KR20190120175A - 분별 결정화에 의해 올리고실란 및 올리고실란 화합물의 순도를 증가시키는 방법 - Google Patents
분별 결정화에 의해 올리고실란 및 올리고실란 화합물의 순도를 증가시키는 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
함유물 | 제1 액체 물질 혼합물 | 제1 정제 순서 후 | 제2 정제 순서 후 |
테트라클로로실란 | 1.13% | 0.39% | 0.10% |
펜타클로로디실란 | 8.44% | 3.09% | 0.99% |
헥사클로로디실록산 | 8.42% | 3.41% | 0.64% |
헥사클로로디실란 | 81.88% | 93.07% | 98.27% |
함유물 | 제1 액체 물질 혼합물 | 제1 정제 순서 후 | 제2 정제 순서 후 | 제3 정제 순서 후 |
테트라클로로실란 | 0.005% | 0.003% | 0.002% | <0.001% |
헥사클로로디실록산 | 0.097% | 0.013% | 0.008% | <0.001% |
헥사클로로디실란 | 99.898% | 99.98% | 99.989% | >99.99% |
함유물 | 액체 물질 혼합물 | 제5 정제 순서 후 |
테트라클로로실란 | 0.096% | <0.001% |
펜타클로로디실란 | 0.03% | <0.001% |
헥사클로로디실록산 | 0.56% | 0.007% |
헥사클로로디실란 | 99.304% | >99.99% |
Claims (11)
- 무기 올리고실란 및/또는 할로겐화된 올리고실란 및/또는 유기 치환된 올리고실란을 포함하는 올리고실란 화합물이 적어도 50%인 액체 물질 혼합물이 제조되고, 상기 액체 물질 혼합물이 적어도 하나의 정제 순서로 처리되며, 이때 제1 단계 a)에서 상기 물질 혼합물은 올리고실란 화합물의 적어도 하나의 분획이 고형화하는 온도로 온도 조정되고, 제2 단계 b)에서 상기 액체 물질 혼합물의 적어도 하나의 분획이 분리되는, 올리고실란 및/또는 올리고실란 화합물의 순도를 증가시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계 a)에서 형성된 고체가 단계 b)에서 액체 물질 혼합물로부터 완전히 분리되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 하나의 정제 순서 중에 단계 b)에서 액체 물질 혼합물의 적어도 15%, 최대 50%가 분리되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 추가 정제 순서에서 액체 물질 혼합물의 적어도 10%, 최대 80%, 바람직하게는 15% 내지 45%가 분리되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 분리된 액체 물질 혼합물의 적어도 하나의 분획이 추가 정제 순서에서 추가 액체 물질 혼합물에 첨가되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 액체 물질 혼합물이 올리고실란 화합물의 농도를 달성하기 위해 사전증류되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 a)에서 형성된 고체가 디캔테이션, 여과 및/또는 원심분리를 통해 액체 물질 혼합물로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 온도가 결정화가 시작할 때까지 온도 조정 동안 저하되고, 그 뒤 이 온도가 소정의 시간 기간 동안 유지되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 온도 조정 동안 액체 물질 혼합물이 진탕되고, 바람직하게는 교반되거나 펌핑되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 정제 순서가 폐쇄된 반응기 시스템에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 불활성 기체 하에 조작되는 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016014900.0A DE102016014900A1 (de) | 2016-12-15 | 2016-12-15 | Verfahren zur Erhöhung der Reinheit von Oligosilanen und Oligosilanverbindungen |
DE102016014900.0 | 2016-12-15 | ||
PCT/DE2017/000425 WO2018108199A1 (de) | 2016-12-15 | 2017-12-15 | Verfahren zur erhöhung der reinheit von oligosilanen und oligosilanverbindungen durch fraktionierte crystallisation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190120175A true KR20190120175A (ko) | 2019-10-23 |
KR102439298B1 KR102439298B1 (ko) | 2022-09-01 |
Family
ID=61192610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197020457A Active KR102439298B1 (ko) | 2016-12-15 | 2017-12-15 | 올리고실란 및 올리고실란 화합물의 순도를 증가시키는 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11584654B2 (ko) |
JP (1) | JP6996776B2 (ko) |
KR (1) | KR102439298B1 (ko) |
CN (1) | CN110402236B (ko) |
CA (1) | CA3064929A1 (ko) |
DE (2) | DE102016014900A1 (ko) |
WO (1) | WO2018108199A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016014900A1 (de) | 2016-12-15 | 2018-06-21 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Erhöhung der Reinheit von Oligosilanen und Oligosilanverbindungen |
CN116375755A (zh) * | 2023-02-24 | 2023-07-04 | 湖北江瀚新材料股份有限公司 | 用于芯片cvd沉积的正硅酸乙酯提纯工艺 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006169012A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Sumitomo Titanium Corp | ヘキサクロロジシラン及びその製造方法 |
JP2013212957A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Toagosei Co Ltd | 高純度クロロシランの製造方法および製造装置 |
DE102014007685A1 (de) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hexachlordisilan |
WO2016037601A1 (de) * | 2014-09-08 | 2016-03-17 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur aufreinigung halogenierter oligosilane |
US20160264426A1 (en) * | 2016-05-19 | 2016-09-15 | Air Liquide Advanced Materials, Inc. | Synthesis methods for halosilanes |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA632238A (en) * | 1961-12-05 | A. Jacob Theodore | Purification of silane | |
FR2034331B1 (ko) * | 1969-03-17 | 1974-07-12 | Rhone Poulenc Sa | |
IT1196197B (it) * | 1984-07-23 | 1988-11-10 | Ravizza Spa | Procedimento per la risoluzione dell'acido (+)(-) 2-(2'-(p-fluorofenil)--5'-benzossazolil)-propionico |
DE102006034061A1 (de) * | 2006-07-20 | 2008-01-24 | REV Renewable Energy Ventures, Inc., Aloha | Polysilanverarbeitung und Verwendung |
DE102009027729A1 (de) | 2009-07-15 | 2011-01-27 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
DE102009056731A1 (de) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Rev Renewable Energy Ventures, Inc. | Halogenierte Polysilane und Polygermane |
JP5542026B2 (ja) * | 2010-10-27 | 2014-07-09 | 信越化学工業株式会社 | クロロシラン類の精製方法 |
KR101517513B1 (ko) * | 2013-10-07 | 2015-05-06 | 한국에너지기술연구원 | 입체장애 알카놀아민을 포함하는 이산화탄소 흡수용 조성물, 이를 이용한 이산화탄소 흡수 방법 및 장치 |
DE102016014900A1 (de) | 2016-12-15 | 2018-06-21 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Erhöhung der Reinheit von Oligosilanen und Oligosilanverbindungen |
-
2016
- 2016-12-15 DE DE102016014900.0A patent/DE102016014900A1/de not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-12-15 US US16/469,975 patent/US11584654B2/en active Active
- 2017-12-15 KR KR1020197020457A patent/KR102439298B1/ko active Active
- 2017-12-15 DE DE112017006301.9T patent/DE112017006301A5/de active Pending
- 2017-12-15 CA CA3064929A patent/CA3064929A1/en active Pending
- 2017-12-15 CN CN201780086537.6A patent/CN110402236B/zh active Active
- 2017-12-15 WO PCT/DE2017/000425 patent/WO2018108199A1/de active Application Filing
- 2017-12-15 JP JP2019553619A patent/JP6996776B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006169012A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Sumitomo Titanium Corp | ヘキサクロロジシラン及びその製造方法 |
JP2013212957A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Toagosei Co Ltd | 高純度クロロシランの製造方法および製造装置 |
DE102014007685A1 (de) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hexachlordisilan |
WO2016037601A1 (de) * | 2014-09-08 | 2016-03-17 | Psc Polysilane Chemicals Gmbh | Verfahren zur aufreinigung halogenierter oligosilane |
US20160264426A1 (en) * | 2016-05-19 | 2016-09-15 | Air Liquide Advanced Materials, Inc. | Synthesis methods for halosilanes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6996776B2 (ja) | 2022-01-17 |
CN110402236B (zh) | 2023-04-04 |
US20200079653A1 (en) | 2020-03-12 |
JP2020503236A (ja) | 2020-01-30 |
DE102016014900A1 (de) | 2018-06-21 |
WO2018108199A1 (de) | 2018-06-21 |
CA3064929A1 (en) | 2018-06-21 |
DE112017006301A5 (de) | 2019-12-19 |
CN110402236A (zh) | 2019-11-01 |
US11584654B2 (en) | 2023-02-21 |
KR102439298B1 (ko) | 2022-09-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20190712 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
AMND | Amendment | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20191204 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20210723 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20220225 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20210723 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
AMND | Amendment | ||
PX0901 | Re-examination |
Patent event code: PX09011S01I Patent event date: 20220225 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20211022 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20191204 Comment text: Amendment to Specification, etc. |
|
PX0701 | Decision of registration after re-examination |
Patent event date: 20220615 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PX07013S01D Patent event date: 20220525 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20220225 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX07011S01I Patent event date: 20211022 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20191204 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I |
|
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20220829 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20220829 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |