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KR20150136855A - Photosensitive resin composition for light extraction, organic light emitting display device and method of manufacturing the same - Google Patents

Photosensitive resin composition for light extraction, organic light emitting display device and method of manufacturing the same Download PDF

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KR20150136855A
KR20150136855A KR1020140064462A KR20140064462A KR20150136855A KR 20150136855 A KR20150136855 A KR 20150136855A KR 1020140064462 A KR1020140064462 A KR 1020140064462A KR 20140064462 A KR20140064462 A KR 20140064462A KR 20150136855 A KR20150136855 A KR 20150136855A
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Abstract

광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 그 자체가 감광성 물질로 이루어지므로, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 제조하는 경우 보다 단순한 공정이 사용될 수 있으며, 패터닝된 형상의 광산란층의 제조가 가능하다.There is provided a photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device, and a method of manufacturing an organic light emitting display device. The photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent. The light extracting dispersion has dispersed particles for light extraction. Since the photosensitive resin composition for light extraction is itself made of a photosensitive material, a simple process can be used in the case where the light-scattering layer of the organic light emitting display device is manufactured by using the photosensitive resin composition for light extraction, . ≪ / RTI >

Description

광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT EXTRACTION, ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device, and a method of manufacturing the organic light emitting display device. BACKGROUND ART < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키는 광산란층을 형성하기 위한 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물과 이를 사용한 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting diode display, and a method of manufacturing the organic light emitting diode display. More particularly, the present invention relates to a photolithography method for forming a light scattering layer An organic light emitting display using the same, and a method of manufacturing an organic light emitting display.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 색상 구현, 응답 속도, 시야각, 명암 대비비(contrast ratio; CR)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.The organic light emitting display device is a self-emission type display device, unlike a liquid crystal display device, a separate light source is not required, and thus it can be manufactured in a light and thin shape. Further, the organic light emitting display device is not only advantageous from the viewpoint of power consumption by low voltage driving, but also excellent in color implementation, response speed, viewing angle, and contrast ratio (CR), and is being studied as a next generation display.

바텀 에미션(bottom emission) 방식의 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 소자에서 발광된 빛이 유기 발광 표시 장치 하부로 방출되는 유기 발광 표시 장치를 의미하는 것으로서, 유기 발광 소자에서 발광된 빛이 유기 발광 표시 장치를 구동하기 위한 박막 트랜지스터가 형성된 기판의 하면 방향으로 방출되는 유기 발광 표시 장치를 의미한다. 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층에서 발광된 광은 광의 전파 경로를 기준으로 크게 ITO/organic 모드(이하, 'ITO 모드'라 함), 기판(substrate) 모드 및 공기(air) 모드로 나눌 수 있다. 공기 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 유기 발광 표시 장치 외부로 추출되는 광을 지칭하고, 기판 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 기판에서의 전반사에 의해 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광을 지칭하고, ITO 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 일반적으로 ITO로 형성되는 애노드에서의 전반사에 의해 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광을 지칭한다. 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치에서 ITO 모드로서 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광은 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 50%이고, 기판 모드로서 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광은 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 30%인 바, 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 80%의 광이 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히게 되고, 약 20%의 광만이 외부로 추출되어, 유기 발광 표시 장치의 광 추출 효율을 향상시키는 것은 매우 중요한 연구 분야이다.The bottom emission type organic light emitting display device refers to an organic light emitting display device in which light emitted from an organic light emitting device is emitted to a lower portion of the organic light emitting display device, Refers to an organic light emitting display device that emits in the direction of a bottom surface of a substrate on which a thin film transistor for driving an apparatus is formed. The light emitted from the organic emission layer of the bottom emission type organic light emitting display device is divided into ITO / organic mode (hereinafter referred to as 'ITO mode'), substrate mode and air mode . The air mode refers to light extracted from the organic light emitting layer to the outside of the organic light emitting display, and the substrate mode refers to light trapped inside the organic light emitting display by total reflection in the substrate among the light emitted from the organic light emitting layer , And the ITO mode refers to light confined in the organic light emitting display device by total reflection at the anode, which is generally formed of ITO among light emitted from the organic light emitting layer. In the bottom emission type organic light emitting display, light confined in the organic light emitting display as an ITO mode is about 50% of the light emitted from the organic light emitting layer. Light trapped in the organic light emitting display as a substrate mode is emitted About 30% of the light emitted from the organic light emitting layer, about 80% of the light emitted from the organic light emitting layer is trapped in the OLED, only about 20% of the light is extracted to the outside, Is a very important research area.

광 추출 효율을 개선하기 위해 광을 산란시킬 수 있는 입자를 포함하는 광산란층을 사용하는 기술이 사용되었으며, 구체적으로 광산란층을 기판 전면에 걸쳐서 형성하는 기술이 사용되었다. 그러나, 광산란층이 기판 전면에 형성되는 경우, 특정 화소의 발광 영역에서 발광된 광이 해당 발광 영역 이외의 영역에 위치하는 광산란층을 통해 기판 외부로 추출되어, 블러링(blurring) 현상이 발생할 수 있다. 이에, 광산란층을 패터닝하여 형성하는 것을 고려해볼 수 있으나, 종래에 사용되던 광산란층은 포토 패터닝이 불가능한 재료로 형성되었으므로, 광산란층을 패터닝하기 위한 에칭 공정이 요구되었다. 그러나, 이와 같은 에칭 공정 중에 광산란층 주변의 다른 엘리먼트들이 손상될 수 있어, 현실적으로 광산란층 패터닝이 불가능한 문제점이 존재한다.A technique using a light scattering layer including particles capable of scattering light is used in order to improve the light extraction efficiency, and a technique of forming a light scattering layer over the entire surface of the substrate has been used. However, when the light-scattering layer is formed on the entire surface of the substrate, the light emitted from the light-emitting region of the specific pixel is extracted to the outside of the substrate through the light-scattering layer located in a region other than the light-emitting region to cause blurring have. However, since the conventional light scattering layer is formed of a material which can not be photo-patterned, an etching process for patterning the light scattering layer has been required. However, during the etching process, other elements around the light scattering layer may be damaged, so that there is a problem that the light scattering layer patterning is practically impossible.

[관련기술문헌] [Related Technical Literature]

1. 유기 EL 표시 장치의 제조 방법 (일본특허출원번호 제 2004-285430 호)1. Manufacturing Method of Organic EL Display Device (Japanese Patent Application No. 2004-285430)

2. 유기 LED 소자의 산란층용 유리 및 유기 LED 소자 (한국특허출원번호 제 10-2013-7003088 호)2. Glass for scattering layer of organic LED device and organic LED device (Korean Patent Application No. 10-2013-7003088)

본 발명의 발명자들은 상술한 바와 같은 종래의 광산란층을 사용함에 의해 발생하는 문제점들을 해결하기 위해, 자체가 포토 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 발명하였으며, 이를 사용하여 형성된 광산란층을 포함하는 새로운 구조의 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 발명하였다.The inventors of the present invention have invented a novel composition of a photosensitive resin composition for light extraction capable of photopatterning in order to solve the problems caused by using the conventional light scattering layer as described above, And a method of manufacturing the same.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 별도의 에칭 공정을 수행함이 없이 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a novel photosensitive resin composition for light extraction that can be patterned without performing a separate etching process.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하여 다른 엘리먼트의 손상 없이 광산란층을 유기 발광 표시 장치 내부에 형성하고, 광산란층의 크기를 조절할 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to form a light scattering layer from a photosensitive resin composition for light extraction of a new composition to form a light scattering layer inside the organic light emitting display device without damaging other elements, Emitting display device and a method of manufacturing the organic light-emitting display device.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 유기 발광 표시 장치의 효율 향상을 통해 증가된 수명 및 감소된 소비 전력을 갖는 유기 발광 표시 장치를 제공하고, 보다 단순한 공정이 사용되는 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an organic light emitting diode display having increased lifetime and reduced power consumption by improving the efficiency of the organic light emitting diode display, .

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 광산란층을 사용함에 의해 감소된 두께를 갖는 유기 발광층을 갖고, 이에 따라 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력 모두가 감소된 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an organic light emitting diode display having reduced organic light emitting layer having a reduced thickness by using a light scattering layer and having reduced manufacturing cost, manufacturing time, driving voltage and power consumption, And a display device manufacturing method.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물이 제공된다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 그 자체가 감광성 물질로 이루어지므로, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 제조하는 경우 보다 단순한 공정이 사용될 수 있으며, 패터닝된 형상의 광산란층의 제조가 가능하다.There is provided a photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention. The light-sensitive resin composition for light extraction includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a light-extracting dispersion, a photopolymerization initiator and a solvent. The light extracting dispersion has dispersed particles for light extraction. Since the photosensitive resin composition for light extraction is itself made of a photosensitive material, a simple process can be used in the case where the light-scattering layer of the organic light emitting display device is manufactured by using the photosensitive resin composition for light extraction, . ≪ / RTI >

본 발명의 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고, 불포화성 에틸렌계 모노머는 총 중량 대비 5 내지 70 중량%이고, 광추출용 분산액은 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고, 광중합 개시제는 총 중량 대비 0.5 내지 20 중량%이고, 용매는 총 중량 대비 20 내지 90 중량%인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the alkali-soluble resin is 5 to 50 wt% based on the total weight, the unsaturated ethylenic monomer is 5 to 70 wt% based on the total weight, the light extracting dispersion contains 5 to 50 wt% %, The photopolymerization initiator is 0.5 to 20 wt% based on the total weight, and the solvent is 20 to 90 wt% based on the total weight.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 에폭시기 함유 불포화 화합물이 중합된 공중합체인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the alkali-soluble resin is a copolymer obtained by polymerizing at least one selected from unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid anhydride and an epoxy group-containing unsaturated compound.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물, 에폭시기 함유 불포화 화합물, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 및 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물 중 선택된 하나 이상의 화합물로부터 중합된 공중합체인 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, the alkali-soluble resin is at least one compound selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride, an epoxy group-containing unsaturated compound, an unsaturated carboxylic acid and an olefin other than an unsaturated carboxylic acid anhydride An unsaturated carboxylic acid ester compound, and an olefinically unsaturated compound other than an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride, and an olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 아크릴 모노머인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the unsaturated ethylenic monomer is an acrylic monomer having two or more unsaturated ethylene bonds.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광중합 개시제는 노광에 의해 불포화성 에틸렌계 모노머의 중합을 개시하는 활성종을 발생시키는 화합물인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, a photopolymerization initiator is a compound that generates an active species that initiates polymerization of an unsaturated ethylenic monomer by exposure.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자의 굴절률과 알칼리 가용성 수지의 굴절률의 차 및 분산 입자의 굴절률과 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률의 차는 0.2 이상인 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the alkali-soluble resin and the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 0.2 or more.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률은 1.4 내지 1.6인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the refractive index of the alkali-soluble resin and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 1.4 to 1.6.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the dispersed particle is a hollow particle comprising a metal oxide having a refractive index of 1.6 or more or a gas portion having a refractive index of 1.2 or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자의 직경은 200 ㎚ 내지 1 ㎛인 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, the diameter of the dispersed particles is 200 nm to 1 占 퐉.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치가 제공된다. 기판 상에 컬러 필터가 형성되고, 컬러 필터 상에 오버 코팅층이 형성된다. 유기 발광 소자는 오버 코팅층 상에 형성된다. 유기 발광 소자는 애노드, 애노드 상의 유기 발광층 및 유기 발광층 상의 캐소드를 포함한다. 광산란층이 오버 코팅층과 유기 발광 소자 사이에 형성된다. 광산란층은 유기 발광층에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 감광성 수지를 포함한다. 유기 발광 표시 장치의 광산란층은 감광성 수지로부터 형성되므로, 광산란층은 다른 엘리먼트의 손상 없이 형성될 수 있고 패터닝이 가능하며, 유기 발광 표시 장치의 외부가 아닌 내부에 형성될 수 있다. 또한, 광산란층을 사용하여, 유기 발광층에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층의 두께가 결정될 수 있다.An organic light emitting display according to an embodiment of the present invention is provided. A color filter is formed on the substrate, and an overcoat layer is formed on the color filter. An organic light emitting element is formed on the overcoat layer. The organic light emitting device includes an anode, an organic light emitting layer on the anode, and a cathode on the organic light emitting layer. A light-scattering layer is formed between the overcoat layer and the organic light emitting device. The light-scattering layer includes a photosensitive resin having dispersed particles for light extraction with respect to light emitted from the organic light-emitting layer. Since the light scattering layer of the organic light emitting diode display is formed of a photosensitive resin, the light scattering layer can be formed without damaging other elements and can be patterned, and can be formed inside the outside of the organic light emitting display. Further, by using the light-scattering layer, the thickness of the organic light-emitting layer can be determined without any limitation on the optical condition for the light emitted from the organic light-emitting layer.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 광산란층과 유기 발광 소자 사이에 형성되어 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 더 포함하고, 고굴절 평탄화막의 굴절률은 1.65 이상인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is further provided a high-refraction flattening film formed between the light-scattering layer and the organic light-emitting device to flatten the upper part of the light-scattering layer, wherein the refractive index of the high-

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광산란층은 컬러 필터와 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the light scattering layer is formed to overlap with the color filter.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광 소자는 뱅크에 의해 정의된 발광 영역을 포함하고, 발광 영역은 광산란층과 중첩된 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, an organic light emitting device includes a light emitting region defined by a bank, and a light emitting region overlapped with the light scattering layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to still another aspect of the present invention, the photosensitive resin is characterized by comprising an alkali-soluble resin and an unsaturated ethylenic monomer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the photosensitive resin is characterized by further comprising a photopolymerization initiator.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지의 굴절률은 1.4 내지 1.6이고, 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갑는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 중공 입자인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the refractive index of the photosensitive resin is 1.4 to 1.6, the dispersed particle is a metal oxide having a refractive index of 1.6 or more, or hollow particles having a refractive index of 1.2 or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층의 두께는 유기 발광층에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 결정된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the thickness of the organic luminescent layer is determined without limitation on optical conditions for light emitted from the organic luminescent layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층은 350 nm 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the organic light emitting layer has a thickness of 350 nm or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층은 전자 수송층, 전자 주입층, 정공 수송층 및 정공 주입층 중 적어도 하나를 더 포함하고, 전자 수송층, 전자 주입층, 정공 수송층 및 정공 주입층은 100 nm 미만의 두께를 가지는 것을 특징으로 한다.The electron transport layer, the electron injection layer, the hole transport layer, and the hole injection layer may have a thickness of less than 100 nm. The electron transport layer, the hole transport layer, the hole injection layer, Of the thickness.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법이 제공된다. 유기 발광 표시 장치 제조 방법은 기판 상에 컬러 필터를 형성하는 단계, 컬러 필터 상에 오버 코팅층을 형성하는 단계, 오버 코팅층 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계, 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하는 단계 및 광산란층 상에 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자를 형성하는 단계를 포함한다. 유기 발광 표시 장치 제조 방법에서는 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층이 형성되므로, 광산란층 제조 공정 시에 절연층들이나 유기 발광 소자, 박막 트랜지스터 등과 같은 유기 발광 표시 장치의 다른 엘리먼트가 손상되지 않는다. 또한, 유기 발광 표시 장치 제조 방법에서는 광추출용 감광성 수지 조성물에 대한 포토 패터닝이 가능하므로, 광산란층을 포함하는 유기 발광 표시 장치가 보다 단순한 공정을 사용하여 제조 가능하다.A method of manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention is provided. A method of manufacturing an organic light emitting display includes the steps of forming a color filter on a substrate, forming an overcoat layer on the color filter, forming an overcoat layer on the overcoat layer with an alkali soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, A step of coating a photosensitive resin composition for light extraction comprising a light extracting dispersion, a photopolymerization initiator and a solvent, a step of forming a light scattering layer from the photosensitive resin composition for light extraction, and a step of forming a light scattering layer And forming an organic light emitting element. Since the light-scattering layer is formed by using the photosensitive resin composition for photo-extraction capable of photo-patterning in the method of manufacturing an organic light-emitting display device, the insulating layer, the other elements of the organic light- Lt; / RTI > In addition, in the method of manufacturing an organic light emitting display device, photo-patterning of a photosensitive resin composition for light extraction can be performed, so that an organic light emitting display device including a light scattering layer can be manufactured using a simpler process.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 광산란층을 형성하는 단계는, 마스크를 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 부분 노광하는 단계 및 광추출용 감광성 수지 조성물을 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the step of forming the light scattering layer includes a step of partially exposing the photosensitive resin composition for light extraction using a mask and a step of developing the photosensitive resin composition for light extraction.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광산란층과 유기 발광 소자 사이에 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device, comprising: forming a high-refractive-index flattening film for flattening an upper portion of a light scattering layer between a light scattering layer and an organic light emitting device.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 별도의 에칭 공정 없이 포토 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.The present invention can provide a photosensitive composition for light extraction of a novel composition capable of photo patterning without a separate etching process.

또한, 본 발명은 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 다른 엘리먼트의 손상 없이 유기 발광 표시 장치 내부에 광산란층을 형성할 수 있고, 원하는 크기로 패터닝된 광산란층을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can form a light-scattering layer in an organic light-emitting display device without damaging other elements by using a photosensitive resin composition for light extraction capable of photopatterning, and can provide a light-scattering layer patterned to a desired size.

또한, 본 발명은 유기 발광 표시 장치의 효율을 향상시켜 유기 발광 표시 장치의 수명을 증가시키고, 유기 발광 표시 장치의 소비 전력을 감소시킬 수 있다. In addition, the present invention can improve the efficiency of the OLED display device, thereby increasing the lifetime of the OLED display device and reducing the power consumption of the OLED display device.

또한, 본 발명은 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층을 형성하므로, 광산란층을 형성하는 보다 단순한 공정을 제공할 수 있다.In addition, the present invention forms a light-scattering layer using a photosensitive resin composition for light extraction capable of photopatterning, so that a simpler process of forming a light-scattering layer can be provided.

또한, 본 발명은 광산란층을 사용하여 유기 발광층의 두께를 감소시키고, 유기 발광 표시 장치의 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력을 감소시킬 수 있다.In addition, the present invention can reduce the thickness of the organic light emitting layer using the light scattering layer, and reduce the manufacturing cost, the manufacturing time, the driving voltage, and the power consumption of the organic light emitting display.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 1b는 도 1a의 X영역에 대한 확대 단면도이다.
도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 발광 영역, 광산란층 및 컬러 필터를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2b는 도 2a의 X영역에 대한 확대 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예들의 유기 발광 표시 장치에서의 블러링(blurring)을 설명하기 위한 이미지들이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다.FIG. 1A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to FIG.
1B is an enlarged cross-sectional view of the X region of FIG. 1A.
1C is a schematic plan view illustrating an emission region, a light scattering layer, and a color filter of an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention.
2A is a cross-sectional view illustrating an OLED display according to another embodiment of the present invention.
2B is an enlarged cross-sectional view of the X region of FIG. 2A.
3 is a view for explaining blurring in the organic light emitting display according to the embodiment of the present invention and the comparative example.
4 is a flowchart illustrating a method for fabricating an OLED display device according to an embodiment of the present invention.
5A to 5D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. Where the terms "comprises", "having", "done", and the like are used in this specification, other portions may be added unless "only" is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.An element or layer is referred to as being another element or layer "on ", including both intervening layers or other elements directly on or in between.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The sizes and thicknesses of the individual components shown in the figures are shown for convenience of explanation and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the components shown.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other partially or entirely and technically various interlocking and driving is possible as will be appreciated by those skilled in the art, It may be possible to cooperate with each other in association.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Various embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키기 위한 것으로서, 광추출용 분산액은 유기 발광 표시 장치의 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다.The photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent. The light-sensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention is for improving light extraction efficiency of an organic light emitting display device, and the dispersion for light extraction has dispersed particles for light extraction of an organic light emitting display device.

알칼리 가용성 수지는 공중합체이고, 예를 들어, 불포화 카르복실산(carboxylic acid) 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물과 에폭시기 함유 불포화 화합물이 중합된 공중합체일 수 있다. 알칼리 가용성 수지는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이다.The alkali-soluble resin is a copolymer, and may be, for example, a copolymer obtained by polymerizing an unsaturated compound containing an epoxy group and at least one selected from an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride. The alkali-soluble resin is 5 to 50% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction.

불포화 카르복실산은 아크릴산(acrylic acid), 크로톤산(crotonic acid), 이타콘산(itaconic acid), 말레산(maleic acid), 푸마르산(fumaric acid), 시트라콘산(citraconic acid) 또는 메사콘산(mesaconic acid)일 수 있고, 불포화 카르복실산 무수물은 아크릴산(acrylic acid), 크로톤산(crotonic acid), 이타콘산(itaconic acid), 말레산(maleic acid), 푸마르산(fumaric acid), 시트라콘산(citraconic acid) 또는 메사콘산(mesaconic acid)의 무수물일 수 있다. 다만, 공중합 반응성, 얻어지는 막의 내열성 및 입수 용이성 등을 고려하여, 바람직하게는 아크릴산(acrylic acid), 말레산(maleic acid) 등이 불포화 카르복실산으로 사용될 수 있다. The unsaturated carboxylic acid may be selected from the group consisting of acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid or mesaconic acid Unsaturated carboxylic acid anhydrides may be selected from the group consisting of acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid ) Or an anhydride of mesaconic acid. However, acrylic acid, maleic acid, and the like may be preferably used as the unsaturated carboxylic acid in consideration of copolymerization reactivity, heat resistance of the obtained film, ease of access, and the like.

에폭시기 함유 불포화 화합물로서 아크릴산 글리시딜 에스테르(acrylic acid glycidyl ester), 메타크릴산 글리시딜 에스테르(methacrylic acid glycidyl ester), α-에틸아크릴산 글리시딜 에스테르(α-ethyl acrylic acid glycidyl esters), α-n-프로필 아크릴산 글리시딜 에스테르(α-n-propyl acrylic acid glycidyl ester), α-n-부틸 아크릴산 글리시딜 에스테르(α-n-butyl acrylic acid glycidyl ester), 아크릴산-3,4-에폭시 부틸 에스테르(acrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), 메타크릴산-3,4-에폭시 부틸 에스테르(methacrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르(acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), 메타크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르(methacrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester), α-에틸 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르( α-ethyl acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), o-비닐 벤질 글리시딜 에테르(o-vinyl benzylglycidyl ether), m-비닐 벤질 글리시딜 에테르(m-vinyl benzyl glycidyl ether), p-비닐 벤질 글리시딜 에테르(p-vinyl benzyl glycidyl ether) 또는 이들의 조합이 공중합 반응성, 내열성, 경도를 높인다는 점에서 사용될 수 있다. As the epoxy group-containing unsaturated compound, acrylic acid glycidyl ester, methacrylic acid glycidyl ester,? -Ethyl acrylic acid glycidyl esters,? n-propyl acrylic acid glycidyl ester,? -n-butyl acrylic acid glycidyl ester, acrylic acid-3,4-epoxy Acrylic acid-3,4-epoxy butyl ester, methacrylic acid-3,4-epoxy butyl ester, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl ester acid-6,7-epoxy-heptyl ester, methacrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester and? -ethylacrylic acid-6,7-epoxyheptyl ester -ethyl acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester, o-vinyl benzyl glycidyl ether, Benzyl glycidyl ether enhances the (m-vinyl benzyl glycidyl ether), p- vinylbenzyl glycidyl ether (p-vinyl benzyl glycidyl ether) or a combination of both the copolymerization reactivity, heat resistance and hardness can be used in this regard.

몇몇 실시예에서, 알칼리 가용성 수지는 공중합체일 수 있고, 예를 들어, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물, 에폭시기 함유 불포화 화합물, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물과 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물 중 선택된 하나 이상의 화합물로부터 중합된 공중합체일 수도 있다. 여기서, 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 에폭시기 함유 불포화 화합물은 상술한 예시적인 물질과 동일한 물질일 수 있다.In some embodiments, the alkali-soluble resin may be a copolymer and may include, for example, one or more compounds selected from an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride, an epoxy group-containing unsaturated compound, an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxyl May be a copolymer polymerized from at least one compound selected from olefinically unsaturated carboxylic acid ester compounds other than acid anhydrides and olefinically unsaturated compounds other than unsaturated carboxylic acids, unsaturated carboxylic acid anhydrides and olefinically unsaturated carboxylic acid ester compounds have. Here, the unsaturated carboxylic acid, the unsaturated carboxylic acid anhydride, and the epoxy group-containing unsaturated compound may be the same substance as the above-mentioned exemplary material.

불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물은, 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate), 에틸 메타크릴레이트(ethyl methacrylate), n-부틸 메타크릴레이트(n-butyl methacrylate), sec-부틸 메타크릴레이트(sec-butyl methacrylate), t-부틸 메타크릴레이트(t-butyl methacrylate) 등의 메타크릴산 알킬 에스테르(methacrylic acid alkyl ester); 메틸 아크릴레이트(methyl acrylate), 이소프로필 아크릴레이트(isopropyl acrylate) 등의 아크릴산 알킬 에스테르(acrylic acid alkyl ester); 시클로헥실 메타크릴레이트(cyclohexyl methacrylate), 2-메틸 시클로헥실 메타크릴레이트(2-methyl cyclohexyl methacrylate), 디시클로펜테닐 메타크릴레이트(dicyclopentenyl methacrylate), 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트(dicyclopentenyloxyethyl methacrylate), 이소보로닐 메타크릴레이트(isoboronyl methacrylate) 등의 메타크릴산 시클로알킬 에스테르(methacrylic acid cycloalkyl ester); 시클로헥실 아크릴레이트(cyclohexyl acrylate), 2-메틸 시클로헥실 아크릴레이트(2-methyl cyclohexyl acrylate), 디시클로펜테닐 아크릴레이트(dicyclopentenyl acrylate), 디시클로펜테닐옥시에틸 아크릴레이트(dicyclopentenyloxyethyl acrylate), 이소보로닐 아크릴레이트(isoboronyl acrylate) 등의 아크릴산 시클로알킬 에스테르(acrylic acid cycloalkyl ester); 펜틸 메타크릴레이트(pentyl methacrylate), 벤질 메타크릴레이트(benzyl methacrylate) 등의 메타크릴산 아릴 에스테르(methacrylic acid aryl ester); 페닐 아크릴레이트(penyl acrylate), 벤질 아크릴레이트(benzyl acrylate) 등의 아크릴산 아릴 에스테르(acrylic acid aryl ester); 말레산 디에틸(maleic acid diethyl), 푸마르산 디에틸(fumaric acid diethyl), 이타콘산 디에틸(itaconic acid diethyl) 등의 디카르복실산 디에스테르(dicarboxylic acid diester); 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트(2-hydroxy ethyl methacrylate), 2-히드록시 프로필 메타크릴레이트(2-hydroxy propyl methacrylate) 등의 히드록시알킬 에스테르(hydroxyalkyl ester) 등이 사용될 수 있다.The olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound other than the unsaturated carboxylic acid and the unsaturated carboxylic acid anhydride is preferably selected from the group consisting of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl (meth) acrylate, methacrylic acid alkyl ester such as methacrylate, sec-butyl methacrylate and t-butyl methacrylate; Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate and isopropyl acrylate; Cyclohexyl methacrylate, 2-methyl cyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, Methacrylic acid cycloalkyl ester such as isobornyl methacrylate, etc .; But are not limited to, cyclohexyl acrylate, 2-methyl cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, Acrylic acid cycloalkyl ester such as isobornyl acrylate; Methacrylic acid aryl ester such as pentyl methacrylate, benzyl methacrylate and the like; Acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate, benzyl acrylate and the like; Dicarboxylic acid diesters such as maleic acid diethyl, fumaric acid diethyl and itaconic acid diethyl; Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxy ethyl methacrylate and 2-hydroxy propyl methacrylate, and the like can be used.

불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물은, 스티렌(styrene), o-메틸 스티렌(o-methyl styrene), m-메틸 스티렌(m-methyl styrene), p-메틸 스티렌(p-methyl styrene), 비닐 톨루엔(vinyl toluene), p-메톡시 스티렌(p-methoxy styrene), 아크릴로니트릴(acrylonitrile), 메타크릴로니트릴(methacrylonitrile), 염화 비닐(vinyl chloride), 염화 비닐리덴(vinylidene chloride), 아크릴아미드(acrylamide), 메타크릴 아미드(methacryl amide), 초산 비닐(vinyl acetate), 1,3-부타디엔(1,3-butadiene), 이소프렌(isoprene), 2,3-디메틸-1,3-부타디엔(2,3-dimethyl-1,3-butadiene) 등일 수 있다.The olefinically unsaturated compounds other than the unsaturated carboxylic acid, the unsaturated carboxylic acid anhydride and the olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound are preferably styrene, o-methyl styrene, m- methyl styrene, p-methyl styrene, vinyl toluene, p-methoxy styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, But are not limited to, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacryl amide, vinyl acetate, 1,3-butadiene, isoprene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, and the like.

공중합체인 알칼리 가용성 수지의 합성에 사용되는 용매로서 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether) 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(propylene glycol methyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트(propylene glycol ethyl ether acetate), 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트(propellen glycol propyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트(propylene glycol butyl ether acetate) 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류(propylene glycol alkyl ether acetate)가 사용될 수 있다.Examples of the solvent used for the synthesis of the alkali-soluble resin as the copolymer include alcohols such as methanol and ethanol, tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether (diethylene glycol diethyl ether); Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, propylene glycol alkyl ether acetate such as acetate may be used.

또한, 공중합체인 알칼리 가용성 수지의 합성에 사용되는 중합 개시제로서 라디칼 중합 개시제가 사용될 수 있다. 예를 들어, 중합 개시제는 2,2′-아조비스이소부티로니트릴(2,2'-azobisisobutyronitrile), 2,2′-아조비스-(2,4-디메틸 발레로니트릴)(2,2'-azobis-(2,4-dimethyl valeronitrile)), 2,2′-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(2,2'-azobis-(4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile)) 등의 아조 화합물 벤조일 퍼옥시드(azo compounds benzoyl peroxide), t-부틸퍼옥시피바레이트(t-butyl peroxy pivalate), 1,1′-비스-(t-부틸퍼옥시)시클로헥산(1,1'-bis-(t-butylperoxy)cyclohexane) 등의 유기 과산화물 및 과산화수소일 수 있다. 중합 개시제로 과산화물이 사용되는 경우, 과산화물은 환원제와 함께 사용하여 레독시(redoxy) 개시제로 사용될 수도 있다.In addition, a radical polymerization initiator may be used as a polymerization initiator used for synthesis of an alkali-soluble resin as a copolymer. For example, the polymerization initiator may be 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile) (2,2'-azobisisobutyronitrile) (2,4-dimethyl valeronitrile), 2,2'-azobis- (4-methoxy-2 (2,4-dimethylvaleronitrile) , 4-dimethyl valeronitrile), azo compounds such as benzoyl peroxide, t-butyl peroxy pivalate, 1,1'-bis- (t-butylperoxy) Organic peroxides such as cyclohexane (1,1'-bis- (t-butylperoxy) cyclohexane) and hydrogen peroxide. When a peroxide is used as the polymerization initiator, the peroxide may be used as a redoxy initiator in combination with a reducing agent.

불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 아크릴 모노머일 수 있다. 구체적으로, 불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 다관능성 아크릴 모노머일 수 있고, 양호한 중합성, 얻어지는 막의 내열성 및 표면 경도가 향상된다는 점에서 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트가 불포화성 에틸렌계 모노머로 사용될 수 있다. 불포화성 에틸렌계 모노머는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 70 중량%으로 포함된다.The unsaturated ethylenic monomer may be an acrylic monomer having two or more unsaturated ethylene bonds. Specifically, the unsaturated ethylenic monomer may be a polyfunctional acrylic monomer having two or more unsaturated ethylene bonds, and may be monofunctional, bifunctional or trifunctional or more in terms of good polymerizability, heat resistance and surface hardness of the resulting film. (Meth) acrylate may be used as an unsaturated ethylenic monomer. The unsaturated ethylenic monomer is contained in an amount of 5 to 70% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction.

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 단관능 (메타)아크릴레이트로는 2-히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트(2-hydroxy ethyl (meth)acrylate), 카비톨 (메타)아크릴레이트(carbitol(meth)acrylate), 이소보닐 (메타)아크릴레이트(isobornyl (meth)acrylate), 3-메톡시 부틸 (메타)아크릴레이트(3-methoxybutyl (meth)acrylate), 2-(메타)아크릴로일 옥시 에틸 2-히드록시프로필 프탈레이트(2-(meth) acryloyl oxy ethyl 2-hydroxypropyl phthalate) 등이 있다.Examples of the monofunctional (meth) acrylate used as the unsaturated ethylenic monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2- Hydroxypropyl phthalate (2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate).

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 2관능 (메타)아크릴레이트로는 에텔렌글리콜 (메타)아크릴레이트(ethyleneglycol (meth)acrylate), 1,6-헥산디올 (메타)아크릴레이트(1,6-hexanediol (meth)acrylate), 1,9-노난디올 (메타)아크릴레이트(1,9-nonanediol (meth)acrylate), 프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트(propylene glycol (meth)acrylate), 테트라에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트(tetraethylene glycol (meth)acrylate), 비스페녹시 에틸알콜 플루오렌 디아크릴레이트(bisphenoxy ethylalcohol fluorene diacrylate) 등이 있다.Examples of the bifunctional (meth) acrylate used as the unsaturated ethylenic monomer include ethyleneglycol (meth) acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, (meth) acrylate, 1,9-nonanediol (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, tetraethylene glycol (Meth) acrylate, bisphenoxy ethylalcohol fluorene diacrylate, and the like.

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트로는 트리스히드록시에틸이소시아뉴레이트 트리(메타)아크릴레이트(trishydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate), 트리메틸프로판 트리(메타)아크릴레이트(trimethylpropane tri(meth)acrylate), 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트(pentaerythritol tri(meth)acrylate), 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트(pentaerythritol tetra(meth)acrylate), 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트(dipentaerythritol hexa(meth)acrylate) 등이 있다.Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate used as the unsaturated ethylenic monomer include trishydroxyethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, trimethyl propane tri (meth) acrylate, (trimethylpropane tri (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate (dipentaerythritol hexa (meth) acrylate).

상술한 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트는 단독으로 또는 조합되어 사용될 수 있다.The above monofunctional, bifunctional or trifunctional or higher (meth) acrylates may be used singly or in combination.

광중합 개시제는 노광에 의해 분해 또는 결합을 일으키며, 라디칼, 음이온, 양이온 등의 불포화성 에틸렌계 모노머의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생시키는 화합물이다. 광중합 개시제는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 0.5 내지 20 중량%으로 포함된다. 광중합 개시제가 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 0.5 중량% 미만으로 함유되는 경우, 얻어지는 막의 감도가 충분하지 않아 현상 공정에서 막이 유실되기 쉽고, 현상 공정에서 막이 유지되더라도 충분히 높은 가교 밀도를 갖는 막을 얻기 어렵다. 또한, 광중합 개시제의 중량%가 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 20 중량% 초과인 경우, 얻어지는 막의 내열성 및 평탄화성이 저하되기 쉽다.The photopolymerization initiator is a compound that generates decomposition or bonding by exposure and generates active species capable of initiating polymerization of unsaturated ethylenic monomers such as radicals, anions, and cations. The photopolymerization initiator is contained in an amount of 0.5 to 20% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction. When the photopolymerization initiator is contained in an amount of less than 0.5% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction, the sensitivity of the obtained film is insufficient and the film tends to be lost in the development process. Even if the film is maintained in the development process, It is difficult to obtain. In addition, when the weight% of the photopolymerization initiator is more than 20% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction, the heat resistance and planarizing property of the resulting film tends to be deteriorated.

광중합 개시제는 티옥산톤(thioxanthone), 2,4-디에틸 티옥산톤(2,4-diethyl thioxanthone), 티옥산톤-4-술폰산(thioxanthone-4-sulfonic acid), 벤조페논(benzophenone), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(4,4'-bis(diethylamino) benzophenone), 아세토페논(acetophenone), p-디메틸아미노아세토페논(p- dimethylaminoacetophenone), α,α'-디메톡시아세톡시벤조페논(α,α'-dimethoxyacetoxybenzophenone), 2,2'-디메톡시-2-페틸아세토페논(2,2'- dimethoxy-2-phetylacetophenone), p-메톡시아세토페논(p-methoxyacetophenone), 2-메틸[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논(2-methyl-[4-(methylthio)phenyl] 2-morpholino-1-propanone), 2-벤질-2-디에틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온(2-benzyl-2-diethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1?one), 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one), 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone), 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 등의 케톤류, 안트라퀴논(anthraquinone), 1,4-나프토퀴논(1,4- naphthoquinone) 등의 퀴논류, 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진(1,3,5-tris (trichloromethyl)-s-triazine), 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2-클로로페닐)-s-트리아진(1,3-bis(trichloromethyl)-5-(2-chlorophenyl)-s-triazine), 1,3-비스(트리클로로페닐)-s-트리아진(1,3-bis(trichlorophenyl)-s-triazine), 페나실 클로라이드(phenacyl chloride), 트리브로모메틸페닐술폰(tribromomethylphenyl sulfone), 트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진(tris(trichloromethyl)-s-triazine) 등의 할로겐 화합물, 디-t-부틸 퍼옥사이드(di-t-butyl peroxide) 등의 과산화물, 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드(2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide) 등의 아실 포스핀 옥사이드류(acylphosphine oxide) 중 하나 또는 이들의 조합일 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, acetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α, α'-dimes Dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2 ' -dimethoxy-2-phetylacetophenone, p-methoxyacetophenone, ), 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-diethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, 2-diethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy- 2-propyl) ketone ( Ketones such as 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, anthraquinone, Quinones such as naphthoquinone, 1,3,5-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 1,3,5-tris (trichloromethyl) , 3-bis (trichloromethyl) -5- (2-chlorophenyl) -s-triazine, 1,3- Bis (trichlorophenyl) -s-triazine, phenacyl chloride, tribromomethylphenyl sulfone, tris (trichloromethyl) halogen compounds such as tris (trichloromethyl) -s-triazine), peroxides such as di-t-butyl peroxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylsulfone Acyl phosphine oxides such as 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide phosphine oxide, or a combination thereof.

용매는 유기 용매로서, 광추출 감광성 수지 조성물 총 중량 대비 20 내지 90 중량%이다. 용매로서 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류; 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether) 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(propylene glycol methyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트(propylene glycol ethyl ether acetate), 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트(propellen glycol propyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트(propylene glycol butyl ether acetate) 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류(propylene glycol alkyl ether acetate) 등의 용매가 사용될 수 있다. 상술한 예시적인 용매들 중 용해성, 각 성분과의 반응성 및 막 형성의 편리성의 관점에서 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether), 프로필렌 글리콜 메틸 에테르(propylene glycol methly ether)의 아세테이트류; 메틸에틸케톤(methyl ethyl ketone), 시클로헥사논(cyclohexanone), 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone) 등의 케톤류; 아세트산(acetic acid)의 메틸에스테르(methyl ester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-히드록시프로피온산의 에틸에스테르(2-hydroxy-propionic acid ethylester), 메틸에스테르(methylester); 2-히드록시-2-메틸프로피온산(2-hydroxy-2-methyl propionic acid)의 에틸에스테르(ethylester); 히드록시 아세트산(hydroxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 부틸 에스테르(butylester); 젖산 에틸(lactic acid ethyl), 젖산 프로필(lactic acid propyl), 젖산 부틸(lactic acid butyl); 메톡시아세트산(methoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 프로폭시아세트산(propoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 부톡시아세트산(butoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-메톡시프로피온산(2-methoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-에톡시프로피온산(2-ethoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-부톡시프로피온산(2-butoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-메톡시프로판(3-methoxy propane)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-에톡시프로피온산(3-ethoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-부톡시프로피온산(3-butoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르 등의 에스테르류가 사용될 수 있다.The solvent is an organic solvent and is 20 to 90% by weight based on the total weight of the light extractable photosensitive resin composition. As the solvent, alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, propylene glycol alkyl ether acetate such as acetic acid and acetate may be used. From the viewpoints of solubility, reactivity with each component and ease of film formation among the above-mentioned exemplary solvents, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl Acetates of propylene glycol methy ether; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; Methyl ester, ethyl ester, propyl ester and butyl ester of acetic acid; 2-hydroxy-propionic acid ethylester, methylester; Ethyl ester of 2-hydroxy-2-methyl propionic acid; Methylester, ethylester, and butylester of hydroxy acetic acid; Lactic acid ethyl, lactic acid propyl, lactic acid butyl; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of methoxy acetic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of propoxy acetic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of butoxy acetic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of 2-methoxypropionic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of 2-ethoxypropionic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of 2-butoxy propionic acid; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of 3-methoxypropane; Methylester, ethylester, propylester, and butylester of 3-ethoxypropionic acid; Esters such as methyl ester, ethyl ester, propyl ester and butyl ester of 3-butoxy propionic acid may be used.

몇몇 실시예에서, 상술한 물질의 용매와 함께 고비등점 용매가 사용될 수도 있다. 고비등점 용매로서는 N-메틸 포름아미드(N-methyl formamide), N,N-디메틸 포름아미드(N,N-dimethylformamide), N-메틸 아세트아미드(N- methyl cetamide), N,N-디메틸 아세트아미드(N,N-dimethylacetamide), N-메틸 피롤리돈(N-methylpyrrolidone), 디메틸 설폭시드(dimethyl sulfoxide), 벤질 에틸 에테르 (benzyl ethyl ether) 등이 사용될 수 있다.In some embodiments, a high boiling solvent may be used with the solvent of the above-mentioned materials. Examples of the high boiling solvent include N-methyl formamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl cetamide, N, N-dimethylacetamide N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether and the like can be used.

광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 분산액은 분산 입자가 광추출용 감광성 수지 조성물 내에 균일하게 분산되도록 사용되는 것으로서, 광추출용 분산액은 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이다. 광추출용 분산액은 분산 입자를 포함하고, 추가적으로 바인더, 분산제 및 용매 등을 더 포함할 수도 있다.The light extracting dispersion has dispersed particles for light extraction. The dispersion for light extraction is used so that the dispersed particles are uniformly dispersed in the photosensitive resin composition for light extraction, and the dispersion for light extraction is 5 to 50% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction. The light extracting dispersion contains dispersed particles, and may further include a binder, a dispersant, a solvent, and the like.

분산 입자의 굴절률과 알칼리 가용성 수지의 굴절률의 차 및 분산 입자의 굴절률과 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률의 차는 0.2 이상이다. 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 형성하는 경우, 유기 발광층으로부터 발광된 광을 산란시키기 위해 광산란층의 베이스 부재로서 기능하는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머와 광산란층에 분산된 분산 입자 사이에는 소정의 굴절률 차이가 존재하여야 하며, 예를 들어, 0.2 이상의 굴절률 차이가 존재하여야 한다. 예를 들어, 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률이 1.4 내지 1.6인 경우, 분산 입자는 1.8 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자일 수 있다. 분산 입자로서 사용될 수 있는 금속 산화물로는 산화 티타늄(TiO2), 산화 지르코늄(ZrO2), 티탄산바륨(BaTiO3) 등이 있다. 분산 입자로서 사용될 수 있는 중공 입자는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부와 기체부를 둘러싸는 주변부를 포함할 수 있고, 기체부는 공기, 질소, 산소 등으로 이루어지고, 주변부는 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률과 동일한 굴절률을 갖는 물질로 이루어질 수 있다. 본 명세서에서 2개의 값이 동일하다는 것은 2개의 값이 완전히 일치하는 경우뿐만 아니라 실질적으로 동일한 경우 모두를 의미한다. 즉, 2개의 값이 동일하다는 것은 오차범위, 제조 공정 시의 공정 편차 등을 고려하여 2개의 값이 실질적으로 동일한 경우도 포함한다.The difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the alkali-soluble resin and the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 0.2 or more. In the case of forming a light scattering layer of an organic light emitting display device using a photosensitive resin composition for light extraction, an alkali soluble resin which functions as a base member of the light scattering layer and an unsaturated ethylenic monomer and light scattering There should be a predetermined refractive index difference between dispersed particles dispersed in the layer, for example, a refractive index difference of 0.2 or more must be present. For example, when the refractive index of the alkali-soluble resin and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 1.4 to 1.6, the dispersed particle may be a metal oxide having a refractive index of 1.8 or more or a hollow particle containing a gas portion having a refractive index of 1.2 or less . Examples of the metal oxide that can be used as the dispersed particles include titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), barium titanate (BaTiO 3 ), and the like. The hollow particles that can be used as the dispersed particles may include a base portion having a refractive index of 1.2 or less and a peripheral portion surrounding the base portion. The base portion is made of air, nitrogen, oxygen, etc., and the peripheral portion is a refractive index and unsaturation And may have a refractive index equal to that of the ethylene-based monomer. In the present specification, the two values being the same mean both cases in which the two values are not identical but substantially the same. That is, when two values are equal, the two values are substantially the same in consideration of the error range, process variation in the manufacturing process, and the like.

분산 입자의 직경은 200 ㎚ 내지 1 ㎛이다. 분산 입자의 직경이 200 ㎚ 미만인 경우 광에 의해 분산 입자가 인식되지 않으므로 광산란이 일어나지 않으며, 분산 입자의 직경이 1 ㎛를 초과하는 경우, 재료 안정성이 좋지 않고 광추출용 감광성 수지 조성물의 코팅 특성이 나빠진다. 여기서, 분산 입자의 직경은 입도 분석을 통한 분산 입자의 직경의 평균을 의미한다. The diameter of the dispersed particles is 200 nm to 1 占 퐉. In the case where the diameter of the dispersed particles is less than 200 nm, scattering particles are not recognized due to the light, and light scattering does not occur. When the diameter of the dispersed particles exceeds 1 탆, the material stability is poor and the coating properties of the photosensitive resin composition for light extraction It gets worse. Here, the diameter of the dispersed particles means an average of the diameters of the dispersed particles through particle size analysis.

광추출용 감광성 수지 조성물은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성들을 교반하는 방식으로 형성된다. 예를 들어, 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액 및 광중합 개시제를 실온에서 교반한 후, 용매를 첨가하여 다시 실온에서 교반하는 방식으로 광추출용 감광성 수지 조성물이 형성될 수 있다.The light-sensitive resin composition for light extraction is formed in such a manner as to agitate the compositions of the light-sensitive radiation-sensitive resin composition for light extraction described above. For example, a photosensitive resin composition for light extraction may be formed by stirring an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a light-extracting dispersion and a photopolymerization initiator at room temperature, adding a solvent, and stirring at room temperature again .

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키기 위한 광산란층이 형성될 수 있다. 이 경우, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 광산란층은 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시킬 수 있으므로, 유기 발광 표시 장치의 수명이 증가되고, 유기 발광 표시 장치의 소비 전력이 감소될 수 있다. 또한, 광추출용 감광성 수지 조성물은 별도의 에칭 공정 등을 수행함이 없이 포토 패터닝이 가능하므로, 노광, 현상 등의 비교적 간단한 공정을 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층이 형성될 수 있고, 다른 엘리먼트의 손상 없이 유기 발광 표시 장치 내부에 광산란층이 형성될 수 있으며, 패턴된 형상의 광산란층이 형성될 수 있다.A light scattering layer may be formed to improve light extraction efficiency of the organic light emitting display device using the photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention. In this case, the light-scattering layer formed using the photosensitive resin composition for light extraction can improve the light extraction efficiency of the organic light emitting display device, thereby increasing the lifetime of the organic light emitting display device and reducing the power consumption of the organic light emitting display device . The light-scattering layer can be formed from the light-sensitive resin composition for light extraction by using a relatively simple process such as exposure and development, since photo-patterning can be performed without performing a separate etching process or the like, A light scattering layer can be formed inside the organic light emitting display device without damaging other elements, and a light scattering layer having a patterned shape can be formed.

상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성 이외에 첨가될 수 있는 기타 점가제로서, 광추출용 감광성 수지 조성물의 도포성을 향상하기 위한 계면활성제가 사용될 수 있다. 계면활성제로는 불소계 계면활성제 및 실리콘계 계면활성제가 사용될 수 있으며, 예를 들어, 3M사의 FC-129, FC-170C, FC-430, DIC사의 F-172, F-173, F-183, F-470, F-475, 신에츠실리콘사의 KP322, KP323, KP340, KP341 등이 사용될 수 있다. 계면활성제의 중량%가 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 5 중량%를 초과한 경우에는 광추출용 감광성 수지 조성물 도포 시 거품이 발생할 수 있다. 따라서, 계면활성제가 사용되는 경우, 계면활성제의 중량%는 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 5 중량% 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 2 중량% 이하일 수 있다.Surfactants for improving the coatability of the photosensitive resin composition for light extraction may be used as other additives that can be added in addition to the composition of the photosensitive resin composition for light extraction described above. F-172, F-173, F-183, F-183, etc. of 3M Company, such as FC-129, FC-170C and FC-430 manufactured by 3M Company, fluorine surfactant and silicone surfactant may be used as the surfactant. 470, F-475, KP322, KP323, KP340 and KP341 of Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. can be used. When the weight% of the surfactant exceeds 5 wt% of the alkali soluble resin as a copolymer, foaming may occur when the photosensitive resin composition for light extraction is applied. Therefore, when a surfactant is used, the weight% of the surfactant may be 5% by weight or less, more preferably 2% by weight or less, relative to the alkali-soluble resin as the copolymer.

상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성 이외에 첨가될 수 있는 기타 점가제로서, 기체와의 밀착성을 향상시키기 위한 접착 조제가 사용될 수도 있다. 접착 조제로는 관능성 실란 커플링제가 사용될 수 있고, 예를 들어, 트리메톡시실릴(trimethoxysilyl) 안식향산, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시 실란(γ-methacryloxypropyltrimethoxysilanetrimethoxy silane), 비닐트리아세톡시 실란(vinyl trimethoxy silane), 비닐트리메톡시 실란(vinyltrimethoxy silane), γ-이소시아네이트프로필트리에톡시 실란(γ-isocyanatepropyltriethoxysilane), γ-글리시독시프로필트리메톡시 실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxy silane) 등이 사용될 수 있다. 접착 조제의 중량%가 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 20 중량%를 초과한 경우에는 얻어지는 막의 내열성이 저하될 수 있다. 따라서, 접착 조제가 사용되는 경우, 접착 조제의 중량%는 알칼리 가용성 수지 대비 20 중량% 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하일 수 있다.As other additives which can be added in addition to the composition of the light-sensitive photosensitive resin composition for light extraction described above, an adhesion aid for improving adhesion with a gas may be used. As the adhesion aid, a functional silane coupling agent may be used, and examples thereof include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilanetrimethoxy silane, vinyltriacetoxysilane ( vinyl trimethoxy silane, vinyltrimethoxy silane,? -isocyanatepropyltriethoxysilane,? -glycidoxypropyltrimethoxy silane and the like can be used . When the weight% of the adhesive aid exceeds 20% by weight of the alkali-soluble resin as a copolymer, the heat resistance of the obtained film may be deteriorated. Therefore, when an adhesion promoter is used, the weight percentage of the adhesion promoter may be 20 wt% or less, more preferably 10 wt% or less, relative to the alkali-soluble resin.

이하에서는 상술한 바와 같은 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, an organic light emitting display device using the photosensitive resin composition for light extraction as described above and a method of manufacturing the same will be described.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다. 도 1b는 도 1a의 X영역에 대한 확대 단면도이다. 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 유기 발광 표시 장치(100)는 기판(110), 컬러 필터(130), 오버 코팅층(150), 유기 발광 소자(140) 및 광산란층(160)을 포함한다. 도 1a 및 도 1b에 도시된 유기 발광 표시 장치(100)는 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치이다. 도 1a 및 도 1b에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)의 하나의 서브 화소에 대한 단면도만을 도시하였다.FIG. 1A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the X region of FIG. 1A. 1A and 1B, an OLED display 100 includes a substrate 110, a color filter 130, an overcoat layer 150, an organic light emitting diode 140, and a light scattering layer 160. The organic light emitting display 100 shown in FIGS. 1A and 1B is a bottom emission organic light emitting display. 1A and 1B, only a sectional view of one sub-pixel of the OLED display 100 is shown for convenience of explanation.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 절연 물질로 형성되는 기판(110) 상에 게이트 전극(121), 액티브층(122), 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)을 포함하는 박막 트랜지스터(120)가 형성된다. 구체적으로, 기판(110) 상에 게이트 전극(121)이 형성되고, 게이트 전극(121) 및 기판(110) 상에 게이트 전극(121)과 액티브층(122)을 절연시키기 위한 게이트 절연층(111)이 형성되고, 게이트 절연층(111) 상에 액티브층(122)이 형성되고, 액티브층(122) 상에 에치 스타퍼(112)가 형성되고, 액티브층(122) 및 에치 스타퍼(112) 상에 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 형성된다. 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 액티브층(122)과 접하는 방식으로 액티브층(122)과 전기적으로 연결되고, 에치 스타퍼(112)의 일부 영역 상에 형성된다. 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)에 포함될 수 있는 다양한 박막 트랜지스터 중 구동 박막 트랜지스터만을 도시하였다. 또한, 본 명세서에서는 박막 트랜지스터(120)가 인버티드 스태거드(inverted staggered) 구조인 것으로 설명하나 코플래너(coplanar) 구조의 박막 트랜지스터도 사용될 수 있다.1A and 1B, a thin film transistor 120 including a gate electrode 121, an active layer 122, a source electrode 123, and a drain electrode 124 is formed on a substrate 110 formed of an insulating material. Is formed. A gate electrode 121 is formed on the substrate 110 and a gate insulating layer 111 for insulating the gate electrode 121 and the active layer 122 on the gate electrode 121 and the substrate 110 An active layer 122 is formed on the gate insulating layer 111 and an etch stopper 112 is formed on the active layer 122 and the active layer 122 and the etch stopper 112 A source electrode 123 and a drain electrode 124 are formed. The source electrode 123 and the drain electrode 124 are electrically connected to the active layer 122 in such a manner as to be in contact with the active layer 122 and are formed on a partial area of the etch stopper 112. For convenience of description, only the thin film transistors among the various thin film transistors that can be included in the OLED display 100 are shown in this specification. In this specification, the thin film transistor 120 is described as an inverted staggered structure, but a thin film transistor having a coplanar structure may also be used.

박막 트랜지스터(120) 상에 패시베이션층(113)이 형성되고, 패시베이션층(113) 상에 컬러 필터(130)가 형성된다. 컬러 필터(130)는 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 색을 변환시키기 위한 것으로서, 적색 컬러 필터(130), 녹색 컬러 필터(130) 및 청색 컬러 필터(130) 중 하나일 수 있다. 컬러 필터(130)는 굴절률이 약 1.5인 물질로 형성될 수 있다.A passivation layer 113 is formed on the thin film transistor 120 and a color filter 130 is formed on the passivation layer 113. [ The color filter 130 may be one of a red color filter 130, a green color filter 130, and a blue color filter 130 for converting light emitted from the organic light emitting layer 142 into color. The color filter 130 may be formed of a material having a refractive index of about 1.5.

컬러 필터(130)는 패시베이션층(113) 상에서 발광 영역(EA)에 대응하는 위치에 형성된다. 여기서, 발광 영역(EA)은 애노드(141) 및 캐소드(143)에 의해 유기 발광층(142)이 발광하는 영역을 의미하고, 발광 영역(EA)에 대응하는 위치에 컬러 필터(130)가 형성된다는 것은 인접한 발광 영역(EA)들에서 발광된 광이 서로 섞여 블러링 현상 및 고스트 현상이 발생하는 것을 방지하도록 컬러 필터(130)가 배치되는 것을 의미한다. 예를 들어, 컬러 필터(130)는 발광 영역(EA)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 다만, 컬러 필터(130)의 형성 위치 및 크기는 발광 영역(EA)의 크기 및 위치뿐만 아니라, 컬러 필터(130)와 애노드(141) 사이의 거리, 서로 이웃하는 발광 영역(EA) 간의 거리 등과 같은 다양한 요소에 의해 결정될 수 있다.The color filter 130 is formed on the passivation layer 113 at a position corresponding to the light emitting area EA. Here, the light emitting region EA refers to a region where the organic light emitting layer 142 emits light by the anode 141 and the cathode 143, and the color filter 130 is formed at a position corresponding to the light emitting region EA This means that the color filter 130 is disposed so as to prevent blurring and ghosting from occurring in the light emitted from the adjacent light emitting areas EA. For example, the color filter 130 may be formed to overlap the light emitting area EA. The formation position and the size of the color filter 130 are not limited to the size and position of the light emitting area EA but also the distance between the color filter 130 and the anode 141 and the distance between adjacent light emitting areas EA, And the like.

컬러 필터(130) 및 패시베이션층(113) 상에 오버 코팅층(150)이 형성된다. 오버 코팅층(150)은 굴절률이 약 1.5인 절연 물질로 형성되고, 예를 들어, 아크릴계 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리페닐렌계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지, 벤조사이클로부텐 및 포토레지스트 중 하나로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 약 1.5의 굴절률을 갖는 임의의 절연 물질로 형성될 수 있다.An overcoat layer 150 is formed on the color filter 130 and the passivation layer 113. The overcoat layer 150 is formed of an insulating material having a refractive index of about 1.5. For example, the overcoat layer 150 may include an acrylic resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polyamide resin, a polyimide resin, an unsaturated polyester resin, , A polyphenylene sulfide based resin, benzocyclobutene, and a photoresist, but it is not limited thereto and may be formed of any insulating material having a refractive index of about 1.5.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 오버 코팅층(150) 상에 광산란층(160)이 형성된다. 광산란층(160)은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 형성된다. 광산란층(160)은 유기 발광층(142)에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자(161)와 감광성 수지를 포함한다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 분산 입자(161)와 동일하고, 광산란층(160)의 감광성 수지는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 1A and 1B, a light scattering layer 160 is formed on an overcoat layer 150. The light-scattering layer 160 is formed from the light-sensitive resin composition for light extraction described above. The light scattering layer 160 includes dispersed particles 161 for light extraction of light emitted from the organic light emitting layer 142 and a photosensitive resin. The dispersed particles 161 of the light scattering layer 160 are the same as the dispersed particles 161 of the photosensitive resin composition for light extraction described above and the photosensitive resin of the light scattering layer 160 is soluble in the alkali soluble Resins and unsaturated ethylenic monomers.

분산 입자(161)의 굴절률과 감광성 수지의 굴절률의 차는 0.2 이상이다. 유기 발광층(142)으로부터 발광된 광을 산란시키기 위해 광산란층(160)의 감광성 수지와 광산란층(160)에 분산된 분산 입자(161) 사이에는 소정의 굴절률 차이가 존재하여야 하며, 예를 들어, 0.2 이상의 굴절률 차이가 존재하여야 한다. 예를 들어, 감광성 수지의 굴절률이 1.4 내지 1.6인 경우, 분산 입자(161)는 1.8 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자일 수 있다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)의 구체적인 물질은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 분산 입자(161)의 물질과 동일하다.The difference between the refractive index of the dispersed particles 161 and the refractive index of the photosensitive resin is 0.2 or more. A predetermined refractive index difference must exist between the photosensitive resin of the light scattering layer 160 and the dispersed particles 161 dispersed in the light scattering layer 160 in order to scatter light emitted from the organic light emitting layer 142. For example, A refractive index difference of 0.2 or more should be present. For example, when the refractive index of the photosensitive resin is 1.4 to 1.6, the dispersed particles 161 may be hollow particles containing a metal oxide having a refractive index of 1.8 or more or a gas portion having a refractive index of 1.2 or less. The specific material of the dispersed particles 161 of the light-scattering layer 160 is the same as the material of the dispersed particles 161 of the light-extracting photosensitive resin composition described above.

몇몇 실시예에서, 광산란층(160)의 감광성 수지는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 광중합 개시제를 더 포함할 수 있다. 즉, 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층(160)을 형성하기 위한 노광 공정에서 광중합 개시제가 남는 경우, 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함할 수도 있다.In some embodiments, the photosensitive resin of the light-scattering layer 160 may further include a photopolymerization initiator of the photosensitive resin composition for light extraction described above. That is, when the photopolymerization initiator remains in the exposure process for forming the light-scattering layer 160 from the photosensitive resin composition for light extraction, the photosensitive resin may further include a photopolymerization initiator.

광산란층(160)은 컬러 필터(130)와 중첩되도록 형성된다. 즉, 광산란층(160)은 기판(110) 전체 영역 상에 형성되는 것이 아니고, 광산란층(160)의 모든 영역은 컬러 필터(130) 상에 형성된다. 광산란층(160)과 컬러 필터(130)의 중첩 관계에 대한 보다 상세한 설명은 도 1c를 참조하여 후술한다.The light scattering layer 160 is formed to overlap with the color filter 130. That is, the light scattering layer 160 is not formed on the entire region of the substrate 110, and all the regions of the light scattering layer 160 are formed on the color filter 130. A more detailed description of the superposition relationship between the light-scattering layer 160 and the color filter 130 will be described later with reference to FIG. 1C.

오버 코팅층(150) 및 광산란층(160) 상에 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 포함하는 유기 발광 소자(140) 및 뱅크(114)가 형성된다. 구체적으로, 오버 코팅층(150) 및 광산란층(160)의 상면 상에 유기 발광층(142)에 정공(hole)을 공급하기 위한 애노드(141)가 형성되고, 애노드(141) 상에 유기 발광층(142)이 형성되고, 유기 발광층(142) 상에 유기 발광층(142)에 전자(electron)를 공급하기 위한 캐소드(143)가 형성된다. 애노드(141)는 일함수가 높은 물질로 형성되고, 캐소드(143)는 일함수가 낮은 물질로 형성된다. 유기 발광층(142)은 백색광을 발광하기 위한 유기 발광층(142)이다. 본 명세서에서 유기 발광 표시 장치(100)는 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치이므로, 캐소드(143)를 구성하는 물질은 반사성이 우수할 수 있다. The organic light emitting device 140 and the bank 114 including the anode 141, the organic light emitting layer 142, and the cathode 143 are formed on the overcoat layer 150 and the light scattering layer 160. [ Specifically, an anode 141 for supplying holes to the organic light emitting layer 142 is formed on the upper surface of the overcoat layer 150 and the light scattering layer 160, and an organic light emitting layer 142 And a cathode 143 for supplying electrons to the organic light emitting layer 142 is formed on the organic light emitting layer 142. [ The anode 141 is formed of a material having a high work function, and the cathode 143 is formed of a material having a low work function. The organic light emitting layer 142 is an organic light emitting layer 142 for emitting white light. Since the organic light emitting diode display 100 is a bottom emission organic light emitting diode display, the material of the cathode 143 may be excellent in reflectivity.

유기 발광 소자(140)는 뱅크(114)에 의해 정의된 발광 영역(EA)을 포함한다. 즉, 유기 발광 소자(140)의 애노드(141) 중 뱅크(114)에 의해 커버되지 않은 애노드(141) 영역에서만 광이 발광될 수 있으므로, 유기 발광 소자(140)에서 뱅크(114)에 의해 커버되지 않은 애노드(141) 영역은 발광 영역(EA)으로 기능한다.The organic light emitting device 140 includes a light emitting region EA defined by the bank 114. [ That is, since light can be emitted only in the region of the anode 141 which is not covered by the bank 114 among the anode 141 of the organic light emitting element 140, light can be emitted from the organic light emitting element 140 by the bank 114 The region of the anode 141 that does not function as the emission region EA.

발광 영역(EA)은 광산란층(160)과 중첩된다. 발광 영역(EA)과 광산란층(160)의 중첩 관계에 대한 보다 상세한 설명을 위해 도 1c를 함께 참조한다.The light emitting region EA overlaps with the light scattering layer 160. For a more detailed description of the superposition relationship of the light emitting region EA and the light scattering layer 160, reference is also made to Fig. 1C.

도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 발광 영역, 광산란층 및 컬러 필터를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다. 도 1c에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)의 상부에서 바라본 하나의 서브 화소(SP)의 발광 영역(EA), 광산란층(160) 및 컬러 필터(130)의 평면만을 도시하였다. 도 1c에서 발광 영역(EA)과 광산란층(160)은 별도의 음영이나 해칭 없이 도시되었으며, 컬러 필터(130)는 최외곽 실선으로 둘러싸인 내부 영역 전체에 대응하고, 광산란층(160)과 중첩되지 않는 컬러 필터(130)의 부분만이 도 1a 및 도 1b와 동일한 해칭으로 도시되었다.1C is a schematic plan view illustrating an emission region, a light scattering layer, and a color filter of an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention. 1C, only the planes of the light emitting region EA, the light scattering layer 160, and the color filter 130 of one subpixel SP viewed from the top of the organic light emitting display 100 are shown for convenience of explanation. 1C, the light emitting region EA and the light scattering layer 160 are shown without any shading or hatching, and the color filter 130 corresponds to the entire inner region surrounded by the outermost solid line and overlaps with the light scattering layer 160 Only the portion of the color filter 130 that is not shown is hatched with the same hatch as Figs. 1A and 1B.

도 1c를 참조하면, 발광 영역(EA)과 광산란층(160)은 중첩되어 대응된다. 즉, 발광 영역(EA)의 면적과 광산란층(160) 영역의 면적은 서로 동일할 수 있다. 여기서, 특정 구성요소의 영역의 면적은 특정 구성 요소의 상면의 면적과 하면의 면적 중 더 큰 것으로 정의된다. 광산란층(160) 및 오버 코팅층(150)에 의해 애노드(141)는 단차를 갖는데, 단차가 존재하는 애노드(141) 부분에는 유기 발광 소자(140)의 열화가 발생될 수 있다. 이에 따라 광산란층(160)의 영역의 면적이 발광 영역(EA)의 면적보다 작은 경우, 단차가 존재하는 애노드(141) 부분, 즉, 광산란층(160)의 경계 상에 위치한 애노드(141) 부분이 발광 영역(EA)에 배치되고, 발생된 유기 발광 소자(140)의 열화에 의해 발광 영역(EA)의 휘도 불균일이 발생될 수 있다. 또한, 유기 발광 소자(140)에 열화가 발생되지 않는 경우라도, 광산란층(160)이 형성되어 광추출 효율이 향상된 발광 영역(EA)의 부분과 광산란층(160)이 형성되지 않아 광추출 효율이 향상되지 않은 발광 영역(EA)의 부분 사이의 휘도 불균일이 발생될 수 있다. 또한, 광산란층(160)의 영역의 면적이 발광 영역(EA)의 면적보다 큰 경우 또는 광산란층(160)이 유기 발광 표시 장치(100)의 기판(110) 전체 영역 상에 형성된 경우, 광산란층(160)에서 발생하는 광의 산란에 의해 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 블러링 현상이 발생될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 발광 영역(EA)과 광산란층(160)이 중첩하므로, 상술한 바와 같은 휘도 불균일 문제와 블러링 현상이 해결될 수 있다.Referring to FIG. 1C, the light emitting region EA and the light scattering layer 160 overlap each other. That is, the area of the light emitting region EA and the area of the light scattering layer 160 may be the same. Here, the area of the area of the specific component is defined as the larger of the area of the upper surface of the specific component and the area of the lower surface. The anode 141 has a step difference due to the light scattering layer 160 and the overcoat layer 150 and deterioration of the organic light emitting element 140 may occur in the anode 141 where the step exists. When the area of the region of the light scattering layer 160 is smaller than the area of the light emitting region EA, the portion of the anode 141 where the step exists, that is, the portion of the anode 141 located on the boundary of the light scattering layer 160 And the non-uniformity of brightness of the light emitting region EA may be caused by the deterioration of the generated organic light emitting element 140. [ Even when no deterioration occurs in the organic light emitting diode 140, the light scattering layer 160 is formed and the light scattering layer 160 is not formed in the light emitting area EA where the light extraction efficiency is improved. Luminance nonuniformity may occur between portions of the light emitting region EA which are not improved. When the area of the light scattering layer 160 is larger than the area of the light emitting area EA or when the light scattering layer 160 is formed on the entire area of the substrate 110 of the OLED display 100, The blurring phenomenon may occur in the outer region of the light emitting region EA due to scattering of light generated in the light emitting region 160. Therefore, in the organic light emitting diode display 100 according to an embodiment of the present invention, the light emitting area EA overlaps with the light scattering layer 160, and thus the luminance non-uniformity problem and the blurring phenomenon described above can be solved.

도 1c를 참조하면, 광산란층(160)은 컬러 필터(130)와 중첩되도록 형성된다. 즉, 광산란층(160)은 기판(110) 전체 영역 상에 형성되는 것이 아니고, 광산란층(160)의 모든 영역은 컬러 필터(130) 상에 형성된다. 따라서, 광산란층(160)의 영역의 면적은 컬러 필터(130)의 영역의 면적과 동일하거나 컬러 필터(130)의 영역의 면적보다 작다.Referring to FIG. 1C, the light scattering layer 160 is formed to overlap with the color filter 130. That is, the light scattering layer 160 is not formed on the entire region of the substrate 110, and all the regions of the light scattering layer 160 are formed on the color filter 130. Therefore, the area of the region of the light-scattering layer 160 is equal to or smaller than the area of the area of the color filter 130.

도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 광추출을 위한 분산 입자(161)를 포함하는 광산란층(160)을 사용하여 유기 발광 표시 장치(100)의 광추출 효율이 향상된다. 즉, 유기 발광층(142)에서 발광된 광 중 광산란층(160)에 입사되는 광은 분산 입자(161)에 의해 산란된다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)에 의해 산란된 광은 광산란층(160) 내에서 다양한 방향으로 진행될 수 있고, 광산란층(160)에 입사하는 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 분산 입자(161)에 의해 컬러 필터(130)로 진행할 확률이 높아진다. 따라서, 컬러 필터(130)로 진행하는 광이 증가하여 유기 발광 표시 장치(100)의 광추출 효율이 향상되고, 이에 따라 유기 발광 표시 장치(100)의 수명이 증가되며, 유기 발광 표시 장치(100)의 소비 전력이 감소될 수 있다. 1A to 1C, an OLED display 100 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a light scattering layer 160 including dispersed particles 161 for light extraction, 100 is improved. That is, the light incident on the light scattering layer 160 among the light emitted from the organic light emitting layer 142 is scattered by the dispersed particles 161. The light scattered by the dispersed particles 161 of the light scattering layer 160 may travel in various directions in the light scattering layer 160 and the light emitted from the organic light emitting layer 142 incident on the light scattering layer 160 may be dispersed The probability that the particle 161 proceeds to the color filter 130 is increased. Accordingly, the amount of light traveling to the color filter 130 increases to improve the light extraction efficiency of the organic light emitting display 100, thereby increasing the lifetime of the organic light emitting display 100, Can be reduced.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층(160)이 형성되므로, 광산란층(160) 형성시 에칭 공정이 요구되지 않는다. 또한, 광추출용 감광성 수지 조성물은 포토 패터닝이 가능하므로, 광산란층(160) 형성 시뿐만 아니라 광산란층(160)의 패터닝 시에도 광산란층(160) 주변의 엘리먼트에 대한 손상이 발생하지 않는다. 따라서, 유기 발광 표시 장치(100)의 다른 엘리먼트에 대한 손상 없이 유기 발광 표시 장치(100) 내부에 광산란층(160)이 형성될 수 있다. 또한, 패터닝된 형상의 광산란층(160)을 사용하여, 즉, 패터닝되어 발광 영역(EA)과 중첩하는 형상의 광산란층(160)을 사용하여, 광산란층(160)에 의해 발생될 수 있는 휘도 불균일 문제와 블러링 현상이 해결될 수도 있다.In addition, in the OLED display 100 according to an embodiment of the present invention, since the light scattering layer 160 is formed using the photosensitive resin composition for light extraction, an etching process is not required in forming the light scattering layer 160 Do not. In addition, since the photosensitive resin composition for light extraction can be photopatterned, damage to the elements around the light scattering layer 160 does not occur not only when the light scattering layer 160 is formed, but also when the light scattering layer 160 is patterned. Accordingly, the light scattering layer 160 may be formed in the organic light emitting display 100 without damaging the other elements of the organic light emitting display 100. In addition, the light-scattering layer 160, which is patterned using the patterned shape of the light-scattering layer 160, is patterned to overlap the light-emitting region EA, Non-uniformity and blurring may be solved.

도 1a 및 도 1b에서는 패시베이션층(113)이 박막 트랜지스터(120) 상부를 평탄화하는 것으로 도시되었으나, 패시베이션층(113)은 박막 트랜지스터(120) 상부를 평탄화하지 않고, 하부에 위치한 엘리먼트들의 표면 형상을 따라 형성될 수도 있다. 또한, 도 1a 및 도 1b에서는 패시베이션층(113)이 유기 발광 표시 장치(100)에 포함되는 것으로 도시되었으나, 패시베이션층(113)이 사용되지 않고, 박막 트랜지스터(120) 상에 바로 오버 코팅층(150)이 형성될 수도 있다.1A and 1B, the passivation layer 113 is shown as planarizing the upper surface of the thin film transistor 120. However, the passivation layer 113 may be formed by flattening the upper surface of the thin film transistor 120, . 1A and 1B, the passivation layer 113 is shown as being included in the organic light emitting diode display 100, but the passivation layer 113 is not used, and the overcoat layer 150 May be formed.

도 1a 및 도 1b에서는 컬러 필터(130)가 패시베이션층(113) 상에 형성되는 것으로 도시되었으나, 이에 제한되지 않고, 컬러 필터(130)는 오버 코팅층(150) 하부와 기판(110) 사이의 임의의 위치에 형성될 수 있다.Although the color filter 130 is shown in FIGS. 1A and 1B to be formed on the passivation layer 113, the color filter 130 may be formed on the passivation layer 113, As shown in FIG.

도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다. 도 2b는 도 2a의 X영역에 대한 확대 단면도이다. 도 2a 및 도 2b의 유기 발광 표시 장치(200)는 도 1a 내지 도 1c의 유기 발광 표시 장치(100)와 비교하여 고굴절 평탄화막(270)을 더 포함하고, 광산란층(160)이 비평탄화된 상면을 갖는다는 것만이 상이할 뿐 다른 엘리먼트들은 실질적으로 동일하므로, 중복 설명은 생략한다.2A is a cross-sectional view illustrating an OLED display according to another embodiment of the present invention. 2B is an enlarged cross-sectional view of the X region of FIG. 2A. The organic light emitting diode display 200 of FIGS. 2A and 2B further includes a high-refraction planarization layer 270 as compared with the organic light emitting diode display 100 of FIGS. 1A to 1C, and the light scattering layer 160 is non- Since the other elements are substantially the same except that they have an upper surface, redundant descriptions are omitted.

오버 코팅층(150) 상에 광산란층(160)이 형성된다. 광산란층(160)은 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이 평탄화된 상면을 가질 수도 있으며, 광산란층(160)에 분산된 분산 입자(161)에 의해 광산란층(160)은 도 2b에 도시된 바와 같은 비평탄화된 상면을 가질 수도 있다. 즉, 광산란층(160)은 분산 입자(161)를 포함하므로 소정의 조도(roughness)를 가질 수 있다. 도 2a에서는 설명의 편의를 위해 광산란층(160)의 상면이 평탄화된 것으로 도시되었으나, 도 2b에 도시된 바와 같이 광산란층(160)의 상면은 비평탄화된 면이다.A light scattering layer 160 is formed on the overcoat layer 150. The light scattering layer 160 may have a planarized upper surface as shown in FIGS. 1A and 1B and the light scattering layer 160 may be formed by dispersed particles 161 dispersed in the light scattering layer 160, And may have a non-flattened top surface as shown in Fig. That is, since the light scattering layer 160 includes the dispersed particles 161, it may have a predetermined roughness. 2A, the upper surface of the light-scattering layer 160 is shown as being planarized for convenience of explanation, but the upper surface of the light-scattering layer 160 is an unplatenized surface as shown in FIG. 2B.

광산란층(160)의 상부를 평탄화하기 위해 광산란층(160) 상에 고굴절 평탄화막(270)이 형성되고, 유기 발광 소자(240)의 애노드(241)는 오버 코팅층(150) 및 고굴절 평탄화막(270) 상에 형성된다. 고굴절 평탄화막(270)은 광산란층(160) 상에 형성되어 광산란층(160)의 상부를 평탄화하고, 이에 의해 고굴절 평탄화막(270) 상에 형성되는 애노드(241) 또한 평탄하게 형성될 수 있다. 따라서, 광산란층(160)의 비평탄화된 상면에 의해 애노드(241)의 상면이 뾰족하고(peaky), 모폴로지(morphology)가 급격하게 변화하는 부분을 갖게 되어, 애노드(241) 상에 유기 발광층(142)이 형성되지 않는 영역이 발생하는 것을 방지하고, 애노드(241)와 캐소드(143)가 단락되는 것을 방지할 수 있다.A high refraction flattening film 270 is formed on the light scattering layer 160 to planarize the upper part of the light scattering layer 160 and an anode 241 of the organic light emitting device 240 is formed on the overcoating layer 150 and the high- 270). The high refractive index flattening film 270 is formed on the light scattering layer 160 to flatten the upper part of the light scattering layer 160 so that the anode 241 formed on the high refractive index flattening film 270 can also be formed flat . Accordingly, the top surface of the anode 241 is peaky and the morphology is rapidly changed due to the non-flattened top surface of the light scattering layer 160, so that the organic light emitting layer It is possible to prevent the anode 241 and the cathode 143 from being short-circuited.

고굴절 평탄화막(270)은 1.65 이상의 굴절률을 가질 수도 있다. 구체적으로, 고굴절 평탄화막(270)은 굴절률 1.65 이상을 갖으며, 1 ㎛의 두께에서 80% 이상의 투과도를 갖는 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 고굴절 평탄화막(270)은 산화 티타늄(TiO2) 또는 산화 지르코늄(ZrO2) 등과 같은 금속 산화물을 포함하는 폴리머 재료, CVD 등과 같은 증착법을 이용하여 형성된 실리콘 질화물(SiNx) 등의 고굴절 재료 및 고굴절 폴리이미드(polyimide) 등으로부터 형성될 수 있다. The high refractive index flattening film 270 may have a refractive index of 1.65 or more. Specifically, the high-refraction flattening film 270 may have a refractive index of 1.65 or more, and may be formed of a material having a transmittance of 80% or more at a thickness of 1 μm. For example, the high-refractive-index planarization layer 270 may be formed of a polymer material including a metal oxide such as titanium oxide (TiO 2 ) or zirconium oxide (ZrO 2 ), a high refractive index layer such as silicon nitride (SiNx) formed using a CVD Materials and high refractive index polyimide.

고굴절 평탄화막(270)은 광산란층(160)을 덮도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 광산란층(160)과 뱅크(114)의 계면 및 광산란층(160)과 오버 코팅층(150)의 계면에서의 전반사에 의해 이웃하는 서브 화소로 전달되지 않고, 해당 서브 화소의 컬러 필터(130)로 진행되도록 유도되며, 빛샘 현상 또는 혼색 현상도 감소된다. 또한, 광산란층(160)에 의해 해당 서브 화소의 컬러 필터(130)를 향하는 광량이 증가함에 따라, 유기 발광 표시 장치(100)의 광 추출 효율이 높아지고 소비 전력이 감소하며 수명도 증가한다.The high refractive index flattening film 270 may be formed to cover the light scattering layer 160. Accordingly, light emitted from the organic light emitting layer 142 is transmitted to the neighboring sub-pixels by total reflection at the interface between the light scattering layer 160 and the bank 114 and at the interface between the light scattering layer 160 and the overcoat layer 150 And is led to proceed to the color filter 130 of the corresponding sub-pixel, and light leakage phenomenon or color mixing phenomenon is also reduced. Also, as the amount of light directed toward the color filter 130 of the sub-pixel is increased by the light-scattering layer 160, the light extraction efficiency of the OLED display 100 increases, power consumption decreases, and the lifetime increases.

일반적으로 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 증가시키기 위해 광학적인 보강 간섭을 이용하는 마이크로캐비티(micro-cavity)가 사용된다. 이러한 마이크로캐비티를 사용하기 위해서는 애노드와 캐소드 사이의 거리, 즉, 유기 발광층의 두께를 조절하여 광학 조건을 만족시키게 되고, 예를 들어, 유기 발광층은 약 350 내지 400 nm 이하의 두께를 가져야 한다. 즉, 유기 발광층이 백색광을 발광하기 위해 두 개의 유기 발광층이 적층된 구조로 형성되는 경우에 있어서, 유기 발광 소자에서 마이크로캐비티 효과가 구현되기 위한 광학적 조건을 충족시키기 위해서는, 유기 발광층의 두께가 350 nm 이상이어야 한다. 나아가 적층된 유기 발광층의 개수가 증가할수록, 마이크로캐비티 효과를 구현하기 위한 광학적 조건에 따른 유기 발광층의 두께가 비약적으로 증가할 수 밖에 없다. 다만, 상술한 바와 같은 마이크로캐비티를 사용하기 위해 유기 발광층의 두께가 필요 이상으로 증가되어야 한다면, 유기 발광층의 제조 비용 및 제조 시간이 증가하게 되며, 유기 발광 표시 장치를 구동하기 위한 구동 전압 및 소비 전력 또한 증가하게 된다. 한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100, 200)에서는 광산란층(160)을 사용하여 광추출 효율이 향상된다. 따라서, 마이크로캐비티를 사용하지 않더라도 유기 발광 표시 장치(100, 200)의 광추출 효율을 충분히 확보할 수 있으므로, 유기 발광층(142)에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층(142)의 두께가 결정되고, 유기 발광 표시 장치(100, 200)의 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력을 감소시키기 위해 감소된 두께의 유기 발광층(142)을 사용할 수도 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 유기 발광 소자(140)는 350 nm 이하의 얇은 유기 발광층(142)의 두께를 가질 수 있다. 광산란층(160) 사용에 따른 유기 발광층(142)의 두께 감소에 대한 보다 상세한 설명을 위해 표 1을 함께 참조한다.In general, a micro-cavity using optical constructive interference is used to increase the light extraction efficiency of an organic light emitting display. In order to use such a micro cavity, the distance between the anode and the cathode, that is, the thickness of the organic light emitting layer, is adjusted to satisfy the optical condition. For example, the organic light emitting layer should have a thickness of about 350 to 400 nm or less. That is, in the case where the organic light emitting layer is formed by stacking two organic light emitting layers to emit white light, in order to satisfy the optical condition for realizing the micro-cavity effect in the organic light emitting device, Or more. Furthermore, as the number of the stacked organic light emitting layers increases, the thickness of the organic light emitting layer depending on optical conditions for realizing the micro-cavity effect can not but increase dramatically. However, if the thickness of the organic light emitting layer is increased more than necessary to use the micro cavity as described above, the manufacturing cost and the manufacturing time of the organic light emitting layer increase, and the driving voltage and the power consumption And also increases. Meanwhile, in the organic light emitting display devices 100 and 200 according to an embodiment of the present invention, light extraction efficiency is improved by using the light scattering layer 160. Accordingly, since the light extraction efficiency of the organic light emitting display devices 100 and 200 can be sufficiently secured without using the micro cavity, the organic light emitting layer 142 can be formed without any limitation on the optical conditions for the light emitted from the organic light emitting layer 142. [ And a reduced thickness of the organic light emitting layer 142 may be used to reduce the manufacturing cost, the manufacturing time, the driving voltage, and the power consumption of the organic light emitting display devices 100 and 200. That is, the organic light emitting diode 140 of the OLED display 100 according to an embodiment of the present invention may have a thickness of the organic light emitting layer 142 of less than 350 nm. For a more detailed description of the thickness reduction of the organic light emitting layer 142 with the use of the light scattering layer 160, see Table 1 together.

구동 전압Driving voltage cd/Acd / A lm/Alm / A 비교예 1Comparative Example 1 11.711.7 7070 1818 실시예 1Example 1 11.811.8 8080 2121 비교예 2Comparative Example 2 8.88.8 4141 1515 실시예 2Example 2 9.09.0 7171 2525

비교예 1, 2 및 실시예 1, 2 모두는 2-스택 구조의 백색 유기 발광층을 사용하였으며, 구체적으로 청색 발광층과 옐로우그린(YG) 발광층이 적층된 구조인 유기 발광층이 사용되었다. 비교예 1 및 실시예 1에서는 하부로부터 기판, 오버 코팅층, 고굴절 평탄화막, 애노드, 50 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 옐로우그린 발광층, 90 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 청색 발광층, 180 ㎚의 유기층 및 캐소드가 적층된 구조의 총 360 ㎚의 유기 발광층이 사용되었으며, 비교예 2 및 실시예 2에서는 하부로부터 기판, 오버 코팅층, 고굴절 평탄화막, 50 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 옐로우그린 발광층, 70 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 청색 발광층, 70 ㎚의 유기층 및 캐소드가 적층된 구조의 총 230 ㎚의 유기 발광층이 사용되었다. 즉, 비교예 1 및 실시예 1에서는 마이크로캐비티를 사용하기 위해 광학 조건에 따라 유기 발광층의 두께가 설계되었고, 비교예 2 및 실시예 2에서는 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층의 두께가 설계되었다. 또한, 비교예 1 및 2에서는 별도의 광산란층이 사용되지 않았으며, 실시예 1 및 2에서는 상술한 바와 같은 본 발명의 광산란층이 사용되었다. 상술한 유기층들은 정공 주입층, 정공 수송층, 전하 발생층, 전자 주입층, 전자 수송층 등과 같은 유기층들일 수 있다.In each of Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 and 2, a white organic light emitting layer having a two-stack structure was used. Specifically, an organic light emitting layer having a structure in which a blue light emitting layer and a yellow green (YG) light emitting layer were laminated was used. In Comparative Examples 1 and 1, a substrate, an overcoat layer, a high-refraction flattening film, an anode, an organic layer of 50 nm, a yellow green luminescent layer of 20 nm, an organic layer of 90 nm, a blue luminescent layer of 20 nm, An overcoat layer, a high refractive index flattening film, an organic layer of 50 nm, a yellow green emitting layer of 20 nm, and an organic layer of 70 nm from the bottom in Comparative Examples 2 and 2, , A 20-nm blue light-emitting layer, a 70-nm organic layer, and a cathode are laminated. That is, in Comparative Example 1 and Example 1, the thickness of the organic light emitting layer was designed according to the optical condition for using the micro cavity. In Comparative Example 2 and Example 2, the thickness of the organic light emitting layer was designed without any limitation on the optical condition. In Comparative Examples 1 and 2, no separate light scattering layer was used, and in Examples 1 and 2, the light scattering layer of the present invention as described above was used. The organic layers may be organic layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a charge generation layer, an electron injection layer, and an electron transport layer.

비교예 1과 실시예 1는 동일한 두께의 유기 발광층을 사용하였으나, 광산란층이 사용된 실시예 1의 전류 효율(cd/A) 및 전력 효율(lm/W)이 비교예 1의 전류 효율 및 전력 효율 보다 증가하였음을 확인할 수 있다.In Comparative Example 1 and Example 1, the organic light emitting layer having the same thickness was used, but the current efficiency (cd / A) and the power efficiency (lm / W) of Example 1 in which the light- It can be confirmed that the efficiency is increased.

비교예 2와 실시예 2 또한 동일한 두께의 유기 발광층을 사용하였으나, 비교예 2와 실시예 2는 감소된 두께의 유기 발광층을 사용하여 광학 조건이 맞춰져 있지 않았다는 점에서 광산란층이 사용된 실시예 2의 전류 효율 및 전력 효율이 비교예 2의 전류 효율 및 전력 효율 보다 증가하였으며, 비교예 1과 실시예 1의 경우보다 증가 폭이 더 큼을 확인할 수 있다. 이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서는 청색 발광층, 옐로우그린 발광층 및 정공 주입층, 정공 수송층, 전하 발생층, 전자 주입층, 전자 수송층이 모두 100 nm 미만의 두께를 가진다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층을 구성하는 각각의 층들은 모두 100 nm 미만의 두께를 가질 수 있다.Comparative Example 2 and Example 2 Although the organic light emitting layer of the same thickness was used, the organic light emitting layer of Comparative Example 2 and Example 2 were used in the same manner as in Example 2 The current efficiency and the power efficiency of the comparative example 2 are increased compared to the current efficiency and the power efficiency of the comparative example 2. It can be seen that the increase width is larger than that of the comparative example 1 and the example 1. [ Accordingly, in the organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, the blue light emitting layer, the yellow green light emitting layer, the hole injecting layer, the hole transporting layer, the charge generating layer, the electron injecting layer, and the electron transporting layer all have thicknesses of less than 100 nm. That is, each of the layers constituting the organic light emitting layer of the organic light emitting display according to the embodiment of the present invention may have a thickness of less than 100 nm.

다음으로, 광산란층을 사용하지 않고 광학 조건에 따라 유기 발광층의 두께가 설계된 비교예 1과 광산란층을 사용하여 유기 발광층의 두께를 감소시킨 실시예 2를 비교하면, 구동 전압은 감소한 반면 전류 효율 및 전력 효율 모두 증가하였음을 확인할 수 있다.Next, comparing Comparative Example 1 in which the thickness of the organic light emitting layer was designed according to optical conditions without using the light scattering layer, and Example 2 in which the thickness of the organic light emitting layer was reduced using the light scattering layer, the driving voltage decreased, It can be confirmed that the power efficiency is increased.

이하에서는, 본 발명의 실시예를 예로 하여 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to the following Examples.

제조예 1
(중량 %)Production Example 1
(weight %) 제조예 2
(중량 %)Production Example 2
(weight %) 제조예 3
(중량 %)Production Example 3
(weight %) 알칼리 가용성 수지
(메타아크릴산(MMA): 글리시딜메타아크릴레이트(GMA): 스타일렌(Sty)의 2:5:2 공중합체)Alkali-soluble resin
(2: 5: 2 copolymer of methacrylic acid (MMA): glycidyl methacrylate (GMA): Sty) 1010 1010 1010 불포화성 에틸렌계 모노머 (DPHA_공영사)The unsaturated ethylenic monomer (DPHA_Public) 1515 1515 1515 광추출용 분산액 (MHI White C024_미쿠니)Dispersion for light extraction (MHI White C024_ Mikuni) 2020 1515 1010 광중합 개시제 (OXE-01_Ciba)Photopolymerization initiator (OXE-01_Ciba) 33 33 33 용매
[ E-1 : PGMEA / E-2 : Cyclohexanone ](대정화금)menstruum
[E-1: PGMEA / E-2: Cyclohexanone] (purified water) E-1 : 30
E-2 : 22E-1: 30
E-2: 22 E-1 : 30
E-2 : 27E-1: 30
E-2: 27 E-1 : 30
E-2 : 32E-1: 30
E-2: 32

제조예Manufacturing example 1 One

표 2에 기재된 제조예 1의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The alkali-soluble resin, the unsaturated ethylenic monomer, the light extracting dispersion, the photopolymerization initiator and the solvent were stirred at room temperature according to the content of Production Example 1 described in Table 2 to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

제조예Manufacturing example 2 2

표 2에 기재된 제조예 2의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The alkali-soluble resin, the unsaturated ethylenic monomer, the light extracting dispersion, the photopolymerization initiator and the solvent were stirred at room temperature according to the content of Production Example 2 shown in Table 2 to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

제조예Manufacturing example 3 3

표 2에 기재된 제조예 3의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The alkali-soluble resin, the unsaturated ethylenic monomer, the light extracting dispersion, the photopolymerization initiator and the solvent were stirred at room temperature according to the content of Production Example 3 shown in Table 2 to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

실시예Example 1 One

기판 상에 오버 코팅층을 형성한 후, 제조예 1의 광추출용 감광성 수지 조성물을 1㎛ 두께로 코팅(700rpm, 30초)하고, 100mJ/cm2로 마스크를 사용해 노광하고, 현상액(0.04%, KOH)에 100초 동안 침지하여 현상하고, 230도 오븐에서 베이킹(baking)을 진행하여 광산란층을 형성하였다. 그 후, 고굴절 평탄화막(브루어사이언스 사, D1)을 0.5㎛로 형성하고, 녹색 인광 물질로 구성되는 유기 발광층을 포함하는 유기 발광 소자를 제조하였다. After forming the overcoat layer on a substrate, coating a photosensitive resin composition for a light extraction of Preparation 1 to 1㎛ thickness (700rpm, 30 sec), and exposed using a mask to 100mJ / cm 2, a developing solution (0.04%, KOH) for 100 seconds to develop, and baking was performed in an oven at 230 deg. C to form a light scattering layer. Thereafter, a high-refraction flattening film (Brewer Science Ltd., D1) was formed to 0.5 mu m to prepare an organic light emitting device including an organic light emitting layer composed of a green phosphorescent material.

실시예Example 2 2

제조예 2의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 표시 장치를 제조하였다. An organic light emitting display device was manufactured under the same process conditions as in Example 1 except that the photosensitive resin composition for light extraction of Production Example 2 was used.

실시예Example 3 3

제조예 3의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 표시 장치를 제조하였다. An organic light emitting display device was manufactured under the same process conditions as in Example 1, except that the photosensitive resin composition for light extraction of Production Example 3 was used.

비교예Comparative Example 1 One

마스크를 사용하지 않고, 100mJ/cm2로 전면 노광하여 광산란층을 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 소자를 제조하였다. An organic light emitting device was manufactured under the same process conditions as in Example 1, except that a light-scattering layer was formed by front exposure at 100 mJ / cm 2 without using a mask.

비교예Comparative Example 2 2

광산란층 및 고굴절 평탄화막을 형성하지 않은 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정으로 유기 발광 소자를 제조하였다. An organic light emitting device was manufactured by the same process as in Example 1 except that a light scattering layer and a high refractive index flattening film were not formed.

상술한 실시예 1 내지 3, 비교예 1 및 2의 유기 발광 표시 장치를 10mA/cm2로 구동하였을 때의 구동 전압, 전류 효율(cd/A), 색좌표, 헤이즈(Haze) 값은 다음의 표 3과 같다.The above-mentioned Examples 1-3, Comparative Example 1 and the driving voltage, current efficiency (cd / A), a color coordinate, a haze (Haze) value when the second organic light emitting diode display hayeoteul driven with 10mA / cm 2 in the following table 3.

구동 전압 (V)The driving voltage (V) 전류 효율
(cd/A)Current efficiency
(cd / A) 색좌표Color coordinates HazeHaze 실시예 1Example 1 6.06.0 6565 0.34, 0.620.34, 0.62 76%76% 실시예 2Example 2 6.16.1 6262 0.33, 0.610.33, 0.61 70%70% 실시예 3Example 3 6.06.0 5858 0.34, 0.610.34, 0.61 60%60% 비교예 1Comparative Example 1 6.26.2 6565 0.34, 0.620.34, 0.62 76%76% 비교예 2Comparative Example 2 6.06.0 5050 0.34, 0.610.34, 0.61 --

표 3을 참조하면, 광산란층이 적용되지 않은 비교예 2와 광산란층을 사용한 본 발명의 실시예 1 내지 3을 비교하면, 실시예 1 내지 3의 구동 전압은 비교예 2의 구동 전압과 거의 동일하지만, 실시예 1 내지 3의 전류 효율은 비교예 2의 전류 효율에 비해 약 20 내지 30% 정도 증가된 것을 확인할 수 있다. 또한, 광산란층이 추가되었지만 실시예 1 내지 3의 색좌표와 비교예 2의 색좌표 사이의 차이는 거의 없는 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 3, in comparison between Comparative Example 2 in which the light-scattering layer is not applied and Examples 1 to 3 in which the light-scattering layer is used, the driving voltages of Examples 1 to 3 are almost equal to the driving voltages of Comparative Example 2 However, it can be seen that the current efficiency of Examples 1 to 3 is increased by about 20 to 30% as compared with the current efficiency of Comparative Example 2. [ It is also confirmed that although the light scattering layer is added, there is almost no difference between the color coordinates of Examples 1 to 3 and the color coordinates of Comparative Example 2. [

다음으로, 실시예 1 내지 3을 비교하면, 분산 입자가 분산된 광추출용 분산액의 중량%가 증가할수록 헤이즈 값이 증가하여 유기 발광 표시 장치의 효율이 향상되는 것을 확인할 수 있다.Next, comparing Examples 1 to 3, it can be seen that the efficiency of the organic light emitting display is improved by increasing the haze value as the weight percentage of the light extracting dispersion in which the dispersed particles are dispersed increases.

한편, 동일한 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하는 실시예 1과 비교예 1은 구동 전압, 전류 효율, 색좌표 및 헤이즈 값이 실질적으로 동일하다. 다만, 광산란층의 패터닝 여부에 따른 블러링 현상은 실시예 1에 비해 비교예 1에 보다 두드러지게 나타난다. 이에 대해서는 도 4를 함께 참조하여 보다 상세하게 설명한다.On the other hand, in Example 1 and Comparative Example 1 using the photosensitive resin composition for light extraction of the same composition, the driving voltage, the current efficiency, the chromaticity coordinates and the haze value are substantially the same. However, the blurring phenomenon depending on the patterning of the light-scattering layer is more prominent in Comparative Example 1 than in Example 1. [ This will be described in more detail with reference to FIG.

도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예들의 유기 발광 표시 장치에서의 블러링(blurring)을 설명하기 위한 이미지들이다. 도 3(a)는 상술한 실시예 1에 대한 발광 이미지이고, 도 3(b)는 상술한 비교예 1에 대한 발광 이미지이고, 도 3(c)는 상술한 비교예 2에 대한 발광 이미지이다. 3 is a view for explaining blurring in the organic light emitting display according to the embodiment of the present invention and the comparative example. 3 (a) is a light emission image for the first embodiment, FIG. 3 (b) is a light emission image for the first comparative example 1, and FIG. 3 (c) is a light emission image for the second comparative example .

먼저, 도 3(c)를 참조하면, 비교예 2에서는 광산란층이 사용되지 않았으므로, 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 대한 블러링 현상이 발생하지 않음을 확인할 수 있다. 다음으로, 도 3(a)를 참조하면, 실시예 1에서는 광산란층을 사용하였으며, 광산란층이 발광 영역(EA)에 대응하여 중첩하도록 패터닝되었으므로, 비교예 2와 마찬가지로 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 대한 블러링 현상이 발생되지 않음을 확인할 수 있다. 다음으로, 도 3(b)를 참조하면, 비교예 2에서는 광산란층이 오버 코팅층 전체 영역 상에 형성되므로, 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 블러링 현상이 심하게 발생됨을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 3C, since the light-scattering layer is not used in Comparative Example 2, blurring of the outer region of the light emitting region EA does not occur. 3 (a), a light-scattering layer is used in Embodiment 1 and the light-scattering layer is patterned so as to overlap with the light-emitting region EA. Thus, as in Comparative Example 2, It can be confirmed that the blurring phenomenon does not occur in the region. Next, referring to FIG. 3 (b), in Comparative Example 2, since the light scattering layer is formed on the entire region of the overcoat layer, it is confirmed that the blurring phenomenon is severely generated in the outer region of the light emitting region EA.

즉, 광추출용 감광성 수지 조성물의 경우 다른 엘리먼트의 손상 없이 포토 패터닝이 가능하므로 실시예 1과 같이 광산란층이 발광 영역(EA)에만 중첩하도록 형성될 수 있으며 이에 의해 블러링 현상이 발생하지 않는 반면, 광산란층에 대한 패터닝 공정이 불가능하여 광산란층이 전면에 걸쳐 형성되는 비교예 1의 경우 블러링 현상이 발생하는 것을 확인할 수 있다.That is, in the case of the photosensitive resin composition for light extraction, the photo-patterning can be performed without damaging other elements, so that the light scattering layer can be formed so as to overlap only the light emitting region (EA) as in Embodiment 1, , The patterning process for the light-scattering layer is impossible, and the blurring phenomenon occurs in the case of Comparative Example 1 in which the light-scattering layer is formed over the entire surface.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다. 도 5a 내지 도 5d에 도시된 공정 단면도들은 도 1a 및 도 1b에서 설명된 유기 발광 표시 장치(100)의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도로서, 중복 설명은 생략한다.4 is a flowchart illustrating a method for fabricating an OLED display device according to an embodiment of the present invention. 5A to 5D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention. 5A to 5D are process cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the organic light emitting diode display 100 illustrated in FIGS. 1A and 1B, and a duplicate description thereof will be omitted.

먼저, 기판(110) 상에 컬러 필터(130)를 형성하고(S40), 컬러 필터(130) 상에 오버 코팅층(150)을 형성하며(S41), 오버 코팅층(150) 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 코팅한다(S42).First, a color filter 130 is formed on a substrate 110 in step S40. An overcoat layer 150 is formed on the color filter 130 in step S41. An overcoat layer 150 is coated with an alkali- (S42) a photosensitive resin composition 169 for light extraction containing an unsaturated ethylenic monomer, a light extracting dispersion having dispersed particles for light extraction, a photopolymerization initiator and a solvent.

도 5a를 참조하면, 오버 코팅층(150) 상에 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 코팅된다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하며, 상술한 바와 같은 구체적인 물질로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 5A, a photosensitive resin composition 169 for light extraction is coated on the overcoat layer 150. The light-sensitive photosensitive resin composition (169) for light extraction comprises an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a light extracting dispersion having dispersed particles for light extraction, a photopolymerization initiator and a solvent, have.

광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 스핀 코팅 등과 같은 다양한 코팅 방식을 통해 오버 코팅층(150) 상에 코팅될 수 있고, 오버 코팅층(150)의 전체 영역에 걸쳐서 코팅될 수 있다.The photosensitive resin composition 169 for light extraction may be coated on the overcoat layer 150 through various coating methods such as spin coating or the like and may be coated over the entire area of the overcoat layer 150.

이어서, 포토 패터닝 공정을 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물(169)로부터 광산란층(160)을 형성한다(S43).Then, a light scattering layer 160 is formed from the photosensitive resin composition 169 for light extraction using a photo patterning process (S43).

도 5b를 참조하면, 광산란층(160)을 형성하기 위해 마스크(190)를 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 부분 노광한다. 구체적으로, 광추출용 감광성 수지 조성물(169) 상에 차단부(191) 및 투과부(192)를 갖는 마스크(190)를 배치하고, 마스크(190) 상에서 UV 노광을 수행함에 의해 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 부분 노광될 수 있다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 부분 노광됨에 따라 마스크(190)의 투과부(192)를 통해 노광된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 불용성인 반면, 마스크(190)의 차단부(191)에 의해 노광되지 않은 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 가용성인 상태이다. Referring to FIG. 5B, the photosensitive resin composition 169 for light extraction is partially exposed using a mask 190 to form the light scattering layer 160. Specifically, a mask 190 having a blocking portion 191 and a transmissive portion 192 is disposed on the photosensitive resin composition 169 for light extraction, and UV exposure is performed on the mask 190, The composition 169 may be partially exposed. The light extracting photosensitive resin composition 169 exposed through the transmissive portion 192 of the mask 190 becomes insoluble while the light extracting photosensitive resin composition 169 is partially exposed, ) Is in a soluble state.

이어서, 노광 공정이 수행된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 현상한다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 현상됨에 따라 노광된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)만이 남게 되고, 도 5c에 도시된 바와 같이 광산란층(160)이 형성된다. 몇몇 실시예에서, 현상 공정 이후에 베이킹 공정이 수행될 수 있다.Then, the photosensitive resin composition for light extraction 169 subjected to the exposure process is developed. As the light-extracting photosensitive resin composition 169 is developed, only the exposed light-sensitive resin composition 169 for light extraction is left, and the light-scattering layer 160 is formed as shown in FIG. 5C. In some embodiments, a baking process may be performed after the development process.

본 명세서에서는 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 네거티브(negative) 타입의 감광성 수지 조성물인 것으로 설명하였으나, 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 포지티브(positive) 타입의 감광성 수지 조성물로 제조될 수도 있다.Although the photosensitive resin composition 169 for light extraction is described as being a negative type photosensitive resin composition in this specification, the photosensitive resin composition 169 for light extraction may be made of a positive type photosensitive resin composition have.

이어서, 광산란층(160) 상에 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 포함하는 유기 발광 소자(140)를 형성한다(S44).Next, an organic light emitting device 140 including an anode 141, an organic light emitting layer 142, and a cathode 143 is formed on the light scattering layer 160 (S44).

도 5d를 참조하면, 오버 코팅층(150) 및 패시베이션층에 컨택홀을 형성한 후 애노드(141)를 형성하여 애노드(141)와 박막 트랜지스터(120)의 소스 전극(123)을 전기적으로 연결시키고, 뱅크(114), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 순차적으로 형성할 수 있다.5D, a contact hole is formed in the overcoat layer 150 and the passivation layer, and then an anode 141 is formed to electrically connect the anode 141 and the source electrode 123 of the thin film transistor 120, The bank 114, the organic light emitting layer 142, and the cathode 143 can be sequentially formed.

도 5a 내지 도 5d에 도시되지는 않았으나, 광산란층(160)과 애노드(141) 사이에 고굴절 평탄화막이 형성될 수도 있다. 고굴절 평탄화막은 도 2a 및 도 2b에서 설명된 고굴절 평탄화막과 동일하고, 광산란층(160)의 상부를 평탄화할 수 있다.5A to 5D, a high-refractive-index planarization layer may be formed between the light-scattering layer 160 and the anode 141. [ The high-refractive-index planarization layer is the same as the high-refractive-index planarization layer described in FIGS. 2A and 2B, and the upper portion of the light-scattering layer 160 can be planarized.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to those embodiments and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

110, 310: 기판
111: 게이트 절연층
112: 에치 스타퍼
113, 313: 패시베이션층
114, 314: 뱅크
120: 박막 트랜지스터
121: 게이트 전극
122: 액티브층
123: 소스 전극
124: 드레인 전극
130: 컬러 필터
140, 240, 340: 유기 발광 소자
141, 241, 341: 애노드
142, 342: 유기 발광층
143, 343: 캐소드
150, 350: 오버 코팅층
160, 360, 365: 광산란층
161: 분산 입자
169: 광추출용 감광성 수지 조성물
270, 370, 375: 고굴절 평탄화막
190: 마스크
191: 차단부
192: 투과부
100, 200, 300A, 300B, 300C: 유기 발광 표시 장치
EA: 발광 영역
SP: 서브 화소110, 310: substrate
111: gate insulating layer
112: Etch Starper
113, 313: passivation layer
114, 314: bank
120: thin film transistor
121: gate electrode
122: active layer
123: source electrode
124: drain electrode
130: Color filter
140, 240, 340: organic light emitting element
141, 241, 341: anode
142, 342: organic light emitting layer
143, 343: cathode
150, 350: overcoat layer
160, 360, 365: light-scattering layer
161: dispersed particles
169: Photosensitive resin composition for light extraction
270, 370, 375: High-refraction flattening film
190: Mask
191:
192:
100, 200, 300A, 300B, 300C: organic light emitting display
EA: light emitting region
SP: sub-pixel

Claims (23)

알칼리 가용성 수지;
불포화성 에틸렌계 모노머;
광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액;
광중합 개시제; 및
용매를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.Alkali-soluble resins;
Unsaturated ethylenic monomers;
Dispersion for light extraction having dispersed particles for light extraction;
A photopolymerization initiator; And
A photosensitive resin composition for light extraction, which comprises a solvent. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고,
상기 불포화성 에틸렌계 모노머는 총 중량 대비 5 내지 70 중량%이고,
상기 광추출용 분산액은 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고,
상기 광중합 개시제는 총 중량 대비 0.5 내지 20 중량%이고,
상기 용매는 총 중량 대비 20 내지 90 중량%인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The alkali-soluble resin is contained in an amount of 5 to 50% by weight,
The unsaturated ethylenic monomer is present in an amount of 5 to 70% by weight,
The light extracting dispersion is 5 to 50 wt% based on the total weight,
The photopolymerization initiator is used in an amount of 0.5 to 20% by weight,
Wherein the solvent is 20 to 90% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는,
불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 에폭시기 함유 불포화 화합물이 중합된 공중합체인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The alkali-
A photosensitive resin composition for light extraction, which is a copolymer obtained by polymerizing at least one selected from an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride and an epoxy group-containing unsaturated compound. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는,
불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물, 에폭시기 함유 불포화 화합물, 상기 불포화 카르복실산 및 상기 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 및 상기 불포화 카르복실산, 상기 불포화 카르복실산 무수물 및 상기 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물 중 선택된 하나 이상의 화합물로부터 중합된 공중합체인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물. The method according to claim 1,
The alkali-
Unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride, an epoxy group-containing unsaturated compound, an olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound other than the unsaturated carboxylic acid and the unsaturated carboxylic acid anhydride, An unsaturated carboxylic acid anhydride, and an olefinically unsaturated compound other than the olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound, which is polymerized from at least one compound selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid anhydride, an unsaturated carboxylic acid anhydride, and an olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound. 제1항에 있어서,
상기 불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 아크릴 모노머인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the unsaturated ethylenic monomer is an acrylic monomer having at least two unsaturated ethylene bonds. 제1항에 있어서,
상기 광중합 개시제는 노광에 의해 상기 불포화성 에틸렌계 모노머의 중합을 개시하는 활성종을 발생시키는 화합물인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the photopolymerization initiator is a compound that generates an active species that initiates polymerization of the unsaturated ethylenic monomer by exposure. 제1항에 있어서,
상기 분산 입자의 굴절률과 상기 알칼리 가용성 수지의 굴절률의 차 및 상기 분산 입자의 굴절률과 상기 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률의 차는 0.2 이상인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the alkali soluble resin and the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 0.2 or more. 제7항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 상기 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률은 1.4 내지 1.6인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.8. The method of claim 7,
Wherein the refractive index of the alkali-soluble resin and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 1.4 to 1.6. 제7항에 있어서,
상기 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.8. The method of claim 7,
Wherein the dispersed particles are hollow particles comprising a metal oxide having a refractive index of 1.6 or more or a base portion having a refractive index of 1.2 or less. 제7항에 있어서,
상기 분산 입자의 직경은 200 ㎚ 내지 1 ㎛인 것을 특징으로 하는, 광추출용 감광성 수지 조성물.8. The method of claim 7,
Wherein the diameter of the dispersed particles is 200 nm to 1 占 퐉. 기판;
상기 기판 상에 형성된 컬러 필터;
상기 컬러 필터 상에 형성된 오버 코팅층;
상기 오버 코팅층 상에 형성되고, 애노드, 상기 애노드 상에 형성된 유기 발광층 및 상기 유기 발광층 상에 형성된 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자; 및
상기 오버 코팅층과 상기 유기 발광 소자 사이에 형성되고, 상기 유기 발광층에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 감광성 수지를 포함하는 광산란층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.Board;
A color filter formed on the substrate;
An overcoat layer formed on the color filter;
An organic light emitting element formed on the overcoat layer and including an anode, an organic light emitting layer formed on the anode, and a cathode formed on the organic light emitting layer; And
And a light scattering layer formed between the overcoat layer and the organic light emitting device and including a photosensitive resin having dispersed particles for light extraction from light emitted from the organic light emitting layer. 제11항에 있어서,
상기 광산란층과 상기 유기 발광 소자 사이에 형성되어 상기 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 더 포함하고,
상기 고굴절 평탄화막의 굴절률은 1.65 이상인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
Further comprising a high-refraction flattening film formed between the light-scattering layer and the organic light-emitting device to flatten the top of the light-scattering layer,
Wherein the high refractive index flattening film has a refractive index of 1.65 or more. 제11항에 있어서,
상기 광산란층은 상기 컬러 필터와 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the light scattering layer is formed to overlap with the color filter. 제11항에 있어서,
상기 유기 발광 소자는 뱅크에 의해 정의된 발광 영역을 포함하고,
상기 발광 영역은 상기 광산란층과 중첩된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the organic light emitting device comprises a light emitting region defined by a bank,
And the light emitting region is overlapped with the light scattering layer. 제11항에 있어서,
상기 감광성 수지는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. 12. The method of claim 11,
Wherein the photosensitive resin comprises an alkali-soluble resin and an unsaturated ethylenic monomer. 제15항에 있어서,
상기 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the photosensitive resin further comprises a photopolymerization initiator. 제11항에 있어서,
상기 감광성 수지의 굴절률은 1.4 내지 1.6이고,
상기 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갑는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 중공 입자인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
The refractive index of the photosensitive resin is 1.4 to 1.6,
Wherein the dispersed particle is a metal oxide having a refractive index of 1.6 or more or hollow particles having a refractive index of 1.2 or less. 제11항에 있어서,
상기 유기 발광층의 두께는 상기 유기 발광층에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 결정된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the thickness of the organic light emitting layer is determined without limitation on optical conditions for light emitted from the organic light emitting layer. 제11항에 있어서,
상기 유기 발광층은 350 nm 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the organic light emitting layer has a thickness of 350 nm or less. 제11항에 있어서,
상기 유기 발광층은 전자 수송층, 전자 주입층, 정공 수송층 및 정공 주입층 중 적어도 하나를 더 포함하고,
상기 전자 수송층, 상기 전자 주입층, 상기 정공 수송층 및 상기 정공 주입층은 100 nm 미만의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.12. The method of claim 11,
The organic light emitting layer may further include at least one of an electron transport layer, an electron injection layer, a hole transport layer, and a hole injection layer,
Wherein the electron transport layer, the electron injection layer, the hole transport layer, and the hole injection layer have a thickness of less than 100 nm. 기판 상에 컬러 필터를 형성하는 단계;
상기 컬러 필터 상에 오버 코팅층을 형성하는 단계;
상기 오버 코팅층 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계;
포토 패터닝 공정을 사용하여 상기 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하는 단계; 및
상기 광산란층 상에 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.Forming a color filter on the substrate;
Forming an overcoat layer on the color filter;
Coating a photosensitive resin composition for light extraction comprising an alkali soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction having dispersed particles for light extraction, a photopolymerization initiator and a solvent on the overcoat layer;
Forming a light scattering layer from the photosensitive resin composition for light extraction using a photo patterning process; And
And forming an organic light emitting device including an anode, an organic light emitting layer, and a cathode on the light scattering layer. 제21항에 있어서,
상기 광산란층을 형성하는 단계는,
마스크를 사용하여 상기 광추출용 감광성 수지 조성물을 부분 노광하는 단계; 및
상기 광추출용 감광성 수지 조성물을 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.22. The method of claim 21,
The step of forming the light scattering layer includes:
Partially exposing the photosensitive resin composition for light extraction using a mask; And
And developing the light-sensitive photosensitive resin composition for light extraction. 제21항에 있어서,
상기 광산란층과 상기 유기 발광 소자 사이에 상기 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.22. The method of claim 21,
Further comprising forming a high-refraction flattening film between the light scattering layer and the organic light emitting device to planarize the upper portion of the light scattering layer.
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