KR20160067106A - Polishing device and polishing method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 여러가지 형상을 가진 피연마 가공물을 연마할 수 있는 연마 장치 및 연마 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 연마 장치는, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 피연마 가공물(K)을 이동시킴과 함께, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 피연마 가공물(K)을 이동시키는 모터 이동 기구(33)와, 피연마 가공물(K)을 회전시키는 제2 모터(30)를 구비한다.An object of the present invention is to provide a polishing apparatus and a polishing method capable of polishing a workpiece to be polished having various shapes. The polishing apparatus moves the workpiece K to be polished in the tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member 10 and moves the workpiece K in the direction perpendicular to the rotation axis of the polishing member 10, A motor moving mechanism 33 for moving the workpiece K, and a second motor 30 for rotating the workpiece K to be polished.
Description
본 발명은 연마 장치 및 연마 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing apparatus and a polishing method.
특허문헌 1이나 특허문헌 2에 기재된 연마 장치에서는, 피연마 가공물(연마 가공되는 대상물)을 회전시키면서 연마 부재에 접촉시킴으로써, 피연마 가공물의 외주를 연마하도록 하고 있다.In the polishing apparatus described in
그러나, 상술한 종래의 연마 장치에서는, 회전하고 있는 피연마 가공물의 외주를 연마 부재에 접촉시키도록 하고 있기 때문에, 피연마 가공물은, 원반형이나 원통형 등과 같은 외형이 정원(正員) 형상인 것에 한정되어 버려, 그 밖의 다양한 외형을 가진 피연마 가공물을 연마하는 것은 곤란하다.However, in the above-described conventional polishing apparatus, since the outer periphery of the rotating workpiece to be polished is brought into contact with the polishing member, the workpiece to be polished is limited to the one having a round shape or a cylindrical shape, And it is difficult to polish a polishing target workpiece having various other external shapes.
또한, 상기 「정원 형상」이란, 평면 상의 어느 1점으로부터의 거리가 동등한 점의 집합으로 된 곡선으로 그려지는 형상을 말한다. 또한, 상기 「외형」이란, 피연마 가공물에 있어서 연마되는 측면에 대하여 직교하는 면의 투영도의 형상을 말한다.The " garden shape " refers to a shape drawn by a curve formed of a set of points having a distance from any one point on the plane. The " outer shape " refers to the shape of the projection degree of a surface orthogonal to the side surface to be polished in the workpiece to be polished.
본 발명은 이러한 실정에 비추어 이루어진 것이며, 그 목적은 여러가지 외형을 가진 피연마 가공물을 연마할 수 있는 연마 장치 및 연마 방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a polishing apparatus and a polishing method capable of polishing a workpiece to be polished having various external shapes.
상기 과제를 해결하는 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하고 있다.A polishing apparatus for solving the above problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the polishing subject to be polished; and a polishing member And a moving mechanism for moving the polishing member in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 제1 이동 기구와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 이동시키는 제2 이동 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; At least one of the abrading member and the abrading member is moved in a direction perpendicular to the rotation axis of the abrading member by a first moving mechanism for moving at least one of the abrading member and the abrading member in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the abrading member, And a second moving mechanism for moving the second moving mechanism.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; And a rotating mechanism for rotating at least one of them.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; And a pressing mechanism that presses at least one of the plurality of polishing members in a direction perpendicular to the rotational axis of the polishing member.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; And a rotating mechanism for rotating at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; And a pressing mechanism that presses at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member in a direction orthogonal to the rotation axis of the abrasive member .
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 장치는, 피연마 가공물을 연마하는 장치이며, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구와, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하고 있다.Another polishing apparatus for solving the above-mentioned problems is an apparatus for polishing a workpiece to be polished, comprising: a polishing member having a polishing surface in a shape corresponding to a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished; A rotating mechanism for rotating at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member and a rotating mechanism for rotating at least one of the abrasive member and the abrasive member, And a pressing mechanism that presses at least one of the plurality of polishing members in a direction perpendicular to the rotational axis of the polishing member.
또한, 상기 연마 장치는, 연마 부재를 하방으로부터 회전시키는 모터를 구비하거나, 연마 부재를 상면에 적재한 상태에서 연마 부재와 일체 회전하는 정반을 구비하거나 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the polishing apparatus further comprises a motor for rotating the polishing member from below, or a surface plate rotating integrally with the polishing member in a state where the polishing member is mounted on the upper surface.
또한, 상기 과제를 해결하는 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물의 연마시, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키도록 하고 있다.A polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape conforming to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, At least one of the workpiece to be polished or the abrasive member is moved in the tangential direction on the outer circumferential surface of the abrasive member in the radial direction.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물의 연마시, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 이동시키는 것을 행하도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, At least one of the workpiece to be polished or the polishing member is moved in a tangential direction on the outer circumferential surface of the abrasive member in the radial direction when the abrasive article is to be polished, In the direction orthogonal to the rotation axis.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, At least one of the abrasive member and the abrasive member is rotated.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, At least one of the abrasive member and the abrasive member is pressed in a direction perpendicular to the rotation axis of the abrasive member.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것을 행하도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, At least one of the abrasive product or the abrasive member is moved in the tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the abrasive member and at least one of the abrasive member or the abrasive member is rotated.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 행하도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, A polishing member and at least one of the abrasive member and the abrasive member is moved in a tangential direction on an outer circumferential surface of the abrasive member in a radial direction; and a step of moving at least one of the abrasive member or the abrasive member in a direction perpendicular to a rotation axis of the abrasive member As shown in Fig.
또한, 상기 과제를 해결하는 다른 연마 방법은, 연마 부재로 피연마 가공물을 연마하는 방법이며, 상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것과, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 행하도록 하고 있다.Another polishing method for solving the above problem is a method of polishing a workpiece to be polished with an abrasive member, wherein the abrasive member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, Wherein at least one of the abrasive member and the abrasive member is moved in a tangential direction on the outer circumferential surface of the abrasive member in the radial direction and at least one of the abrasive member and the abrasive member is rotated, At least one of the abrasive members is pressed in a direction orthogonal to the rotation axis of the abrasive member.
또한, 상기 연마 방법에 있어서, 연마 부재를 하방으로부터 회전시키거나, 연마 부재를 정반의 상면에 적재한 상태에서 정반과 함께 연마 부재를 일체 회전시키거나 하는 것이 바람직하다.In the above polishing method, it is preferable to rotate the polishing member from below, or rotate the polishing member together with the polishing plate in a state in which the polishing member is mounted on the upper surface of the polishing table.
상기 장치나 방법에서는, 연마 부재는, 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있기 때문에, 피연마 가공물의 피연마부의 형상이, 예를 들어 곡면이나 삼각 형상 등과 같이, 평면형과는 상이한 형상이어도 연마할 수 있다.In the above apparatus and method, since the polishing member has a polishing surface having a shape conforming to the shape of the workpiece of the workpiece to be polished, the shape of the workpiece of the workpiece to be polished is, for example, a curved surface or a triangular shape, It is possible to polish even if the shape is different.
상기 장치나 방법에 있어서, 피연마 가공물 또는 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시킨 경우에는, 피연마 가공물과 연마 부재가 직선형으로 상대 이동하게 된다. 따라서, 직선형의 외형을 가진 피연마 가공물을 연마할 수 있다.In the above apparatus and method, when at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member is moved in the tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the abrasive member, the abrasive article to be polished and the abrasive member are linearly moved relative to each other. Therefore, a workpiece to be polished having a linear outer shape can be polished.
상기 장치나 방법에 있어서, 피연마 가공물 또는 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시킴과 함께, 피연마 가공물 또는 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 이동시킨 경우에는, 피연마 가공물과 연마 부재의 위치 관계를 임의로 변화시키는 것이 가능하게 된다. 그로 인해, 여러가지 피연마 가공물의 외형 형상에 추종시키면서 피연마 부재를 연마 가공물과 접촉 상태로 유지할 수 있다. 따라서, 여러가지 외형을 가진 피연마 가공물을 연마할 수 있다.In the above apparatus and method, at least one of a workpiece to be polished or a polishing member is moved in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member, and at least one of the workpiece to be polished or the polishing member is rotated, The positional relationship between the workpiece to be polished and the polishing member can be arbitrarily changed. Thereby, it is possible to keep the object to be polished in contact with the polishing workpiece while following the external shape of various objects to be polished. Therefore, a workpiece to be polished having various external shapes can be polished.
또한, 상기 장치나 방법에 있어서, 피연마 가공물 또는 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시킨 경우에는, 피연마 가공물의 연마되는 면을 변경할 수 있다. 따라서, 여러가지 외형을 갖는 피연마 가공물의 예를 들어 외주 전체나 일부를 적절히 연마할 수 있다.Further, in the above apparatus and method, when at least one of the workpiece to be polished or the polishing member is rotated, the surface to be polished of the workpiece to be polished can be changed. Therefore, for example, the outer periphery or a part of the workpiece to be polished having various outer shapes can be appropriately polished.
또한, 상기 장치나 방법에 있어서, 피연마 가공물 또는 연마 부재 중 적어도 한쪽을 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압한 경우에는, 피연마 가공물의 연마 처리를 촉진시킬 수 있음과 함께, 피연마 가공물 및 연마면의 접촉 상태(소위 접촉부)의 균일화를 촉진할 수 있다.Further, in the above apparatus and method, when at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member is pressed in a direction orthogonal to the rotation axis of the abrasive member, the abrasion treatment of the workpiece to be polished can be promoted, The uniformity of the contact state (so-called contact portion) between the workpiece and the polishing surface can be promoted.
또한, 상기 장치나 방법에 있어서, 연마 부재를 하방으로부터 회전시키거나, 연마 부재를 정반의 상면에 적재한 상태에서 상기 정반과 함께 연마 부재를 일체 회전시킨 경우에는, 축 흔들림 등이 적은 안정된 연마 부재의 회전이 얻어지게 되므로, 보다 고정밀도의 가공을 행할 수 있다.Further, in the above apparatus and method, when the polishing member is rotated integrally with the base plate in a state in which the polishing member is rotated from below or the polishing member is mounted on the upper surface of the base, a stable abrasive member Rotation can be obtained, and more accurate machining can be performed.
본 발명에 따르면, 여러가지 외형을 가진 피연마 가공물을 연마할 수 있다.According to the present invention, a workpiece to be polished having various external shapes can be polished.
도 1은, 일 실시 형태의 연마 장치의 개략 구성을 도시하는 평면도.
도 2는, 상기 실시 형태의 연마 장치의 개략 구성을 도시하는 측면도.
도 3은, 상기 실시 형태의 변형예에 있어서의 연마 장치의 개략 구성을 도시하는 평면도.
도 4는, 도 3의 변형예에 있어서의 연마 장치를 사용하여 연마되는 피연마 가공물의 일례를 도시하는 평면도.
도 5는, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 피연마 가공물 및 연마 부재의 부분 측면도.
도 6은, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 피연마 가공물 및 연마 부재의 부분 측면도.
도 7은, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 피연마 가공물 및 연마 부재의 부분 측면도.
도 8은, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 피연마 가공물 및 연마 부재의 부분 측면도.
도 9는, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 피연마 가공물 및 연마 부재의 부분 측면도.
도 10은, 상기 실시 형태의 다른 변형예의 연마 장치에 의한 피연마 가공물의 가공 형태를 도시하는 모식도.
도 11은, 상기 실시 형태의 다른 변형예의 연마 장치에 의한 피연마 가공물의 가공 형태를 도시하는 모식도.
도 12는, 상기 실시 형태의 다른 변형예에 있어서의 압력 부여 기구의 개략 구성을 도시하는 모식도.1 is a plan view showing a schematic configuration of a polishing apparatus according to an embodiment;
2 is a side view showing a schematic configuration of a polishing apparatus according to the embodiment;
3 is a plan view showing a schematic configuration of a polishing apparatus according to a modification of the embodiment;
Fig. 4 is a plan view showing an example of a workpiece to be polished which is polished using the polishing apparatus in the modified example of Fig. 3; Fig.
Fig. 5 is a partial side view of a polished workpiece and a polishing member in another modification of the above embodiment. Fig.
6 is a partial side view of a polished workpiece and a polishing member in another modification of the above embodiment.
7 is a partial side view of a polished workpiece and a polishing member in another modification of the above embodiment.
Fig. 8 is a partial side view of a polished workpiece and a polishing member in another modification of the above embodiment. Fig.
Fig. 9 is a partial side view of a polished workpiece and a polishing member in another modification of the above embodiment. Fig.
10 is a schematic view showing a processing form of a workpiece to be polished by the polishing apparatus of another modification of the above embodiment.
11 is a schematic diagram showing a processing form of a workpiece to be polished by the polishing apparatus of another modification of the above embodiment.
12 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a pressure applying mechanism in another modification of the embodiment;
이하, 본 발명의 연마 장치, 연마 방법 및 피연마 가공물을 구체화한 일 실시 형태에 대하여, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of a polishing apparatus, a polishing method and a workpiece to be polished according to the present invention will be described with reference to Figs. 1 and 2. Fig.
도 1에 도시하는 바와 같이, 이 연마 장치는, 원반형의 연마 부재(10)를 구비하고 있다. 이 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면을 사용하여, 피연마 가공물(K)의 피연마부인 단부가 연마된다.As shown in Fig. 1, the polishing apparatus has a disc-
피연마 가공물(K)의 외형, 즉 상기 피연마 가공물(K)에 있어서 연마되는 측면에 직교하는 면의 투영 형상(도 1에 도시하는 피연마 가공물(K)의 형상)은 사각 형상을 이루고 있다. 보다 상세하게는, 사각형의 코너부는 직각이 아니라 둥그스름하게 되어 있다. 그러나, 그 밖의 형상으로서, 사각형의 코너부가 직각으로 되어 있어도 된다.The outer shape of the workpiece K to be polished, that is, the shape of the projection (the shape of the workpiece K to be polished shown in Fig. 1) on the surface orthogonal to the side to be polished in the workpiece K to be polished has a rectangular shape . More specifically, the corner portion of the quadrangle is not a right angle but a rounded one. However, as another shape, the corner portion of the quadrangle may be a right angle.
도 2에 도시하는 바와 같이, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상(피연마부의 형상)은, 사전 가공에 의해 곡면 형상으로 되어 있고, 이 곡면 형상으로 가공된 단부(KE)가 연마 부재(10)로 연마된다.2, the shape of the end portion KE of the workpiece K to be polished (shape of the exposed portion) is a curved surface by pre-machining, and an end portion KE processed into this curved surface shape And polished by the
연마 부재(10)의 재질은, 단부(KE)를 연마하는 데 있어서 최적의 것을 임의로 사용할 수 있다. 예를 들어, 연마 부재(10)의 재질로서 수지를 사용하는 경우에는, 임의의 합성 수지를 사용할 수 있다. 그 예로서는 열경화성 수지(페놀 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리이미드 등)나, 열가소성 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 아크릴 수지, 폴리아미드, 폴리카르보네이트 등)를 들 수 있다. 또한, 직물, 부직포, 부직포의 수지 가공품, 합성 피혁, 혹은 이들의 복합품이어도 되며, 연마 부재(10)의 연마면의 경도는, 쇼어 A 경도로 5 이상인 것이 바람직하다. 쇼어 A 경도가 5 이상이라는 것은, 경도가 측정되는 검체이며 연마면을 갖는 연마 부재(10)를, 습도 20 내지 60％의 건조 상태에서 실온에 60분 이상 둔 후, JIS K6253에 준거한 고무 경도계(A형)로 측정되는 연마면의 경도가 5 이상인 것을 말한다. 쇼어 A 경도가 5 이상이면, 피연마 가공물(K)의 표면을 적절하게 가공할 수 있고, 또한 연마 부재(10)의 연마면이 단시간의 연마로 변형되는 것을 억제할 수 있다.As the material of the
또한, 연마 부재(10)의 연마면의 쇼어 A 경도는, 보다 바람직하게는 40 이상이고, 더욱 바람직하게는 70 내지 95, 특히 바람직하게는 70 내지 85이다.Further, the Shore A hardness of the polishing surface of the
또한, 연마 부재(10)의 재질로서 금속을 사용하는 경우에는, 재질로서 마그네슘, 알루미늄, 티타늄, 철, 니켈, 코발트 구리, 아연, 망간 혹은 그것을 주성분으로 하는 합금을 사용할 수 있다.When a metal is used as the material of the
또한, 연마 부재(10)의 재질로서, 수지 또는 금속을 사용하는 경우에는, 연마 부재(10)는 지립을 가져도 된다. 사용하는 지립의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 산화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화티타늄, 산화망간, 산화철, 산화크롬 등의 금속 산화물 입자나, 탄화규소 등의 탄화물, 그 밖의 질화물, 붕화물, 다이아몬드 등을 사용할 수 있다.When a resin or metal is used as the material of the
또한, 연마 부재(10)의 재질로서 세라믹스를 사용하는 경우에는, 재질로서 도자기나 유리 외에, 규소, 알루미늄, 지르코늄, 칼슘, 바륨 등의 산화물, 질화물, 붕화물, 탄화물 등이나, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화규소, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소 등을 사용할 수 있다.In the case of using ceramics as the material of the
피연마 가공물(K)의 재질도 임의의 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 피연마 가공물(K)의 재질로서 수지를 사용하는 경우에는, 임의의 합성 수지를 사용할 수 있다. 그 예로서는, 열경화성 수지(페놀 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리이미드 등)나, 열가소성 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 아크릴 수지, 폴리아미드, 폴리카르보네이트 등)를 들 수 있다.Any material may be used for the material A to be polished. For example, when a resin is used as the material of the abrasive product K, any synthetic resin may be used. Examples thereof include thermosetting resins (phenol resin, epoxy resin, urethane resin, polyimide and the like) and thermoplastic resins (polyethylene, polypropylene, acrylic resin, polyamide, polycarbonate and the like).
또한, 피연마 가공물(K)의 재질로서 세라믹스를 사용하는 경우에는, 도자기, 유리, 파인 세라믹스 외에, 규소, 알루미늄, 지르코늄, 칼슘, 바륨 등의 산화물, 탄화물, 질화물, 붕화물 등을 사용할 수 있다.When ceramics are used as the material of the object to be polished K, oxides, carbides, nitrides, borides and the like of silicon, aluminum, zirconium, calcium and barium can be used in addition to ceramics, glass and fine ceramics .
또한, 피연마 가공물(K)의 재질로서 금속을 사용하는 경우에는, 마그네슘, 알루미늄, 티타늄, 철, 니켈, 코발트, 구리, 아연, 망간 혹은 그것을 주성분으로 하는 합금 등을 사용할 수 있다.When a metal is used as the material of the workpiece K to be polished, magnesium, aluminum, titanium, iron, nickel, cobalt, copper, zinc, manganese or an alloy mainly composed thereof can be used.
또한, 피연마 가공물(K)의 구체적인 용도에 대해서도 임의이다. 예를 들어 휠, 샤프트, 용기, 관체(케이스, 하우징 등), 틀(프레임 등), 볼, 와이어, 장식품 등을 그 용도로 할 수 있다.The specific use of the workpiece K to be polished is also arbitrary. For example, a wheel, a shaft, a container, a tubular body (a case, a housing, etc.), a frame (frame and the like), a ball, a wire, ornaments and the like.
연마 부재(10)는, 원반형의 정반(20)의 상면에 제거 가능하게 고정되어 있다. 정반(20)의 중심부 하면에는, 제1 모터(21)의 회전축이 고정되어 있다. 제1 모터(21)가 회전 구동되면, 정반(20) 및 연마 부재(10)는 함께 회전한다. 연마 부재(10) 및 정반(20) 밑에 제1 모터(21)를 설치하고 있고, 정반(20)의 상면에 배치된 연마 부재(10)를 상기 정반(20)과 함께 밑에서부터 회전시킴으로써, 축 흔들림 등이 적은 안정된 연마 부재(10)의 회전이 얻어지기 때문에, 보다 고정밀도의 가공을 행할 수 있다.The polishing
연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에는, 둘레 방향으로 연장되는 홈형의 곡면 형상을 가진 연마면(11)이 형성되어 있다. 이 연마면(11)의 곡면은, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상을 따른 형으로 되어 있다. 즉, 연마면(11)의 곡률은, 단부(KE)의 곡률과 동일하게 되어 있다.On the outer circumferential surface in the radial direction of the
덧붙여서 말하면, 연마 정밀도를 적절하게 유지할 수 있는 범위 내에서 연마 부재(10)의 직경을 가능한 한 크게 하면, 연마 부재(10)의 외주면에 있어서 동시에 복수의 피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마할 수 있기 때문에, 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 연마 부재(10)의 직경을 가능한 한 크게 하면, 연마 부재(10)의 회전 속도가 동일해도, 외주에서는 큰 선속도가 얻어지게 되므로, 연마 가공시에 연마 부재(10)의 회전 속도를 비교적 낮게 해도 충분한 선속도가 얻어지게 된다. 그로 인해, 예를 들어 후술하는 가공액의 비산 등을 억제할 수 있다.In addition, if the diameter of the polishing
피연마 가공물(K)은, 고정대(32)에 제거 가능하게 보유 지지되어 있다. 고정대(32)는, 제2 모터(30)의 회전축(31)에 고정되어 있다. 이 제2 모터(30)가 구동됨으로써, 피연마 가공물(K)은, 회전축(31)을 중심으로 하여 회전된다(앞서 도 1에 도시하는 화살표 R 방향 또는 화살표 L 방향). 또한, 제2 모터(30)는 상기 회전 기구를 구성하고 있다.The workpiece K to be polished is removably held on a fixed table 32. The fixing table 32 is fixed to the
제2 모터(30)는 모터 이동 기구(33)에 설치되어 있다. 이 모터 이동 기구(33)는, 제2 모터(30)를 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 왕복 이동시키는 기구를 구비하고 있다. 또한, 이하에서는, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향을 「화살표 X 방향」(도 2에 도시)이라고 한다.The second motor 30 is installed in the
또한, 모터 이동 기구(33)는, 제2 모터(30)를, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 왕복 이동시키는 기구도 구비하고 있다. 또한, 이하에서는, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향을 「화살표 Y 방향」이라고 한다(앞서 도 1에 도시).The
모터 이동 기구(33)에 의해 제2 모터(30)가 이동되면, 제2 모터(30), 회전축(31), 고정대(32) 및 피연마 가공물(K)은, 일체로 되어 연마 부재(10)의 회전축과 직교하는 방향이나 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동한다. 이 모터 이동 기구(33)는, 상기 제1 이동 기구 및 상기 제2 이동 기구를 구성하고 있다.When the second motor 30 is moved by the
또한, 연마 장치는, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 피연마 가공물(K)을 가압하는 가압 기구(40)를 구비하고 있다. 이 가압 기구(40)는, 연마 부재(10)의 연마면(11)에 대하여 피연마 가공물(K)을 압력 P로 가압한다. 이러한 가압 기구(40)에 의한 압력 P의 조정은, 임의로 행할 수 있다. 예를 들어, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)와 연마면(11)의 접촉부에서의 접촉압을 로드셀 등으로 측정한다. 그리고, 그 접촉압이 규정의 값으로 일정해지도록 상기 압력 P를 조정한다. 또한, 접촉부의 면적에 따라 압력 P를 조정해도 된다(예를 들어 접촉부의 면적이 넓은 부위에서는 압력 P를 높게 하고, 접촉부의 면적이 좁은 부위에서는 압력 P를 낮게 하는 등).The polishing apparatus further includes a
또한, 코너부 등은 평면부와 비교하여 상기 접촉압이 높아지기 쉽다. 그로 인해, 코너부 등과 같이 접촉압이 높아지는 피연마 가공물(K) 부분의 연마 시간은 짧게 하고, 평면부 등과 같이 접촉압이 높아지는 피연마 가공물(K) 부분의 연마 시간은 길게 하는 등, 피연마 가공물(K)의 형상 등에 따라 적절한 연마 제어를 행하거나, 그러한 압력 P의 조정과 함께 가공 시간을 조정하여 일정한 연마가 행해지도록 하거나 해도 된다.In addition, the corner portions and the like are likely to have a higher contact pressure than the flat portion. Therefore, the polishing time of the portion A of the object to be polished in which the contact pressure becomes high, such as a corner portion, is shortened and the polishing time of the portion A of the object A to be polished, It is also possible to perform appropriate polishing control in accordance with the shape of the work K or the like and to adjust the processing time with the adjustment of the pressure P to perform the constant polishing.
모터 이동 기구(33)나 가압 기구(40)의 동력원으로서는, 전력, 유압, 공기압, 가스압 등과 같은 적절한 동력원을 사용할 수 있다. 또한, 모터 이동 기구(33)나 가압 기구(40)의 구동은, CPU, RAM 및 ROM 등을 구비한 제어 장치에 의한 자동 구동이나, 연마 장치를 조작하는 조작자의 스위치 조작 등에 의해 행해진다.Suitable power sources such as electric power, hydraulic pressure, air pressure, gas pressure and the like can be used as the power source of the
이러한 모터 이동 기구(33)에 의한 제2 모터(30)의 이동과, 가압 기구(40)에 의한 피연마 가공물(K)의 가압에 의해, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)는 연마면(11)에 압박된다. 그리고, 단부(KE)와 연마면(11)의 접촉부에, 적당한 형태로 가공액 등이 공급된다. 이러한 가공액의 공급은, 단부(KE)와 연마면(11)의 접촉부에 대하여 외부로부터 직접 공급할 수 있다. 또는, 연마 부재(10)(보다 상세하게는 연마 부재(10)가 고정된 정반(20))와 제1 모터(21)의 접속부에 로터리 조인트 등의 가공액 공급 기구를 개재시킨다. 그리고, 이 가공액 공급 기구로부터 연마 부재(10)의 내부에 가공액을 공급하고, 연마 부재(10)의 내부에 공급된 가공액을, 연마 부재(10)의 내부에 형성된 공급로를 통하여 상기 접촉부에 공급할 수도 있다. 이와 같이 연마 부재(10)의 내부로부터 접촉부를 향하여 가공액을 공급함으로써, 가공액을 보다 효율적으로 공급할 수 있다. 또한, 가공액을 효율적으로 사용하기 위해, 연마 부재(10)의 주위에 커버를 설치하여 가공액의 회수 효율을 높이는 회수 장치를 구비하고 있으면 더 좋다.The movement of the second motor 30 by the
상술한 가공액의 종류는, 피연마 가공물(K)이나 연마 부재(10)의 재질에 따라 적절한 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는 절삭용, 연삭용 가공액이나 랩핑재, 폴리싱제, 화학 기계 연마용 연마액 등을 사용할 수 있다. 가공액은 지립을 함유하고 있어도 된다. 사용하는 지립의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 산화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화티타늄, 산화망간, 산화철, 산화크롬 등의 금속 산화물 입자나, 탄화규소 등의 탄화물, 질화물, 붕화물, 다이아몬드 등을 사용할 수 있다.As the kind of the above-mentioned working fluid, an appropriate one may be used depending on the material of the abrasive article K and the
예를 들어, 가공액 중의 지립의 함유량은 1질량％ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2질량％ 이상이다. 또한, 가공액 중의 지립의 함유량은 50질량％ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40질량％ 이하이다.For example, the content of abrasive grains in the working fluid is preferably 1% by mass or more, and more preferably 2% by mass or more. The content of abrasive grains in the working fluid is preferably 50 mass% or less, and more preferably 40 mass% or less.
가공액 중의 지립의 평균 2차 입자 직경은 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3㎛ 이상이다. 지립의 평균 2차 입자 직경이 커짐에 따라, 가공액에 의한 가공 속도가 향상되게 된다.The average secondary particle diameter of the abrasive grains in the working fluid is preferably 0.1 탆 or more, and more preferably 0.3 탆 or more. As the average secondary particle diameter of the abrasive grains increases, the processing speed by the working fluid improves.
한편, 가공액 중의 지립의 평균 2차 입자 직경은 20㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 가공액 중의 지립의 평균 2차 입자 직경이 작아짐에 따라, 피연마 가공물(K)의 표면을 보다 균일하게 연마할 수 있게 된다. 덧붙여서 말하면, 지립의 평균 2차 입자 직경이란, 예를 들어 호리바 세이사꾸쇼사제의 "LA-950" 등의 레이저 회절/산란식 입자 직경 분포 측정 장치를 사용하여 측정한 체적 평균 입자 직경 등을 말한다.On the other hand, the average secondary particle diameter of the abrasive grains in the working fluid is preferably 20 占 퐉 or less, and more preferably 5 占 퐉 or less. As the average secondary particle diameter of the abrasive grains in the working fluid becomes smaller, it becomes possible to more uniformly polish the surface of the workpiece K to be polished. Incidentally, the average secondary particle diameter of the abrasive grains refers to the volume average particle diameter measured by a laser diffraction / scattering type particle diameter distribution measuring device such as "LA-950" manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd. .
상기 가공액에는, 필요에 따라 pH 조정제, 에칭제, 산화제, 수용성 중합체, 공중합체나 그의 염, 유도체, 방식제, 킬레이트제, 분산 보조제, 방부제, 방미제 등의 다른 성분을 더 포함해도 된다.The processing liquid may further contain other components such as a pH adjusting agent, an etching agent, an oxidizing agent, a water-soluble polymer, a copolymer or its salt, a derivative, a cushioning agent, a chelating agent, a dispersion aid, a preservative,
상기 pH 조정제의 예로서는, 공지된 산, 염기 또는 그들의 염을 사용할 수 있다. pH 조정제로서 사용할 수 있는 산의 예로서는, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 불산, 붕산, 탄산, 차아인산, 아인산 및 인산 등의 무기산이나, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 2-메틸부티르산, n-헥산산, 3,3-디메틸부티르산, 2-에틸부티르산, 4-메틸펜탄산, n-헵탄산, 2-메틸헥산산, n-옥탄산, 2-에틸헥산산, 벤조산, 글리콜산, 살리실산, 글리세린산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 말레산, 프탈산, 말산, 타르타르산, 시트르산, 락트산, 디글리콜산, 2-푸란카르복실산, 2,5-푸란디카르복실산, 3-푸란카르복실산, 2-테트라히드로푸란카르복실산, 메톡시아세트산, 메톡시페닐아세트산 및 페녹시아세트산 등의 유기산을 들 수 있다.As examples of the pH adjuster, known acids, bases or salts thereof can be used. Examples of the acid usable as the pH adjuster include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrofluoric acid, boric acid, carbonic acid, hypophosphoric acid, phosphorous acid and phosphoric acid; inorganic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, Hexanoic acid, 2-ethylhexanoic acid, benzoic acid, glycols such as n-hexanoic acid, n-hexanoic acid, 3,3-dimethylbutyric acid, The organic acid is selected from the group consisting of hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, maleic acid, phthalic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, lactic acid, diglycolic acid, , 5-furandicarboxylic acid, 3-furancarboxylic acid, 2-tetrahydrofurancarboxylic acid, methoxyacetic acid, methoxyphenylacetic acid and phenoxyacetic acid.
pH 조정제로서 사용할 수 있는 염기의 예로서는, 지방족 아민, 방향족 아민 등의 아민, 수산화제4암모늄 등의 유기 염기, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속의 수산화물, 알칼리 토금속의 수산화물 및 암모니아 등을 들 수 있다.Examples of the base that can be used as the pH adjuster include amines such as aliphatic amines and aromatic amines, organic bases such as ammonium hydroxide and hydroxide, alkaline metal hydroxides such as potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides and ammonia.
또한, 상술한 산 대신에, 또는 상술한 산과 조합하여, 상기 산의 암모늄염이나 알칼리 금속염 등의 염을 pH 조정제로서 사용해도 된다. 또한, 이러한 pH 조정제는, 가공액의 pH값을, 피연마 가공물(K)의 종류에 따라 상이한 최적값으로 조정하기 위해 사용된다.Further, in place of the acid mentioned above, or in combination with the above-mentioned acid, a salt such as an ammonium salt or an alkali metal salt of the acid may be used as the pH adjusting agent. Further, such a pH adjuster is used to adjust the pH value of the processing liquid to a different optimal value depending on the kind of the polishing target workpiece (K).
상기 에칭제의 예로서는, 질산, 황산, 인산 등의 무기산, 아세트산, 시트르산, 타르타르산이나 메탄술폰산 등의 유기산, 수산화칼륨, 수산화나트륨 등의 무기 알칼리, 암모니아, 아민, 제4급 암모늄 수산화물 등의 유기 알칼리 등을 들 수 있다.Examples of the etchant include inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, citric acid, tartaric acid and methanesulfonic acid, inorganic alkalis such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, organic alkalis such as ammonia, amine and quaternary ammonium hydroxide And the like.
상기 산화제의 예로서는, 과산화수소, 과아세트산, 과탄산염, 과산화요소, 과염소산염, 과황산염 등 외에, 황산, 질산, 인산 및 그의 염 등의 옥소산이나 그의 염 등을 들 수 있다.Examples of the oxidizing agent include oxo acids such as sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and salts thereof, and salts thereof, in addition to hydrogen peroxide, peracetic acid, percarbonate, peroxide, perchlorate and persulfate.
상기 수용성 중합체, 공중합체나 그의 염, 유도체의 예로서는, 폴리아크릴산염 등의 폴리카르복실산, 폴리포스폰산, 폴리스티렌술폰산 등의 폴리술폰산, 크산탄검, 알긴산나트륨 등의 다당류, 히드록시에틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 소르비탄모노올레에이트, 단일종 또는 복수종의 옥시알킬렌 단위를 갖는 옥시알킬렌계 중합체, 비이온성 계면 활성제, 음이온성 계면 활성제 등을 들 수 있다. 비이온성 계면 활성제의 예로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 소르비탄모노올레에이트, 단일종 또는 복수종의 옥시알킬렌 단위를 갖는 옥시알킬렌계 중합체 등을 들 수 있다. 음이온성 계면 활성제의 예로서는, 알킬술폰산계 화합물, 알킬벤젠술폰산계 화합물, 알킬나프탈렌술폰산계 화합물, 메틸타우린산계 화합물, 알킬디페닐에테르디술폰산계 화합물, α-올레핀술폰산계 화합물, 나프탈렌술폰산 축합물, 술포숙신산디에스테르계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble polymers, copolymers and salts and derivatives thereof include polycarboxylic acids such as polyacrylic acid salts, polysulfonic acids such as polyphosphonic acid and polystyrenesulfonic acid, polysaccharides such as xanthan gum and sodium alginate, hydroxyethylcellulose, Cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, sorbitan monooleate, oxyalkylene polymers having single or plural kinds of oxyalkylene units, nonionic surfactants, anions Surfactant and the like. Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, sorbitan monooleate, oxyalkylene polymer having single or plural kinds of oxyalkylene units, and the like. Examples of the anionic surfactant include an alkylsulfonic acid compound, an alkylbenzenesulfonic acid compound, an alkylnaphthalenesulfonic acid compound, a methyltauric acid compound, an alkyldiphenyl ether disulfonic acid compound, an -olefin sulfonic acid compound, a condensate of naphthalenesulfonic acid, Sulfosuccinic acid diester compounds and the like.
상기 방식제의 예로서는, 아민류, 피리딘류, 테트라페닐포스포늄염, 벤조트리아졸류, 트리아졸류, 테트라졸류, 벤조산 등, 단환 화합물, 축합환을 갖는 다환 화합물, 복소환식 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the anticorrosive include monocyclic compounds, polycyclic compounds having condensed rings, heterocyclic compounds, etc., such as amines, pyridines, tetraphenylphosphonium salts, benzotriazoles, triazoles, tetrazoles and benzoic acid.
상기 킬레이트제의 예로서는, 글루콘산 등의 카르복실산계 킬레이트제, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리메틸테트라아민 등의 아민계 킬레이트제, 에틸렌디아민테트라아세트산, 니트릴로트리아세트산, 히드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산, 트리에틸렌테트라민헥사아세트산, 디에틸렌트리아민펜타아세트산 등의 폴리아미노폴리카르복실산계 킬레이트제, 2-아미노에틸포스폰산, 1-히드록시에틸리덴-1,1-디포스폰산, 아미노트리(메틸렌포스폰산), 에틸렌디아민테트라키스(메틸렌포스폰산), 디에틸렌트리아민펜타(메틸렌포스폰산), 에탄-1,1-디포스폰산, 에탄-1,1,2-트리포스폰산, 메탄히드록시포스폰산, 1-포스포노부탄-2,3,4-트리카르복실산 등의 유기 포스폰산계 킬레이트제, 페놀 유도체, 1,3-디케톤 등을 들 수 있다.Examples of the chelating agent include carboxylic acid chelating agents such as gluconic acid, amine chelating agents such as ethylenediamine, diethylenetriamine and trimethyltetramine, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid , Triethylenetetraminehexaacetic acid, and diethylenetriaminepentaacetic acid; aminocarboxylic acid chelating agents such as 2-aminoethylphosphonic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, (Methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetrakis (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), ethane-1,1-diphosphonic acid, ethane-1,1,2-triphosphonic acid, methane Organic phosphonic acid chelating agents such as hydroxyphosphonic acid and 1-phosphonobutane-2,3,4-tricarboxylic acid, phenol derivatives, and 1,3-diketones.
상기 분산 보조제의 예로서는, 피로인산염이나 헥사메타인산염 등의 축합 인산염 등을 들 수 있다.Examples of the dispersion aid include condensed phosphates such as pyrophosphate and hexametaphosphate.
상기 방부제의 예로서는, 차아염소산나트륨 등을 들 수 있다.Examples of the preservative include sodium hypochlorite and the like.
상기 방미제의 예로서는, 옥사졸리딘-2,5-디온 등의 옥사졸린 등을 들 수 있다.Examples of the antifogging agent include oxazolidine such as oxazolidin-2,5-dione and the like.
그리고, 상술한 가공액 등의 공급과 함께, 제1 모터(21)의 회전 속도 조정이 행해짐으로써, 곡면 형상의 단부(KE)가 연마된다. 단부(KE)의 연마는, 예를 들어 다음의 공정순으로 행할 수 있다.Then, with the supply of the above-described working fluid and the like, the rotational speed of the
공정 1: 모터 이동 기구(33)에 의해, 피연마 가공물(K)을, 화살표 X 방향에 있어서 연마 부재(10)의 회전 중심을 향하여 이동시킴으로써, 단부(KE)와 연마면(11)을 접촉시킨다.Step 1: The end portion KE and the polishing
공정 2: 이어서, 단부(KE)와 연마면(11)이 접촉한 상태에서 가압 기구(40)를 구동하면서, 모터 이동 기구(33)에 의해 피연마 가공물(K)을 화살표 Y 방향에 있어서 이동시킴으로써, 단부(KE)와 연마면(11)의 접촉 부위를 바꾸어 간다. 이에 의해 피연마 가공물(K)의 1개의 변의 연마가 진행되어 간다.Step 2: Subsequently, the workpiece K to be polished is moved (moved) in the direction of the arrow Y by the
공정 3: 피연마 가공물(K)의 1개의 변의 연마가 종료되면, 가압 기구(40)를 단부(KE)로부터 이격시킨다. 그리고, 모터 이동 기구(33)에 의해 피연마 가공물(K)을 화살표 X 방향에 있어서 이동시키면서, 제2 모터(30)에 의해 피연마 가공물(K)을 회전시킨다. 이와 같이 하여 피연마 가공물(K)과 연마면(11)이 접촉한 상태를 유지하면서 피연마 가공물(K)을 회전시킴으로써, 연마가 종료된 변의 인접한 변이 연마면(11)측으로 향해져, 연마되는 변이 전환된다.Step 3: When the polishing of one side of the polished workpiece K is finished, the
그리고, 공정 2 및 공정 3이 반복됨으로써, 피연마 가공물(K)의 4개의 변 모두가 연마된다. 또한, 상술한 연마의 공정은 일례이며, 모터 이동 기구(33)나 가압 기구(40)의 구동 형태는, 가공 시간 등을 고려하여 적절히 변경할 수 있다.Then, Step 2 and Step 3 are repeated, whereby all four sides of the workpiece K to be polished are polished. The above-described polishing process is only an example, and the driving mode of the
이상 설명한 본 실시 형태에 따르면, 이하의 작용 효과를 얻을 수 있다.According to the present embodiment described above, the following operational effects can be obtained.
(1) 모터 이동 기구(33)에 의해, 피연마 가공물(K)을, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(화살표 Y 방향)으로 이동시키도록 하고 있다. 그로 인해, 피연마 가공물(K)과 연마 부재(10)가 직선형으로 상대 이동하게 된다. 따라서, 선형의 변을 갖는 사각 형상의 피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마할 수 있다.(1) The workpiece K to be polished is moved in the tangential direction (the direction of the arrow Y) on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing
(2) 제2 모터(30)에 의해 피연마 가공물(K)이 회전됨으로써, 피연마 가공물(K)에 있어서 연마되는 면(변)을 변경할 수 있다. 따라서, 사각 형상의 외형을 가진 피연마 가공물(K)의 외주 전체를 연마할 수 있다.(2) The polished workpiece K is rotated by the second motor 30, so that the polished surface (side) of the polished workpiece K can be changed. Therefore, it is possible to polish the entire outer periphery of the polishing target workpiece K having a quadrangular outer shape.
(3) 피연마 가공물(K)의 연마시, 피연마 가공물(K)을 연마 부재(10)에 가압하도록 하고 있다. 그로 인해, 피연마 가공물(K)의 연마 처리를 촉진시킬 수 있다. 또한, 피연마 가공물(K) 및 연마면(11)의 접촉 상태, 소위 접촉부의 균일화를 촉진할 수 있다.(3) When polishing the workpiece K to be polished, the workpiece K to be polished is pressed against the
(4) 연마 장치는, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상을 따른 형상의 연마면(11)을 갖는 연마 부재(10)를 구비하고 있다. 따라서, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)가 평면형과는 상이한 곡면 형상이어도, 그 단부(KE)를 연마할 수 있다.(4) The polishing apparatus has an
(5) 상술한 연마 방법에서는, 연마 장치를 사용하여 피연마 가공물(K)을 연마하도록 하고 있다. 따라서, 피연마부의 형상(단부(KE)의 형상)이 평면형과는 상이한 곡면 형상을 이루고 있으며, 또한 사각 형상의 피연마 가공물(K)이어도, 그 외주를 연마할 수 있다.(5) In the above-described polishing method, the object to be polished K is polished using a polishing apparatus. Therefore, the shape of the machined portion (the shape of the end portion KE) has a curved shape different from that of the planar shape, and even the rectangular shaped polishing target workpiece K can polish its outer periphery.
또한, 상기 실시 형태는 이하와 같이 변경하여 실시할 수도 있다.The above embodiment may be modified as follows.
ㆍ피연마 가공물(K)을 회전시킴으로써, 피연마 가공물(K)의 외주 전체를 연마하도록 했지만, 그 대신에, 피연마 가공물(K) 외주의 일부, 예를 들어 피연마 가공물(K)의 1개의 변만, 혹은 2개의 변만, 혹은 3개의 변만을 연마하도록 해도 된다.The entire periphery of the workpiece K to be polished is polished by rotating the polished workpiece K. Instead of this, a part of the periphery of the workpiece K to be polished, for example, Only two sides, three sides, or three sides may be polished.
ㆍ상기 공정(3)에서는, 피연마 가공물(K)을, 화살표 X 방향에 있어서 연마 부재(10)의 회전 중심으로부터 이격되는 방향으로 이동시키면서 회전시키도록 했지만, 그 대신에, 연마가 종료된 단부(KE)가 연마면(11)으로부터 이격될 때까지 피연마 가공물(K)을 화살표 Y 방향으로 이동시킨 후, 상기 피연마 가공물(K)을 회전시켜도 된다. 그리고, 피연마 가공물(K)에 있어서의 다음에 연마하려고 하는 변이 연마면(11)에 근접하도록 피연마 가공물(K)을 화살표 Y 방향에 있어서 이동시키도록 해도 된다. 이와 같이 하여 연마하는 변을 바꾸도록 해도, 피연마 가공물(K)의 각 변을 각각 연마할 수 있다. 또한, 이 변형예의 경우에는, 피연마 가공물(K)을 화살표 X 방향으로 이동시키는 모터 이동 기구(33)의 기능을 생략할 수 있다.In the above step (3), the object to be polished K is rotated while being moved in the direction of the arrow X in the direction away from the center of rotation of the polishing
ㆍ상기 피연마 가공물(K)의 4개의 변 중 1개의 변만을 연마하는 것이면, 모터 이동 기구(33)는, 피연마 가공물(K)을 화살표 Y 방향으로 이동시키는 기능만을 구비하도록 하고, 회전 기구(제2 모터(30) 등)를 생략해도 된다. 이 경우에도, 모터 이동 기구(33)에 의해, 피연마 가공물(K)과 연마 부재(10)가 직선형으로 상대 이동하게 되므로, 직선형의 변을 갖는 사각 형상의 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 1개의 변을 연마할 수 있다.The
ㆍ상기 실시 형태에서는, 피연마 가공물(K)이 화살표 X 방향 및 화살표 Y 방향으로 이동 가능하지만, 그것에 추가하여, 연마 부재(10)의 회전 중심을 이동시키는 기구를 설치해도 된다. 그리고, 피연마 가공물(K)을 화살표 X 방향으로 이동시킴과 함께, 연마 부재(10)를 화살표 Y 방향으로 움직이도록 해도 된다. 또는, 피연마 가공물(K)을 화살표 Y 방향으로 이동시킴과 함께, 연마 부재(10)를 화살표 X 방향으로 움직이게 해도 된다.In the above embodiment, the workpiece K to be polished can be moved in the direction of the arrow X and the direction of the arrow Y. In addition, a mechanism for moving the center of rotation of the polishing
또는, 피연마 가공물(K) 및 연마 부재(10)를 모두 화살표 X 방향으로 이동시키거나, 피연마 가공물(K) 및 연마 부재(10)를 모두 화살표 Y 방향으로 움직이게 하거나 해도 된다.Alternatively, both the workpiece K to be polished and the polishing
ㆍ상기 실시 형태에서는, 피연마 가공물(K)이 이동 가능하지만, 그 대신에 연마 부재(10)를 이동 가능하게 구성해도 된다. 도 3에, 그러한 변형예의 개략을 도시한다.In the above embodiment, the workpiece K to be polished is movable, but the polishing
도 3에 도시하는 바와 같이, 사각 형상의 피연마 가공물(K)은, 적당한 형태로 연마 장치에 클램프되어 있다. 또한, 회전 구동되는 연마 부재(10)의 회전 중심에는, 상기 연마 부재를 이동시키는 이동 기구(50)가 설치되어 있다. 이 이동 기구(50)는, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(도 3에 도시하는 화살표 Y 방향)으로 연마 부재(10)를 이동시키는 제1 이동 기구로서의 기능과, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향(도 3에 도시하는 화살표 X 방향)으로 연마 부재(10)를 이동시키는 제2 이동 기구로서의 기능을 겸비하고 있다. 이러한 이동 기구(50)로서는, 적당한 기구를 채용할 수 있다. 예를 들어 링크 기구나 상기 모터 이동 기구(33)와 유사한 기구 등을 채용할 수 있다.As shown in Fig. 3, the quadrangular-shaped polishing target workpiece K is clamped to the polishing apparatus in an appropriate form. A moving mechanism (50) for moving the polishing member is provided at the center of rotation of the rotating abrasive member (10). The moving
이 변형예에 있어서의 연마 장치에서는, 이동 기구(50)에 의해, 피연마 가공물(K)에 대한 연마 부재(10)의 위치를 임의로 변화시키는 것이 가능하게 되므로, 피연마 가공물(K)의 외형 형상에 추종시키면서 피연마 가공물(K)과 연마 부재(10)의 접촉 상태를 유지할 수 있다. 즉, 도 3에 이점쇄선으로 나타내는 바와 같이, 피연마 가공물(K)의 외주(단부(KE))를 따라 연마 부재(10)를 이동시키는 것이 가능하게 된다. 그로 인해, 이러한 변형예에서도 사각 형상의 외형을 가진 피연마 가공물(K)의 외주 전체를 연마할 수 있다. 또한, 이러한 변형예의 경우에는, 상기 실시 형태와 비교하여, 연마 부재(10)의 크기가 비교적 작아도 피연마 가공물(K)의 외주 전체를 연마할 수 있다. 덧붙여서 말하면, 도 3의 변형예에 있어서의 이동 기구(50) 대신에, 도 3에 도시하는 화살표 Y 방향으로 연마 부재(10)를 이동시키는 이동 기구와, 도 3에 도시하는 화살표 X 방향으로 연마 부재(10)를 이동시키는 이동 기구를 별개로 설치해도 된다. 또한, 도 3의 변형예에 있어서, 피연마 가공물(K)의 외주 일부, 예를 들어 피연마 가공물(K)의 1개의 변만, 혹은 2개의 변만, 혹은 3개의 변만을 연마하도록 해도 된다.The polishing apparatus according to this modified example can arbitrarily change the position of the polishing
ㆍ정반(20)의 상면에 연마 부재(10)를 설치하도록 했지만, 정반(20)을 생략하고, 연마 부재(10)의 중심에 제1 모터(21)의 회전축을 직접 고정해도 된다.Although the
ㆍ가압 기구(40)를 구동시킴으로써 단부(KE)를 연마면(11)에 압박하도록 했지만, 모터 이동 기구(33)에 의해 제2 모터(30)를 화살표 X 방향으로 이동시킴으로써, 단부(KE)를 연마면(11)에 압박할 수 있는 것이면, 가압 기구(40)를 생략해도 된다.The end portion KE is pressed against the polishing
ㆍ모터 이동 기구(33)에서, 제2 모터(30)를, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향(앞서 도 2에 도시한 화살표 X 방향) 및 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(앞서 도 1에 도시한 화살표 Y 방향)으로 왕복 이동시키도록 했지만, 그 대신에, 제2 모터(30)를 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향(앞서 도 2에 도시한 화살표 X 방향)으로 이동시키는 기구와, 제2 모터(30)를 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(앞서 도 1에 도시한 화살표 Y 방향)으로 이동시키는 기구를 별개로 설치하도록 해도 된다.In the
ㆍ피연마 가공물(K)을 이동시키기 위해 제2 모터(30)를 이동시키도록 했지만, 다른 형태로 피연마 가공물(K)을 이동시켜도 된다.The second motor 30 is moved to move the abrading workpiece K, but the abrading workpiece K may be moved in another form.
ㆍ피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마하도록 했지만, 피연마부는 그러한 단부에 한정되는 것은 아니며, 다른 부위여도 된다.Although the end portion KE of the polishing target workpiece K is polished, the polished portion is not limited to such an end portion, but may be a different portion.
ㆍ피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상은, 곡면 이외의 비평면형이어도 되고, 예를 들어 도 5에 도시하는 삼각 형상이나, 도 6에 도시하는 바와 같이 대략 삼각 형상이며 정상부가 둥그스름한 형상이어도 된다. 또한, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상은, 도 7에 도시하는 계단 형상이나, 도 8에 도시하는 바와 같이 대략 계단 형상이며 코너부가 둥그스름한 형상이어도 된다. 또한, 도 9에 도시하는 바와 같이, 단부(KE)가, 피연마 가공물(K)의 내측을 향하여 오목한 곡면 형상이어도 된다. 또한, 복수의 곡률로 구성되는 곡면이나, 일부에 직선부를 구비하는 곡면이어도 된다. 이들 변형예에 있어서도, 연마 부재(10)의 연마면(11)을, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)의 형상(피연마부의 형상)을 따른 형으로 함으로써, 단부(KE)를 연마할 수 있다.The shape of the end portion KE of the workpiece K to be polished may be a non-flat shape other than a curved surface, for example, a triangular shape as shown in Fig. 5, a roughly triangular shape as shown in Fig. 6, Shape. The shape of the end portion KE of the workpiece K to be polished may be a stepped shape shown in Fig. 7, or a substantially stepped shape as shown in Fig. 8 and a rounded corner portion. As shown in Fig. 9, the end portion KE may have a curved surface concave toward the inside of the workpiece K to be polished. Further, a curved surface composed of a plurality of curvatures or a curved surface having a straight portion in part may be used. In these modified examples, the polishing
ㆍ피연마 가공물(K)의 외형은 사각 형상 이외의 임의의 여러가지 형상이어도 된다. 예를 들어 복수의 평면이나 곡면을 포함하는 형상이어도 되고, 삼각 형상이나, 타원 형상이어도 된다. 덧붙여서 말하면, 상기 실시 형태 및 그 변형예에 있어서는, 여러가지 외형을 가진 피연마 가공물(K)을 연마할 수 있고, 예를 들어 외형이 원형인 원통 형상의 피연마 가공물(K)의 둘레면을 연마하는 것도 가능하다.The outer shape of the workpiece K to be polished may be any of various shapes other than a rectangular shape. For example, a shape including a plurality of planes or curved surfaces, a triangular shape, or an elliptical shape. Incidentally, in the above-described embodiment and its modifications, it is possible to polish a polishing target workpiece K having various outlines, for example, to grind the circumferential surface of a cylindrical polishing target workpiece K having a circular outer shape, It is also possible to do.
또한, 앞서 도 3에 도시한 변형예에서는, 피연마 가공물(K)에 대한 연마 부재(10)의 위치를 임의로 바꾸는 것이 가능하므로, 도 4에 도시하는 바와 같이, 피연마 가공물(K)의 외형이 복수의 곡률로 구성되는 형상이어도, 그 외주를 연마할 수 있다.3, the position of the
또한, 상기 실시 형태에서는, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)와 연마면(11)을 접촉시키거나, 연마가 종료된 단부(KE)를 연마면(11)으로부터 이격시키거나 하기 위해, 피연마 가공물(K)을 화살표 X 방향으로 이동시키도록 하였다. 여기서, 상기 모터 이동 기구(33)에 따르면, 피연마 가공물(K)을 화살표 X 방향 및 화살표 Y 방향으로 이동시키는 것이 가능하므로, 연마 부재(10)에 대한 피연마 가공물(K)의 위치를 임의로 바꾸는 것이 가능하다. 그로 인해, 피연마 가공물(K)의 외형 형상에 추종시키면서 피연마 가공물(K)과 연마 부재(10)의 접촉 상태를 유지할 수 있다. 그리고, 상기 실시 형태의 연마 장치는, 피연마 가공물(K)을 회전시키는 회전 기구도 구비하고 있다. 따라서, 상기 실시 형태에 있어서도, 화살표 X 방향 및 화살표 Y 방향으로의 피연마 가공물(K)의 이동과, 피연마 가공물(K)의 회전을 조합함으로써, 앞서 도 4에 도시한 바와 같은 형상의 피연마 가공물(K), 즉 피연마 가공물(K)의 외형이 복수의 곡률로 구성되는 형상이어도, 그 외주를 연마할 수 있다.In the above embodiment, in order to bring the end portion KE of the workpiece K to be polished into contact with the polishing
ㆍ특징 (A)로서, 피연마 가공물(K) 또는 연마 부재(10) 중 적어도 한쪽을, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(화살표 Y 방향)으로 이동시키는 것을 채용하면, 피연마 가공물(K)의 1개의 변을 연마할 수 있다. 또한, 특징 (B)로서, 피연마 가공물(K) 또는 연마 부재(10) 중 적어도 한쪽을, 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향(화살표 X 방향)으로 이동시키는 것과, 피연마 가공물(K) 또는 연마 부재(10) 중 적어도 한쪽을, 연마 부재(10)의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향(화살표 Y 방향)으로 이동시키는 것을 채용하면, 피연마 가공물(K)과 연마 부재(10)의 위치 관계를 임의로 변경할 수 있다. 또한, 특징 (C)로서, 피연마 가공물(K) 또는 연마 부재(10) 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것을 채용하면, 피연마 가공물(K)에 있어서 연마되는 면을 변경할 수 있다. 또한, 특징 (D)로서, 피연마 가공물(K) 또는 연마 부재(10) 중 적어도 한쪽을 연마 부재(10)의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 채용하면, 피연마 가공물의 연마 처리를 촉진시킬 수 있음과 함께, 피연마 가공물 및 연마면의 접촉 상태(소위 접촉부)의 균일화를 촉진할 수 있다. 따라서, 이들 특징 (A) 내지 (D)는 피연마 가공물(K)의 형상이나 가공 목적에 따라, 적절히 조합하여 채용하거나, 단독으로 채용하거나 하는 것이 가능하며, 그 경우, 채용한 특징 (A) 내지 (D)에 대응한 효과를 얻을 수 있다.If at least one of the abrasive product K or the
ㆍ연마 부재(10)나 피연마 가공물(K)을 회전시킴으로써 상기 피연마 가공물(K)을 연마하는 경우, 피연마 가공물(K)의 연마 후의 면에는 회전 방향으로 연마 자국이 남을 우려가 있다. 따라서, 그러한 연마 자국을 억제하기 위해, 상술한 각종 기구 외에, 연마 부재(10) 및 피연마 가공물(K) 중 적어도 한쪽을, 회전 방향에 대하여 교차하는 방향으로 왕복 이동시키는 왕복 이동 기구를 더 구비하도록 해도 된다. 그러한 왕복 이동 기구를 앞서 도 2 등에 도시한 상기 실시 형태의 연마 장치에 설치한 경우의 2가지 예를, 도 10 및 도 11에 도시한다.When polishing the workpiece K to be polished by rotating the
도 10에 도시하는 변형예의 연마 장치는, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 직교하는 방향으로 피연마 가공물(K)을 요동시키는 요동 기구(60)를 구비하고 있다. 이 요동 기구(60)로서는, 예를 들어 링크 기구 등, 적당한 기구를 채용할 수 있다.The polishing apparatus of the modification shown in Fig. 10 has a
이 변형예에서는, 연마 부재(10)를 회전시켜 피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마할 때, 요동 기구(60)를 작동시킨다. 이 요동 기구(60)의 작동에 의해, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 직교하는 방향(도 10에 도시하는 화살표 RO 방향)으로 피연마 가공물(K)은 요동한다. 그리고, 이 피연마 가공물(K)의 요동 운동에 의해, 회전 연마 중의 피연마 가공물(K)의 단부(KE)는, 연마면(11)의 곡면을 따라 요동한다. 이러한 단부(KE)의 요동에 의해, 단부(KE)의 연마 자국은 교차형으로 되어, 회전만의 연마와 비교하며 연마 자국은 작아진다. 따라서, 회전 연마에 의한 연마 자국을 억제할 수 있게 된다.In this modified example, when the end portion KE of the workpiece K is polished by rotating the polishing
또한, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대한 피연마 가공물(K)의 요동 방향은, 반드시 직교 방향에 한정되는 것은 아니며, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 적어도 교차하는 방향으로 요동시키도록 하면, 연마 자국은 교차형으로 되므로, 회전 연마에 의한 연마 자국을 억제할 수 있다. 또한, 피연마 가공물(K)이 아니라, 연마 부재(10)를 요동시키도록 해도 된다. 또한, 피연마 가공물(K) 및 연마 부재(10)를 함께 요동시키도록 해도 된다.The direction of swinging the workpiece K with respect to the direction of rotation of the
도 11에 도시하는 변형예의 연마 장치는, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 직교하는 방향으로 피연마 가공물(K)을 작게 진동시키는 진동 기구(70)를 구비하고 있다. 이 진동 기구(70)로서는, 예를 들어 초음파 진동을 이용한 기구 등, 적당한 기구를 채용할 수 있다.The polishing apparatus of the modification shown in Fig. 11 has a
이 변형예에서는, 연마 부재(10)를 회전시켜 피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마할 때, 진동 기구(70)를 작동시킨다. 이 진동 기구(70)의 작동에 의해, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 직교하는 방향(도 11에 도시하는 화살표 UD 방향)으로 피연마 가공물(K)은 작게 진동한다. 그리고, 이 피연마 가공물(K)의 진동에 의해, 회전 연마 중의 피연마 가공물(K)의 단부(KE)는, 연마면(11)의 곡면에 접촉한 상태에서 화살표 UD 방향으로 작게 왕복 운동한다. 이러한 단부(KE)의 왕복 운동에 의해, 단부(KE)의 연마 자국은 교차형으로 되어, 회전만의 연마와 비교하여 연마 자국은 작아진다. 따라서, 이 변형예에서도 회전 연마에 의한 연마 자국을 억제할 수 있게 된다.In this modified example, when the end portion KE of the workpiece K is polished by rotating the polishing
또한, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대한 피연마 가공물(K)의 진동 방향은, 반드시 직교 방향에 한정되는 것은 아니며, 연마 부재(10)의 회전 방향에 대하여 적어도 교차하는 방향으로 진동시키도록 하면, 연마 자국은 교차형으로 되므로, 회전 연마에 의한 연마 자국을 억제할 수 있다. 또한, 피연마 가공물(K)이 아니라, 연마 부재(10)를 진동시키도록 해도 된다. 또한, 피연마 가공물(K) 및 연마 부재(10)를 함께 진동시키도록 해도 된다.The vibration direction of the workpiece K to be polished with respect to the rotation direction of the polishing
덧붙여서 말하면, 상술한 왕복 이동 기구는, 상기 실시 형태의 변형예에 있어서의 연마 장치(예를 들어 앞서 도 3 등에 도시한 연마 장치 등)에도 마찬가지로 적용 가능하며, 이 경우에도 회전 연마에 의한 연마 자국을 억제할 수 있게 된다.Incidentally, the above-described reciprocating mechanism can be similarly applied to a polishing apparatus (for example, the polishing apparatus shown in Fig. 3 or the like) in the modified example of the above embodiment. In this case, Can be suppressed.
ㆍ앞서 도 2 등에 도시한 바와 같이, 상술한 실시 형태에서는, 연마면(11)에 대하여 피연마 가공물(K)을, 연마 부재(10)의 회전축과 직교하는 방향(도 2 등에 도시하는 화살표 X 방향)으로 압박함으로써, 피연마 가공물(K)의 단부(KE)를 연마하도록 하였다. 이 경우, 그렇게 하여 압박된 단부(KE)에 대해서는 연마할 수 있기는 하지만, 피연마 가공물(K)의 상면 및 하면, 즉 연마 부재(10)의 회전축이 직교하는 평면에 대하여 평행하게 되는 피연마 가공물(K)의 양면에 대해서는, 연마시에 압력이 그다지 걸리지 않으므로, 충분히 연마 가공하지 못할 우려가 있다. 따라서, 상술한 각종 기구 외에, 그러한 피연마 가공물(K)의 양면에 대하여 수직의 압력을 부여하는 압력 부여 기구를 더 구비하도록 해도 된다.As described above, in the above-described embodiment, the object to be polished K is applied to the polishing
도 12에, 그러한 압력 부여 기구의 일례에 대하여 개략 구성을 도시한다. 이 도 12에 도시하는 바와 같이, 압력 부여 기구는, 롤러(80)나 액추에이터(82) 등으로 구성되어 있다. 롤러(80)는 원반형이며 회전축(81)을 중심으로 회전한다. 또한, 롤러(80)의 외주면은, 연마 부재(10)의 상면(10U)에 있어서 그 외주 근방에 접촉하고 있고, 상면(10U)의 회전에 수반하여 롤러(80)도 회전한다. 또한, 롤러(80)와 상면(10U)은, 적어도 피연마 가공물(K)의 연마 중에 있어서 접촉하고 있으면 된다. 따라서, 롤러(80)와 상면(10U)은 항상 접촉해도 되고, 피연마 가공물(K)의 연마 중에만 접촉하도록 해도 된다.Fig. 12 schematically shows an example of such a pressure applying mechanism. As shown in Fig. 12, the pressure applying mechanism is constituted by a
액추에이터(82)는, 롤러(80)를 상면(10U)에 압박하는 기구이며, 전동식이나 유압식 등, 적당한 기구로 구성되어 있다. 피연마 가공물(K)의 연마 중에는, 액추에이터(82)의 작동에 의해 롤러(80)는 상면(10U)에 압박된다(도 12에 도시하는 화살표 VT 방향).The
이와 같이 하여 롤러(80)가 상면(10U)에 압박되면, 피연마 가공물(K)의 상면(KU)에는, 연마 부재(10)의 연마면(11)을 가압하는 압박력 F가 부여된다. 또한, 이와 같이 하여 상면(KU)에 압박력 F가 부여되면, 피연마 가공물(K)의 하면(KD)은, 그 하면(KD)이 접촉하는 연마 부재(10)의 연마면(11)에 압박되므로, 결과적으로, 피연마 가공물(K)의 하면(KD)에도, 피연마 가공물(K)의 상면(KU)과 마찬가지의 압박력 F가 부여된다. 이러한 피연마 가공물(K)의 상면(KU) 및 하면(KD)에 대한 압박력 F의 부여에 의해, 피연마 가공물(K)의 연마시에는, 단부(KE)뿐만 아니라, 상면(KU) 및 하면(KD)도 동시에 연마할 수 있게 된다. 덧붙여서 말하면, 도 12에 도시한 변형예에서는, 연마 부재(10)의 편면(상면(U))을 압력 부여 기구로 압박함으로써, 피연마 가공물(K)의 상면(KU) 및 하면(KD)에 대하여 압박력 F가 부여된다. 따라서, 연마 부재(10)의 양면에 압력 부여 기구를 설치하는 경우와 비교하여, 당해 압력 부여 기구의 설치수를 줄일 수 있다.When the
또한, 도 12에 도시한 변형예에서는, 롤러(80)를 액추에이터(82)로 압박하도록 했지만, 롤러(80)의 질량이 충분히 크고, 롤러(80)의 자중만으로 충분한 압박력 F를 부여할 수 있는 것이면, 액추에이터(82)를 생략해도 된다. 또한, 상기 변형예에서는, 연마 부재(10)의 편면을 압박하도록 했지만, 예를 들어 연마 부재(10)의 양면을 끼워 넣기 등을 하여 양면을 압박하도록 해도 된다. 이와 같이 하여 양면을 압박하도록 하면, 편면을 압박하는 경우와 비교하여, 예를 들어 연마 부재(10)의 왜곡 등을 억제할 수 있다. 또한, 연마시, 연마 부재(10)를 고정하고 피연마 가공물(K)을 회전시키는 경우에는, 롤러(80)를 회전 가능하게 구성할 필요가 없기 때문에, 이 경우에는, 예를 들어 롤러(80)를 단순한 누름돌 등으로 변경하는 것도 가능하다.12, the
10: 연마 부재
10U: (연마 부재의) 상면
11: 연마면
20: 정반
21: 제1 모터
30: 제2 모터
31: 회전축
32: 고정대
33: 모터 이동 기구
40: 가압 기구
50: 이동 기구
K: 피연마 가공물
KE: (피연마 가공물의) 단부
KU: (피연마 가공물의) 상면
KD: (피연마 가공물의) 하면
60: 요동 기구
70: 진동 기구
80: 롤러
81: 회전축
82: 액추에이터10: abrasive member
10U: Upper surface (of polishing member)
11: Polishing surface
20: Plate
21: First motor
30: Second motor
31:
32: Fixture
33: Motor moving mechanism
40:
50:
K: Abrasive workpiece
KE: End (of the workpiece to be polished)
KU: upper surface (of the abrasive article to be polished)
KD: (of the workpiece to be polished)
60:
70: vibration mechanism
80: Rollers
81:
82: Actuator
Claims (18)
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
And a moving mechanism for moving at least one of the abducted workpiece or the abrading member in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the abrading member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 제1 이동 기구와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 이동시키는 제2 이동 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
A first moving mechanism for moving at least one of the abducted workpiece or the abrading member in a tangential direction at an outer peripheral surface in the radial direction of the abrading member,
And a second moving mechanism for moving at least one of the workpiece to be polished or the polishing member in a direction orthogonal to the rotation axis of the polishing member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
And a rotating mechanism for rotating at least one of the workpiece to be polished or the polishing member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
And a pressing mechanism that presses at least one of the workpiece to be polished or the polishing member in a direction perpendicular to the rotation axis of the polishing member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
A moving mechanism for moving at least one of the abrading workpiece and the abrading member in a tangential direction on an outer circumferential surface of the abrading member in a radial direction,
And a rotating mechanism for rotating at least one of the workpiece to be polished or the polishing member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
A moving mechanism for moving at least one of the abrading workpiece and the abrading member in a tangential direction on an outer circumferential surface of the abrading member in a radial direction,
And a pressing mechanism that presses at least one of the workpiece to be polished or the polishing member in a direction perpendicular to the rotation axis of the polishing member.
상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖는 연마 부재와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 이동 기구와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 회전 기구와,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 가압 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.An apparatus for polishing a workpiece to be polished,
An abrasive member having a polishing surface in a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished;
A moving mechanism for moving at least one of the abrading workpiece and the abrading member in a tangential direction on an outer circumferential surface of the abrading member in a radial direction,
A rotating mechanism for rotating at least one of the workpiece to be polished or the polishing member,
And a pressing mechanism that presses at least one of the workpiece to be polished or the polishing member in a direction perpendicular to the rotation axis of the polishing member.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물의 연마시, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
The polishing member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished,
Wherein at least one of the workpiece to be polished or the abrasive member is moved in a tangential direction on an outer circumferential surface of the abrasive member in a radial direction when the abrasive product to be polished is polished.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물의 연마시, 상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 이동시키는 것을 행하는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
The polishing member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished,
At least one of the workpiece to be polished or the abrasive member is moved in a tangential direction at an outer circumferential surface of the abrasive member in the radial direction,
Wherein at least one of the workpiece to be polished or the polishing member is moved in a direction perpendicular to the rotation axis of the polishing member.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
The polishing member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished,
Wherein at least one of the workpiece to be polished and the polishing member is rotated.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 형상의 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
The polishing member has a polishing surface having a shape corresponding to the shape of the exposed portion of the workpiece to be polished,
Wherein at least one of the abrasive member and the abrasive member is pressed in a direction orthogonal to the rotation axis of the abrasive member.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것을 행하는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
Wherein the polishing member has a polishing surface along a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished,
At least one of the workpiece to be polished or the polishing member is moved in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member,
Wherein the polishing step comprises rotating at least one of the workpiece to be polished and the polishing member.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 행하는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
Wherein the polishing member has a polishing surface along a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished,
At least one of the workpiece to be polished or the polishing member is moved in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member,
Wherein at least one of the workpiece to be polished and the polishing member is pressed in a direction orthogonal to the rotation axis of the polishing member.
상기 연마 부재는, 상기 피연마 가공물의 피연마부의 형상을 따른 연마면을 갖고 있고,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을, 상기 연마 부재의 직경 방향의 외주면에서의 접선 방향으로 이동시키는 것과,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 회전시키는 것과,
상기 피연마 가공물 또는 상기 연마 부재 중 적어도 한쪽을 상기 연마 부재의 회전축에 대하여 직교하는 방향으로 가압하는 것을 행하는 것을 특징으로 하는 연마 방법.A method for polishing a workpiece to be polished with an abrasive member,
Wherein the polishing member has a polishing surface along a shape of an exposed portion of the workpiece to be polished,
At least one of the workpiece to be polished or the polishing member is moved in a tangential direction on the outer peripheral surface in the radial direction of the polishing member,
Rotating at least one of the abrasive product or the abrasive member,
Wherein at least one of the workpiece to be polished and the polishing member is pressed in a direction orthogonal to the rotation axis of the polishing member.
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