[go: up one dir, main page]

KR20200134526A - 면도날 및 면도날 제조방법 - Google Patents

면도날 및 면도날 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20200134526A
KR20200134526A KR1020190060077A KR20190060077A KR20200134526A KR 20200134526 A KR20200134526 A KR 20200134526A KR 1020190060077 A KR1020190060077 A KR 1020190060077A KR 20190060077 A KR20190060077 A KR 20190060077A KR 20200134526 A KR20200134526 A KR 20200134526A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
razor blade
thin film
boron
film layer
hard thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020190060077A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102211395B1 (ko
Inventor
박민주
오성훈
정성원
Original Assignee
주식회사 도루코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 도루코 filed Critical 주식회사 도루코
Priority to KR1020190060077A priority Critical patent/KR102211395B1/ko
Priority to US16/880,887 priority patent/US11472053B2/en
Priority to EP20176062.6A priority patent/EP3741525A1/en
Publication of KR20200134526A publication Critical patent/KR20200134526A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102211395B1 publication Critical patent/KR102211395B1/ko
Priority to US17/935,523 priority patent/US12076873B2/en
Priority to US18/783,148 priority patent/US20240375304A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/548—Controlling the composition
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
    • B26B—HAND-HELD CUTTING TOOLS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B26B21/00—Razors of the open or knife type; Safety razors or other shaving implements of the planing type; Hair-trimming devices involving a razor-blade; Equipment therefor
    • B26B21/54—Razor-blades
    • B26B21/58—Razor-blades characterised by the material
    • B26B21/60—Razor-blades characterised by the material by the coating material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
    • B26B—HAND-HELD CUTTING TOOLS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B26B21/00—Razors of the open or knife type; Safety razors or other shaving implements of the planing type; Hair-trimming devices involving a razor-blade; Equipment therefor
    • B26B21/40—Details or accessories
    • B26B21/4068—Mounting devices; Manufacture of razors or cartridges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C09D127/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/067—Borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Forests & Forestry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 물리적 기상 증착 방식에 의한 면도날 코팅에 있어서, 이종 재질이 하나의 복합단일타겟(complex single target)에 구성되되 이종 재질의 복합단일타겟 내 면적비가 코팅되는 면도날의 이송방향으로 변하도록 형성된 복합단일타겟에 의해 증착이 이루어져, 코팅층의 두께 방향으로 이종 재질의 구성비가 점진적으로 변하는 단일층을 형성할 수 있어 면도날 코팅층의 내구성이 개선되는 특징이 있다.
또한, 코팅층 내에 두께 방향의 서로 다른 위치에서 두 가지 물질에 대한 구성비가 상이한 영역을 용이하게 형성할 수 있으므로, 하나의 코팅층으로 코팅의 내구성 강화 및 접착력 향상 등의 효과를 동시에 얻을 수 있는 장점이 있다.

Description

면도날 및 면도날 제조방법{Razor Blade and Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 면도날 및 면도날 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 면도날 에지(edge)와 면도날에 내구성과 경도를 향상시키기 위한 경질박막층을 구비하는 면도기의 면도날 에지와 면도날 제조방법에 관한 것이다.
이 부분에 기술된 내용은 단순히 본 실시예에 대한 배경 정보를 제공할 뿐 종래기술을 구성하는 것은 아니다.
습식 면도기의 면도날은 통상 스테인리스 스틸의 모재를 열처리하여 경도를 증가시킨 후 연마 과정을 거쳐 면도날 에지를 형성한다. 이후, 일단이 날카롭게 연마된 면도날 에지의 강도 및 내구성을 증가시키기 위해 면도날의 에지 위에 다양한 코팅 재료가 증착된다. 코팅 재료로는 일반 경질 박막 재료인 금속이나 세라믹 계열의 탄화물, 질화물, 산화물 및 금속 붕소화물 등의 박막이 사용될 수 있다. 또한, 면도 시 피부와의 마찰력을 줄이고, 면도 성능을 향상시키기 위하여 경질 박막 재료 위에는 PTFE(PolyTetraFlouroEthylene) 등의 유기 재료가 증착되기도 한다.
그러나, 이종 재질 간의 접착력, 예컨대 스테인리스 스틸과 경질박막층 혹은 경질박막층과 PTFE 간의 접착력은 내구성 요구수준에 미치지 못하는 경우가 많다. 이 경우, 층간 접착력을 증대시키기 위해 Cr, Ti, W, Nb 등의 금속 박막을 그 사이에 증착시키기도 한다.
일반적으로 이종 재질의 증착은 두 개 이상의 타겟을 면도날 주위에 배치하여 타겟 마다 각기 전압 및 바이어스 조건 등이 제어되어 면도날이 해당 타겟에 노출되는 동안 타겟의 재료가 적층되는 증착 공정이 수행된다. 이러한 방법은 증착 챔버의 크기가 커지고 증착 소요 시간도 길어지는 단점이 있어, 단일타겟에 이종 재질이 기계적으로 접합되어 단일 스퍼터링 조건 하에서 증착을 수행하는 방법이 제안되기도 하였다. (특허문헌 0001 참조)
한편, 금속 모재 상에 다층 코팅이 이루어지는 경우, 층간 경계가 명확할수록 그 경계로부터 파괴가 시작될 확률이 높은 것으로 알려져 있다. (비특허문헌 0001 참조)
국내등록특허 제10-1101742호 (2011.12.27)
Bell, T., Dong, H. & Sun, Y. (1998). Realising the potential of duplex surface engineering, Tribology International, 31(1-3), 127-137. Kvashnin, A.G., Oganov, A.R., Samtsevich, A.I. & Allahyari, Z. (2017). Computational search for novel hard chromium-based materials, Journal of Physical Chemistry, 8(4), 755-764.
이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 내구성이 향상된 면도날 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 박막의 두께 방향으로 이종 재질의 구성비가 점진적으로 변하는 단일층을 면도날 상에 증착하고, 면도날 측 또는 PTFE가 코팅될 면은 박막의 접착력을 향상시키는 구성비를 갖도록 형성하고, 박막 내부 또는 외측으로는 박막의 강도 및 경도를 향상시키는 구성비를 갖도록 형성하되, 박막 내부적으로는 이들 구성비가 점진적으로 변하도록 단일층을 형성함으로써 면도날 코팅에 요구되는 접착성, 강도, 경도 및 내구성을 제공하는 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날은, 면도날 에지가 형성되는 면도날 모재; 면도날 모재 상에 코팅된 경질박막층으로서, 경질박막층은 크롬 및 붕소를 포함하고, 두께 방향으로 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율(atomic percent composition ratio)이 변화하도록 형성된, 경질박막층; 및 경질박막층 상에 형성되는 수지코팅층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층은 단일층인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층은, 면도날 모재에 접하는 경질박막층의 내측에 인접하여 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제1비율로 분포된 제1영역을 포함하고, 경질박막층의 외측에 인접하여 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 상기 제1비율과 상이한 제2비율로 분포된 제2영역을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제1비율은 제2비율보다 큰 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층은, 경질박막층의 내측에서 외측 방향으로 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 연속적으로 감소하는 구조인 것을 특징으로 한다.
또한, 제1영역에서 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 제2영역에서 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 8:2 내지 5:5인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층은, 수지코팅층에 인접하여 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 상기 제2비율과 상이한 제3비율로 분포된 제3영역으로서, 제2 영역보다 경질박막층의 외측에 배치되는, 제3 영역을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제3영역에서 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층 내의 전체 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율은 9:1 내지 6:4인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층의 두께는 10 내지 1000 nm인 것을 특징으로 한다.
또한, 수지코팅층은 PTFE(PolyTetraFlouroEthylene)로 이루어진 것을 특징으로 한다.
또한, 제1영역은 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하고, 제2영역은 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 6:4인 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제1영역은 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하고, 제2영역은 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 7:3인 영역을 포함하며, 제3영역은 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날 제조방법은, 면도날 모재를 열처리하는 열처리 과정; 열처리된 면도날 모재를 연마하여 면도날 에지를 형성하는 에지 형성과정; 금속과 붕소가 기계적으로 결합하여 혼재된 단일 스퍼터 타겟(sputter target)을 이용하여 면도날 에지가 형성된 열처리된 면도날 모재 상에 물리적 기상 증착(PVD: physical vapor deposition)에 의해 경질박막층을 형성하되, 경질박막층은 두께 방향으로 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율(atomic percent composition ratio)이 변화하도록 형성되는, 경질박막층 형성과정; 및 경질박막층 상에 수지코팅층을 형성하는 수지코팅층 형성과정을 포함하는 것을 특징으로 한다 .
또한, 경질박막층은, 단일층으로 형성되고, 스퍼터 타겟에 대해 면도날 모재가 증착되며 이동하는 방향으로 스퍼터 타겟 내 금속과 붕소의 면적비를 조절함으로써, 두께 방향의 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 다르게 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 금속은 Cr, Ni, Ti, W, Nb 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층 형성과정은, 면도날 모재에 접하는 경질박막층의 내측에 인접하여 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제1비율로 분포된 제1영역을 포함하도록 형성되고, 제1영역에서 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 보다 큰 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층 형성과정은, 경질박막층의 외측에 인접하여 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제1비율과 상이한 제2비율로 분포된 제2영역을 포함하도록 형성되고, 제2영역에서 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 8:2 내지 5:5인 것을 특징으로 한다.
또한, 경질박막층 형성과정은, 수지코팅층에 인접하여 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제3비율로 분포된 제3영역을 더 포함하도록 형성되고, 제3영역에서 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명은 물리적 기상 증착 방식에 의한 면도날 코팅에 있어서, 이종 재질이 하나의 복합단일타겟(complex single target)에 구성되되 이종 재질의 복합단일타겟 내 면적비가 코팅되는 면도날의 이송방향으로 변하도록 형성된 복합단일타겟에 의해 증착이 이루어져, 코팅층의 두께 방향으로 이종 재질의 구성비가 점진적으로 변하는 단일층을 형성할 수 있어 면도날 코팅층의 내구성이 개선되는 효과가 있다.
또한, 코팅층 내에 두께 방향의 서로 다른 위치에서 두 가지 물질에 대한 구성비가 상이한 영역을 용이하게 형성할 수 있으므로, 하나의 코팅층으로 코팅의 내구성 강화 및 접착력 향상 등의 효과를 동시에 얻을 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날 에지 및 면도날 에지 상의 코팅층을 나타내는 부분 단면도이다.
도 2는 기존의 복합단일타겟을 나타내는 개념도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날 에지에 경질박막층을 증착하기 위한 스퍼터링 타겟을 나타내는 개념도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날의 경질박막층을 증착하는 진공챔버 내의 구성을 나타내는 개념도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 이종 재질이 결합된 복합단일타겟에 의한 증착 과정을 설명하는 개념도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 두께 방향으로 이종 재질의 구성비가 변화하도록 형성된 단일층을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 면도날의 경질박막층의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 경질박막층의 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제3실시예에 따른 면도날의 경질박막층의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제1실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
도 11은 본 발명의 제2실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 '포함', '구비'한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 '…부', '모듈' 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다. 또한, A 대 B의 조성비가 크거나 작다는 기재는 A/B의 값이 크거나 작다는 것을 의미한다.
본 발명의 실시예에서는 경질박막층(120) 코팅에는 물리적 기상 증착(PVD: Physical Vapor Deposition)을 이용한다. 물리적 기상 증착 방식으로는 직류 스퍼터(DC Sputter), 직류 마그네트론 스퍼터(DC Magnetron Sputter), 직류 불균형 마그네트론 스퍼터(DC Unbalanced Magnetron Sputter), 펄스 직류 불균형 마그네트론 스퍼터(Pulse DC Unbalanced Magnetron Sputter), 무선 주파수 스퍼터(RF Sputter), 아크 이온 플래팅(Arc Ion Plating), 전자 빔 증발 증착(Electron-Beam Evaporation), 이온 빔 증착(Ion-Beam Deposition), 이온 빔 보조 증착(Ion-Beam Assisted Deposition) 방법 중 임의의 어느 하나일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날 에지 및 면도날 에지 상의 코팅층을 나타내는 부분 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날(10)은 면도날 모재(110), 경질박막층(120) 및 수지코팅층(130)을 포함한다.
일 실시예에서, 연마된 면도날 모재(110)가 사용되며, 모재(110) 상에 CrB성분의 단일층인 경질박막층(120)이 적층되고, 경질박막층(120) 상에 마찰력 저감을 위한 수지코팅층(130)이 적층된다. 일 실시예는 박막 내부의 영역 간 구분이 명확하지 않은 단일 박막층을 형성함으로써, 일반적으로 층간 경계에서 시작되는 초기 파괴가 억제될 수 있어 결과적으로 반복되는 충격하중으로 인한 피로파괴에 대한 내구성이 향상될 수 있다.
도 2는 기존의 복합단일타겟을 나타내는 개념도이다.
도 2를 참조하면, 물리적 기상 증착에 사용되는 스퍼터링 타겟은 이종 재질로 구성된 다수의 영역이 조합된 구성이다. 제1재질(210)과 제2재질(220)이 모자이크 형식으로 번갈아 배치된 형태로서, 단일타겟처럼 이용되는 이종 재질이 결합된 형태의 복합단일타겟(20)이다. 모재(110)에 제1재질(210)과 제2재질(220)이 증착되는 비율은 제1재질(210)과 제2재질(220)의 복합단일타겟(20) 내 면적비를 조절함으로써 제어된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날 에지에 경질박막층을 증착하기 위한 스퍼터링 타겟을 나타내는 개념도이다.
도 3는 일 실시예에 따른 면적비 가변형 복합단일타겟(21, 22)의 다양한 실시예를 도시한다. 일 실시예에 따른 면적비 가변형 복합단일타겟(21, 22)은 면도날(10)이 스퍼터링 되며 이송되는 방향(810)으로 이종 재질 간의 면적비가 다르게 분포되도록 형성된다. 예컨대, 도 3(a)과 같이 면도날 이송 방향(810)으로 이종 재질이 번갈아 적층된 형태로 구성되되, 적층되는 폭을 조절함으로써 스퍼티링 과정에서 인출되는 입자의 구성비가 변하도록 형성될 수 있다. 도 3(b)는 모자이크 패턴의 크기가 면도날 이송 방향(810)으로 변하도록 형성된 것을 예시한다. 또한, 도시하지는 않았으나, 제1재질(210)에 제2재질(220)이 삽입되는 형태로 면적비 가변형 복합단일타겟이 구성될 수도 있으며, 제2재질(220)이 삽입되는 패턴의 간격을 조정하거나 패턴의 크기를 조정하여 이종 재질 간 면적비가 조정될 수 있다.
면적비 가변형 복합단일타겟(21, 22)의 구조는 복합단일타겟(21, 22) 내에 적절히 분산 배치되어 타겟으로부터 입자화되어 인출된 이종 재질이 증착 대상인 모재(110)에 이르러 충분히 균일하게 혼재된 수준이 될 수 있는 형태와 배치라면 어떤 형태라도 무방하다. 복합단일타겟(21, 22) 내부에 배치되는 각 재료의 형상은 원형, 삼각형, 사각형 등 다양한 형상일 수 있다. 또한, 사각형 형태가 모자이크 형태로 배치되어 기계적으로 결합될 수도 있고, 하나의 재료로 전체 복합단일타겟(21, 22) 형상을 이루고 복수의 구멍이 형성되어 구멍에 다른 재료가 삽입되어 접합되는 형태일 수 있다.
일 실시예에서 이종 재질은 금속 재질 및 붕소(B: Boron)이다. 금속 재질은 Cr, Ni, Ti, W, Nb 중 어느 하나 일 수 있으며, 일 실시예에서 금속 재질은 면도날 모재(110)인 스테인리스 스틸과의 박막 접착성을 감안하여 Cr인 경우에 대해 서술하고 샘플을 제작하고 분석하였으나 이에 한정하는 것은 아니다.
또한, Cr과 B가 복합된 복합단일타겟 뿐만 아니라, CrB, CrB2, CrB3, Cr2B, Cr3B4 등 Cr과 B가 결정학적으로 결합되었으나 그 원자 개수 조성비율(at%: atomic percent composition ratio)이 다른 재질이 복합된 것일 수도 있다. Cr과 B가 CrxBy의 결정학적으로 결합된 형태의 부분 타겟이 사용될 경우, 이로부터 형성되는 박막은 이들 결정구조가 주로 분포될 확률이 높다고 할 수 있으며, 박막내 결정구조의 분포에서 특정 결정구조가 주가 되도록 유도될 수 있을 것이다.
한편, 복합단일타겟의 형태가 아닌 CrxBy의 Cr과 B가 결정학적으로 결합된 단일타겟이 사용될 수도 있다. 이 경우, 단일층 내 조성이 두께 방향으로 점진적으로 변화되는 형태로 형성하기 위해서 여러 가지 방법이 동원될 수 있다. 스퍼터링이 실시되는 구간 별로 모재의 바이어스가 다른 값을 가지도록 조정 가능하도록 형성하거나, 아르곤 가스의 주입구 위치 및/또는 개수를 변경하거나, 스퍼터링 타겟과 모재 사이의 거리 가변 등 스퍼터링 공정 관련 변수를 조정하거나, 혹은 이온 건(ion gun)을 추가로 설치하거나, 아크 이온 플레이팅 방법을 부가적으로 실시하여 부분적으로 스퍼터링율이 다르게 증착되도록 함으로써 두께 방향 조성비가 다르게 형성되도록 할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 면도날의 경질박막층을 증착하는 진공챔버 내의 구성을 나타내는 개념도이다.
