KR20160117290A - Coating solution for forming film, method for producing the coating solution, and method for producing substrate with film - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 235
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 229
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 74
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 207
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 85
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 37
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 28
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 9
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 74
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 55
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 44
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 42
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 20
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JWRQFDQQDBJDHD-UHFFFAOYSA-N tributoxyindigane Chemical compound CCCCO[In](OCCCC)OCCCC JWRQFDQQDBJDHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXYCCJAPZKHOLS-UHFFFAOYSA-N chembl2008674 Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=C1 SXYCCJAPZKHOLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N methyl acetate Chemical compound COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEXTVLKDFZEPMH-PAEMJXPASA-N (4r)-4-[(3r,5s,6r,7r,8s,9s,10s,11s,13r,14s,17r)-6-ethyl-3,7,11-trihydroxy-10,13-dimethyl-2,3,4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-tetradecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoic acid Chemical compound C([C@@]12C)C[C@@H](O)C[C@H]1[C@@H](CC)[C@@H](O)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H](O)C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)CCC(O)=O)CC[C@H]21 UEXTVLKDFZEPMH-PAEMJXPASA-N 0.000 description 1
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- SHXHPUAKLCCLDV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoropentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C(F)(F)F SHXHPUAKLCCLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYKJDYMMUIUFG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-Furanyl)-1,3-butanedione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CO1 GPYKJDYMMUIUFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDGWHQSOYIQHAS-UHFFFAOYSA-N 1-(furan-2-yl)-3-phenylpropane-1,3-dione Chemical compound C=1C=COC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NDGWHQSOYIQHAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPLFNGUPLZYHV-UHFFFAOYSA-N 1h-1,5-naphthyridin-4-one Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=NC2=C1 NSPLFNGUPLZYHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQAJSEWFBJSSOY-UHFFFAOYSA-N 1h-1,7-naphthyridin-2-one Chemical compound C1=CN=CC2=NC(O)=CC=C21 FQAJSEWFBJSSOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLPKTAFPRRIFQX-UHFFFAOYSA-N 2-thiophen-2-ylpyridine Chemical compound C1=CSC(C=2N=CC=CC=2)=C1 QLPKTAFPRRIFQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OONJVQFMOZAXOI-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1,1,1-trifluoropropan-2-one Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CCl OONJVQFMOZAXOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 3-diethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCCOC(=O)C=C DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNVMCAHOYIOFAQ-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[SiH](OC)CCCOC(=O)C=C HNVMCAHOYIOFAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHKZBVQIMVUGIH-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyquinoline-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=NC2=C1 WHKZBVQIMVUGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVXLFFIFNVKFBD-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluoro-1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 VVXLFFIFNVKFBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWKGPQCKIBRXGW-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 GWKGPQCKIBRXGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDUUQOQFSWSZSM-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 XDUUQOQFSWSZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJAQYOZROIFQHO-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 UJAQYOZROIFQHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCRMNYVCABKJCM-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2h-pyran Chemical compound CC1=COCC=C1 QCRMNYVCABKJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDDBTWXLNJNICS-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC3=CC=CN=C3C2=N1 PDDBTWXLNJNICS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQEQHUHZBMUJET-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC2=CC=CN=C2C2=NC=CC=C12 QQEQHUHZBMUJET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBOXZCUYYHFTM-UHFFFAOYSA-N 6-methylquinolin-8-ol Chemical compound N1=CC=CC2=CC(C)=CC(O)=C21 AIBOXZCUYYHFTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- LGDFHDKSYGVKDC-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyquinoline-5-sulfonic acid Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=C1 LGDFHDKSYGVKDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238876 Acari Species 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWWWZPXQZXZHBU-UHFFFAOYSA-N COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Ti+4].COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC Chemical compound COC(C([O-])(OC)OC)OC.[Ti+4].COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC.COC(C([O-])(OC)OC)OC OWWWZPXQZXZHBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYLPHRHGVWWOOP-UHFFFAOYSA-N aluminum 1-(2,2,2-trimethoxyethoxy)ethanolate Chemical compound COC(COC([O-])C)(OC)OC.[Al+3].COC(COC([O-])C)(OC)OC.COC(COC([O-])C)(OC)OC QYLPHRHGVWWOOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N beta-hydroxynaphthyl Natural products C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- ZQWICJYATMSSSD-UHFFFAOYSA-M chembl2028584 Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 ZQWICJYATMSSSD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HOWITLLZNKSJOJ-UHFFFAOYSA-M chembl471028 Chemical compound [Na+].C1=CC=CC2=C(O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=C(C=C3O)S([O-])(=O)=O)=CC=C21 HOWITLLZNKSJOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- MZGNSEAPZQGJRB-UHFFFAOYSA-N dimethyldithiocarbamic acid Chemical compound CN(C)C(S)=S MZGNSEAPZQGJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluoroacetylacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C(F)(F)F QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- ZBJWWKFMHOAPNS-UHFFFAOYSA-N loretin Chemical compound C1=CN=C2C(O)=C(I)C=C(S(O)(=O)=O)C2=C1 ZBJWWKFMHOAPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N methanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N neocuproine Chemical compound C1=C(C)N=C2C3=NC(C)=CC=C3C=CC2=C1 IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N niobium(v) ethoxide Chemical compound CCO[Nb](OCC)(OCC)(OCC)OCC ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNNRQIKKDKDFRV-UHFFFAOYSA-N quinazolin-8-ol Chemical compound N1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 LNNRQIKKDKDFRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRDZFPUVLYEQTA-UHFFFAOYSA-N quinoline-8-carboxylic acid Chemical compound C1=CN=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 QRDZFPUVLYEQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUQDDQFXSNXEOD-UHFFFAOYSA-N quinoxalin-5-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=N1 ZUQDDQFXSNXEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVZUSPADPSOQQN-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)indigane Chemical compound [In+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] OVZUSPADPSOQQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCXZOLDSEPCWRB-UHFFFAOYSA-N triethoxyindigane Chemical compound [In+3].CC[O-].CC[O-].CC[O-] MCXZOLDSEPCWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N trimethoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGPUIKFYWJXRBX-UHFFFAOYSA-N trimethoxyindigane Chemical compound [In+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C FGPUIKFYWJXRBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPSWAWSNPREEFQ-UHFFFAOYSA-K triphenoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1 OPSWAWSNPREEFQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGZSDKTVZEUQC-UHFFFAOYSA-N tris(2,2,2-trimethoxyethoxy)alumane Chemical compound [Al+3].COC(C[O-])(OC)OC.COC(C[O-])(OC)OC.COC(C[O-])(OC)OC IUGZSDKTVZEUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQVWIBENITYPO-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)indigane Chemical compound [In+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] OLQVWIBENITYPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOOXOWAGPRNWEG-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropyl) stiborite Chemical compound CC(C)CO[Sb](OCC(C)C)OCC(C)C MOOXOWAGPRNWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSEICBQSWNBGQZ-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]indigane Chemical compound CC(C)(C)O[In](OC(C)(C)C)OC(C)(C)C SSEICBQSWNBGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
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- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
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- B05D3/0263—After-treatment with IR heaters
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
- B05D3/065—After-treatment
- B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
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Abstract
본 발명의 투명 피막 형성용 도포액은, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 과, 식 (2) 로 나타내는 3 관능 이상의 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B 성분) 과, 식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (C 성분) 이, 물과 유기 용매를 포함하는 혼합 용매 중에 용해 또는 분산되어 있다. 이때, A 성분의 몰수 (M1) 과 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M1/M3) 이 0.25 이상 2.0 미만의 범위에 있고, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.1 이상 9.0 이하의 범위에 있다.
(일반식 (2), (3) 은 명세서에 기재된 바와 같음.)The coating liquid for forming a transparent coating film of the present invention contains at least one (component B) of an organic compound capable of forming a chelate with a metal alkoxide (component A), a silane compound having three or more functions represented by formula (2) and a hydrolyzed condensate thereof, At least one of the metal alkoxide represented by the formula (3) and the hydrolyzed condensate thereof (component C) is dissolved or dispersed in a mixed solvent containing water and an organic solvent. At this time, the molar ratio (M1 / M3) of the molar number (M1) of the component A and the molar number (M3) of the component C is in the range of 0.25 or more and less than 2.0, and the molar number (M2) The molar ratio (M2 / M3) is in the range of 0.1 to 9.0.
(General formulas (2) and (3) are as described in the specification.)
Description
본 발명은, 피막 형성용 도포액에 관한 것이다.The present invention relates to a coating liquid for forming a film.
상세하게는, 비교적 저온에서 경화하는 데에 관계없이, 경도와 내크랙성의 양립이 우수한 투명 피막을 형성할 수 있는 도포액에 관한 것이다.More specifically, the present invention relates to a coating liquid capable of forming a transparent coating having excellent both hardness and crack resistance regardless of curing at a relatively low temperature.
종래, 유리나 플라스틱 등의 기재에 기능을 부여하기 위해서 기재 표면에 피막이 형성되고 있다. 예를 들어, 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 렌즈, 수지 필름, 및 표시 장치 전방면판 등의 기재 표면의 내찰상성을 향상시키기 위해, 기재 표면에 하드 코트막을 형성한다. 이와 같은 하드 코트막으로서, 유기 수지막이나 무기막이 알려져 있다. 또한, 유기 수지막이나 무기막 중에 수지 입자나 실리카 등의 무기 입자를 배합하여, 내찰상성을 더 향상시키는 것도 알려져 있다.Conventionally, a coating film is formed on the surface of a substrate to impart a function to a substrate such as glass or plastic. For example, a hard coat film is formed on the surface of a substrate to improve scratch resistance of the substrate surface such as glass, plastic sheet, plastic lens, resin film, and display front plate. As such a hard coat film, an organic resin film or an inorganic film is known. It is also known that resin particles or inorganic particles such as silica are incorporated into an organic resin film or an inorganic film to further improve scratch resistance.
또, 투명 피막 중에 도전성 입자를 배합하여 대전 방지 성능, 전자파 차폐 성능을 부여한 투명 피막이 형성된 기재도 알려져 있다. 또한, 투명 피막 중에 고굴절률 입자를 배합한 고굴절률 투명 피막이나, 투명 피막 중에 저굴절률 입자를 배합하여 반사 방지 성능을 부여한 저굴절률 투명 피막, 착색 안료 입자를 배합한 투명성 피막 등도 알려져 있다. In addition, a substrate having a transparent coating formed by blending conductive particles in a transparent coating film to impart an antistatic property and an electromagnetic shielding property is also known. Further, there are known high-refractive-index transparent coatings in which high-refractive-index particles are blended in the transparent coating, low-refractive-index transparent coatings in which low refractive index particles are blended in the transparent coating to impart antireflection properties, and transparent coatings in which colored pigment particles are blended.
또, 기재의 굴절률이나 유전율을 조절하기 위해서, 알콕사이드 화합물, 혹은 이것에 콜로이드 입자를 배합한 도포액을 사용하여 겔-졸법에 의해 터치 패널용 피막을 형성하는 것도 알려져 있다. 그러나, 이 방법에서는, 피막을 경화시키기 위해서 500 ℃ 정도에서 가열할 필요가 있어, 내열성이 높은 기재밖에 사용할 수 없었다.It is also known to form a touch panel coating film by a gel-sol method using an alkoxide compound or a coating liquid in which colloidal particles are blended to adjust the refractive index and permittivity of the substrate. However, in this method, it is necessary to heat the film at about 500 DEG C in order to cure the film, so that only a substrate having high heat resistance can be used.
이에 대하여, 아세틸아세토네이트 킬레이트 화합물과, 실란 화합물과, 실리콘 이외의 금속 알콕사이드를 포함하는 도포액을 사용하면, (건조 시 혹은 건조 후에) 자외선 조사에 의해 비교적 저온에서 경화하고, 내구성이 우수한 투명 세라믹스 피막을 형성할 수 있는 것이 알려져 있다 (예를 들어, 문헌 1 (일본 특허공개공보 평2-48403호) 을 참조). On the other hand, when a coating liquid containing an acetylacetonate chelate compound, a silane compound and a metal alkoxide other than silicon is used (cured at a relatively low temperature by irradiation with ultraviolet rays (after drying or after drying), transparent ceramics It is known that a film can be formed (see, for example, Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-48403)).
또, 아세틸아세톤으로 안정화한 금속 알콕사이드를 첨가한 테트라알콕시실란을 가수분해 그리고 탈수 축합시킨 졸 A 와, 하나의 관능기를 알킬기화한 알킬트리알콕시실란을 가수분해 그리고 탈수 축합시킨 졸 B 의 혼합물과, 이소프로필알코올을 주성분으로 하는 용매와, 이들에 혼재하는 디올류로 이루어지는 코팅 용액을 사용하여, 미세한 요철상 표층을 갖는 졸겔막을 형성하는 것이 알려져 있다 (예를 들어, 문헌 2 (일본 특허공개공보 2005-281132호) 를 참조).In addition, a mixture of a sol A, in which hydrolysis and dehydration condensation of a tetraalkoxysilane to which a metal alkoxide stabilized with acetylacetone has been added, and a sol B in which hydrolysis and dehydration condensation of an alkyltrialkoxysilane in which one functional group is alkylated, It is known to form a sol-gel film having a fine uneven surface layer by using a coating solution comprising a solvent mainly composed of isopropyl alcohol and diols mixed therewith (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open -281132).
문헌 1 에 개시된 도포액에서는, 비교적 저온에서 경화하는 투명 피막을 제공할 수 있지만, 예를 들어 하지가 수지인 경우에는 크랙의 발생을 억제하는 것이 약간 곤란하다는 문제가 있다.The coating liquid disclosed in Document 1 can provide a transparent coating film that is cured at a relatively low temperature. However, there is a problem that it is slightly difficult to suppress the occurrence of cracks when the base material is a resin, for example.
또한, 문헌 2 에는, 3 관능 실란 (예를 들어, 알킬트리알콕시실란) 을 가수분해 및 탈수 축합 (가수분해 축합) 해 얻어지는 졸을 사용하여, 미세한 요철상 표층을 형성하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 저온에서는 충분한 경도의 피막으로는 되기 어렵기 때문에, 적어도 600 ℃ 정도에 의한 소성이 필요하였다. 이 때문에, 내열성이 낮은 기재를 사용할 수 없었다.Also, in Document 2, it is disclosed that a fine uneven surface layer is formed by using a sol obtained by hydrolyzing and dehydrating and condensing (hydrolyzing and condensing) a trifunctional silane (for example, alkyltrialkoxysilane). However, since it is difficult to form a film having sufficient hardness at a low temperature, firing by at least about 600 캜 is required. Therefore, a substrate having low heat resistance could not be used.
본 발명은, 기재에 도포한 후에 충분한 경도를 가짐과 함께 크랙이 잘 생기지 않는 피막 형성용 도포액을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a coating liquid for forming a film which has sufficient hardness after being applied to a substrate and is hardly cracked.
본 발명자들은, 상기 문제점을 해소하기 위해 예의 검토한 결과, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물과 3 관능 이상의 실란 화합물과 금속 알콕사이드 (단, 실리콘알콕사이드를 제외한다) 가 물 및 유기 용매로 이루어지는 혼합 용매 중에 용해 또는 분산된 도포액을 사용하면, 충분한 경도를 가짐과 함께 크랙이 잘 생기지 않는 피막이 얻어지는 것을 발견하였다. 본 발명은 이 지견을 기초로 완성된 것이다.DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies to overcome the above problems, the present inventors have found that an organic compound capable of forming a chelate with a metal alkoxide, a silane compound having three or more functions and a metal alkoxide (excluding a silicon alkoxide) It has been found that a coating film having sufficient hardness and in which cracks are hard to occur can be obtained. The present invention has been completed on the basis of this finding.
즉, 본 발명의 피막 형성용 도포액은, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 과, 3 관능 이상의 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B 성분) 과, 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (C 성분) 이, 물과 유기 용매를 포함하는 혼합 용매 중에 용해 또는 분산되어 있다. 이때, A 성분의 몰수 (M1) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M1/M3) 이 0.25 이상 2.0 미만이고, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.1 이상 9.0 이하이다. 또한, B 성분과 C 성분은, 각각 후술하는 식 (2) 와 식 (3) 과 같이 나타낸다. That is, the coating liquid for forming a film of the present invention contains at least one (component B) of an organic compound capable of forming a chelate with a metal alkoxide (component A), a silane compound having three or more functionalities and a hydrolyzed condensate thereof, a metal alkoxide, At least one of the decomposition and condensation products (component C) is dissolved or dispersed in a mixed solvent containing water and an organic solvent. At this time, the molar ratio (M1 / M3) of the molar ratio (M1) of the component A to the molar number (M3) of the component C is 0.25 or more and less than 2.0, / M3) is not less than 0.1 and not more than 9.0. The B component and the C component are represented by the following equations (2) and (3), respectively.
또한, B 성분에서 유래하는 SiO2 환산 농도 (농도 C2) 를 0.005 ∼ 12 질량% 의 범위로 하고, C 성분에서 유래하는 원소 M 의 MOx 환산 농도 (농도 C3) 를 0.02 ∼ 14.25 질량% 의 범위로 하고, 농도 C2 와 농도 C3 의 합계 (CT) 를 0.1 ∼ 15 질량% 의 범위로 한다. 이것에 의해, 피막의 내크랙성이 향상된다.(Concentration C 2 ) derived from the B component is in the range of 0.005 to 12 mass%, and the MO x reduced concentration (concentration C 3) of the element M derived from the C component is in the range of 0.02 to 14.25 mass% (CT) of the concentration C2 and the concentration C3 is set in the range of 0.1 to 15 mass%. This improves the crack resistance of the coating film.
또한, B 성분이 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방인 경우에는, 몰비 (M2/M3) 을 0.5 ∼ 8.0 의 범위로 한다. When the component B is at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof, the molar ratio (M2 / M3) is set in the range of 0.5 to 8.0.
또한, 본 발명의 도포액의 제조 방법은, 이하의 공정 1 ∼ 3 을 구비하고 있다. The method for producing a coating liquid of the present invention includes the following steps 1 to 3.
공정 1 : 유기 용매와, 물과, 3 관능 이상의 실란 화합물 (B 성분) 과, 가수분해 촉매를 배합하여, 예비액 1 을 조제하는 공정Step 1: A step of preparing the preliminary solution 1 by mixing an organic solvent, water, a silane compound having three or more functional groups (component B) and a hydrolysis catalyst
공정 2 : 유기 용매와, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 과, 금속 알콕사이드 (C 성분) 를 배합하여, 예비액 2 를 조제하는 공정Step 2: A step of mixing the organic solvent with an organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide (component A) and a metal alkoxide (component C) to prepare the preliminary solution 2
여기서, A 성분의 배합량은, C 성분의 금속 원소 1 몰에 대하여 0.25 몰 이상 2.0 몰 미만의 범위이다.Here, the blending amount of the A component is in the range of 0.25 mol or more and less than 2.0 mol per 1 mol of the metal element of the C component.
공정 3 : 예비액 1 과, 예비액 2 와, 물을 배합하여, 5 ℃ 이상 40 ℃ 이하에서 교반하는 공정Step 3: Step of mixing the preliminary liquid 1, the preliminary liquid 2, and water and stirring at 5 ° C or higher and 40 ° C or lower
또한, B 성분과 C 성분은, 각각 후술하는 식 (2) 와 식 (3) 과 같이 나타낸다.The B component and the C component are represented by the following equations (2) and (3), respectively.
또한, 본 발명의 피막이 형성된 기재는, 상기 서술하는 어느 구성의 도포액을 사용하여 기재 상에 피막이 형성되어 있다. Further, the coated base material of the present invention has a coating formed on a base material using the coating liquid of any of the above-described constitutions.
또한, 본 발명의 피막이 형성된 기재의 제조 방법은, 상기 서술한 어느 구성의 도포액을 기재에 도포하는 도포 공정과, 도포 공정 후에 기재를 80 ℃ 이상 150 ℃ 이하에서 가열하는 건조 공정과, 건조 공정 후에 기재 상에 형성된 도포막에 자외선을 조사하는 조사 공정과, 조사 공정 후에 도포막을 80 ℃ 이상 300 ℃ 이하에서 가열하는 가열 공정을 구비하고 있다. 300 ℃ 이하의 프로세스로 성막할 수 있기 때문에, 내열성이 낮은 기재 상에, 경도와 내크랙성을 양립시키는 피막을 제작할 수 있다.A method for producing a coated substrate of the present invention comprises a coating step of applying a coating liquid of any of the above-described constitution to a substrate, a drying step of heating the substrate at a temperature of 80 ° C or higher and 150 ° C or lower after the coating step, An irradiating step of irradiating the coating film formed on the substrate with ultraviolet rays and a heating step of heating the coated film at 80 ° C or higher and 300 ° C or lower after the irradiation step. The film can be formed at a process temperature of 300 DEG C or less. Thus, it is possible to produce a coating film having both hardness and crack resistance on a substrate having low heat resistance.
본 발명을 적용하면, 도포액에 고굴절률 입자를 배합하지 않아도 고굴절률 (굴절률 1.3 ∼ 2.3) 의 투명 피막을 형성할 수 있다.By applying the present invention, a transparent coating film having a high refractive index (refractive index of 1.3 to 2.3) can be formed without adding high refractive index particles to the coating liquid.
이하에, 본 발명의 피막 형성용 도포액, 도포액의 제조 방법, 피막이 형성된 기재, 및 피막이 형성된 기재의 제조 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the coating liquid for forming a film, the method for producing a coating liquid, the substrate on which a film is formed, and the method for producing a substrate on which a film is formed will be described.
〔피막 형성용 도포액〕[Film forming liquid for coating]
피막 형성용 도포액 (이하, 「본 도포액」이라고 칭한다.) 은, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 과, 식 (2) 로 나타내는 3 관능 이상의 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B 성분) 과, 식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (C 성분) 이, 물과 유기 용매를 포함하는 혼합 용매 중에 용해 또는 분산되어 있다.The coating liquid for forming a film (hereinafter referred to as " the present coating liquid ") contains an organic compound capable of forming a chelate with a metal alkoxide (component A), a silane compound having three or more functional groups represented by formula (2) At least one (component C) of at least one of the components (component B) and the metal alkoxide represented by the formula (3) and the hydrolyzed condensate thereof is dissolved or dispersed in a mixed solvent containing water and an organic solvent.
(R3)(4-m)Si(R4)m (2)(R 3 ) (4-m) Si (R 4 ) m (2)
(여기서 m 은 3 과 4 의 적어도 일방. R3 은 탄소수 1 내지 8 의 비치환 또는 치환 알킬기, 비치환 또는 치환 아릴기, 및 비닐기 중 어느 것이다. R4 는 탄소수 1 내지 8 의 비치환 또는 치환 알콕시기, 비치환 또는 치환 아릴옥시기, 비닐옥시기, 수산기, 수소 원자, 및 할로겐 원자 중 어느 것이고, 동일해도 되고, 상이해도 된다.)(Wherein m is at least one of 3 and 4, and R 3 is any of an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryl group, and a vinyl group. R 4 is an unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryloxy group, a vinyloxy group, a hydroxyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom, and may be the same or different.)
M(OR5)n (3)M (OR < 5 >) n (3)
(여기서, M 은 Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Pb, B, Bi, Ce 및 Cu 로부터 선택된 1 종의 원소이고, R5 는 탄소수 1 부터 10 까지의 비치환 또는 치환 알킬기이다. n 은 M 의 원자가와 동일한 수이다.)(Where M is at least one element selected from the group consisting of Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, , Pb, B, Bi, Ce and Cu, and R 5 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is a number equal to the valence of M)
상기 서술한 식 (2) 로부터 알 수 있는 바와 같이, B 성분에는, m = 3 인 경우의, 「3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B3 성분)」 과, m = 4 인 경우의, 「4 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B4 성분)」이 있다. 그리고, 본 도포액은 B3 성분과 B4 성분의 적어도 일방을 B 성분으로서 포함하고 있다. 또한, 본 도포액에는, B 성분과 C 성분이 가수분해 축합하여 생성되는 가수분해 축합물을 포함하고 있어도 된다.As can be seen from the above-described formula (2), the B component includes at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (B3 component) when m = 3, , At least one of the tetrafunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (component B4) ". The present coating liquid contains at least one of the B3 component and the B4 component as the B component. The present coating liquid may contain a hydrolysis-condensation product in which a component B and a component C are produced by hydrolysis and condensation.
이때, A 성분의 몰수 (M1) 과 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M1/M3) 은, 0.25 이상 2.0 미만의 범위일 필요가 있다. 또한, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 은 0.1 이상 9.0 이하의 범위에 있을 필요가 있다. 여기서, 각 성분이 가수분해한 경우라도, 몰수 (M1 ∼ M3) 에는, 가수분해 전의 구조를 기준으로 한 값을 사용한다. At this time, the molar ratio (M1 / M3) of the molar number (M1) of the component A to the molar number (M3) of the component C needs to be in the range of 0.25 or more and less than 2.0. The molar ratio (M2 / M3) of the molar number (M2) of the component B and the molar number (M3) of the component C needs to be in the range of 0.1 to 9.0. Here, even when each component is hydrolyzed, a value based on the structure before hydrolysis is used as the molar numbers (M1 to M3).
몰비 (M1/M3) 이 2.0 이상이면, C 성분에 있어서의 OR5 부의 대부분에, A 성분이 배위하게 되고, B 성분과 C 성분의 반응이 억제될 우려가 있다. 이 때문에, 경화 시에 -M-O-Si- 의 가교가 잘 형성되지 않아, 얻어지는 피막의 경도가 불충분해질 우려가 있다. 또한, 피막에 존재하는 A 성분의 양이 증가하고, 막의 표면 저항값 등의 전기적 특성이 시간 경과적으로 변화하여, 신뢰성이 저하할 우려도 있다. 또한, 몰비 (M1/M3) 이 0.25 미만인 경우, C 성분의 반응이 과잉이 되기 때문에, 도포액 중에서의 가수분해 축합물의 안정성이 악화되고, 도포액 수명이 짧아지기 때문에, 얻어지는 피막의 내크랙성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 특히, 몰비 (M1/M3) 은 0.5 이상 1.0 이하의 범위가 바람직하다.When the molar ratio (M1 / M3) is 2.0 or more, the A component is coordinated to most of the OR 5 parts in the C component, and the reaction between the B component and the C component may be inhibited. For this reason, crosslinking of -MO-Si- is not well formed at the time of curing, and there is a possibility that the hardness of the resulting film becomes insufficient. Further, the amount of the component A present in the coating film increases, and electrical characteristics such as the surface resistance value of the film change over time, thereby reducing reliability. When the molar ratio (M1 / M3) is less than 0.25, since the reaction of the component C becomes excessive, the stability of the hydrolyzed and condensed product in the coating liquid deteriorates and the service life of the coating solution becomes short. There is a risk of adverse effects. In particular, the molar ratio (M1 / M3) is preferably in the range of 0.5 to 1.0.
몰비 (M2/M3) 이 0.1 미만인 경우에는, 도포액의 안정성이 저하하고, 도포액 수명이 짧아진다. 그 때문에, 막두께, 굴절률, 경도 등의 피막 특성이 안정적으로 얻어지지 않을 우려가 있다. 한편, 몰비 (M2/M3) 이 9.0 을 초과하면, 도포액으로부터 형성된 도포막을 300 ℃ 이하의 온도에서 가열한 경우에, 피막의 경도가 불충분해질 우려가 있다.When the molar ratio (M2 / M3) is less than 0.1, the stability of the coating liquid deteriorates and the service life of the coating liquid is shortened. Therefore, there is a possibility that the film properties such as film thickness, refractive index, and hardness may not be stably obtained. On the other hand, when the molar ratio (M2 / M3) is more than 9.0, when the coating film formed from the coating liquid is heated at 300 DEG C or less, the hardness of the coating film may be insufficient.
이와 같은 도포액을 사용하면, UV 처리 및 저온 (80 ∼ 300 ℃) 에서의 가열 처리에 의해, 충분한 경도와 내찰상성을 구비하는 피막을 형성할 수 있다. 그 때문에, 내열성이 열등한 기재에 대해서도 충분한 경도와 내찰상성을 갖는 피막을 형성할 수 있고, 충분한 경도를 가짐과 함께 크랙이 잘 생기지 않는 피막이 형성된 기재가 얻어진다.When such a coating liquid is used, a film having sufficient hardness and scratch resistance can be formed by UV treatment and heat treatment at a low temperature (80 to 300 DEG C). As a result, it is possible to form a coating film having sufficient hardness and scratch resistance even for a substrate having poor heat resistance, and a substrate having sufficient hardness and a coating film which is not easily cracked can be obtained.
즉, 본 발명에 의하면, 도포액에 고굴절률 입자를 배합하지 않고, 피막의 고굴절률화 (굴절률 1.3 ∼ 2.3) 를 실현할 수 있다. 그 때문에, 종래의 고굴절률 입자를 배합한 도포액의 과제 (고활성의 미립자가 용매를 끌어 들이면서 증점하는 것에 의해 생기는 보이드, 이것에서 기인하는 막의 치밀성 저하, 경도 저하, 내약품성 저하 등) 를 방지할 수 있다.That is, according to the present invention, it is possible to realize a high refractive index (refractive index: 1.3 to 2.3) of the film without adding high refractive index particles to the coating liquid. For this reason, the problem of the coating liquid containing conventional high refractive index particles (voids formed by high-active fine particles gravitating toward the solvent, degradation of the denseness of the film due to high concentration of the solvent, deterioration of hardness, .
또한, B 성분에서 유래하는 SiO2 환산 농도 (농도 C2) 는 0.005 ∼ 12 질량% 가 바람직하다. 농도 C2 가 0.005 질량% 이상이면, 가수분해 반응이 원활하게 진행되고, 피막의 내크랙성을 충분히 높게 할 수 있다. 또한, 농도 C2 가 12 질량% 이하이면, 가수분해 반응이 과잉으로 진행되지도 않아, 안정적인 도포액을 얻을 수 있다. 특히, 0.01 ∼ 8 질량% 가 바람직하다.The SiO 2 -converted concentration (concentration C 2 ) derived from the component B is preferably 0.005 to 12 mass%. When the concentration C 2 is 0.005 mass% or more, the hydrolysis reaction progresses smoothly and the crack resistance of the coating film can be sufficiently increased. When the concentration C2 is 12 mass% or less, the hydrolysis reaction does not proceed excessively, and a stable coating liquid can be obtained. In particular, it is preferably 0.01 to 8% by mass.
C 성분에서 유래하는 원소 M 의 MOx 환산 농도 (농도 C3) 는 0.02 ∼ 14.25 질량% 가 바람직하다.The MO x converted concentration (concentration C3) of the element M derived from the C component is preferably 0.02 to 14.25 mass%.
농도 C3 이 0.02 질량% 이상이면, 가수분해 반응이 원활하게 진행되고, 피막의 내크랙성이 충분히 높아진다. 또한, 농도 C3 이 14.25 질량% 이하이면, 가수분해 반응이 과응으로 진행되지도 않아, 안정적인 도포액이 얻어진다. 특히, 0.04 ∼ 9.5 질량% 인 것이 바람직하다.When the concentration C 3 is 0.02 mass% or more, the hydrolysis reaction progresses smoothly, and the crack resistance of the film becomes sufficiently high. If the concentration C 3 is 14.25 mass% or less, the hydrolysis reaction does not proceed as expected, and a stable coating liquid is obtained. In particular, it is preferably 0.04 to 9.5 mass%.
또한, 농도 C2 와 농도 C3 의 합계 농도 CT 는 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하다. 농도 CT 가 0.1 질량% 이상이면, 통상의 도포 조건으로도 충분한 두께의 막을 얻을 수 있고, 경도와 내크랙성이 높은 막을 얻기 위해서 반복해 도포할 필요성도 적어진다. 농도 CT 가 15 질량% 이하이면, 통상의 도포 조건으로도 얻어지는 막두께를 제어할 수 있어, 크랙의 발생을 억제하는 것이 용이해진다. 또한, 도포액의 안정성도 충분해지기 때문에, 시간 경과적인 점도의 상승을 억제할 수 있다. 그 때문에, 얻어지는 피막의 막두께, 굴절률, 경도 등의 특성이 안정된다. 또한, 농도 CT 는 0.2 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하다.The total concentration CT of the concentration C2 and the concentration C3 is preferably 0.1 to 15% by mass. If the concentration CT is 0.1% by mass or more, a film having a sufficient thickness can be obtained even under ordinary coating conditions, and it is also unnecessary to repeatedly coat the film to obtain a film having high hardness and crack resistance. When the concentration CT is 15 mass% or less, the film thickness obtained under ordinary coating conditions can be controlled, and it is easy to suppress the occurrence of cracks. Further, since the stability of the coating liquid is sufficient, it is possible to suppress an increase in viscosity over time. Therefore, characteristics such as film thickness, refractive index, and hardness of the resulting film are stabilized. The concentration CT is more preferably 0.2 to 10% by mass.
또한, 본 도포액에 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물 중 적어도 일방 (B3 성분) 이 B 성분으로서 포함되는 경우에는, 도포액의 pH 는 4 ∼ 8 이 바람직하고, 또한 4 ∼ 7.5 가 보다 적합하다. B3 성분을 포함한 배합액이 산성인 상태이면, 3 관능 실란 화합물이 불용성의 고형분으로서 석출되기 쉬워져 바람직하지 않다. When the coating liquid contains at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (component B3) as component B, the pH of the coating liquid is preferably 4 to 8, more preferably 4 to 7.5 Suitable. If the blend liquid containing the B3 component is in an acidic state, the bifunctional silane compound tends to precipitate as an insoluble solid component, which is not preferable.
또한, 본 도포액에 포함되는 B 성분이 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물 중 적어도 일방 (B3 성분) 일 때, 즉 B 성분으로서 B3 성분만이 포함되어 있을 때, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 은 0.5 이상 8.0 이하의 범위일 필요가 있다. 몰비 (M2/M3) 이 0.5 미만이면, 도포액의 안정성이 저하하고, 도포액 수명이 짧아진다. 그 때문에, 막두께, 굴절률, 경도 등의 피막 특성이 안정적으로 얻어지지 않는 경우가 있다. 나아가 내크랙성이 저하할 우려도 있다. 몰비 (M2/M3) 이 8.0 을 초과하면, 얻어지는 피막의 경도가 불충분해지고, 내크랙성이 저하할 우려가 있다. 또한, 몰비 (M2/M3) 은 0.6 이상 7.5 이하가 보다 적합하다.When the B component contained in the coating liquid is at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (B3 component), that is, when only the B3 component is contained as the B component, the molar number of the B component (M2 ) And the number of moles of the component C (M3) should be in the range of 0.5 or more and 8.0 or less. When the molar ratio (M2 / M3) is less than 0.5, the stability of the coating liquid is lowered and the service life of the coating liquid is shortened. Therefore, film characteristics such as film thickness, refractive index, and hardness may not be stably obtained. Further, there is a possibility that the crack resistance is lowered. When the molar ratio (M2 / M3) is more than 8.0, the hardness of the obtained film becomes insufficient, and crack resistance is likely to decrease. The molar ratio (M2 / M3) is more preferably 0.6 or more and 7.5 or less.
마찬가지로, 본 도포액이 B 성분으로서 B3 성분만을 포함하고 있을 때, C 성분에서 유래하는 원소 M 의 MOx 환산 농도 (농도 C3) 는 0.02 ∼ 14 질량% 가 바람직하고, 또한 0.04 ∼ 9.5 질량% 가 보다 바람직하다. 농도 C3 이 14 질량% 이하이면, 가수분해 반응이 과잉으로 진행되지 않아, 안정적인 도포액이 얻어진다.Similarly, when the present coating liquid contains only the B3 component as the B component, the MO x converted concentration (concentration C3) of the element M derived from the C component is preferably 0.02 to 14 mass%, more preferably 0.04 to 9.5 mass% More preferable. When the concentration C3 is 14 mass% or less, the hydrolysis reaction does not proceed excessively, and a stable coating liquid is obtained.
다음으로, 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B3 성분) 과, 4 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B4 성분) 이 도포액에 포함되는 경우를 설명한다. B3 성분의 몰수 (MB3) 과, B4 성분의 몰수 (MB4) 의 몰비 (MB4/MB3) 의 값은, 0.01 이상 1 이하가 바람직하다. 몰비 (MB4/MB3) 이 0.01 이상이면 막의 경도가 향상되고, 1 이하이면 내크랙성의 저하를 잘 일으키지 않는다. 또한, 몰비는 0.01 이상 0.5 이하가 특히 바람직하다.Next, a case where at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (component B3) and at least one of the tetrafunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof (component B4) are included in the coating liquid will be described. The value of the molar ratio (M B4 / M B3 ) of the molar number (M B3 ) of the component B3 to the mol number (M B4 ) of the component B4 is preferably 0.01 or more and 1 or less. When the molar ratio (M B4 / M B3 ) is 0.01 or more, the hardness of the film is improved. When the molar ratio is 1 or less, the crack resistance is not caused sufficiently. The molar ratio is particularly preferably 0.01 or more and 0.5 or less.
여기서, B3 성분이나 B4 성분이 가수분해된 경우라도, 몰수는 가수분해 전의 구조를 기준으로 한 값이다. 또한, B3 성분과 B4 성분과 C 성분부의 가수분해 축합물이 포함되어 있어도 상관없다.Here, even when the B3 component or the B4 component is hydrolyzed, the number of moles is a value based on the structure before hydrolysis. The hydrolysis-condensation product of the B3 component, the B4 component and the C component may be contained.
이하, 본 발명의 도포액에 포함되는 각 성분을 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component contained in the coating liquid of the present invention will be described in detail.
<A 성분><Component A>
A 성분은, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물이고, 1 종의 유기 화합물이어도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 킬레이트제로서의 효과의 관점에서 아세틸아세톤을 사용하는 것이 특히 바람직하다.The component A is an organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide, and may be an organic compound or a mixture of two or more kinds thereof. It is particularly preferable to use acetylacetone in view of the effect as a chelating agent.
이 외에도, A 성분으로서, 트리플루오르아세틸아세톤, 헥사플루오르아세틸아세톤, 벤조일아세톤, 벤조일트리플루오르아세톤, 디벤조일메탄, 푸로일아세톤, 트리플루오르푸로일아세톤, 벤조일푸로일메탄, 테노일아세톤, 트리플루오르테노일아세톤, 푸로일테노일아세톤, 옥신, 2-메틸옥신, 4-메틸옥신, 5-메틸옥신, 6-메틸옥신, 7-메틸옥신, 옥신-5-술폰산, 7-요오드옥신-5-술폰산, 퀴놀린-2-카르복실산, 퀴놀린-8-카르복실산, 8-하이드록시시놀린, 4-하이드록시-1,5-나프티리딘, 8-하이드록시-1,6-나프티리딘, 8-하이드록시-1,7-나프티리딘, 5-하이드록시퀴녹살린, 8-하이드록시퀴나졸린, 2,2'-비피리딘, 2-(2'-티에닐)피리딘, 1,10-페난트롤린, 2-메틸-1,10-페난트롤린, 5-메틸-1,10-페난트롤린, 2,9-디메틸-1,10-페난트롤린, 4,7-디메틸-1,10-페난트롤린, 5-클로르-1,10-페난트롤린, 6-브롬-1,10-페난트롤린, 5-니트로-1,10-페난트롤린, 5-페닐-1,10-페난트롤린, 4,7-디페닐-1,10-페난트롤린, 디메틸글리옥심, 디메틸글리옥심-o-메틸에스테르, 디메틸디티오카르밤산, 디에틸디티오카르밤산, N-니트로소페닐하이드록실아민, 1-니트로소-2-나프톨, 2-니트로소-1-나프톨, 3-하이드록시플라본, 5-하이드록시플라본, 1-(2-피리딜아조)-2-나프톨, 4-(2-피리딜아조)레조르신, 2-(4'-디메틸아미노페닐아조)피리딘, 에리오크롬 블랙 A, 에리오크롬 블랙 T, 에리오크롬 블루 블랙 B, 에리오크롬 블루 블랙 R, 프탈레인 콤플렉손, 알칸올아민, 및 하이드록시산 등을 예시할 수 있다.In addition to this, as the component A, at least one selected from the group consisting of trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, benzoyl acetone, benzoyltrifluoroacetone, dibenzoylmethane, furoyl acetone, trifluoro-chloroacetone, benzoyl furoyl methane, 4-methyloxine, 5-methyloxine, 6-methyloxine, 7-methyloxine, oxine-5-sulfonic acid, 7-iodooxine-5-sulfonic acid Hydroxyquinoline-2-carboxylic acid, quinoline-8-carboxylic acid, 8-hydroxycinoline, 4-hydroxy- 1,5-naphthyridine, 8- Hydroxyquinoline, hydroxy-1,7-naphthyridine, 5-hydroxyquinoxaline, 8-hydroxyquinazoline, 2,2'-bipyridine, 2- (2'-thienyl) pyridine, 1,10-phenanthroline Methyl-1,10-phenanthroline, 5-methyl-1,10-phenanthroline, 2,9-dimethyl-1,10-phenanthroline, 4,7-dimethyl- Troline, 5-chlor-1, 10-phenanthroline, 6 -Bromo-1,10-phenanthroline, 5-nitro-1,10-phenanthroline, 5-phenyl-1,10-phenanthroline, 4,7- Dimethylglyoxime-o-methyl ester, dimethyldithiocarbamic acid, diethyldithiocarbamic acid, N-nitrosophenylhydroxylamine, 1-nitroso-2-naphthol, 2- 2-naphthol, 4- (2-pyridylazo) resorcin, 2- (4'-dimethylaminophenyl) Azo) pyridine, eriochrome black A, eriochrome black T, eriochrome blue black B, eriochrome blue black R, phthalaine complexone, alkanolamine, and hydroxy acid.
A 성분으로는 하기 식 (1) 로 나타내는 카르보닐기를 2 개 이상 갖는 카르보닐 화합물이 특히 바람직하다.As the component A, a carbonyl compound having two or more carbonyl groups represented by the following formula (1) is particularly preferable.
식 (1) 에 있어서, R1 은 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기이다. R2 는 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기 또는 수산기이다. R1 로는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, 페닐기, 푸릴기, 티에닐기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 및 에톡시기 등을 들 수 있다. 특히 메틸기, 에틸기, 및 에톡시기가 바람직하다. R2 로는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, 페닐기, 푸릴기, 티에닐기, 트리플루오로기, 메톡시기, 및 에톡시기 등을 유기기로서 예시할 수 있다.In the formula (1), R 1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms. R 2 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms or a hydroxyl group. Examples of R 1 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a phenyl group, a furyl group, a thienyl group, a trifluoromethyl group, a methoxy group and an ethoxy group. Particularly, a methyl group, an ethyl group, and an ethoxy group are preferable. As R 2 , for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, phenyl group, furyl group, thienyl group, trifluoro group, methoxy group and ethoxy group can be exemplified as an organic group.
<B 성분><Component B>
B 성분 (3 관능 이상의 실란 화합물) 을 배합함으로써, 도포막 (투명 피막) 의 경도나 내크랙성이 향상된다. 특히, 3 관능 실란 화합물은, 부피가 큰 비관능성의 유기기 (탄소수 1 부터 8 까지의 비치환 또는 치환 알킬기, 비치환 또는 치환 아릴기, 및 비닐기) 를 갖기 때문에, 피막에 가요성이 부여되고, 또한 피막과 기재 (유기 재료) 의 젖음성이 향상된다. 그 때문에, 내크랙성이 더 향상된다. 또한, 성막 공정에 있어서의 자외선 조사에 의해, 유기기의 적어도 일부가 분해되는 경우라도, 응력 집중이 완화되게 되기 때문에, 이것도 내크랙성의 향상에 기여한다.By compounding the B component (silane compound having three or more functional groups), the hardness and crack resistance of the coating film (transparent coating film) are improved. Particularly, since the trifunctional silane compound has a bulky organic functional group (an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryl group, and a vinyl group), flexibility is imparted to the film And the wettability of the coating film and the substrate (organic material) is improved. Therefore, the crack resistance is further improved. In addition, even when at least a part of the organic material is decomposed by ultraviolet irradiation in the film forming step, stress concentration is relaxed, which also contributes to improvement of crack resistance.
상기 서술한 식 (2) 의 R3 및 R4 에 있어서, 탄소수 1 내지 8 의 비치환 알콕시기로서, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 및 부톡시기 등을 들 수 있다. 동일하게 치환 알콕시기로서, 상기 서술한 비치환 알콕시기의 수소 원자를 메틸기, 에틸기 등으로 치환하여 이루어지는 기를 들 수 있다. 아릴옥시기로서, 페녹시기, 및 나프틸옥시기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로서, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.In R 3 and R 4 in the above-mentioned formula (2), examples of the unsubstituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group. Similarly, as the substituted alkoxy group, there can be mentioned a group obtained by substituting the hydrogen atom of the aforementioned unsubstituted alkoxy group with a methyl group, an ethyl group or the like. As the aryloxy group, phenoxy group, naphthyloxy group and the like can be given. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
또한, 3 관능 실란 화합물로는, 메틸트리메톡시실란 (MTMS), 메틸트리에톡시실란 (MTES), 에틸트리에톡시실란 (ETES), 메틸트리이소프로폭시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리이소프로폭시실란, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 트리플루오로메틸트리메톡시실란, 트리플루오로메틸트리에톡시실란γ-(메트)아크릴로옥시프로필디메톡시실란, 및 γ-(메트)아크릴로옥시프로필디에톡시실란 등을 바람직하게 들 수 있다. 이들은 1 종을 사용해도 되고 임의의 2 종 이상을 혼합해 사용해도 된다. 단, R3 이 너무 장사슬이 되면 충분한 경도를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있다. 또 R3 이 서로 상이하면, 가수분해 속도에 차이가 발생하여, 균일한 반응이 일어나기 어려워지므로, 메틸트리메톡시실란 (MTMS) 을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the trifunctional silane compounds include methyltrimethoxysilane (MTMS), methyltriethoxysilane (MTES), ethyltriethoxysilane (ETES), methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyl Triisopropoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane , Trifluoromethyltriethoxysilane? - (meth) acryloxypropyldimethoxysilane,? - (meth) acryloxypropyldiethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. However, when R 3 is too long, it may be difficult to obtain sufficient hardness. When R 3 is different from each other, a difference in the rate of hydrolysis occurs, and a homogeneous reaction hardly occurs. Therefore, it is preferable to use methyltrimethoxysilane (MTMS).
