KR20190101463A - 탄성파 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
탄성파 장치(10)는 압전기판(2)(압전성을 가지는 기판)과, 압전기판(2) 상에서 구성되어 있고, 제1 통과대역을 가지는 제1 대역통과형 필터(1A)(제1 필터)와, 압전기판(2) 상에서 구성되어 있으면서, 제1 통과대역보다도 고역 측에 위치하는 제2 통과대역을 가지는 제2 대역통과형 필터(1B)(제2 필터)를 포함한다. 제1 대역통과형 필터(1A) 및 제2 대역통과형 필터(1B)가 각각 IDT 전극을 포함하는 공진자를 가지며, 모든 IDT 전극의 듀티비의 평균값을 제1 전체 평균 듀티비로 하고, 제2 필터의 모든 IDT 전극의 듀티비의 평균값을 제2 전체 평균 듀티비로 했을 때에, 제1 전체 평균 듀티비가 제2 전체 평균 듀티비보다 크다.
Description
도 2는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 탄성파 장치의 회로 구성을 나타내는 약도적 평면도이다.
도 3은 도 2 중의 I-I선을 따르는 약도적 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시형태에서의 제1 대역통과형 필터의 안테나 단자에 가장 가깝게 위치하는 탄성파 공진자의 전극구조를 나타내는 모식적 평면도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시형태에서의 제1 대역통과형 필터의 종결합 공진자형 탄성파 필터의 전극구조를 나타내는 모식적 평면도이다.
도 6(a)~도 6(d)는 본 발명의 제1 실시형태의 탄성파 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한, 도 2 중의 I-I선을 따르는 부분에 상당하는 약도적 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시형태에 따른 탄성파 장치의 전극구조를 나타내는 약도적 평면도이다.
2: 압전기판
3: 안테나 단자
4, 5: 제1, 제2 신호 단자
6A, 6B: 종결합 공진자형 탄성파 필터
7: 그라운드 단자
8: 비아 전극
9: 범프
10: 탄성파 장치
11: 비아 홀
12: IDT 전극
13a: 제1 버스바
13b: 제1 전극지
14a: 제2 버스바
14b: 제2 전극지
15a, 15b: 반사기
16a~16e: IDT 전극
17a, 17b: 반사기
18: 지지 부재
18a: 개구부
19: 커버 부재
20: 탄성파 장치
21B: 제2 대역통과형 필터
26B: 종결합 공진자형 탄성파 필터
P1, P11, P21, S1, S2, S11, S21, S22: 탄성파 공진자
Claims (12)
- 압전성을 가지는 기판과,
상기 압전성을 가지는 기판 상에서 구성되어 있고, 제1 통과대역을 가지는 제1 필터와,
상기 압전성을 가지는 기판 상에서 구성되어 있으면서, 상기 제1 통과대역보다도 고역(高域) 측에 위치하는 제2 통과대역을 가지는 제2 필터를 포함하고,
상기 제1 필터 및 상기 제2 필터가 각각 IDT 전극을 포함하는 공진자를 가지며,
상기 제1 필터의 모든 상기 IDT 전극의 듀티비의 평균값을 제1 전체 평균 듀티비로 하고, 상기 제2 필터의 모든 상기 IDT 전극의 듀티비의 평균값을 제2 전체 평균 듀티비로 했을 때에, 상기 제1 전체 평균 듀티비가 상기 제2 전체 평균 듀티비보다 큰, 탄성파 장치. - 압전성을 가지는 기판과,
상기 압전성을 가지는 기판 상에서 구성되어 있고, 제1 통과대역을 가지는 제1 필터와,
상기 압전성을 가지는 기판 상에서 구성되어 있으면서, 상기 제1 통과대역보다도 고역 측에 위치하는 제2 통과대역을 가지는 제2 필터를 포함하고,
상기 제1 필터 및 상기 제2 필터가 각각 IDT 전극을 포함하는 공진자를 가지며,
상기 제1 필터 및 상기 제2 필터에서의 상기 공진자 중 상기 IDT 전극의 평균 듀티비가 가장 큰 공진자가 상기 제1 필터에서의 탄성파 전파 방향을 따르는 길이가 가장 긴 공진자인, 탄성파 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 필터 및 상기 제2 필터의 상기 공진자 중 상기 IDT 전극의 평균 듀티비가 가장 작은 공진자를 상기 제2 필터가 가지는, 탄성파 장치. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 통과대역의 고역 측 단부와 상기 제2 통과대역의 저역(低域) 측 단부의 주파수차가, 상기 제1 통과대역의 대역폭 및 상기 제2 통과대역의 대역폭 중 좁은 쪽의 대역폭 이상인, 탄성파 장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 통과대역과 상기 제2 통과대역이 상이한 통신 밴드의 통과대역인, 탄성파 장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 통과대역과 상기 제2 통과대역이 동일한 통신 밴드의 통과대역이며 듀플렉서인, 탄성파 장치. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 필터의 상기 IDT 전극의 막 두께와 상기 제2 필터의 상기 IDT 전극의 막 두께가 동일한, 탄성파 장치. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 탄성파 장치의 실장에 이용되는 복수개의 범프를 더 포함하고,
상기 탄성파 장치의 탄성파 전파 방향을 따르는 중심선 및 탄성파 전파 방향에 직교하는 방향을 따르는 중심선 중 적어도 한쪽에 대하여 상기 복수개의 범프가 선대칭으로 배치되어 있는, 탄성파 장치. - 제1항에 기재된 탄성파 장치의 제조 방법으로서,
상기 압전성을 가지는 기판을 준비하는 공정과,
상기 압전성을 가지는 기판 상에 상기 제1 필터의 상기 IDT 전극 및 상기 제2 필터의 상기 IDT 전극을 동시에 형성하는 공정을 포함하고,
상기 IDT 전극을 형성하는 공정에서, 상기 제1 전체 평균 듀티비가 상기 제2 전체 평균 듀티비보다 커지도록 상기 IDT 전극을 형성하는, 탄성파 장치의 제조 방법. - 제2항에 기재된 탄성파 장치의 제조 방법으로서,
상기 압전성을 가지는 기판을 준비하는 공정과,
상기 압전성을 가지는 기판 상에 상기 제1 필터의 상기 IDT 전극 및 상기 제2 필터의 상기 IDT 전극을 동시에 형성하는 공정을 포함하고,
상기 IDT 전극을 형성하는 공정에서, 상기 제1 필터 및 상기 제2 필터에서의 상기 공진자 중 상기 IDT 전극의 평균 듀티비가 가장 큰 공진자가 상기 제1 필터에서의 탄성파 전파 방향을 따르는 길이가 가장 긴 공진자가 되도록 상기 IDT 전극을 형성하는, 탄성파 장치의 제조 방법. - 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 IDT 전극을 형성하는 공정에서, 상기 제1 필터 및 상기 제2 필터의 상기 공진자 중 상기 IDT 전극의 평균 듀티비가 가장 작은 공진자를 상기 제2 필터가 가지도록 상기 IDT 전극을 형성하는, 탄성파 장치의 제조 방법. - 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 필터의 상기 IDT 전극의 막 두께와 상기 제2 필터의 상기 IDT 전극의 막 두께가 동일한, 탄성파 장치의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2017-036180 | 2017-02-28 | ||
JP2017036180 | 2017-02-28 | ||
PCT/JP2018/000633 WO2018159111A1 (ja) | 2017-02-28 | 2018-01-12 | 弾性波装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190101463A true KR20190101463A (ko) | 2019-08-30 |
KR102290082B1 KR102290082B1 (ko) | 2021-08-17 |
Family
ID=63371248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197023216A Active KR102290082B1 (ko) | 2017-02-28 | 2018-01-12 | 탄성파 장치 및 그 제조 방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11329629B2 (ko) |
JP (1) | JP6766945B2 (ko) |
KR (1) | KR102290082B1 (ko) |
CN (1) | CN110337783B (ko) |
WO (1) | WO2018159111A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
- 2018-01-12 JP JP2019502488A patent/JP6766945B2/ja active Active
- 2018-01-12 KR KR1020197023216A patent/KR102290082B1/ko active Active
- 2018-01-12 CN CN201880014323.2A patent/CN110337783B/zh active Active
- 2018-01-12 WO PCT/JP2018/000633 patent/WO2018159111A1/ja active Application Filing
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2019
- 2019-08-23 US US16/548,896 patent/US11329629B2/en active Active
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---|---|
KR102290082B1 (ko) | 2021-08-17 |
CN110337783B (zh) | 2023-02-28 |
US20190379354A1 (en) | 2019-12-12 |
WO2018159111A1 (ja) | 2018-09-07 |
CN110337783A (zh) | 2019-10-15 |
JP6766945B2 (ja) | 2020-10-14 |
US11329629B2 (en) | 2022-05-10 |
JPWO2018159111A1 (ja) | 2019-11-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0105 | International application |
Patent event date: 20190807 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20201030 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20210528 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20210810 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20210811 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |