 배향과 관련하여 그리고 또한 원하는 이미징 정확도를 달성하기 위한 개별 광학 요소의 변형과 관련하여 매우 엄격한 요구 사항을 초래한다. 더욱이, 전체 작동에 걸쳐서, 궁극적으로 시스템의 수명에 걸쳐 이러한 높은 이미징 정확도를 유지해야 한다.
결과적으로, 이미징 프로세스 동안 협력하는 광학 이미징 디바이스의 구성요소(즉, 예를 들어, 조명 디바이스의 광학 요소, 마스크, 투영 디바이스의 광학 요소 및 기판)는 이들 구성요소 사이의 미리 정의된 명확한 공간 관계를 유지하고 궁극적으로 가능한 최고의 이미징 품질을 달성하기 위해 이들 구성요소의 최소한의 원치 않는 변형을 획득하도록 명확한 방식으로 지지되어야 한다.
여기서, 특히 앞서 설명한 EUV 시스템에서 발생하는 문제는 시스템 요구 사항이 주어지면 조명 디바이스 및 투영 디바이스 및 광학 요소 중 적어도 개별 요소가 비교적 크고 무거운 광학 유닛이라는 점이다. 그러나, 정확도에 대한 요구 사항을 만족시키기 위해서는, 이러한 무거운 유닛을 교환 가능해야 하며 그에 따라 조절 가능해야 한다. 더욱이, 이미 그 장착부 설계의 결과로서 원치 않거나 정확하게 정의되지 않은 변형이 발생해서는 안 된다. 이러한 이유로, 이들 광학 유닛 또는 요소를 지지할 목적으로, 예를 들어, US 7,760,327 B2호(Scherle 등, 그 전체 개시는 본 명세서에 참조로 포함됨)로부터 공지된 바와 같이, 통상적으로 원주를 따라 균일하게 분포된(통상적으로 소위 헥사포드 운동학(hexapod kinematic) 형태로 구성된) 3개의 분리 가능한 유지 유닛에 의한 소위 3점 지지가 사용된다.
이러한 3점 지지는 정적으로 결정된 장착부가 획득되게 하거나 정적으로 과도하게 결정된 장착부를 피하게 하여, 지지 구조의 제조 부정확성 또는 변형으로 인해 발생할 수 있기 때문에, 그로부터 발생되는 광학 유닛의 원치 않는 기생 응력 및 변형을 피할 수 있다.
이러한 정적으로 결정된 3점 지지의 단점은, 예를 들어 이미징 디바이스가 운반될 때 발생할 수 있는 충격 하중의 경우, 특정 하중 방향을 갖는 하중을 갖는 가장 불리한 하중의 경우에, 2개의 다른 유지 유닛이 이 하중 방향에서 실질적으로 순응하고 따라서 본질적으로 해당 하중 방향으로 임의의 하중을 운반할 수 없기 때문에 주 하중은 3개의 유지 유닛 중 단 하나에 의해 운반되어야 한다. 따라서, 유지 유닛은 광학 요소의 신뢰성 있는 지지를 보장하기 위해 비교적 견고하고 복잡한 설계를 가져야 한다. 따라서, 특히 광학 요소에 대한 분리 가능한 연결은 가능한 경우 기생 응력(및 그로 인한 기생 변형)의 도입을 피하거나 감소시키기 위해 복잡한 설계를 갖는다.
US 8,441,747 B2호(Heintel 등, 그 전체 개시는 본 명세서에 참조로 포함됨)는 광학 요소의 외주에 접착식으로 결합된 다수의 유지 유닛에 의해 광학 요소를 그 외주에 유지하는 것을 개시한다. 이는 접착제 결합 덕분에 작동 부하의 더 나은 분포와 작은 구성을 달성한다. 그러나, 접착제 결합이 광학 요소의 간단한 교체를 용이하게 하지 못하는 문제가 발생한다.
따라서, 본 발명은 앞서 설명한 단점을 갖지 않거나 적어도 이러한 단점을 더 적게 갖고, 특히 충격 하중에 대해 가능한 한 견고하고 작은 크기를 가지면서 광학 요소의 간단한 교체 가능성을 용이하게 하는 광학 요소의 지지를 획득하는, 마이크로리소그래피 광학 장치 및 그러한 장치를 포함하는 대응하는 광학 이미징 디바이스, 및 광학 요소를 지지하는 방법을 제공하는 목적에 기초한다.
본 발명은 독립 청구항의 특징에 의해 이러한 목적을 달성한다.
본 발명은, 별개의 클램핑 연결을 통해 광학 요소를 각각 유지하는 3개 초과의 유지 유닛이 제공되는 경우에, 충격 하중에 대해 견고하고 작은 크기를 가지면서, 광학 요소의 간단한 교체 가능성을 용이하게 하는 광학 요소의 지지가 획득된다는 기술적 교시에 기초한다. 여기서, 각각의 클램핑 연결은 연결의 간단한 교체 가능성을 보장하고 따라서 광학 요소의 간단한 교체 가능성을 보장한다. 3개 초과의 유지 유닛으로 이미징 디바이스를 제조, 운송 및 작동하는 동안 광학 요소에서 발생하는 하중, 특히 충격 하중을 분산함으로써, 최악의 시나리오에서 단일 유지 유닛에 작용하는 최대 하중의 감소가 또한 달성될 수 있다. 그 결과, 각각의 클램핑 연결은 더 간단하고 따라서 더 많은 공간 절약형 설계를 가질 수 있으며, 이는 차례로 유지 유닛의 수를 추가로 증가시키는 것을 용이하게 한다. 궁극적으로, 이에 의해, 유리하게 많은 수의 유지 유닛이 실현될 수 있다.
더욱이, 클램핑은 그로 인한 유지력(즉, 클램핑 표면 사이의 마찰)이 클램핑 표면에서의 접촉력에 의해 비교적 높은 정밀도로 설정될 수 있다는 점에서 유리하다. 따라서, 유지 유닛에서 가장 불리한 경우에 예상되는 충격 하중이 상기 유지 유닛의 유지력을 초과할 위험은 큰 안전 요소를 제공하지 않고도 따라서 유지 유닛의 과도한 치수가 없이 확실히 감소될 수 있다. 결과적으로, 충격 하중 하에서 시스템의 충격 안전성 또는 고장 안전성은 단순화된 유지 유닛에도 불구하고 유리하게 증가될 수 있다.
따라서, 일 양태에 따르면, 본 발명은 광학 요소 및 광학 요소를 유지하기 위한 유지 디바이스를 포함하는, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치에 관한 것이다. 여기서, 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 더욱이 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 유지 디바이스는 베이스 요소 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛을 포함하며, 유지 유닛은 베이스 요소에 연결되고 원주방향을 따라 분포될 뿐만 아니라 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 유지 유닛은 베이스 요소에 대해 미리 결정된 위치 및 배향으로 광학 요소를 유지한다. 여기서, 각각의 유지 유닛은 광학 요소와 베이스 요소 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛의 클램핑 연결과 별개이다.
원론적으로, 각각의 유지 유닛과 광학 요소 사이의 클램핑 연결은 임의의 적절한 방식으로 확립될 수 있다. 특히, 클램핑에 필요한, 유지 유닛의 하나 이상의 개별 접촉 표면과 광학 요소 사이의 마찰 맞물림은 임의의 적절한 방식으로 초래될 수 있다. 따라서, 각각의 유지 유닛에 대해 단일 클램핑 요소가 제공될 수 있으며, 상기 클램핑 요소는 클램핑의 마찰 맞물림을 획득하기 위해 적절한 인장 디바이스에 의해 광학 요소 상의 대응하는 접촉 표면에 대해 가압된다. 여기서, 클램핑 요소는, 예를 들어 베이스 요소에 대한 그 자신의 지지를 통해 광학 요소에 대해 예비 인장될 수 있다. 대응하는 반대 힘은, 조립된 상태에서 광학 요소에 작용하는 접촉력이 단면 방향으로 서로 상쇄하지만 전체적으로 적어도 서로 상쇄하는 방식으로 하나 이상의 인접한 유지 유닛에 의해 인가될 수 있고, 광학 요소의 정의된 위치 및 배향이 달성된다.
유지 유닛 중 적어도 하나가 제1 클램핑 요소 및 제2 클램핑 요소를 포함하는 경우 특히 단순한 설계가 달성된다. 이어서, 제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소는 클램핑 연결을 확립하기 위해 서로에 대해 단순히 지지되고, 광학 요소의 인터페이스 부분은 제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소 사이에서 특히 용이하게 클램핑된다. 바람직하게는, 이러한 구성은 복수의 유지 유닛에 대해 선택되고, 결국에는 각각의 유지 유닛에 대해서도 선택되는데, 그 이유는 그 경우에 특히 단순한 전체 설계가 달성되기 때문이다.