4 관능 실란 화합물로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라이소프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 테트라클로로실란, 트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 특히, 테트라에톡시실란이 바람직하다.Examples of the tetrafunctional silane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetrachlorosilane and trimethoxysilane. In particular, tetraethoxysilane is preferred.
4 관능 실란 화합물은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 조합하여 사용해도 된다.The tetrafunctional silane compound may be used singly or in combination of plural species.
<C 성분><Component C>
상기 서술한 바와 같이, C 성분은, 식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방이다. C 성분의 금속 원소 M 에는 Si 이외의 금속 원소가 선택된다. 구체적으로는, 금속 원소 M 은, Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Pb, B, Bi, Ce 및 Cu 로부터 선택되는 적어도 1 종의 원소의 알콕사이드가 사용된다. 특히, Ti, Al, Zr 이 바람직하다.As described above, the C component is at least one of the metal alkoxide represented by the formula (3) and the hydrolyzed condensate thereof. A metal element other than Si is selected as the metal element M of the C component. Specifically, the metal element M is at least one selected from the group consisting of Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, , And an alkoxide of at least one element selected from Ta, W, Pb, B, Bi, Ce and Cu is used. In particular, Ti, Al and Zr are preferable.
C 성분으로서의 금속 알콕사이드에는, 알루미늄트리메톡사이드, 알루미늄트리에톡사이드, 알루미늄트리프로폭사이드, 알루미늄트리이소프로폭사이드, 알루미늄트리n-부톡사이드, 알루미늄트리이소부톡사이드, 알루미늄트리t-부톡사이드, 알루미늄트리펜틸옥사이드, 알루미늄트리헥실옥사이드, 알루미늄트리옥틸옥사이드, 알루미늄트리벤질옥사이드, 알루미늄트리페녹사이드, 알루미늄트리메톡시에톡사이드, 알루미늄트리메톡시에톡시에톡사이드, 알루미늄트리메톡시프로폭사이드, 티타늄테트라메톡사이드, 티타늄테트라에톡사이드, 티타늄테트라프로폭사이드, 티타늄테트라이소프로폭사이드, 티타늄테트라메톡시에톡사이드, 티탄테트라부톡사이드, 지르코늄테트라메톡사이드, 지르코늄테트라에톡사이드, 지르코늄테트라프로폭사이드, 지르코늄테트라이소프로폭사이드, 지르코늄테트라메톡시에톡사이드, 지르코니아부톡사이드, 니오븀펜타에톡사이드, 인듐트리메톡사이드, 인듐트리에톡사이드, 인듐트리프로폭사이드, 인듐트리이소프로폭사이드, 인듐트리n-부톡사이드, 인듐트리이소부톡사이드, 인듐트리t-부톡사이드, 인듐트리펜틸옥사이드, 인듐트리헥실옥사이드, 인듐트리옥틸옥사이드, 인듐트리벤질옥사이드, 인듐트리페녹사이드, 인듐트리메톡시에톡사이드, 인듐트리메톡시에톡시에톡사이드, 인듐트리메톡시프로폭사이드, 안티모니트리메톡사이드, 안티모니트리에톡사이드, 안티모니트리프로폭사이드, 안티모니트리이소프로폭사이드, 안티모니트리n-부톡사이드 및 안티모니트리이소부톡사이드 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 사용해도 되고 임의의 2 종 이상을 혼합해 사용해도 되지만, 가수분해 속도가 적당하고, 입수가 용이하다는 관점에서 티타늄테트라이소프로폭사이드, 지르코늄테트라프로폭사이드를 사용하는 것이 바람직하다.As the metal alkoxide as the component C, at least one selected from the group consisting of aluminum trimethoxide, aluminum triethoxide, aluminum tripropoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum tri-n-butoxide, aluminum triisobutoxide, , Aluminum tripentyloxide, aluminum trihexyloxide, aluminum trioctyloxide, aluminum tribenzyloxide, aluminum triphenoxide, aluminum trimethoxyethoxide, aluminum trimethoxyethoxyethoxide, aluminum trimethoxypropoxy A titanium compound such as titanium tetraethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetrapropoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium tetramethoxyethoxide, titanium tetrabutoxide, zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, Zirconium tetrapropoxide, zirconium tetrapropoxide Zirconium butoxide, niobium pentaethoxide, indium trimethoxide, indium triethoxide, indium tribopropoxide, indium triisopropoxide, indium tributoxide, indium tributoxide, indium tributoxide, But are not limited to, tri-n-butoxide, indium triisobutoxide, indium tri-t-butoxide, indium tripentyl oxide, indium trihexyloxide, indium trioctyloxide, indium tribenzyloxide, An antimony trioxide, an antimony trioxide, an antimony trioxide, an antimony trioxide, an antimony trioxide, a side, indium trimethoxy ethoxy ethoxide, Tri-n-butoxide, and antimony triisobutoxide. These may be used alone or in admixture of any two or more species. However, titanium tetraisopropoxide and zirconium tetrapropoxide are preferably used from the viewpoints of a suitable hydrolysis rate and easy availability .
<D 성분><Component D>
본 도포액에는, 제조 공정에서 유래하여, 가수분해용 촉매가 0.2 질량% 정도 잔류하는 경우가 있다. 본 도포액의 용도에 따라서, 가수분해용 촉매를 제거하는 것이 요망된다. 그 경우에는, 예를 들어 이온 교환, 중화, 증류 등에 의해 가수분해용 촉매를 제거한다. 중화를 실시하는 경우에는, 산 중화 물질이 본 도포액 중에 잔류한다. 이하, 중화 처리의 경우를 상세하게 설명한다.In the present coating liquid, about 0.2% by mass of the hydrolysis catalyst may remain after the production process. It is desired to remove the hydrolysis catalyst in accordance with the application of the coating liquid. In this case, for example, the hydrolysis catalyst is removed by ion exchange, neutralization, distillation or the like. In the case of neutralization, the acid neutralizing material remains in the coating liquid. Hereinafter, the case of the neutralization treatment will be described in detail.
D 성분은, 도포액의 pH 를 4 ∼ 8 로 하기 위해서 첨가되는 산 중화 물질이다. 상기 서술한 B 성분으로서 3 관능 실란 화합물 (B3 성분) 이 포함되는 경우, B3 성분은 산 촉매 등의 가수분해용 촉매에 의해 가수분해된다. 배합액을 중성으로 되돌리기 위해서 산 중화 물질을 첨가한다. 배합액이 산성인 상태이면 3 관능 실란 화합물이 불용성의 고형분으로서 석출되기 쉬워져 바람직하지 않다. 본 도포액 중에 포함되는 D 성분은 1 질량% 이하가 바람직하다.Component D is an acid neutralizing material added to make the pH of the coating liquid 4 to 8. When the trifunctional silane compound (component B3) is contained as the above-described component B, the component B3 is hydrolyzed by a catalyst for hydrolysis such as an acid catalyst. An acid neutralizing material is added to return the mixture to neutral. If the compounding liquid is in an acidic state, the bifunctional silane compound tends to precipitate as an insoluble solid component, which is not preferable. The D component contained in the coating liquid is preferably 1% by mass or less.
산 중화 물질에는, 금속 불순분의 혼입, 유기 용매에 대한 용해성의 관점에서 아민 화합물이 바람직하다. 아민 화합물로서, 트리에탄올아민, 디에탄올아민, 모노에탄올아민, 트리메틸아민, 에틸렌디아민, 피페리딘, 아닐린 및 피리딘 등을 들 수 있다. 산 중화 물질을 1 종 사용해도 되고, 임의의 2 종 이상의 산 중화 물질을 혼합해 사용해도 된다.The acid neutralizing material is preferably an amine compound from the viewpoint of mixing of metal impurities and solubility in an organic solvent. Examples of the amine compound include triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, trimethylamine, ethylenediamine, piperidine, aniline and pyridine. One acid neutralizing material may be used, or arbitrary two or more acid neutralizing materials may be mixed and used.
<혼합 용매><Mixed solvent>
본 도포액에는, 물 및 유기 용매의 혼합 용매가 사용된다. 단, 유기 용매로서, 상기 성분 (A) 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 은 제외된다. 물과 유기 용매의 혼합 비율로는, 바람직하게는 물/유기 용매 (질량비) 가 20/80 ∼ 0.1/99.9 이고, 보다 바람직하게는 10/90 ∼ 1/99 이다. 유기 용매는, 비점이 120 ℃ 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 150 ℃ 이상이다. 단, 비점이 300 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 20 ℃ 에 있어서의 유기 용매의 점도가 1 ∼ 400 mPa·s 의 범위에 있는 것이 바람직하고, 20 ∼ 350 mPa·s 의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 또한, 복수의 유기 용매가 혼합되는 경우, 비점이 120 ℃ 이상, 20 ℃ 에 있어서의 점도가 1 ∼ 400 mPa·s 인 유기 용매가 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.As the coating liquid, a mixed solvent of water and an organic solvent is used. However, as the organic solvent, an organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide (A) (component A) is excluded. The mixing ratio of water to the organic solvent is preferably 20/80 to 0.1 / 99.9, more preferably 10/90 to 1/99, in the water / organic solvent (mass ratio). The organic solvent preferably has a boiling point of 120 캜 or higher. More preferably at least 150 ° C. However, it is preferable that the boiling point is 300 占 폚 or less. The viscosity of the organic solvent at 20 캜 is preferably in the range of 1 to 400 mPa s, more preferably in the range of 20 to 350 mPa 쨌 s. When a plurality of organic solvents are mixed, the organic solvent having a boiling point of 120 ° C or higher and a viscosity at 20 ° C of 1 to 400 mPa · s is preferably 50 mass% or more, more preferably 60 mass% or more .
유기 용매로서, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 디아세톤알코올, 푸르푸릴알코올, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 알코올류, 아세트산메틸에스테르, 아세트산에틸에스테르 등의 에스테르류, 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르 등의 에테르류, 아세톤 및 메틸에틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, ethylene glycol and hexylene glycol, esters such as acetic acid methyl ester and ethyl acetate ester, Ethers such as ethylene glycol monoethyl ether, glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monopropyl ether, And ketones such as methyl ethyl ketone.
또한, 본 도포액에는, 그 효과를 저해하지 않는 범위에서, 임의 성분을 첨가시킬 수 있다. 예를 들면, 무기 산화물 미립자, 유기 수지 미립자, 오르가노폴리실록산 수지 미립자, 안료, 착색료, 대전 방지제 및 계면활성제 등을 첨가해도 된다.In addition, optional components may be added to the coating liquid within the range not hindering the effect. For example, inorganic oxide fine particles, organic resin fine particles, organopolysiloxane resin fine particles, pigments, coloring agents, antistatic agents and surfactants may be added.
〔본 도포액의 제조 방법〕[Method of producing the present coating liquid]
본 도포액의 제조 방법은, 하기 공정 1, 공정 2 및 공정 3 을 포함하고 있다.The manufacturing method of the present coating liquid includes the following steps 1, 2, and 3.
공정 1 : 유기 용매와, 물과, B 성분 (식 (2) 로 나타내는 3 관능 이상의 실란 화합물) 과 가수분해 촉매를 배합하여 예비액 1 을 조제하는 공정Step 1: A process of preparing a preliminary liquid 1 by mixing an organic solvent, water, a B component (a silane compound having three or more functional groups represented by formula (2)) and a hydrolysis catalyst
여기서, B 성분에 4 관능 실란 화합물을 사용한 경우에는, B 성분의 배합량은 공정 2 에 있어서의 C 성분의 금속 원소 M 의 1 몰에 대하여 0.1 몰 이상 9.0 몰 이하의 범위이다.Here, when a tetrafunctional silane compound is used for the component B, the amount of the component B is in the range of 0.1 mol or more and 9.0 mol or less per mol of the metal element M of the component C in the step 2.
또한, B 성분에 3 관능 실란 화합물을 사용한 경우에는, B 성분의 배합량은 공정 2 에 있어서의 C 성분의 금속 원소 M 의 1 몰에 대하여 0.5 몰 이상 8.0 몰 이하의 범위이다. 또한, 중화 처리를 실시해 예비액 1 의 pH 를 5 ∼ 8 의 범위로 조정한다.When the trifunctional silane compound is used for the component B, the amount of the component B is in the range of 0.5 mol or more to 8.0 mol or less per mol of the metal element M of the component C in the step 2. Further, the pH of the preliminary liquid 1 is adjusted to a range of 5 to 8 by neutralization treatment.
공정 2 : 유기 용매와, A 성분과, C 성분 (식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드) 을 배합하여 금속 알콕사이드 용액 (예비액 2) 을 조제하는 공정Step 2: A step of preparing a metal alkoxide solution (preliminary solution 2) by mixing an organic solvent, component A, and component C (metal alkoxide represented by formula (3))
여기서, A 성분은, C 성분의 금속 원소 M 의 1 몰에 대하여 0.25 몰 이상 2 몰 미만의 범위이다.Here, the A component is in a range of 0.25 mol or more and less than 2 mol per 1 mol of the metal element M of the C component.
공정 3 : 공정 1 에서 얻어진 예비액 1 과, 공정 2 에서 얻어진 예비액 2 와, 물을 배합하고, 5 ℃ 이상 40 ℃ 이하의 온도에서 교반하는 공정Step 3: Step of mixing the preliminary liquid 1 obtained in Step 1, the preliminary liquid 2 obtained in Step 2 and water and stirring at a temperature of not lower than 5 ° C and not higher than 40 ° C
상기 서술한 각 공정에 대해, 이하에 상세하게 설명한다.Each of the steps described above will be described in detail below.
<공정 1>≪ Step 1 &
B 성분에 4 관능 실란 화합물을 사용하는 경우에는, 유기 용매, 물 및 가수분해용 촉매의 존재하, 4 관능 실란 화합물을 가수분해 축합시켜, 4 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방이 혼합 용매에 분산되는 용액 (예비액 1) 을 조제한다. 혹은, B 성분에 3 관능 실란 화합물을 사용하는 경우에는, 유기 용매, 물 및 가수분해용 촉매의 존재하, 3 관능 실란 화합물을 가수분해 축합시키고, 추가로 중화를 실시해 용액의 pH 를 5 ∼ 8 의 범위로 한다. 이와 같이 해서, 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물 중 적어도 일방이 혼합 용매에 분산되는 예비액 1 이 얻어진다. 통상, 이 공정 1 에서는, 유기 용매에 물, 가수분해용 촉매, B 성분을 첨가하고, 5 ∼ 40 ℃ 에서 5 ∼ 120 분의 교반을 실시하여, 예비액 1 을 얻는다. When a tetrafunctional silane compound is used as the component B, the tetrafunctional silane compound is hydrolyzed and condensed in the presence of an organic solvent, water and a catalyst for hydrolysis, and at least one of the tetrafunctional silane compound and its hydrolyzed condensate is mixed A solution (preliminary solution 1) to be dispersed in a solvent is prepared. Alternatively, when a trifunctional silane compound is used as the component B, the trifunctional silane compound is hydrolyzed and condensed in the presence of an organic solvent, water and a catalyst for hydrolysis, and further neutralized to adjust the pH of the solution to 5 to 8 . In this way, the preliminary liquid 1 in which at least one of the trifunctional silane compound and its hydrolyzed condensate is dispersed in the mixed solvent is obtained. Usually, in this Step 1, water, a catalyst for hydrolysis and a component B are added to an organic solvent, and stirring is performed at 5 to 40 ° C for 5 to 120 minutes to obtain a preliminary liquid 1.
가수분해용 촉매로는, (a) 질산, 아세트산, 염산, 황산, 질산, 인산, 불화수소 등의 무기산, (b) 옥살산, 말레산 등의 카르복실산, (c) 메탄술폰산 등의 술폰산, 및 (d) 산성 혹은 약산성의 무기염 등의 촉매를 사용할 수 있다. 단, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 촉매를 임의로 복수종 혼합해도 된다. 가수분해 촉매의 양은, B 성분의 3 관능 이상의 실란 화합물에 대하여 0.001 ∼ 1 몰% (SiO2 환산, 외할 (外割)) 의 범위 내인 것이 바람직하다.Examples of the catalyst for hydrolysis include (a) inorganic acids such as nitric acid, acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and hydrogen fluoride, (b) carboxylic acids such as oxalic acid and maleic acid, (c) sulfonic acids such as methanesulfonic acid, And (d) an acidic or slightly acidic inorganic salt. However, the present invention is not limited thereto. A plurality of these catalysts may be arbitrarily mixed. The amount of the hydrolysis catalyst is preferably in the range of 0.001 to 1 mol% (converted to SiO 2 , external ratio) relative to the trifunctional or higher functional group-B silane compound.
물의 양은, B 성분의 3 관능 이상의 실란 화합물 1 몰에 대하여 0.5 ∼ 10 몰 (SiO2 환산, 외할) 의 범위가 바람직하다. 이 몰비의 범위이면, B 성분의 가수분해를 효과적으로 진행시키는 점에서 유효하다. 또한, 물의 양은, 보다 바람직하게는 1 ∼ 8 몰의 범위이다.The amount of water is preferably in the range of 0.5 to 10 moles (in terms of SiO 2, in terms of SiO 2 ) per 1 mol of the silane compound having three or more functional groups. This range of molar ratio is effective in effectively hydrolyzing the B component. The amount of water is more preferably in the range of 1 to 8 moles.
B 성분의 예비액 1 에 있어서의 양은, 가수분해 축합이 진행 가능한 정도이면, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.01 ∼ 8 질량% (SiO2 환산) 의 범위가 바람직하다.The amount of the component B in the preliminary liquid 1 is not particularly limited as long as the hydrolysis and condensation can proceed, but it is preferably in the range of 0.01 to 8 mass% (in terms of SiO 2 ).
또한, B 성분이 3 관능 실란 화합물인 경우에는, 3 관능 실란 화합물의 가수분해 축합물이 생성되고 나서, 배합액을 중성으로 되돌리기 위해서 산 중화 물질을 첨가한다. B 성분을 포함한 배합액이 산성인 상태이면 3 관능 실란 화합물이 불용성의 고형분으로서 석출되기 쉬워져 바람직하지 않다. 여기서 3 관능 실란 용액의 pH 는 5 ∼ 8 이 바람직하고, 보다 바람직하게는 pH6 ∼ 7.5 가 추천된다.When the component B is a trifunctional silane compound, a hydrolysis-condensation product of a bifunctional silane compound is produced, and then an acid neutralizing substance is added in order to return the compounding solution to neutral. If the blend liquid containing the B component is in an acidic state, the bifunctional silane compound tends to precipitate as an insoluble solid component, which is not preferable. The pH of the trifunctional silane solution is preferably from 5 to 8, more preferably from 6 to 7.5.
또한, 산 중화 물질 (D 성분) 은 반드시 필수는 아니다. 산 중화 물질의 첨가에 의하지 않고, 이온 교환 수지를 사용해 가수분해용 촉매를 제거하고, pH 를 5 ∼ 8 로 해도 된다.In addition, the acid neutralizing material (component D) is not necessarily essential. The pH may be adjusted to 5 to 8 by removing the hydrolysis catalyst by using an ion exchange resin instead of adding the acid neutralizing material.
<공정 2>≪ Step 2 &
이 공정에서는, 유기 용매에 A 성분과 C 성분 (식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드) 을 첨가하고, 교반함으로써 금속 알콕사이드나 그 가수분해 축합물을 포함하는 금속 알콕사이드 용액 (예비액 2) 을 조제한다. 유기 용매, A 성분 또는 C 성분은 상기 서술한 바와 같다.In this step, a metal alkoxide solution (preliminary solution 2) containing a metal alkoxide or a hydrolyzed condensate thereof is prepared by adding an A component and a C component (metal alkoxide represented by the formula (3)) to an organic solvent and stirring the mixture . The organic solvent, component A or component C is as described above.
이 공정에 있어서의 C 성분의 몰수 (M3) 에 대한 A 성분의 몰수 (M1) 의 몰비 (M1/M3) 은, 0.25 이상 2.0 미만의 범위에 있다. 이 공정에서, A 성분은 C 성분의 알콕시기에 배위하지만, 몰비 (M1/M3) 이 0.25 이상 2.0 미만의 범위에 있으면, A 성분이 갖는 킬레이트 배위기에 배위되지 않는 금속 알콕사이드가 존재하므로, C 성분의 반응성을 제어할 수 있다. 또한, 몰비 (M1/M3) 은 0.5 이상 1.0 이하의 범위가 보다 바람직하다.The molar ratio (M1 / M3) of the mole number (M1) of the A component to the mole number (M3) of the C component in this step is in the range of 0.25 or more and less than 2.0. In this process, the component A is coordinated to the alkoxy group of the component C, but if the molar ratio (M1 / M3) is in the range of 0.25 or more and less than 2.0, the metal alkoxide which is not coordinated to the chelating component of the component A is present. Can be controlled. The molar ratio (M1 / M3) is more preferably 0.5 or more and 1.0 or less.
몰비 (M1/M3) 이 2.0 이상인 경우, 금속 알콕사이드의 알콕시기에 대한 배위가 지나치게 진행되므로, 금속 알콕사이드의 안정화가 과대해지고, B 성분과의 공가수분해 축합에도 영향을 주어, 피막 형성용 도포액의 저온 경화 (80 ∼ 300 ℃) 에도 적합하지 않게 될 우려가 있다.When the molar ratio (M1 / M3) is 2.0 or more, the coordination of the metal alkoxide with the alkoxy group is excessively advanced, so that the stabilization of the metal alkoxide becomes excessive and also affects the cohydrolysis and condensation with the component B, There is a fear that it may not be suitable for low-temperature curing (80 to 300 ° C).
이 공정에 의해 얻어지는 금속 알콕사이드 용액은, A 성분이 배위한 금속 알콕사이드나 그 가수분해 축합물을 포함하고 있다.The metal alkoxide solution obtained by this process contains a metal alkoxide for the component A and a hydrolysis-condensation product thereof.
<공정 3>≪ Step 3 >
공정 1 에서 조제한 3 관능 이상의 실란 용액 (예비액 1) 에, 공정 2 에서 조제한 금속 알콕사이드 용액 (예비액 2) 을 첨가하고, 계속해서 물을 첨가하고, 5 ∼ 40 ℃ 에서 교반하여, 본 도포액이 얻어진다.The metal alkoxide solution (preliminary solution 2) prepared in Step 2 was added to the silane solution (preliminary solution 1) having three or more functions prepared in Step 1, followed by addition of water and stirring at 5 to 40 캜, .
이 공정 전에, 예비액 1 에 포함되는 B 성분, 즉 가수분해 축합 후에 있어서의 B 성분의 중량 평균 분자량 (폴리스티렌 환산) 은, 300 ∼ 3000 의 범위인 것이 내크랙성의 관점에서 바람직하다. 또한, B 성분의 중량 평균 분자량은, 500 ∼ 1500 의 범위가 보다 바람직하다. 여기서, 중량 평균 분자량은, GPC 에 의해 구해진다.Prior to this step, the weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of the B component contained in the preliminary liquid 1, that is, the B component after the hydrolysis and condensation is preferably in the range of 300 to 3000 from the viewpoint of crack resistance. The weight average molecular weight of the component B is more preferably in the range of 500 to 1,500. Here, the weight average molecular weight is obtained by GPC.
여기서, B 성분이 4 관능 실란 화합물인 경우에는, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.1 이상 9.0 이하, 바람직하게는 0.2 이상 5.0 이하의 범위인 것이 바람직하다. B 성분이 3 관능 실란 화합물인 경우에는, B 성분의 몰수 (M2) 와 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.5 이상 8 이하, 바람직하게는 0.6 이상 7.5 이하의 범위인 것이 바람직하다. 몰비 (M2/M3) 이 이들 범위에 있으면, 공가수분해 반응이 원활하게 진행되기 때문이다.When the B component is a tetrafunctional silane compound, the molar ratio (M2 / M3) of the molar number (M2) of the B component to the mol number (M3) of the C component is 0.1 to 9.0, preferably 0.2 to 5.0 . When the B component is a trifunctional silane compound, the molar ratio (M2 / M3) of the mole number (M2) of the B component to the mole number (M3) of the C component is in the range of 0.5 to 8, preferably 0.6 to 7.5 desirable. When the molar ratio (M2 / M3) falls within these ranges, the cohydrolysis reaction proceeds smoothly.
물의 첨가에 의해, 3 관능 이상의 실란의 가수분해 축합물과, 금속 알콕사이드의 적어도 일방의 공가수분해 축합 반응이 촉진되므로, 치밀한 피막을 얻는 데 바람직하다.Addition of water promotes the co-hydrolysis and condensation reaction of at least one of the hydrolysis-condensation product of the silane with three or more functional groups and the metal alkoxide, so that it is preferable to obtain a dense coating film.
또한, B 성분이 3 관능 실란 화합물을 포함하는 경우에는, 본 도포액의 pH 는 4 ∼ 8 이 바람직하고, 4 ∼ 7.5 가 보다 바람직하다.When the component B contains a trifunctional silane compound, the pH of the present coating liquid is preferably 4 to 8, more preferably 4 to 7.5.
〔피막이 형성된 기재의 제조 방법〕[Process for producing a film-coated substrate]
피막이 형성된 기재의 제조 방법은, 본 도포액을 기재에 도포하는 도포 공정과, 기재 상의 도포액을 건조시켜 도포막을 형성하는 건조 공정과, 기재 상의 도포막을 경화시켜 피막이 형성된 기재를 형성하는 경화 공정을 포함한다. 이 건조 공정과 경화 공정에 대해, 추가로 상세하게 서술하면, 건조 공정은 기재 상의 도포액을 80 ℃ 이상 150 ℃ 이하에서 가열하는 공정, 경화 공정은, 건조 공정 후의 도포막이 형성된 기재에 대하여 자외선을 조사하는 조사 공정 및 80 ℃ 이상 300 ℃ 이하에서 가열하는 가열 공정으로 이루어진다.A method of producing a coated substrate includes a coating step of applying the coating liquid to a substrate, a drying step of drying the coating liquid on the substrate to form a coating film, and a curing step of curing the coated film on the substrate to form a coated substrate . The drying step and the curing step will be described in more detail. The drying step is a step of heating the coating liquid on the substrate at a temperature of 80 ° C or more and 150 ° C or less, a curing step is a step of irradiating ultraviolet rays And a heating step of heating at 80 DEG C or higher and 300 DEG C or lower.
본 도포액을 기재에 도포하는 도포 방법으로는, 딥법, 스피너법, 바코트법, 스프레이법, 롤코터법, 플렉소 인쇄법, 슬릿코트법 등 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 기재로는, 예를 들어 유리, ITO 막이 처리된 기재, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, PET, 및 TAC 등의 소재를 사용한 시트, 필름, 및 패널 등을 들 수 있다.As a coating method of applying the present coating liquid to a substrate, conventionally known methods such as a dipping method, a spinner method, a bar coating method, a spraying method, a roll coater method, a flexographic printing method, and a slit coating method may be employed. Examples of the substrate include glass, a substrate treated with an ITO film, a sheet, a film, and a panel using materials such as polycarbonate, acrylic resin, PET, and TAC.
건조 공정에서는, 기재를 변질시키지 않고 원하는 경도, 내크랙성 등이 얻어지면 특별히 가열 온도에 제한은 없지만, 80 ∼ 150 ℃ 의 범위가 바람직하고, 90 ∼ 140 ℃ 의 범위가 보다 바람직하다. 또한, 건조 공정에서는, 1 ∼ 10 분 정도 가열하는 것이 바람직하다.In the drying step, the heating temperature is not particularly limited as long as desired hardness and crack resistance can be obtained without deteriorating the substrate, but is preferably in the range of 80 to 150 ° C, more preferably in the range of 90 to 140 ° C. In the drying step, it is preferable to heat for 1 to 10 minutes.
건조 공정에서는, 원하는 경도, 내크랙성 등을 갖는 피막이 얻어지면 1 회의 공정 조작 중에서 건조 및 가열을 실시해도 되고, 건조시킨 후 건조 온도보다 고온에서 가열해도 된다. 건조 방법이나 가열 방법으로는 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 또, 전자파 조사 처리를 병용할 수도 있다.In the drying step, if a film having desired hardness, crack resistance, etc. is obtained, drying and heating may be carried out in a single operation, or it may be heated at a temperature higher than the drying temperature after drying. As the drying method and the heating method, conventionally known methods can be employed. In addition, an electromagnetic wave irradiation process may be used in combination.
건조 공정에 있어서의 가열 온도가 80 ℃ 미만인 경우에는, 용제의 잔존이나, -M-O-M-, 또는 -M-O-Si- 의 가교 부족에 의해, 충분한 막강도가 얻어지지 않고, 가열 건조 온도가 150 ℃ 를 초과하면, B 성분의 유기기가 분해되어, 원하는 막 특성이 얻어지지 않는 경우가 있다.When the heating temperature in the drying step is less than 80 캜, sufficient film strength can not be obtained due to residual solvent, insufficient cross-linking of -MOM- or -MO-Si-, , The organic group of the component B may be decomposed, and desired film characteristics may not be obtained.
조사 공정에서는, 건조 공정에 의해 건조시킨 투명 피막에 자외선 (UV) 을 조사한다. 예를 들어, 2 kw 의 고압수은등을 사용하여 3,000 mJ/㎠ 의 자외선을 조사한다. UV 조사에 의해, 피막 내에서 A 성분의 탈리가 발생하고, 피막은 가열 공정에서 가교되기 쉬운 상태가 된다.In the irradiation step, ultraviolet rays (UV) are applied to the transparent coating film which is dried by the drying step. For example, an ultraviolet ray of 3,000 mJ / cm 2 is irradiated using a high-pressure mercury lamp of 2 kw. By the UV irradiation, the component A is desorbed in the coating film, and the coating film is in a state where it is easily crosslinked in the heating process.
조사 공정 후, 피막을 80 ∼ 300 ℃ 의 범위에서 가열한다. 이 가열 공정에 의해, 투명 피막은 충분히 가교가 진행된 상태가 된다. 가열 온도가 80 ∼ 300 ℃ 의 범위에 있으면, 예를 들어 ITO 배선의 저항 변화를 억제할 수 있다. 또한, 가열 시간은, 1 ∼ 10 분이 바람직하다.After the irradiation step, the film is heated in the range of 80 to 300 占 폚. By this heating step, the transparent coating film is in a state in which the crosslinking proceeds sufficiently. When the heating temperature is in the range of 80 to 300 占 폚, for example, the resistance change of the ITO wiring can be suppressed. The heating time is preferably 1 to 10 minutes.
