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KR20210070673A - Flexible display apparatus - Google Patents

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KR20210070673A
KR20210070673A KR1020190160719A KR20190160719A KR20210070673A KR 20210070673 A KR20210070673 A KR 20210070673A KR 1020190160719 A KR1020190160719 A KR 1020190160719A KR 20190160719 A KR20190160719 A KR 20190160719A KR 20210070673 A KR20210070673 A KR 20210070673A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bending
wiring
disposed
area
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
KR1020190160719A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
민경택
선하종
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020190160719A priority Critical patent/KR20210070673A/en
Publication of KR20210070673A publication Critical patent/KR20210070673A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H01L27/3276
    • GPHYSICS
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Abstract

본 명세서의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는, 액티브 영역과 인액티브 영역으로 구성되고, 인액티브 영역은 액티브 영역과 인접한 제1 영역, 패드가 배치된 제2 영역 및 제1 영역과 제2 영역 사이에 있는 벤딩 영역을 포함하는 기판, 제1 영역에서 상기 제2 영역까지 연장되는 배선이 있고, 배선은 벤딩 영역에서 돌출부와 홈부를 포함하여 보다 안정적인 플렉서블 표시장치를 제공할 수 있다.The flexible display device according to the exemplary embodiment of the present specification includes an active area and an inactive area, and the inactive area includes a first area adjacent to the active area, a second area on which a pad is disposed, and between the first area and the second area. There is a substrate including a bending region in the , and a wiring extending from the first region to the second region, and the wiring includes a protrusion and a groove in the bending region, thereby providing a more stable flexible display device.

Figure P1020190160719
Figure P1020190160719

Description

플렉서블 표시장치{FLEXIBLE DISPLAY APPARATUS}Flexible display device {FLEXIBLE DISPLAY APPARATUS}

본 명세서는 플렉스블 표시장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 표시패널을 구부릴 수 있는 플렉서블 표시장치에 관한 것이다.The present specification relates to a flexible display device, and more particularly, to a flexible display device capable of bending a display panel.

최근 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 표시장치(Display Apparatus)가 개발되고 있다.Recently, as we enter the information age, the field of display that visually expresses electrical information signals has developed rapidly, and in response to this, various display devices (Display Apparatus) with excellent performance of thinness, light weight, and low power consumption have been developed. is being developed

이와 같은 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Apparatus: LCD), 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Display Apparatus: OLED), 양자점 표시장치(Quantum Dot Display Apparatus) 등을 들 수 있다.Specific examples of such a display device include a Liquid Crystal Display Apparatus (LCD), an Organic Light Emitting Display Apparatus (OLED), and a Quantum Dot Display Apparatus.

표시장치에는 디스플레이 패널 및 다양한 기능들을 제공하기 위한 다수의 컴포넌트들을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 디스플레이 패널을 제어하기 위한 하나 이상의 디스플레이 구동 회로들이 디스플레이 어셈블리(assembly)에 포함될 수도 있다. 구동 회로들의 예들은 게이트 드라이버들, 발광(소스) 드라이버들, 전력(VDD) 라우팅, ESD(electrostatic discharge) 회로들, MUX(multiplex) 회로들, 데이터 신호 라인들, 캐소드 컨택들, 및 다른 기능성 엘리먼트들을 포함한다. 다양한 종류들의 부가 기능들, 예를 들어 터치 센싱 또는 지문 식별 기능들을 제공하기 위한 다수의 주변 회로들이 디스플레이 어셈블리에 포함될 수도 있다. 일부 컴포넌트들은 디스플레이 패널 자체 상에 배치될 수도 있고, 비디스플레이 영역 및/또는 인액티브 영역(inactive area or non-active area)인, 디스플레이 영역에 인접한 영역들 상에 배치될 수도 있다.The display device may include a display panel and a plurality of components for providing various functions. For example, one or more display driving circuits for controlling the display panel may be included in a display assembly. Examples of drive circuits include gate drivers, light emitting (source) drivers, power (VDD) routing, electrostatic discharge (ESD) circuits, multiplex (MUX) circuits, data signal lines, cathode contacts, and other functional element. include those A number of peripheral circuits for providing various types of additional functions, for example, touch sensing or fingerprint identification functions, may be included in the display assembly. Some components may be disposed on the display panel itself, and may be disposed on areas adjacent to the display area, which are non-display areas and/or inactive areas or non-active areas.

표시장치의 설계 시 사이즈 및 중량이 중요한 문제이다. 또한, 스크린대 베젤 비로 지칭되는, 인액티브 영역의 사이즈에 대한 액티브 영역 사이즈의 높은 비율은 주요한 특징 중 하나일 수 있다. 그러나, 전술한 컴포넌트들 중 일부를 디스플레이 어셈블리 내에 배치하는 것은 디스플레이 패널의 많은 부분까지 추가될 수도 있는, 큰 인액티브 영역을 필요로 할 수도 있다. 큰 인액티브 영역은 디스플레이 패널을 대형으로 하게 되고, 이는 디스플레이 패널을 표시장치의 하우징 내로 통합되는 것을 어렵게 한다. 큰 인액티브 영역은 디스플레이 패널의 많은 부분을 커버하기 위해 큰 마스킹(예를 들면, 베젤 테두리, 커버링 재료 등)을 필요로 할 수도 있고, 표시장치의 심미감을 저해할 수 있는 문제점이 된다.When designing a display device, size and weight are important issues. Also, a high ratio of the size of the active area to the size of the inactive area, referred to as the screen-to-bezel ratio, may be one of the main characteristics. However, placing some of the components described above within a display assembly may require a large inactive area, which may add up to a large portion of the display panel. A large inactive area makes the display panel large, which makes it difficult to integrate the display panel into the housing of the display device. A large inactive area may require a large masking (eg, a bezel edge, a covering material, etc.) to cover a large portion of the display panel, and may impair the aesthetics of the display device.

일부 컴포넌트들은 별도의 FPCB(flexible printed circuit board) 상에 배치될 수 있고, 디스플레이 패널의 백플레인에 위치될 수 있다. 그러나, 이러한 구성을 가져도, FPCB와 액티브 영역 간의 배선들을 연결하기 위한 인터페이스들이나 드라이버 IC와 같은 디스플레이 패널의 구동에 필수적인 컴포넌트들은 여전히 인액티브 영역에 배치되어 베젤 사이즈를 줄이는데 한계점이 될 수 있다.Some components may be disposed on a separate flexible printed circuit board (FPCB), and may be disposed on a backplane of the display panel. However, even with such a configuration, components essential for driving the display panel such as interfaces for connecting wires between the FPCB and the active region or driver ICs are still disposed in the inactive region, which may become a limit in reducing the bezel size.

본 발명의 발명자들은, 인액티브 영역의 사이즈를 낮춘 네로우 베젤(narrow bezel)을 구현하기 위해서는 배선의 위치, 배선의 폭, 및 신호 전달 방법 등을 포함한 여러 가지 기술이 요구됨을 인식하였다. 이에, 본 발명의 발명자들은 플렉서블 기판을 적용한 표시장치의 휘어지는 특성을 이용하여 다양한 연구를 진행하였다. 여러 연구를 통하여 화상이 표시되는 액티브 영역이 아닌 비표시영역, 예를 들면, 인액티브 영역을 최소화하기 위한 새로운 구조 및 제조 방법을 발명하였다. The inventors of the present invention have recognized that in order to implement a narrow bezel in which the size of the inactive region is reduced, various technologies are required, including the position of the wiring, the width of the wiring, and a signal transmission method. Accordingly, the inventors of the present invention conducted various studies using the bending characteristics of the display device to which the flexible substrate is applied. Through various studies, a new structure and manufacturing method for minimizing a non-display area, for example, an inactive area, rather than an active area where an image is displayed have been invented.

예를 들면, 인액티브 영역의 비율을 낮춰서 표시장치를 더욱 작고 가볍게 제작하기 위해 디스플레이 패널의 일부를 벤딩하여 액티브 영역의 비율을 높일 수 있다. 이는 일부 인액티브 영역이 디스플레이 패널의 액티브 영역 뒤에 위치되게 하므로, 마스킹 또는 표시장치의 하우징 아래에 가려져야 하는 인액티브 영역을 감소시키거나 제거할 수 있다. 디스플레이 패널의 벤딩은 시야에서 가려져야 하는 인액티브 영역의 사이즈를 최소화시킬 수 있고, 네로우 베젤 또는 베젤 프리 표시장치를 구현함과 동시에 심미감이 향상될 수 있는 플렉서블 표시장치를 제공하는 것이다.For example, in order to make the display device smaller and lighter by lowering the ratio of the inactive area, a portion of the display panel may be bent to increase the ratio of the active area. This allows some inactive areas to be located behind the active areas of the display panel, thereby reducing or eliminating the inactive areas that must be masked or hidden under the housing of the display device. The bending of the display panel can minimize the size of the inactive region that must be covered from the view, realize a narrow bezel or a bezel-free display, and provide a flexible display that can improve aesthetics.

플렉서블 표시장치를 구현하기 위해서는 해결되어야 하는 과제들이 있으며, 이에 대해서 아래에 설명한다. There are problems to be solved in order to implement the flexible display device, which will be described below.

디스플레이 패널의 픽셀들과 함께 플렉서블 기판 바로 위에 다양한 컴포넌트들이 배치될 수 있다. 플렉서블 기판의 가요성을 위해 얇은 기판을 사용하면 제조 및/또는 완성 후에 발생할 수 있는 다양한 기계적 응력들 및 환경적 응력들에 의해 컴포넌트들이 취약하게 될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 패널의 벤딩으로 인한 기계적 응력은 표시장치의 신뢰성에 영향을 줄 수 있으며, 더 나아가 컴포넌트들에 고장을 발생시킬 수 있다. 예를 들면, 인액티브 영역에서부터 연장되어 벤딩되는 영역에 배치된 배선, 예를 들면, 고전위 전압(VDD) 배선, 저전위 전압(VSS) 배선, 데이터 신호라인들 같은 배선들의 컴포넌트들은 플렉서블 기판을 구부리는 벤딩 공정 중에 변형이 발생할 수 있다. 그리고, 벤딩 공정 후 FPCB(flexible printed circuit board) 또는 발광(소스) 드라이버를 플렉서블 기판에 부착하는 공정 중이거나 부착 후의 표시장치에 제작된 디스플레이 패널을 결합하는 공정을 진행할 때 플렉서블 기판의 벤딩되는 영역의 특정 부위에 곡률반경(R: Radius Curvature)의 변형이 발생할 수 있다. 곡률반경의 변형은 해당 영역에 배치된 고전위 전압 배선, 저전위 전압 배선이나 데이터 신호라인들에 인가되는 인장 응력 및/또는 수축 응력을 견디지 못하고 단선 혹은 부분적인 크랙(crack)이 발생할 수 있다. 플렉서블 기판의 벤딩되는 영역은 벤딩 영역 또는 벤딩부일 수 있다.Various components may be disposed directly on the flexible substrate together with the pixels of the display panel. The use of thin substrates for flexibility of flexible substrates may make components vulnerable to various mechanical and environmental stresses that may occur after manufacturing and/or completion. For example, mechanical stress due to bending of the display panel may affect the reliability of the display device, and further may cause failure of components. For example, components of wirings, such as high potential voltage (VDD) wiring, low potential voltage (VSS) wiring, and data signal lines, arranged in a region extending from the inactive region and being bent may form a flexible substrate. Deformation may occur during the bending bending process. And, during the process of attaching the flexible printed circuit board (FPCB) or light emitting (source) driver to the flexible substrate after the bending process, or during the process of bonding the display panel manufactured to the display device after attachment, the bending area of the flexible substrate Deformation of the radius of curvature (R: Radius Curvature) may occur in a specific area. Deformation of the radius of curvature may not withstand tensile stress and/or contractile stress applied to high potential voltage wirings, low potential voltage wirings, or data signal lines disposed in the corresponding region, and may cause disconnection or partial cracks. The bending region of the flexible substrate may be a bending region or a bending portion.

따라서, 벤딩 시에 발생할 수 있는 각종 응력으로부터 컴포넌트들을 보호하기 위해 벤딩부의 상부에 유기 보호막을 구성할 수 있다. 예를 들면, 마이크로 코팅층(MCL: Micro Coating Layer)인 유기막을 벤딩 영역의 컴포넌트들 상부에 배치할 수 있다. 마이크로 코팅층이 없을 경우, 벤딩 영역 상의 컴포넌트들이 외부에 노출되어 물리적인 충격, 습기 및 산소 등에 노출되어 화학적 변형을 가져올 수 있고, 또한 벤딩 시 상대적으로 벤딩부의 상부 표면적이 늘어나는 인장 응력이 벤딩부의 최상부에 위치한 각종 배선들에 강하게 가해질 수 있다. 이에 의한 단선 및 부분적인 크랙은 디스플레이 패널의 구동 불량을 발생시킬 수 있다. 벤딩부의 각종 배선들을 보호하기 위해 마이크로 코팅층을 배치하여 외부로부터 받을 수 있는 물리적 및/또는 화학적 충격을 흡수할 수 있다. 벤딩부에 배치된 배선들이 기판과 마이크로 코팅층을 포함한 적층구조에서 중립면에 가깝도록 하여 인장 응력 및 수축 응력이 덜 가해지도록 할 수 있고, 유기물로 이루어진 마이크로 코팅층에 의해 배선에 가해지는 인장 응력 및 수축 응력을 흡수하여 결함을 줄일 수 있다.Accordingly, an organic passivation layer may be formed on the bending portion to protect the components from various stresses that may occur during bending. For example, an organic layer that is a micro coating layer (MCL) may be disposed on the components of the bending region. In the absence of the micro-coating layer, components on the bending area are exposed to the outside and exposed to physical impact, moisture, oxygen, etc., resulting in chemical deformation. Also, when bending, tensile stress, which relatively increases the upper surface area of the bending area, is applied to the top of the bending area. It can be strongly applied to various wirings located. The disconnection and partial cracks by this may cause a driving defect of the display panel. By disposing a micro-coating layer to protect various wirings of the bending part, it is possible to absorb physical and/or chemical shocks that may be received from the outside. By making the wirings arranged in the bending part close to the neutral plane in the laminate structure including the substrate and the micro-coating layer, less tensile stress and shrinkage stress can be applied, and the tensile stress and contraction applied to the wiring by the micro-coating layer made of organic material. By absorbing stress, defects can be reduced.

마이크로 코팅층을 적용함에도 불구하고 벤딩부에서 데이터 배선이나 고전위 전압 배선 및 저전위 전압 배선 같은 배선들이 지속적으로 단선 또는 파손됨을 인식하였다. 예를 들면, 플렉서블 기판의 일부를 접는 벤딩 공정 중이거나 벤딩 후 공정에서 디스플레이 모듈에 장착하거나 장착 후 사용자가 사용하는 중에 발생하는 충격 등에 의해 배선들에 파손이 발생하는 경우가 있음을 인식하였다. It was recognized that wirings such as data wiring, high potential voltage wiring, and low potential voltage wiring were continuously disconnected or damaged in the bending part despite the application of the micro-coating layer. For example, it has been recognized that there are cases in which damage to the wires may occur due to an impact generated during a bending process of folding a portion of the flexible substrate or a user using the display module after mounting or mounting in a process after bending.

따라서, 표시장치의 경량박형을 구현하고, 추가적인 기구물의 보강 없이 벤딩 영역의 배선의 강성을 보강하는 것은 벤딩 공정 전후에 발생할 수 있는 배선 단선이나 파손을 방지할 수 있는 네로우 베젤 또는 베젤 프리 표시장치를 구현할 수 있다.Therefore, implementing a light and thin display device and reinforcing the rigidity of the wiring in the bending area without reinforcement of additional mechanical materials is a narrow bezel or bezel-free display device that can prevent wiring disconnection or damage that may occur before and after the bending process. can be implemented.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 액티브 영역과 인액티브 영역으로 구성되고, 인액티브 영역은 액티브 영역과 인접한 제1 영역, 패드가 배치된 제2 영역 및 제1 영역과 제2 영역 사이에 있는 벤딩 영역을 포함하는 기판, 제1 영역에서 제2 영역까지 연장되는 배선은 상기 벤딩 영역에서 라인형 돌출부와 라인형 홈부를 포함할 수 있다. A display device according to an exemplary embodiment of the present specification includes an active area and an inactive area, and the inactive area includes a first area adjacent to the active area, a second area on which a pad is disposed, and a space between the first area and the second area. The substrate including the bending region and the wiring extending from the first region to the second region may include a line-shaped protrusion and a line-shaped groove in the bending region.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 표시영역과 비표시 영역을 포함하는 기판, 표시영역에 배치되는 발광 표시 소자와 발광 표시 소자 위에 배치되고, 비표시 영역의 적어도 일부분 위에 배치되는 봉지층, 봉지층의 상부에 배치되는 편광층과 커버 윈도우, 비표시 영역은 벤딩 영역을 포함하고, 벤딩 영역은 발광 표시 소자로 연장되는 벤딩 배선을 포함하며, 벤딩 배선은 벤딩 배선이 연장되는 방향과 평행하게 배치되는 라인형 홈부를 포함하며 라인형 홈부는 기판과 이격되어 배치될 수 있다. A display device according to an exemplary embodiment of the present specification includes a substrate including a display area and a non-display area, a light emitting display device disposed in the display area, and an encapsulation layer disposed on at least a portion of the non-display area, and disposed on the light emitting display device; The polarizing layer and the cover window disposed on the encapsulation layer, the non-display area includes a bending area, the bending area includes a bending wire extending to the light emitting display device, and the bending wire is parallel to the direction in which the bending wire extends It includes a line-shaped groove disposed, and the line-shaped groove portion may be disposed to be spaced apart from the substrate.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 플렉서블한 기판을 적용하여 디스플레이 패널의 비표시 영역인 인액티브 영역의 전체 혹은 일부를 일정한 곡률반경을 가진 형태로 접어서 액티브 영역의 배면에 배치함으로써, 전체적인 디스플레이 패널의 외형이 슬림 베젤 혹은 네로우 베젤을 갖는 표시장치를 제공할 수 있다.The display device according to the embodiment of the present specification applies a flexible substrate to fold all or a part of the inactive area, which is a non-display area of the display panel, into a shape having a constant radius of curvature and arrange it on the rear surface of the active area, thereby forming the entire display panel A display device having a slim bezel or a narrow bezel may be provided.

따라서, 표시장치의 사용자는 심미적으로 발광 화면이 표시장치의 전면에 가득 찬 디바이스를 사용할 수 있고, 기능적으로 좁은 베젤에 적용되는 컴팩트한 모듈을 사용하여 사용자에게 보다 탁월한 그립(grip)감과 가벼운 무게를 제공할 수 있다.Therefore, the user of the display device can aesthetically use a device in which the light emitting screen is full on the front of the display device, and functionally, the compact module applied to the narrow bezel provides the user with an excellent grip and light weight. can provide

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 배선을 복수의 중첩되는 층으로 구성할 수 있다. 배선을 복층으로 형성하면, 벤딩 공정 전/ 후 발생할 수 있는 곡률반경 변화 혹은 외부 충격에 대해 보다 견고한 배선구조를 만들 수 있다. In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the wiring disposed in the bending area may be configured as a plurality of overlapping layers. If the wiring is formed in multiple layers, a more robust wiring structure can be made against changes in the radius of curvature or external impact that may occur before/after the bending process.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 배선을 복수의 층으로 형성하면 구간 별로 발생하는 인장 응력 및 수축 응력을 받는 배선의 영역을 줄이거나 최적화할 수 있으므로, 배선에서 발생하는 단선 혹은 크랙을 줄일 수 있다. In the display device according to the embodiment of the present specification, when the wiring disposed in the bending region is formed in a plurality of layers, the region of the wiring that is subjected to tensile stress and contractile stress generated for each section can be reduced or optimized, so that the disconnection occurring in the wiring Or you can reduce cracks.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 배선을 인장 응력 및 수축 응력을 견딜 수 있는 돔 형태로 형성할 수 있다. 배선에 두개의 돔 형태 혹은 라인형태의 홈을 형성하여 벤딩 방향에 평행하도록 배치할 수 있다. 이러한 배선의 배치로 벤딩 영역에 인간되는 인장 응력 및 수축 응력에 더 잘 견딜 수 있는 배선일 수 있다. In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the wiring disposed in the bending region may be formed in a dome shape capable of withstanding tensile stress and contractile stress. Two dome-shaped or line-shaped grooves may be formed in the wiring to be arranged parallel to the bending direction. With such an arrangement of the wirings, it may be possible to provide wirings that can better withstand tensile stress and shrinkage stress applied to the bending region.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 배선을 복수의 층으로 형성할 수 있고, 그 중에 상부 배선을 두껍게 형성하여 인장 응력과 수축 응력을 주로 견디는 구조로 하고 하부 배선을 상대적으로 얇게 형성하여 상부 배선의 구조를 견고하게 유지하는 보조 역할을 할 수 있다. In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the wiring disposed in the bending region may be formed in a plurality of layers, and the upper wiring is formed thickly to have a structure that mainly withstands tensile stress and contractile stress, and the lower wiring is relatively formed. By forming it thin, it can play an auxiliary role in firmly maintaining the structure of the upper wiring.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 상부 배선의 돔 형태를 이중 형태로 구성하여 가운데 홈을 형성할 수 있다. 이러한 돔의 크기과 홈의 깊이 혹은 폭을 달리하여 벤딩 공정으로 인해 발생하는 인장 응력에 잘 견딜 수 있다. The display device according to the exemplary embodiment of the present specification may form a central groove by configuring the dome shape of the upper wiring disposed in the bending area in a double shape. By varying the size of the dome and the depth or width of the groove, it can withstand the tensile stress caused by the bending process well.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 벤딩 영역에 배치되는 배선의 돔 형태를 반원형이나 사다리꼴 형태의 평면을 가지도록 함으로써, 벤딩 영역의 인장 응력에 강한 평면구조를 가질 수 있다.The display device according to the exemplary embodiment of the present specification may have a planar structure strong against tensile stress in the bending area by making the dome shape of the wiring disposed in the bending area to have a semicircular or trapezoidal plane.

본 명세서의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present specification are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

이상에서 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 효과에 기재한 발명의 내용이 청구항의 필수적인 특징을 특정하는 것은 아니므로, 청구항의 권리 범위는 발명의 내용에 기재된 사항에 의하여 제한되지 않는다.Since the content of the invention described in the problems to be solved above, the means for solving the problems, and the effects do not specify the essential characteristics of the claims, the scope of the claims is not limited by the matters described in the content of the invention.

도 1은 본 명세서의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 평면도를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 절단선 I-I'을 따라 자른 단면도이다.
도 3은 도 1의 점선 구역 II을 확대한 단면도이다.
도 4는 도 2의 절단부가 벤딩된 벤딩 영역를 확대한 도면이다.
도 5는 도 4의 벤딩 시작영역에서 기판 절단면 인근 영역을 확대한 도면으로 본 명세서의 실시예에 따른 배선의 평면도이다.
도 6a 내지 6c는 도 5의 절단선 III-III'를 따라 자른 본 명세서의 여러 실시예에 따른 배선의 단면도이다.
도 7은 도 5의 절단선 III-III'를 따라 자른 본 명세서의 다른 실시예에 따른 배선의 단면도이다.
1 is a view showing a plan view of a display panel according to an embodiment of the present specification.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the cutting line I-I' of FIG. 1 .
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a dotted line area II of FIG. 1 .
4 is an enlarged view of the bending area in which the cut portion of FIG. 2 is bent.
FIG. 5 is an enlarged view of a region adjacent to a cut surface of a substrate in a bending start region of FIG. 4 and is a plan view of wiring according to an embodiment of the present specification.
6A to 6C are cross-sectional views of wirings according to various embodiments of the present specification taken along line III-III′ of FIG. 5 .
7 is a cross-sectional view of a wiring according to another embodiment of the present specification taken along the cutting line III-III' of FIG.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention belongs It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are exemplary, and thus the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'including', 'having', 'consisting', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is interpreted as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between the two parts unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, 'immediately' or 'directly' when a temporal relationship is described with 'after', 'following', 'after', 'before', etc. It may include cases that are not continuous unless this is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

본 명세서의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present specification, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the essence, order, order, or number of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but other components may be interposed between each component. It will be understood that each component may be “interposed” or “connected”, “coupled” or “connected” through another component.

본 명세서에서 "표시장치"는 표시패널과 표시패널을 구동하기 위한 구동부를 포함하는 액정 모듈(Liquid Crystal Module; LCM), 유기발광 모듈(OLED Module), 양자점 모듈(Quantum Dot Module)과 같은 협의의 표시장치를 포함할 수 있다. 그리고, LCM, OLED 모듈, QD 모듈 등을 포함하는 완제품(complete product 또는 final product)인 노트북 컴퓨터, 텔레비전, 컴퓨터 모니터, 자동차용 장치(automotive display) 또는 차량(vehicle)의 다른 형태 등을 포함하는 전장장치(equipment display), 스마트폰 또는 전자패드 등의 모바일 전자장치(mobile electronic device) 등과 같은 세트 전자장치(set electronic device) 또는 세트 장치(set device 또는 set apparatus)도 포함할 수 있다.As used herein, the term “display device” refers to a liquid crystal module (LCM) including a display panel and a driving unit for driving the display panel, an organic light emitting module (OLED Module), and a quantum dot module (Quantum Dot Module). It may include a display device. And, an electric field including a notebook computer, a television, a computer monitor, an automotive display or other type of vehicle, which is a complete product or final product including LCM, OLED module, QD module, etc. A set electronic device such as an equipment display, a mobile electronic device such as a smart phone or an electronic pad, or a set device or set apparatus may also be included.

따라서, 본 명세서에서의 표시장치는 LCM, OLED 모듈, QD 모듈 등과 같은 협의의 디스플레이 장치 자체, 및 LCM, OLED 모듈, QD 모듈 등을 포함하는 응용제품 또는 최종소비자 장치인 세트 장치까지 포함할 수 있다.Accordingly, the display device in the present specification may include a set device that is a narrow display device itself such as an LCM, an OLED module, a QD module, and an application product or an end-user device including an LCM, an OLED module, a QD module, etc. .

그리고, 경우에 따라서는, 표시패널과 구동부 등으로 구성되는 LCM, OLED 모듈, QD 모듈을 협의의 "표시장치"로 표현하고, LCM, OLED 모듈, QD 모듈을 포함하는 완제품으로서의 전자장치를 "세트장치"로 구별하여 표현할 수도 있다. 예를 들면, 협의의 표시장치는 액정(LCD), 유기발광(OLED) 또는 양자점(Quantum Dot)의 표시패널과, 표시패널을 구동하기 위한 제어부인 소스 PCB를 포함하며, 세트장치는 소스 PCB에 전기적으로 연결되어 세트장치 전체를 제어하는 세트 제어부인 세트 PCB를 더 포함하는 개념일 수 있다.And, in some cases, the LCM, OLED module, and QD module composed of the display panel and the driver are expressed as a narrow “display device”, and the electronic device as a finished product including the LCM, OLED module, and QD module is “set” It can also be expressed as "device". For example, a display device in the narrow sense includes a liquid crystal (LCD), organic light emitting (OLED) or quantum dot display panel, and a source PCB that is a control unit for driving the display panel, and the set device is connected to the source PCB. It may be a concept further including a set PCB, which is a set controller that is electrically connected to control the entire set device.

본 실시예에 사용되는 표시패널은 액정표시패널, 유기전계발광(OLED: Organic Light Emitting Diode) 표시패널, 양자점(QD: Quantum Dot) 표시패널 및 전계발광 표시패널(electroluminescent display panel) 등의 모든 형태의 표시패널이 사용될 수 있으며, 본 실시예의 유기전계발광(OLED) 표시패널용 플렉서블 기판과 하부의 백플레이 지지구조로 베젤 벤딩을 할 수 있는 특정한 표시패널에 한정되는 것은 아니다. 그리고, 본 명세서의 실시예에 따른 표시장치에 사용되는 표시패널은 표시패널의 형태나 크기에 한정되지 않는다. The display panel used in this embodiment includes all types of liquid crystal display panels, organic light emitting diode (OLED) display panels, quantum dot (QD) display panels, electroluminescent display panels, etc. can be used, and is not limited to a specific display panel capable of bezel bending with the flexible substrate for the organic light emitting (OLED) display panel of the present embodiment and the lower backplay support structure. In addition, the display panel used in the display device according to the embodiment of the present specification is not limited to the shape or size of the display panel.

예를 들면, 표시패널이 유기전계발광(OLED) 표시패널인 경우에는, 다수의 게이트 라인과 데이터 라인, 및 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역에 형성되는 픽셀(Pixel)을 포함할 수 있다. 그리고, 각 픽셀에 선택적으로 전압을 인가하기 위한 소자인 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이와, 어레이 상의 유기 발광 소자(OLED)층, 및 유기 발광 소자층을 덮도록 어레이 상에 배치되는 봉지 기판 또는 봉지층(Encapsulation) 등을 포함하여 구성될 수 있다. 봉지층은 외부의 충격으로부터 박막 트랜지스터 및 유기 발광 소자층 등을 보호하고, 유기 발광 소자층으로 수분이나 산소가 침투하는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 어레이 상에 형성되는 층은 무기발광층(inorganic light emitting layer), 예를 들면 나노사이즈의 물질층(nano-sized material layer) 또는 양자점(quantum dot) 등을 포함할 수 있다.For example, when the display panel is an organic light emitting (OLED) display panel, it may include a plurality of gate lines and data lines, and pixels formed at intersections of the gate lines and the data lines. In addition, an array including a thin film transistor, which is a device for selectively applying a voltage to each pixel, an organic light emitting device (OLED) layer on the array, and an encapsulation substrate or an encapsulation layer disposed on the array to cover the organic light emitting device layer (Encapsulation) and the like may be configured. The encapsulation layer may protect the thin film transistor and the organic light emitting device layer from external impact, and may prevent penetration of moisture or oxygen into the organic light emitting device layer. In addition, the layer formed on the array may include an inorganic light emitting layer, for example, a nano-sized material layer or quantum dots.

본 명세서에서 도 1은 표시장치들 내에 통합될 수도 있는 예시적인 유기전계발광(OLED) 디스플레이 패널(100)을 예시한다.1 herein illustrates an exemplary organic electroluminescent (OLED) display panel 100 that may be incorporated into displays.

도 1은 본 명세서의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 평면도를 나타내는 도면이다. 도 1은 표시장치들 내에 배치될 수 있는 예시적인 유기전계발광 디스플레이(OLED) 패널(100)을 도시한 도면이다. 1 is a view showing a plan view of a display panel according to an embodiment of the present specification. 1 is a diagram illustrating an exemplary organic electroluminescent display (OLED) panel 100 that may be disposed within displays.

도 1을 참조하면, 유기전계발광 디스플레이 패널(100)은 내부에 발광소자들과 발광소자 구동을 위한 어레이가 형성된, 적어도 하나의 액티브 층(101)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , an organic light emitting display panel 100 includes at least one active layer 101 in which light emitting devices and an array for driving the light emitting devices are formed.

디스플레이 패널(100)은 액티브 영역(AA)의 주변부에 배치되는 인액티브 영역(IA)을 포함할 수 있고, 액티브 영역(AA)의 상하좌우를 인액티브 영역(IA)이라고 할 수 있다. 액티브 영역(AA)은 직사각형 형태일 수 있으며, 스마트 와치나 자동차용 표시장치에는 원형, 타원형, 또는 다각형 등의 다양한 형태의 표시장치가 적용될 수 있다. 따라서, 액티브 영역(AA)을 둘러싸고 있는 인액티브 영역(IA)의 배열이 도 1에 예시된 유기전계발광(OLED) 디스플레이 패널(100)로 한정되는 것은 아니다. 액티브 영역(AA)의 좌우측 인액티브 영역(IA)에는 액티브 영역(AA)내 형성된 발광소자들과 어레이들의 구동을 위한 다양한 컴포넌트들이 위치하여 안정적인 발광을 위한 기능을 제공할 수 있다. 예를 들면, GIP(Gate-in-Panel, 123), 및 ESD(Electrostatic Discharge, 124) 등의 회로들, 발광소자의 일부분인 캐소트(Cathode)와 발광소자의 전압 기준점인 저전위 전압(VSS) 배선(122) 간의 접촉을 위한 영역, 발광소자를 외부의 투습이나 이물로부터 보호하기 위한 봉지층(170) 중 이물보상층의 도포 공정 중에 디스플레이 패널(100)의 외측으로 넘쳐 흐르는 것을 방지하기 위한 다수의 댐(Dam) 구조가 있을 수 있다. 또한, 모기판에서 개별 디스플레이 패널(100)로 나누기 위한 절단공정(Scribing 공정) 중에 발생할 수 있는 크랙(Crack)이 디스플레이 패널(100) 내부로 전달되는 것을 방지하기 위한 크랙방지구조(Crack stopper structure, 126) 등이 배치될 수 있다.The display panel 100 may include an inactive area IA disposed at a periphery of the active area AA, and upper, lower, left, and right sides of the active area AA may be referred to as an inactive area IA. The active area AA may have a rectangular shape, and various types of display devices such as a circle, an oval, or a polygon may be applied to a smart watch or a display device for a vehicle. Accordingly, the arrangement of the inactive area IA surrounding the active area AA is not limited to the organic light emitting (OLED) display panel 100 illustrated in FIG. 1 . Various components for driving the light emitting devices and arrays formed in the active area AA may be positioned in the left and right inactive areas IA of the active area AA to provide a function for stable light emission. For example, circuits such as GIP (Gate-in-Panel, 123) and ESD (Electrostatic Discharge, 124), a cathode that is a part of a light emitting device, and a low potential voltage (VSS) that is a voltage reference point of the light emitting device ) area for contact between the wiring 122, the encapsulation layer 170 for protecting the light emitting element from external moisture permeation or foreign matter to prevent overflowing to the outside of the display panel 100 during the application process of the foreign material compensation layer There may be multiple dam structures. In addition, a crack stopper structure for preventing cracks that may occur during the cutting process (scribing process) for dividing the mother substrate into individual display panels 100 from being transmitted to the inside of the display panel 100 (Crack stopper structure, 126), etc. may be disposed.

본 명세서의 크랙방지구조(126)는 절단공정 중에 기판(110)의 절단면(Trimming line)에서 발생하는 충격이 인액티브 영역(IA)에 형성된 GIP(123)나 ESD(124) 또는 저전위 전압(VSS) 배선(122)에 도달하여 파괴하거나 액티브 영역(AA)에 형성된 발광소자나 어레이에 투습경로를 제공하여 흑점(Dark spot)이 성장하거나 화소 수축(Pixel Shrinkage)이 발생하는 것을 방지할 수 있다. The crack prevention structure 126 of the present specification is a GIP 123 or ESD 124 or low potential voltage ( VSS) reaching the wiring 122 and destroying it or providing a vapor transmission path to the light emitting device or array formed in the active area AA to prevent dark spots from growing or pixel shrinkage from occurring .

크랙방지구조(126)의 구성은 무기막 또는 유기막으로 구성될 수 있고, 무기막 및 유기막의 복층 구조로 형성될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 도 1에서는 크랙방지구조(126)를 디스플레이 패널(100)의 장변 양측과 단변 한측에만 배치되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 크랙방지구조(126)가 벤딩 영역(103)과 노치(151)가 형성된 영역에도 배치되어 기판(110)의 모든 외곽에 배치될 수도 있다. The crack prevention structure 126 may be formed of an inorganic film or an organic film, and may be formed of a multilayer structure of an inorganic film and an organic film, but is not limited thereto. In FIG. 1 , the crack prevention structure 126 is illustrated as being disposed only on both sides of the long side and one side of the short side of the display panel 100 , but the present invention is not limited thereto. For example, the crack prevention structure 126 may also be disposed in the area where the bending area 103 and the notch 151 are formed, and may be disposed on the entire periphery of the substrate 110 .

크랙방지구조(126)의 바깥측인 기판(110)의 절단면에 인접한 영역에서는 액티브 영역(AA)을 형성할 때 전면 증착되는 절연막들(GI, Buffer layer 등)의 부분 또는 전체를 에칭(etching)할 수 있다. 에칭을 통해 기판(110)의 상부에 소량의 절연막이 남거나 기판의 상부 표면이 완전히 노출되도록 하여 절단 충격이 해당 절연막에 전달되지 않도록 할 수 있다. In a region adjacent to the cut surface of the substrate 110 outside the crack preventing structure 126 , part or all of the insulating films (GI, buffer layer, etc.) deposited on the entire surface of the active region AA are etched by etching. can do. A small amount of the insulating film may be left on the upper portion of the substrate 110 through etching, or the upper surface of the substrate may be completely exposed to prevent the cutting impact from being transmitted to the insulating film.

도 1을 참조하면, 디스플레이 패널(100)의 하부 영역에는 외부 전원과 데이터 구동 신호 등을 받거나 터치 신호를 주고 받기 위해 형성된 패드(135)와 전기적으로 연결되는 FPCB가 배치될 수 있다. FPCB로부터 연장되는 고전위 전압(VDD)용 배선(121), 저전위 전압(VSS)용 배선(122) 및/또는 데이터용 전압 배선(127)들이 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1 , an FPCB electrically connected to a pad 135 formed to receive an external power source and a data driving signal or to transmit and receive a touch signal may be disposed in a lower region of the display panel 100 . The wiring 121 for the high potential voltage VDD, the wiring 122 for the low potential voltage VSS, and/or the voltage wiring 127 for data extending from the FPCB may be disposed.

본 명세서의 데이터용 전압 배선(127)은 발광소자(112)의 발광신호를 발생시키는 데이터 드라이버 IC(IC)쪽으로 연결되어 배치될 수 있다. The data voltage line 127 of the present specification may be disposed to be connected to the data driver IC (IC) that generates the light emitting signal of the light emitting device 112 .

앞서 설명한 패드(135)와 데이터 드라이버 IC(IC)가 배치된 영역을 제2 컴포넌트 형성부로 지칭할 수 있다. 제2 컴포넌트 형성부에는 고전위 전압용 배선(121) 및 저전위 전압용 배선(122)의 일부가 배치될 수 있다.A region where the pad 135 and the data driver IC (IC) described above are disposed may be referred to as a second component forming part. A portion of the high-potential voltage wiring 121 and the low-potential voltage wiring 122 may be disposed in the second component forming portion.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 패널(100)에는, 점선으로 표시된 것과 같이 벤딩 영역(BA)의 벤딩을 위해 디스플레이 패널(100)의 하측 양모서리를 절단하여 형성된 노치(notch, 151)를 배치할 수 있다. Referring to FIG. 1 , in a display panel 100 according to an embodiment of the present invention, as indicated by a dotted line, a notch formed by cutting both lower corners of the display panel 100 for bending of the bending area BA. , 151) can be placed.

예를 들면, 모기판에서 개별 패널로 나누기 위한 절단 공정을 진행할 때 인액티브 영역(IA)의 일부인 디스플레이 패널(100)의 하측 양모서리 영역 부근에서 인액티브 영역(IA) 내측으로 절단하여 절단면이 고전위 전압(VDD)용 배선(121)이나 저전위 전압(VSS)용 배선(122)에 인접하도록 노치(151)를 형성할 수 있다. For example, when performing a cutting process for dividing the mother substrate into individual panels, the cut surface is cut inside the inactive area IA near the lower edge area of the display panel 100, which is a part of the inactive area IA. The notch 151 may be formed adjacent to the wiring 121 for the upper voltage VDD or the wiring 122 for the low potential voltage VSS.

본 명세서의 노치(151)는 플렉서블 기판(110)의 일단에서 노치(151)가 시작되고 해당 영역의 인근에서 벤딩 공정을 할 수 있다. 벤딩 공정은 데이터 드라이버 IC(137) 인근에서 종료되도록 하여 데이터 드라이버 IC(IC)와 FPCB 패드(135)가 있는 플렉서블 기판 영역은 액티브 영역(AA)이 형성된 플렉서블 기판(110)의 배면 쪽에 접할 수 있다. As for the notch 151 of the present specification, the notch 151 starts at one end of the flexible substrate 110 and a bending process may be performed in the vicinity of the corresponding area. The bending process is terminated near the data driver IC 137 so that the flexible substrate area including the data driver IC and the FPCB pad 135 may be in contact with the back side of the flexible substrate 110 on which the active area AA is formed. .

디스플레이 패널(100) 상면에 형성된 패드(135)에 연결되는 부재는 FPCB 로 한정되지 않고, 다양한 부재가 연결 가능하며 패드(135)의 위치는 디스플레이 패널(100)의 상면 또는 배면에 배치하는 것도 가능하다. The member connected to the pad 135 formed on the upper surface of the display panel 100 is not limited to the FPCB, and various members can be connected, and the position of the pad 135 may be disposed on the upper surface or the rear surface of the display panel 100 . Do.

도 1에서 데이터 드라이버 IC(IC)는 디스플레이 패널(100) 상면에 배치되는 것으로 예시하였지만 데이터 드라이버 IC(IC)에 한정되지 않는다. 예를 들면, 데이터 드라이버 IC(IC)는 디스플레이 패널(100)의 배면에 배치될 수 있다. Although the data driver IC (IC) is illustrated as being disposed on the upper surface of the display panel 100 in FIG. 1 , it is not limited to the data driver IC (IC). For example, the data driver IC (IC) may be disposed on the rear surface of the display panel 100 .

도 2는 도 1의 디스플레이 패널(100)의 인액티브 영역(IA)이 벤딩된 상태의 단면을 강조하기 위한 것으로, 도 1에 표시된 절단선 I-I'을 따라 절단한 단면도이다. 도 2에서는 플렉서블 기판(110)과 플렉서블 기판(110) 위에 형성될 수 있는 TFT, 발광소자, 및 봉지층(170)을 포함하도록 액티브 층(101)을 도시하였다. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the cutting line I-I' shown in FIG. 1 for emphasizing a cross-section in a state in which the inactive area IA of the display panel 100 of FIG. 1 is bent. In FIG. 2 , the active layer 101 is illustrated to include the flexible substrate 110 , a TFT that may be formed on the flexible substrate 110 , a light emitting device, and an encapsulation layer 170 .

플렉서블 기판(110)은 예를 들면, 폴리이미드 수지(Polyimide Resin)계열의 물질일 수 있으며, 이에 한정되지 않는다. 플렉서블 기판(110)상에 버퍼층(buffer layer, 111)을 형성하고 액티브 층(101)을 형성할 수 있다. 버퍼층(111)은 SiNx나 SiOx 같은 무기절연층이 다수 적층된 구조일 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 액티브 층(101)은 저온 폴리 실리콘(Low Temperature Poly Silicon: LTPS)으로 형성할 수 있고 액티브 층(101) 상에 게이트 절연막(120)이 배치될 수 있다. 게이트 절연막(120)위에 게이트 층(GE)을 형성할 수 있는데, 게이트 층(GE)은 몰리브덴(Molybdenum: Mo)으로 형성할 수 있다. 게이트 층(GE)상에 층간절연막(130)이 형성될 수 있고, 게이트 절연층(120)과 층간절연막(130)에 홀을 형성하여 TFT의 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)을 액티브 층(101)과 연결할 수 있다. 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)상에 제1 평탄화층(150)과 제2 평탄화층(160)이 배치될 수 있다. 평탄화 막은 유기막으로 형성될 수 있다. 제2 평탄화층(160)위에 애노드 전극(AD)과 발광을 위한 유기 발광물층(EL) 및 캐소드 전극(CD)이 형성될 수 있다. The flexible substrate 110 may be, for example, a polyimide resin-based material, but is not limited thereto. A buffer layer 111 may be formed on the flexible substrate 110 and an active layer 101 may be formed. The buffer layer 111 may have a structure in which a plurality of inorganic insulating layers such as SiNx or SiOx are stacked, but is not limited thereto. The active layer 101 may be formed of low temperature polysilicon (LTPS), and a gate insulating layer 120 may be disposed on the active layer 101 . A gate layer GE may be formed on the gate insulating layer 120 , and the gate layer GE may be formed of molybdenum (Mo). An interlayer insulating layer 130 may be formed on the gate layer GE, and a hole is formed in the gate insulating layer 120 and the interlayer insulating layer 130 to activate the source electrode SE and the drain electrode DE of the TFT. It can be connected to the layer 101 . A first planarization layer 150 and a second planarization layer 160 may be disposed on the source electrode SE and the drain electrode DE. The planarization film may be formed of an organic film. An anode electrode AD, an organic light emitting material layer EL for light emission, and a cathode electrode CD may be formed on the second planarization layer 160 .

캐소드 전극(CD)의 위에는 유기 발광층(EL)을 외부의 수분이나 이물로부터 보호하기 위해 봉지층이 형성될 수 있다. 봉지층(170)은 무기막/유기막/무기막의 3층 구조일 수 있으며, 무기막은 Si 계열의 SiNx, SiOx, 또는 SiON일 수 있다. 봉지층(170)의 구조가 이에 한정되는 것은 아니다.An encapsulation layer may be formed on the cathode electrode CD to protect the organic light emitting layer EL from external moisture or foreign matter. The encapsulation layer 170 may have a three-layer structure of an inorganic layer/organic layer/inorganic layer, and the inorganic layer may be Si-based SiNx, SiOx, or SiON. The structure of the encapsulation layer 170 is not limited thereto.

봉지층(170)에 적용되는 유기막은 파티클 커버층(PCL: Particle Capping Layer)일 수 있으며, 용어에 한정되는 것은 아니다. 파티클 커버층은 폴리머(Polymer)인 에폭시수지(Epoxy Resin) 등의 물질로 형성될 수 있다. 무기막의 경우 단일층이 아닌 SiNx/ SiON과 같이 복수의 층으로 구성된 무기물이 사용될 수 있다. The organic layer applied to the encapsulation layer 170 may be a particle capping layer (PCL), but is not limited thereto. The particle cover layer may be formed of a material such as an epoxy resin that is a polymer. In the case of the inorganic film, an inorganic material composed of a plurality of layers such as SiNx/SiON rather than a single layer may be used.

앞서 기재한 버퍼층(111)에서 봉지층(170)까지를 액티브 층(101)이라고 할 수 있다. The above-described buffer layer 111 to the encapsulation layer 170 may be referred to as the active layer 101 .

액티브 층(101)을 둘러싸고 있는 영역인 인액티브 영역(IA)에 벤딩 영역(103)을 배치하고 벤딩 영역(103)에 해당하는 기판(110)의 상부에는 벤딩 영역(103) 상에 위치하는 각종 배선들의 절단 및 파손을 방지하기 위해 마이크로 코팅층(Micro Coating Layer, MCL, 360)이 배치될 수 있다.The bending region 103 is disposed in the inactive region IA that is the region surrounding the active layer 101 , and various types of bending regions 103 are disposed on the upper portion of the substrate 110 corresponding to the bending region 103 . A micro coating layer (MCL, 360) may be disposed to prevent cutting and breakage of the wires.

마이크로 코팅층(360)은 벤딩 영역(103) 상에 형성된 데이터(Data) 배선(127), 고전위 전압 배선(121) 및 저전위 전압 배선(122) 등의 각종 배선 상에 배치되어 벤딩 시 배선들의 위치를 중립선(Neutral Line)에 가까워지도록 조정할 수 있다. 이로 인해, 중립선 상부에 형성되는 인장 응력과 중립선 하부에 형성되는 수축 응력이 배선들에 최대한 작게 인가되도록 하여 배선의 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 마이크로 코팅층(360)은 제조 공정 중에 플렉서블 기판(110) 상에 배치된 각종 배선들을 외부의 충격이나 수분 또는 먼지로부터 보호할 수 있는 물리적, 및 화학적인 보호 기능도 포함할 수 있다.The micro-coating layer 360 is disposed on various wirings such as the data wiring 127, the high-potential voltage wiring 121, and the low-potential voltage wiring 122 formed on the bending region 103, so that when bending, The position can be adjusted to be closer to the Neutral Line. As a result, the tensile stress formed above the neutral line and the shrinkage stress formed below the neutral line are applied to the wirings as small as possible, thereby improving the durability of the wiring. In addition, the micro-coating layer 360 may also include a physical and chemical protection function capable of protecting various wires disposed on the flexible substrate 110 from external impact, moisture, or dust during the manufacturing process.

도 3은 도 1의 노치(151)가 배치된 영역을 확대한 도면으로, 벤딩 공정을 하기 전에 벤딩 영역(BA)과 인액티브 영역(IA)의 컴포넌트들을 도시한 것이다.FIG. 3 is an enlarged view of an area in which the notch 151 of FIG. 1 is disposed, and shows components of the bending area BA and the inactive area IA before a bending process is performed.

노치(151)는 인액티브 영역(IA)에서 벤딩 시 기판(110) 배면으로 접히는 벤딩 영역(BA)에 대응되는 위치의 플렉서블 기판(110) 모서리를 내측으로 절단하여 생성할 수 있다. 도 3과 같은 기판 절단 라인을 레이저를 이용한 기판 절단 방법으로 형성할 수 있다. 슬림 베젤 혹은 네로우 베젤을 위해서는 벤딩 공정을 진행할 시 벤딩되는 기판(110)의 면적이 작으면 작을수록 벤딩 시 기판(110)이 받게 되는 응력이 작아지므로 공정성이 더 향상될 수 있다. 또한, 절단 공정 시 발생할 수 있는 크랙(Crack)의 전파를 막기 위해 노치(151)를 포함한 절단 면을 따라 기판(110) 내측에 크랙방지구조(126)를 형성할 수 있다. 기판(110)의 절단면은 도 3에 도시된 바와 같이, 모서리를 둥글게(Round) 형성하여 공정성과 내구성이 향상될 수 있다.The notch 151 may be generated by cutting the edge of the flexible substrate 110 at a position corresponding to the bending area BA folded toward the rear surface of the substrate 110 when bending in the inactive area IA. The substrate cutting line as shown in FIG. 3 may be formed by a substrate cutting method using a laser. For a slim bezel or a narrow bezel, the smaller the area of the substrate 110 bent during the bending process is, the smaller the stress applied to the substrate 110 during bending, so fairness can be further improved. In addition, in order to prevent the propagation of cracks that may occur during the cutting process, a crack preventing structure 126 may be formed inside the substrate 110 along the cut surface including the notch 151 . As shown in FIG. 3 , the cut surface of the substrate 110 may have rounded corners to improve fairness and durability.

액티브 영역(AA)의 측면에 GIP(123)와 ESD(124) 등이 배치될 수 있고 접지를 위한 저전위 전압 배선(122)이 외곽을 따라 배치될 수 있다. 패드(135)에서 들어오는 외부 전원이 고전위 전압 배선(121)과 데이터 배선(127) 및 게이트 전원선(125) 등을 통해 벤딩 영역(BA)을 지나 액티브 영역(AA)에 가까운 인액티브 영역(IA)으로 들어올 수 있다. 또한, 드라이버 IC(IC)에서 데이터 배선(127)이 연장되어 벤딩 영역(BA)을 지나 액티브 영역(AA)으로 들어갈 수 있다. 다양한 배선들이 벤딩 영역(BA)을 지나가도록 구성함으로써, 벤딩 공정을 진행 시에 대부분의 배선들이 인장 응력 및 수축 응력에 노출될 수 있다. 벤딩 영역(BA)을 통과하는 배선들이 견딜 수 있는 설계치보다 작은 곡률반경(R : Radius curvature)으로 밴딩 영역(BA)이 벤딩될 경우, 배선의 설계치보다 작은 곡률반경에 해당되는 부분에 응력이 집중되어 배선의 파손이 발생할 수 있다. 이로 인해 디스플레이 패널(100)이 제대로 동작하지 않는 불량이 발생될 수 있다. The GIP 123 and the ESD 124 may be disposed on a side surface of the active area AA, and a low potential voltage line 122 for grounding may be disposed along the periphery. External power input from the pad 135 passes through the bending area BA through the high potential voltage line 121 , the data line 127 , and the gate power line 125 to the inactive area close to the active area AA ( ). IA) can be entered. Also, the data line 127 may extend from the driver IC (IC) to pass through the bending area BA and enter the active area AA. By configuring the various wirings to pass through the bending area BA, most of the wirings may be exposed to tensile stress and contractile stress during the bending process. When the bending area (BA) is bent with a radius of curvature (R: Radius curvature) smaller than the design value that the wires passing through the bending area (BA) can withstand, the stress is concentrated on the part corresponding to the radius of curvature smaller than the design value of the wiring This may cause damage to the wiring. Due to this, a defect in which the display panel 100 does not operate properly may occur.

도 4는 디스플레이 패널(100)의 벤딩이 완료되었을 때의 적층구조를 도시하는 단면도이다. 예시의 편의를 위해, 도 4에서 플렉서블 기판(110) 상에 형성된 TFT 어레이 및 발광소자는 액티브 층(101)으로 도시한다. 봉지층(170)은 액티브 층(101)의 상면과 벤딩 영역(BA)측 측면을 덮는 무기막/유기막/무기막의 3중층일 수 있다. 봉지층의 구성이 이에 한정되는 것은 아니다.4 is a cross-sectional view illustrating a stacked structure when bending of the display panel 100 is completed. For convenience of illustration, the TFT array and the light emitting device formed on the flexible substrate 110 in FIG. 4 are illustrated as the active layer 101 . The encapsulation layer 170 may be a triple layer of an inorganic layer/organic layer/inorganic layer covering the upper surface of the active layer 101 and the side surface of the bending area BA. The configuration of the encapsulation layer is not limited thereto.

액티브 층(101)의 상부에는 터치를 인식할 수 있는 터치 전극층(181)과 제1 점착층이 배치될 수 있다. 터치 전극층(181)은 예를 들면, 터치 압력을 감지할 수 있는 정전 터치방식이나 포스(Force) 터치방식, 또는 펜을 이용해 터치하는 펜 터치방식의 예일 수 있으며, 이 방식에 한정되는 것은 아니다.A touch electrode layer 181 capable of recognizing a touch and a first adhesive layer may be disposed on the active layer 101 . The touch electrode layer 181 may be, for example, an electrostatic touch method capable of sensing a touch pressure, a force touch method, or a pen touch method in which a touch is performed using a pen, but is not limited thereto.

본 명세서의 실시예에 따른 터치 전극층(181) 상에는 편광층(182)이 배치될 수 있다. 편광층(182)은 외부 광원으로부터 발생한 빛이 디스플레이 패널(100) 내부로 들어가 액티브 층(101)에 미칠 수 있는 영향을 최소화할 수 있다. 본 명세서의 실시예가 도 4의 구조에 한정되지 않는다. 예를 들면, 터치 감도에 민감한 경우 터치 전극층(181)과 편광층(182)의 순서를 바꾸어 배치할 수 있다.A polarization layer 182 may be disposed on the touch electrode layer 181 according to the embodiment of the present specification. The polarization layer 182 may minimize the effect that light generated from an external light source may have on the active layer 101 by entering the inside of the display panel 100 . The embodiment of the present specification is not limited to the structure of FIG. 4 . For example, when the touch sensitivity is sensitive, the order of the touch electrode layer 181 and the polarization layer 182 may be reversed.

본 명세서의 실시예에 따르면, 편광층(182) 상에는 제2 점착층(183)이 배치될 수 있다. 커버윈도우(Cover Window, 190)는 디스플레이 패널(100)의 바깥쪽에 부착되어 외부 환경으로부터 디스플레이 패널(100)을 보호할 수 있다. 커버윈도우(190)는 커버글라스, 커버부재 등일 수 있으며, 용어에 한정되는 것은 아니다.According to the embodiment of the present specification, the second adhesive layer 183 may be disposed on the polarization layer 182 . The cover window 190 may be attached to the outside of the display panel 100 to protect the display panel 100 from an external environment. The cover window 190 may be a cover glass, a cover member, etc., but is not limited to terms.

플렉서블 기판(110)의 하부에는 지지층(116)이 배치될 수 있고 지지층(116) 하부에는 제2 터치 전극층이 배치될 수 있다. 지지층(116)은, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 이루어질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 터치 전극층은 터치 압력을 감지하는 포스 터치용 또는 펜으로 터치하는 것을 인식하기 위한 전자기 감지 방식 터치용 제2 센서층이 플렉서블 기판(110)의 하부에 배치될 수 있다. A support layer 116 may be disposed under the flexible substrate 110 , and a second touch electrode layer may be disposed under the support layer 116 . The support layer 116 may be made of, for example, polyethylene terephthalate (PET), but is not limited thereto. The second touch electrode layer may be a second sensor layer for a force touch sensing touch pressure or an electromagnetic sensing type touch sensing layer for recognizing touch with a pen under the flexible substrate 110 .

지지층(116)의 하부 또는 제2 터치 전극층의 하부에 층이 추가로 배치될 수 있다. 예를 들면, 추가된 층은 메탈(Metal)층일 수 있다. 디스플레이 패널(100)이 부착되는 모듈의 배터리나 반도체 칩(Chip)들에서 노이즈(Noise)가 발생될 수 있고, 노이즈들로 인해 디스플레이 패널(100)에 전자기 간섭(EMI, Electro Magnetic Interference)이 발생할 수 있다. 전자기 간섭은 액티브 층(101)의 박막 트랜지스터나 유기 발광 층을 포함하는 유기 발광 소자에 오작동이나 디스플레이 패널의 표시화면의 이상을 발생시킬 수 있다. 이를 방지하기 위해서, 예를 들면, 메탈층을 배치함으로써, 전자기 간섭(EMI)을 차단할 수 있다. 또는, 메탈층은 디스플레이 패널(100)에서 발생하는 열을 분산시켜주는 방열효과 및 플렉서블 기판(110)을 더 단단히 지지할 수 있는 강성효과를 가질 수 있다.A layer may be additionally disposed under the support layer 116 or under the second touch electrode layer. For example, the added layer may be a metal layer. Noise may be generated in the battery or semiconductor chips of the module to which the display panel 100 is attached, and electromagnetic interference (EMI) may occur in the display panel 100 due to the noise. can The electromagnetic interference may cause a malfunction in the thin film transistor of the active layer 101 or the organic light emitting device including the organic light emitting layer or abnormality of the display screen of the display panel. To prevent this, for example, by disposing a metal layer, electromagnetic interference (EMI) may be blocked. Alternatively, the metal layer may have a heat dissipation effect of dissipating heat generated from the display panel 100 and a rigid effect capable of more firmly supporting the flexible substrate 110 .

벤딩된 플렉서블 기판(110)의 사이에는 접착층(118)이 배치될 수 있다. 접착층(118)은 벤딩된 형태를 유지할 수 있도록 지지층(116)의 아래측에 배치될 수 있다. 예를 들면, 접착층(118)은 양면 접착층일 수 있다. 예를 들면, 양면 접착층은 폼테이프(foam tape), 압력 감지 접착제, 폼형 (foam-type) 접착제, 액체 접착제, 광 경화 접착제 또는 다른 접착성분을 포함할 수 있다. 접착층(118)은 압축 재료로 형성되거나 압축 재료를 포함할 수 있고, 압축 재료는 접착층(118)에 결합된 부분들에 대한 쿠션일 수 있다. 예를 들어, 접착층(118)의 구성 재료는 압축성을 갖는 재료일 수 있다. 접착층(118)은 접착 재료의 상부층과 하부층 사이에 개재된 쿠션층, 예를 들어, 폴리올레핀 폼을 포함하는 복수의 층들로 구성될 수도 있다. 접착층(118)은 지지층(116)의 연장된 바디부의 상부 표면과 하부 표면 중 적어도 하나의 위에 배치될 수 있다.An adhesive layer 118 may be disposed between the bent flexible substrate 110 . The adhesive layer 118 may be disposed below the support layer 116 to maintain a bent shape. For example, the adhesive layer 118 may be a double-sided adhesive layer. For example, the double-sided adhesive layer may include a foam tape, a pressure sensitive adhesive, a foam-type adhesive, a liquid adhesive, a light curing adhesive, or other adhesive component. The adhesive layer 118 may be formed of or include a compressive material, which may be a cushion for portions bonded to the adhesive layer 118 . For example, the constituent material of the adhesive layer 118 may be a material having compressibility. The adhesive layer 118 may include a cushion layer interposed between an upper layer and a lower layer of an adhesive material, for example, a plurality of layers including polyolefin foam. The adhesive layer 118 may be disposed on at least one of an upper surface and a lower surface of the extended body portion of the support layer 116 .

FPCB는 플렉서블 기판(110)의 상면에 형성되지만 벤딩되어 드라이버 IC(IC)와 패드(135) 및 패드(135)에 전기적으로 연결되고, 액티브 영역(AA)의 반대측에 배치될 수 있다.The FPCB is formed on the upper surface of the flexible substrate 110 , but is bent to be electrically connected to the driver IC, the pad 135 and the pad 135 , and may be disposed on the opposite side of the active area AA.

플렉서블 기판(110) 상의 배선 등을 보호하기 위해 마이크로 코팅층(360)이 배치될 수 있다. 예를 들면, 마이크로 코팅층(360)은 배선의 보호를 위해 드라이버 IC(IC)의 인근에서부터 시작하여 액티브 층(101)의 상면을 포함한 터치 전극층(181)의 하면에 접하도록 벤딩 영역(BA)의 전체에 구성될 수 있다. 마이크로 코팅층(360)의 일부가 도포 종료 시점에서 과도포되거나 터치 전극층(181)과 마이크로 코팅층(360) 간의 표면장력에 의해 터치 전극층(181)의 측면에 접촉하거나 인접하도록 배치될 수 있다. 마이크로 코팅층(360)은 드라이버 IC(IC)의 인접 영역에서 벤딩 영역(BA)을 거쳐 액티브 층(101)에 이르는 영역 전체에 구성될 수 있으며, 도 1에서 설명한 바와 같이 인액티브 영역(IA)과 벤딩 영역(BA)에 걸쳐 형성된 노치(151) 라인을 따라 배치될 수 있다.A micro-coating layer 360 may be disposed to protect wiring on the flexible substrate 110 . For example, the micro-coating layer 360 is formed in the bending area BA so as to be in contact with the lower surface of the touch electrode layer 181 including the upper surface of the active layer 101 starting from the vicinity of the driver IC (IC) to protect the wiring. It can be configured as a whole. A portion of the micro-coating layer 360 may be over-applied at the end of application or may be disposed to contact or be adjacent to the side surface of the touch electrode layer 181 due to surface tension between the touch electrode layer 181 and the micro-coating layer 360 . The micro-coating layer 360 may be formed in the entire region from the adjacent region of the driver IC (IC) through the bending region BA to the active layer 101, and as described in FIG. 1 , the inactive region IA and It may be disposed along a line of the notch 151 formed across the bending area BA.

도 5는 도 4의 벤딩 시작 부분의 평면도를 나타낸다. FIG. 5 is a plan view of the bending start portion of FIG. 4 .

도 5는 벤딩 시작 부분은 액티브 영역(AA)에서 연장된 고전위 전압(VDD) 배선, 저전위 전압(VSS) 배선, 데이터 신호라인 같은 각종 배선들이 인액티브 영역(IA)과 벤딩 영역(BA)의 중간부분에서 제1 방향을 기준으로 배치되는 평면을 도시한 것이다. 5 shows that at the beginning of bending, various wires such as a high potential voltage (VDD) wire, a low potential voltage (VSS) wire, and a data signal line extending from the active area AA are formed in the inactive area IA and the bending area BA. Shows a plane disposed in the first direction in the middle portion of the.

도 5의 좌측은 플렉서블 기판(110)을 절단한 절단면(Trimming line)중 노치(151)가 있을 수 있다. 노치(151) 형성을 위한 레이저 절단공정 중 발생할 수 있는 크랙이 배선 형성 구간까지 전달되지 못하도록 크랙방지구조(126)가 배치될 수 있다. 플렉서블 기판(110)은 폴리이미드(Polyimide)와 같은 연성의 물질로 형성할 수 있다. 폴리이미드 물질은 경화 전에는 액체와 같은 유연성을 가지지만 경화시키면 표면의 경성이 증가하면서 내열성도 비교적 우수하다. 따라서, 표면 상부에 절연막과 배선 등을 성막할 수 있는 기능을 가지면서, 플렉서블하게 변형이 가능하므로 플렉서블 디바이스에 사용될 수 있다. 그러나, 모기판에서 개별 디바이스로 절단을 하기 위해 레이저 절단 공정을 할 때, 절단면에서 크랙이 발생하거나 거칠어진 측면 표면으로 수분이 쉽게 침투하는 단점이 있을 수 있다. 이를 위해 레이저 절단면 인근에 다수의 무기막 혹은 유기막으로 크랙 또는 이물이나 수분의 침투를 고려한 완충구조를 형성하여 플렉서블 기판(110)의 안쪽에 배치된 소자들을 보호할 수 있다. 완충구조를 크랙방지구조(126)라고 할 수 있으며, 용어에 한정되는 것은 아니다. 크랙방지구조(126)는 벤딩 영역(BA)에 배치하므로, 액티브 영역(AA)에 있는 소자들과 같이, 벤딩 영역(BA)의 각종 배선들도 크랙이나 수분의 침투로부터 보호할 필요가 있다.On the left side of FIG. 5 , there may be a notch 151 in a trimming line through which the flexible substrate 110 is cut. A crack prevention structure 126 may be disposed to prevent cracks that may occur during the laser cutting process for forming the notch 151 from being transmitted to the wiring forming section. The flexible substrate 110 may be formed of a flexible material such as polyimide. The polyimide material has liquid-like flexibility before curing, but when cured, the surface hardness increases and heat resistance is relatively excellent. Accordingly, while having a function of forming an insulating film and wiring on the upper surface of the film, it can be flexibly deformed, so that it can be used in a flexible device. However, when the laser cutting process is performed to cut from the mother substrate to an individual device, there may be disadvantages in that cracks are generated at the cut surface or moisture easily penetrates into the roughened side surface. To this end, it is possible to protect the elements disposed inside the flexible substrate 110 by forming a buffer structure in consideration of cracks or penetration of foreign substances or moisture with a plurality of inorganic or organic films near the laser cutting surface. The cushioning structure may be referred to as a crack preventing structure 126, and the term is not limited thereto. Since the crack preventing structure 126 is disposed in the bending area BA, like elements in the active area AA, it is necessary to protect various wirings in the bending area BA from cracks or penetration of moisture.

액티브 영역(AA)에서 연장된 배선들 중에 벤딩 영역(BA)으로 더 연장된 배선을 벤딩 배선(300)으로 구성할 수 있다. 벤딩 배선(300)은 인액티브 영역(IA)에서 벤딩 영역(BA)을 거쳐 드라이브 IC(IC)나 패드(135)까지 연장될 수 있고, 벤딩 배선(300)이 연장되는 방향으로 벤딩이 진행된다. 따라서, 벤딩 배선(300)이 연장되는 방향에 평행하게 인장 응력이 인가될 수 있다. 이러한 인장 응력에 견딜 수 있는 벤딩 배선(300)은 선폭과 배선의 높이 등의 배치를 고려하여 배치할 수 있다. 벤딩 배선(300)의 선폭은 크랙을 발생시키지 않는 선폭을 가지면서, 벤딩 배선(300)의 역할인 전기적 신호 전달이 용이해야 하므로 저항이 낮아야 된다. 따라서, 저항 측면에서는 벤딩 배선(300)의 선폭이 클수록 좋지만, 크랙 발생 측면에서는 선폭이 작을수록 보다 원활한 벤딩과 응력에 견딜 수 있다. Among the wirings extending from the active area AA, a wiring extending further to the bending area BA may be configured as the bending wiring 300 . The bending wiring 300 may extend from the inactive area IA through the bending area BA to the drive IC (IC) or the pad 135 , and bending is performed in the direction in which the bending wiring 300 extends. . Accordingly, tensile stress may be applied parallel to the direction in which the bending wiring 300 extends. The bending wiring 300 capable of withstanding such tensile stress may be arranged in consideration of the arrangement of the line width and the height of the wiring. The line width of the bending wiring 300 has a line width that does not generate cracks, and the resistance of the bending wiring 300 must be low because electrical signal transmission, which is the role of the bending wiring 300 , must be easy. Accordingly, in terms of resistance, the larger the line width of the bending wiring 300 is, the better, but in terms of crack generation, the smaller the line width, the more smoothly bending and stress can be tolerated.

벤딩 배선(300)을 구성할 시 배선 두께를 고려할 수 있다. 선폭과 마찬가지로 두께 역시, 저항 측면에서는 벤딩 배선(300)의 두께가 두꺼우면 낮은 저항을 달성할 수 있지만, 크랙 발생 가능성이 증가할 수 있다. 두께가 얇으면 보다 원활한 벤딩과 응력에 견딜 수 있지만 전기적 저항이 증가하여 배선의 성능이 저하될 수 있다. 따라서, 벤딩 영역(BA)에 배치되는 배선은 선폭과 두께 등의 고려사항 내에서 벤딩 영역(BA)에 인가되는 인장 응력을 극복할 수 있도록 적용해야 된다. When configuring the bending wiring 300 , the thickness of the wiring may be considered. Similarly to the line width, in terms of resistance, if the thickness of the bending wiring 300 is thick, low resistance may be achieved, but the possibility of cracking may increase. If the thickness is thin, it can withstand more smooth bending and stress, but the electrical resistance increases and the performance of the wiring may deteriorate. Accordingly, the wiring disposed in the bending area BA must be applied to overcome the tensile stress applied to the bending area BA within considerations such as line width and thickness.

도 5를 참조하면, 벤딩 배선(300)의 상부에 벤딩 배선(300)의 연장방향에 평행하게 홈부(410)를 배치할 수 있다. 홈부(410)는 벤딩 배선(300)이 부분적으로 다른 두께를 가지도록 하므로, 배선 두께에 의한 크랙 발생 가능성을 낮출 수 있다. 홈부(410)는 벤딩 배선(300)의 중앙부에 배치되어 벤딩 배선(300)의 방향과 평행하게 연장될 수 있다. 벤딩 배선(300)의 상부에 배치된 홈부(410)는 벤딩 배선(300)의 형태에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 벤딩 배선(300)의 형태가 도 5와 같이 라인 형태이면 홈부(410)도 라인 형태로 배치될 수 있다. 벤딩 배선(300)의 형태가 원형이나 지그재그 형상일 경우 홈부(410)의 형상도 원형이나 지그재그 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 5 , a groove portion 410 may be disposed on the bending wire 300 in parallel to the extending direction of the bending wire 300 . Since the groove portion 410 allows the bending wiring 300 to have a partially different thickness, the possibility of occurrence of cracks due to the thickness of the wiring may be reduced. The groove portion 410 may be disposed in the central portion of the bending wire 300 and extend parallel to the direction of the bending wire 300 . The groove portion 410 disposed on the bending wire 300 may vary depending on the shape of the bending wire 300 . For example, if the shape of the bending wiring 300 is a line shape as shown in FIG. 5 , the groove portion 410 may also be disposed in a line shape. When the bending wiring 300 has a circular or zigzag shape, the shape of the groove 410 may also have a circular or zigzag shape.

도 6a 내지 도 6c는 도 5의 III-III' 선을 따라 자른 본 명세서의 실시예예 따른 단면을 도시한 도면이다. 6A to 6C are views illustrating a cross-section according to an embodiment of the present specification taken along line III-III′ of FIG. 5 .

도 6a를 참조하면, 벤딩 배선(300)의 단면을 도시한 것이다. 예를들면, 플렉서블 기판(110)이 상부에 벤딩 배선(300)이 배치되어 있고, 하나의 벤딩 배선(300)이 두 개의 사다리꼴 돌출부(310)를 가질 수 있다. 두 개의 사다리꼴 돌출부(310)를 형성하기 위해 벤딩 배선(300)의 중앙부에 홈부(410)를 형성할 수 있다. 홈부(410)는 벤딩 배선(300)의 기저면 또는 하면까지 모두 제거하지는 않고 일부 배선을 남겨서 두 개의 사다리꼴 돌출부(310)가 연결될 수 있도록 할 수 있다. 홈부(410)가 플렉서블 기판(110)을 노출시키도록 형성될 때, 예를 들면, 벤딩 배선(300)의 식각이 기저면또는 하면까지 진행되어 홈부(410)의 양측에 형성된 돌출부(310)가 완전히 분리되면 배선의 전기 저항이 증가할 수 있다. 따라서, 홈부(410)는 벤딩 배선(300)의 기저면 또는 하면에서 일정한 거리를 두고 배치될 수 있다. 홈부(410)를 형성함으로 인해, 벤딩 배선(300)의 전체적인 두께를 두껍게 하면서도 벤딩 시에 인가되는 인장 응력에 보다 잘 견딜 수 있다. 예를 들면, 홈부(410)에 의해 벤딩 시 발생하는 응력이 벤딩 배선(300)의 넓은 표면으로 분배될 수 있다. 벤딩 배선(300)의 표면적 증가로 인하여 단위 면적당 인가되는 인장 응력은 저하될 수 있다. Referring to FIG. 6A , a cross-section of the bending wiring 300 is shown. For example, the flexible substrate 110 may have a bending wire 300 disposed thereon, and one bending wire 300 may have two trapezoidal protrusions 310 . In order to form the two trapezoidal protrusions 310 , a groove 410 may be formed in the center of the bending wiring 300 . The groove portion 410 may not remove all of the bottom surface or the lower surface of the bending wiring 300 , but may leave some wiring so that the two trapezoidal protrusions 310 can be connected. When the groove portion 410 is formed to expose the flexible substrate 110 , for example, the etching of the bending wiring 300 proceeds to the base surface or the lower surface so that the protrusions 310 formed on both sides of the groove portion 410 are completely removed. Separation can increase the electrical resistance of the wiring. Accordingly, the groove portion 410 may be disposed at a predetermined distance from the base surface or the lower surface of the bending wiring 300 . By forming the groove portion 410 , the overall thickness of the bending wiring 300 may be increased, and tensile stress applied during bending may be better tolerated. For example, stress generated during bending by the groove portion 410 may be distributed to a wide surface of the bending wiring 300 . Tensile stress applied per unit area may be reduced due to an increase in the surface area of the bending wiring 300 .

홈부(410)는 벤딩 배선(300)을 형성하는 포토공정(Photolithography)에서 하프톤(Halftone) 방법을 사용할 수 있다. 돌출부(310)의 형태를 사다리꼴로 예를 들었지만, 이에 한정되는 것은 아니다. The groove portion 410 may use a halftone method in a photolithography for forming the bending wiring 300 . Although the shape of the protrusion 310 is exemplified as a trapezoid, it is not limited thereto.

예를 들면, 도 6b 내지 도6c를 참조하면, 돌출부(310)는 반원형태의 돔 형상이나 삼각뿔 형상으로 구현할 수 있다.. 도 6a에서 설명한 돌출부(310)와 동일하게 반원형태의 돔 형상이나 삼각뿔 형태의 돌출부(310)는 벤딩 배선(300)의 패턴을 만들기 위한 포토공정 시 하프톤 방법과 포토공정에 사용되는 포토 레지스트(PR : Photo resist)를 제거하는 식각(Etch)공정에서 식각율(Etch rate)을 조절하여 형성할 수 있다. 사다리꼴 형태의 돌출부(310)는 가홈부(410)에 한해 하프톤 방식으로 벤딩 배선(300)을 패터닝할 수 있다. For example, referring to FIGS. 6B to 6C , the protrusion 310 may be implemented in a semicircular dome shape or a triangular pyramid shape. Similar to the protrusion 310 described in FIG. 6A , a semicircular dome shape or a triangular pyramid The protrusion 310 in the shape of a halftone method during a photo process for making a pattern of the bending wiring 300 and an etch rate (Etch) process for removing a photo resist (PR: Photo resist) used in the photo process rate) can be adjusted. The trapezoidal protrusion 310 may pattern the bending wiring 300 in a halftone method only for the temporary groove 410 .

반원형태의 돔 구조나 삼각뿔 형태의 돌출부(310)는 벤딩 배선(300)의 중앙부 및 좌 우측 끝단에 하프톤을 적용하여 완만한 곡선 또는 삼각변 형태로 구성할 수 있다. 사다리꼴 돌출부(310)는 벤딩 영역(BA)에 일정한 벤딩 배선(300)을 미세하게 형성할 수 있으므로 공정상 유리할 수 있다. 이때 벤딩 배선(300)의 상면이 일정한 폭을 가지고 있으므로 벤딩 배선(300)의 단면적이 넓어 저항이 낮을 수 있다. 그러나, 벤딩 배선(300)의 상면 두점에서 경사가 형성되므로 각진 변곡점에서 인장응력이 집중될 수 있다. 변곡점을 제거하기 위해서 반원형 돔구조의 돌출부(310)를 구성할 수 있다. The semicircular dome structure or the triangular pyramid-shaped protrusion 310 may be configured in the form of a gentle curve or a triangular side by applying halftones to the center and left and right ends of the bending wiring 300 . Since the trapezoidal protrusion 310 can form a predetermined bending wiring 300 finely in the bending area BA, it may be advantageous in process. In this case, since the upper surface of the bending wire 300 has a constant width, the cross-sectional area of the bending wire 300 may be wide and resistance may be low. However, since an inclination is formed at two points on the upper surface of the bending wiring 300 , tensile stress may be concentrated at the angled inflection point. In order to remove the inflection point, the protrusion 310 having a semicircular dome structure may be configured.

도 6b의 반원형 돔구조의 돌출부(310)는 변곡점이 없도록 구성할 수 있으므로, 인장응력이 특정 지점에 집중되는 현상을 줄이거나 최소화할 수 있다. 그러나, 반원형 돔구조의 돌출부(310)는 하프톤과 식각율을 동시에 조절하여 구성할 수 있다. 사다리꼴 돌출부가 벤딩 배선(300)의 단면적이 넓어 크랙 발생이 증가한다면, 크랙 발생을 줄이기 위해서 삼각뿔 돌출부(310)로 벤딩 배선(300)을 형성할 수 있다. Since the protrusion 310 of the semicircular dome structure of FIG. 6B may be configured to have no inflection point, it is possible to reduce or minimize a phenomenon in which the tensile stress is concentrated at a specific point. However, the protrusion 310 of the semicircular dome structure may be configured by simultaneously adjusting the halftone and the etch rate. If the trapezoidal protrusion has a large cross-sectional area of the bending wire 300 and cracks are increased, the bending wire 300 may be formed with the triangular pyramidal protrusion 310 to reduce cracking.

도 6c의 삼각뿔 돌출부(310)는 포토공정 시 식각되는 면적을 보다 넓게 형성하여, 벤딩 배선(300)의 상면이 하나의 점으로 형성되도록 구성할 수 있다. 삼각뿔 돌출부(310)는 벤딩 배선(310)의 단면적이 상대적으로 줄어들어 배선이 전기적 저항이 증가할 수 있으나, 단면적이 줄어들므로, 벤딩 시 가해지는 인장응력에 보다 효과적으로 대응할 수 있다. The triangular pyramidal protrusion 310 of FIG. 6C may be configured to form a wider area to be etched during the photo process, so that the upper surface of the bending wiring 300 is formed as a single point. In the triangular pyramidal protrusion 310 , the cross-sectional area of the bending wire 310 is relatively reduced, so that the electrical resistance of the wire may increase. However, since the cross-sectional area is reduced, it is possible to more effectively respond to tensile stress applied during bending.

벤딩 배선(300)의 상부에는 제1 평탄화층(150)을 배치할 수 있다. A first planarization layer 150 may be disposed on the bending wiring 300 .

배선의 선폭을 고려하면, 벤딩 배선(300)은 약 6~10㎛ 수준의 선폭을 가질 때 벤딩 공정 상 유리할 수 있으나 이에 한정되지는 않고, 다양한 선폭을 가질 수 있다. 또한, 벤딩 배선(300)은 약 4000~6000Å 수준의 두께를 가질 때 벤딩 공정에 유리할 수 있다. 벤딩 배선(300)의 두께가 이에 한정되지는 않고, 다양한 두께를 가질 수 있다. 중앙 홈부(410)의 경우 벤딩 배선(300)의 기저면 또는 하면으로부터 약 500~1000Å 정도 높이까지 남도록 형성될 수 있다. 벤딩 배선(300)은 몰리브덴(Mo)이나 알루미늄(Al)으로 형성할 수 있으며, 이에 한정되지 않는다. 알루미늄을 벤딩 배선(300)으로 사용하게 된다면, 증착 후 대기중의 산소와 반응하여 알루미늄 산화물이 형성되므로 배선이 뜯기거나 산화될 수 있다. 이를 방지하기 위해 알루미늄 배선 상에 티타늄(Ti; Titanium)을 더 증착하여 알루미늄의 산화를 방지할 수 있다.Considering the line width of the wiring, when the bending wiring 300 has a line width of about 6 to 10 μm, it may be advantageous in the bending process, but is not limited thereto, and may have various line widths. Also, when the bending wiring 300 has a thickness of about 4000 to 6000 Å, it may be advantageous for a bending process. The thickness of the bending wiring 300 is not limited thereto, and may have various thicknesses. In the case of the central groove portion 410 , it may be formed so as to remain at a height of about 500 to 1000 Å from the base or lower surface of the bending wiring 300 . The bending wiring 300 may be formed of molybdenum (Mo) or aluminum (Al), but is not limited thereto. If aluminum is used as the bending wiring 300, since aluminum oxide is formed by reacting with oxygen in the atmosphere after deposition, the wiring may be torn or oxidized. To prevent this, oxidation of aluminum may be prevented by further depositing titanium (Ti; Titanium) on the aluminum wiring.

도 7은 도 5의 III-III' 선을 따라 자른 실시예의 단면을 도시한 도면이다. 7 is a view showing a cross-section of the embodiment taken along line III-III' of FIG. 5 .

도 7의 벤딩 배선(300)은 도 6a와 유사하게 사다리꼴 돌출부(310)를 가질 수 있다. 도 6a의 벤딩 배선(300)은 단층 구조의 금속을 사용하였으나 도 7은 복층 또는 이중의 금속을 사용하여 벤딩 크랙에 보다 강한 배선으로 구성할 수 있다. 도 7에서 복층 또는 이중의 금속을 사용한 벤딩 배선(300)의 예로 도 6a의 사다리꼴 돌출부(310)를 도시하였으나, 도 6b 내지 도6c 에 사용된 반원형 돔 돌출부(310)나 삼각형 뿔 형태 돌출부(310)도 적용할 수 있다. The bending wiring 300 of FIG. 7 may have a trapezoidal protrusion 310 similar to that of FIG. 6A . The bending wiring 300 of FIG. 6A uses a single-layered metal, but in FIG. 7, a multi-layered or double-layered metal may be used to form a wiring stronger against bending cracks. Although the trapezoidal protrusion 310 of FIG. 6A is illustrated as an example of the bending wiring 300 using a multilayer or double metal in FIG. 7 , the semi-circular dome protrusion 310 or the triangular cone shape protrusion 310 used in FIGS. 6B to 6C . ) can also be applied.

복층 구조를 가진 벤딩 배선(300)은 하부 벤딩 배선(320)과 돌출부(310)로 구성될 수 있다. 도7에서 돌출부는 상부 벤딩 배선이라고 할 수 있다. 도 7에서는 돌출부를 상부 벤딩 배선으로 설명한다. The bending wiring 300 having a multilayer structure may include a lower bending wiring 320 and a protrusion 310 . 7 , the protrusion may be referred to as an upper bending wiring. In FIG. 7 , the protrusion will be described as an upper bending wiring.

플렉서블 기판(110) 위에 하부 벤딩 배선(320)과 상부 벤딩 배선(310)을 형성하고, 포토공정으로 패터닝할 수 있다. 이때 상부 벤딩 배선(310)의 중앙에 홈부(410)를 형성하기 위해 하프톤 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상부 벤딩 배선(310)이 서로 이격되도록 식각하여, 하부 벤딩 배선(320)이 노출되도록 형성할 수 있다. 하부 벤딩 배선(320)이 노출되도록 식각하여 상부 벤딩 배선(310)이 서로 이격되면, 상부 벤딩 배선(310)의 단면적이 줄어들어 벤딩 영역(BA)이 벤딩될 때, 크랙 발생을 저감시킬 수 있다. 또한, 하부 벤딩 배선(320)을 크랙에 강한 금속을 사용하여 크랙에 대한 내구성을 더욱 증가시킬 수 있다. 예를 들면, 하부 벤딩 배선(320)은 티타늄(Ti; Titanium)일 수 있고, 상부 벤딩 배선(310)은 몰리브덴(Mo)이나 알루미늄(Al)일 수 있다. 알루미늄을 벤딩 배선(300)으로 구성할 경우, 증착 후 대기중의 산소와 반응하여 배선이 뜯기거나 산화될 수 있다. 이를 방지하기 위해 알루미늄 배선 상에 티타늄(Ti; Titanium)을 더 증착하여 알루미늄이 산화되는 것을 방지할 수 있다.A lower bending wiring 320 and an upper bending wiring 310 may be formed on the flexible substrate 110 and patterned by a photo process. In this case, a halftone method may be used to form the groove portion 410 in the center of the upper bending wiring 310 . For example, the upper bending wirings 310 may be etched to be spaced apart from each other to expose the lower bending wirings 320 . When the upper bending wirings 310 are spaced apart from each other by etching to expose the lower bending wirings 320 , the cross-sectional area of the upper bending wirings 310 is reduced, thereby reducing the occurrence of cracks when the bending area BA is bent. In addition, durability against cracks may be further increased by using a crack-resistant metal for the lower bending wiring 320 . For example, the lower bending wiring 320 may be made of titanium (Ti), and the upper bending wiring 310 may be formed of molybdenum (Mo) or aluminum (Al). When aluminum is configured as the bending wiring 300, the wiring may be torn or oxidized by reacting with oxygen in the atmosphere after deposition. To prevent this, it is possible to prevent oxidation of aluminum by further depositing titanium (Ti; titanium) on the aluminum wiring.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 전계방출 표시장치(Field Emission Display device: FED), 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Display Device: OLED), 양자점 표시장지(Quantum Dot Display Device)를 포함한다. A display device according to an embodiment of the present specification includes a liquid crystal display device (LCD), a field emission display device (FED), an organic light emitting display device (OLED), and a Quantum Dot Display Device.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, LCM, OLED 모듈 등을 포함하는 완제품(complete product 또는 final product)인 노트북 컴퓨터, 텔레비전, 컴퓨터 모니터, 자동차용 장치(automotive displayapparatus) 또는 차량(vehicle)의 다른 형태 등을 포함하는 전장장치(equipment displayapparatus), 스마트폰 또는 전자패드 등의 모바일 전자장치(mobile electronic deviceapparatus) 등과 같은 세트 전자 장치(set electronic deviceapparatus) 또는 세트 장치(set device 또는 set apparatus)도 포함할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present specification is a laptop computer, a television, a computer monitor, an automotive display apparatus, or another vehicle (vehicle), which is a complete product or final product including an LCM, an OLED module, and the like. A set electronic device or set apparatus such as an electronic device including a form and the like, a mobile electronic device such as a smartphone or an electronic pad, or the like may also be included. can

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는 아래와 같이 설명될 수 있다. A display device according to an embodiment of the present specification may be described as follows.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 액티브 영역과 인액티브 영역으로 구성되고, 인액티브 영역은 액티브 영역과 인접한 제1 영역, 패드가 배치된 제2 영역 및 제1 영역과 제2 영역 사이에 있는 벤딩 영역을 포함하는 기판, 제1 영역에서 제2 영역까지 연장되는 배선이 있고, 배선은 상기 벤딩 영역에서 돌출부와 홈부를 포함할 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment of the present specification includes an active area and an inactive area, and the inactive area includes a first area adjacent to the active area, a second area on which a pad is disposed, and between the first area and the second area. There is a substrate including a bending region, and a wiring extending from a first region to a second region, and the wiring may include a protrusion and a groove in the bending region.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부가 사다리꼴 형상을 가질 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the protrusion may have a trapezoidal shape.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부는 반원형 돔 형상을 가질 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the protrusion may have a semicircular dome shape.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부는 삼각형 형상을 가질 수 있다.In the display device according to the embodiment of the present specification, the protrusion may have a triangular shape.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 홈부는 배선의 중앙부에 배치될 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the groove portion may be disposed in a central portion of the wiring.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 홈부는 기판의 상면을 노출시키기지 않게 형성될 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the groove may be formed without exposing the upper surface of the substrate.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 배선은 돌출부의 하면에 배치되는하부 벤딩 배선을 더 포함할 수 있다.The display device according to the exemplary embodiment of the present specification may further include a lower bending wire disposed on a lower surface of the protrusion.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 하부 벤딩 배선과 라인형 돌출부는 다른 물질로 형성될 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the lower bending wiring and the line-shaped protrusion may be formed of different materials.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 홈부의 곡극를 채우며 배선위에 배치되는 제1 평탄화층을 더 포함할 수 있다.The display device according to the exemplary embodiment of the present specification may further include a first planarization layer that fills the curved electrode of the groove and is disposed on the wiring.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부 및 홈부는 라인형상을 포함할 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the protrusion and the groove may include a line shape.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 배선이 벤딩 영역의 단면구조에서 중립면에 오도록 상기 제1 평탄화층 상에 마이크로 코팅층을 더 포함할 수 있다.The display device according to the embodiment of the present specification may further include a micro-coating layer on the first planarization layer so that the wiring comes to a neutral plane in the cross-sectional structure of the bending region.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 표시영역과 비표시 영역을 포함하는 기판, 표시영역에 배치되는 발광 표시 소자와 상기 발광 표시 소자 위에 배치되고, 상기 비표시 영역의 적어도 일부분 위에 배치되는 봉지층, 봉지층의 상부에 배치되는 편광층과 커버 윈도우, 비표시 영역은 벤딩 영역을 포함하고, 벤딩 영역은 발광 표시 소자로 연장되는 벤딩 배선을 포함하며, 벤딩 배선은 벤딩 배선이 연장방향과 평행하게 배치되는 라인형 홈부를 포함하며, 라인형 홈부는 기판과 이격되어 배치될 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment of the present specification includes a substrate including a display area and a non-display area, a light emitting display device disposed in the display area, and an encapsulation disposed on the light emitting display device and disposed on at least a portion of the non-display area The polarizing layer disposed on the layer and the encapsulation layer, the cover window, and the non-display area include a bending area, the bending area includes a bending wire extending to the light emitting display device, and the bending wire has a bending wire parallel to the extending direction It includes a line-shaped groove that is disposed to be in the same manner, and the line-shaped groove may be disposed to be spaced apart from the substrate.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 벤딩 배선은 상기 라인형 홈부로 인해 형성되는 돌출부를 더 포함할 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the bending wiring may further include a protrusion formed by the line-shaped groove.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부는 사다리꼴 형태의 단면을 가진, 디스플레이 장치.In the display device according to the embodiment of the present specification, the protrusion has a trapezoidal cross-section.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 돌출부는 반원형 돔 형태의 단면을 가질 수 있다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present specification, the protrusion may have a semicircular dome-shaped cross-section.

본 명세서의 실시예에 따른 표시장치는, 벤딩 배선은 돌출부가 제1 전극층 역할을 하고 돌출부 하면에 배치된 제2 전극층을 더 포함할 수 있다.In the display device according to the embodiment of the present specification, the bending wiring may further include a second electrode layer in which the protrusion serves as the first electrode layer and is disposed on the lower surface of the protrusion.

상술한 본 출원의 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 출원의 적어도 하나의 예에 포함되며, 반드시 하나의 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 본 출원의 적어도 하나의 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 본 출원이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, etc. described in the above-described examples of the present application are included in at least one example of the present application, and are not necessarily limited to only one example. Furthermore, features, structures, effects, etc. illustrated in at least one example of the present application may be combined or modified with respect to other examples by those of ordinary skill in the art to which the present application belongs. Accordingly, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the present application.

이상에서 설명한 본 출원은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 출원의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 출원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 출원의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present application described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the technical field to which this application pertains that various substitutions, modifications, and changes are possible without departing from the technical matters of the present application. It will be clear to those who have the knowledge of Therefore, the scope of the present application is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present application.

100: 표시패널
AA: 액티브 영역 IA: 인액티브 영역
BA: 벤딩 영역
110: 기판 111: 멀티 버퍼층
120 : 게이트 절연층 130: 제1 층간 절연막
140: 제2 층간 절연막
150: 제1 평탄화막 160: 제2 평탄화막
170: 봉지층
121: 고전위 전압 배선(Vdd) 122: 저전위 전압 배선(Vss)
123: GIP 124: ESD
125: 게이트 전원선
126: 크랙방지구조(Crack Stopper Structure)
127: 데이터 배선
116: 지지층 118: 양면점착층
181: 제1 점착층과 터치필름 182: 편광필름
183: 제2 점착층
190 : 커버글라스
360: 마이크로 코팅층(MCL: Micro Coating layer)
134: 폼테이프(Foam Tape)
135: 패드
IC: 드라이버 IC
151: 절단면
300 : 벤딩 배선 310 : 돌출부, 상부 벤딩 배선
320 : 하부 벤딩 배선 410 : 홈부
100: display panel
AA: active area IA: inactive area
BA: bending area
110: substrate 111: multi-buffer layer
120: gate insulating layer 130: first interlayer insulating film
140: second interlayer insulating film
150: first planarization film 160: second planarization film
170: encapsulation layer
121: high potential voltage wiring (Vdd) 122: low potential voltage wiring (Vss)
123: GIP 124: ESD
125: gate power line
126: Crack Stopper Structure
127: data wiring
116: support layer 118: double-sided adhesive layer
181: first adhesive layer and touch film 182: polarizing film
183: second adhesive layer
190: cover glass
360: micro coating layer (MCL: Micro Coating layer)
134: foam tape (Foam Tape)
135: pad
IC: Driver IC
151: cut plane
300: bending wiring 310: protrusion, upper bending wiring
320: lower bending wiring 410: groove

Claims (16)

액티브 영역과 인액티브 영역으로 구성되고, 상기 인액티브 영역은 상기 액티브 영역과 인접한 제1 영역, 패드가 배치된 제2 영역 및 상기 제1 영역과 상기 제2 영역 사이에 있는 벤딩 영역을 포함하는 기판;
상기 제1 영역에서 상기 제2 영역까지 연장되는 배선; 및
상기 배선은 상기 벤딩 영역에서 돌출부와 홈부를 포함하는, 플렉서블 표시장치.
A substrate comprising an active region and an inactive region, wherein the inactive region includes a first region adjacent to the active region, a second region on which a pad is disposed, and a bending region between the first region and the second region ;
a wiring extending from the first area to the second area; and
The wiring includes a protrusion and a groove in the bending region.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부는 사다리꼴 형상을 가지는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The protrusion has a trapezoidal shape.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부는 반원형 돔 형상을 가지는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
wherein the protrusion has a semicircular dome shape.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부는 삼각형 형상을 가지는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The protrusion has a triangular shape.
제1 항에 있어서,
상기 홈부는 상기 배선의 중앙부에 배치되는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The groove portion is disposed in a central portion of the wiring.
제5 항에 있어서,
상기 홈부는 상기 기판의 상면을 노출시키지 않는, 플렉서블 표시장치.
6. The method of claim 5,
The groove portion does not expose a top surface of the substrate.
제1 항에 있어서,
상기 배선은 상기 돌출부의 하면에 배치되는 하부 벤딩 배선을 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The wiring further includes a lower bending wiring disposed on a lower surface of the protrusion.
제7 항에 있어서,
상기 하부 벤딩 배선과 상기 돌출부는 다른 물질로 형성된, 플렉서블 표시장치.
8. The method of claim 7,
and the lower bending wiring and the protrusion are formed of different materials.
제6 항에 있어서,
상기 배선 상에 배치되며, 상기 라인형 홈부를 채우는 제1 평탄화층을 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
7. The method of claim 6,
and a first planarization layer disposed on the wiring and filling the line-shaped groove portion.
제9 항에 있어서,
상기 배선이 상기 벤딩 영역의 단면에서 중립면에 오도록 상기 제1 평탄화층 상에 마이크로 코팅층을 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
10. The method of claim 9,
and a micro-coating layer on the first planarization layer so that the wiring is on a neutral plane in a cross-section of the bending region.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부 및 상기 홈부는 라인형상을 포함하는, 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
and the protrusion and the groove have a line shape.
표시영역과 비표시 영역을 포함하는 기판;
상기 표시영역에 배치되는 발광 표시 소자와 상기 발광 표시 소자 위에 배치되고, 상기 비표시 영역의 적어도 일부분 위에 배치되는 봉지층; 및
상기 봉지층의 상부에 배치되는 편광층과 커버 윈도우를 포함하며,
상기 비표시 영역은 벤딩 영역을 포함하고;
상기 벤딩 영역은 상기 발광 표시 소자로 연장되는 벤딩 배선을 포함하며;
상기 벤딩 배선은 상기 벤딩 배선이 연장되는 방향과 평행하게 배치되는 라인형 홈부를 포함하며;
상기 라인형 홈부는 상기 기판과 이격되어 배치되는, 플렉서블 표시장치.
a substrate including a display area and a non-display area;
a light emitting display device disposed in the display area and an encapsulation layer disposed on the light emitting display device and disposed on at least a portion of the non-display area; and
and a polarizing layer and a cover window disposed on the encapsulation layer,
the non-display area includes a bending area;
the bending region includes a bending wiring extending to the light emitting display device;
the bending wiring includes a line-shaped groove disposed parallel to a direction in which the bending wiring extends;
The line-shaped groove portion is disposed to be spaced apart from the substrate.
제12 항에 있어서,
상기 벤딩 배선은 상기 라인형 홈부로 형성되는 돌출부를 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
13. The method of claim 12,
The bending wiring further includes a protrusion formed as the line-shaped groove.
제13 항에 있어서,
상기 돌출부는 사다리꼴 형상을 가지는, 플렉서블 표시장치.
14. The method of claim 13,
The protrusion has a trapezoidal shape.
제13 항에 있어서,
상기 돌출부는 반원형 돔 형상을 가지는, 플렉서블 표시장치.
14. The method of claim 13,
wherein the protrusion has a semicircular dome shape.
제13 항에 있어서,
상기 돌출부는 제1 전극층이며,
상기 돌출부 하면에 배치된 제2 전극층을 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
14. The method of claim 13,
The protrusion is a first electrode layer,
The flexible display device further comprising a second electrode layer disposed on a lower surface of the protrusion.
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WO2025113070A1 (en) * 2023-11-30 2025-06-05 京东方科技集团股份有限公司 Display panel and display device

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