제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소가 클램핑 연결을 확립하기 위해 간단한 인장 요소에 의해 서로에 대해 지지되는 경우 광학 요소에 기생 응력을 도입할 위험이 낮은 특히 유리한 변형이 달성된다. 여기서, 인장 요소는 클램핑 브래킷의 형태 또는 타이 로드 또는 인장 앵커의 형태로 설계될 수 있다. 바람직하게는, 인장 요소가 인터페이스 부분의 리세스를 통해 연장되도록 제공되며, 그 결과 특히 국소로 클램핑력의 특히 균일한 분포가 획득될 수 있다. 여기서, 인장 요소는 바람직하게는 인장 요소와 광학 요소의 인터페이스 부분 사이의 접촉을 피하기 위해 인터페이스 부분의 리세스를 통해 유격을 두고 연장되는데, 이 접촉은 그렇지 않으면 가능하게는 광학 요소에 기생 응력을 유발할 수 있다.
원론적으로, 인장 요소는 서로에 대한 클램핑 요소의 지지를 확립하고 이에 따라 인터페이스 부분의 클램핑을 확립하기 위해 임의의 적절한 설계를 가질 수 있다. 언급된 바와 같이, 인장 요소는 2개의 클램핑 요소를 수용하고 지지하는 클램핑 브래킷일 수 있다. 인장 요소가 지지를 확립하기 위해 클램핑 요소 중 하나에 나사 결합되는 나사 부분을 포함하는 경우 특히 간단하고 콤팩트한 구성이 달성된다. 여기서, 클램핑 요소 중 적어도 하나가 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결되는 경우 특히 유리하고, 이때, 연결 부분은 나사 부분의 길이방향 축에 실질적으로 평행하게 연장되는 축에 대해 회전 자유도를 제한하는 방식으로 구성된다. 이에 의해, 연결 부분이 나사 연결의 조임 토크의 적어도 대부분을 점유하여 기생 응력이 전혀 없거나 매우 낮은 기생 응력만이 광학 요소에 각각 도입되는 것이 간단한 방식으로 보장될 수 있다.
원론적으로, 클램핑 요소는 임의의 적절한 방식으로 베이스 요소에 연결될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 특히, 클램핑 요소 중 하나는 앞서 설명한 인장 요소 및 다른 클램핑 요소를 통해 베이스 요소에 간접적으로만 연결될 수 있다. 바람직하게는, 제1 클램핑 요소는 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결되고 및/또는 제2 클램핑 요소는 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결된다.
예로서, 연결 부분은 적어도 단면 방향으로 판 스프링 방식으로 구성될 수 있다. 이는 특히 간단하고 콤팩트하며 비용 효율적인 변형을 초래한다. 추가로 또는 대안으로서, 연결 부분은 (광학 요소의) 반경방향으로 순응하도록 구성될 수 있다. 이는 특히 광학 요소와 유지 디바이스가 상이한 열 팽창 계수를 갖는 경우에 유리하다. 반경방향 순응성은 광학 요소와 유지 디바이스 사이에서 우수한 열 변형 디커플링이 획득될 수 있게 한다. 추가로 또는 대안으로서, 연결 부분은 적어도 단면 방향으로 반경방향에 직교하는 평면에서 실질적으로 연장될 수 있다. 이는 또한 특히 비용 효율적이고 콤팩트한 구성이 획득될 수 있게 한다.
특정 변형에서, 제1 클램핑 요소 및 제2 클램핑 요소는 공통 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 그러나, 다른 변형에서, 제1 클램핑 요소는 제1 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결되고 제2 클램핑 요소는 (별개의) 제2 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결된다. 단독으로 또는 조합하여 이러한 2개의 변형 중 어느 하나는 바람직하게는 유지 디바이스의 3개 초과의 별개의 유지 유닛에 적용되며, 더욱 바람직하게는 유지 디바이스의 모든 별개의 유지 유닛에 적용된다. 특히 후자의 변형에서, 제1 연결 부분과 제2 연결 부분이 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장되면 유리한데, 이는 제조 및 조립이 특히 용이하고 그럼에도 불구하고 동적 양태 하에 유리하게는 특정 자유도에서 강성인 구성을 초래하기 때문이다. 추가로 또는 대안으로서, 제1 연결 부분 및 제2 연결 부분은, 서로에 대해 지지되는 클램핑 요소를 반경방향에 실질적으로 평행하게 안내하도록 구성된 평행 가이드 방식으로 구성될 수 있다. 후자의 두 변형 모두에서, 앞서 설명한 반경방향 순응성(열 변형 디커플링 목적을 위한)은 나머지 자유도에서 동적으로 유리한 높은 강성으로 획득될 수 있다.
특정 실시예에서, 제1 연결 부분과 제2 연결 부분은 바람직하게는 반경방향으로 서로 오프셋되거나 이격된다는 것이 이해될 것이다. 추가로 또는 대안으로서, 제1 연결 부분과 제2 연결 부분은 원주방향으로 서로 오프셋될 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 제1 연결 부분 및 제2 연결 부분은 적어도 본질적으로 반경방향으로 서로 정렬된다(따라서, 본질적으로 원주방향으로 서로 오프셋되지 않음). 이러한 경우에, 제1 연결 부분 및 제2 연결 부분 중 하나는 (반경방향) 내부 연결 부분을 형성하고 다른 하나는(반경방향) 외부 연결 부분을 형성한다. 이러한 모든 변형은 앞서 설명한 바와 같이 다른 자유도에서 (동적으로 유리한) 강성 지지를 초래하면서 특정 자유도에서 순응성을 허용하는 적절한 지지를 제공한다.
원론적으로, 광학 요소는 유지 유닛에 대한 각각의 클램핑 연결을 확립하기 위한 목적으로 임의의 설계를 가질 수 있다. 따라서, 광학 요소는, 예를 들어 유지 유닛에 대한 클램핑을 위해 제공되는 단일 인터페이스 부분을 포함할 수 있다. 특정 변형에서, 광학 요소는 각각의 유지 유닛과의 각각의 클램핑 연결을 확립하기 위한 별개의 인터페이스 부분을 포함하고, 상기 인터페이스 부분은 각각의 유지 유닛으로 클램핑되는 역할을 한다. 여기서, 앞서 설명한 바와 같이, 광학 요소의 인터페이스 부분은 바람직하게는 각각의 유지 유닛의 2개의 클램핑 요소 사이에 클램핑된다.
인터페이스 부분과 유지 유닛은 원하는 대로 서로 결합될 수 있으며; 즉, 인터페이스 부분과 유지 유닛 사이에 특정 페어링이 제공되지 않는다(예를 들어, 광학 요소와 유지 유닛을 갖는 베이스 요소는 따라서 원주방향을 따라 서로에 대해 임의로 회전될 수 있음). 다른 변형에서, 이러한 특정 페어링은 구성요소들의 대응하는 상이한 설계 및/또는 배열에 의해 실현된다. 여기서, 인터페이스 부분은 제1 유지 유닛과 결합 가능하지만 제2 유지 유닛과 결합할 수 없도록 구성될 수 있다. 그렇게 하기 위해, 예를 들어, 인터페이스 부분과 관련 유지 유닛, 특히 그 클램핑 요소의 페어링은 다른 페어링으로부터, 예를 들어 클램핑 방향을 따른 치수 및/또는 클램핑 표면의 구조 또는 구성이 두드러지게 벗어날 수 있다. 더욱이, 원주를 따라 유지 유닛의 비균일 분포를 갖는 특정 설계에서, 이러한 비균일 분포는 회전 정렬의 하나 또는 정의된 서브세트만이 모든 클램핑 연결을 확립할 수 있는 것을 보장하기 위해 사용될 수 있다. 특히, 균일한 분포에서 벗어나는 인터페이스 부분 및 관련 유지 유닛의 하나의 단일 쌍은 적절한 클램핑을 위해 광학 요소와 유지 디바이스 사이에서 (원주방향(U)을 따라) 정확하게 하나의 단일의 가능한 회전 정렬을 정의하기에 충분할 수 있다.
원론적으로, 광학 요소의 인터페이스 부분은 임의의 적절한 방식으로 광학 요소에서 실현될 수 있다. 광학 요소의 각각의 인터페이스 부분이 광학 요소의 투영에 의해 형성되는 경우 특히 콤팩트하고 단순한 설계가 달성된다. 여기서, 복수의 인터페이스 부분은 광학 요소의 공통 돌출부에 형성될 수 있다. 더욱이, 복수의 또는 심지어 모든 인터페이스 부분이 광학 요소의 링 형상의 돌출부에 형성될 수 있다. 광학 요소의 돌출부는 원주방향 및/또는 원주방향과 반경방향에 의해 정의된 평면에 직교하는 방향으로 연장될 수 있다.
원론적으로, 각각의 인터페이스 부분은 원하는 임의의 적절한 방식으로 설계될 수 있다. 예로서, 인터페이스 부분은 광학 요소의 본체에 직접 형성될 수 있다. 용이하고 높은 정밀도로 실행될 수 있기 때문에 바람직한 변형에서, 각각의 인터페이스 부분은 광학 요소에 연결된 인터페이스 요소에 의해 형성될 수 있다. 여기서, 인터페이스 요소는 광학 요소의 리세스에 삽입될 수 있고, 상기 인터페이스 요소는 특히 광학 요소의 돌출부의 리세스에 삽입될 수 있다. 이러한 구성은 특히 쉽게 제조될 수 있다. 인터페이스 요소는, 예를 들어 커넥터 부싱을 포함할 수 있다. 이 커넥터 부싱은 간단하고 정확한 제조 및 조립을 용이하게 하는 칼라를 포함할 수 있다.
원론적으로, 광학 요소는 단일 부품 또는 다중 부품 방식으로 임의의 적절한 재료로부터 제조될 수 있다. 바람직하게는, 적어도 돌출부의 영역에서, 광학 요소는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 및/또는 Zerodur 및/또는 렌즈 재료를 포함하는 재료로부터 제조된다. 인터페이스 요소를 갖는 변형에서, 인터페이스 요소는 바람직하게는 인바(Invar) 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조될 수 있다.
원론적으로, 광학 표면은 임의의 굴절 및/또는 반사 및/또는 회절 광학 표면일 수 있다. 본 명세서에 명시된 이점은 광학 표면이 반사 광학 표면인 경우에 특히 효과가 나타난다. 이때, 광학 표면은 광학 요소의 본체에 배열되는 것이 바람직하다. 그러면, 본체는 바람직하게는 광학 표면의 반대쪽에 있는 측면에 적어도 하나의 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛 중 적어도 하나에 대한 인터페이스 부분을 형성한다.
원론적으로, 베이스 요소는 마찬가지로 임의의 설계를 가질 수 있다. 따라서, 예를 들어 판형 베이스 요소가 제공될 수 있다. 바람직한 콤팩트한 변형에서, 베이스 요소는 링 형상의 구성을 갖는다. 특히 유리한 설계에서, 베이스 요소는 베이스 요소의 주 연장 평면을 정의하며 유지 유닛 중 적어도 하나는 베이스 요소의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소로부터 돌출한다. 바람직하게는, 이는 복수의 또는 심지어 모든 유지 유닛에 적용되어, 상기 유지 유닛은 모두 베이스 요소의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소로부터 돌출한다. 링 형상의 베이스 요소를 갖는 변형에서, 이는 유지 유닛이 크라운의 갈래 방식으로 링 형상의 베이스 요소로부터 돌출하는 크라운형 설계를 초래한다.
원론적으로, 유지 디바이스는 소위 차동 구성으로 복수의 별개의 구성요소로부터 임의의 적절한 방식으로 구성될 수 있다. 특히 견고하고 고도로 정밀하게 제조된 변형의 경우, 베이스 요소는 유지 유닛 중 적어도 하나(바람직하게는 복수의 또는 심지어 모든 유지 유닛)와 모놀리식이다.
이미 앞서 설명한 바와 같이, 가능한 한 많은 유지 유닛이 있는 것이 바람직하며, 그 개수는 광학 요소의 크기에 따라 달라지는 사용 가능한 설치 공간에 의해 제한된다. 바람직하게는, 적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더욱 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛이 제공된다. 유지 유닛은 임의의 분포로 배열될 수 있다. 특히, 분포는 광학 요소의 질량 분포 및/또는 예상되는 하중 방향(특히 충격 하중)에 적응될 수 있다. 특정 변형에서, 유지 유닛은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배열된다. 특히, 유지 유닛은 하중이 임의의 방향으로 발생할 수 있는 상황을 고려할 수 있다.
본 발명은 또한 특히 마이크로리소그래피용 광학 이미징 디바이스에 관한 것으로서, 광학 이미징 디바이스는 제1 광학 요소 그룹을 포함하는 조명 디바이스, 물체를 수용하기 위한 물체 디바이스, 제2 광학 요소 그룹을 포함하는 투영 디바이스, 및 이미지 디바이스를 포함하고, 조명 디바이스는 물체를 조명하도록 구성되고 투영 디바이스는 물체의 이미지를 이미지 디바이스 상으로 투영하도록 구성된다. 조명 디바이스 및/또는 투영 디바이스는 본 발명에 따른 적어도 하나의 광학 장치를 포함한다. 이는 앞서 설명된 변형 및 이점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 위에서 주어진 설명을 참조한다.
더욱이, 본 발명은 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 광학 요소를 지지하는 방법에 관한 것으로서, 광학 요소는 유지 디바이스에 의해 유지되고, 광학 요소는 광학 표면을 포함하며 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 여기서, 광학 요소는 유지 디바이스의 3개 초과의 별개의 유지 유닛에 의해 유지 디바이스의 베이스 요소에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 각각의 유지 유닛은 광학 요소와 베이스 요소 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛의 클램핑 연결과 별개이다. 이는 또한 앞서 설명된 변형 및 이점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 위에서 주어진 설명을 참조한다.
예비 응력이 없거나 정의된 조립체(광학 요소에서 기생 응력의 생성이 적어도 크게 방지됨)의 관점에서, 유지 디바이스의 3개의 유지 유닛과 광학 요소 사이의 각각의 클램핑 연결이 광학 요소가 베이스 요소에 대해 공간에 고정되는 방식으로 제1 단계에서 확립되면 특히 유리하다. 따라서, 종래의 3점 지지 방식의 지지가 결과적으로 먼저 실현될 수 있다. 이는 광학 요소의 이러한 초기 고정을 위해 특별히 설계되고 나머지 유지 유닛과 상이한 3개의 (제1) 유지 유닛에 의해 달성될 수 있다. 특히, 이들 3개의 (제1) 유지 유닛은 나머지 (제2) 유지 유닛보다 더 견고한 설계를 가질 수 있다. 이때, 유지 디바이스의 나머지 (제2) 유지 유닛과 광학 요소 사이의 각각의 클램핑 연결은 제2 단계에서 확립되며, 제2 단계는 제1 단계를 뒤따른다. 여기서, 특히 클램핑 목적에 필요한 이동 방향에서, 나머지 (제2) 유지 유닛은 3개의 (제1) 유지 유닛보다 훨씬 더 낮은 강성을 가질 수 있으므로 두드러진 복원력과 그에 따른 기생 응력을 생성하지 않고 제조 부정확성을 보상할 수 있다.
따라서, 다른 양태에 따르면, 본 발명은 광학 요소 및 광학 요소를 유지하기 위한 유지 디바이스를 포함하는, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치에 관한 것이다. 여기서, 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 더욱이 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 유지 디바이스는 베이스 요소 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛을 포함하며, 유지 유닛은 베이스 요소에 연결되고 원주방향을 따라 분포될 뿐만 아니라 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 유지 유닛은 베이스 요소에 대해 미리 결정된 위치 및 배향으로 광학 요소를 유지한다. 여기서, 각각의 유지 유닛은 광학 요소와 베이스 요소 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛의 클램핑 연결과 별개이다. 유지 유닛 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛은 제1 클램핑 유닛 및 제1 클램핑 유닛과 별개인 제2 클램핑 유닛을 포함한다. 제1 클램핑 유닛 및 제2 클램핑 유닛은 별개의 위치에서 베이스 요소에 각각 연결된다. 제1 클램핑 유닛 및 제2 클램핑 유닛은 클램핑 연결을 확립하기 위해 서로에 대해 지지되고, 광학 요소의 인터페이스 부분은 제1 클램핑 유닛과 제2 클램핑 유닛 사이에 클램핑된다. 이는 앞서 설명된 변형 및 이점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 위에서 주어진 설명을 참조한다.
바람직하게는, 제1 클램핑 유닛은 제1 클램핑 요소 및 제1 연결 부분을 포함하고, 제2 클램핑 유닛은 제2 클램핑 요소 및 제2 연결 부분을 포함한다. 제1 클램핑 요소는 제1 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결되고, 제2 클램핑 요소는 제2 연결 부분을 통해 베이스 요소에 연결된다. 제1 클램핑 요소 및 제2 클램핑 요소는 클램핑 연결을 확립하기 위해 서로에 대해 지지되고, 광학 요소의 인터페이스 부분은 제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소 사이에 클램핑된다.
본 발명의 추가 양태 및 실시예는 종속 청구항 및 첨부 도면과 관련된 바람직한 실시예의 다음 설명으로부터 명백해진다. 청구범위의 주제인지의 여부에 무관하게 개시된 특징의 모든 조합은 본 발명의 보호 범위 내에 있다.
도 1은 본 발명에 따른 광학 장치의 바람직한 실시예를 포함하는 본 발명에 따른 투영 노광 장치의 바람직한 실시예의 개략도이다.
도 2는 도 1의 본 발명에 따른 장치의 유지 디바이스의 개략적인 평면도이다.