도 4를 참조하면, 스퍼터링 장치(30)는 진공챔버(320) 내에 면적비 가변형 복합단일타겟(21, 22)인 스퍼터링 타겟 및 코팅될 면도날 모재(110)가 복수로 배치된 집합체(310)를 포함한다. 스퍼터링 장치(30) 내부는 10-6 torr정도의 고진공이 형성되며 주입 가스(일 실시예에서, 아르곤(Ar) 가스)에 의한 분위기 및 플라즈마(350)가 형성된다. 아르곤 가스를 주입하고 직류 파워를 인가하면, 아르곤 가스는 플라즈마화 되고 아르곤 이온이 생성된다. 생성된 아르곤 이온은 타겟 측에 인가되는 조건으로서 음극의 직류 파워 조건에 의해 복합단일타겟(21, 22) 측으로 가속되어 타겟 표면에 충돌하면 중성의 타겟 원자들이 인출된다.
면도날은 잔류 이물질 및 산화막을 제거하기 위해 증착 전에 아르곤 플라즈마에 의한 표면 세정 처리가 실시될 수 있다. 또한, 면도날 집합체(310)에 대한 일련의 증착 작업이 수행되기 전, 면도날 집합체(310)가 복합단일타겟(21, 22)을 마주보도록 이송되기 전에 복합단일타겟(21, 22)의 세정을 위하여 아르곤 분위기에서 5 내지 20초 정도 프리 스퍼터링(pre-sputtering)이 실시될 수 있다.
면도날 집합체(310)의 코팅될 면도날 영역들과 스퍼터링 타겟은 서로 마주보도록 배치될 수 있다. 일 실시예에서는 고정된 스퍼터링 타겟에 대해 면도날 집합체(310)가 이송되는 경우를 예시하나, 그 반대의 경우일수도 있다. 면도날 집합체(310) 및/또는 복합단일타겟(21, 22)은 스퍼터링에 필요한 바이어스 전압 형성기구(미도시) 및/또는 가열기구(미도시)를 포함할 수 있다.
Cr과 B를 포함하는 일 실시예의 면적비 가변형 복합단일타겟(21, 22)의 경우, Cr 대 B의 원자 개수 조성비율은 9:1 내지 4:6 범위로 증착이 이루어지는 경우를 예시한다. 바람직하게는 Cr 대 B의 원자 개수 조성비율은 6:4 일 수 있다. 이 경우, 증착을 위한 파워 밀도(power density)는 1 내지 12 W/cm2의 범위이며, 1 내지 10 kW 수준에 해당할 수 있다. 면도날 모재(110)의 바이어스는 -50 내지 -750 V, 온도는 0 내지 200 ℃, 직류 파워 밀도(DC power density)는 1 내지 12 W/cm2 일 수 있다. 바람직하게는 온도 15 내지 75 ℃, 기판 바이어스는 -200 내지 -600 V, 직류 파워 밀도는 4 내지 8 W/cm2일 수 있다. 이는 일반적인 Cr과 B의 스퍼터링율 및 이들이 복합단일타겟(21, 22)으로 형성된 것을 고려하여 도출된 스퍼터링 조건이다. 참고로 Cr은 250 내지 10,000 eV, B는 1,000 내지 10,000 eV의 충돌에너지로 모재(110)에 입사될 때 스퍼터링율이 높으며, 이를 고려하여 복합단일타겟(21, 22)은 1,000 내지 10,000 eV의 충돌에너지를 얻을 수 있는 범위가 되도록 설정될 수 있다. 상술한 조건에서 경질박막층(120)은 적어도 10 nm에서 두껍게는 1,000 nm까지 형성되는 것을 특징으로 한다.
면도날 모재(110)에 입사되는 입자의 이온 에너지가 일정 수준, 예컨대 일 실시예에서 B의 경우 1,000 eV 이하, Cr의 경우 250 eV 이하, 이내인 경우에는 낙온(Knock-on) 조건에 해당되어 결국 튕겨져 나가 증착이 잘 이루어지지 않을 수 있으며, 반대로 예컨대 100,000 eV 이상의 경우가 되어도 표면에 증착이 되지 못하고 모재(110) 깊이 침투해버리고 만다. 기재한 스퍼터링 조건은 그 중간 범위의 이온 에너지로 입자가 가속되도록 일 실시예의 스퍼터링 장치를 고려하여 선정된 것으로써 캐스케이드 스퍼터링(cascade sputtering)이 주로 일어나 이온 빔 믹싱(ion beam mixing) 효과에 의해 모재(110) 표면과 코팅 재질의 결합력이 향상되며 코팅될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
한편, 일 실시예의 스퍼터링 장치에는 이온 건(ion gun)이 추가적으로 설치되어 스퍼터링 장치와 아크 이온 플레이팅 방법을 함께 사용하여 박막 증착 과정이 수행될 수도 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 이종 재질이 결합된 복합단일타겟에 의한 증착 과정을 설명하는 개념도이다.
면도날은 스테인리스 스틸과 같은 모재(110)를 사용하여 형성되고, 열처리 과정을 통해 경도를 증가시키며, 연마되어 면도날 에지가 형성된 후에, 도 5에 도시한 바와 같이 복합단일타겟(21, 22)으로부터 방출된 이종 재질의 입자들(212, 222)이 동시에 증착되어 경질박막층(120)이 형성된다.
면도날(10)은 증착이 이루어짐과 동시에 면적비 가변형 복합단일타겟(21,22)의 다른 면적비를 가지고 결합된 영역을 지나면서 이종 재질의 원자 개수 조성비율이 다르게 분포되는 입자들(212, 222)이 증착되게 된다. 즉, 면도날은 서로 다른 구성비를 가지는 입자들(212, 222)이 연속하여 증착됨으로써 박막의 두께 방향으로 구성비가 점진적으로 변화하는 경질박막층(120)이 형성될 수 있다.
경질박막층(120)의 결정학적 형태는 스퍼터링 조건 및 복합단일타겟(21,22)의 이종 재질의 구성비 등에 의해 제어될 수 있다. 경질박막층(120)은 Cr과 B가 결정학적으로 결합된 다양한 형태의 결정구조를 포함할 수 있으며, 또한, Cr 혹은 B가 비결정 상태로 혼재된 비정질(amorphous) 구조를 포함할 수 있다. 또한, 모재(110)에 충돌하는 입자들(212, 222)의 충돌 에너지를 적절히 조절함으로써 경질박막층(120)에 형성되는 결정의 크기를 적절히 제어할 수 있음은 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 일반적으로 형성된 결정의 크기가 크면 표면경도는 더 상승할 수 있으나 취성이 증가하여 외부 충격에 의한 파손으로 내구성이 저하될 수 있다. 스퍼터링 조건 및 복합단일타겟 내 B의 함량은 직경 기준으로 수 내지 수십 nm 수준인 적절히 작은 크기의 결정이 고르게 분포되도록 제어되는 것이 바람직하다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 두께 방향으로 이종 재질의 구성비가 변화하도록 형성된 단일층을 나타내는 단면도이다.
도 6을 참조하면, 경질박막층(120)은 모재(110)인 면도날로부터 접착력 강화영역(Adhesion enhancing region), 박막의 강도 강화구간(Strength enhancing region) 및 표면경도 강화구간(Hardness enhancing region)으로 구성될 수 있으며, 그 위에 마찰력 저감을 위한 수지코팅층(Polymer coating)이 형성될 수 있다. 일 실시예에서 접착력 강화영역은 모재(110)를 구성하는 스테인리스 스틸과의 결합력이 우수한 Cr성분이 많이 포함된 영역일 수 있고, 박막의 강도 강화구간은 수 내지 수십 나노 직경의 CrB 결정구조가 비정질인 CrB에 둘러싸여 분산된 구조일 수 있으며, 표면경도 강화구간은 CrB 결정구조의 체적 내 점유율이 강도 강화구간 보다 증가된 것일 수 있다. 한편, 표면경도 강화구간에서는 강도 강화구간에서 보다 큰 직경의 CrB 결정구조가 형성된 경우일 수도 있다. 스퍼터링 조건에 따라 세부적인 CrB 결정구조의 형태는 공간군(space group) 분류 상 cmcm, I41/amd, I4/mcm 등을 포함하여 다양한 형태가 혼재된 것일 수 있다. CrB의 결정구조에 따라 경도에 차이는 있으나, 일반적으로 금속붕소화물은 면도날에 높은 경도를 부여하기 위한 충분한 경도를 보인다.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 면도날의 경질박막층의 단면도이다.
도 7을 참조하면, 면도날 모재(110) 측에 가까운 영역은 Cr:B의 원자 개수 조성비율이 9:1 수준이고, 그 외 영역은 Cr:B의 원자 개수 조성비율이 6:4 수준인 것을 예시한다. 모재(110)에 인접하여 Cr의 함유량을 높여 형성하는 것은 경질박막층(120)의 모재(110)와의 접착력을 증대시키기 위한 구성이다.
일 실시예에서 영역의 구분을 점선으로 표시하였으나, 이는 실제로 구분 가능한 경계가 있는 것은 아니며, 일 실시예의 경질박막층(120)은 점진적으로 그 구성비가 변하는 것으로서, 뚜렷한 경계가 확인되는 것은 아니다. 즉, Cr:B의 원자 개수 조성비율가 6:4인 영역도 해당 영역이 모두 6:4의 구성비를 가지는 것은 아니고, 바람직하게는 모재(110)로부터 멀어져 표면에 가까운 영역이 될수록 붕소(B)의 함유량이 증가하는 것으로 이해되어야 할 것이다.
제1실시예는 경질박막층(120)의 외측으로 붕소의 함유율을 높임으로써 경도를 확보하는 효과가 있으며, 일 실시예에 따른 경질박막층(120)은 그 조성비가 점진적으로 변하는 구조를 가지기 때문에 다층 코팅된 면도날 코팅층에 비해 강도 및 내구성이 향상되는 효과가 있다.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 경질박막층의 단면도이다.
도 8을 참조하면, 면도날 모재(110) 측에 가까운 영역은 Cr:B의 원자 개수 조성비율이 9:1 수준이고, 그 외 영역은 Cr:B의 원자 개수 조성비율이 7:3 수준인 것을 예시한다. 도 7의 실시예와 비교하여, 모재(110)로부터 멀어져 수지코팅층(130)과 접하게 되는 표면에 가까운 영역의 Cr함유량을 보다 높임으로써 PTFE 등의 수지코팅층(130)과의 접착력을 강화하고 해당 영역의 경도 및 강도가 같이 고려된 경우라고 할 수 있다. 즉, 바람직하게는 제2실시예의 경우 제1실시예와 비교하여 표면과 가까운 영역에서 Cr함유량이 더 크도록 형성될 수 있다.
