KR20160025441A

KR20160025441A - 묘화 장치

Info

Publication number: KR20160025441A
Application number: KR1020150088912A
Authority: KR
Inventors: 마사루 야마가; 슈이치 시미즈
Original assignee: 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼
Priority date: 2014-08-27
Filing date: 2015-06-23
Publication date: 2016-03-08
Anticipated expiration: 2035-06-23
Also published as: TW201608345A; TWI660246B; JP2016048273A; KR102333949B1; CN105388707A; CN105388707B; JP6465591B2

Abstract

[과제] 기판을 재치하는 묘화 테이블과; 상기 묘화 테이블과 상대 이동하고, 그 묘화 테이블 상의 기판에 패턴을 묘화하는 노광 묘화부;를 갖는 묘화 장치에 있어서, 기판에 형성하는 얼라이먼트 마크의 위치 오차가 적고, 기판의 평면 정밀도를 손상시키지 않는 묘화 장치를 얻는다. [해결 수단] 상기 묘화 테이블에, 상기 노광 묘화부에 대한 위치 기준을 설정하는 복수의 기준 마크와, 그 묘화 테이블 상에 재치된 기판의 이면에 얼라이먼트 마크를 형성하는, 상기 각 기준 마크에 대한 위치가 특정된 복수의 마크 형성 수단을 마련한 묘화 장치.

Description

묘화 장치{LITHOGRAPHY APPARATUS}

본 발명은, 전자 회로 기판, LCD용 유리 기판, PDP용 유리 기판 등의 평면 기판의 표리 양면에 패턴을 묘화(苗畵)하는 묘화 장치에 관한 것이다.

근년, 전사 마스크를 사용하지 않고 기판의 표리 양면에 상호 위치 관계를 정한 묘화광을 직접 조사해 패턴을 묘화하는 다이렉트 노광 장치(묘화 장치)가 시장에 대두하고 있다. 이 양면 노광시에는, 표면(제1면)에의 패턴 노광시에(혹은 노광에 앞서) 이면(제2면)에 복수의 얼라이먼트 마크를 노광(형성)하고, 기판의 표리를 반전시켜 실시하는 제2면에의 패턴 노광시에는, 제2면에 형성되어 있는 얼라이먼트 마크를 기준으로 패턴 노광 위치를 정하고 있다(특허문헌 1, 2). 얼라이먼트 마크는, 구체적으로는, φ2 mm 미만의 원형의 패턴, 십자 등의 지표가 이용되고, 노광하는 기판의 코너부에 포토레지스트(photoresist)의 자기 발색성을 이용한 상(像)(자기 발색상)으로서 광학적으로 마련하는 것이 일반적이다.

일본 공개특허 특개2009-294337호 공보 일본 공개특허 특개2013-213852호 공보

그렇지만, 특허문헌 1과 2의 묘화 장치는, 기판을 재치하는 묘화 테이블에 대해서 가동의 마크 형성 수단(얼라이먼트 마크 형성 수단, 마크 노광 장치)을 구비하고, 묘화 테이블(위에 재치한 기판)에 대해서 마크 형성 수단을 이동시키고, 기판 이면에 얼라이먼트 마크를 형성하고 있다. 이 때문에, 마크 형성 수단인 이동 기구의 피할 수 없는 기계 오차에 의해, 얼라이먼트 마크의 위치 오차를 포함할 가능성이 있다. 얼라이먼트 마크의 형성 위치에 오차가 있으면, 제2면의 묘화 패턴과 제1면의 묘화 패턴이 바르게 정합하지 않는다. 또 묘화면의 신축(伸縮) 등의 스케일링 보정을 거칠 때에, 실제의 기판 신축과 다른 보정을 거쳐 버리게 된다.

또 종래 장치는, 묘화 테이블에 대해서 위치 조절 가능한 마크 형성 수단을 마련하지 않으면 안되기 때문에, 장치 전체의 대형화를 피할 수 없다. 또한, 특허문헌 2는 마크 형성 수단을 이동시키기 위해, 묘화 테이블 표면에 마크 형성 수단의 회피부(홈부)를 마련하고 있다.

이 때문에, 이 회피부에서는 기판 이면을 지지할 수 없고, 패턴의 묘화 정밀도(기판의 평면 정밀도)에 악영향을 미칠 가능성이 있다.

따라서 본 발명은, 기판에 형성하는 얼라이먼트 마크의 위치 오차가 적고, 기판의 평면 정밀도를 손상시키지 않는 묘화 장치를 얻는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 종래의 묘화 장치에서는, 기판을 재치하는 묘화 테이블에 대해서, 마크 형성 수단을 가동으로 하고 있었던 것이 얼라이먼트 마크의 형성 위치의 오차의 원인이라고 특정하여, 묘화 테이블 내에, 그 묘화 테이블 상에 재치한 기판의 이면에 직접 얼라이먼트 마크를 형성하는 형성 수단을 마련하면, 오차의 발생을 방지할 수 있다고 하는 착안에 근거해서 이루어진 것이다.

즉, 본 발명의 묘화 장치는, 기판을 재치하는 묘화 테이블과; 상기 묘화 테이블과 상대 이동하고, 그 묘화 테이블 상의 기판에 패턴을 묘화하는 노광 묘화부;를 갖는 묘화 장치에 있어서, 상기 묘화 테이블에, 상기 노광 묘화부에 대한 위치 기준을 설정하는 복수의 기준 마크와, 그 묘화 테이블 상에 재치된 기판의 이면에 얼라이먼트 마크를 형성하는, 상기 각 기준 마크에 대한 위치가 특정된 복수의 마크 형성 수단을 마련한 것을 특징으로 하고 있다.

상기 묘화 테이블은, 예를 들면, 테이블 본체와, 그 테이블 본체 상에 위치하는 커버 플레이트로 구성하고, 상기 마크 형성 수단은, 상기 커버 플레이트에 천설(穿設)한 적어도 하나의 관통공과, 상기 관통공으로부터 마크 형성광을 출사하는, 상기 테이블 본체에 지지된 마크 형성 광원으로 구성할 수 있다.

상기 마크 형성 수단을 형성하는 상기 관통공은, 상기 커버 플레이트에 복수를 천설할 수 있고, 상기 테이블 본체에는, 상기 복수의 관통공 중 선택한 관통공에 마크 형성광을 출사하는 마크 형성 광원을 구비할 수 있다.

상기 기준 마크와 마크 형성 수단은, 구체적으로는, 상기 묘화 테이블 상에 재치되는 기판의 주연부의 대향하는 2변(邊)에 위치시켜 각각 한 쌍씩을 구비할 수 있다.

상기 노광 묘화부는, 상기 기준 마크 및 얼라이먼트 마크를 촬상하는 촬상 수단을 구비할 수 있다. 그리고, 상기 기판 표면에 대한 패턴의 묘화는, 상기 촬상 수단이 촬상한 기준 마크 위치 정보에 근거하여 설정된 좌표계에 의해서 실행하고, 상기 기판의 표리를 반전시켜 실시하는 기판 이면에 대한 패턴의 묘화는, 상기 촬상 수단이 촬상한 얼라이먼트 마크 위치 정보에 근거하여 설정된 좌표계에 의해서 실행할 수 있다.

상기 기준 마크는, 일 실시 형태에서는, 가시광원으로부터의 스포트 마크(spot mark)이다.

본 발명에서는, 기판을 재치하는 묘화 테이블이, 기판 이면에 얼라이먼트 마크를 형성하는 마크 형성 수단을 구비하기 때문에, 얼라이먼트 마크 형성 위치에 기계적 오차 요인(마크 형성 수단의 이동 오차 등)이 생기지 않는다. 본 발명에 의하면, 간소한 구성이면서 기판 표리에 묘화하는 패턴의 위치 맞춤을 정밀도 좋게 실시할 수 있다. 또, 묘화 테이블 표면을 평활하게 유지할 수 있고, 재치한 기판을 주변부까지 한결같이 높은 평면성으로 흡착 보관 유지할 수 있다.

[도 1] 본 발명에 의한 묘화 장치의 전체 구성을 나타내는 사시도이다.
[도 2] 도 1의 묘화 장치의 묘화 테이블의 일 실시 형태를 나타내는 분해 사시도이다.
[도 3] 동(同) 묘화 테이블의 평면도이다.
[도 4] 도 3의 IV-IV 선에 따르는 단면도이다.
[도 5] 기판의 표면(제1면)에 묘화할 때의 모식 평면도이다.
[도 6] 기판의 이면(제2면)에 묘화할 때의 모식 평면도이다.

도 1은, 본 발명의 묘화 장치(100) 전체의 구성 개념도이다. 묘화 장치(100)는, 베이스(11)와, 베이스(11)의 양측부로부터 입설된 게이트(12)와, 이 게이트(12) 상에 지지된 노광 묘화부(30)를 구비하고 있다.

베이스(11) 상에는, 표리에 감광성 재료를 도포한 기판(W)을 재치하는 묘화 테이블(15)이 배치되어 있다. 이 묘화 테이블(15)는, 레일(14)을 따라서 예를 들면 리니어 모터 이동 수단에 의해 X 방향으로 이동 가능하다. 이하, 수평면 내에 있어서 X 방향과 직교하는 방향을 Y 방향, 수직면 내에서 X 방향과 직교하는 방향을 Z 방향으로 한다.

노광 묘화부(30)의 전면(前面)에는, Y 방향으로 뻗은 슬라이드(13)가 설치되어 있고, 슬라이드(13)에는 Y 방향으로 이간시켜 한 쌍의 얼라이먼트 카메라(촬상 수단)(AC)가 설치되어 있다. 슬라이드(13)는 리니어 모터 구동 또는 스테핑 모터 구동에서 얼라이먼트 카메라(AC)를 Y 방향의 임의의 위치로 이동시킨다.

노광 묘화부(30)는, 광원부(20)를 구비하고 있다. 광원부(20)는, 동일한 내부 구성을 갖는 2개의 광원부(20a)와 광원부(20b)로 구성되어 있다. 광원부(20a)와 광원부(20b)는 동일한 구성이므로 광원부(20a)를 대표해서 설명한다.

광원부(20a)는, UV 램프(21)와, 제1 전반사 미러(22)와, 콘덴서 렌즈(23)와, 제2 전반사 미러(24)와, 플라이 아이 렌즈(Fly-eye lens)(25)와, 조리개(aperture)(미도시)로 구성되어 있다. 광원부(20a)는 UV 램프(21)를 구비하고 있고, UV 램프(21)로부터는 365 nm에서 440 nm까지의 각종의 파장이 혼재한 자외광이 사출된다.

UV 램프(21)로부터 사출된 자외광은, 타원 미러(26)에 의해 하늘 방향(+Z축 방향)으로 조사되어, 제1 전반사 미러(22)에 의해 수평 방향으로 방향을 바꾸어, 콘덴서 렌즈(23)에서 집광되고, 제2 전반사 미러(24)에서 지면 방향(-Z축 방향)으로 방향을 바꾼다. 방향을 바꾼 자외광은 플라이 아이 렌즈(25) 및 조리개를 거쳐 4 분기(分岐)된 빔이 된다. 빔은 다시 8개의 제1 투영 렌즈(33)와, 8개의 반사 미러(34)를 경유하고, 8개의 DMD(Digital Micro-mirror Device) 소자(36)에 입사함으로써 제어된 빔이 된다. 이 제어된 빔은 제2 투영 렌즈군(37)을 통과함으로써, 투영하는 노광 묘화의 배율을 조정하고, 기판(W)에 조사된다. 즉, 묘화 장치(100)는, 소망하는 노광 상이 미리 수납되어 있는 묘화 데이터에 따라, 광원부(20a) 및 광원부(20b)의 자외광을 제어한다.

묘화 테이블(15)은, 테이블 본체(하부 테이블)(15Q)와, 그 테이블 본체(15Q) 상의 커버 플레이트(15P)를 구비하고 있다. 도 2 내지 도 4는 묘화 테이블(15)의 상세를 나타내고 있다. 묘화 테이블(15)은, 외면이 XYZ의 직교 삼평면 방향으로 뻗은 직방체 모양을 이루고 있다. 테이블 본체(15Q)와 커버 플레이트(15P)는, X 방향과 Y 방향의 치수는 동일하고, 커버 플레이트(15P)는 테이블 본체(15Q)보다 Z 방향의 두께가 얇다. 테이블 본체(15Q)와 커버 플레이트(15P)는 도 2에 모식적으로 나타내듯이 분해 가능하고, 예를 들면 도시하지 않은 위치 결정 장치 및 흡착 장치에 의해서, 정규 위치에서 고정되어 묘화 테이블(15)을 구성한다(도 1, 도 3, 도 4).

직사각형의 묘화 테이블(15)의 기판 재치면의 네 귀퉁이에는 각각, 하나의 기준 마크(41)와, 각 기준 마크(41)에 대응하는 얼라이먼트 마크를 형성하는 마크 형성 수단(42)이 마련되어 있다. 즉, 묘화 테이블(15) 상에는, 복수의 기준 마크(41)와, 각 기준 마크(41)에 대응하는 복수의 마크 형성 수단(42)이 마련되어 있다.

각 기준 마크(41)는, 커버 플레이트(15P)에 형성한 하나의 기준 마크홀(관통공)(41h)과 테이블 본체(15Q)에 지지한 기준 마크 형성 광원(41j)에 의해서 형성되어 있다. 마크 형성 수단(42)은, 커버 플레이트(15P)에 형성한 복수(도시 실시 형태에서는 4개)의 얼라이먼트 마크홀(관통공)(42h)과, 테이블 본체(15Q)에 각 얼라이먼트 마크홀(42h)에 대응시켜 지지한 4개의 얼라이먼트 마크 형성 광원(42j)에 의해서 형성되어 있다. 기준 마크 형성 광원(41j)은, 적색(가시광) LED로 이루어지고, 반사 소자(41k)로 반사된 광이 기준 마크홀(41h)에서 Z 방향(얼라이먼트 카메라(AC) 방향)으로 출사된다. 얼라이먼트 마크 형성 광원(42j)은, 자외 LED로 이루어지고, 얼라이먼트 마크홀(42h)로부터 직접 Z 방향으로 출사된다. 기준 마크 형성 광원(41j)과 얼라이먼트 마크 형성 광원(42j)은, 회로 기판(43)(도 4) 상에 고정되어 있고, 이 회로 기판(43)과 반사 소자(41k)는, 테이블 본체 (15Q)에 형성한 요부(凹部)(15r) 내에 배설(配設)되어 있다.

1개의 기준 마크홀(41h)(기준 마크 형성 광원(41j))과 4개의 얼라이먼트 마크홀(42h)(얼라이먼트 마크 형성 광원(42j))은, 노광 묘화부(30)에 탑재되어 있는 동일한 얼라이먼트 카메라(AC)에 의한 촬상을 용이하게 하도록, X 방향으로 일렬로 정렬시켜 형성되어 있다. 도 3, 도 4에 나타내듯이, 도시예에서는, 마크 형성 수단(42)의 각 얼라이먼트 마크홀(42h)의 간격은 동일하고, 기준 마크(41)는, 이러한 마크 형성 수단(42)에 대해서, 얼라이먼트 마크홀(42h)끼리의 간격 이상으로 떨어져 있다.

1개의 기준 마크(41)와 4개의 마크 형성 수단(42)의 위치 관계는, 묘화 테이블(15) 상에서 고정이며, 상호의 위치 관계(XY 평면 상에서의 좌표계)는 엄밀하게 인식할 수 있다(인식되고 있다). 이 때문에, 얼라이먼트 카메라(AC)가 마크 형성 수단(42)(기준 마크(41))을 촬상해 마크의 위치를 구하는 것은, 기준 마크(41)(마크 형성 수단(42)에 의해서 형성되는 얼라이먼트 마크)의 위치를 구하고 있는 것과 동일하다.

또, 묘화 테이블(15) 상의 네 귀퉁이의 기준 마크(41)는, 마크 형성 수단(42)보다 외측에 위치하도록 배치되어 있고, 기준 마크(41)와 마크 형성 수단(42)의 사이에, 기판 누름(17)이 위치하고 있다. 기판 누름(17)은, 묘화 테이블(15) 상에 재치된 기판(W)의 가장자리부(X 방향의 양측 가장자리부)를 지지하는 것으로, 적어도 묘화 테이블(15) 표면에 대해서 접리(接離)하는 방향(Z 방향)으로 가동이다.

묘화 테이블(15) 상에 재치되는 기판(W)의 평면 사이즈는 여러 가지이기 때문에, 기판 누름(17)은 X 방향에도 가동인 것이 바람직하다. 그러나, 기판(W)이 기판 누름(17)을 넘어 기준 마크(41) 방향으로 돌출하는 일은 없다. 즉, 묘화 테이블(15) 상에 재치되는 기판(W)의 크기에 관계 없이, 기준 마크(41)가 기판(W)에 의해서 차단되는 일은 없다. 이것에 대해, 기판(W)의 크기에 의하지 않고, 마크 형성 수단(42)의 4개의 얼라이먼트 마크홀(42h)(의 적어도 하나)은, 기판(W)에 의해서 차단된다.

묘화 테이블(15)의 커버 플레이트(15P)의 표면에는, 도 2에 모식적으로 나타내듯이 주지의 무수한 흡인홀(15v)이 개구되어 있고, 이러한 흡인홀(15v)은, 테이블 본체(15Q)에 설치된 흡인 커넥터(15c)를 통해서 제어장치(18) 및 진공원(19)에 접속되어 있다.

상기 구성의 묘화 장치(100)에 의해, 예를 들면 다음과 같은 스텝에서, 기판(W)의 표리면에 대한 패턴의 묘화가 행해진다. 기판(W)의 표리에 묘화 장치(100)에 의해서 그려지는 패턴(예를 들면 회로 패턴)으로서, 편의상(이해를 용이하게 하기 위해), 기판(W)의 표면에는, 도 5에 나타내는 「P」의 문자(L)가 묘화되고, 이면에는 도 6에 나타내는 틀(F)이 묘화되는 것으로 한다. 또 테이블 본체(15Q)와 커버 플레이트(15P)는 미리 정규의 위치 관계로 고정되어, 베이스(11)(레일(14)) 상에 묘화 테이블(15)로서 지지되어 있는 것으로 한다.

제1 스텝

묘화 테이블(15)의 커버 플레이트(15P) 상에 기판(W)이 재치된다. 기판(W)이 미도시의 반송 장치에 의해서 재치되는 경우는, 미리 프리 얼라인먼트(예비 위치 결정)된 기판(W)이 재치되므로, 이 시점에서 기판은 대략의 위치 결정이 되어 있다. 작업자가 손으로 기판(W)을 재치하는 경우는, 커버 플레이트(15P)에 마련된 기준에 의해서 위치 결정된다. 손으로 설치하는 경우에 대비하여, 묘화 테이블(15)(커버 플레이트(15P) 또는 테이블 본체 (15Q))에 기판 위치 결정용의 치구를 마련해도 좋다. 기판 위치 결정용의 치구는, 예를 들면 커버 플레이트(15P) 상에 쓰여진 라인, 혹은 위치 결정 핀 등이 이용된다. 기판(W)에 대한 XY 좌표계는, 얼라이먼트 카메라(AC)에 의해서 촬상되는 묘화 테이블(15) 상의 4개소의 기준 마크(41)의 위치 및 4개소의 마크 형성 수단(42)에 의해서 형성되는 얼라이먼트 마크의 위치에 의해서 정해지므로, 커버 플레이트(15P) 상에의 기판(W)의 엄밀한 위치 맞춤은 불필요하다.

제2 스텝

커버 플레이트(15P)에 재치된 기판(W)이, 흡인홀(15v), 제어장치(18), 진공원(19)에 의해서 진공 흡착되고, 또 기판 누름(17)에 의해서 클램프된다. 기판 누름(17)은 미리 지시되어 있던 위치로 이동하고, 기판(W)을 커버 플레이트(15P)에 밀어붙인다.

제3 스텝

묘화 테이블(15) 및 슬라이드(13)가 이동하고, 묘화 테이블(15) 상의 4개소의 기준 마크(41)의 상(스포트 마크)을 얼라이먼트 카메라(AC)가 촬상한다(얼라이먼트 카메라(AC)가 상대적으로 각 기준 마크(41) 상으로 이동한다). 즉, 기준 마크 형성 광원(41j)으로부터의 적색 LED의 광이 반사 소자(41k)로 반사하여 기준 마크홀(41h)로부터 출사하고, 얼라이먼트 카메라(AC)는, 묘화 테이블(15)의 X 방향 이동에 수반하여, 4개의 기준 마크(41)를 인식한다(도 5). 얼라이먼트 카메라(AC)가 촬상한 4개의 기준 마크(41)의 위치 정보는, 위치 결정 장치에 송신되어, 묘화 테이블(15) 상에서의 기준 마크(41)에 의한 XY좌표계가 정해진다.

제4 스텝

마크 형성 수단(42)의 4개의 얼라이먼트 마크 형성 광원(42j)의 어느 1개가 기판(W)의 이면(제2면)에 자외광을 조사하고, 얼라이먼트 마크홀(42h)의 형태의 자기 발색상(얼라이먼트 마크(AM)(도 6))를 형성한다. 복수 있는 마크 형성 수단(42)의 어느 것을 이용하여 조사를 실시할 지는, 기판 사이즈에 의해서(레시피 등을 이용하여) 미리 정해져 있다. 선택된 마크 형성 수단(42) 이외의 광원(42j)은 점등하지 않는다. 조사 시간은, 일례에서는 약 10초이다. 한편, 이 제4 스텝은 다른 스텝과 평행하게 실시하는 것이 가능하고, 또, 제3 스텝의 개시전에 실시해도 좋다.

제5 스텝

위치 결정 장치는, 기준 마크(41)에 근거하는 묘화 테이블(15) 상에서의 XY 좌표계로부터, 기판 이면의 얼라이먼트 마크(AM)에 근거하는 XY 좌표계를 정한다. 기준 마크(41)에 의한 XY 좌표계를 이용하는 것도 가능하지만, 묘화는 기판(W) 상에 실시하는 것이기 때문에, 기판(W) 상의 얼라이먼트 마크(AM)에 의한 XY 좌표계를 이용하는 것이 바람직하다. 그리고, 이 기판 이면의 얼라이먼트 마크(AM)의 형성 위치에 따라 패턴 묘화 위치와 기판 위치를 상대적으로 위치 맞춤한다. 이 상대적 위치 맞춤은, 노광 묘화부(30)가 묘화 패턴 데이터를 보정하여 묘화 위치를 오프셋시켜 실시하거나, 혹은, 묘화 테이블(15)을 XYθ 방향으로 이동시키는 것으로 실시할 수 있다. θ 방향은, Z 방향과 평행한 방향의 회전 방향이다.

이러한 상대적 위치 맞춤 기술은 잘 알려져 있고, 필요에 따라서 적절한 방법을 채용할 수 있다.

제6 스텝

기판(W)의 표면(제1면)에 패턴(도시예에서는 문자(L))의 묘화가 행해진다. 패턴의 묘화는 노광 묘화부(30)와 묘화 테이블(15)(기판(W))과의 상대 이동에 의해서 실시한다. 본 실시 형태에서는, 묘화 테이블(15)이 X 방향으로 연속적으로 이동할 때에, 노광 묘화부(30)가 묘화광을 기판(W)에 연속적으로 조사한다. 패턴의 묘화는, 주지의 다중 노광 기술에 의해서 실시한다.

제7 스텝

표면(제1면)의 패턴 묘화가 종료한 기판(W)을 묘화 테이블(15) 상으로부터 반출한다. 반출된 기판(W)은 반전되어, 이면(제2면)이 위가 된다. 반출 및 반전 작업은 미도시의 반송 장치에 의해서 실시하거나, 작업자가 손으로 실시한다.

제8 스텝

묘화 테이블(15)의 커버 플레이트(15P) 상에 반전한 기판(W)이 재치된다(도 6). 또한, 이 때의 묘화 테이블(묘화 장치)은 제1 스텝과 같은 장치여도 좋고, 혹은 다른 묘화 장치여도 좋다. 제1 스텝과 같이, 기판(W)은 프리 얼라인먼트된 상태로 재치된다.

제9 스텝

제2 스텝과 같이, 커버 플레이트(15P) 상에 재치된 기판(W)이 진공 흡착되고, 또 기판 누름(17)에 의해서 클램프되어 고정된다.

제10 스텝

얼라이먼트 카메라(AC)가 기판(W)의 이면(제2면)에 형성된 얼라이먼트 마크(AM)의 위치로 상대적으로 이동하다. 얼라이먼트 카메라(AC)에 구비된 반사 조명에 의해 얼라이먼트 마크(AM)를 촬상하고, 위치 결정 장치에 화상을 송신한다(도 6).

제11 스텝

위치 결정 장치가 얼라이먼트 카메라(AC)로부터의 화상으로부터 얼라이먼트 마크(AM)의 위치를 구하고, 제4 스텝과 같이, 패턴 묘화 위치와 기판 위치를 상대적으로 위치 맞춤한다(도 6). 또, 이 때에 상대적 위치 맞춤뿐만 아니고, 기판 신축에 대응하여 묘화 데이터의 형상을 보정해도 좋다. 이것은, 표면(제1면)에의 노광 묘화 후에, 온도 변화 등의 영향으로 기판이 신축하는 일이 있으므로, 그 변형에 의한 패턴 묘화 위치의 오차를 보정하기 위해 행해진다.

제12 스텝

제6 스텝과 같이, 기판(W)의 이면(제2면)에 패턴(틀(F))의 묘화가 행해진다(도 6).

제13 스텝

이면(제2면)의 패턴 묘화가 종료한 기판(W)을 묘화 테이블(15) 상으로부터 반출하고, 다음의 공정으로 반송한다.

이상의 실시 형태에서는, 1개의 기준 마크(41)에 대해, 복수(4개)의 마크 형성 수단(42)을 마련하고 있지만, 기판(W)의 평면 사이즈에 따라서는, 1개의 기준 마크(41)에 대해서 1개의 마크 형성 수단(42)을 대응시켜도 좋다. 복수의 마크 형성 수단(42)을 마련하는 경우, 이상의 실시 형태에서는 1열로 늘어놓아 배치하고 있지만, 1열 배치일 필요는 없고, 기판 사이즈에 따라 기준 마크에 대해서 정해진 위치에 얼라이먼트 마크를 형성할 수 있도록 복수의 마크 형성 수단(42)을 배열하면 좋다.

또, 기판(W)에 따라 커버 플레이트(15P)를 교환하도록 해도 좋다. 그렇게 함으로써, 다양한 종류의 기판과, 마킹 위치에 대응할 수가 있다.

또, 기준 마크(41)와 마크 형성 수단(42)의 광원은 LED가 아니어도 좋고, 또 광의 파장은, 기판에 도포 또는 붙여진 감광 재료의 감도에 따라서, 자기 발색상이 충분히 형성되는 파장이 적당하게 선정된다.

기준 마크(41)는, 얼라이먼트 카메라(AC)에 의해서 촬상되어 위치가 특정되는 것이면 비발광성(예를 들면 인쇄물)이어도 좋다.

100 묘화 장치
11 베이스
15 묘화 테이블
15c 흡인 커넥터
15r 요부(凹部)
15v 흡인홀
15P 커버 플레이트
15Q 테이블 본체
17 기판 누름
18 제어장치
19 진공원
20 광원부
30 노광 묘화부
41 기준 마크
41h 기준 마크홀
41j 기준 마크 형성 광원
41k 반사 소자
42 마크 형성 수단
42h 얼라이먼트 마크홀
42j 얼라이먼트 마크 형성 광원
43 회로 기판
AC 얼라이먼트 카메라(촬상 수단)
AM 얼라이먼트 마크
W 기판

Claims

기판을 재치하는 묘화 테이블과; 상기 묘화 테이블과 상대 이동하고, 그 묘화 테이블 상의 기판에 패턴을 묘화하는 노광 묘화부;를 갖는 묘화 장치에 있어서,
상기 묘화 테이블에, 상기 노광 묘화부에 대한 위치 기준을 설정하는 복수의 기준 마크와, 그 묘화 테이블 상에 재치된 기판의 이면에 얼라이먼트 마크를 형성하는, 상기 각 기준 마크에 대한 위치가 특정된 복수의 마크 형성 수단을 마련한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제1항에 있어서,
상기 묘화 테이블은, 테이블 본체와, 그 테이블 본체 상에 위치하는 커버 플레이트를 갖고, 상기 마크 형성 수단은, 상기 커버 플레이트에 천설(穿設)한 적어도 하나의 관통공과, 상기 관통공으로부터 마크 형성광을 출사하는, 상기 테이블 본체에 지지된 마크 형성 광원으로 이루어지는 묘화 장치.
제2항에 있어서,
상기 마크 형성 수단을 형성하는 상기 관통공은, 상기 커버 플레이트에 복수가 천설되고, 상기 테이블 본체에는, 상기 복수의 관통공 중 선택한 관통공에 마크 형성광을 출사하는 마크 형성 광원이 구비되어 있는 묘화 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기준 마크와 마크 형성 수단은, 상기 묘화 테이블 상에 재치되는 기판의 주연부의 대향하는 2변에 위치시켜 각각 한 쌍씩이 구비되어 있는 묘화 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노광 묘화부는, 상기 기준 마크 또는 얼라이먼트 마크를 촬상하는 촬상 수단을 갖고, 상기 기판 표면에 대한 패턴의 묘화는, 상기 촬상 수단이 촬상한 기준 마크 위치 정보에 근거하여 설정된 좌표계에 의해서 실행되고, 상기 기판의 표리를 반전시켜 실시하는 기판 이면에 대한 패턴의 묘화는, 상기 촬상 수단이 촬상한 얼라이먼트 마크 위치 정보에 근거하여 설정된 좌표계에 의해서 실행되는 묘화 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기준 마크는 가시광원으로부터의 스포트 마크인 묘화 장치.