도 3a는 도 2의 본 발명에 따른 장치의 일부(상세 D)의 개략적인 단면도(도 2의 III-III 선을 따름)이다.
도 3b는 도 3a의 장치 부분의 개략도(도 3a의 반경방향 R에서 본)이다.
도 4는 도 2의 본 발명에 따른 장치의 변형의 일부의 개략적인 단면도(도 3a의 도면과 유사함)이다.
도 5는 도 2의 본 발명에 따른 장치의 다른 변형의 일부의 개략적인 단면도(도 3a의 도면과 유사함)이다.
도 6은 도 2의 본 발명에 따른 장치의 다른 변형의 일부의 개략적인 단면도(도 3a의 도면과 유사함)이다.
본 발명에 따른 광학 장치의 바람직한 예시적인 실시예를 포함하는 본 발명에 따른 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(101)의 바람직한 실시예가 도 1 내지 도 4를 참조하여 예로서 아래에 설명된다. 이하의 설명을 간단하게 하기 위해, x, y, z 좌표계가 도면에 표시되고, z 방향은 중력의 방향에 대응한다. 추가 구성에서, x, y, z 좌표계의 임의의 원하는 다른 배향을 선택하는 것이 가능하다는 것은 말할 필요도 없다.
도 1은 반도체 구성요소를 제조하기 위한 마이크로리소그래피 프로세스에 사용되는 투영 노광 장치(101)의 실척이 아닌 개략도이다. 투영 노광 장치(101)는 조명 디바이스(102) 및 투영 디바이스(103)를 포함한다. 투영 디바이스(103)는 노광 프로세스에서 마스크 유닛(104)에 배열된 마스크(104.1) 구조의 이미지를 기판 유닛(105)에 배열된 기판(105.1)으로 전사하도록 설계된다. 이를 위해, 조명 디바이스(102)는 마스크(104.1)를 조명한다. 광학 투영 디바이스(103)는 마스크(104.1)로부터 광을 수신하고 마스크(104.1)의 마스크 구조의 이미지를, 예를 들어 웨이퍼 등과 같은 기판(105.1) 상에 투영한다.
조명 디바이스(102)는 광학 요소 그룹(106.1)을 포함하는 광학 유닛(106)을 포함한다. 투영 디바이스(103)는 광학 요소 그룹(107.1)을 포함하는 추가 광학 유닛(107)을 포함한다. 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 투영 노광 장치(101)의 절첩된 중심 광선 경로(101.1)를 따라 배열된다. 각각의 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 다수의 광학 요소를 포함할 수 있다.
본 실시예에서, 투영 노광 장치(101)는 5 nm 내지 20 nm의 파장, 특히 13 nm의 파장을 갖는 EUV 범위(극자외선)의 노광 광으로 작동한다. 따라서, 조명 디바이스(102) 및 투영 디바이스(103)의 요소 그룹(106.1, 107.1)의 광학 요소는 오로지 반사형 광학 요소이다. 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 광학 장치(108)에 기초하여 아래에서 설명되는 바와 같이 본 발명에 따른 하나 이상의 광학 장치를 포함할 수 있다. 광학 유닛(106, 107)은 각각 지지 구조(101.2)에 의해 지지된다.
본 발명의 추가 구성에서, (특히 조명 광의 파장에 따라) 물론, 임의의 유형의 광학 요소(굴절, 반사, 회절)를 단독으로 또는 나머지 광학 모듈에 대한 임의의 원하는 조합으로 사용하는 것이 가능하다.
본 발명에 따른 광학 장치는 광학 장치(108)에 기초하여 예시적인 방식으로 아래에 설명된다. 도 2는 광학 장치(108)의 일부의 개략적인 평면도를 도시하고, 도 3a는 광학 장치(108)의 일부의 개략적인 단면도(도 2의 III-III 선을 따른)를 도시한다. 도 3b는 도 3a의 반경방향 R에서 본 도 3a의 장치 부분의 개략도이다.
도 2 및 도 3a 및 도 3b(도 2의 상세 D를 도시함)로부터 수집될 수 있는 바와 같이, 특히, 광학 장치(108)는 조명 디바이스(102)의 콜렉터 거울 형태의 광학 요소(109) 및 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함한다. 도 2는 광학 요소(109)가 점선 외부 윤곽에 의해 표시되는 (z-방향을 따른) 유지 디바이스(110)의 평면도를 도시한다.
광학 요소(109)는 광학 요소(109)의 본체(109.2)의 일측(전방측)에 (종래 방식으로) 형성된 반사 광학 표면(109.1)을 포함한다. 광학 요소(109)는 주 연장 평면(xy-평면 또는 도 2의 도면 평면에 각각 평행)을 정의하며, 여기서 광학 요소(109)는 반경방향(R) 및 원주방향(U)을 정의한다.
본 예에서, 유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하고, 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 연결되고 원주방향(U)을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 미리 결정된 위치 및 배향으로 유지한다. 각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 설정하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)에 의해 제공되는 클램핑 연결과 별개이다.
이미 언급한 바와 같이, 가능한 한 많은 유지 유닛(110.2)이 있는 것이 바람직하며, 유지 유닛(110.2)의 수는 광학 요소(109)의 크기에 따라 달라지는 사용 가능한 설치 공간에 의해 제한된다. 본 예에서, 18개의 유지 유닛(110.2)이 제공된다. 그러나, 다른 변형에서 상이한 개수가 또한 제공될 수 있다. 특히, 적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더욱 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2)이 제공될 수 있다. 따라서, 적어도 6개(예를 들어, 적어도 7개, 적어도 8개, 적어도 9개, 적어도 10개, 적어도 15개, 적어도 18개, 적어도 20개, 적어도 25개, 적어도 30개)의 유지 유닛(110.2)이 있을 수 있고, 및/또는 최대 40개(예를 들어, 최대 36개, 최대 30개, 최대 25개)의 유지 유닛(110.2)이 있을 수 있다. 일부 경우에, 6 내지 36개(예를 들어, 18 내지 36개)의 유지 유닛(110.2)이 제공된다.
본 예에서, 유지 유닛(110.2)은 20°의 각각의 각도 간격으로 원주방향(U)을 따라 균일하게 분포되어 배열된다. 이에 의해, 부착이 광학 요소에 도입된 하중, 예를 들어 충격 하중의 하중 방향과 무관하게 항상 실질적으로 동일한 거동을 갖거나 충격 하중이 광학 요소(109)의 오정렬로 이어질 위험을 증가시키는 하중 방향이 없다는 것이 달성될 수 있다.
그러나, 다른 변형에서, 유지 유닛(110.2)은 적어도 단면 방향 비균일 분포로 원하는 대로 배열될 수 있는 것으로 이해된다. 특히, 유지 유닛(110.2)의 분포는 이 경우에 광학 요소(109)의 질량 분포 및/또는 장치(108)의 예상되는 가속도 및 그로 인한 하중 방향에 적응될 수 있다. 유지 유닛(110.2)은 특히 비대칭성 광학 요소(109)의 경우 특정 영역에서 더 높은 하중에 노출될 수 있으며, 따라서 더 높은 하중을 받는 이들 영역에서 유지 유닛(110.2)의 증가된 농도(즉, 원주방향 각도당 국소로 더 큰 수의 유지 유닛)로 비대칭 분포를 갖는 것이 편리하다.
도 3a로부터 수집될 수 있는 바와 같이, 특히, 본 예에서 각각의 유지 유닛(110.2)은 2개의 별개의 클램핑 유닛(별개의 위치에서 베이스 요소(110.1)에 연결됨), 즉, 제1 클램핑 요소(110.3)를 갖는 제1 클램핑 유닛(여기서: 반경방향(R)의 외부 클램핑 요소) 및 제2 클램핑 요소(110.4)를 갖는 제2 클램핑 유닛(여기서: 반경방향(R)의 내부 클램핑 요소)을 갖는다. 제1 클램핑 요소(110.3)는 제1 클램핑 유닛의 제1 연결 부분(110.5)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되고, 제2 클램핑 요소(110.4)는 제2 클램핑 유닛의 제2 연결 부분(110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결된다.
광학 요소(109)에 대한 클램핑 연결을 확립하기 위해, 제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)는 인장 나사 형태의 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 지지된다. 광학 요소(109)의 관련 인터페이스 부분(109.3)은 각각의 유지 유닛(110.2)의 제1 클램핑 요소(110.3)와 제2 클램핑 요소(110.4) 사이에 각각 클램핑된다.
그러나, 다른 변형에서, 각각의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 클램핑 연결은 또한 상이한 설계를 가질 수 있다. 예를 들어, 클램핑 요소(110.3 또는 110.4)가 클램핑 연결의 마찰 맞물림을 획득하기 위해 적절한 인장 디바이스(예를 들어, 반경방향(R)의 적절한 예비 인장 하에 연결 부분(110.5 또는 110.6))을 통해 광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3) 상의 관련 접촉 표면에 대해 가압된다면, 클램핑에 필요한 마찰 맞물림은 결국에는 유지 유닛(110.2)당 단일 클램핑 요소(110.3 또는 110.4)에 의해서만 실현될 수 있다. 대응하는 반대 힘은, 조립된 상태에서 광학 요소(109)에 작용하는 접촉력이 적어도 단면 방향으로 서로 상쇄하지만 전체적으로 적어도 서로 상쇄하는 방식으로 하나 이상의 인접한 유지 유닛(110.2)에 의해 인가될 수 있고, 따라서 광학 요소(109)의 정의된 위치 및 배향이 달성된다.
본 예에서, 인장 요소(111)는 타이 로드 방식으로 설계된다. 인장 요소(111)는 인터페이스 부분(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 유격을 두고 연장되며, 그 결과 클램핑력의 특히 균일한 분포가 획득된다. 리세스(109.9)의 영역에서 인장 요소(111)와 인터페이스 부분(109.3) 사이의 유격으로 인해, 광학 요소에서 그렇지 않으면 기생 응력을 유발할 수 있는, 인장 요소(111)와 인터페이스 부분(109.3) 사이의 접촉이 방지된다.
결과적으로, 클램핑 요소(110.3, 110.4)의 접촉 표면과 인터페이스 부분(109.3)의 관련 접촉 표면 사이에서 반경방향(R)에 직교하여, 인장 요소(111)의 예비 인장에 의해 정확하게 정의되는, 클램핑 연결의 마찰 맞물림만이 존재한다. 이는 클램핑으로 인한 유지력, 따라서 클램핑 표면에서의 접촉력이 인장 요소(111)의 예비 인장에 의해 비교적 높은 정밀도로 설정될 수 있다는 점에서 유리하다.
인장 요소(111)는 외부의 제1 클램핑 요소(110.4)의 통로 개구를 통과하고 리세스(109.9)를 통과한다. 본 예에서, 인장 요소(111)는 지지 목적을 위해 내부의 제2 클램핑 요소(110.4)의 대응하는 나사 구멍 내로 나사 결합되는 나사 부분(111.1)을 포함한다. 인장 요소(111)의 나사 헤드(111.2)는 외부의 제1 클램핑 요소(110.4) 상에 안착된다.
본 예에서, 2개의 클램핑 요소(110.3, 110.4)의 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)이 나사 부분(111.1)의 길이방향 축에 실질적으로 평행하게 연장되는 축에 대한 회전 자유도를 제한하는 것이 특히 유리하다. 이는, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)이 나사 연결의 조임 토크의 적어도 대부분을 점유하여 기생 응력이 전혀 없거나 매우 낮은 기생 응력만이 광학 요소에 각각 도입되는 것을 간단한 방식으로 보장한다.
이를 위해, 본 예에서와 같이, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)은 판 스프링 방식으로 구성될 수 있고, 본 예에서 상기 판 스프링은 실질적으로 반경방향(R)에 직교하는 평면으로 연장된다. 이는 특히 간단하고 콤팩트한 구성을 초래한다.
특히, 도 3b로부터 알 수 있는 바와 같이, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)은 실질적으로 직사각형 판 스프링에 의해 형성된다. 본 예에서, 연결 부분(110.5, 110.6)은 실질적으로 동일하다. 그러나, 다른 변형에서, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)은 서로로부터 벗어나는 임의의 다른 원하는 적절한 설계를 가질 수 있다는 것이 이해될 것이다. 다른 변형에서, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)은 임의의 다른 원하는 적절한 외부 윤곽(예를 들어, 도 3b에서 점선 윤곽으로 표시된 사다리꼴 윤곽)을 가질 수 있다는 것이 추가로 이해될 것이다. 연결 부분(110.5, 110.6)(특히, 각각의 외부 윤곽)의 각각의 설계는, 예를 들어 연결 부분(110.5, 110.6)의 길이방향 축을 따라 (반경방향(R)에서) 연결 부분(110.5, 110.6)의 강성의 원하는 분포를 정의하도록 선택될 수 있다.
더욱이, 그 결과, 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)은 반경방향(R)으로 순응한다. 이는 특히 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110)가 상이한 열 팽창 계수를 갖는 경우에 유리하다. 이러한 반경방향 순응성은 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110) 사이에 우수한 열 변형 디커플링을 획득할 수 있게 한다.
제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장되어, 특히 제조 및 조립이 쉬운 구성을 초래한다. 더욱이, 이러한 구성은 각각의 연결 부분(110.5, 110.6)의 평면에 평행한 자유도에서 유리하게 강성이기 때문에 동적 양태 하에 유리하다.
도 3a로부터 특히 잘 알 수 있는 바와 같이, 제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향(R)으로 서로 오프셋되거나 이격된다. 따라서, 제1 연결 부분(110.5)은 (반경방향) 외부 연결 부분을 형성하고 제2 연결 부분(110.6)은 (반경방향) 내부 연결 부분을 형성한다. 특정 변형에서, 제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 원주방향(U)으로 서로 오프셋될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 그러나, 바람직하게는, 본 예에서와 같이, 제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 본질적으로 반경방향(R)으로 서로 정렬된다(따라서, 본질적으로 원주방향(U)으로 서로 오프셋되지 않음).
더욱이, 본 예에서, 제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향(R)에 실질적으로 평행한 방식으로 서로에 대해 지지되는 클램핑 요소(110.3, 110.4)를 안내하는 평행 가이드를 제공한다. 따라서, 앞서 설명한 반경방향 순응성(열 변형 디커플링 목적을 위한)은 나머지 자유도에서 동적으로 유리한 높은 강성으로 획득될 수 있다.
본 예에서, 광학 요소(109)의 각각의 인터페이스 부분(109.3)은 (광학 표면(109.1)의 반대쪽에 있는) 광학 요소(109)의 후방측 상에서 링 형상의 방식으로 (원주방향(U)으로) 원주방향으로 연장되는 돌출부(109.5)에 형성된다. 돌출부(109.5)는 원주방향(U) 및 광학 요소(109)의 주 연장 평면(즉, 원주방향(U) 및 반경방향(R)에 의해 정의된 평면)에 직교하는 방향으로 연장된다.
본 예에서, 모든 인터페이스 부분(109.3)은 공통 돌출부(109.5)에 형성된다. 그러나, 다른 변형에서, 돌출부(109.5)는 또한 인터페이스 부분(109.3)이 돌출부(109.5)의 별개의 원주방향 세그먼트에서 개별적으로 또는 그룹으로 각각 제공되도록 원주방향(U)으로 중단될 수 있다.
본 예에서, 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)에 연결된 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성되는 각각의 인터페이스 부분(109.3) 덕분으로 특히 용이하고 높은 정밀도로 실현가능한 설계가 나타난다. 여기서, 인터페이스 요소(109.6)는, 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8)에 삽입되고 적절한 방식으로(예를 들어, 접착제 결합, 솔더링 등에 의한 재료 연결에 의해) 부착되는 칼라(109.7)가 있는 커넥터 부싱으로서 구성된다.
커넥터 부싱(109.6)이 클램핑 요소(110.3, 110.4)에 대한 접촉 표면을 형성하기 때문에 이러한 구성은 특히 제조가 간단하다. 돌출부(109.5)보다 커넥터 부싱(109.6)의 단부에서 클램핑 요소(110.3, 110.4)에 대한 이러한 접촉 표면을 확립하는 것이 실질적으로 더 쉽다. 이 경우에, 커넥터 부싱(109.6)이 충분히 높은 정밀도로 비교적 쉽게 수용되고 부착될 수 있는 돌출부(109.5) 상에 반경방향 리세스(109.8)만이 생성될 필요가 있다.
그러나, 다른 변형에서, 각각의 인터페이스 부분(109.3)은 또한 광학 요소(109)의 본체(109.2), 특히 돌출부(109.5)에 직접 형성될 수 있는 것이 이해된다.
인터페이스 부분(109.3)과 유지 유닛(110.2)은 원하는 대로 서로 결합될 수 있고; 즉, 인터페이스 부분(109.3)과 유지 유닛(110.2) 사이에 특정 페어링이 제공되지 않는다(예를 들어, 광학 요소(109)와 유지 유닛(110.2)을 갖는 베이스 요소(110.1)는 따라서 원주방향(U)을 따라 서로에 대해 임의로 회전될 수 있음)는 것이 제공될 수 있다.
그러나, 다른 변형에서, 이러한 특정 페어링은 인터페이스 부분(109.3) 및 유지 유닛(110.2)의 구성요소의 대응하는 상이한 설계 및/또는 배열에 의해 실현될 수 있다. 그 다음, 인터페이스 부분(109.3)은 (제1) 유지 유닛(110.2)과 결합될 수 있지만 다른 (제2) 유지 유닛(110.2)과 결합될 수 없는 방식으로 구성될 수 있다.
그렇게 하기 위해, 예를 들어, 인터페이스 부분(109.3)과 관련 유지 유닛(110.2), 특히 그 클램핑 요소(110.3, 110.4)의 페어링은 다른 페어링으로부터, 예를 들어 클램핑 방향을 따른(즉, 예를 들어, 인장 요소(111)의 길이방향 축을 따른) 치수 및/또는 인터페이스 부분(109.3)과 클램핑 요소(110.3, 110.4)의 정합 클램핑 표면의 구조 또는 구성이 두드러지게 벗어날 수 있다.
더욱이, 원주방향(U)을 따라 유지 유닛(110.2)(및 정합 인터페이스 부분(109.3))의 비균일 분포를 갖는 특정 설계에서, 이러한 비균일 분포는 회전 정렬의 하나 또는 정의된 서브세트만이 모든 클램핑 연결을 확립할 수 있는 것을 보장하기 위해 사용될 수 있다. 특히, 균일한 원주방향 분포에서 벗어나는 인터페이스 부분(109.3) 및 관련 유지 유닛(110.2)의 하나의 단일 쌍은 적절한 클램핑을 허용하기 위해 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110) 사이에서 (원주방향(U)을 따라) 정확하게 하나의 단일의 가능한 회전 정렬을 정의하기에 충분할 수 있다.
응력이 없거나 정의된 조립체(광학 요소(109)에서 기생 응력의 생성이 적어도 크게 방지됨)의 관점에서, 유지 디바이스(110)의 3개의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결이 광학 요소가 베이스 요소(110.1)에 대해 공간에 고정되는 방식으로 조립 중에 제1 단계에서 초기에 확립되면 특히 유리하다. 따라서, 종래의 3점 지지 방식으로 유지 디바이스(110)에 대해 광학 요소(109)를 고정하는 것이 먼저 실현될 수 있다.
이는 광학 요소(109)의 이러한 초기 부착을 위해 특별히 설계되고 나머지 유지 유닛(110.2)과 상이한 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)에 의해 달성될 수 있다. 본 예에서, 이들은 3개의 위치(112.1, 112.2, 112.3)(도 2 참조)에 있는 유지 유닛(110.2)일 수 있으며, 각각은 원주방향으로 120° 회전된 방식으로 서로에 대해 배열된다. 특히, 이들 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)은 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)보다 더 견고한 설계를 가질 수 있다.
이어서, 유지 디바이스(110)의 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결이 조립 프로세스의 제2 단계에서 확립되는데, 제2 단계는 제1 단계를 뒤따른다. 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)은 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)보다 클램핑 목적에 필요한 이동 방향으로(즉, 본 예에서 반경방향(R)으로) 상당히 더 낮은 강성을 가질 수 있으므로 두드러진 복원력과 그에 따른 기생 응력을 생성하지 않고 제조 부정확성을 보상할 수 있다.
원론적으로, 광학 요소(109)는 단일 부품 방식(즉, 모놀리식) 또는 다중 부품 방식(소위 차동 구성)으로 임의의 적절한 재료로부터 제조될 수 있다. 바람직하게는, 적어도 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되며, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함한다. 추가로 또는 대안으로서, 적어도 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)는 Zerodur 및/또는 렌즈 재료를 포함하는 재료로부터 제조될 수 있다. 인터페이스 요소(109.6)를 갖는 앞서 설명한 변형에서, 인터페이스 요소는 바람직하게는 인바(Invar) 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조될 수 있다.
원론적으로, 베이스 요소(110.1)는 마찬가지로 임의의 적절한 설계를 가질 수 있다. 따라서, 예를 들어 판형 베이스 요소(110.1)가 제공될 수 있다. 본 예에서, 베이스 요소(110.1)는 링 형상이고, 이는 베이스 요소의 주 연장 평면을 정의한다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소(110.1)로부터 돌출한다. 이는 유지 유닛(110.2)이 크라운의 갈래 방식으로 링 형상의 베이스 요소(110.1)로부터 돌출하는 크라운형 설계를 초래한다.
원론적으로, 유지 디바이스(110)는 소위 차동 구성으로 복수의 별개의 구성요소로부터 임의의 적절한 방식으로 구성될 수 있다. 본 예에서, 베이스 요소(110.1)는 모든 유지 유닛(110.2)과 일체형 또는 모놀리식 설계를 가지며, 그 결과 높은 정밀도로 제조될 수 있는 특히 견고한 설계가 발생한다.
도 4는 도 3a의 유지 디바이스(110)의 변형을 도시하는데, 그 외에는 동일한 설계를 갖는다. 이러한 변형에서, 개별, 일부 또는 모든 유지 유닛(110.2)의 각각의 내부의 제2 클램핑 요소(110.4)는 앞서 설명한 인장 요소 및 현재 포크형 연결 부분(110.7)(대응하는 판 스프링 부분으로 제조됨)을 통해 베이스 요소(110.1)에 간접적으로만 연결되고, 상기 연결 부분(110.7)은 제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)에 의해 공유된다. 특정 용례의 경우, 이러한 구성은 유지 유닛(110.2)이 원주방향(U)에 접하는 축(즉, 도 4에서 y-축에 평행한 축) 주위의 회전 자유도를 제한하지 않는다는 점에서 유리하다.
도 5는 도 3a의 유지 디바이스(110)의 다른 변형을 도시하는데, 그 외에는 동일한 설계를 갖는다. 이러한 변형에서, 개별, 일부 또는 모든 유지 유닛(110.2)의 각각의 내부의 제2 클램핑 요소(110.4)는 앞서 설명한 인장 요소, 제1 클램핑 요소(110.3) 및 그 연결 부분(110.5)을 통해 베이스 요소(110.1)에 간접적으로만 연결된다(결과적으로, 따라서 제2 연결 부분(110.6)은 누락됨). 특정 용례의 경우, 이러한 구성은 유지 유닛(110.2)이 원주방향(U)에 접하는 축(즉, 도 5에서 y-축에 평행한 축) 주위의 회전 자유도를 제한하지 않는다는 점에서 다시 한번 유리하다.
도 6은 도 3a의 유지 디바이스(110)의 다른 변형을 도시하는데, 그 외에는 동일한 설계를 갖는다. 이러한 변형에서, 개별, 일부 또는 모든 유지 유닛(110.2)의 각각의 외부의 제1 클램핑 요소(110.3)는 앞서 설명한 인장 요소, 제2 클램핑 요소(110.4) 및 그 연결 부분(110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 간접적으로만 연결된다(결과적으로, 따라서 제1 연결 부분(110.5)은 누락됨). 특정 용례의 경우, 이러한 구성은 유지 유닛(110.2)이 원주방향(U)에 접하는 축(즉, 도 6에서 y-축에 평행한 축) 주위의 회전 자유도를 제한하지 않는다는 점에서 다시 한번 유리하다.
본 발명은 오로지 마이크로리소그래피 분야의 예에 기초하여 위에서 설명되었다. 그러나, 본 발명은 또한 무거운 광학 유닛의 지지와 관련하여 유사한 문제가 발생하는 임의의 다른 광학 용례, 특히 상이한 파장에서의 이미징 방법의 문맥에서 사용될 수 있다는 것이 이해된다.
더욱이, 본 발명은 예를 들어 마이크로리소그래피에 사용되는 마스크가 그 무결성 등에 대해 검사되는 소위 마스크 검사와 같은 물체의 검사와 관련하여 사용될 수 있다. 도 1에서, 예를 들어, (추가 처리를 위해) 마스크(104.1)의 투영 패턴의 이미징을 검출하는 센서 유닛이 기판(105.1)을 대신한다. 이어서, 이 마스크 검사는 이후에 마이크로리소그래피 프로세스에서 사용되는 것과 실질적으로 동일한 파장에서 모두 발생할 수 있다. 그러나, 검사를 위해 그로부터 벗어난 임의의 원하는 파장을 사용하는 것도 마찬가지로 가능하다.
마지막으로, 본 발명은 하기 특허청구범위에 정의된 특징의 특정한 조합을 나타내는 특정한 예시적인 실시예에 기초하여 앞서 설명되었다. 여기에서, 본 발명의 주제는 이러한 특징의 조합으로 제한되지 않으며, 오히려 다음의 특허청구범위로부터 명백한 것과 같은 특징들의 다른 모든 조합이 또한 본 발명의 주제에 속한다는 점을 분명히 지적해야 한다.

Claims (33)

  1. 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치이며,
    광학 요소(109) 및
    광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하고,
    광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의하고,
    유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하며,
    유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 연결되고 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열되며,
    유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지하는, 광학 장치에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개이며,
    유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛(110.2)은 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5)과 별개인 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)을 포함하고,
    제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)은 별개의 위치에서 베이스 요소(110.1)에 각각 연결되며,
    제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)은 클램핑 연결을 확립하도록 서로에 대해 지지되고,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5)과 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6) 사이에 클램핑되는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    제1 클램핑 유닛은 제1 클램핑 요소(110.3) 및 제1 연결 부분(110.5)을 포함하고,
    제2 클램핑 유닛은 제2 클램핑 요소(110.4) 및 제2 연결 부분(110.6)을 포함하며,
    제1 클램핑 요소(110.3)는 제1 연결 부분(110.5)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되고,
    제2 클램핑 요소(110.4)는 제2 연결 부분(110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되며,
    제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)는 클램핑 연결을 확립하도록 서로에 대해 지지되고,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 제1 클램핑 요소(110.3)와 제2 클램핑 요소(110.4) 사이에 클램핑되는, 광학 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    제1 연결 부분(110.5) 및/또는 제2 연결 부분(110.6)은 적어도 단면 방향으로 판 스프링 방식으로 구성되며;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및/또는 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향으로 순응하도록 구성되고;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및/또는 제2 연결 부분(110.6)은 적어도 단면 방향으로 반경방향에 직교하는 평면에서 실질적으로 연장되는, 광학 장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장되고;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향으로 서로 이격되며;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향으로 적어도 실질적으로 서로 정렬되고;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은, 서로에 대해 지지되는 클램핑 요소(110.3, 110.4)를 반경방향에 실질적으로 평행하게 안내하도록 구성된 평행 가이드 방식으로 구성되는, 광학 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6), 특히 제1 클램핑 유닛의 제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 유닛의 제2 클램핑 요소(110.4)는, 클램핑 연결을 확립하기 위해 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 지지되고,
    특히
    인장 요소(111)는 인터페이스 부분(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 특히 유격을 두고 연장되는, 광학 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    인장 요소(111)는 지지를 확립하기 위해 클램핑 요소(110.3, 110.4) 중 하나에 나사 결합되는 나사 부분(111.1)을 포함하고,
    특히
    클램핑 요소(110.3, 110.4) 중 하나는 연결 부분(110.5, 110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되며, 연결 부분(110.5, 110.6)은 나사 부분(111.1)의 길이방향 축에 실질적으로 평행하게 연장되는 축에 대해 하나의 회전 자유도를 제한하는 방식으로 구성되는, 광학 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)과의 클램핑 연결을 확립하기 위해, 광학 요소(109)는 각각의 인터페이스 부분(109.3)을 포함하고,
    특히
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 유지 유닛(110.2)의 2개의 클램핑 요소(110.3, 110.4) 사이에 클램핑되며;
    및/또는
    인터페이스 부분(109.3) 중 하나는 제1 유지 유닛(110.2)과 결합 가능하지만 제2 유지 유닛(110.2)과는 결합할 수 없도록 구성되는, 광학 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)에 의해 형성되고,
    특히
    복수의 인터페이스 부분(109.3)이 광학 요소(109)의 공통 돌출부(109.5)에 형성되며;
    및/또는
    모든 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)의 링 형상의 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    광학 요소(109)의 돌출부(109.5)는 원주방향 및/또는 원주방향과 반경방향에 의해 정의된 평면에 직교하는 방향으로 연장되는, 광학 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    각각의 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)에 연결된 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성되고,
    특히
    인터페이스 요소(109.6)는 광학 요소(109)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고, 특히 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8) 내로 삽입되며;
    및/또는
    인터페이스 요소(109.6)는 커넥터 부싱(109.6), 특히 칼라(109.7)를 갖는 커넥터 부싱을 포함하는, 광학 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    적어도 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 및/또는 Zerodur 및/또는 렌즈 재료를 포함하는 재료로부터 제조되며,
    및/또는
    인터페이스 요소(109.6)는, 특히 인바 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조되는, 광학 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    광학 표면은 반사 광학 표면이고,
    광학 표면은 광학 요소(109)의 본체(109.2) 상에 배열되며,
    본체(109.2)는 광학 표면의 반대쪽에 있는 측면에 적어도 하나의 돌출부(109.5)를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나에 대한 인터페이스 부분(109.3)을 형성하는, 광학 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    베이스 요소(110.1)는 링 형상이고;
    및/또는
    베이스 요소(110.1)는 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면을 정의하며 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나는 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소(110.1)로부터 돌출하며, 특히 복수의 또는 모든 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소(110.1)로부터 돌출하고;
    및/또는
    베이스 요소(110.1)는 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나와 모놀리식으로 구성되는, 광학 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더욱 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2)이 제공되며,
    및/또는
    유지 유닛(110.2)은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배열되는, 광학 장치.
  14. 특히 마이크로리소그래피용 광학 이미징 디바이스이며,
    제1 광학 요소 그룹(106)을 포함하는 조명 디바이스(102),
    물체(104.1)를 수용하기 위한 물체 디바이스(104),
    제2 광학 요소 그룹(107)을 포함하는 투영 디바이스(103) 및
    이미지 디바이스(105)를 포함하고,
    조명 디바이스(102)는 물체(104.1)를 조명하도록 구성되며
    투영 디바이스(103)는 물체(103.1)의 이미지를 이미지 디바이스(105) 상으로 투영하도록 구성되는, 광학 이미징 디바이스에 있어서,
    조명 디바이스(102) 및/또는 투영 디바이스(103)는 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 광학 장치(108)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 이미징 디바이스.
  15. 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 광학 요소(109)를 지지하는 방법이며,
    광학 요소(109)는 유지 디바이스(110)에 의해 유지되고, 광학 요소(109)는 광학 표면을 포함하며 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의하고,
    광학 요소(109)는 유지 디바이스(110)의 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)에 의해 유지 디바이스(110)의 베이스 요소(110.1)에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열되는, 방법에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개이며,
    유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛(110.2)은 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5)과 별개인 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)을 포함하고,
    제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)은 별개의 위치에서 베이스 요소(110.1)에 각각 연결되며,
    제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5) 및 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6)은 클램핑 연결을 확립하도록 서로에 대해 지지되고,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 제1 클램핑 유닛(110.3, 110.5)과 제2 클램핑 유닛(110.4, 110.6) 사이에 클램핑되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    유지 디바이스(110)의 3개의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결은 광학 요소(109)가 베이스 요소(110.1)에 대해 공간에 고정되는 방식으로 제1 단계에서 확립되고,
    유지 디바이스(110)의 나머지 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결은 제2 단계에서 확립되며, 제2 단계는 제1 단계를 뒤따르는, 방법.
  17. 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치이며,
    광학 요소(109) 및
    광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하고,
    광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의하고,
    유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하며,
    유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 연결되고 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열되며,
    유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지하는, 광학 장치에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개인 것을 특징으로 하는, 광학 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛(110.2)은 제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)를 포함하고,
    제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)는 클램핑 연결을 확립하도록 서로에 대해 지지되고,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 제1 클램핑 요소(110.3)와 제2 클램핑 요소(110.4) 사이에 클램핑되는, 광학 장치.
  19. 제18항에 있어서,
    제1 클램핑 요소(110.3) 및 제2 클램핑 요소(110.4)는 클램핑 연결을 확립하기 위해 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 지지되고,
    특히
    인장 요소(111)는 인터페이스 부분(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 특히 유격을 두고 연장되는, 광학 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    인장 요소(111)는 지지를 확립하기 위해 클램핑 요소(110.3, 110.4) 중 하나에 나사 결합되는 나사 부분(111.1)을 포함하고,
    특히
    클램핑 요소(110.3, 110.4) 중 적어도 하나는 연결 부분(110.5, 110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되며, 연결 부분(110.5, 110.6)은 나사 부분(111.1)의 길이방향 축에 실질적으로 평행하게 연장되는 축에 대해 하나의 회전 자유도를 제한하는 방식으로 구성되는, 광학 장치.
  21. 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 클램핑 요소(110.3)는 연결 부분(110.5; 110.7)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되고;
    및/또는
    제2 클램핑 요소(110.4)는 연결 부분(110.6; 110.7)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되는, 광학 장치.
  22. 제21항에 있어서,
    연결 부분(110.5, 110.6; 110.7)은 적어도 단면 방향으로 판 스프링 방식으로 구성되며;
    및/또는
    연결 부분(110.5, 110.6; 110.7)은 반경방향으로 순응하도록 구성되고;
    및/또는
    연결 부분(110.5, 110.6; 110.7)은 적어도 단면 방향으로 반경방향에 직교하는 평면에서 실질적으로 연장되는, 광학 장치.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서,
    제1 클램핑 요소(110.3)는 제1 연결 부분(110.5)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되고, 제2 클램핑 요소(110.4)는 제2 연결 부분(110.6)을 통해 베이스 요소(110.1)에 연결되며,
    특히
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장되고;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향으로 서로 이격되며;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은 반경방향으로 적어도 실질적으로 서로 정렬되고;
    및/또는
    제1 연결 부분(110.5) 및 제2 연결 부분(110.6)은, 서로에 대해 지지되는 클램핑 요소(110.3, 110.4)를 반경방향에 실질적으로 평행하게 안내하도록 구성된 평행 가이드 방식으로 구성되며;
    및/또는
    제1 클램핑 요소(110.3) 및 제1 연결 부분(110.5)은 제1 위치에서 베이스 요소(110.1)에 연결된 제1 클램핑 유닛을 형성하고, 제2 클램핑 요소(110.4) 및 제2 연결 부분(110.6)은 제2 위치에서 베이스 요소(110.1)에 연결된 제2 클램핑 유닛을 형성하며, 제2 위치는 특히 제1 위치와 상이한, 광학 장치.
  24. 제17항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)과의 클램핑 연결을 확립하기 위해, 광학 요소(109)는 각각의 인터페이스 부분(109.3)을 포함하고,
    특히
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 유지 유닛(110.2)의 2개의 클램핑 요소(110.3, 110.4) 사이에 클램핑되며;
    및/또는
    인터페이스 부분(109.3) 중 하나는 제1 유지 유닛(110.2)과 결합 가능하지만 제2 유지 유닛(110.2)과는 결합할 수 없도록 구성되는, 광학 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    광학 요소(109)의 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)에 의해 형성되고,
    특히
    복수의 인터페이스 부분(109.3)이 광학 요소(109)의 공통 돌출부(109.5)에 형성되며;
    및/또는
    모든 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)의 링 형상의 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    광학 요소(109)의 돌출부(109.5)는 원주방향 및/또는 원주방향과 반경방향에 의해 정의된 평면에 직교하는 방향으로 연장되는, 광학 장치.
  26. 제24항 또는 제25항에 있어서,
    각각의 인터페이스 부분(109.3)은 광학 요소(109)에 연결된 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성되고,
    특히
    인터페이스 요소(109.6)는 광학 요소(109)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고, 특히 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8) 내로 삽입되며;
    및/또는
    인터페이스 요소(109.6)는 커넥터 부싱(109.6), 특히 칼라(109.7)를 갖는 커넥터 부싱을 포함하는, 광학 장치.
  27. 제26항에 있어서,
    적어도 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 및/또는 Zerodur 및/또는 렌즈 재료를 포함하는 재료로부터 제조되며,
    및/또는
    인터페이스 요소(109.6)는, 특히 인바 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조되는, 광학 장치.
  28. 제17항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    광학 표면은 반사 광학 표면이고,
    광학 표면은 광학 요소(109)의 본체(109.2) 상에 배열되며,
    본체(109.2)는 광학 표면의 반대쪽에 있는 측면에 적어도 하나의 돌출부(109.5)를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나에 대한 인터페이스 부분(109.3)을 형성하는, 광학 장치.
  29. 제17항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    베이스 요소(110.1)는 링 형상이고;
    및/또는
    베이스 요소(110.1)는 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면을 정의하며 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나는 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소(110.1)로부터 돌출하며, 특히 복수의 또는 모든 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 직교하는 방식으로 베이스 요소(110.1)로부터 돌출하고;
    및/또는
    베이스 요소(110.1)는 유지 유닛(110.2) 중 적어도 하나와 모놀리식으로 구성되는, 광학 장치.
  30. 제17항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더욱 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2)이 제공되며,
    및/또는
    유지 유닛(110.2)은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배열되는, 광학 장치.
  31. 특히 마이크로리소그래피용 광학 이미징 디바이스이며,
    제1 광학 요소 그룹(106)을 포함하는 조명 디바이스(102),
    물체(104.1)를 수용하기 위한 물체 디바이스(104),
    제2 광학 요소 그룹(107)을 포함하는 투영 디바이스(103) 및
    이미지 디바이스(105)를 포함하고,
    조명 디바이스(102)는 물체(104.1)를 조명하도록 구성되며
    투영 디바이스(103)는 물체(103.1)의 이미지를 이미지 디바이스(105) 상으로 투영하도록 구성되는, 광학 이미징 디바이스에 있어서,
    조명 디바이스(102) 및/또는 투영 디바이스(103)는 제17항 내지 제30항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 광학 장치(108)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 이미징 디바이스.
  32. 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 광학 요소(109)를 지지하는 방법이며,
    광학 요소(109)는 유지 디바이스(110)에 의해 유지되고, 광학 요소(109)는 광학 표면을 포함하며 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의하고,
    광학 요소(109)는 유지 디바이스(110)의 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)에 의해 유지 디바이스(110)의 베이스 요소(110.1)에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열되는, 방법에 있어서,
    각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개인 것을 특징으로 하는, 방법.
  33. 제32항에 있어서,
    유지 디바이스(110)의 3개의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결은 광학 요소(109)가 베이스 요소(110.1)에 대해 공간에 고정되는 방식으로 제1 단계에서 확립되고,
    유지 디바이스(110)의 나머지 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결은 제2 단계에서 확립되며, 제2 단계는 제1 단계를 뒤따르는, 방법.
KR1020217024649A 2019-02-06 2020-02-05 광학 요소의 지지 Pending KR20210124234A (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019201509.3A DE102019201509A1 (de) 2019-02-06 2019-02-06 Abstützung eines optischen Elements
DE102019201509.3 2019-02-06
US16/780,446 US11366393B2 (en) 2019-02-06 2020-02-03 Support of an optical element
US16/780,446 2020-02-03
PCT/EP2020/052851 WO2020161181A1 (en) 2019-02-06 2020-02-05 Support of an optical element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210124234A true KR20210124234A (ko) 2021-10-14

Family

ID=71615163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217024649A Pending KR20210124234A (ko) 2019-02-06 2020-02-05 광학 요소의 지지

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11366393B2 (ko)
EP (1) EP3921702A1 (ko)
JP (1) JP7526192B2 (ko)
KR (1) KR20210124234A (ko)
CN (1) CN113424105A (ko)
DE (1) DE102019201509A1 (ko)
WO (1) WO2020161181A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023205553A1 (de) * 2023-06-14 2024-05-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Justageeinheit, Justageeinrichtung und Lithographiesystem

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3894509B2 (ja) 1995-08-07 2007-03-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
US5882133A (en) 1996-11-01 1999-03-16 Premark Rwp Holdings, Inc. Glue applicator for laminate flooring
JP2001284226A (ja) 2000-03-31 2001-10-12 Nikon Corp 光学部材保持装置及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2003156668A (ja) 2001-11-20 2003-05-30 Canon Inc 光学ユニット、露光装置および光学機器
JP2003344741A (ja) 2002-03-20 2003-12-03 Canon Inc 補正部材、保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
US6909493B2 (en) 2002-03-20 2005-06-21 Canon Kabushiki Kaisha Correction member, retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
US20030234918A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Nikon Corporation Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system
US7760327B2 (en) 2003-10-02 2010-07-20 Carl Zeiss Smt Ag Reflecting optical element with eccentric optical passageway
EP1745317A2 (en) 2004-02-25 2007-01-24 Carl Zeiss SMT AG Housing comprising structure for mounting optical elements
DE102004018656A1 (de) * 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
JPWO2006134910A1 (ja) 2005-06-14 2009-01-08 株式会社ニコン 光学素子、光学素子保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP5069232B2 (ja) * 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
DE102006038634A1 (de) 2006-08-17 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
EP1901101A1 (en) * 2006-09-14 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Optical element unit and method of supporting an optical element
JP5128665B2 (ja) * 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
JP5168507B2 (ja) * 2009-05-20 2013-03-21 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
CN103140782B (zh) * 2010-07-28 2018-11-27 卡尔蔡司Smt有限责任公司 分面反射镜装置
DE102012200732A1 (de) * 2012-01-19 2013-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013109185B3 (de) * 2013-08-23 2014-05-22 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Baugruppe mit einer Fassung mit Verbindungseinheiten gerichteter Nachgiebigkeit
WO2015149873A1 (en) * 2014-04-04 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module comprising a deformation arrangement and method of deforming an optical element

Also Published As

Publication number Publication date
JP7526192B2 (ja) 2024-07-31
DE102019201509A1 (de) 2020-08-06
WO2020161181A1 (en) 2020-08-13
US20200249577A1 (en) 2020-08-06
CN113424105A (zh) 2021-09-21
US11366393B2 (en) 2022-06-21
JP2022519867A (ja) 2022-03-25
EP3921702A1 (en) 2021-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9134501B2 (en) Optical element unit and method of supporting an optical element
US9891535B2 (en) Optical projection system
US20060066963A1 (en) Holding mechanism, optical apparatus and device manufacturing method
US10078270B2 (en) Support for a component of an optical device
JP7526192B2 (ja) 光学素子の支持
US12298674B2 (en) Connecting components of an optical imaging device
TWI874393B (zh) 支撐一光學元件
US10571813B2 (en) Connection arrangement for a force-fit connection between ceramic components
US20060187511A1 (en) Device for mounting an optical element, particularly a lens in an objective
US20110065051A1 (en) Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JPWO2020229345A5 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20210804

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20241111

Patent event code: PE09021S01D