〔피막이 형성된 기재〕[Substrate formed with film]
상기 서술한 성막 방법에 의해 얻어진 피막의 평균 막두께 (T) 는 20 ∼ 200 ㎚ 가 바람직하고, 40 ∼ 150 ㎚ 의 범위가 보다 바람직하다. 피막의 평균 막두께 (T) 가 20 ㎚ 이상이면, 막두께가 충분하기 때문에 성막할 수 없는 부분 (도포 불균일) 이 잘 생기지 않고, 성막한 효과도 충분히 얻어진다. 한편, 평균 막두께 (T) 가 200 ㎚ 이하이면, 크랙의 발생을 충분히 억제할 수 있고, 또 막의 경도도 충분한 것이 된다.The average film thickness (T) of the film obtained by the above-described film forming method is preferably 20 to 200 nm, more preferably 40 to 150 nm. When the average film thickness (T) of the coating film is 20 nm or more, the film thickness is sufficient and the portion (coating unevenness) which can not be formed is not easily generated, and the film forming effect is sufficiently obtained. On the other hand, when the average film thickness T is 200 nm or less, occurrence of cracks can be sufficiently suppressed, and the film hardness can be sufficiently obtained.
본 발명에 의한 피막은, 액정 표시 장치의 전극 기판과 배향막 사이에 사용하는 절연막, 터치 패널의 투명 전극 상의 보호막 등에 적합하게 사용할 수 있다.The coating film according to the present invention can be suitably used for an insulating film used between an electrode substrate and an alignment film of a liquid crystal display device, a protective film on a transparent electrode of a touch panel, and the like.
실시예Example
이하, 투명 피막을 형성하기 위한 도포액의 실시예를, 구체적으로 설명한다. 본 도포액은, 터치 패널의 투명 전극 상의 보호막 등에 적용할 수 있다. 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, examples of the coating liquid for forming a transparent coating film will be specifically described. This coating liquid can be applied to a protective film on a transparent electrode of a touch panel or the like. But the present invention is not limited to these examples.
[실시예 1][Example 1]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 4507.86 g, 순수 214.93 g 및 농도 61 질량% 의 질산 3.58 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1243.78 g 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이와 같이 하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 얻는다.4507.86 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 214.93 g of pure water and 3.58 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, while stirring, 1243.78 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8 mass%, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as component B (tetrafunctional silane compound) and stirred for 30 minutes. Thus, a preliminary liquid 1 having a solid concentration of 6.0% by mass is obtained.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 297.97 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 149.25 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 852.88 g 혼합하고, 5 분간 교반한다. 이것에 의해, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 얻는다. 297.97 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 149.25 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 480 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes. Thus, a preliminary liquid 2 having a solid concentration of 6.0% by mass is obtained.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is performed with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다. 또한, 표 1 중에서 A 성분 (금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물) 의 몰수를 M1, B 성분 (3 관능 이상의 실리카 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방) 의 몰수를 M2 로 한다. 또한, B 성분으로서, 3 관능 실리카 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B3 성분) 과, 4 관능 실리카 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B4 성분) 이 모두 존재할 때, B3 성분의 몰수를 MB3, B4 성분의 몰수를 MB4 로 한다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1. The number of moles of component A (organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide) in Table 1 is denoted by M1, and the number of moles of component B (at least one of the trifunctional or more functional silica compound and its hydrolyzed condensate) is M2. When at least one (B3 component) of the trifunctional silica compound and its hydrolyzed condensation product and at least one of the tetrafunctional silica compound and its hydrolyzed condensation product are present as the component B, the number of moles of the component B3 Let the number of moles of M B3 and B4 components be M B4 .
식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (C 성분) 의 몰수를 M3 으로 한다.The number of moles of at least one of the metal alkoxide represented by the formula (3) and the hydrolyzed condensate thereof (component C) is M3.
도포액에 있어서, B 성분에서 유래하는 SiO2 환산 농도를 농도 C2, C 성분에서 유래하는 MOx 환산 농도를 농도 C3, 농도 C2 와 농도 C3 의 합계를 농도 CT 로 한다.In the coating liquid, the SiO 2 -converted concentration derived from the B component is referred to as a concentration C 2 , and the MO x -converted concentration derived from the C component is referred to as a concentration C 3, and the sum of the concentration C 2 and the concentration C 3 is referred to as a concentration CT.
도포액에 대해 시간 경과 안정성을 하기 방법으로 평가한다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The time lapse stability of the coating liquid is evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.
<<시간 경과 안정성>><< Time Stability >>
도포액을 40 ℃ 에서 72 시간 가열한 후, E 형 점도계 (토키 산업 (주) 제조 : TV-25 형) 로 점도를 측정하고, 이하의 기준으로 평가한다.After heating the coating liquid at 40 占 폚 for 72 hours, viscosity was measured with an E-type viscometer (TV-25 type, manufactured by TOKI INDUSTRIAL CO., LTD.) And evaluated according to the following criteria.
◎ : 점도에 변화가 보이지 않는다◎: Viscosity is not changed
○ : 약간 점도의 증가가 보인다 (5 mPa·s 미만)○: Increase in viscosity slightly (less than 5 mPa · s)
× : 명확한 점도의 증가가 보인다 (5 mPa·s 이상)X: a clear increase in viscosity is observed (at least 5 mPa · s)
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
투명 피막이 형성된 기재에 대해, 막두께, 표면 저항값 및 연필 경도를 하기 방법으로 측정한다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The film thickness, the surface resistance value and the pencil hardness of the base material having the transparent coating film are measured by the following method. The results are shown in Table 1.
<<막두께>> << Thickness >>
표면 거칠기 측정기 (도쿄 정밀 (주) 제조 : 서프콤) 로 측정한다.The surface roughness is measured with a surface roughness tester (Surfcomm manufactured by Tokyo Precision Co., Ltd.).
<<표면 저항값>><< Surface resistance value >>
표면 저항값은, 표면 저항 측정기 ((주) 미츠비시 화학 어날리테크 제조 : 하이레스타-UX MCP-HT800) 로 측정한다.The surface resistance value is measured with a surface resistance meter (Hiresta-UX MCP-HT800, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
<<연필 경도>><< Pencil hardness >>
JIS-K-5600 에 준해 연필 경도 시험기에 의해 측정하였다. 즉, 투명 피막 표면에 대해 45 도의 각도로 연필을 세트하고, 소정 가중을 부하해 일정 속도로 잡아끌고, 흠집의 유무를 관찰한다.And measured by a pencil hardness tester in accordance with JIS-K-5600. That is, a pencil was set at an angle of 45 degrees with respect to the surface of the transparent coating, and a predetermined weight was loaded and drawn at a constant speed, and the presence or absence of a scratch was observed.
막두께, 표면 저항값 및 연필 경도 평가용 투명 피막이 형성된 기재는 다음의 방법으로 준비한다.The substrate having the transparent film for evaluation of film thickness, surface resistance value and pencil hardness is prepared by the following method.
실시예 1 에서 얻은 도포액을 플렉소 인쇄법에 의해, ITO 막이 형성된 유리 기판 (AGC 파브리테크 (주) 제조, 두께 1.1 ㎜) 상에 도포한다. 90 ℃ 에서 5 분간 건조시키고, 다음으로 파장 365 ㎚ 의 자외선 (3000 mJ/㎠) 과 파장 254 ㎚ 의 자외선 (2000 mJ/㎠) 을 조사한 후, 230 ℃ 에서 30 분간 가열하여 투명 피막이 형성된 기재를 얻는다. The coating liquid obtained in Example 1 is applied onto a glass substrate (1.1 mm in thickness, manufactured by AGC Fabric Tech Co., Ltd.) on which an ITO film is formed by the flexographic printing method. (3000 mJ / cm 2) at a wavelength of 365 nm and ultraviolet light (2000 mJ / cm 2) at a wavelength of 254 nm and then heated at 230 캜 for 30 minutes to obtain a substrate having a transparent coating film .
투명 피막이 형성된 기재에 대해, 전광선 투과율, 헤이즈 및 내찰상성을 하기 방법으로 측정한다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The total light transmittance, haze, and scratch resistance of a substrate having a transparent coating film are measured by the following method. The results are shown in Table 1.
<<전광선 투과율 및 헤이즈>><< Total light transmittance and haze >>
전광선 투과율 및 헤이즈는, 헤이즈 미터 (스가 시험기 (주) 제조) 에 의해 측정한다.The total light transmittance and haze are measured by a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
<<내찰상성의 측정>><< Measurement of scratch resistance >>
#0000 스틸울을 투명 피막 표면에 대고, 하중 2 ㎏/㎠ 로 10 회 슬라이딩시키고, 막의 표면을 육안 관찰하고, 이하의 기준으로 내찰상성을 평가한다.# 0000 Steel wool was placed on the surface of the transparent coating and slid ten times at a load of 2 kg / cm 2, and the surface of the film was visually observed, and scratch resistance was evaluated according to the following criteria.
평가 기준 :Evaluation standard :
줄무늬상의 흠집이 보이지 않는다 : ◎No scratches on stripe: ◎
줄무늬상으로 흠집이 약간 보인다 : ○Scratched slightly on stripes: ○
줄무늬상으로 흠집이 다수 보인다 : △There are many scratches on stripes: △
면이 전체적으로 깎여 있다 : ×The entire surface is shaved: ×
전광선 투과율, 헤이즈 및 내찰상성 평가용 투명 피막이 형성된 기재는 다음의 방법으로 준비한다.A substrate having a transparent coating film for evaluating total light transmittance, haze and scratch resistance is prepared by the following method.
실시예 1 에서 얻은 도포액을 플렉소 인쇄법에 의해, 실리카막이 형성된 유리 기판 (AGC 파브리테크 (주) 제조, 두께 1.1 ㎜) 상에 도포한다. 90 ℃ 에서 5 분간 건조시키고, 다음으로 파장 365 ㎚ 의 자외선 (3000 mJ/㎠) 과 파장 254 ㎚ 의 자외선 (2000 mJ/㎠) 을 조사한 후, 230 ℃ 에서 30 분간 가열하여 투명 피막이 형성된 기재를 얻는다. The coating liquid obtained in Example 1 was applied onto a glass substrate (manufactured by AGC Fabric Tech Co., Ltd., thickness 1.1 mm) on which a silica film was formed by the flexographic printing method. (3000 mJ / cm 2) at a wavelength of 365 nm and ultraviolet light (2000 mJ / cm 2) at a wavelength of 254 nm and then heated at 230 캜 for 30 minutes to obtain a substrate having a transparent coating film .
투명 피막이 형성된 기재에 대해, 굴절률을 하기 방법으로 측정한다. 결과를 표 1 에 나타낸다.With respect to the base material having the transparent coating film, the refractive index is measured by the following method. The results are shown in Table 1.
<<굴절률>><< Refractive index >>
분광 엘립소미터 (SOPRA (주) 제조 : ES4G, @550 ㎚) 로 측정한다.And measured with a spectroscopic ellipsometer (manufactured by SOPRA Corporation: ES4G, @ 550 nm).
굴절률 평가용 투명 피막이 형성된 기재는 다음의 방법으로 준비한다. The substrate on which the transparent coating film for evaluation of refractive index is formed is prepared by the following method.
실시예 1 에서 얻은 도포액을 플렉소 인쇄법에 의해, 6 인치 실리콘 웨이퍼 ((주) 마츠자키 제작소 제조, 두께 : 0.625 ㎜) 상에 도포한다. 90 ℃ 에서 5 분간 건조시키고, 다음으로 파장 365 ㎚ 의 자외선 (3000 mJ/㎠) 과 파장 254 ㎚ 의 자외선 (2000 mJ/㎠) 을 조사한 후, 230 ℃ 에서 30 분간 가열하여 투명 피막이 형성된 기재를 얻는다. The coating liquid obtained in Example 1 is applied on a 6-inch silicon wafer (manufactured by Matsuzaki Co., Ltd., thickness: 0.625 mm) by flexographic printing. (3000 mJ / cm 2) at a wavelength of 365 nm and ultraviolet light (2000 mJ / cm 2) at a wavelength of 254 nm and then heated at 230 캜 for 30 minutes to obtain a substrate having a transparent coating film .
투명 피막이 형성된 기재에 대해, 내크랙성을 하기 방법으로 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.With respect to the substrate having the transparent coating film, the crack resistance was measured by the following method. The results are shown in Table 1.
<<도포막의 내크랙성>><< Crack resistance of coating film >>
도포막의 표면을 육안 관찰하고, 이하의 기준으로 내크랙성을 평가한다.The surface of the coated film was visually observed, and crack resistance was evaluated based on the following criteria.
◎ : 도포면 내에 크랙이 보이지 않는다◎: Cracks are not seen in the coated surface
○ : 에지부에 약간 크랙이 보인다○: Some cracks are visible at the edge
× : 도포면 내에 크랙이 생긴다X: Cracks occur in the coated surface
도포막의 내크랙성 평가용 투명 피막이 형성된 기재는 다음 방법으로 준비한다.The substrate on which the transparent film for evaluating the crack resistance of the coated film is formed is prepared by the following method.
2 ㎛ 두께의 아크릴 수지층을 실리카막이 형성된 유리 기판 (AGC 파브리테크 (주) 제조, 두께 1.1 ㎜) 상에 형성하였다. 아크릴 수지층은 바코터 (No.4) 를 이용하여 도포하고, 다음으로 80 ℃ 에서 2 분간 건조시킨 후, 파장 365 ㎚ 의 자외선 (300 mJ/㎠) 을 조사한다. 실시예 1 에서 얻은 도포액을 플렉소 인쇄법으로, 그 아크릴 수지층이 형성된 유리 기판 상에 도포하고, 90 ℃ 에서 5 분간 건조시키고, 다음으로 3000 mJ/㎠ 의 자외선 (파장 365 ㎚) 을 조사한 후, 230 ℃ 에서 30 분간 가열하여 투명 피막이 형성된 기재를 얻었다.An acrylic resin layer having a thickness of 2 mu m was formed on a glass substrate (manufactured by AGC Fabric Tech Co., Ltd., thickness 1.1 mm) on which a silica film was formed. The acrylic resin layer was applied using a bar coater (No. 4), dried at 80 ° C for 2 minutes, and irradiated with ultraviolet light (300 mJ / cm 2) at a wavelength of 365 nm. The coating liquid obtained in Example 1 was applied onto a glass substrate having the acrylic resin layer formed thereon by flexographic printing, dried at 90 DEG C for 5 minutes, irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) of 3000 mJ / Thereafter, the substrate was heated at 230 캜 for 30 minutes to obtain a substrate having a transparent coating film.
[실시예 2][Example 2]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
공정 2 에 있어서, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 255.917 g, 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 568.05 g 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다.In the same manner as in Example 1 except that 255.917 g of hexyleneglycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 568.05 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were used, the concentration CT was 6.0 % ≪ / RTI >
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 3][Example 3]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
공정 2 에 있어서, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3052.48 g, 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 74.74 g 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다.In the same manner as in Example 1 except that 3052.48 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 74.74 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were used, the concentration CT was 6.0 % ≪ / RTI >
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 4][Example 4]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 6536.14 g, 순수 311.64 g 및 농도 61 질량% 의 질산 5.19 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1803.48 g 첨가하고, 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.6536.14 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 311.64 g of pure water and 5.19 g of 61% by mass nitric acid were mixed and stirred for 5 minutes. Next, 1803.48 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) as a B component (tetrafunctional silane compound) was added with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary liquid 1 .
