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KR20200116219A - 연마 헤드용 탄성 밀봉링 - Google Patents

연마 헤드용 탄성 밀봉링 Download PDF

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KR20200116219A
KR20200116219A KR1020190037661A KR20190037661A KR20200116219A KR 20200116219 A KR20200116219 A KR 20200116219A KR 1020190037661 A KR1020190037661 A KR 1020190037661A KR 20190037661 A KR20190037661 A KR 20190037661A KR 20200116219 A KR20200116219 A KR 20200116219A
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KR
South Korea
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elastic sealing
sealing ring
polishing head
polishing
ring
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KR1020190037661A
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손준호
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주식회사 케이씨텍
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    • B24GRINDING; POLISHING
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    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

본 발명은 연마 헤드용 탄성 밀봉링에 관한 것으로, 리테이너 링과 커버 사이에 요홈이 링 형태로 내주면에 형성되어 리테이너 링과 커버 사이에 개재되어 설치되어, 이물질의 침투 방지 효과를 향상시키고 유지 보수의 편의를 증진시키는 효과를 얻을 수 있다.

Description

연마 헤드용 탄성 밀봉링 {ELASTIC SEALING RING OF POLISHING HEAD}
본 발명은 연마 헤드용 탄성 밀봉링에 관한 것으로, 보다 구체적으로 조립과 분리 교체 공정이 용이하고 외부의 이물질이 연마 헤드의 내부로 침투하는 것을 효과적으로 방지하는 연마 헤드용 격벽 멤브레인에 관한 것이다.
반도체소자 제조과정 중 마스킹, 에칭 및 배선공정 등을 반복 수행하면서 생성되는 기판 표면의 요철로 인한 셀 지역과 주변 회로지역간 높이 차를 제거하는 광역 평탄화와, 회로 형성용 콘택/배선막 분리 및 고집적 소자화에 따른 기판 표면 거칠기 향상 등을 도모하기 위하여 기판의 연마면에 대한 연마 공정이 필요하다.
상기 연마 공정은, 연마 헤드의 하측에 기판을 위치시키고, 기판의 연마면이 연마 패드와 접촉한 상태로 기판을 가압하면서 연마 패드에 대해 회전 이동시키는 것에 의해 행해진다.
반도체 패키지의 제조 공정은 연마면의 정교한 연마량 조절이 필수적이므로, 기판 연마면과 연마 패드의 기계적 마찰에 의한 기계적 연마 공정과 함께, 기판의 연마면에 슬러리를 공급하여 슬러리에 의한 화학적 연마 공정이 행해지는 화학 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP) 공정이 행해진다.
화학 기계적 연마 공정이 행해지는 CMP 장치(9)는, 도1 및 도2에 도시된 바와 같이, 상면에 연마 패드(11)가 입혀진 상태로 자전(10d)하는 연마 정반(10)과, 기판(W)을 하측에 위치시킨 상태에서 소정의 가압력(P)으로 기판(W)을 가압하고 회전(30d)하는 구동력 전달부(30)로부터 회전 구동력을 전달받아 자전하면서 기판(W)을 회전시키는 연마 헤드(20)와, 기판 연마면의 화학적 연마를 위하여 슬러리 공급구(32)로부터 연마 패드(11)에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부(30)와, 연마 공정 중에 회전(40d)하는 컨디셔닝 디스크(40a)를 하방 가압하면서 아암(41)을 소정의 각도로 스윕 운동시켜 연마 패드(11)의 상태를 개질하는 컨디셔너(40)를 포함한다.
여기서, 연마 헤드(20)는, 도3에 도시된 바와 같이, 구동력 전달부(30)로부터 회전 구동력을 전달받아 자전하는 본체부(21)와, 본체부(21)로부터 회전 구동력을 전달받아 본체부(21)와 함께 회전하는 베이스(22)와, 연마 공정 중에 연마 헤드(20)의 하측에 위치한 기판이 연마 헤드(20)의 바깥으로 이탈하는 것을 방지하도록 기판의 둘레를 링 형태로 감싸는 리테이너 링(23)과, 베이스(22)에 고정되는 고정 플랩(24b)과 기판과 밀착하는 바닥판(24a)이 구비된 가요성 재질로 형성된 가압 멤브레인(24)으로 구성된다.
가압 멤브레인(24)의 바닥판(24a)과 베이스(22)의 사이에는 고정 플랩(24b)을 경계로 하는 다수의 압력 챔버(C1, C2, C3)가 형성되고, 본체부(21)와 베이스(22)의 사이에도 링 형태의 격벽 멤브레인(26)에 의해 가압 챔버(Cm)가 형성되어, 압력 챔버(C1, C2, C3)와 가압 챔버(Cm)의 압력이 압력 조절부(25p)로부터 조절되어 기판(W)에 가압력을 작용시킨다.
한편, 도2에 도시된 바와 같이, 연마 공정 중에 기판(W)은 연마 헤드(20)의 하측에 위치한 상태로 가압되면서 자전하고, 이와 동시에 연마 정반(10)에 입혀진 연마 패드(11)도 자전(11d)을 한다. 이에 따라, 기판(W)은 연마 패드(11)와의 마찰에 의해 기계적으로 연마되고, 연마 입자가 연마 패드(11) 상에 잔류하는 상태가 된다. 이와 동시에, 연마 공정 중에 슬러리 공급부(30)로부터 연마 패드(11) 상에 슬러리가 공급되며, 슬러리는 연마 패드(11) 상에서 도면부호 65로 표시된 방향으로 기판(W)에 도달하여 기판(W)의 화학적 연마를 행하게 된다.
이에 따라, 연마 공정 중에는 연마 패드 상에는 슬러리, 연마 입자 등이 혼재된 상태가 되는 데, 연마 헤드(20)와 연마 패드(11)는 자전하고 컨디셔닝 디스크(40a)는 스윕 운동을 함에 따라, 연마 패드(11) 상의 슬러리, 연마입자 등의 이물질이 주변으로 튀는 현상이 수반된다. 그리고, 연마 공정 중에 이물질이 연마 헤드(20)의 내부 또는 틈새로 유입되는 것을 방지해야 할 필요성이 있다.
즉, 도3에 도시된 바와 같이, 연마 헤드(20)는 기판(W)을 하측에 위치시킨 상태로 연마 공정을 행하는 과정에서, 연마 헤드(20)의 외주면으로부터 이물질의 유입을 방지하고 있을지 모르는 외부 충격으로부터 방지하는 커버(28)가 구비된다. 그러나, 연마 패드 상의 이물질은 액체와 입자 등이 혼재된 상태이므로, 커버(28)와 리테이너링(23)의 사이 틈새로 이물질이 유입되어 막히는 등의 문제가 발생되었다.
따라서, 연마 공정 중에 연마 헤드의 외부 틈새나 내부로 슬러리, 연마 입자 등의 이물질이 유입되는 것을 방지할 필요성이 높아지고 있다.
본 발명은 전술한 기술적 배경하에서 창안된 것으로, 본 발명은 연마 공정 중에 슬러리, 연마 입자 등의 이물질이 연마 헤드로 유입되는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 이물질의 유입을 방지하는 탄성 밀봉링의 교체를 보다 용이하게 하는 것을 목적으로 한다.
이를 통해, 본 발명은 연마 헤드의 장수명을 보장하고 유지 관리 비용을 줄이는 것을 목적으로 한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명은, 리테이너 링과 커버 사이에 요홈이 링 형태로 내주면에 형성되어 리테이너 링과 커버 사이에 개재되어 설치되는 연마 헤드용 탄성 밀봉링을 제공한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 연마 공정 중에 연마 패드 상에 잔류하는 이물질이 연마 헤드의 내부에 침투하는 것을 확실히 방지하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 수명을 다한 탄성 밀봉링의 교체를 용이하게 하여 유지 보수의 편의와 비용을 증진시키는 효과가 있다.
이를 통해, 본 발명은 연마 헤드의 장수명을 보장하는 효과를 얻을 수 있다.
도1은 일반적인 화학 기계적 연마 장치의 구성을 도시한 정면도
도2는 일반적인 화학 기계적 연마 장치의 구성을 도시한 평면도
도3은 도1의 연마 헤드의 구성을 도시한 단면도,
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 탄성 밀봉링이 구비된 연마 헤드의 반단면도,
도5은 도4의 격벽 멤브레인의 일부절개 사시도,
도6은 도5의 절단선 X-X에 따른 단면도,
도7은 도5의 탄성 밀봉링의 작용을 설명하기 위한 도4의 'A'부분의 확대도,
도8은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 탄성 밀봉링의 작용을 설명하기 위한 도4의 'A'부분에 대응하는 부분의 확대도,
도9는 본 발명의 또 다른 실시 형태에 따른 탄성 밀봉링의 구성을 도6의 'B'부분에 대응하는 부분의 확대도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 헤드용 탄성 밀봉링(1) 및 이를 구비한 연마 헤드(100)를 상술한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 동일 또는 유사한 도면 부호를 부여하고 이에 대한 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 멤브레인(1)이 구비된 연마 헤드(110)는, 캐리어 구동 샤프트(도1의 30)에 결합되어 캐리어 구동 샤프트(30)에 의해 회전 구동되는 본체부(110)와, 본체부(110)에 대하여 회전 방향으로는 간섭되고 상하 방향으로의 이동이 허용되어 본체부(110)와 함께 회전하는 베이스(120)와, 본체부(110)와 베이스(120)를 연결하여 그 사이에 가압 챔버(Cm)를 형성하는 격벽 멤브레인(126)과, 연마 공정 중에 연마 헤드(100)의 하측에 위치하는 기판(W)의 이탈을 방지하도록 기판(W)의 둘레를 감싸는 리테이너 링(130)과, 연마 공정 중에 기판(W)과 밀착하는 바닥판(141)과 다수의 고정 플랩(142)이 형성되어 베이스(120)와의 사이에 압력 챔버(C1, C2, C3, C4, C5)를 형성하는 가압 멤브레인(140)과, 연마 헤드의 상부 측면을 감싸는 상측 커버(150) 및 연마 헤드의 하부 측면을 감싸는 하측 커버(160)를 포함하여 구성된다.
도면에는 연마 헤드의 외주면을 감싸는 커버가 상측 커버(150)와 하측 커버(160)로 이원화된 구성이 예시되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 아니하며, 상측 커버와 하측 커버가 일체화된 하나의 커버로 형성되는 구성을 포함한다.
상기 본체부(110)는 캐리어 구동 샤프트(30)에 결합되어, 캐리어 구동 샤프트(30)의 회전 토크를 전달받아 연마 헤드(100)를 회전시킨다. 이에 따라, 본체부(110)와 연동되어 베이스(120), 리테이너링(130), 멤브레인(140), 커버(150, 160)가 다함께 회전한다.
상기 베이스(120)는 본체부(110)의 회전과 연동되어 본체부(110)와 함께 회전하지만, 본체부(110)에 대하여 상하 방향으로의 이동이 허용되게 설치된다. 예를 들어, 본체부(110)와 베이스(120) 중 어느 하나에 상하 방향으로 연장된 연결핀(미도시)이 구비되어, 본체부(110)와 베이스(120) 중 다른 하나의 홈에 연결핀의 일부가 삽입 설치된다. 이를 통해, 베이스(120)는 본체부(110)에 대하여 연결핀을 따라 상하 방향으로 이동이 허용되면서, 본체부(110)의 회전 구동력이 연결핀을 통해 베이스(120)에 전달되어 함께 회전하는 것이 가능해진다. 한편, 연결핀 이외에 신축 가능한 재질의 연결 부재로 본체부(110)와 베이스(120)를 연결하는 등 다양한 형태로 본체부(110)로부터 베이스(120)로 회전 구동력이 전달되게 구성될 수도 있다.
한편, 본체부(110)와 베이스(120)의 링 형태의 빈 공간은 가요성 재질의 격벽 멤브레인(126)에 의해 연결되며, 이에 따라 본체부(110)와 베이스(120)의 사이에는 가압 챔버(Cm)가 구비된다. 가압 챔버(Cm)는 베이스(120)를 전체적으로 상하 방향으로 이동시키면서 기판(W)을 가압하는데 사용된다.
가압 멤브레인(140)은 기판(W)과 유사한 형상으로 형성되어 기판(W)과 밀착하는 바닥판(141)과, 링 형태를 이루며 바닥판(141)으로부터 상방으로 연장된 다수의 고정 플랩(142)으로 이루어진다. 고정 플랩(142)은 베이스(120) 등에 결합되어, 바닥판(141)과 베이스(120)의 사이에 서로 격리된 다수의 압력 챔버(C1, C2, C3, C4, C5)가 형성된다. 그리고, 각각의 압력 챔버(C1, C2, C3, C4, C5)의 압력값은 압력 조절부(25p)에 의해 독립적으로 제어된다.
여기서, 고정 플랩(142)은 다양한 형상으로 다양하게 배치될 수 있다. 대체로, 연마 공정이 이루어지는 기판(W)이 원형이므로, 바닥판(141)도 원형으로 형성되고, 고정 플랩(142)은 동심원 형태를 이루는 다수의 링 형태로 형성되는 것이 바람직하다.
대체로 가압 멤브레인(140)은 가요성 재질로 형성되지만, 최외측 고정 플랩은 높은 강성이 필요한 경우에는 비가요성 재질이 결합되게 구성될 수도 있다.
상기 리테이너 링(130)은, 연마 공정 중에 기판(W)은 가압 멤브레인(140)의 바닥판(141)에 밀착된 상태로 가압되는 기판(W)의 둘레를 감싸는 링 형태로 형성되어, 기판(W)이 연마 헤드(100)의 바깥으로 이탈하는 것을 방지한다. 리테이너 링(130)의 저면은 연마 공정 중에 연마 패드(11) 상에 밀착된 상태로 유지된다.
이를 위하여 도5에 도시된 리테이너 챔버(Cr)가 구비될 수 있다. 즉, 리테이너 챔버(Cr)의 압력이 압력 조절부(25p)에 의해 부압과 정압으로 조절됨에 따라, 리테이너 챔버(Cr) 하측의 리테이너 고정부(132) 및 리테이너링(130)을 상하 방향(130d)으로 이동 가능해진다. 이에 따라, 연마 공정 중에는 리테이너 챔버(Cr)의 압력이 정압으로 유지되어 리테이너 링(130)의 저면이 연마 패드(11)에 소정의 가압력으로 밀착된다.
다만, 본 발명은 연마 헤드에 리테이너 챔버(Cr)가 구비되는 구성으로 한정되지 아니하며, 리테이너링(130)의 마모량이 증가할때마다 연마 헤드(100)의 높이를 마모량만큼 하방 이동한 상태에서 연마 공정을 진행하는 형태로도 구성될 수 있다.
리테이너 링(130)은 연마 공정 중에 마모되는 소모품이므로, 수명이 다한 리테이너 링(130)을 새로운 리테이너 링으로 교체 장착하기 위한 리테이너 고정부(132)가 구비된다.
상기 커버(150, 160)는 연마 헤드의 상측 외주면을 감싸는 내측 커버(150)와 하측 외주면을 감싸는 외측 커버(160)로 이루어진다. 커버(150, 160)는 연마 헤드(100)의 내부에 측방향에서 이물질이 유입되는 것을 방지하기 위하여 설치된다. 도면에 예시된 실시예에서는, 내측 커버(150)와 외측 커버(160)로 2겹으로 형성되지만, 본 발명은 이에 한정되지 아니하며, 1겹 또는 3겹 이상으로 형성될 수 있다.
연마 패드(11)와 인접한 외측 커버의 하단부는 연마 패드(11)에 잔류하는 이물질이 튀어 유입되기 쉬운 환경에 노출되어 있다. 따라서, 하측 커버(160)의 하단부와 리테이너 고정부(132)의 상단부의 사이에는, 연마 패드(11)에 잔류하는 이물질이 튀어 유입되는 것을 방지하는 탄성 밀봉링(1)이 압축 변형된 상태로 끼워져 설치된다.
상기 탄성 밀봉링(1)은, 도5 및 도6에 도시된 바와 같이, 모서리가 라운드 처리된 대략 사각 단면으로 형성되며, 내주면(Si)에 링 형태의 요홈(Gv)이 전체 원주 길이에 걸쳐 요입 형성되고, 리테이너 링(130)을 하부에 고정하는 리테이너 고정부(132)와 연마 헤드(100)의 외주 측면의 일부 이상을 감싸는 커버(150, 160) 중 하측에 위치한 외측 커버(160)의 사이에 압축력이 작용한 상태로 설치된다.
여기서, 탄성 밀봉링(1)은 고무 계열이나 우레탄 계열의 가요성 재질로 형성된다. 대체로 연마 헤드(100)의 외주면 형상인 원형으로 형성되지만, 가요성 재질이므로 연마 헤드(100)의 외주면을 감쌀 수 있는 다양한 형상, 예를 들어 타원 형상으로 형성될 수 있다.
그리고, 탄성 밀봉링(1)에서 요홈(Gv)이 형성되는 길이(Lv)는 다양하게 정해질 수 있으며, 예를 들어, 상하 방향으로 요홈이 형성되지 않은 길이(Le)의 0.5배~1.0배의 길이로 정해질 수 있다.
이와 같이, 압축 설치되는 탄성 밀봉링(1)의 내주면에 요홈(Gv)이 링 형태로 형성되면, 도6에 도시된 바와 같이, 하측 커버(160)의 하단부가 탄성 밀봉링(1)을 하방으로 밀어내는 힘(F)이 작용하면, 탄성 밀봉링(1)이 상하 방향으로 압축되는 변위가 발생되면서, 상하 단면에 요홈이 없는 영역(Ai)은 압축 응력이 집중되지만, 상하 단면에 요홈(Gv)이 있는 영역(Ac)은 압축력이 작용하는 만큼 휨 변형이 발생되어 압축 응력이 집중되는 정도가 완화된다.
이를 통해, 도7에 도시된 바와 같이, 연마 헤드(100)의 외주면에 드러나는 요홈없는 영역(Ai)의 외주면(Se)은 외부로 완만하게 탄성 변형에 의해 튀어나오게 됨에 따라, 하측 커버(160)와 리테이너 고정부(132)의 사이에서 보다 완전하게 밀봉되는 효과를 얻을 수 있다. 따라서, 연마 공정 중에 연마 패드(11)에 잔류하는 이물질이 튀어 탄성 밀봉링의 상면(Su)과 하측 커버(130)의 하단부 사이틈새나 탄성 밀봉링(1)의 저면(Sb)과 리테이너 고정부(132)의 상면 사이 틈새로 유입(66)되는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다.
이 뿐만 아니라, 상하 단면에 요홈이 없는 영역(Ac)은 상하 단면에 요홈이 있는 영역(Ai)에 비하여 리테이너 고정부(132)와 하측 커버(160)의 하단부와의 밀착되는 정도가 보다 낮은 상태로 유지된다. 이에 따라, 탄성 밀봉링(1)이 장시간 동안 연마 헤드(100)에 장착되어 이물질의 유입 방지 효과를 다한 상태에서, 새로운 탄성 밀봉링으로 교체하는 유지 보수 시에, 장시간 동안 큰 압축력을 받고 있던 상하 단면에 요홈이 있는 영역(Ai)에서의 탄성 밀봉링(1)은 고무 또는 우레탄 계열이어서 하측 커버(160)의 하단부나 리테이너 고정부(132)의 상면에 흡착되어 떼어내는 것이 매우 곤란하지만, 장시간 동안 압축력이 작게 받고 있던 상하 단면에 요홈이 없는 영역(Ac)에서는 고무 또는 우레탄 계열의 탄성 밀봉링(1)이 흡착되지 않은 상태가 된다.
따라서, 유지보수 작업자는 상하 단면에 요홈이 없는 영역(Ac)의 탄성 밀봉링(1)을 잡고 쉽게 잡아당기는 것에 의해, 수명이 다한 탄성 밀봉링(1)을 하측 커버(160) 또는 리테이너 고정부(132)로부터 쉽게 분리하여 새로운 탄성 밀봉링으로 교체할 수 있게 된다. 즉, 탄성 밀봉링(1)의 교체 공정이 훨씬 용이해진다.
한편, 탄성 밀봉링(1)의 내주면에 360도에 걸쳐 링 형태로 형성된 요홈(Gv)은 V자 단면으로 형성되는 것이 유리하다. 이는, 도7에 도시된 바와 같이, 하측 커버(160)의 하단부가 리테이너 고정부(132)를 향하여 하방으로 누르는 힘(F)이 작용할 때에, V자형 요홈(Gv)이 형성된 경우에는, 압축력에 따른 응력 집중 현상이 요홈의 깊숙한 지점으로부터 내주면(Si)을 향하여 선형적으로 완화되어, 탄성 밀봉링(1)의 외주면에서는 충분히 높은 압축력에 의해 밀봉성을 확보하면서, 탄성 밀봉링(1)의 상하 단면에서 요홈(Gv)이 형성되지 않은 영역(Ac)에서는 압축 응력이 내주측을 향하여 서서히 감소하므로 탄성 밀봉링(1)의 내부에 국부적인 응력 집중현상이 완화되어 보다 장시간 동안 사용할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
다만, 본 발명은 요홈의 단면이 V자 형상인 구성으로 국한되지 않으며, 도8에 도시된 바와 같이, 요홈(Gu)의 단면이 U자 형상인 구성을 포함한다. 압축력에 따른 응력 집중 현상이 요홈의 깊숙한 지점으로부터 내주면(Si)을 향하여 선형적으로 완화되기 보다는 급격히 완화되지만, 외주면(Se)에서의 밀봉 효과와 상하 단면에서 요홈(Gu)이 형성되지 않은 영역(Ac)에서 탄성 밀봉링(2)의 상면(Su)이나 저면(Sb)이 각각 하측 커버(160)의 하단부와 리테이너 고정부(132)의 상면에 흡착되는 것을 피하는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 도9에 도시된 바와 같이, 탄성 밀봉링의 외주면(Se)의 높이(Le)가 내주면(Si)의 높이(Li)에 비하여 보다 더 크게 형성될 수도 있다. 즉, 탄성 밀봉링의 사각 단면을 기준으로, 상면(Su)과 저면(Sb) 중 어느 하나 이상에 구배를 갖는 경사면으로 형성되어, 외주면(Se)이 내주면(Si)에 비하여 더 긴 상하 길이로 형성될 수 있다. 이를 통해, 하측 커버(160)와 리테이너 고정부(132)의 사이에서 압축력을 받는 탄성 밀봉링은 외주면에서의 압축응력을 보다 더 크게 작용하여 이물질에 대한 밀봉 특성을 향상시킬 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경 가능한 것이고, 이와 같이 변경된 구성은 본 발명의 범주에 속하는 것이다.
1: 탄성 밀봉링 Gv, Gu: 요홈
100: 연마 헤드 110: 본체부
120: 베이스 130: 리테이너 링
140: 가압 멤브레인 150: 상측 커버
160: 하측 커버 W: 기판

Claims (6)

  1. 연마 공정 중에 기판을 하측에 위치시킨 상태로 회전하고, 상기 기판의 이탈을 방지하는 리테이너 링이 구비된 연마 헤드에 장착되는 탄성 밀봉링으로서,
    상기 리테이너 링을 하부에 고정하는 리테이너 고정부와, 상기 연마 헤드의 외주 측면의 일부 이상을 감싸는 커버의 사이에 개재되어 설치되고, 상기 연마 헤드의 외주면을 감싸는 링 형태로 형성되며, 내주면에는 링 형태의 요홈이 형성된 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 탄성 밀봉링.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 탄성 밀봉링은 상면과 저면이 평탄면으로 형성된 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 탄성 밀봉링.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 탄성 밀봉링은 상면과 저면 중 어느 하나 이상이 구배를 갖는 경사면으로 형성되어, 내주면에 비하여 외주면의 높이가 더 큰 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 탄성 밀봉링.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 탄성 밀봉링은 고무 계열, 우레탄 계열 중 어느 하나 이상의 가요성 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 탄성 밀봉링.
  5. 제 1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 탄성 밀봉링은 상기 커버와 상기 리테이너 고정부의 사이에 압축력이 작용한 상태로 설치되는 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 격벽 멤브레인.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 요홈은 V자형, U자형 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 연마 헤드용 탄성 밀봉링.

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