KR20170112247A - Optical film and method for producing the same - Google Patents
Optical film and method for producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170112247A KR20170112247A KR1020160039047A KR20160039047A KR20170112247A KR 20170112247 A KR20170112247 A KR 20170112247A KR 1020160039047 A KR1020160039047 A KR 1020160039047A KR 20160039047 A KR20160039047 A KR 20160039047A KR 20170112247 A KR20170112247 A KR 20170112247A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- metal oxide
- metal
- oxide layer
- optical film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/04—Compounds of zinc
- C09C1/043—Zinc oxide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0053—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor combined with a final operation, e.g. shaping
- B29C2045/0079—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor combined with a final operation, e.g. shaping applying a coating or covering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명은 광학 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 기재 상에 순차적으로 제1 금속산화물층, 금속층 및 제2 금속산화물층을 포함하여 금속층으로 침투하는 수분 및 산소를 차단하여 금속이 산화되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 및 제2 금속산화물층을 특정 물질 및 특정방법으로 형성하여 가시광 투과도를 조절할 뿐만 아니라 수분과 산소를 차단하여 금속층의 금속이 산화되는 것을 막을 수 있다. 또한, 금속층을 순수한 금속으로 형성하여 광학 필름의 제조 비용을 절감할 수 있다.The present invention relates to an optical film and a method of manufacturing the same, and includes a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer sequentially on a substrate to block water and oxygen penetrating into the metal layer, can do. Specifically, the first and second metal oxide layers may be formed by a specific material and a specific method to control visible light transmittance as well as moisture and oxygen to prevent metal oxidation of the metal layer. In addition, the metal layer can be formed of pure metal, and the manufacturing cost of the optical film can be reduced.
Description
본 발명은 광학 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 금속층 산화에 의한 불량을 최소화 하는 광학 필름에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical film and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an optical film that minimizes defects caused by oxidation of a metal layer.
윈도우 필름 중 솔라컨트롤 필름은 적외선을 차단하는 방식에 따라 흡수형 필름과 반사형 필름으로 나눌 수 있다. 일반적으로 흡수형 솔라컨트롤 필름을 주로 사용하며, 반사형 솔라컨트롤 필름은 high-end 제품에 사용한다. 반사형 솔라컨트롤 필름은 적외선을 반사하여 적외선 투과율이 낮은 필름으로 금속 산화물층과 금속층이 교대로 적층된 구조가 대표적이다. 구체적으로 상기 금속 산화물층의 역할은 두 가지가 있다. 첫번째는 굴절율과 두께 조정을 통해서 가시광 투과도를 조절하는 굴절률 조정층(index matching층)의 역할이고, 두번째는 수분과 산소를 차단하여 금속이 산화되는 것을 방지하는 배리어층의 역할이다.Among the window films, the solar control film can be divided into absorbing film and reflection film according to the way of blocking infrared rays. Generally, absorption type solar control film is mainly used, and reflection type solar control film is used for high-end products. The reflection type solar control film is a film having a low infrared transmittance by reflecting infrared light, and a structure in which a metal oxide layer and a metal layer are alternately stacked is typical. Specifically, the metal oxide layer has two roles. The first is the role of the index matching layer that controls the visible light transmittance through the adjustment of the refractive index and the thickness. The second is the role of the barrier layer that prevents the oxidation of the metal by blocking water and oxygen.
일반적인 솔라컨트롤 필름들의 금속 산화물층은 배리어층 역할을 거의 하지 못한다. 따라서 금속층의 산화방지를 위해서 순순한 금속 대신에 내구성이 우수한 함금금속을 사용한다. 구체적으로 은 대신 APC(Ag-Pd-Cu)를 사용한다. 이로 인해 솔라컨트롤 필름 가격이 상승하게 된다는 문제점이 있다.The metal oxide layer of conventional solar control films has little role as a barrier layer. Therefore, in order to prevent oxidation of the metal layer, an alloy metal having excellent durability is used instead of pure metal. Specifically, APC (Ag-Pd-Cu) is used instead of silver. As a result, the price of the solar control film is increased.
본 발명의 목적은 낮은 수분투과도 및 산소투과도를 가지는 광학 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an optical film having a low moisture permeability and an oxygen permeability and a method for producing the same.
본 발명은,According to the present invention,
기재 상에 순차적으로 형성된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하고,A first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer sequentially formed on the substrate,
광학 필름 전체의 수분투과율(WVTR)은 독립적으로 400 mg/m2day 미만이고, 산소투과도(OTR)는 0.3 cc/m2day 미만인 광학 필름을 제공한다.The moisture permeability (WVTR) of the optical film as a whole is independently less than 400 mg / m 2 day, and the oxygen permeability (OTR) is less than 0.3 cc / m 2 day.
또한, 본 발명은,Further, according to the present invention,
기재 상에 제1 금속 산화물층을 형성하는 단계;Forming a first metal oxide layer on the substrate;
제1 금속 산화물층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및Forming a metal layer on the first metal oxide layer; And
금속층 상에 제2 금속 산화물층을 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조방법을 제공한다.And forming a second metal oxide layer on the metal layer.
본 발명은 특정 물질 및 특정 방법으로 금속 산화물층을 형성함으로써, 가시광 투과도를 조절할 뿐만 아니라 수분과 산소를 차단하여 금속이 산화되는 것을 방지할 수 있다.By forming a metal oxide layer by a specific material and a specific method, not only the visible light transmittance but also moisture and oxygen can be prevented from being oxidized by the present invention.
구체적으로, 금속 산화물층은 굴절률 조정층(index matching층)과 배리어(barrier)층의 역할을 함으로써, 내구성이 우수하고 투명한 광학 필름을 얻을 수 있다. 종래 기술들은 내후성이 우수한 광학 필름을 제작하기 위해서 합금금속층을 사용하는 것과 달리 본 발명은 순수 금속층을 사용하고도 내후성이 우수한 광학 필름을 제작할 수 있다.Specifically, the metal oxide layer functions as a refractive index adjusting layer (index matching layer) and a barrier layer, so that a transparent optical film having excellent durability can be obtained. Unlike the conventional art in which an alloy metal layer is used to produce an optical film having excellent weather resistance, the present invention can produce an optical film having excellent weather resistance even by using a pure metal layer.
또한, 금속층에 순수한 금속을 사용하여 광학 필름 제조 비용을 절감할 수 있다.In addition, the cost of manufacturing the optical film can be reduced by using pure metal for the metal layer.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광학 필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an optical film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of an optical film according to another embodiment of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, the terms "comprising" or "having ", and the like, specify that the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.
또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명의 일실시예에 따른 광학 필름은, In the optical film according to an embodiment of the present invention,
기재 상에 순차적으로 형성된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하고,A first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer sequentially formed on the substrate,
상기 광학 필름의 수분투과율(WVTR)은 400 mg/m2day 미만이고, 산소투과율(OTR)은 0.3 cc/m2day 미만일 수 있다. The optical film may have a water permeability (WVTR) of less than 400 mg / m 2 day and an oxygen permeability (OTR) of less than 0.3 cc / m 2 day.
본 발명에 따른 광학 필름의 수분투과율(WVTR)은 400 mg/m2day 미만일 수 있으면, 구체적으로는 300 mg/m2day 미만, 보다 구체적으로는 100 mg/m2day 미만일 수 있다. 특히, 상기 광학 필름의 수분투과율은 0.1 내지 10 mg/m2day 범위일 수 있다. The water permeability (WVTR) of the optical film according to the present invention may be less than 400 mg / m 2 day, specifically less than 300 mg / m 2 day, more specifically less than 100 mg / m 2 day. In particular, the moisture permeability of the optical film may range from 0.1 to 10 mg / m 2 day.
본 발명에 따른 광학 필름의 산소투과율(OTR)은 0.3 cc/m2day 미만일 수 있으며, 구체적으로는 0.2 cc/m2day 미만, 보다 구체적으로는 0.1 cc/m2day 미만일 수 있다. 특히, 상기 광학 필름의 산소투과율은 0.0001 내지 0.01 cc/m2day 범위일 수 있다. The OTR of the optical film according to the present invention may be less than 0.3 cc / m 2 day, specifically less than 0.2 cc / m 2 day, more specifically less than 0.1 cc / m 2 day. In particular, the oxygen permeability of the optical film may be from 0.0001 to 0.01 cc / m 2 day range.
본 발명에 따른 광학 필름의 수분투과율과 산소투과율을 상기 범위로 하는 경우, 금속층 산화를 방지하여 금속층 산화에 의한 변색 등의 불량을 최소화 할 수 있다.When the moisture transmittance and the oxygen transmittance of the optical film according to the present invention are within the above range, oxidation of the metal layer can be prevented and defects such as discoloration due to oxidation of the metal layer can be minimized.
본 발명에 따른 광학 필름은 가시광 영역, 예를 들면, 약 400 내지 700 ㎚ 범위 내의 어느 한 파장 또는 550 ㎚ 파장의 광에 대한 투과율이 60% 이상, 65% 이상 또는 70% 이상일 수 있다. 상기 수치범위를 만족하는 광학 필름은 투명 필름으로 유용하게 사용될 수 있다. 그러나, 광학 필름의 가시광 영역의 광투과율이 상기 수치범위에 제한되는 것은 아니고, 통상 투명 전극으로 적용 가능한 정도의 가시광 영역의 광 투과도를 가질 수 있다.The optical film according to the present invention may have a transmittance of 60% or more, 65% or more, or 70% or more for light of a wavelength or 550 nm wavelength in a visible light region, for example, about 400 to 700 nm. An optical film satisfying the above numerical range can be usefully used as a transparent film. However, the light transmittance of the visible light region of the optical film is not limited to the above-mentioned numerical range, but may have a light transmittance of a visible light region, which is usually applicable to a transparent electrode.
또한, 광학 필름은 적외선 영역, 예를 들면 약 800 내지 2500 ㎚ 범위 내의 어느 한 파장 또는 780 ㎚ 이상의 광에 대한 투과율이 5 내지 30%, 20% 이하 또는 10% 이하일 수 있다. 상기 수치범위를 만족하는 광학 필름은 적외선 영역의 열을 차단할 수 있으므로, 예를 들면, 에너지 절감이 가능하다.Further, the optical film may have a transmittance of 5 to 30%, 20% or less, or 10% or less for light of any wavelength or 780 nm or more in the infrared region, for example, about 800 to 2500 nm. The optical film satisfying the above numerical range can block heat in the infrared region, for example, energy saving is possible.
본 발명에 따른 광학 필름은 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함할 수 있으며, 가시광 영역 및/또는 적외선 영역의 광투과율, 수분투과율 및 산소투과율 등의 특성은, 예를 들면, 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층의 재질, 형성방법, 굴절률 또는 두께 등에 의하여 조절될 수 있다.The optical film according to the present invention may include a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer, and the properties such as light transmittance, water permeability, and oxygen transmittance in the visible light region and / , The material of the first metal oxide layer, the metal layer and the second metal oxide layer, the forming method, the refractive index or the thickness, and the like.
본 발명에서 금속 산화물층은 산화물을 주성분으로 포함하는 층을 의미할 수 있고, 금속층은 금속을 주성분으로 포함하는 층을 의미할 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물층은 금속 산화물을 약 85 중량% 이상 포함하는 층을 의미할 수 있고, 금속층은 금속을 약 85 중량% 이상 포함하는 층을 의미할 수 있다.In the present invention, the metal oxide layer may mean a layer containing an oxide as a main component, and the metal layer may mean a layer containing a metal as a main component. For example, the metal oxide layer may refer to a layer comprising at least about 85 weight percent metal oxide, and the metal layer may refer to a layer comprising at least about 85 weight percent metal.
본 발명에 따른 광학 필름은 기재 상에 순차적으로 형성된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하여 금속층의 산화에 의한 불량을 최소화 할 수 있다. 구체적으로, 제1 및 제2 금속 산화물층은 굴절률 및 두께조정을 통해서 가시광 투과도를 조절하는 역할을 할 수 있으며, 수분과 산소를 차단하여 금속층의 금속이 산화되는 것을 방지할 수 있다.The optical film according to the present invention may include a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer sequentially formed on a substrate, thereby minimizing defects due to oxidation of the metal layer. Specifically, the first and second metal oxide layers can control the visible light transmittance through the adjustment of the refractive index and the thickness, and can prevent the metal of the metal layer from being oxidized by blocking moisture and oxygen.
기재는 플라스틱 필름 등 투명성이 좋은 소재를 사용하는 것이 좋다. 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르 술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리오레핀계 수지, (메타)아크릴레이트계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐 알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 및 폴리페닐렌 황화물계 수지 중 선택된 1종 이상의 합성수지를 포함하는 필름을 사용할 수 있다. 특히, 고강도이며 저가인 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르계 수지를 포함하는 필름을 사용할 수 있다.It is recommended to use materials with good transparency, such as plastic film. Examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate resins, polyethylene naphthalate resins and polybutylene terephthalate resins, acetate resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyimide resins, polyolefin resins A film containing at least one selected from resin, (meth) acrylate resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin and polyphenylene sulfide resin can be used have. In particular, a film containing a polyester resin such as a high-strength and low-cost polyethylene terephthalate resin can be used.
상기 기재의 투께는 특별히 제한되지 않고, 기재가 적용되는 개소에 따라서 적절히 설정할 수 있다. 예를 들면, 상기 기재는 10 내지 200 ㎛, 구체적으로는 10 내지 150 ㎛, 보다 구체적으로는 10 내지 100 ㎛ 범위의 두께를 가질 수 있다.The transfer of the substrate is not particularly limited, and can be appropriately set in accordance with the position to which the substrate is applied. For example, the substrate may have a thickness in the range of 10 to 200 占 퐉, specifically 10 to 150 占 퐉, more specifically 10 to 100 占 퐉.
제1 및 제2 금속 산화물층은 독립적으로 550 ㎚의 파장에 대한 굴절률이 1.5 내지 2.5, 구체적으로는 1.6 내지 2.4, 더욱 구체적으로는 1.7 내지 2.3일 수 있다. 구체적으로, 제1 금속 산화물층의 굴절률은 제2 금속 산화물층과 동일하거나 다를 수 있다.The first and second metal oxide layers may independently have a refractive index for a wavelength of 550 nm of from 1.5 to 2.5, specifically from 1.6 to 2.4, more specifically from 1.7 to 2.3. Specifically, the refractive index of the first metal oxide layer may be the same as or different from that of the second metal oxide layer.
금속층은 550 ㎚의 파장에 대한 굴절률이 0.1 내지 1.5, 구체적으로는 0.3 내지 1.5, 더욱 구체적으로는 0.5 내지 1.5일 수 있다. 또한, 제1 및 제2 금속 산화물층과 금속층의 굴절률 차이는 550 ㎚에서 0.5 내지 1.0, 구체적으로는 0.5 내지 0.8, 더욱 구체적으로는 0.5 내지 0.75 범위일 수 있다. The metal layer may have a refractive index of 0.1 to 1.5, specifically 0.3 to 1.5, more specifically 0.5 to 1.5 for a wavelength of 550 nm. Further, the refractive index difference between the first and second metal oxide layers and the metal layer may be in the range of 0.5 to 1.0, specifically 0.5 to 0.8, more specifically 0.5 to 0.75 at 550 nm.
금속층, 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층이 각각 상기 굴절률 범위를 만족하는 경우에 복합층은 가시광 영역의 광투과율은 높이고 적외선 영역의 광투과율은 낮으므로, 적외선 반사형 광학 필름으로 유용하게 사용될 수 있다.When the metal layer, the first metal oxide layer and the second metal oxide layer respectively satisfy the above refractive index ranges, the composite layer has a high light transmittance in a visible light region and a low light transmittance in an infrared region, Can be used.
상기 금속층, 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 굴절률은, 예를 들면, 두께에 의하여 조절될 수 있다. 또는, 각 층의 증착 공정을 조절하는 것에 의하여 조절할 수 있다. 구체적으로, 각 층의 증착 조건을 조절하여 결정화도를 조절할 수 있으며, 이에 따라 동일한 두께 및 재료라고 하더라도 굴절률이 상이할 수 있게 된다. 상기 증착 공정은 공지의 증착 방법에 의하여 수행될 수 있고, 예를 들면, 스퍼터 방식에 의하여 수행될 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 RF 스퍼터 방식에 의해 증착될 수 있고, 금속층은 DC 스퍼터 방식에 의하여 증착될 수 있다.The refractive index of the metal layer, the first metal oxide layer, and the second metal oxide layer can be adjusted, for example, by the thickness. Or by controlling the deposition process of each layer. Specifically, the degree of crystallization can be controlled by controlling the deposition conditions of each layer, so that the refractive index can be different even if the same thickness and material are used. The deposition process may be performed by a known deposition process, for example, by a sputtering process. More specifically, the first metal oxide layer and the second metal oxide layer can be deposited by an RF sputtering method, and the metal layer can be deposited by a DC sputtering method.
그 예로서, 본 발명에 따른 제1 및 제2 금속 산화물층의 두께는 독립적으로 10 내지 300 ㎚, 구체적으로는 20 내지 200 ㎚, 더욱 구체적으로는 10 내지 100㎚ 일 수 있다. 금속 산화물층의 두께를 상기 범위로 한정함으로써, 금속 산화물층의 광에 대한 투과율 또는 굴절률을 상기 기술한 범위로 조절하는 것이 용이하고, 수분 및 산소가 금속층으로 흡수되는 것을 효과적으로 방지할 수 있으며, 금속 산화물층의 증착이 용이하다.As an example, the thickness of the first and second metal oxide layers according to the present invention may be independently from 10 to 300 nm, specifically from 20 to 200 nm, more specifically from 10 to 100 nm. By limiting the thickness of the metal oxide layer to the above-mentioned range, it is easy to adjust the transmittance or the refractive index of the metal oxide layer to the above-described range, and moisture and oxygen can be effectively prevented from being absorbed into the metal layer, Deposition of the oxide layer is easy.
또한, 금속층의 두께는 5 내지 30 ㎚, 구체적으로는 8 내지 25 ㎚, 더욱 구체적으로는 10 내지 20 ㎚일 수 있다. 금속층의 두께를 상기 범위로 하는 경우, 가시광 투과도와 적외선 반사도를 확보하는 것이 용이하다.Further, the thickness of the metal layer may be 5 to 30 nm, specifically 8 to 25 nm, more specifically 10 to 20 nm. When the thickness of the metal layer is within the above range, it is easy to secure visible light transmittance and infrared reflectance.
다른 하나의 예로서, 상기 제1 및 제2 금속 산화물층은 독립적으로 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 인듐(In), 란티늄(La), 마그네슘(Mg), 셀렌(Se), 규소(Si), 탄탈(Ta), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 이트륨(Y), 아연(Zn), 주석(Sn) 및 지르코늄(Zr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물을 포함할 수 있다.As another example, the first and second metal oxide layers may be independently formed of at least one selected from the group consisting of Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, (La), magnesium (Mg), selenium (Se), silicon (Si), tantalum (Ta), titanium (Ti), vanadium (V), yttrium (Y), zinc (Zn) (Zr). ≪ / RTI >
또한, 금속층은 은, 백금, 금, 구리, 크롬, 알루미늄, 팔라듐 및 니켈 중 선택된 어느 1종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 금속층은 은, 백금 또는 구리를 포함할 수 있으며, 보다 구체적으로는 은일 수 있다. 상기와 같이 금속층을 순수 금속으로 형성함으로써, 광학 필름 제조 비용을 절감할 수 있다.The metal layer may include at least one selected from silver, platinum, gold, copper, chromium, aluminum, palladium, and nickel. Specifically, the metal layer may include silver, platinum or copper, and more specifically silver. By forming the metal layer with pure metal as described above, it is possible to reduce the production cost of the optical film.
본 발명에 따른 광학 필름은 기재와 제1 금속 산화물층 사이에 형성되는 하드코팅층을 추가로 포함할 수 있다. 구체적으로 하드코팅층은 자외선 경화에 의해 형성된 유기층 또는 유-무기 하이브리드층으로, (메타)아크릴레이트 단량체 및 (메타)아크릴레이트 올리고머 중 적어도 하나를 포함하는 유기 조성물; 또는 유기 조성물에 실리카(silica), 지르코니아(zirconia) 또는 알루미나(alumina) 등의 무기 입자를 첨가하여 형성할 수 있다. 두께는 1 내지 10 ㎛ 일 수 있으며 하드코팅층을 상기와 같이 형성함으로써, 광학 필름의 기계적 강도를 높이고 금속층이나 금속 산화물층 및 그 위에 형성되는 오버코팅층 등의 내찰상성을 향샹시키는 장점이 있다. 필요에 따라 생략가능하다.The optical film according to the present invention may further comprise a hard coating layer formed between the substrate and the first metal oxide layer. Specifically, the hard coating layer is an organic layer or an organic-inorganic hybrid layer formed by ultraviolet curing, and comprises at least one of (meth) acrylate monomer and (meth) acrylate oligomer; Or by adding inorganic particles such as silica, zirconia, or alumina to the organic composition. The thickness of the hard coating layer may be 1 to 10 占 퐉. By forming the hard coating layer as described above, the mechanical strength of the optical film is increased and the scratch resistance of the metal layer, the metal oxide layer, and the overcoat layer formed thereon is improved. It can be omitted if necessary.
또한, 본 발명에 따른 광학 필름은 제2 금속 산화물층 상에 형성되는 오버코팅층을 추가로 포함할 수 있다. 구체적으로 오버코팅층은 자외선 경화에 의해 형성된 유기층 또는 유-무기 하이브리드층으로, (메타)아크릴레이트 단량체 및 (메타)아크릴레이트 올리고머 중 적어도 하나를 포함하는 유기 조성물; 또는 유기 조성물에 실리카(silica), 지르코니아(zirconia) 또는 알루미나(alumina) 등의 무기 입자를 첨가하여 형성할 수 있다. 두께는 0.01 내지 0.2 ㎛ 일 수 있으며 오버코팅층을 상기와 같이 형성함으로써, 금속 산화물층에 대한 찰과상이나 열화를 방지 할 수 있다. 필요에 따라 생략가능하다.Further, the optical film according to the present invention may further comprise an overcoat layer formed on the second metal oxide layer. Specifically, the overcoat layer is an organic layer or an organic-inorganic hybrid layer formed by ultraviolet curing, and comprises at least one of a (meth) acrylate monomer and a (meth) acrylate oligomer; Or by adding inorganic particles such as silica, zirconia, or alumina to the organic composition. The thickness may be 0.01 to 0.2 탆. By forming the overcoat layer as described above, abrasion and deterioration of the metal oxide layer can be prevented. It can be omitted if necessary.
더욱이, 본 발명에 따른 광학 필름은 제2 금속 산화물층 상에 1층 이상의 금속층 및 금속 산화물층을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 기재 상에 금속 산화물층 및 금속층이 2번 이상 반복적으로 적층되어 있는 구조일 수 있다. 또한, 기재 상에 하드코팅층이 형성되어 있고, 하드코팅층 상에 금속 산화물층 및 금속층이 2번 이상 반복적으로 적층되어 있으며, 마지막 금속층 상에 금속 산화물층이 적층되며, 금속 산화물층에 오버코팅층이 형성되어 있는 구조일 수 있다. 상기와 같이 여러 층의 금속층 및 금속 산화물층을 포함함으로써, 파장 선택성을 증가시켜 가시광 영역의 투과도는 증가시키고 적외선 영역의 파장만 더 효과적으로 차단할 수 있는 장점이 있다.Furthermore, the optical film according to the present invention may further include at least one metal layer and a metal oxide layer on the second metal oxide layer. For example, it may be a structure in which a metal oxide layer and a metal layer are repeatedly laminated two or more times on a substrate. In addition, a hard coating layer is formed on a substrate, a metal oxide layer and a metal layer are repeatedly laminated on the hard coat layer two or more times, a metal oxide layer is laminated on the last metal layer, and an overcoat layer is formed on the metal oxide layer . ≪ / RTI > By including the metal layer and the metal oxide layer as described above, the wavelength selectivity is increased, thereby increasing the transmittance of the visible light region and blocking the wavelength of the infrared region more effectively.
본 발명에 따른 광학 필름에서 제1 및 제2 금속 산화물층 중 어느 하나 이상은 기존에 상업적으로 입수가능한 윈도우 필름에 형성된 금속 산화물층 대비 밀도가 2.5% 이상, 구체적으로는 3% 이상 또는 5% 이상 증가될 수 있다. 보다 구체적으로는 5 내지 10% 범위에서 상대적으로 제1 및 제2 금속 산화물층의 밀도가 증가된 것을 특징으로 하고 있다.In the optical film according to the present invention, at least one of the first and second metal oxide layers has a density of not less than 2.5%, specifically not less than 3% or not less than 5%, of the metal oxide layer formed on a commercially available window film Can be increased. And more specifically, the density of the first and second metal oxide layers is relatively increased in the range of 5 to 10%.
본 발명에 따른 광학 필름은 윈도우 필름일 수 있다.The optical film according to the present invention may be a window film.
도 1을 살펴하면, 본 발명의 일실시예로 광학 필름의 적층구조이다. 기재(10) 상에 제1 금속 산화물층(21)이 형성되어 있고, 제1 금속 산화물층(21) 일면에 금속층(30)이 존재하며, 상기 금속층(30) 상에 제2 금속 산화물층이 적층되어 있다.Referring to FIG. 1, an embodiment of the present invention is a laminated structure of an optical film. A first
도 2를 살펴보면, 본 발명의 일실시예로 광학 필름의 적층구조로, 기재(10) 상에 하드코팅층(11)이 형성되어 있고, 하드코팅층(11) 상에 제1 금속 산화물층(21), 금속층(30) 및 제2 금속 산화물층(22)이 반복적으로 적층되어 있으며, 제2 금속 산화물층(22) 상에 오버코팅층(12)이 적층되어 있다.2, a
또한, 본 발명은 일실시예에서,In addition, the present invention, in one embodiment,
기재 상에 제1 금속 산화물층을 형성하는 단계;Forming a first metal oxide layer on the substrate;
제1 금속 산화물층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및Forming a metal layer on the first metal oxide layer; And
금속층 상에 제2 금속 산화물층을 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조방법을 제공한다.And forming a second metal oxide layer on the metal layer.
본 발명에 따른 광학 필름의 제조방법은, 스퍼터 방식을 이용하여 0.5 내지 5 W/cm2 및 0.2 내지 10 mTorr 조건에서 기재 상에 금속 산화물층을 형성할 수 있다. 구체적으로는 0.8 내지 4.5 W/cm2 및 0.5 내지 8.5 mTorr 조건, 더욱 구체적으로는 1.0 내지 4.0 W/cm2 및 0.8 내지 6 mTorr 조건에서 기재 상에 금속 산화물층을 형성할 수 있다. 구체적으로, 제1 및 제2 금속 산화물층은 RF 스퍼터 방식 또는 DC 스퍼터 방식에 의해 형성될 수 있으며, 더욱 구체적으로 DC 스퍼터 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기와 같은 조건으로 증착할 경우, 치밀한 막질을 갖는 금속 산화물층을 형성해서 수분투과도 및 산소투과도가 우수하고 이로 인해 금속층의 산화에 의한 변색을 방지할 수 있는 장점이 있다. The method for producing an optical film according to the present invention can form a metal oxide layer on a substrate using a sputtering method under the condition of 0.5 to 5 W / cm 2 and 0.2 to 10 mTorr. Specifically, the metal oxide layer may be formed on the substrate at a condition of 0.8 to 4.5 W / cm 2 and 0.5 to 8.5 mTorr, more specifically 1.0 to 4.0 W / cm 2 and 0.8 to 6 mTorr. Specifically, the first and second metal oxide layers may be formed by an RF sputtering method or a DC sputtering method, and more specifically, by a DC sputtering method. In the case of depositing under the above-described conditions, a metal oxide layer having a dense film quality is formed to have excellent water permeability and oxygen permeability, thereby preventing discoloration due to oxidation of the metal layer.
금속층 형성방법은 스퍼터 방식을 이용하여 0.5 내지 5 W/cm2 및 0.2 내지 10 mTorr 조건에서 금속 산화물층 상에 금속층을 형성할 수 있다. 구체적으로는 0.8 내지 4.5 W/cm2 및 0.5 내지 8.5 mTorr 조건, 더욱 구체적으로는 1.0 내지 4.0 W/cm2 및 0.8 내지 6 mTorr 조건에서 금속 산화물층 상에 금속층을 형성할 수 있다. 구체적으로, 금속층은 RF 스퍼터 방식 또는 DC 스퍼터 방식에 의해 형성될 수 있으며, 더욱 구체적으로 DC 스퍼터 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기와 같은 조건으로 증착할 경우, 치밀한 막질을 갖는 금속층을 형성해서 수분투과도 및 산소투과도가 우수하다.The metal layer formation method may use a sputtering method to form a metal layer on the metal oxide layer under the condition of 0.5 to 5 W / cm 2 and 0.2 to 10 mTorr. Specifically, the metal layer may be formed on the metal oxide layer under the conditions of 0.8 to 4.5 W / cm 2 and 0.5 to 8.5 mTorr, more specifically 1.0 to 4.0 W / cm 2 and 0.8 to 6 mTorr. Specifically, the metal layer may be formed by an RF sputtering method or a DC sputtering method, and more specifically, by a DC sputtering method. In the case of depositing under the above conditions, a metal layer having a dense film quality is formed, and water permeability and oxygen permeability are excellent.
이하 본 발명에 따르는 실시예 등을 통해 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following Examples. However, the scope of the present invention is not limited by the following Examples.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention may be better understood by reference to the following examples, which are intended to be illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of protection which is defined by the appended claims.
비교예 1Comparative Example 1
상업적으로 입수 가능한 윈도우 필름(광학 필름)을 구입하여 사용하였다.A commercially available window film (optical film) was purchased and used.
구체적으로는, 기재 위에 제1 금속 산화물층을 형성하고, 상기 제1 금속 산화물층 상에 금속층을 형성하고, 상기 금속층 상에 제2 금속 산화물층을 형성하여 광학 필름을 제조하였다.Specifically, an optical film was produced by forming a first metal oxide layer on a substrate, forming a metal layer on the first metal oxide layer, and forming a second metal oxide layer on the metal layer.
비교예 2Comparative Example 2
비교예 1 대비 제1 및 제2 금속 산화물층의 밀도를 상대적으로 낮게 형성한 것을 제외하고, 비교예 1과 동일하게 광학 필름을 제조하였다.Comparative Example 1 An optical film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the density of the first and second metal oxide layers was relatively low.
실시예 1.Example 1.
플라스틱 기재 상에 하드코팅층을 2 ㎛ 형성하고 그 위에 DC Sputter 방식을 이용하여 1.5 W/cm2 및 3 mTorr의 조건에서 ZnO를 30 nm의 두께로 증착하여 제1 금속 산화물층을 형성하였다. 상기 제1 금속 산화물층 상에 DC sputter 방식을 이용하여 1.5 W/cm2 및 3 mTorr의 조건에서 Ag 금속층을 15 nm 두께로 증착하고, 상기 금속층 상에 제2 금속 산화물층으로서 1.5 W/cm2 및 3 mTorr의 조건에서 ZnO을 30 nm 두께로 증착하였다. 이때, 비교예 1 대비 제1 및 제2 금속 산화물층의 밀도를 높여서 증착하였다. 마지막으로, 제2 금속 산화물층 위에 50 nm로 오버코팅층을 형성하여 광학필름을 제조하였다. 광학 필름을 제조하였다.A hard coat layer of 2 탆 was formed on a plastic substrate, and ZnO was deposited thereon to a thickness of 30 nm under DC sputtering conditions of 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr to form a first metal oxide layer. An Ag metal layer was deposited on the first metal oxide layer to a thickness of 15 nm under a condition of 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr using a DC sputtering method, and a 1.5 W / cm 2 And 3 mTorr of ZnO were deposited to a thickness of 30 nm. At this time, the first and second metal oxide layers were deposited at a higher density than the first comparative example. Finally, an optical film was prepared by forming an overcoat layer of 50 nm on the second metal oxide layer. To prepare an optical film.
실험예Experimental Example
실시예 및 비교예에서 제조된 각 광학 필름에 대하여 수분투과도 및 산소투과도 측정 실험을 실시하였다. 구체적으로, 수분투과도 실험은 MOCON AUATRANS Model을 이용하여 38℃, 100% RH 조건에서, ASTM F-1249에 의거하여 수행하였고, 산소투과도 실험은 MOCON OX-TRANS Model 12/21 10x을 이용하여 23℃, 0% RH 조건에서, ASTM D-3985에 의거하여 수행하였다. 실험결과는 하기 표 1에 나타낸 바와 같다. Experiments were conducted to measure the water permeability and the oxygen permeability of each of the optical films prepared in Examples and Comparative Examples. Specifically, the water permeability test was performed according to ASTM F-1249 at 38 ° C and 100% RH using a MOCON AUATRANS Model. The oxygen permeability was measured at 23 ° C. using MOCON OX-
표 1을 참조하면, 실시예 1과 비교하여 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 광학 필름은 수분투과도와 산소투과도 값이 상대적으로 높은 것을 알 수 있다. 즉, 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 밀도를 증가시켜 증착한 광학 필름은 우수한 수분투과도 및 산소투과도를 가지는 것을 알 수 있고, 수분 및 산소로부터 금속층을 보호하는데 효과적인 것을 알 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the optical films prepared in Comparative Example 1 and Comparative Example 2 have relatively high water permeability and oxygen permeability as compared with Example 1. [ That is, it can be seen that the optical film deposited by increasing the density of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer has excellent water permeability and oxygen permeability and is effective for protecting the metal layer from moisture and oxygen.
10: 기재
11: 하드코팅층
12: 오버코팅층
21: 제1 금속산화물층
22: 제2 금속산화물층
30: 금속층10: substrate
11: Hard coating layer
12: overcoat layer
21: First metal oxide layer
22: a second metal oxide layer
30: metal layer
Claims (12)
광학 필름 전체의 수분투과율(WVTR)은 400 mg/m2day 미만이고, 산소투과율(OTR)은 0.3 cc/m2day 미만인 광학 필름.A first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer sequentially formed on the substrate,
Wherein the optical film has an overall water permeability (WVTR) of less than 400 mg / m 2 day and an oxygen permeability (OTR) of less than 0.3 cc / m 2 day.
제1 및 제2 금속 산화물층의 굴절율은 독립적으로 550㎚ 에서 1.5 내지 2.5 범위인 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the refractive indices of the first and second metal oxide layers independently range from 1.5 to 2.5 at 550 nm.
금속층의 굴절율은 550nm에서 0.1 내지 1.5의 범위인 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the refractive index of the metal layer is in the range of 0.1 to 1.5 at 550 nm.
제1 및 제2 금속산화물층과 금속층의 굴절율 차이는 550 nm에서 0.5 내지 1.0 범위인 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the difference in refractive index between the first and second metal oxide layers and the metal layer ranges from 0.5 to 1.0 at 550 nm.
제1 및 제2 금속산화물층의 두께는 독립적으로 10 내지 300 ㎚ 범위인 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the first and second metal oxide layers is independently in the range of 10 to 300 nm.
금속층의 두께는 5 내지 30 ㎚ 범위인 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the metal layer is in the range of 5 to 30 nm.
제1 및 제2 금속산화물층은 독립적으로 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 인듐(In), 란티늄(La), 마그네슘(Mg), 셀렌(Se), 규소(Si), 탄탈(Ta), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 이트륨(Y), 아연(Zn), 주석(Sn) 및 지르코늄(Zr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상 금속의 산화물을 포함하는 광학 필름.The method according to claim 1,
The first and second metal oxide layers may be independently selected from the group consisting of antimony (Sb), barium, gallium, germanium, hafnium, indium, lanthanum, ), Selenium (Se), silicon (Si), tantalum (Ta), titanium (Ti), vanadium (V), yttrium (Y), zinc (Zn), tin (Sn) and zirconium An optical film comprising an oxide of at least one selected metal.
금속층은 은, 백금, 금, 구리, 크롬, 알루미늄, 팔라듐 및 니켈 중 선택된 어느 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the metal layer comprises at least one selected from the group consisting of silver, platinum, gold, copper, chromium, aluminum, palladium and nickel.
기재와 제1 금속산화물층 사이에 형성되는 하드코팅층을 추가로 포함하는 광학 필름.The method according to claim 1,
And a hard coat layer formed between the substrate and the first metal oxide layer.
제2 금속산화물층 상에 형성되는 오버코팅층을 추가로 포함하는 광학 필름.The method according to claim 1,
And an overcoat layer formed on the second metal oxide layer.
제2 금속산화물층 상에 1층 이상의 금속층 및 금속산화물층을 추가로 포함하는 광학 필름.The method according to claim 1,
An optical film further comprising at least one metal layer and a metal oxide layer on the second metal oxide layer.
상기 필름은 윈도우 필름인 광학 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the film is a window film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160039047A KR102017268B1 (en) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | Optical film and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160039047A KR102017268B1 (en) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | Optical film and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170112247A true KR20170112247A (en) | 2017-10-12 |
KR102017268B1 KR102017268B1 (en) | 2019-09-03 |
Family
ID=60140106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160039047A Active KR102017268B1 (en) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | Optical film and method for producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102017268B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019225874A1 (en) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | 주식회사 네패스 | Infrared reflective film and manufacturing method thereof |
WO2020017792A1 (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | 주식회사 네패스 | Smart window film and method for manufacturing same |
KR20210152888A (en) * | 2020-06-09 | 2021-12-16 | 에스케이씨 주식회사 | Flexible electrochromic device |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131862A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toyobo Co Ltd | Laminated transparent gas barrier film |
JP2005131861A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toyobo Co Ltd | Laminated transparent gas barrier film |
JP2011526552A (en) * | 2008-06-30 | 2011-10-13 | コーロン インダストリーズ インク | Plastic substrate and element including the same |
JP2012116960A (en) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Konica Minolta Holdings Inc | Gas barrier film, method for producing the same, and organic electronic device |
JP2014531341A (en) * | 2011-09-20 | 2014-11-27 | テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムTetra Laval Holdings & Finance S.A. | Multilayer barrier film, packaging laminate including the film, packaging container formed from the packaging laminate, and method for producing the film |
KR101501423B1 (en) | 2013-06-18 | 2015-03-10 | 전검배 | Apparatus for winding an electrolytic metal foil and Method thereof |
KR20150113116A (en) * | 2013-01-31 | 2015-10-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Method for producing infrared radiation reflecting film |
-
2016
- 2016-03-31 KR KR1020160039047A patent/KR102017268B1/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131862A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toyobo Co Ltd | Laminated transparent gas barrier film |
JP2005131861A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toyobo Co Ltd | Laminated transparent gas barrier film |
JP2011526552A (en) * | 2008-06-30 | 2011-10-13 | コーロン インダストリーズ インク | Plastic substrate and element including the same |
JP2012116960A (en) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Konica Minolta Holdings Inc | Gas barrier film, method for producing the same, and organic electronic device |
JP2014531341A (en) * | 2011-09-20 | 2014-11-27 | テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムTetra Laval Holdings & Finance S.A. | Multilayer barrier film, packaging laminate including the film, packaging container formed from the packaging laminate, and method for producing the film |
KR20150113116A (en) * | 2013-01-31 | 2015-10-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Method for producing infrared radiation reflecting film |
KR101501423B1 (en) | 2013-06-18 | 2015-03-10 | 전검배 | Apparatus for winding an electrolytic metal foil and Method thereof |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019225874A1 (en) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | 주식회사 네패스 | Infrared reflective film and manufacturing method thereof |
WO2020017792A1 (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | 주식회사 네패스 | Smart window film and method for manufacturing same |
KR20200009786A (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-30 | 주식회사 네패스 | smart window film and manufacturing method thereof |
KR20210152888A (en) * | 2020-06-09 | 2021-12-16 | 에스케이씨 주식회사 | Flexible electrochromic device |
US11852908B2 (en) | 2020-06-09 | 2023-12-26 | Skc Co., Ltd. | Flexible electrochromic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102017268B1 (en) | 2019-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10502878B2 (en) | Systems, methods, and apparatus for production coatings of low-emissivity glass | |
KR101920621B1 (en) | Optical film exhibiting improved light to solar gain heat ratio | |
KR101739563B1 (en) | Solar control coatings providing increased absorption or tint | |
US9309149B2 (en) | Systems, methods, and apparatus for production coatings of low-emissivity glass | |
KR20170010392A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising a partial metal film, glazing unit, use and process | |
KR102042404B1 (en) | Infra-red control optical film | |
KR20170010393A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising partial metal films, glazing unit, use and process | |
KR20150058385A (en) | Substrate provided with a stack having thermal properties and an absorbent layer | |
JP6587574B2 (en) | Laminated film and heat ray reflective material | |
KR102017268B1 (en) | Optical film and method for producing the same | |
WO2014164989A1 (en) | Production coatings of low-emissivity glass systems | |
KR20170010809A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising a partial metal film, glazing unit, use and process | |
TWI585196B (en) | Solar control films, an assembly comprising the same and methods for producing the same | |
JP2011037255A (en) | Laminate | |
KR102063062B1 (en) | Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same | |
CN114040842A (en) | Crystallized indium tin composite oxide film, transparent conductive film and method for producing the same | |
KR20140085924A (en) | Transparent Conductive Film and Process for preparing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20160331 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20180316 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20160331 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20190417 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20190718 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20190827 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20190828 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220725 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230627 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250623 Start annual number: 7 End annual number: 7 |