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 967.76 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 48.58 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 277.19 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 967.76 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 48.58 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as the component A, tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass), and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is carried out with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 5][Example 5]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 1126.97 g, 순수 53.73 g 및 농도 61 질량% 의 질산 0.90 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 310.95 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.1126.97 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 53.73 g of pure water and 0.90 g of 61 mass% of nitric acid were mixed and stirred for 5 minutes. Next, while stirring, 310.95 g of ethyl silicate (a 28.8 mass% concentration of SiO 2 , manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as a component B (tetrafunctional silane compound) and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary solution having a solid content concentration of 6.0% 1 is prepared.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 6327.69 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 317.66 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1812.37 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 6327.69 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 317.66 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 460 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a preliminary liquid 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다. 얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is carried out with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass. The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 6][Example 6]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 5239.00 g, 순수 107.46 g 및 농도 61 질량% 의 질산 1.79 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 621.89 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.5239.00 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 107.46 g of pure water and 1.79 g of 61% by mass of nitric acid were mixed and stirred for 5 minutes. Subsequently, 621.89 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as a component B (tetrafunctional silane compound) with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary solution having a solid content concentration of 6.0% 1 is prepared.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3478.92 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 74.74 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 426.44 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 3478.92 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 74.74 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as the component A, and 60 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다. 얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is carried out with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass. The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
자외선 조사 후의 가열 조건을 120 ℃, 30 분간으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that the heating conditions after the ultraviolet irradiation were 120 占 폚 for 30 minutes. The results are shown in Table 1.
[실시예 7][Example 7]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 3776.72 g, 순수 322.39 g 및 농도 61 질량% 의 질산 5.37 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1865.67 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 9.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.3776.72 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 322.39 g of pure water and 5.37 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, 1865.67 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) as a B component (tetrafunctional silane compound) was added with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary solution having a solid content concentration of 9.0% 1 is prepared.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 2476.55 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 224.23 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1279.32 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 9.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 2476.55 g of hexyleneglycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 224.23 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A and 2 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass), and the mixture was stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 9.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 9.0 질량% 인 도포액을 조제한다. 얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is performed with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 9.0 mass%. The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
자외선 조사 후의 가열 조건을 280 ℃, 30 분간으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that the heating conditions after the ultraviolet irradiation were 280 占 폚 and 30 minutes. The results are shown in Table 1.
[실시예 8][Example 8]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 3681.42 g, 순수 175.52 g 및 농도 61 질량% 의 질산 2.93 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1015.75 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.3681.42 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 175.52 g of pure water and 2.93 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, 1015.75 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) as a B component (tetrafunctional silane compound) was added with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary solution having a solid content concentration of 6.0% 1 is prepared.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3416.09 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 218.93 g, C 성분으로서 노르말프로필지르코네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 ZA-45, ZrO2 농도 21.2 질량%) 를 1439.61 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 3416.09 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 218.93 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 0.2 g of n-propyl zirconate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : Orgatics ZA-45, ZrO 2 concentration: 21.2% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a preliminary liquid 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.23 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다. 얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.23 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is carried out with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass. The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 9][Example 9]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 713.22 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 1875.40 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 570.50 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.0 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 5.06 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 10.0 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.1 이었다.713.22 g of KBM-13 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., concentration of SiO 2 : 44.1% by mass) as a B component (trifunctional silane compound) and 1875.40 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Stir for 30 minutes. Then, while stirring, 570.50 g of nitric acid with a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.0. While stirring, 5.06 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo K.K.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a pre-solution 1-1 having a solid content concentration of 10.0% by mass. The pH at this time was 7.1.
다음으로, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 2109.45 g 에, 교반하면서 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. Next, the preliminary liquid 1-1 was added to 2109.45 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with stirring, and the mixture was stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3498.84 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 175.65 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1002.13 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 3498.84 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 175.65 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as the component A, and tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 25 ℃ 에서 30 분간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해 농도 CT 가 6.0 질량% 인 도포액을 조제한다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and the mixture was stirred for 10 minutes. Then, 49.75 g of pure water was added and stirred at 25 캜 for 30 minutes. After completion of the stirring, filtration is performed with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid having a concentration CT of 6.0% by mass. The results are shown in Table 1.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 10][Example 10]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 예비 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following preliminary process.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 1009.27 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 2653.86 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 807.32 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.1 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 7.16 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.2 이었다.1009.27 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SiO 2 concentration: 44.1% by mass) as a B component (trifunctional silane compound) and 2653.86 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Stir for 30 minutes. Then, while stirring, 807.32 g of nitric acid with a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.1. While stirring, 7.16 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo K.K.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 7.2.
다음으로, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 2985.07 g 에, 교반하면서 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1-2 를 조제한다. Next, the preliminary liquid 1-1 was added to 2985.07 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with stirring, and the mixture was stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1-2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 1861.08 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 93.43 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 533.05 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 1861.08 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 93.43 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as the component A, and tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : Orgatic TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 11][Example 11]
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 피막 형성용 도포액을 조제한다.A coating liquid for forming a transparent coating film was prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 1143.84 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 3007.71 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 914.96 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반하였다. 이때의 pH 는 2.1 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 8.11 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.1 이었다.1143.84 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SiO 2 concentration 44.1% by mass) as a B component (trifunctional silane compound) and 3007.71 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) Stir for 30 minutes. Next, while stirring, 914.96 g of nitric acid at a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.1. 8.11 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo Co., Ltd.) was added with stirring, and the mixture was stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 7.1.
다음으로, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 3383.08 g 에, 교반하면서 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. Then, 3383.08 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added with the preliminary liquid 1-1 while stirring and stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 1116.65 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 56.06 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 319.83 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 1116.65 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 56.06 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 50 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a preliminary liquid 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 12][Example 12]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 403.71 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 1061.55 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 322.92 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반하였다. 이때의 pH 는 2.0 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 2.86 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.0 이었다.403.71 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SiO 2 concentration: 44.1% by mass) as a B component (trifunctional silane compound) and 1061.55 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Stir for 30 minutes. Next, while stirring, 322.92 g of nitric acid with a concentration of 0.1% by mass was added over a period of 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.0. While stirring, 2.86 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo K.K.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 7.0.
다음으로, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 1194.03 g 에, 교반하면서 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. Next, 1194.03 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added with the preliminary liquid 1-1 while stirring and stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 5211.04 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 261.60 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1492.54 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 5211.04 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 261.60 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 50 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[실시예 13][Example 13]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 1 에 나타낸다.The concentrations, molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid are shown in Table 1.
(공정 1)(Step 1)
B3 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 484.25 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 1273.85 g 을 혼합하고, 30 분 교반하였다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 387.51 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.0 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 3.44 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 6.9 였다.484.25 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., concentration of SiO 2 : 44.1% by mass) as a B3 component (trifunctional silane compound) and 1273.85 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., And the mixture was stirred for 30 minutes. Then, while stirring, 387.51 g of nitric acid with a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.0. While stirring, 3.44 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 6.9.
다음으로, 헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 2710.06 g 에, 순수 60.90 g 및 농도 61 질량% 의 질산 1.01 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B4 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 352.40 g 첨가하고, 30 분간 교반한다. 추가로 교반하면서 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. Next, 60.90 g of pure water and 1.01 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed with 2710.06 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was stirred for 5 minutes. Next, while stirring, 352.40 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) as a B4 component (tetrafunctional silane compound) was added and stirred for 30 minutes. The preliminary liquid 1-1 was further added while stirring and stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3498.84 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 175.65 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1002.13 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 3498.84 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 175.65 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as the component A, and tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
[비교예 1][Comparative Example 1]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 4507.86 g, 순수 214.93 g 및 농도 61 질량% 의 질산 3.58 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1243.78 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 4 관능 실란 화합물 용액을 조제한다.4507.86 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 214.93 g of pure water and 3.58 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, 1243.78 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as a component B (tetrafunctional silane compound) with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a tetrafunctional A silane compound solution is prepared.
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 2527.95 g, TiO2 농도로서 16.4 질량% 의 티탄아세틸아세토네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TC-100, TiO2 농도 16.4 질량%) 238.81 g 을 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 금속 알콕사이드 용액을 조제한다.Hexylene glycol (Wako Junya ku Co., Ltd. Preparation) 2527.95 g, titanium acetylacetonate in 16.4% by mass as TiO 2 concentration (Matsumoto Fine Chemical Co., manufactured by Organo ticks TC-100, TiO 2 concentration of 16.4% by mass) 238.81 g were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a metal alkoxide solution having a solid content concentration of 6.0% by mass.
다음으로, 교반하면서 4 관능 실란 화합물 용액에 금속 알콕사이드 용액을 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거하여, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 투명 피막 형성용 도포액을 조제한다.Next, while stirring, the metal alkoxide solution was mixed with the tetrafunctional silane compound solution, stirred for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added, and stirred at 5 캜 for 144 hours. After completion of the stirring, filtration is performed with a filter of 0.2 mu m to remove the aggregates and the like to prepare a coating liquid for forming a transparent coating film having a concentration CT of 6.0% by mass.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하고, 자외선 조사 후의 가열 조건을 350 ℃, 30 분간으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used and the heating conditions after irradiation with ultraviolet light were 350 占 폚 for 30 minutes. The results are shown in Table 2.
[비교예 2][Comparative Example 2]
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
비교예 1 에 있어서, 이 도포액을 사용하고, 자외선 조사 후의 가열 조건을 200 ℃, 30 분간으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.In Comparative Example 1, measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1, except that this coating liquid was used and the heating conditions after irradiation with ultraviolet rays were 200 占 폚 for 30 minutes. The results are shown in Table 2.
[비교예 3][Comparative Example 3]
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
비교예 1 에 있어서, 이 도포액을 사용하고, 자외선 조사 후의 가열 조건을 120 ℃, 30 분간으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.In Comparative Example 1, measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1, except that this coating liquid was used and the heating conditions after irradiation with ultraviolet rays were 120 占 폚 for 30 minutes. The results are shown in Table 2.
[비교예 4][Comparative Example 4]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 4507.86 g, 순수 214.93 g 및 농도 61 질량% 의 질산 3.58 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1243.78 g 첨가하고, 30 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.4507.86 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 214.93 g of pure water and 3.58 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, while stirring, 1243.78 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as the component B (tetrafunctional silane compound) and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary solution having a solid content concentration of 6.0% 1 is prepared.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 1931.33 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 1195.89 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 852.88 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 1931.33 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 1195.89 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A and 10.0 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반한다. 교반 종료 후, 0.2 ㎛ 의 필터로 여과를 실시하고, 응집물 등을 제거해, 농도 CT 가 6.0 질량% 인 투명 피막 형성용 도포액을 조제한다.The preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 while stirring, and after stirring for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 캜 for 144 hours. After the completion of the stirring, filtration is carried out with a filter of 0.2 mu m to remove aggregates and the like to prepare a coating liquid for forming a transparent coating film having a concentration CT of 6.0% by mass.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 2.
[비교예 5][Comparative Example 5]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
(공정 1)(Step 1)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 4507.86 g, 순수 214.93 g 및 농도 61 질량% 의 질산 3.58 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 1243.78 g 첨가하고, 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다.4507.86 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 214.93 g of pure water and 3.58 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Then, 1243.78 g of ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28.8% by mass, manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) was added as a component B (tetrafunctional silane compound) with stirring and stirred for 30 minutes to obtain a preliminary liquid 1 .
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3067.43 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 59.79 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 852.88 g 혼합하고, 5 분간 교반하여, 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 3067.43 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 59.79 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 50 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 3)(Step 3)
교반하면서 예비액 1 에 예비액 2 를 혼합하고, 10 분간 교반한 후, 순수 49.75 g 을 첨가하고, 5 ℃ 에서 144 시간 교반했지만, 교반 도중에 겔화가 보였기 때문에, 투명 피막이 형성된 기재의 제작, 평가는 실시하지 않았다.While the preliminary liquid 2 was mixed with the preliminary liquid 1 and stirred for 10 minutes, 49.75 g of pure water was added and stirred at 5 占 폚 for 144 hours. Since gelation was observed during stirring, the preparation and evaluation of the substrate I did not do it.
얻어진 도포액 (겔을 포함한다) 에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid (including the gel).
[비교예 6][Comparative Example 6]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid.
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 1184.22 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 3113.87 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 947.25 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.0 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 8.40 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.0 이었다.1184.22 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SiO 2 concentration: 44.1% by mass) as a B component (trifunctional silane compound) and 3113.87 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Stir for 30 minutes. Next, while stirring, 947.25 g of nitric acid at a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.0. 8.40 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo K.K.) was added with stirring, and the mixture was stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 7.0.
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 3502.49 g 에, 교반하면서 상기 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. The preliminary liquid 1-1 is added to 3502.49 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with stirring, and the mixture is stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 893.32 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 44.85 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 255.86 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 893.32 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 44.85 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 50 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 2.
[비교예 7][Comparative Example 7]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid.
(공정 1)(Step 1)
B 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 67.28 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 176.92 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 53.82 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.1 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 0.48 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 7.1 이었다.67.28 g of KBM-13 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., concentration of SiO 2 : 44.1 mass%) and 176.92 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) as a B component (trifunctional silane compound) Stir for 30 minutes. Then, while stirring, 53.82 g of nitric acid at a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.1. While stirring, 0.48 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 7.1.
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 199.00 g 에, 교반하면서 상기 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. To the 199.00 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the preliminary liquid 1-1 is added with stirring and stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 7072.12 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 355.03 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 2025.59 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. , 7072.12 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 355.03 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 60 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration: 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 2.
[비교예 8][Comparative Example 8]
<<투명 피막 형성용 도포액의 조제>><< Preparation of coating liquid for forming a transparent film >>
이하의 공정 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액을 조제한다.A coating liquid is prepared in the same manner as in Example 1 except for the following steps.
얻어진 도포액에 있어서의 각 성분의 농도, 몰비 등을 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the concentrations, the molar ratios, and the like of each component in the obtained coating liquid.
(공정 1)(Step 1)
B3 성분 (3 관능 실란 화합물) 으로서 KBM-13 (신에츠 화학 공업 (주) 제조 : SiO2 농도 44.1 질량%) 134.57 g 및 솔믹스 AP-11 (닛폰 알코올 판매 (주) 제조) 353.85 g 을 혼합하고, 30 분 교반한다. 다음으로 교반하면서 농도 0.1 질량% 의 질산 107.64 g 을 30 분에 걸쳐 축차 첨가하고, 30 분간 교반한다. 이때의 pH 는 2.0 이었다. 이것에 교반하면서 트리에탄올아민 (하야시준야쿠 공업 (주) 제조) 0.95 g 을 첨가하고, 10 분 교반하여 고형분 농도 9.9 질량% 의 예비액 1-1 을 조제한다. 이때의 pH 는 6.9 였다.134.57 g of KBM-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., concentration of SiO 2 : 44.1% by mass) as a B3 component (trifunctional silane compound) and 353.85 g of Solmics AP-11 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Stir for 30 minutes. Next, while stirring, 107.64 g of nitric acid at a concentration of 0.1% by mass was continuously added over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes. The pH at this time was 2.0. While stirring, 0.95 g of triethanolamine (Hayashi Junyaku Kogyo K.K.) was added and stirred for 10 minutes to prepare a preliminary liquid 1-1 having a solid content concentration of 9.9% by mass. The pH at this time was 6.9.