제2실시예는 제1실시예에 비해 경질박막층(120)의 외측으로 갈수록 붕소의 함유율이 상대적으로 낮은 반면, 크롬의 함유율이 상대적으로 높아 크롬의 박막내 잔류압축응력에 의한 효과로 인해 경질박막층(120) 내의 결합력 혹은 인성(toughness)이 개선되므로 전체적인 내구성이 향상되는 효과가 있다.
도 9는 본 발명의 제3실시예에 따른 면도날의 경질박막층의 단면도이다.
도 9를 참조하면, 경질박막층(120)의 외측 표면에 인접하여 PTFE 등의 수지코팅층(130)과의 접착력을 보다 강화하기 위해 Cr:B의 원자 개수 조성비율이 9:1 수준인 영역을 더 포함하는 실시예를 도시한다. 표면에 인접하여 Cr의 함유량을 보다 높임으로써 수지코팅층(130)과의 접착력이 향상될 수 있다.
제3실시예는 경질박막층(120)의 최외측으로 크롬의 함유율이 높은 구성으로서, 마찰력 저감을 위한 수지코팅층(130)과의 접착력이 크게 향상되므로 장시간 사용에도 수지코팅층(130)의 탈락이 방지되어 면도 성능이 꾸준히 유지될 수 있는 효과가 있다. 이 경우, 반복되는 면도에 의한 충격 하중을 수지코팅층(130)이 흡수하여 분산시킴으로써 내구성이 향상되는 효과도 기대할 수 있다.
본 발명의 제1 내지 제3실시예에 따른 경질박막층은 전체적으로 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 내지 6:4일 수 있다.
도 10은 본 발명의 제1실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
도 11은 본 발명의 제2실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따라 코팅된 경질박막층의 성분별 구성비를 코팅층 표면으로부터 깊이 방향으로 분석한 결과이다.
도 10 내지 도 12는 전체 약 90 nm두께의 경질박막층(120)의 구성 성분을 그래프 좌측의 표면 위치로부터의 그래프 우측의 모재(110) 위치까지 경질박막층(120)의 깊이 별 구성 성분을 측정한 결과를 도시한다. 도 10 내지 도 12를 참조하면, 제1 내지 제3실시예의 영역별 구성비가 반영되어 경질박막층(120) 내에 점진적으로 구성 성분 별로 원자개수 구성비가 변하는 형태의 단일층이 형성되는 것을 확인할 수 있다. 각각의 실시예에 따라 실험적으로 제작된 경질박막층(120)의 측정된 각 성분의 구성비는, 도 7 내지 도 9에 도시한 단일층 내 영역별 목표 원자개수 구성비를 염두에 두고 제작되었으나, 오차를 포함하고 있음은 감안하고 보아야 할 것이다. 이러한 오차는 공정 최적화를 통해 최소화될 수 있을 것이다.
도 10을 참조하면, 제1실시예에 따른 경질박막층(120)의 구성 성분에서 B의 함유량은 모재(110)에 가까운 위치에서 약 5 at%로부터, 경질박막층(120)의 표면 측으로 가면서 약 25 at%까지, 점진적으로 증가하는 단일층인 것을 알 수 있다. 이때, 같은 구간을 따라 Cr의 함유량은 약 70 at%에서 약 50 at%로 점진적으로 감소됨을 알 수 있다.
도 11을 참조하면, 제2실시예에 따른 경질박막층(120)의 구성 성분에서 B의 함유량은 모재(110)에 가까운 위치에서 약 3 at%로부터, 경질박막층(120)의 표면 측으로 가면서 약 10 at%까지, 점진적으로 증가하는 단일층인 것을 알 수 있다. 이때, 같은 구간을 따라 Cr의 함유량은 약 80 at%에서 약 72 at%로 감소함을 알 수 있다.
도 12를 참조하면, 제3실시예에 따른 박막 양측면을 향해 Cr의 함유량이 높은 구성이 실험적으로 제작된 경질박막층(120) 내에 구현된 것을 확인할 수 있다. 제3실시예의 중간 영역은 양측 영역에 비해 B의 함유량이 높은 구성으로써, 중간 영역은 평균적으로 약 38 at%의 B가 측정되었으며, 양측 영역으로 멀어질수록 B의 함유량이 점진적으로 감소하는 형태가 측정되었다. 즉, 제3실시예는 단일층으로 구성된 형태이면서도 경질박막층(120)의 내부 영역은 B가 많아 경도 및 강도가 높은 영역이 형성되고, 양측 영역으로 Cr의 함유량이 많도록 형성됨으로써 경질박막층(120)이 모재(110) 및 PTFE 수지(130)와 충분히 높은 접착력을 가지고 결합될 수 있는 특성이 확보될 수 있다. 이로써 코팅층에 요구되는 기계적 강도가 확보되면서 동시에 인접층과의 접착력이 확보되는 효과가 있다. 통상, 코팅층의 경도를 높이면 모재(110)와의 접착력이 저하되고, 외부 충격이 인가되는 경우 고 경도인 코팅층이 모재(110)로부터 박리되어 파괴되기 쉽기 때문에 경질의 코팅층과 모재(110)의 접착력을 강화하기 위한 별도의 중간층이 코팅되는 것이 일반적이다. 반면, 본 발명의 일 실시예에 따른 제조방식에 의한 경질박막층(120)은 단일층의 구조를 유지함으로써 다층 박막과 비교하여 강도 및 내구성 확보가 유리하며, 모재(110)와의 접착력도 용이하게 확보되는 장점이 있다.
한편, 도 12의 중앙 영역의 측정 결과는 경질박막층(120)의 두께가 90 nm 수준으로 얇은 점을 감안하여 해석해야 할 것이다. 경질박막층(120) 내 구성비의 두께 방향 변화 정도(즉, 측정 그래프 상의 기울기)를 더욱 완만하게 형성하고자 하는 경우에는, 예컨대 도 3에 도시된 타겟 내 Cr과 B를 번갈아 배치하는 간격을 좁히거나 증착 속도 혹은 모재(110)의 이송 속도를 적절히 변경하는 등의 방법이 이용될 수 있을 것이다.
한편, 일 실시예는 이종 재질이 2가지 사용된 경우를 예시하였으나 이에 한정하는 것은 아니며 3종 이상의 이종 재질이 사용될 수도 있다.
또한, 일 실시예의 경질박막층(120)은 Cr과 B가 혼합되어 증착된 단일층인 것을 특징으로 하지만, 그렇다고 하여 경질박막층(120)과 면도날 모재(110) 사이에 버퍼 레이어(buffer layer)층을 포함하거나, 경질박막층(120)과 수지코팅층(130) 사이에 중간층(inter layer)으로서 Cr코팅층이 적층될 수 있음을 배제하는 것은 아니다. 일 실시예의 경질박막층(120)은 강도와 내구성의 향상을 기대할 수 있는 단일층이되, 두께 방향으로 이종 성분이 점진적으로 변하도록 형성될 수 있는 것을 특징으로 하며, 특히 양측 표면에 가까운 영역에서 양측 표면과 접하게 되는 소재 또는 코팅층과의 접착력을 강화하는 구성 성분비를 갖도록 형성될 수 있는 장점이 있다.
Figure pat00001
표 1은 본 발명의 제2실시예에 따라 제조된 면도날과 Cr/DLC(Diamond-Like Carbon) 다층 면도날 및 CrC 단일층 면도날의 성능을 비교 측정한 결과이다. 제2실시예의 면도날을 기준으로 상대적인 성능을 비교 평가하였다. 표 1에서 비교된 면도날들에서 경질박막층(120) 상에 PTFE가 코팅된 것은 공통 사항이다.
코팅 성능을 테스트하기 위한 반복 절삭 실험에 사용된 절삭 대상으로는 통상 면도날 분야에서 사용되는 젖은 양털 펠트를 이용하였다. 절삭성은 절삭 소재를 5회 절삭하여 적절한 통계처리 후 절삭성능을 평가한다. 내마모성 및 내구성 실험은 각각 500회, 2,000회 절삭 실험 후, 초기 절삭성능 대비 절삭능력의 변화를 평가한다. 내부식성은 5회 절삭 실험으로 절삭성 평가를 마친 면도날을 묽은 염산에 1분간 담근 후, 초기 절삭성능 대비 절삭능력의 변화를 평가한다. 표 1의 내마모성, 내구성 및 내부식성에서 비교된 수치는 퍼센트 수치가 클수록 초기 절삭성능에 비해 마모나 파손의 정도가 커서 더 큰 절삭부하가 걸리는 것으로 이해될 수 있다.
비교 평가에서 절삭성은 CrC > CrB > Cr/DLC 순으로 좋은 것으로 평가되었으나 그 차이는 크지 않은 수준이다. 내마모성과 내구성은 본 발명의 일 실시예에 따른 CrB 단일층 면도날이 매우 우수하게 측정되어, 경질박막층의 경도, 강도 및 접착력이 우수함에 따른 면도날 성능 향상을 확인할 수 있다. 특히, Cr/DLC 다층 면도날의 내마모성과 내구성이 매우 낮게 측정되었는데, 이는 앞서 언급한 바와 같이 다층 박막의 경계에서의 파손이 조기에 발생되었기 때문으로 이해할 수 있다.
또한, 블라인드 테스트를 통한 실제 면도 결과에서도 본 발명의 실시예에 따른 CrB 박막이 증착된 면도날이 CrC 박막이 증착된 면도날 보다 저자극에서 우위를 보였으며, Cr/DLC 박막이 증착된 면도날 보다 바짝 깎임, 걸림/뜯김, 밀착감 항목에서 우위를 보였다.
종합하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 단일층 박막이되 Cr과 B의 구성비가 박막 두께 방향으로 점진적으로 변하도록 형성된 코팅 면도날은 실질적으로 동등한 수준의 절삭성을 가지면서, 내마모성과 내구성 측면에서 매우 개선된 성능을 제공함을 알 수 있다.
이상의 설명은 본 실시예의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 실시예들은 본 실시예의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 실시예의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 실시예의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 실시예의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (20)

  1. 면도날 에지가 형성되는 면도날 모재;
    상기 면도날 모재 상에 코팅된 경질박막층으로서, 상기 경질박막층은 크롬 및 붕소를 포함하고, 두께 방향으로 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율(atomic percent composition ratio)이 변화하도록 형성된, 경질박막층; 및
    상기 경질박막층 상에 형성되는 수지코팅층을 포함하는 면도날.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 경질박막층은 단일층인 면도날.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 경질박막층은,
    상기 면도날 모재에 접하는 상기 경질박막층의 내측에 인접하여 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제1비율로 분포된 제1영역을 포함하고,
    상기 경질박막층의 외측에 인접하여 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 상기 제1 비율과 상이한 제2비율로 분포된 제2영역을 포함하는 면도날.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1비율은 상기 제2비율보다 커서, 상기 붕소는 상기 제1비율보다 상기 제2비율에 더 큰 비율로 포함된 면도날.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 경질박막층은,
    상기 경질박막층의 내측에서 외측 방향으로 상기 붕소의 비율이 점진적으로 증가하여 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 연속적으로 감소하는 구조인 면도날.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 제1영역에서 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 면도날.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 제2영역에서 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 8:2 내지 5:5인 면도날.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 경질박막층은,
    상기 수지코팅층에 인접하여 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 상기 제2 비율과 상이한 제3비율로 분포된 제3영역으로서, 상기 제2 영역보다 상기 경질박막층의 외측에 배치되는, 제3 영역을 더 포함하는 면도날.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제3영역에서 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 면도날.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 경질박막층 내의 전체 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율은 9:1 내지 6:4인 면도날.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 경질박막층의 두께는 10 내지 1000 nm인 면도날.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 수지코팅층은 PTFE(PolyTetraFlouroEthylene)로 이루어진 면도날.
  13. 제3항에 있어서,
    상기 제1영역은 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하고,
    상기 제2영역은 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 6:4인 영역을 포함하는 면도날.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 제1영역은 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하고,
    상기 제2영역은 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 7:3인 영역을 포함하며,
    상기 제3영역은 상기 크롬 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1인 영역을 포함하는 면도날.
  15. 면도날 모재를 열처리하는 열처리 과정;
    열처리된 면도날 모재를 연마하여 면도날 에지를 형성하는 에지 형성과정;
    금속과 붕소가 기계적으로 결합하여 혼재된 단일 스퍼터 타겟(sputter target)을 이용하여 상기 면도날 에지가 형성된 상기 열처리된 면도날 모재 상에 물리적 기상 증착(PVD: physical vapor deposition)에 의해 경질박막층을 형성하되, 상기 경질박막층은 두께 방향으로 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율(atomic percent composition ratio)이 변화하도록 형성되는, 경질박막층 형성과정; 및
    상기 경질박막층 상에 수지코팅층을 형성하는 수지코팅층 형성과정
    을 포함하는 면도날 제조방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 경질박막층은,
    단일층으로 형성되고,
    상기 스퍼터 타겟에 대해 상기 면도날 모재가 증착되며 이동하는 방향으로 상기 스퍼터 타겟 내 상기 금속과 상기 붕소의 면적비를 조절함으로써, 두께 방향의 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 다르게 형성되는 면도날 제조방법.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 금속은 Cr, Ni, Ti, W, Nb 중 어느 하나인 면도날 제조방법.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 경질박막층 형성과정은,
    상기 면도날 모재에 접하는 상기 경질박막층의 내측에 인접하여 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제1비율로 분포된 제1영역을 포함하도록 형성되고,
    상기 제1영역에서 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 면도날 제조방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 경질박막층 형성과정은,
    상기 경질박막층의 외측에 인접하여 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 상기 제1비율과 상이한 제2비율로 분포된 제2영역을 포함하도록 형성되고,
    상기 제2영역에서 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 8:2 내지 5:5인 면도날 제조방법.
  20. 제15항에 있어서,
    상기 경질박막층 형성과정은,
    상기 수지코팅층에 인접하여 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 제3비율로 분포된 제3영역을 더 포함하도록 형성되고,
    상기 제3영역에서 상기 금속 대 붕소의 원자 개수 조성비율이 9:1 이상인 면도날 제조방법.
KR1020190060077A 2019-05-22 2019-05-22 면도날 및 면도날 제조방법 Active KR102211395B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190060077A KR102211395B1 (ko) 2019-05-22 2019-05-22 면도날 및 면도날 제조방법
US16/880,887 US11472053B2 (en) 2019-05-22 2020-05-21 Razor blade and manufacturing method thereof
EP20176062.6A EP3741525A1 (en) 2019-05-22 2020-05-22 Razor blade and manufacturing method thereof
US17/935,523 US12076873B2 (en) 2019-05-22 2022-09-26 Razor blade and manufacturing method thereof
US18/783,148 US20240375304A1 (en) 2019-05-22 2024-07-24 Razor blade and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190060077A KR102211395B1 (ko) 2019-05-22 2019-05-22 면도날 및 면도날 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200134526A true KR20200134526A (ko) 2020-12-02
KR102211395B1 KR102211395B1 (ko) 2021-02-03

Family

ID=70802773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190060077A Active KR102211395B1 (ko) 2019-05-22 2019-05-22 면도날 및 면도날 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (3) US11472053B2 (ko)
EP (1) EP3741525A1 (ko)
KR (1) KR102211395B1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130014396A1 (en) * 2011-07-14 2013-01-17 Kenneth James Skrobis Razor blades having a wide facet angle
US11654588B2 (en) * 2016-08-15 2023-05-23 The Gillette Company Llc Razor blades
KR102211395B1 (ko) 2019-05-22 2021-02-03 주식회사 도루코 면도날 및 면도날 제조방법
EP4240567A2 (en) * 2020-11-03 2023-09-13 The Gillette Company LLC Razor blades with chromium boride-based coatings
US20240051170A1 (en) * 2022-08-10 2024-02-15 The Gillette Company Llc Method of treating razor blade cutting edges
US20240051169A1 (en) * 2022-08-10 2024-02-15 The Gillette Company Llc Method of treating razor blade cutting edges

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090025512A1 (en) * 2007-07-25 2009-01-29 John Madeira Thin film coating of blades
KR20110027745A (ko) * 2011-02-28 2011-03-16 주식회사 도루코 면도기의 면도날 에지와 면도날 제조방법
KR101101742B1 (ko) 2008-12-05 2012-01-05 주식회사 도루코 면도기 면도날의 박막 증착 방법
JP2012110998A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Mitsubishi Materials Corp 硬質難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐剥離性とすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具
KR20170038055A (ko) * 2014-07-31 2017-04-05 빅-비올렉스 에스아 면도날 코팅

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3622402A (en) 1969-02-04 1971-11-23 Avco Corp Erosion-corrosion resistant coating
US3712798A (en) 1970-01-06 1973-01-23 Surface Technology Corp Chromium boride coated articles
US3960608A (en) 1972-08-05 1976-06-01 Wilkinson Sword Limited Members having a cutting edge
US4594294A (en) 1983-09-23 1986-06-10 Energy Conversion Devices, Inc. Multilayer coating including disordered, wear resistant boron carbon external coating
US4556607A (en) 1984-03-28 1985-12-03 Sastri Suri A Surface coatings and subcoats
US5088202A (en) * 1988-07-13 1992-02-18 Warner-Lambert Company Shaving razors
US5129289A (en) * 1988-07-13 1992-07-14 Warner-Lambert Company Shaving razors
JPH06508533A (ja) 1991-04-05 1994-09-29 ワーナー−ランバート・カンパニー 塗装切削ツール
CA2292021C (en) 1991-11-27 2002-08-20 The Gillette Company Razors
US6212777B1 (en) 1993-09-29 2001-04-10 The Gillette Company Safety razors
DK172243B1 (da) 1994-04-28 1998-02-02 Jensen Ejnar & Soen As Indretning til indfødning af i hovedsagen rektangulære tøjstykker i en ilægger
US5630275A (en) 1994-08-23 1997-05-20 Warner-Lambert Company Multi-blade razor head with improved performance
UA41421C2 (uk) 1994-10-03 2001-09-17 Дзе Джіллет Компані Бритвений вузол
US5795648A (en) * 1995-10-03 1998-08-18 Advanced Refractory Technologies, Inc. Method for preserving precision edges using diamond-like nanocomposite film coatings
US6468642B1 (en) * 1995-10-03 2002-10-22 N.V. Bekaert S.A. Fluorine-doped diamond-like coatings
US6516518B1 (en) 1996-01-12 2003-02-11 The Gillette Company Razor blade unit
US6041926A (en) 1996-04-10 2000-03-28 The Gillette Company Dispensing razor blade cartridges used with a handle
US5956851A (en) 1996-04-10 1999-09-28 The Gillette Company Shaving system including handle and replaceable cartridges
US5687485A (en) 1996-05-15 1997-11-18 The Gillette Company Razor handle
US5956848A (en) 1997-02-27 1999-09-28 The Gillette Company Shaving system
US6105261A (en) * 1998-05-26 2000-08-22 Globix Technologies, Inc. Self sharpening blades and method for making same
US6032372A (en) * 1998-06-22 2000-03-07 Dischler; Louis Intrinsically fenced safety razor head
US6684513B1 (en) 2000-02-29 2004-02-03 The Gillette Company Razor blade technology
JP4741056B2 (ja) 2000-06-05 2011-08-03 株式会社貝印刃物開発センター 刃部材及びその刃先の製造方法
AU2002305204A1 (en) * 2001-04-17 2002-10-28 Lazorblades, Inc. Ceramic blade and production method therefor
EP1815040B1 (en) 2004-09-08 2016-01-06 BIC Violex S.A. Method for deposition of a layer on a razor blade edge and razor blade
US7939172B2 (en) 2006-05-17 2011-05-10 G & H Technologies, Llc Wear resistant vapor deposited coating, method of coating deposition and applications therefor
JP5016961B2 (ja) * 2007-03-30 2012-09-05 株式会社神戸製鋼所 刃部材
US9079321B2 (en) * 2008-07-16 2015-07-14 The Gillette Company Razor blades
US9248579B2 (en) * 2008-07-16 2016-02-02 The Gillette Company Razors and razor cartridges
PL2429777T3 (pl) * 2009-05-15 2017-11-30 The Gillette Company Llc Powłoka ostrza maszynki do golenia
US9598761B2 (en) * 2009-05-26 2017-03-21 The Gillette Company Strengthened razor blade
EP2495081B1 (de) * 2011-03-01 2014-05-07 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Schneidewerkzeug mit Klinge aus feinkristallinem Diamant
US20130014395A1 (en) * 2011-07-14 2013-01-17 Ashok Bakul Patel Razor blades having a large tip radius
US20130014396A1 (en) * 2011-07-14 2013-01-17 Kenneth James Skrobis Razor blades having a wide facet angle
US9751230B2 (en) * 2014-05-19 2017-09-05 The Gillette Company Razor blades
US9808944B2 (en) * 2014-06-17 2017-11-07 The Gillette Company Llc Methods of manufacturing silicon blades for shaving razors
US11090826B2 (en) 2014-07-31 2021-08-17 Bic Violex Sa Razor blade
US11230025B2 (en) * 2015-11-13 2022-01-25 The Gillette Company Llc Razor blade
US11654588B2 (en) * 2016-08-15 2023-05-23 The Gillette Company Llc Razor blades
US11000963B2 (en) 2017-04-04 2021-05-11 Bic Violex S.A. Coated razor blades comprising graphene
KR102106304B1 (ko) * 2018-07-27 2020-05-04 주식회사 도루코 면도기 카트리지
KR102063770B1 (ko) * 2018-07-27 2020-01-08 주식회사 도루코 면도기 카트리지
US11642806B2 (en) * 2018-12-14 2023-05-09 The Gillette Company Llc Cutting-edge structures and method of manufacturing cutting-edge structures
KR102211395B1 (ko) 2019-05-22 2021-02-03 주식회사 도루코 면도날 및 면도날 제조방법
KR102211399B1 (ko) * 2019-05-22 2021-02-03 주식회사 도루코 면도날 및 면도날 제조방법
EP4003675A1 (en) * 2019-07-31 2022-06-01 The Gillette Company LLC Razors and razor cartridges
KR20210039205A (ko) * 2019-10-01 2021-04-09 주식회사 도루코 면도날
EP3828311A1 (en) * 2019-11-28 2021-06-02 BIC-Violex S.A. Razor blade coating
AU2021255595B2 (en) * 2020-04-16 2024-10-10 The Gillette Company Llc Coatings for a razor blade
EP4238727A4 (en) * 2020-10-27 2024-10-16 Dorco Co., Ltd. ASYMMETRIC RAZOR
KR102821256B1 (ko) * 2021-11-30 2025-06-17 주식회사 도루코 면도기 카트리지
EP4292783A1 (en) * 2022-06-17 2023-12-20 Dorco Co., Ltd. Razor cartridge
EP4292782A1 (en) * 2022-06-17 2023-12-20 Dorco Co., Ltd. Razor cartridge
KR20240008271A (ko) * 2022-07-11 2024-01-18 주식회사 도루코 면도기 블레이드 및 이를 포함하는 면도기 카트리지
US20240058978A1 (en) * 2022-08-16 2024-02-22 Dorco Co., Ltd. Razor blade

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090025512A1 (en) * 2007-07-25 2009-01-29 John Madeira Thin film coating of blades
KR101101742B1 (ko) 2008-12-05 2012-01-05 주식회사 도루코 면도기 면도날의 박막 증착 방법
JP2012110998A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Mitsubishi Materials Corp 硬質難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐剥離性とすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具
KR20110027745A (ko) * 2011-02-28 2011-03-16 주식회사 도루코 면도기의 면도날 에지와 면도날 제조방법
KR20170038055A (ko) * 2014-07-31 2017-04-05 빅-비올렉스 에스아 면도날 코팅

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Bell, T., Dong, H. & Sun, Y. (1998). Realising the potential of duplex surface engineering, Tribology International, 31(1-3), 127-137.
Kvashnin, A.G., Oganov, A.R., Samtsevich, A.I. & Allahyari, Z. (2017). Computational search for novel hard chromium-based materials, Journal of Physical Chemistry, 8(4), 755-764.

Also Published As

Publication number Publication date
US11472053B2 (en) 2022-10-18
EP3741525A1 (en) 2020-11-25
US20230022996A1 (en) 2023-01-26
KR102211395B1 (ko) 2021-02-03
US12076873B2 (en) 2024-09-03
US20240375304A1 (en) 2024-11-14
US20200368928A1 (en) 2020-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102211395B1 (ko) 면도날 및 면도날 제조방법
KR102211399B1 (ko) 면도날 및 면도날 제조방법
Ehiasarian et al. Comparison of microstructure and mechanical properties of chromium nitride-based coatings deposited by high power impulse magnetron sputtering and by the combined steered cathodic arc/unbalanced magnetron technique
JP3737291B2 (ja) ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体
KR100845372B1 (ko) 유사 다이아몬드 카본 경질 다층 필름 형성 본체 및 이를제조하는 방법
EP1984152B1 (en) Method for producing a multi-layer coating for razor blades
JP4139102B2 (ja) ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体およびその製造方法
Behera et al. Magnetron sputtering for development of nanostructured materials
KR101131241B1 (ko) 면도날 에지와 면도날 상에 층을 증착하는 방법
WO2010064879A2 (ko) 면도기 면도날의 박막 증착 방법
JP5226826B2 (ja) ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体の製造方法
JP2018188739A (ja) 中間層の複合基板
KR20110027745A (ko) 면도기의 면도날 에지와 면도날 제조방법
CN109913798B (zh) 表面硬化的石墨模具及其表面硬化的方法
Ou et al. Scratch response and tribological properties of TiAlSiN coatings deposited by reactive deep oscillation magnetron sputtering
Zhao et al. Effect of axial magnetic field on the microstructure and mechanical properties of CrN films deposited by arc ion plating
KR101210118B1 (ko) 다층 박막의 표면을 가지는 금형
Rai et al. Ion Beam Mixing of Alternate Layers of Ni-Nb and Ni-Cr
US10030301B2 (en) Upright target structure and sputtering equipment
IL315696A (en) Coated member
KR20180118592A (ko) 고경도 ptfe코팅막

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20190522

PA0201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20201103

Patent event code: PE09021S01D

PG1501 Laying open of application
E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20210120

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20210128

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20210128

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20231226

Start annual number: 4

End annual number: 4