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 1524.98 g 에, 순수 53.73 g 및 농도 61 질량% 의 질산 0.90 g 을 혼합하고, 5 분간 교반한다. 다음으로, 교반하면서 B4 성분 (4 관능 실란 화합물) 으로서 에틸실리케이트 (타마 화학 (주) 제조 : SiO2 농도 28.8 질량%) 를 310.95 g 첨가하고, 30 분간 교반한다. 추가로 교반하면서 상기 예비액 1-1 을 첨가하고 30 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 1 을 조제한다. To 1524.98 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 53.73 g of pure water and 0.90 g of nitric acid at a concentration of 61% by mass were mixed and stirred for 5 minutes. Next, while stirring, 310.95 g of ethyl silicate (tetrachlorosilane compound) as a B4 component (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd .: SiO 2 concentration 28.8 mass%) was added and stirred for 30 minutes. The preliminary liquid 1-1 is further added while stirring and stirred for 30 minutes to prepare a preliminary liquid 1 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
(공정 2)(Step 2)
헥실렌글리콜 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 3621.25 g, A 성분으로서 아세틸아세톤 (와코 준야쿠 (주) 제조) 을 2242.29 g, C 성분으로서 테트라이소프로필티타네이트 (마츠모토 파인케미컬 (주) 제조 : 오르가틱스 TA-10, TiO2 농도 28 질량%) 를 1599.15 g 혼합하고, 5 분간 교반하여 고형분 농도 6.0 질량% 의 예비액 2 를 조제한다. 3621.25 g of hexylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 2242.29 g of acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as component A, and 2 g of tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., : ORGATIX TA-10, TiO 2 concentration 28% by mass) were mixed and stirred for 5 minutes to prepare a pre-solution 2 having a solid content concentration of 6.0% by mass.
<<투명 피막이 형성된 기재의 평가>>≪ Evaluation of substrate on which a transparent coating is formed >
이 도포액을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 측정, 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Measurement and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid was used. The results are shown in Table 1.
또한, B 성분 (3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방) 을 사용한 실시예 9 ∼ 13 및 비교예 6 ∼ 8 에서 조제한 각 투명 피막 형성용 도포액의 pH 는 다음과 같다.The pH of the coating liquid for forming each of the transparent films prepared in Examples 9 to 13 and Comparative Examples 6 to 8 using the component B (at least one of the trifunctional silane compound and its hydrolyzed condensate) was as follows.
실시예 9 (pH5.0)Example 9 (pH 5.0)
실시예 10 (pH5.5)Example 10 (pH 5.5)
실시예 11 (pH6.0)Example 11 (pH 6.0)
실시예 12 (pH4.5)Example 12 (pH 4.5)
실시예 13 (pH4.0)Example 13 (pH 4.0)
비교예 6 (pH6.0)Comparative Example 6 (pH 6.0)
비교예 7 (pH4.0)Comparative Example 7 (pH 4.0)
비교예 8 (pH3.3)Comparative Example 8 (pH 3.3)
〔평가 결과〕〔Evaluation results〕
표 1 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ∼ 13 으로부터, 본 발명의 도포액을 사용하여 제조된 투명 피막이 형성된 기재는, 연필 경도, 내찰상성 및 내크랙성이 우수한 것을 알 수 있다.As shown in Table 1, it can be seen from Examples 1 to 13 that the substrate having a transparent coating formed using the coating liquid of the present invention has excellent pencil hardness, scratch resistance and crack resistance.
한편, 비교예 1 ∼ 8 의 도포액을 사용한 투명 피막이 형성된 기재에서는 경도 및 내크랙성 쌍방을 만족시킬 수 없었다.On the other hand, in the substrate having the transparent coating formed using the coating liquids of Comparative Examples 1 to 8, neither hardness nor crack resistance could be satisfied.
Claims (11)
하기 식 (2) 로 나타내는 3 관능 이상의 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (B 성분) 과,
하기 식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방 (C 성분) 이,
물과 유기 용매를 포함하는 혼합 용매 중에 용해 또는 분산된 도포액으로서,
상기 A 성분의 몰수 (M1) 과 상기 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M1/M3) 이 0.25 이상 2.0 미만이고,
상기 B 성분의 몰수 (M2) 와 상기 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.1 이상 9.0 이하인 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액.
(R3)(4-m)Si(R4)m (2)
(m 은 3 과 4 의 적어도 일방. R3 은 탄소수 1 내지 8 의 비치환 또는 치환 알킬기, 비치환 또는 치환 아릴기, 및 비닐기 중 어느 것이다. R4 는 탄소수 1 내지 8 의 비치환 또는 치환 알콕시기, 비치환 또는 치환 아릴옥시기, 비닐옥시기, 수산기, 수소 원자, 및 할로겐 원자 중 어느 것이고, 동일해도 되고, 상이해도 된다.)
M(OR5)n (3)
(M 은 Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Pb, B, Bi, Ce 및 Cu 로부터 선택된 1 종의 원소이다. R5 는 탄소수 1 내지 10 의 비치환 또는 치환 알킬기이다. n 은 M 의 원자가와 동일한 수이다.)An organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide (component A)
(B component) of a silane compound having three or more functional groups represented by the following formula (2) and a hydrolyzed condensate thereof,
At least one of the metal alkoxide represented by the following formula (3) and the hydrolyzed condensate thereof (component C)
As a coating liquid dissolved or dispersed in a mixed solvent containing water and an organic solvent,
Wherein the molar ratio (M1 / M3) of the molar number (M1) of the A component to the molar number (M3) of the C component is 0.25 or more and less than 2.0,
Wherein the molar ratio (M2 / M3) of the molar number (M2) of the B component to the mol number (M3) of the C component is 0.1 or more and 9.0 or less.
(R 3 ) (4-m) Si (R 4 ) m (2)
(m is at least one of 3 and 4, and R 3 is any of an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryl group, and a vinyl group. R 4 is an unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryloxy group, a vinyloxy group, a hydroxyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom, and may be the same or different.)
M (OR < 5 >) n (3)
(M is at least one element selected from the group consisting of Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, , B, Bi, Ce and Cu, R 5 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is a number equal to the valence of M)
상기 B 성분에서 유래하는 SiO2 환산 농도 (농도 C2) 가 0.005 ∼ 12 질량% 의 범위에 있고,
상기 C 성분에서 유래하는 원소 M 의 MOx 환산 농도 (농도 C3) 가 0.02 ∼ 14.25 질량% 의 범위에 있고,
상기 농도 C2 와 상기 농도 C3 의 합계 (농도 CT) 가 0.1 ∼ 15 질량% 의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액.The method according to claim 1,
The SiO 2 -converted concentration (concentration C 2 ) derived from the component B is in the range of 0.005 to 12 mass%
Wherein MO x of the element M is derived from the component C in terms of the concentration (concentration C3) is in the range of 0.02 to 14.25% by weight,
Wherein the total (concentration CT) of the concentration C2 and the concentration C3 is in the range of 0.1 to 15 mass%.
상기 B 성분이 3 관능 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방일 때, 상기 B 성분의 몰수 (M2) 와 상기 C 성분의 몰수 (M3) 의 몰비 (M2/M3) 이 0.5 ∼ 8.0 의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액.The method according to claim 1,
(M2 / M3) of the molar number (M2) of the B component to the mol number (M3) of the C component is in the range of 0.5 to 8.0 when the B component is at least one of the trifunctional silane compound and the hydrolyzed condensate thereof By weight of the coating liquid.
상기 도포액이 3 관능의 실란 화합물 및 그 가수분해 축합물의 적어도 일방을 포함할 때, 그 도포액의 pH 가 4 ∼ 8 인 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액.The method according to claim 1,
Wherein the coating liquid has a pH of 4 to 8 when the coating liquid contains at least one of a trifunctional silane compound and a hydrolyzed condensate thereof.
상기 도포액에 포함되는 상기 유기 용매의 비점이 120 ℃ 이상이고
20 ℃ 에 있어서의 점도가 1 ∼ 400 mPa·s 의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액.The method according to claim 1,
The organic solvent contained in the coating liquid has a boiling point of 120 캜 or higher
And a viscosity at 20 占 폚 is in a range of 1 to 400 mPa 占 퐏.
공정 1 : 유기 용매와, 물과, 식 (2) 로 나타내는 3 관능 이상의 실란 화합물 (B 성분) 과, 가수분해 촉매를 배합하여, 예비액 1 을 조제하는 공정
공정 2 : 유기 용매와, 금속 알콕사이드와 킬레이트 형성 가능한 유기 화합물 (A 성분) 과, 식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 (C 성분) 를 배합하여, 예비액 2 를 조제하는 공정 (단, 상기 A 성분의 배합량은, 상기 C 성분의 원소 M1 몰에 대해 0.25 몰 이상 2.0 몰 미만의 범위이다)
공정 3 : 상기 예비액 1 과, 상기 예비액 2 와, 물을 배합하여, 5 ℃ 이상 40 ℃ 이하의 온도에서 교반하는 공정
(R3)(4-m)Si(R4)m (2)
(m 은 3 과 4 의 적어도 일방. R3 은 탄소수 1 부터 8 까지의 비치환 또는 치환 알킬기, 비치환 또는 치환 아릴기, 및 비닐기 중 어느 것이다. R4 는 탄소수 1 부터 8 까지의 비치환 또는 치환 알콕시기, 비치환 또는 치환 아릴옥시기, 비닐옥시기, 수산기, 수소 원자, 및 할로겐 원자 중 어느 것이고, 동일해도 되고, 상이해도 된다.)
M(OR5)n (3)
(M 은 Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Pb, B, Bi, Ce 및 Cu 로부터 선택된 1 종의 원소이고, R5 는 탄소수 1 부터 10 까지의 비치환 또는 치환 알킬기이다. n 은 M 의 원자가와 동일한 수이다.)A method for producing a coating liquid for forming a film, comprising the steps of:
Step 1: A step of mixing an organic solvent, water, a silane compound having three or more functional groups represented by formula (2) (component B) and a hydrolysis catalyst to prepare a preliminary liquid 1
Step 2: A step of mixing an organic solvent, an organic compound capable of forming a chelate with the metal alkoxide (component A) and a metal alkoxide (component C) represented by the formula (3) to prepare a preliminary solution 2 Is in the range of from 0.25 mol or more to less than 2.0 mol based on M1 mol of the element of the component C)
Step 3: Step of mixing the preliminary liquid 1, the preliminary liquid 2, and water and stirring at a temperature of 5 ° C or higher and 40 ° C or lower
(R 3 ) (4-m) Si (R 4 ) m (2)
(m is at least one of 3 and 4, and R 3 is any of an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryl group, and a vinyl group. R 4 is any of an unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryloxy group, a vinyloxy group, a hydroxyl group, a hydrogen atom, and a halogen atom, and may be the same or different.)
M (OR < 5 >) n (3)
(M is at least one element selected from the group consisting of Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, , B, Bi, Ce and Cu, and R 5 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is the same number as the valence of M)
상기 B 성분이 3 관능 실란 화합물일 때, 상기 공정 1 에서 얻어지는 예비액 1 의 pH 가 5 ∼ 8 의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액의 제조 방법.The method according to claim 6,
Wherein the pH of the preliminary solution 1 obtained in the step 1 is in the range of 5 to 8 when the component B is a trifunctional silane compound.
상기 예비액 1 에 포함되는 상기 B 성분은, 중량 평균 분자량 (폴리스티렌 환산) 이, 300 이상 3000 이하인 것을 특징으로 하는 피막 형성용 도포액의 제조 방법.The method according to claim 6,
Wherein the B component contained in the preliminary liquid (1) has a weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of 300 or more and 3000 or less.
상기 도포 공정 후에, 상기 기재 상의 상기 도포액을 건조시켜 도포막을 형성하는 건조 공정과,
상기 도포막을 경화시켜 피막을 형성하는 경화 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 피막이 형성된 기재의 제조 방법.A coating method comprising: a coating step of applying the coating liquid according to any one of claims 1 to 5 to a substrate;
A drying step of drying the coating liquid on the substrate to form a coating film after the coating step,
And a curing step of curing the coating film to form a coating film.
상기 건조 공정에 있어서, 상기 도포액이 80 ℃ 이상 150 ℃ 이하에서 가열되는 것을 특징으로 하는 피막이 형성된 기재의 제조 방법.10. The method of claim 9,
Wherein the coating liquid is heated at 80 DEG C or more and 150 DEG C or less in the drying step.
상기 경화 공정에 있어서, 상기 기재 상에 형성된 상기 도포막에 자외선을 조사하고, 80 ℃ 이상 300 ℃ 이하에서 가열하는 것을 구비하는 것을 특징으로 하는 피막이 형성된 기재의 제조 방법.10. The method of claim 9,
Irradiating ultraviolet rays onto the coating film formed on the substrate in the curing step, and heating the coated film at 80 DEG C or more and 300 DEG C or less.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015074530A JP6480781B2 (en) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | Transparent film forming coating liquid, method for producing transparent film forming coating liquid, substrate with transparent film, and method for producing substrate with transparent film |
JP2015072754A JP6480780B2 (en) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | Coating liquid for forming transparent film, method for producing the same, and substrate with transparent film |
JPJP-P-2015-072754 | 2015-03-31 | ||
JPJP-P-2015-074530 | 2015-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160117290A true KR20160117290A (en) | 2016-10-10 |
KR102596586B1 KR102596586B1 (en) | 2023-10-31 |
Family
ID=57081496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160037555A Active KR102596586B1 (en) | 2015-03-31 | 2016-03-29 | Coating solution for forming film, method for producing the coating solution, and method for producing substrate with film |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102596586B1 (en) |
CN (1) | CN106009788B (en) |
TW (1) | TWI682010B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6375043B1 (en) * | 2017-10-31 | 2018-08-15 | 日本パーカライジング株式会社 | Pretreatment agent, pretreatment method, metal material having chemical conversion film and method for producing the same, and painted metal material and method for producing the same |
CN112690148B (en) * | 2021-01-15 | 2022-06-21 | 四川大学 | Greenhouse covering film material easy to clean, preparation method and cleaning method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248403A (en) * | 1988-08-10 | 1990-02-19 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | Coating liquid for forming transparent ceramic coating film, substrate having transparent ceramic coating film and production thereof |
JP2005281132A (en) * | 2005-05-26 | 2005-10-13 | Central Glass Co Ltd | Method for manufacturing water-repellent glass |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100938794B1 (en) * | 2005-02-18 | 2010-01-27 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | Organic inorganic complex |
EP2220176B1 (en) * | 2007-11-26 | 2018-09-19 | Dublin Institute of Technology Intellectual Property Ltd | Sol-gel coating compositions and their process of preparation |
WO2013118201A1 (en) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | 日本曹達株式会社 | Organic-inorganic composite thin film |
WO2013153648A1 (en) * | 2012-04-12 | 2013-10-17 | フクビ化学工業株式会社 | Transparent resin laminate |
CN104451696B (en) * | 2014-12-03 | 2017-02-22 | 浙江大学 | Preparation method of metal surface corrosion-resistant composite silica sol |
-
2016
- 2016-03-22 TW TW105108808A patent/TWI682010B/en active
- 2016-03-29 KR KR1020160037555A patent/KR102596586B1/en active Active
- 2016-03-31 CN CN201610202193.8A patent/CN106009788B/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248403A (en) * | 1988-08-10 | 1990-02-19 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | Coating liquid for forming transparent ceramic coating film, substrate having transparent ceramic coating film and production thereof |
JP2005281132A (en) * | 2005-05-26 | 2005-10-13 | Central Glass Co Ltd | Method for manufacturing water-repellent glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI682010B (en) | 2020-01-11 |
KR102596586B1 (en) | 2023-10-31 |
CN106009788B (en) | 2020-06-16 |
CN106009788A (en) | 2016-10-12 |
TW201708449A (en) | 2017-03-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20160329 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20210305 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20160329 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20230103 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20230818 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20231027 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20231027 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |