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KR20150112807A - Colored curable composition, cured film, color filter, method for manufacturing color filter, solid-state imaging device and image display device - Google Patents

Colored curable composition, cured film, color filter, method for manufacturing color filter, solid-state imaging device and image display device Download PDF

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KR20150112807A
KR20150112807A KR1020150036542A KR20150036542A KR20150112807A KR 20150112807 A KR20150112807 A KR 20150112807A KR 1020150036542 A KR1020150036542 A KR 1020150036542A KR 20150036542 A KR20150036542 A KR 20150036542A KR 20150112807 A KR20150112807 A KR 20150112807A
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KR
South Korea
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carbon atoms
general formula
anion
curable composition
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Withdrawn
Application number
KR1020150036542A
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Korean (ko)
Inventor
아키노리 후지타
아키오 카타야마
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

내열성이 우수한 착색 경화성 조성물, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치를 제공한다.
크산텐 염료, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 중합성 화합물을 함유하는 착색 경화성 조성물;

Figure pat00059

일반식(1)에 있어서, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는 기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 6∼20의 아릴기를 나타내고, R1∼R6 중 적어도 1개는 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는다; R7∼R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1∼7의 알킬기를 나타내고, X-는 음이온을 나타내거나, X-는 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함한다.
Figure pat00060
A color filter, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image pickup device, and a liquid crystal display device.
A colored curable composition containing a xanthene dye, a triarylmethane dye represented by the general formula (1) and a polymerizable compound;
Figure pat00059

In the general formula (1), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a reactive group represented by any one of the following general formulas (2A), (2B), (2C) At least one of R 1 to R 6 is a group represented by the following general formula (2A), general formula (2B), general formula (2C) and general formula Has a reactive group represented by any one of the formulas (2D); R 7 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, X - represents an anion, X - does not exist and at least one of R 1 to R 20 contains an anion do.
Figure pat00060

Description

착색 경화성 조성물, 경화막, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법, 고체촬상소자 및 화상표시장치{COLORED CURABLE COMPOSITION, CURED FILM, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a color curable composition, a cured film, a color filter, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image capturing device, and an image display device.

본 발명은 염료를 착색 화합물로서 포함하는 착색 경화성 조성물, 경화막, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법, 고체촬상소자 및 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored curable composition comprising a dye as a coloring compound, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state image pickup device and an image display device.

액정표시장치나 고체촬상소자 등에 사용되는 컬러필터를 제작하는 방법의 하나로서 안료 분산법이 널리 이용되고 있다. 안료 분산법으로서는 안료를 여러가지 감광성 조성물에 분산시킨 착색 경화성 조성물을 사용하여 포토리소그래피법에 의해 컬러필터를 제작하는 방법이 있다. 이 방법은 안료를 함유하기 때문에 광이나 열에 대하여 안정적임과 아울러, 포토리소그래피법에 의해 패터닝하기 때문에 위치 정밀도가 충분히 확보되어 액정표시장치, 유기 EL(일렉트로루미네선스) 표시장치 등에 사용되는 컬러 디스플레이용 컬러필터의 등의 제작에 적합한 방법으로 여겨지고 있다.BACKGROUND ART As a method for manufacturing a color filter used for a liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, a pigment dispersion method is widely used. As a pigment dispersion method, there is a method of producing a color filter by a photolithography method using a colored curable composition in which a pigment is dispersed in various photosensitive compositions. This method is stable to light or heat because it contains a pigment, and is patterned by a photolithography method. Therefore, positional accuracy is sufficiently ensured, and a color display (a liquid crystal display) used for a liquid crystal display, an organic electroluminescent And is considered to be a suitable method for fabricating a color filter for a color filter.

컬러필터의 제작에 사용되는 착색 화합물로서는 안료 뿐만 아니라, 염료 등의 안료 이외의 색소 화합물도 널리 검토되고 있다. 그 중, 염료로서는 피로메텐계 염료, 피리미딘아조계 염료, 피라졸아조계 염료, 크산텐계 염료, 트리아릴메탄계 염료 등, 다종 다양한 색소 모체를 갖는 화합물이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼5 참조). 이 중 특허문헌 1∼3에는 트리아릴메탄계 염료를 사용함으로써 높은 선명성, 내열성 및 견뢰성이 얻어지는 것이 기재되어 있다.Coloring compounds other than pigments such as dyes as well as pigments have been extensively studied as coloring compounds used in the production of color filters. Among them, as a dye, there are known compounds having a variety of dye pigments such as pyromethene dye, pyrimidine dye, pyrazole dye, xanthene dye and triarylmethane dye (see, for example, Patent Document 1 ~ 5). Among them, Patent Documents 1 to 3 disclose that high sharpness, heat resistance and fastness can be obtained by using a triarylmethane-based dye.

일본 특허공개 2013-144724호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-144724 일본 특허공개 2012-201694호 공보Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 20-20494 일본 특허공개 2008-292970호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-292970 일본 특허공개 2007-039478호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-039478 일본 특허 제3387541호 공보(일본 특허공개 평6-230210호 공보)Japanese Patent No. 3387541 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-230210)

착색 화합물로서 염료를 사용하면, 염료 자체의 색순도나 그 색상의 선명함에 의해 화상 표시시켰을 때의 표시 화상의 색상이나 휘도를 높일 수 있는 점에서 유용하다고 여겨지고 있다. 그러나, 염료를 사용한 컬러필터의 제작에는 또한 개량의 여지가 있고, 특히, 내열성에 대해서 더나은 개량이 요구되고 있다.The use of a dye as a coloring compound is believed to be useful in that it can increase the hue and brightness of a display image when an image is displayed due to the color purity of the dye itself or the sharpness of its color. However, there is also room for improvement in the production of color filters using dyes, and in particular, improvements in heat resistance are required.

본 발명은 상기 종래의 기술을 감안하여 이루어진 것이며, 내열성이 우수한 착색 경화성 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다. 또한 본 발명은, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 사용한 고휘도이고 콘트라스트가 높은 화상의 표시가 가능한 컬러필터, 및 그 제조방법, 및 컬러필터를 사용하여 이루어지는 양호한 화질의 표시가 가능한 고체촬상소자 및 화상표시장치를 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described conventional techniques, and it is an object of the present invention to provide a colored curable composition excellent in heat resistance. The present invention also provides a color filter capable of displaying an image with high brightness and high contrast using the colored curable composition of the present invention, a method of manufacturing the same, and a solid-state image pickup device and an image display And to provide a device.

이러한 상황 하에 본원 발명자가 예의 검토를 행한 결과, 크산텐 염료와 특정의 반응성기를 갖는 트리아릴메탄 염료를 함유하는 조성물을 사용함으로써 내열성이 우수한 착색 경화성 조성물이 얻어지는 것을 찾아내고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.Under these circumstances, the present inventors have intensively studied and found that a colored curable composition having excellent heat resistance can be obtained by using a composition containing a xanthene dye and a triarylmethane dye having a specific reactive group, and to complete the present invention It came.

구체적으로는, 이하의 수단 <1>에 의해, 바람직하게는 수단 <2>∼<16>에 의해 상기 과제는 해결되었다.Specifically, the above-mentioned problem is solved by the following means <1>, preferably by means <2> - <16>.

<1> 크산텐 염료, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 중합성 화합물을 함유하는 착색 경화성 조성물;<1> A colored curable composition containing a xanthene dye, a triarylmethane dye represented by the following formula (1) and a polymerizable compound;

Figure pat00001
Figure pat00001

일반식(1)에 있어서, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는 기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 6∼20의 아릴기를 나타내고, R1∼R6 중 적어도 1개는 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는다; R7∼R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1∼7의 알킬기를 나타내고, X-는 음이온을 나타내거나, X-는 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함한다;In the general formula (1), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a reactive group represented by any one of the following general formulas (2A), (2B), (2C) At least one of R 1 to R 6 is a group represented by the following general formula (2A), general formula (2B), general formula (2C) and general formula Has a reactive group represented by any one of the formulas (2D); R 7 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, X - represents an anion, X - does not exist and at least one of R 1 to R 20 contains an anion do;

Figure pat00002
Figure pat00002

일반식(2A)∼일반식(2D)에 있어서, R1a는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2a 및 R3a는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, Y는 산소원자 또는 -NR-을 나타내고, L1∼L4는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기기를 나타낸다; -NR-에 있어서 R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.In the general formulas (2A) to (2D), R 1a represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2a and R 3a each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Y represents an oxygen atom or -NR-, L 1 to L 4 each independently represent a single bond or a divalent organic group; -NR-, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

<2> 일반식(3) 중, R21 및 R23이 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R22 및 R24가 각각 독립적으로 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R26 및 R27이 수소원자를 나타내는 <1>에 기재된 착색 경화성 조성물.(2) In the general formula (3), R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 22 and R 24 each independently represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, R 26 and R Lt; 27 &gt; represents a hydrogen atom.

<3> 크산텐 염료가 하기 일반식(3b)으로 나타내어지는 <1>에 기재된 착색 경화성 조성물;&Lt; 3 > The colored curable composition according to < 1 >, wherein the xanthene dye is represented by the following formula (3b)

일반식(3b)(3b)

Figure pat00003
Figure pat00003

일반식(3b) 중, R50 및 R51은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R52 및 R53은 각각 독립적으로 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R54 및 R55는 수소원자를 나타낸다; R56∼R60은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다; a는 0 또는 1을 나타내고, a가 0을 나타낼 경우 R50∼R60 중 어느 하나의 기가 음이온을 포함한다; X-는 음이온을 나타낸다.In the general formula (3b), R 50 and R 51 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 52 and R 53 each independently represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 54 and R 55 represent hydrogen Represents an atom; R 56 to R 60 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; a represents 0 or 1, and when a represents 0, any one of R 50 to R 60 includes an anion; X - represents an anion.

<4> 크산텐 염료는 양이온과 음이온을 동일 분자 내에 포함하는 <1>∼<3> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물. <4> The colored curable composition according to any one of <1> to <3>, wherein the xanthene dye contains a cation and an anion in the same molecule.

<5> 일반식(1) 중의 X-가 하기 식(AN-1)∼식(AN-3) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온인 <1>∼<4> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물;<5> The colored curable composition according to any one of <1> to <4>, wherein X - in the general formula (1) is an anion represented by any one of the following formulas (AN-1) to (AN-3)

식(AN-1)The formula (AN-1)

Figure pat00004
Figure pat00004

식(AN-1) 중, A1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A2는 중합성기, 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다; A3은 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다;In formula (AN-1), A 1 represents a single bond or a divalent linking group, A 2 represents a polymerizable group, a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom; A 3 represents a fluorine atom or a fluorine atom-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms;

식(AN-2)Expression (AN-2)

Figure pat00005
Figure pat00005

식(AN-2) 중, A4는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A5는 중합성기를 나타낸다;In the formula (AN-2), A 4 represents a single bond or a divalent linking group, and A 5 represents a polymerizable group;

식(AN-3)Expression (AN-3)

Figure pat00006
Figure pat00006

식(AN-3) 중, X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 중합성기, 불소원자 또는 탄소수 1∼10의 불소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.In the formula (AN-3), X 3 , X 4 and X 5 each independently represent an alkyl group having a polymerizable group, a fluorine atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.

<6> 일반식(1) 중의 X-가 하기 화합물로부터 선택되는 음이온인 <1>∼<5> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물.<6> The colored curable composition according to any one of <1> to <5>, wherein X - in the general formula (1) is an anion selected from the following compounds.

Figure pat00007
Figure pat00007

<7> 일반식(1) 중의 X-가 중합성기를 갖는 음이온인 <1>∼<5> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물.<7> The colored curable composition according to any one of <1> to <5>, wherein X - in the general formula (1) is an anion having a polymerizable group.

<8> 프탈로시아닌 안료를 더 함유하는 <1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물.<8> The colored curable composition according to any one of <1> to <7>, which further contains a phthalocyanine pigment.

<9> 알칼리 가용성 수지 및 광중합 개시제를 더 함유하는 <1>∼<8> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물.<9> The colored curable composition according to any one of <1> to <8>, further comprising an alkali-soluble resin and a photopolymerization initiator.

<10> 컬러필터의 착색층의 형성에 사용되는 <1>∼<9> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물.<10> The colored curable composition according to any one of <1> to <9>, which is used for forming a colored layer of a color filter.

<11> <1>∼<10> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물을 경화해서 이루어지는 경화막.<11> A cured film obtained by curing the colored curable composition according to any one of <1> to <10>.

<12> <11>에 기재된 경화막을 갖는 컬러필터.<12> A color filter having a cured film according to <11>.

<13> <1>∼<10> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물을 사용한 컬러필터.<13> A color filter using the color-curable composition according to any one of <1> to <10>.

<14> <1>∼<10> 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물을 기판 상에 도포해서 착색 경화성 조성물층을 형성하고 경화해서 착색층을 형성하는 공정, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정, 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝해서 레지스트 패턴을 얻는 공정, 또는 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 해서 착색층을 드라이에칭하는 공정을 포함하는 컬러필터의 제조방법.&Lt; 14 > A process for producing a colored curable composition, comprising the steps of: applying a colored curable composition according to any one of < 1 > to < 10 > onto a substrate to form and curing the colored curable composition layer to form a colored layer; A step of patterning the photoresist layer by a process, exposure and development to obtain a resist pattern, or a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.

<15> <12> 또는 <13>에 기재된 컬러필터 또는 <14>에 기재된 컬러필터의 제조방법에 의해 얻어진 컬러필터를 갖는 고체촬상소자.<15> A solid-state image pickup element having a color filter obtained by a color filter according to <12> or <13> or a method of manufacturing a color filter according to <14>.

<16> <12> 또는 <13>에 기재된 컬러필터 또는 <14>에 기재된 컬러필터의 제조방법에 의해 얻어진 컬러필터를 갖는 화상표시장치.<16> An image display device having a color filter obtained by the method according to <12> or <13> or the method of manufacturing a color filter described in <14>.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면 내열성이 우수한 착색 경화성 조성물의 제공이 가능해졌다. 또한, 상기 착색 경화성 조성물을 사용한 컬러필터, 컬러필터의 제조방법, 고체촬상소자 및 화상표시장치의 제공이 가능해졌다.According to the present invention, it is possible to provide a colored curable composition having excellent heat resistance. It is also possible to provide a color filter using the above-mentioned colored curable composition, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image pickup device, and an image display device.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 본원 명세서에 있어서 「∼」라는 것은 그 전후로 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미에서 사용된다.Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, the term &quot; ~ &quot; is used to mean that the numerical values described before and after the numerical value are included as the lower limit value and the upper limit value.

본 명세서에 있어서 전체 고형분이란 착색 경화성 조성물의 전체 조성으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다.In the present specification, the total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the total composition of the colored curable composition.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하고 있지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기(원자단)와 함께 치환기를 갖는 기(원자단)도 포함하는 것이다. 예를 들면, 「알킬기」란 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기) 뿐만 아니라 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

또한, 본 명세서 중에 있어서의 「방사선」이란, 예를 들면 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등을 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서 광이란 활성광선 또는 방사선을 의미한다.The term &quot; radiation &quot; in the present specification means, for example, a line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet ray, extreme ultraviolet ray (EUV light) represented by an excimer laser, X-ray or electron ray. In the present invention, light means an actinic ray or radiation.

본 명세서 중에 있어서의 「노광」이란 특별히 언급하지 않는 한 수은등, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, X선, EUV광 등에 의한 노광 뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선에 의한 묘화도 노광에 포함시킨다."Exposure" in the present specification includes not only exposure by deep ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also imaging by particle beams such as electron beams and ion beams, .

또한, 본 명세서에 있어서, "(메타)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방 또는 어느 하나를 나타내고, "(메타)아크릴"은 아크릴 및 메타크릴의 쌍방 또는 어느 하나를 나타내고, "(메타)아크릴로일"은 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방 또는 어느 하나를 나타낸다.In the present specification, the term "(meth) acrylate" refers to both or any one of acrylate and methacrylate, "(meth) acrylic" refers to both acrylate and methacrylate, Methacryloyl "means either or both of acryloyl and methacryloyl.

또한, 본 명세서에 있어서 "단량체"와 "모노머"는 동의이다.In the present specification, the terms "monomer" and "monomer" are synonyms.

본 명세서에 있어서의 단량체는 올리고머 및 폴리머와 구별되고, 중량 평균 분자량이 2,000 이하인 화합물을 말한다.Monomers in the present specification are distinguished from oligomers and polymers and refer to compounds having a weight average molecular weight of 2,000 or less.

본 명세서에 있어서 중합성 화합물이란 중합성 관능기를 갖는 화합물을 말하고, 단량체여도 폴리머여도 좋다. 중합성 관능기란 중합 반응에 관여하는 기를 말한다.In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group involved in the polymerization reaction.

본 명세서에 있어서, 화학식 중의 Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Pr은 프로필기를, Bu는 부틸기를, Ph는 페닐기를, AC는 아세틸기를 나타낸다.In the present specification, Me in the formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr represents a propyl group, Bu represents a butyl group, Ph represents a phenyl group, and AC represents an acetyl group.

본 명세서에 있어서 「공정」이라는 말은 독립된 공정 뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없을 경우여도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면 본 용어에 포함된다.In this specification, the term &quot; process &quot; is included in this term as well as an independent process, even if the desired action of the process is achieved even if it can not be clearly distinguished from other processes.

본 발명에 있어서의 중량 평균 분자량은 특별히 언급하지 않는 한, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)로 측정한 것을 말한다. GPC는 얻어진 폴리머에 대해서 용매를 제거함으로써 단리하고, 얻어진 고형분을 테트라히드로푸란에 의해 0.1질량%로 희석하여 HLC-8020GPC[토소(주)제]로 TSKgel Super Multipore HZ-H[토소(주)제, 4.6㎜ID×15㎝]를 3개 직렬로 연결시킨 것을 칼럼으로 해서 측정할 수 있다. 조건은 시료 농도를 0.35질량%, 유속을 0.35mL/min, 샘플 주입량을 10μL, 측정 온도를 40℃로 하고, RI 검출기를 이용하여 행할 수 있다.The weight average molecular weight in the present invention refers to a value measured by gel permeation chromatography (GPC) unless otherwise specified. The obtained polymer was isolated by removing the solvent, and the obtained solid content was diluted with tetrahydrofuran to 0.1% by mass and subjected to gel permeation chromatography (GPC) using TSKgel Super Multipore HZ-H [manufactured by Tosoh Corporation] with HLC-8020GPC , 4.6 mm ID x 15 cm] connected in series can be measured using a column. The conditions can be performed using an RI detector with a sample concentration of 0.35 mass%, a flow rate of 0.35 ml / min, a sample injection amount of 10 μl, and a measurement temperature of 40 ° C.

본 명세서에 있어서 전체 고형분이란 조성물의 전체 조성으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다. 본 발명에 있어서의 고형분은 25℃에 있어서의 고형분이다.In the present specification, the total solid content refers to the total mass of components excluding the solvent from the total composition of the composition. The solid content in the present invention is the solid content at 25 占 폚.

<착색 경화성 조성물>&Lt; Coloring curable composition >

본 발명의 착색 경화성 조성물(이하, 본 발명의 조성물이라고도 한다)은 크산텐 염료, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 중합성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.The colored curable composition of the present invention (hereinafter also referred to as the composition of the present invention) is characterized by containing a xanthene dye, a triarylmethane dye represented by the general formula (1), and a polymerizable compound.

이러한 구성으로 함으로써 내열성이 우수한 착색 경화성 조성물을 제공할 수 있다. 이 메커니즘은 추정이지만, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료가 그 구조 중에 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 가짐으로써, 라디칼 또는 열에 의해 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료끼리가 서로 반응 가능하게 된다. 또한, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료가 본 발명의 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물, 알칼리 가용성 수지, 에폭시 화합물 등의 경화제와 반응 가능하게 된다. 상기 반응이 일어나면 경화막 중에서 트리아릴메탄 염료가 고정화되기 쉬워지고, 조성물 중의 공잡물과의 반응이 억제된다. 결과적으로 내열성이 향상된다.By such a constitution, a colored curable composition having excellent heat resistance can be provided. Although this mechanism is an estimation, it is considered that the triarylmethane dye represented by the general formula (1) has a structure represented by any one of the general formula (2A), the general formula (2B), the general formula (2C) By having a reactive group, the triarylmethane dyes represented by the general formula (1) can react with each other by radicals or heat. In addition, the triarylmethane dye represented by the general formula (1) can be reacted with a curing agent such as a polymerizable compound, an alkali-soluble resin or an epoxy compound contained in the composition of the present invention. When this reaction occurs, the triarylmethane dye is easily immobilized in the cured film, and the reaction with the cyanide in the composition is inhibited. As a result, heat resistance is improved.

또한, 크산텐 염료, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료를 병용 함으로써 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 여기 상태로부터의 에너지가 크산텐 염료로 이동함으로써 여기 상태의 트리아릴메탄 염료의 완화가 촉진되고, 또한 본 발명의 조성물을 막(필터)으로 했을 때에 흡수 파형이 최적화되는 이유에서 내광성 및 휘도를 향상시킬 수 있다.Further, by using the xanthene dye and the triarylmethane dye represented by the general formula (1) in combination, the energy from the excited state of the triarylmethane dye represented by the general formula (1) shifts to the xanthene dye, Light resistance and brightness can be improved because the relaxation of the aryl methane dye is promoted and the absorption waveform is optimized when the composition of the present invention is used as a film (filter).

또한, 스퍼터 공정 내성[예를 들면 ITO(Indium Tin Oxide) 내성]도 양호하게 할 수 있다. 또한, 내광성, 내용제성, 전기특성, 콘트라스트, 분광특성, 선폭감도 등도 양호하게 할 수 있다.In addition, the sputtering process resistance (for example, ITO (Indium Tin Oxide) resistance) can be improved. In addition, light resistance, solvent resistance, electrical characteristics, contrast, spectral characteristics, line width sensitivity and the like can be improved.

<<일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료>>&Quot; Triarylmethane dye represented by the general formula (1) &quot;

Figure pat00008
Figure pat00008

일반식(1)에 있어서, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는 기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 6∼20의 아릴기를 나타내고, R1∼R6 중 적어도 1개는 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는다. R7∼R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1∼7의 알킬기를 나타내고, X-는 음이온을 나타내거나, X-는 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함한다;In the general formula (1), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a reactive group represented by any one of the following general formulas (2A), (2B), (2C) At least one of R 1 to R 6 is a group represented by the following general formula (2A), general formula (2B), general formula (2C) and general formula And a reactive group represented by any one of the formulas (2D). R 7 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, X - represents an anion, X - does not exist and at least one of R 1 to R 20 contains an anion do;

Figure pat00009
Figure pat00009

일반식(2A)∼일반식(2D)에 있어서, R1a는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2a 및 R3a는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, Y는 산소원자 또는 -NR-을 나타내고, L1∼L4는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기기를 나타낸다; -NR-에 있어서 R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.In the general formulas (2A) to (2D), R 1a represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2a and R 3a each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Y represents an oxygen atom or -NR-, L 1 to L 4 each independently represent a single bond or a divalent organic group; -NR-, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

R1∼R6이 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낼 경우, 탄소수 1∼12의 알킬기는 직쇄상, 분기상 또는 환상의 어느 것이라도 좋지만, 직쇄상 또는 분기상이 바람직하다. 탄소수 1∼12의 알킬기의 탄소수는 1∼9가 바람직하고, 1∼3이 보다 바람직하다. 탄소수 1∼12의 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋다. 탄소수 1∼12의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 후술하는 치환기 A군에서 정의된 치환기를 들 수 있고, 예를 들면 페닐기가 바람직하다. 또한, 탄소수 1∼12의 알킬기가 치환기를 가질 경우, 치환기를 더 갖고 있어도 좋다. 탄소수 1∼12의 알킬기가 더 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 후술하는 치환기 A군에서 정의된 치환기를 들 수 있다.When R 1 to R 6 represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be any of linear, branched or cyclic, but is preferably a linear or branched. The number of carbon atoms of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 3. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may have a substituent. Examples of the substituent which may have an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a substituent group defined in Substituent Group A described later, and for example, a phenyl group is preferable. When the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms has a substituent, it may further have a substituent. Examples of the substituent which may further contain an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a substituent group defined in Substituent Group A described later.

탄소수 1∼12의 알킬기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 노말프로필기, 이소프로필기, 이소부틸기, 시클로헥실기, 벤질기, 에톡시카르보닐메틸기 등을 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 또는 벤질기가 바람직하다.Specific examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group and an ethoxycarbonylmethyl group. Group or a benzyl group is preferable.

<치환기 A군><Substituent group A>

치환기 A군은 할로겐원자(예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 바람직하게는 염소원자, 불소원자, 보다 바람직하게는 불소원자), 알킬기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24, 특히 바람직하게는 탄소수 1∼8의 직쇄, 분기쇄 또는 환상의 알킬기이고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기, 도데실기, 헥사데실기, 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 1-노르보닐기, 1-아다만틸기), 알케닐기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼18의 알케닐기이고, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 3-부텐-1-일기), 아릴기(바람직하게는 탄소수 6∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴기이고, 예를 들면 페닐기, 나프틸기), 헤테로환기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼18의 헤테로환기이고, 예를 들면 2-티에닐기, 4-피리딜기, 2-푸릴기, 2-피리미디닐기, 1-피리딜기, 2-벤조티아졸릴기, 1-이미다졸릴기, 1-피라졸릴기, 벤조트리아졸-1-일기), 실릴기(바람직하게는 탄소수 3∼38, 보다 바람직하게는 탄소수 3∼18의 실릴기이고, 예를 들면 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, 트리부틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, t-헥실디메틸실릴기), 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 알콕시기이고, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 1-부톡시기, 2-부톡시기, 이소프로폭시기, t-부톡시기, 도데실옥시기, 시클로알킬옥시기이고, 예를 들면 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기), 아릴옥시기(바람직하게는 탄소수 6∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴옥시기이고, 예를 들면 페녹시기, 1-나프톡시기), 헤테로환 옥시기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼18의 헤테로환 옥시기이고, 예를 들면 1-페닐테트라졸-5-옥시기, 2-테트라히드로피라닐옥시기), 실릴옥시기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼18의 실릴옥시기이고, 예를 들면 트리메틸실릴옥시기, t-부틸디메틸실릴옥시기, 디페닐메틸실릴옥시기), 아실옥시기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼24의 아실옥시기이고, 예를 들면 아세톡시기, 피발로일옥시기, 벤조일옥시기, 도데카노일옥시기), 알콕시카르보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼24의 알콕시카르보닐옥시기이고, 예를 들면 에톡시카르보닐옥시기, t-부톡시카르보닐옥시기, 시클로알킬옥시카르보닐옥시기이고, 예를 들면 시클로헥실옥시카르보닐옥시기), 아릴옥시카르보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 7∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 7∼24의 아릴옥시카르보닐옥시기이고, 예를 들면 페녹시카르보닐옥시기), 카르바모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 카르바모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-디메틸카르바모일옥시기, N-부틸카르바모일옥시기, N-페닐카르바모일옥시기, N-에틸-N-페닐카르바모일옥시기), 술파모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 술파모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-디에틸술파모일옥시기, N-프로필술파모일옥시기), 알킬술포닐옥시기(바람직하게는 탄소수 1∼38, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 알킬술포닐옥시기이고, 예를 들면 메틸술포닐옥시기, 헥사데실술포닐옥시기, 시클로헥실술포닐옥시기),The substituent group A may be a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, preferably a chlorine atom, a fluorine atom and more preferably a fluorine atom), an alkyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, Branched or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, pentyl group, Cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-norbornyl group, 1-adamantyl group), an alkenyl group (preferably a methyl group, an ethyl group, Is preferably an alkenyl group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 18 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, a 3-buten-1-yl group), an aryl group (preferably having a carbon number of 6 to 48, Preferably an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, such as a phenyl group or a naphthyl group), a heterocyclic group Preferably 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, and examples thereof include a 2-thienyl group, a 4-pyridyl group, a 2-furyl group, a 2-pyrimidinyl group, A 2-benzothiazolyl group, a 1-imidazolyl group, a 1-pyrazolyl group or a benzotriazol-1-yl group), a silyl group (preferably a silyl group having 3 to 38 carbon atoms, more preferably a silyl group having 3 to 18 carbon atoms (E.g., trimethylsilyl, triethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), hydroxyl, cyano, nitro, alkoxy Is an alkoxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, ethoxy group, 1-butoxy group, 2-butoxy group, isopropoxy group, Cycloalkyloxy group such as cyclopentyloxy group and cyclohexyloxy group), an aryloxy group (preferably having 6 to 48 carbon atoms, An aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as a phenoxy group and a 1-naphthoxy group), a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic group having 1 to 18 carbon atoms, (Preferably 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as a silyloxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as a 1-phenyltetrazole-5-oxy group and a 2-tetrahydropyranyloxy group) (For example, a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, a diphenylmethylsilyloxy group), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an acyloxy group having 2 to 24 carbon atoms (For example, an acetoxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a dodecanoyloxy group), an alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, And examples thereof include an ethoxycarbonyloxy group, t-butoxycar A cyclohexyloxycarbonyloxy group), an aryloxycarbonyloxy group (preferably having 7 to 32 carbon atoms, more preferably an aryl group having 7 to 24 carbon atoms, An oxycarbonyloxy group such as a phenoxycarbonyloxy group), a carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N-butylcarbamoyloxy group, N-phenylcarbamoyloxy group and N-ethyl-N-phenylcarbamoyloxy group), sulfamoyloxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms Preferably a C 1-24 sulfamoyloxy group, for example, N, N-diethylsulfamoyloxy or N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably having 1 to 38 carbon atoms, more preferably Is an alkylsulfonyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, and examples Methyl sulfonyloxy group g, hexadecyl sulfonate group, a cyclohexyl-sulfonyloxy group),

아릴술포닐옥시기(바람직하게는 탄소수 6∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴술포닐옥시기이고, 예를 들면 페닐술포닐옥시기), 아실기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 아실기이고, 예를 들면 포르밀기, 아세틸기, 피발로일기, 벤조일기, 테트라데카노일기, 시클로헥사노일기), 알콕시카르보닐기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼24의 알콕시카르보닐기이고, 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 옥타데실옥시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸시클로헥실옥시카르보닐기), 아릴옥시카르보닐기(바람직하게는 탄소수 7∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 7∼24의 아릴옥시카르보닐기이고, 예를 들면 페녹시카르보닐기), 카르바모일기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 카르바모일기이고, 예를 들면 카르바모일기, N,N-디에틸카르바모일기, N-에틸-N-옥틸카르바모일기, N,N-디부틸카르바모일기, N-프로필카르바모일기, N-페닐카르바모일기, N-메틸N-페닐카르바모일기, N,N-디시클로헥실카르바모일기), 아미노기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 아미노기이고, 예를 들면 아미노기, 메틸아미노기, N,N-디부틸아미노기, 테트라데실아미노기, 2-에틸헥실아미노기, 시클로헥실아미노기), 아닐리노기(바람직하게는 탄소수 6∼32, 보다 바람직하게는 6∼24의 아닐리노기이고, 예를 들면 아닐리노기, N-메틸아닐리노기), 헤테로환 아미노기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 1∼18의 헤테로환 아미노기이고, 예를 들면 4-피리딜아미노기), 카본아미드기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 2∼24의 카본아미드기이고, 예를 들면 아세트아미드기, 벤즈아미드기, 테트라데칸아미드기, 피발로일아미드기, 시클로헥산아미드기), 우레이도기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 우레이도기이고, 예를 들면 우레이도기, N,N-디메틸우레이도기, N-페닐우레이도기), 이미드기(바람직하게는 탄소수 36 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 이미드기이고, 예를 들면 N-숙신이미드기, N-프탈이미드기), 알콕시카르보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼24의 알콕시카르보닐아미노기이고, 예를 들면 메톡시카르보닐아미노기, 에톡시카르보닐아미노기, t-부톡시카르보닐아미노기, 옥타데실옥시카르보닐아미노기, 시클로헥실옥시카르보닐아미노기), 아릴옥시카르보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 7∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 7∼24의 아릴옥시카르보닐아미노기이고, 예를 들면 페녹시카르보닐아미노기), 술폰아미드기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 술폰아미드기이고, 예를 들면 메탄술폰아미드기, 부탄술폰아미드기, 벤젠술폰아미드기, 헥사데칸술폰아미드기, 시클로헥산술폰아미드기), 술파모일아미노기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 술파모일아미노기이고, 예를 들면 N,N-디프로필술파모일아미노기, N-에틸-N-도데실술파모일아미노기), 아조기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 아조기이고, 예를 들면 페닐아조기, 3-피라졸릴아조기),An arylsulfonyloxy group (preferably having 6 to 32 carbon atoms, more preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as a phenylsulfonyloxy group), an acyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, (For example, a formyl group, an acetyl group, a pivaloyl group, a benzoyl group, a tetradecanoyl group, a cyclohexanoyl group), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably An alkoxycarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an octadecyloxycarbonyl group, a cyclohexyloxycarbonyl group, a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl group, , An aryloxycarbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having a carbon number of 7 to 32, more preferably a carbon number of 7 to 24, such as a phenoxycarbonyl group), a carbamoyl group More preferably a carbamoyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as a carbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group, an N-ethyl-N-octylcarbamoyl group, An N-phenylcarbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-dicyclohexylcarbamoyl group), an amino group (preferably having a carbon number of not more than 32, Preferably an amino group having 24 or less carbon atoms, such as an amino group, a methylamino group, an N, N-dibutylamino group, a tetradecylamino group, a 2-ethylhexylamino group or a cyclohexylamino group), an anilino group An anilino group, an N-methylanilino group), a heterocyclic amino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, And, for example, a 4-pyridylamino group), a carbonamido group Preferably a carbonamido group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as an acetamide group, a benzamide group, a tetradecanamide group, a pivaloylamide group and a cyclohexanamide group) (Preferably an ureido group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as ureido group, N, N-dimethyl ureido group, N-phenylureido group) (For example, an N-succinimide group, an N-phthalimide group), an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an amino group Is an alkoxycarbonylamino group having 2 to 24 carbon atoms and includes, for example, a methoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, a t-butoxycarbonylamino group, an octadecyloxycarbonylamino group, a cyclohexyloxycarbonylamino group ), (Preferably an aryloxycarbonylamino group having a carbon number of 7 to 32, more preferably a carbon number of 7 to 24, such as a phenoxycarbonylamino group), a sulfonamide group (preferably having a carbon number of 1 to 20, A sulfonamido group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as a methanesulfonamide group, a butanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, a hexadecanesulfonamide group or a cyclohexanesulfonamide group), a sulfamoylamino group (Preferably a C 1-48, more preferably a C 1-24 sulfamoylamino group, for example, N, N-dipropylsulfamoylamino group, N-ethyl-N-dodecylsulfamoylamino group) (Preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, such as phenyl azo group and 3-pyrazolyl azo group)

알킬티오기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 알킬티오기이고, 예를 들면 메틸티오기, 에틸티오기, 옥틸티오기, 시클로헥실티오기), 아릴티오기(바람직하게는 탄소수 6∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴티오기이고, 예를 들면 페닐티오기), 헤테로환 티오기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼18의 헤테로환 티오기이고, 예를 들면 2-벤조티아졸릴티오기, 2-피리딜티오기, 1-페닐테트라졸릴티오기), 알킬술피닐기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 알킬술피닐기이고, 예를 들면 도데칸술피닐기), 아릴술피닐기(바람직하게는 탄소수 6∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴술피닐기이고, 예를 들면 페닐술피닐기), 알킬술포닐기(바람직하게는 탄소수 1∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 알킬술포닐기이고, 예를 들면 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 이소프로필술포닐기, 2-에틸헥실술포닐기, 헥사데실술포닐기, 옥틸술포닐기, 시클로헥실술포닐기), 아릴술포닐기(바람직하게는 탄소수 6∼48, 보다 바람직하게는 탄소수 6∼24의 아릴술포닐기이고, 예를 들면 페닐술포닐기, 1-나프틸술포닐기), 술파모일기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 술파모일기이고, 예를 들면 술파모일기, N,N-디프로필술파모일기, N-에틸-N-도데실술파모일기, N-에틸-N-페닐술파모일, N-시클로헥실술파모일기, N-(2-에틸헥실)술파모일기), 포스포닐기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 포스포닐기이고, 예를 들면 페녹시포스포닐기, 옥틸옥시포스포닐기, 페닐포스포닐기), 포스피노일아미노기(바람직하게는 탄소수 1∼32, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼24의 포스피노일아미노기이고, 예를 들면 디에톡시포스피노일아미노기, 디옥틸옥시포스피노일아미노기)를 나타낸다.An alkylthio group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably an alkylthio group having 1 to 24 carbon atoms, such as methylthio group, ethylthio group, octylthio group or cyclohexylthio group) (Preferably an arylthio group having from 6 to 48 carbon atoms, and more preferably from 6 to 24 carbon atoms, such as a phenylthio group), a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms (For example, 2-benzothiazolylthio, 2-pyridylthio group, 1-phenyltetazolylthio group), an alkylsulfinyl group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, Is an alkylsulfinyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as a dodecanesulfinyl group), an arylsulfinyl group (preferably an arylsulfinyl group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number 6 to 24, such as phenyl Sulfinyl group), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably Preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, a hexadecylsulfonyl group, An arylsulfonyl group (preferably an arylsulfonyl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 6 to 24, such as phenylsulfonyl group and 1-naphthylsulfonyl group), an arylsulfonyl group A sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having not more than 32 carbon atoms, more preferably not more than 24 carbon atoms, such as sulfamoyl group, N, N-dipropylsulfamoyl group, N-ethyl- (Preferably an alkyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number &lt; RTI ID = 0.0 &gt; A phosphonyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as a phenoxyphosphonyl group, an octyloxyphosphonyl group , A phenylphosphonyl group), a phosphinoylamino group (preferably a phosphinoylamino group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as a diethoxyphosphinoylamino group, dioctyloxyphosphino An amino group).

R1∼R6이 탄소수 6∼20의 아릴기를 나타낼 경우, 탄소수 6∼20의 아릴기의 탄소수는 6∼12가 바람직하고, 6∼9가 보다 바람직하다. 탄소수 6∼20의 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 좋다. 탄소수 6∼20의 아릴기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 치환기 A군에서 정의된 치환기를 들 수 있고, 예를 들면 메틸기 또는 알콕시기가 바람직하다.When R 1 to R 6 represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, the number of carbon atoms of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferably 6 to 12, and more preferably 6 to 9. The aryl group having 6 to 20 carbon atoms may have a substituent. Examples of the substituent which the aryl group having 6 to 20 carbon atoms may have include a substituent group defined in the above substituent group A, and for example, a methyl group or an alkoxy group is preferable.

탄소수 6∼20의 아릴기의 구체예로서는 페닐기, 2-메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 2-에톡시카르보닐페닐기, 4-메톡시-2-메틸페닐기 등을 들 수 있고, 페닐기, 2-메틸페닐기 또는 2,4,6-트리메틸페닐기가 바람직하다.Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a 2-methylphenyl group, a 2,4,6-trimethylphenyl group, a 2-ethoxycarbonylphenyl group and a 4-methoxy- , A 2-methylphenyl group or a 2,4,6-trimethylphenyl group is preferable.

R1∼R6 중 적어도 1개는 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖고, R1∼R6 중 어느 1개 또는 2개가 상기 어느 하나의 반응성기를 갖는 것이 바람직하다.R 1 ~R at least one of the six is represented by the general formula (2A), the general formula (2B), the general formula (2C) and the general formula (2D) of having a reactive group represented by any one, any one of R 1 ~R 61 Or two of them preferably have any one of the above reactive groups.

일반식(2A)에 있어서, R1a는 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. In formula (2A), R 1a represents a hydrogen atom or a methyl group.

일반식(2A)에 있어서, Y는 산소원자 또는 -NR-을 나타내고, 산소원자가 바람직하다. -NR-에 있어서 R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, 산소원자가 바람직하다. 탄소수 1∼4의 알킬기는 직쇄상이여도 분기상이여도 좋다. -NR-에 있어서 R이 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낼 경우, 알킬기의 탄소수는 1 또는 2가 바람직하다.In the general formula (2A), Y represents an oxygen atom or -NR-, and an oxygen atom is preferable. In -NR-, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an oxygen atom. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms may be linear or branched. In the case of -NR-, when R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 or 2.

일반식(2A)에 있어서, L1은 단결합 또는 2가의 유기기를 나타낸다. 2가의 유기기로서는 알킬렌기, 아릴렌기, -O-, -CO-, -S-, -NRA-, 또는 이것들의 조합으로 이루어지는 기를 들 수 있고, 알킬렌기가 바람직하다. 상기 -NRA-에 있어서, RA는 수소원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타낸다. 알킬렌기는 직쇄상, 분기상 또는 환상의 어느 것이라도 좋다. 아릴렌기는 단환이여도 축합환이여도 좋다. L1은 단결합 또는 탄소수 1∼8의 알킬렌기가 바람직하다. In formula (2A), L 1 represents a single bond or a divalent organic group. Examples of the divalent organic group include an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -S-, -NR A -, or a group formed by combining these groups, and an alkylene group is preferable. In the -NR A -, R A represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. The alkylene group may be any of linear, branched or cyclic. The arylene group may be a monocyclic ring or a condensed ring. L 1 is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms.

일반식(2B)에 있어서, L2는 단결합 또는 2가의 유기기를 나타낸다. 2가의 유기기로서는 일반식(2A) 중의 L1과 동의이며, 바람직한 범위도 같다. L2는 단결합 또는 탄소수 1∼3의 알킬렌기가 바람직하다.In the general formula (2B), L 2 represents a single bond or a divalent organic group. The bivalent organic group is synonymous with L 1 in formula (2A), and the preferred range is also the same. L 2 is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

일반식(2C)에 있어서, R2a는 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 탄소수 1∼4의 알킬기는 직쇄상이여도 분기상이여도 좋다. 일반식(2C)에 있어서 L3은 단결합 또는 2가의 유기기를 나타낸다. 2가의 유기기로서는 일반식(2A) 중의 L1과 동의이며, 바람직한 범위도 같다. L3은 단결합이 바람직하다.In the general formula (2C), R 2a represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms may be linear or branched. In the general formula (2C), L 3 represents a single bond or a divalent organic group. The bivalent organic group is synonymous with L 1 in formula (2A), and the preferred range is also the same. L 3 is preferably a single bond.

일반식(2D)에 있어서 R3a는 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 탄소수 1∼4의 알킬기는 직쇄상이여도 분기상이여도 좋다. R3a는 수소원자를 나타내는 것이 바람직하다. R3a가 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낼 경우, 알킬기의 탄소수는 1 또는 2가 바람직하다. 일반식(2D)에 있어서 L4는 단결합 또는 2가의 유기기를 나타낸다. 2가의 유기기로서는 일반식(2A) 중의 L1과 동의이며, 바람직한 범위도 같다. L4는 단결합이 바람직하다.In the general formula (2D), R 3a represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms may be linear or branched. R 3a preferably represents a hydrogen atom. When R 3a represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, the alkyl group preferably has 1 or 2 carbon atoms. In the general formula (2D), L 4 represents a single bond or a divalent organic group. The bivalent organic group is synonymous with L 1 in formula (2A), and the preferred range is also the same. L 4 is preferably a single bond.

일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기의 구체예로서는, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴아미드기, 스티릴기, 옥세타닐기, 에폭시기 등을 들 수 있다. Specific examples of the reactive group represented by any one of the general formulas (2A), (2B), (2C) and (2D) include (meth) acryloyl groups, (meth) acrylamide groups, styryl groups , An oxetanyl group, and an epoxy group.

일반식(1)에 있어서 R7∼R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1∼7의 알킬기를 나타낸다. 할로겐원자는 염소원자가 바람직하다. 탄소수 1∼7의 알킬기는 직쇄상이여도 분기상이여도 좋지만, 직쇄상이 바람직하다. 탄소수 1∼7의 알킬기의 탄소수는 1∼4가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. In the general formula (1), R 7 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms. The halogen atom is preferably a chlorine atom. The alkyl group having 1 to 7 carbon atoms may be linear or branched, but is preferably straight-chain. The alkyl group having 1 to 7 carbon atoms preferably has 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

R7은 수소원자가 바람직하다. R8은 수소원자 또는 메틸기가 바람직하다. R9는 수소원자가 바람직하다. R10은 수소원자 또는 메틸기가 바람직하다. R11은 수소원자가 바람직하다. R12는 수소원자 또는 메틸기가 바람직하다. R13은 수소원자가 바람직하다. R14는 수소원자 또는 메틸기가 바람직하다. R15∼R20은 수소원자가 바람직하다.R 7 is preferably a hydrogen atom. R 8 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 9 is preferably a hydrogen atom. R 10 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 11 is preferably a hydrogen atom. R 12 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 13 is preferably a hydrogen atom. R 14 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 15 to R 20 are preferably hydrogen atoms.

일반식(1)에 있어서, X-는 음이온을 나타내거나, X-는 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함하고, X-가 음이온을 나타내는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물 중에 있어서 후술하는 크산텐 염료는 양이온과 음이온이 동일분자 내에 포함되는, 소위 분자내 염 타입인 것이 바람직하다. 이하의 메커니즘은 추정이지만, 이러한 구성으로 함으로써 트리아릴메탄 염료의 양이온 골격과 크산텐 염료의 음이온부의 상호작용이 일어나기 쉬워진다. 그 결과, 본 발명의 조성물 중의 염료의 외관상의 분자량(크산텐 염료의 음이온부와 트리아릴메탄 염료의 양이온 골격의 상호작용에 의한 합산의 분자량)이 증대하고, 용제에의 용해가 보다 효과적으로 억제되어, 결과적으로 내용제성이 보다 향상된다고 생각된다.In the formula (1), X - represents an anion, or, X - is at least one of R 1 ~R 20 is not present the dog comprises an anion, X - preferably represents an anion. In the composition of the present invention, xanthene dyes to be described later are preferably of the so-called intramolecular salt type in which cations and anions are contained in the same molecule. Although the mechanism below is presumed, this configuration makes it easier for the cation skeleton of the triarylmethane dye to interact with the anion portion of the xanthene dye. As a result, the apparent molecular weight of the dye in the composition of the present invention (the molecular weight of the sum of the anion moiety of the xanthan dyestuff and the cationic skeleton of the triarylmethane dye) increases, and the dissolution in the solvent is more effectively suppressed , And as a result, it is considered that the solvent resistance is further improved.

음이온 X-는 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료에 포함되는 양이온의 가수에 따라 포함된다. 양이온은 통상 1가 또는 2가이며, 1가가 바람직하다.The anion X &lt; - &gt; is included depending on the valence of the cations contained in the triarylmethane dye represented by the general formula (1). The cation is usually monovalent or divalent, and monovalent is preferred.

R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함한다는 것은, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 분자 내에 음이온 X-를 갖는 것을 말하고, 1개 이상의 공유결합을 통해서 음이온 부위와 양이온 부위가 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 내에 존재하고 있는 것을 말한다. X-가 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함할 경우, R19가 음이온을 포함하는 것이 바람직하다.The fact that at least one of R 1 to R 20 contains an anion means that the molecule has an anion X - in the molecule of the triarylmethane dye represented by the general formula (1), and an anion moiety and a cation moiety Is present in the triarylmethane dye represented by the general formula (1). When X - is absent and at least one of R 1 to R 20 contains an anion, it is preferable that R 19 includes an anion.

X-가 음이온을 나타낸다는 것은 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 분자 밖에 음이온 X가 존재하는 것을 말한다. When X - represents an anion, it means that anion X exists outside the molecule of the triarylmethane dye represented by the general formula (1).

음이온 X-는 특정하는 것은 아니지만, 저구핵성 음이온이 바람직하다. 저구핵성 음이온이란 황산의 pKa보다 낮은 pKa를 갖는 유기산이 분해된 음이온 구조를 나타낸다.The anion X &lt; - &gt; is not particularly limited, but a low nucleophilic anion is preferable. The low nucleophilic anion indicates an anion structure in which an organic acid having a pKa lower than that of sulfuric acid is decomposed.

(X-가 음이온을 나타낼 경우)(When X - represents anion)

음이온 X-의 제 1 실시형태는 음이온 X-와, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 양이온이 공유결합을 통해서 결합하지 않고, 다른 분자로서 존재하고 있을 경우이다.The anion X - of the first embodiment is an anion X - without a cation of a triarylmethane dye represented by the general formula (1) bonded through a covalent bond, and if there exists another molecule.

이 경우의 음이온 X-로서는, 불소 음이온, 염소 음이온, 브롬 음이온, 요오드 음이온, 시안화물 이온, 과염소산 음이온 등이나 저구핵성 음이온이 예시되고, 저구핵성 음이온이 바람직하다.Examples of the anion X - in this case include a fluorine anion, a chlorine anion, a bromine anion, an iodine anion, a cyanide ion, a perchlorate anion and the like, and a low nucleophilic anion, and a low nucleophilic anion is preferable.

저구핵성의 음이온은 유기 음이온이여도, 무기 음이온이여도 좋고, 유기 음이온이 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 음이온의 예로서, 일본 특허공개 2007-310315호 공보의 단락번호 0075에 기재된 공지의 저구핵성 음이온, 일본 특허공개 2012-173399호 공보의 단락 0016∼0025에 기재된 음이온, 일본 특허공개 2013-037316호 공보의 단락 0025∼0033에 기재된 음이온부를 들 수 있고, 이것들의 내용은 본원 명세서에 도입된다. The lower nucleophilic anion may be an organic anion, an inorganic anion, or an organic anion. Examples of the anions used in the present invention include the known low nucleophilic anions described in paragraph No. 0075 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-310315, the anions described in paragraphs 0016 to 0027 of Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2012-173399, And anion moieties described in paragraphs 0025 to 0033 of publication No. 2013-037316, the contents of which are incorporated herein by reference.

음이온 X-로서는 전자흡인성기를 갖는 메티드, 술포닐이미드 및 술폰산 음이온이 바람직하고, 비스(술포닐)이미드 음이온, 트리스(술포닐)메티드 음이온 등이 보다 바람직하다. 이러한 음이온을 사용함으로써 유용성 및 내열성을 보다 향상시킬 수 있다.The anion X - is preferably a methide, a sulfonylimide or a sulfonate anion having an electron-withdrawing group, and more preferably a bis (sulfonyl) imide anion or a tris (sulfonyl) methide anion. By using such anions, the usability and heat resistance can be further improved.

또한, 음이온 X-로서는 중합성기(예를 들면 스티릴기, (메타)아크릴로일기 등)를 갖는 음이온도 바람직하다. 이러한 음이온을 사용함으로써 전압 유지율을 보다 향상시킬 수 있다.Further, the anion X - as is also preferred anion having a polymerizable group (e.g., such as a styryl group, a (meth) acryloyl group). By using such anions, the voltage holding ratio can be further improved.

음이온 X-는 하기 식(AN-1)∼식(AN-3)으로 나타내어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the anion X - is represented by the following formulas (AN-1) to (AN-3).

식(AN-1)The formula (AN-1)

Figure pat00010
Figure pat00010

(식(AN-1) 중, A1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A2는 중합성기, 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. A3은 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다.)(In the formula (AN-1), A 1 represents a single bond or a divalent linking group, A 2 represents a polymerizable group, a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, A 3 represents a fluorine atom or fluorine Represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

A1이 2가의 연결기를 나타낼 경우, 2가의 유기기로서는 알킬렌기, 아릴렌기, -O-, -CO-, -S-, 또는 이것들의 조합으로 이루어지는 기를 들 수 있고, 탄소수 1∼6의 알킬렌기가 바람직하다.When A 1 represents a divalent connecting group, examples of the divalent organic group include an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -S-, or a combination thereof, and the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Rhenylene is preferred.

A2가 중합성기를 나타낼 경우, 중합성기로서는 스티릴기, (메타)아크릴로일기, 에폭시기, 옥세타닐기가 바람직하고, 스티릴기 및 (메타)아크릴로일기가 보다 바람직하다.When A 2 represents a polymerizable group, the polymerizable group is preferably a styryl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group or an oxetanyl group, and more preferably a styryl group and a (meth) acryloyl group.

A2 및 A3이 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낼 경우, 탄소수 1∼10의 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼4의 퍼플루오로알킬기가 더욱 바람직하고, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.When A 2 and A 3 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, A methyl group is particularly preferred.

특히, 식(AN-1) 중 A2가 중합성기를 나타내고, A3이 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내는 것이 바람직하다.Particularly, it is preferable that A 2 in the formula (AN-1) represents a polymerizable group and A 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom.

식(AN-2)Expression (AN-2)

Figure pat00011
Figure pat00011

(식(AN-2) 중, A4는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A5는 중합성기를 나타낸다.)(In the formula (AN-2), A 4 represents a single bond or a divalent linking group, and A 5 represents a polymerizable group.)

A4는 식(AN-1) 중의 A1과 동의이다. A5는 식(AN-1) 중의 A2와 동의이며, 중합성기를 나타내는 것이 바람직하다.A 4 is synonymous with A 1 in formula (AN-1). A 5 is A 2 and accept the formula (AN-1), it is preferable that the polymerizable group.

식(AN-3)Expression (AN-3)

Figure pat00012
Figure pat00012

(식(AN-3) 중, X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 중합성기, 불소원자 또는 탄소수 1∼10의 불소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.)(In the formula (AN-3), X 3 , X 4 and X 5 each independently represent an alkyl group having a polymerizable group, a fluorine atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.)

X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 식(AN-1) 중의 A2와 동의이며, X3, X4 및 X5가 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 불소원자를 갖는 알킬기를 나타내는 것도 바람직하다. 또한, X3, X4 및 X5 중 어느 1개가 중합성기를 나타내고, 다른 2개가 탄소수 1∼10의 불소원자를 갖는 알킬기를 나타내는 것도 바람직하다.X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a bond with A 2 in formula (AN-1), and each of X 3 , X 4 and X 5 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms desirable. It is also preferable that any one of X 3 , X 4 and X 5 represents a polymerizable group and the other two represent an alkyl group having a fluorine atom of 1 to 10 carbon atoms.

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료는 음이온 X-를 1종류만 포함하고 있어도 좋고, 2종류 이상을 포함하고 있어도 좋다.The triarylmethane dye represented by the general formula (1) may contain only one kind of anion X &lt; - &gt; or two or more kinds of the anion X &lt; - & gt ;.

이하에, 음이온 X-의 구체예를 나타내지만 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 일본 특허공개 2007-310315호 공보의 단락번호 0075의 기재를 참작할 수도 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다. Specific examples of the anion X &lt; - &gt; are shown below, but the present invention is not limited thereto. It is also possible to consider the description of paragraph No. 0075 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-310315, the contents of which are incorporated herein by reference.

Figure pat00013
Figure pat00013

또한, 제 1 실시형태에서는 음이온 X-가 다량체여도 좋다. 이 경우의 음이온은 후술하는 X-가 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함할 경우의 음이온부를 포함하는 반복단위가 예시된다.In the first embodiment, the anion X &lt; - &gt; The anion in this case is exemplified by a repeating unit including an anion moiety when at least one of R 1 to R 20 does not contain X - , which will be described later, contains an anion.

(X-가 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함할 경우)(When X - is absent and at least one of R 1 to R 20 contains an anion)

음이온 X-의 제 2 실시형태는 음이온 X-가 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료와 동일 분자 내에 있을 경우이다. 구체적으로는, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 1분자 내에서 양이온과 음이온이 공유결합을 통해서 결합되어 있을 경우이다.The anion X - is a case is within the same molecule and a triarylmethane dye represented by formula (1) according to a second embodiment of the form X is an anion. Specifically, there is a case where cations and anions are bonded through a covalent bond in one molecule of a triarylmethane dye represented by the general formula (1).

이 경우의 음이온 X-로서는 -SO3 -, -COO-, -PO4 -, 하기 일반식(A1)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 기 및 하기 일반식(A2)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 기로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다.In this case, the anion X - as -SO 3 -, -COO -, -PO 4 -, and to a group containing a structure represented by formula (A1) group containing a structure represented by formula (A2) And the like.

일반식(A1)In formula (A1)

Figure pat00014
Figure pat00014

(일반식(A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.)(In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-.)

일반식(A1) 중, R1 및 R2 중 적어도 1개가 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R1 및 R2의 양쪽이 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In the general formula (A1), at least one of R 1 and R 2 -SO 2 -, and more preferably represents a, both of R 1 and R 2 -SO 2 - and more preferably it is indicating.

일반식(A1)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 기는, 일반식(A1) 중 R1 및 R2의 한쪽의 말단에 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R1 및 R2의 한쪽이 직접 불소 치환 알킬기와 결합되어 있는 것이 보다 바람직하다. 불소 치환 알킬기의 탄소수는 1∼10이 바람직하고, 1∼6이 보다 바람직하고, 1∼3이 더욱 바람직하고, 1 또는 2가 보다 더욱 바람직하고, 1이 특히 바람직하다. 이것들의 알킬기는 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하다. 불소치환 알킬기의 구체예로서는 트리플루오로메틸기가 바람직하다.The group having a structure represented by the general formula (A1) preferably has a fluorine-substituted alkyl group at one end of R 1 and R 2 in the general formula (A1), and one of R 1 and R 2 is a fluorine- And more preferably bonded to an alkyl group. The number of carbon atoms of the fluorine-substituted alkyl group is preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 6, still more preferably from 1 to 3, still more preferably 1 or 2, These alkyl groups are more preferably perfluoroalkyl groups. As specific examples of the fluorine-substituted alkyl group, a trifluoromethyl group is preferable.

일반식(A2)In general formula (A2)

Figure pat00015
Figure pat00015

(일반식(A2) 중, R3은 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.)(In the formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-, and R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.)

일반식(A2) 중, R3∼R5 중 적어도 1개가 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R3∼R5 중 적어도 2개가 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In the general formula (A2), R 1 ~R 3 with at least one -SO 2 5- preferable that a and at least two of R 3 ~R 5 -SO 2 - and more preferably indicating.

일반식(A2)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 기는, 일반식(A2) 중, R3∼R5 중 적어도 어느 하나의 말단에 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R3∼R5 중 적어도 어느 하나가 직접 불소 치환 알킬기와 결합되어 있는 것이 보다 바람직하다. 특히, R3∼R5 중 적어도 2개의 말단에 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R3∼R5 중 적어도 2개가 직접 불소치환 알킬기와 결합되어 있는 것이 보다 바람직하다. 불소치환 알킬기는 일반식(A1)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 기에서 설명한 것과 동의이며, 바람직한 범위도 같다.The group containing the structure represented by formula (A2) preferably has a fluorine-substituted alkyl group at the terminal of at least any one of R 3 to R 5 in formula (A2), and at least either of R 3 to R 5 And it is more preferable that one of them is directly bonded to a fluorine-substituted alkyl group. In particular, R 3 ~R desirable to have a fluorine-substituted alkyl group of at least two of the terminal 5, and, R 3 is ~R more preferably coupled with at least two fluorine-substituted alkyl group of 5 directly. The fluorine-substituted alkyl group is the same as that described in the group including the structure represented by formula (A1), and the preferable range is also the same.

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료는 양이온이 이하와 같이 비국재화해서 존재하고 있다. 예를 들면, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료에 있어서 하기 구조는 동의이며, 어느 것이나 본 발명에 포함되는 것으로 한다. 또한, 양이온 부위는 분자 중의 어느 위치에 있어도 좋다.The triarylmethane dyes represented by the general formula (1) exist in a noncircularized state as follows. For example, in the triarylmethane dye represented by the general formula (1), the following structures are synonymous, and any of them is included in the present invention. The cation site may be located at any position in the molecule.

Figure pat00016
Figure pat00016

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 구체예로서는 하기 화합물을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the triarylmethane dye represented by the general formula (1) include, but are not limited to, the following compounds.

Figure pat00017
Figure pat00017

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료는 저분자(예를 들면, 분자량 2,000 미만)이여도 좋고, 고분자(예를 들면, 분자량 2,000 이상)이여도 좋지만, 저분자가 바람직하다.The triarylmethane dye represented by the general formula (1) may be a low molecular weight (for example, a molecular weight of less than 2,000), a high molecular weight (for example, a molecular weight of 2,000 or more)

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 분자량은 700∼2,000이 바람직하고, 800∼1,200이 보다 바람직하다.The molecular weight of the triarylmethane dye represented by the general formula (1) is preferably 700 to 2,000, more preferably 800 to 1,200.

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료의 함유량은, 본 발명의 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 1∼40질량%가 바람직하고, 5∼20질량%가 보다 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써 내열성, 내용제성, 및 전압 유지율을 보다 향상시킬 수 있다.The content of the triarylmethane dye represented by the general formula (1) is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 20 mass%, based on the total solid content in the composition of the present invention. By setting this range, it is possible to further improve heat resistance, solvent resistance, and voltage holding ratio.

일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 2종 이상을 병용할 경우 합계량이 상기 범위를 만족시키는 것이 바람직하다.The triarylmethane dye represented by the general formula (1) may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total amount satisfies the above range.

<크산텐 염료><Xanthan Dye>

본 발명의 조성물은 크산텐 염료를 함유한다. 본 발명의 조성물은 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료와 함께 크산텐 염료를 함유함으로써 내광성, 휘도(콘트라스트) 등을 향상시킬 수 있다.The compositions of the present invention contain xanthene dyes. The composition of the present invention can improve light resistance, brightness (contrast) and the like by containing a xanthene dye together with a triarylmethane dye represented by the above general formula (1).

크산텐 염료는 분자 내에 크산텐 골격을 갖는 화합물을 포함하는 염료이다.The xanthene dye is a dye containing a compound having a xanthene skeleton in the molecule.

크산텐 염료는, 상술한 바와 같이 양이온과 음이온이 동일 분자 내에 존재하는, 즉 분자 내 염형인 것이 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써 내용제성을 보다 향상시킬 수 있다. As described above, the xanthene dye is preferably a salt in which the cation and the anion are present in the same molecule, i.e., intramolecularly. With such a constitution, the solvent resistance can be further improved.

크산텐 염료로서는, 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물(이하, 「화합물(3)」이라 하는 경우가 있다.)을 포함하는 염료도 바람직하다. 화합물(3)은 그 호변이성체라도 좋다. 크산텐 염료는 유기용제에 용해되는 것이 바람직하다.As the xanthene dye, a dye containing a compound represented by the following general formula (3) (hereinafter sometimes referred to as "compound (3)") is also preferable. The compound (3) may be a tautomer thereof. The xanthene dye is preferably dissolved in an organic solvent.

일반식(3)In general formula (3)

Figure pat00018
Figure pat00018

일반식(3) 중, R21∼R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1∼20의 알킬기 또는 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R21과 R22가 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 환을 형성해도 좋고, R23과 R24가 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 환을 형성해도 좋다; R25는 -OH, -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+, -CO2H, -CO2 -Z+, -CO2R28, -SO3R8 또는 -SO2NR29R30을 나타낸다; R26 및 R27은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다; m은 0∼5의 정수를 나타낸다; m이 2 이상일 때 복수의 R25는 동일해도 달라도 좋다; a는 0 또는 1을 나타내고, a가 0을 나타낼 경우 크산텐 염료 구조 중 어느 하나의 기가 음이온을 포함한다. X-는 음이온을 나타낸다; Z+는 N+(R31)4, Na+ 또는 K+를 나타내고, 4개의 R31은 동일해도 달라도 좋다; R28은 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다. R29 및 R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다; R29 및 R30은 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 3∼10원환의 복소환을 형성하고 있어도 좋다. R31은 수소원자 또는 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다.In the general formula (3), R 21 to R 24 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 21 and R 22 are bonded to each other to form a ring Or R 23 and R 24 may be bonded to each other to form a ring containing a nitrogen atom; R 25 is -OH, -SO 3 -, -SO 3 H, -SO 3 - Z +, -CO 2 H, -CO 2 - Z +, -CO 2 R 28, -SO 3 R 8 or -SO 2 NR 29 R 30 ; R 26 and R 27 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; m represents an integer of 0 to 5; when m is 2 or more, plural R 25 s may be the same or different; a represents 0 or 1, and when a represents 0, any one group of the xanthene dye structure contains an anion. X - represents an anion; Z + represents N + (R 31 ) 4 , Na + or K + , and four R 31 s may be the same or different; R 28 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 29 and R 30 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; R 29 and R 30 may be bonded to each other to form a 3- to 10-membered heterocyclic ring containing a nitrogen atom. R 31 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

R21∼R24가 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낼 경우, 탄소수 1∼20의 알킬기는 직쇄상, 분기상 또는 환상의 어느 것이라도 좋다. 또한, 탄소수 1∼20의 알킬기의 탄소수는 1∼6이 바람직하고, 1∼3이 보다 바람직하다. R21∼R24에 있어서의 탄소수 1∼20의 알킬기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 헥사데실기, 이코실기 등의 직쇄상 알킬기; 이소프로필기, 이소부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 2-에틸헥실기 등의 분기쇄상 알킬기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 트리시클로데실기 등의 탄소수 3∼20의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있다.When R 21 to R 24 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be any of linear, branched or cyclic. The number of carbon atoms of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 21 to R 24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, A straight chain alkyl group such as a decyl group or an icosyl group; A branched chain alkyl group such as an isopropyl group, an isobutyl group, an isopentyl group, a neopentyl group and a 2-ethylhexyl group; An alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and tricyclodecyl group.

상기 구체예 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 및 2-에틸헥실기가 바람직하고, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 헥실기 및 2-에틸헥실기가 보다 바람직하다.Of these, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl and 2-ethylhexyl groups are preferable, and a propyl group, an isopropyl group, And a 2-ethylhexyl group is more preferred.

R21∼R24가 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타낼 경우, 탄소수 6∼10의 아릴기는 치환기로서 알킬기를 갖는 것이 바람직하다. 탄소수 6∼10의 아릴기의 구체예로서는 페닐기, 톨루일기, 크실릴기, 메시틸기, 프로필페닐기 및 부틸페닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 톨루일기, 크실릴기, 메시틸기, 프로필페닐기가 바람직하고, 특히 톨루일기 및 크실릴기가 바람직하고, 2,6-디치환의 크실릴기가 보다 바람직하다.When R 21 to R 24 represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms preferably has an alkyl group as a substituent. Specific examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group, a mesityl group, a propylphenyl group and a butylphenyl group. Among them, a toluyl group, a xylyl group, a mesyl group and a propylphenyl group are preferable, and a toluyl group and a xylyl group are particularly preferable, and a 2,6-disubstituted xylyl group is more preferable.

또한, 탄소수 6∼10의 아릴기는 알킬기 이외의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 알킬기 이외의 치환기로서는, 할로겐원자, -R28, -OH, -OR28, -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+, -CO2H, -CO2R28, -SR28, -SO2R28, -SO3R28 또는 -SO2NR29R30을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 치환기로서는 -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+ 및 -SO2NR29R30이 바람직하고, SO3 -Z+ 및 -SO2NR29R30이 보다 바람직하다. 이 경우의 -SO3 -Z+로서는 -SO3 -+N(R31)4가 바람직하다. R21∼R24가 이러한 구성임으로써 화합물(3)을 포함하는 본 발명의 조성물을 이용하여 이물의 발생이 적고 내열성이 우수한 컬러필터를 형성할 수 있다.The aryl group having 6 to 10 carbon atoms may have a substituent other than the alkyl group. As a substituent other than an alkyl group, a halogen atom, -R 28, -OH, -OR 28 , -SO 3 -, -SO 3 H, -SO 3 - Z +, -CO 2 H, -CO 2 R 28, -SR 28 , -SO 2 R 28 , -SO 3 R 28 or -SO 2 NR 29 R 30 . Among these, as the substituent -SO 3 - Z + is more preferable, and -SO 2 NR 29 R 30 a -, -SO 3 H, -SO 3 - Z + and -SO 2 NR 29 R 30 are preferred, SO 3 . In this case, -SO 3 - Z + is preferably -SO 3 - + N (R 31 ) 4 . Since R 21 to R 24 have such a structure, a color filter having less occurrence of foreign matter and excellent in heat resistance can be formed by using the composition of the present invention including the compound (3).

R21과 R22가 서로 결합해서 형성되는 질소원자를 포함하는 환, 및 R23과 R24가 서로 결합해서 형성되는 질소원자를 포함하는 환으로서는, 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the ring containing a nitrogen atom formed by bonding R 21 and R 22 to each other and the nitrogen atom formed by bonding R 23 and R 24 to each other include the following.

Figure pat00019
Figure pat00019

화합물 안정성의 관점을 감안하면, 이 중에서도 이하에 나타내는 구조가 바람직하다.In view of the compound stability, the following structures are preferable among them.

Figure pat00020
Figure pat00020

일반식(3) 중, R25는 -OH, -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+, -CO2H, -CO2 -Z+, -CO2R28, -SO3R8 또는 -SO2NR29R30을 나타내고, -SO3 -, -SO3 -Z+, -CO2H, -CO2 -Z+, -CO2R28, -CO2NHR29, -SO3H, -SO2R28 또는 SO2NHR29가 바람직하고, -SO3 -가 보다 바람직하다. -SO2NR29R30은 -SO2NHR29가 바람직하다.Formula (3) in, R 25 is -OH, -SO 3 -, -SO 3 H, -SO 3 - Z +, -CO 2 H, -CO 2 - Z +, -CO 2 R 28, -SO 3 R 8 or -SO 2 represents NR 29 R 30, -SO 3 - , -SO 3 - Z +, -CO 2 H, -CO 2 - Z +, -CO 2 R 28, -CO 2 NHR 29, -SO 3 H, -SO 2 R 28 or SO 2 NHR 29 , and -SO 3 - is more preferable. -SO 2 NR 29 R 30 is preferably -SO 2 NHR 29 .

R28은 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다. 또한, R29 및 R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다. R 28 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Each of R 29 and R 30 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

R28∼R30에 있어서의 탄소수 1∼20의 알킬기는 R21∼R24가 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낼 경우와 동의이며, 바람직한 범위도 같다.The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 28 to R 30 is synonymous with the case where R 21 to R 24 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the preferable range is also the same.

-OR28의 구체예로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기 및 이코실옥시기 등을 들 수 있고, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기 및 부톡시기가 보다 바람직하다.Specific examples of -OR 28 include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy and eicosyloxy Methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group are more preferable.

-CO2R28의 구체예로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, tert-부톡시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기 및 이코실옥시카르보닐기 등을 들 수 있고, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 및 프로폭시카르보닐기가 보다 바람직하다.Specific examples of -CO 2 R 28 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group and an icosyloxycarbonyl group, and examples of the methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, More preferred is a foxy carbonyl group.

-SR28의 구체예로서는, 메틸술파닐기, 에틸술파닐기, 부틸술파닐기, 헥실술파닐기, 데실술파닐기 및 이코실술파닐기 등을 들 수 있다.Specific examples of -SR 28 include a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a butylsulfanyl group, a hexylsulfanyl group, a decylsulfanyl group and an icosylsulfanyl group.

-SO2R28의 구체예로서는, 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 부틸술포닐기, 헥실술포닐기, 데실술포닐기 및 이코실술포닐기 등을 들 수 있다.Specific examples of -SO 2 R 28 include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group, a decylsulfonyl group and an icosylsulfonyl group.

-SO3R28의 구체예로서는, 메톡시술포닐기, 에톡시술포닐기, 프로폭시술포닐기, tert-부톡시술포닐기, 헥실옥시술포닐기 및 이코실옥시술포닐기 등을 들 수 있다.Specific examples of -SO 3 R 28 include a methoxysulfonyl group, ethoxysulfonyl group, propoxysulfonyl group, tert-butoxysulfonyl group, hexyloxysulfonyl group, and eicosyloxysulfonyl group.

-SO2NR29R30에 있어서, R29 및 R30은 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 3∼10원환의 복소환을 형성하고 있어도 된다.In -SO 2 NR 29 R 30 , R 29 and R 30 may be bonded to each other to form a 3- to 10-membered heterocyclic ring containing a nitrogen atom.

-SO2NR29R30의 구체예로서는, 술파모일기; N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-이소프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-이소부틸술파모일기, N-sec-부틸술파모일기, N-tert-부틸술파모일기, N-펜틸술파모일기, N-(1-에틸프로필)술파모일기, N-(1,1-디메틸프로필)술파모일기, N-(1,2-디메틸프로필)술파모일기, N-(2-에틸헥실)술파모일기, N-(2,2-디메틸프로필)술파모일기, N-(1-메틸부틸)술파모일기, N-(2-메틸부틸)술파모일기, N-(3-메틸부틸)술파모일기, N-시클로펜틸술파모일기, N-헥실술파모일기, N-(1,3-디메틸부틸)술파모일기, N-(3,3-디메틸부틸)술파모일기, N-헵틸술파모일기, N-(1-메틸헥실)술파모일기, N-(1,4-디메틸펜틸)술파모일기, N-옥틸술파모일기, N-(2-에틸헥실)술파모일기, N-(1,5-디메틸)헥실술파모일기, N-(1,1,2,2-테트라메틸부틸)술파모일기 등의 N-1치환 술파모일기; N,N-디메틸술파모일기, N,N-에틸메틸술파모일기, N,N-디에틸술파모일기, N,N-프로필메틸술파모일기, N,N-이소프로필메틸술파모일기, N,N-tert-부틸메틸술파모일기, N,N-부틸에틸술파모일기, N,N-비스(1-메틸프로필)술파모일기, N,N-헵틸메틸술파모일기 등의 N,N-2치환 술파모일기 등을 들 수 있다.Specific examples of -SO 2 NR 29 R 30 include a sulfamoyl group; N-isopropylsulfamoyl group, N-methylsulfamoyl group, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-isopropylsulfamoyl group, (1, 1-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N- (1, 2-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N-methylpyrrolyl group, N- (2-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N- (2-ethylhexyl) sulfamoyl group, N- (3-methylbutyl) sulfamoyl group, an N-cyclopentylsulfamoyl group, an N-hexylsulfamoyl group, an N- (1,3-dimethylbutyl) sulfamoyl group, (1-methylpentyl) sulfamoyl group, N- (3,3-dimethylbutyl) sulfamoyl group, N-heptylsulfamoyl group, N- (1,1,2,2-tetramethylbutyl) sulfamoyl group such as N- (2-ethylhexyl) sulfamoyl group, N- (1,5-dimethyl) N-1 substituted sulfamoyl group; N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-ethylmethylsulfamoyl group, N, N-diethylsulfamoyl group, N, N-propylmethylsulfamoyl group, N, N-diethylamino groups such as N, N-tert-butylmethylsulfamoyl group, N, N-butylethylsulfamoyl group, N, N-bis (1-methylpropyl) sulfamoyl group, N-2-substituted sulfamoyl group, and the like.

이것들 중에서도, N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-이소프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-펜틸술파모일기 및 N-(2-에틸헥실)술파모일기가 바람직하고, N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-부틸술파모일기 및 N-(2-에틸헥실)술파모일기가 보다 바람직하다.Of these, N-methylsulfamoyl, N-ethylsulfamoyl, N-propylsulfamoyl, N-isopropylsulfamoyl, N-butylsulfamoyl, N-pentylsulfamoyl and N- -Ethylhexyl) sulfamoyl group is preferable and an N-methylsulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, an N-propylsulfamoyl group, an N-butylsulfamoyl group, and N- (2-ethylhexyl) sulfamoyl group Is more preferable.

R29 및 R30에 있어서의 탄소수 1∼20의 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋다. 치환기로서는 히드록시기 및 할로겐원자를 들 수 있다.The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 29 and R 30 may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group and a halogen atom.

일반식(3) 중, m은 1∼4가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다.In the general formula (3), m is preferably from 1 to 4, more preferably 1 or 2.

R26 및 R27은 수소원자가 바람직하다. R26 및 R27에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기로서는 상기 R21∼R24에 있어서의 탄소수 1∼20의 알킬기 중 탄소수 1∼6인 것을 들 수 있다.R 26 and R 27 are preferably a hydrogen atom. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms for R 26 and R 27 include those having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 21 to R 24 .

Z+는 N+(R31)4, Na+ 또는 K+이며, N+(R31)4가 바람직하다. N+(R31)4로서는 4개의 R31 중 적어도 2개가 탄소수 5∼20인 1가의 포화탄화수소기인 것이 바람직하다. 또한, 4개의 R31의 합계 탄소수가 20∼80인 것이 바람직하고, 20∼60인 것이 보다 바람직하다. 화합물(3) 중에 N+(R31)4가 존재할 경우, 4개의 R31 중 적어도 2개가 탄소수 5∼20인 1가의 포화탄화수소기임으로써 화합물(3)을 포함하는 본 발명의 조성물을 이용하여 이물이 적은 컬러필터를 형성할 수 있다.Z + is N + (R 31 ) 4 , Na + or K + , and N + (R 31 ) 4 is preferable. As N + (R 31 ) 4 , it is preferable that at least two of the four R 31 s are monovalent saturated hydrocarbon groups having 5 to 20 carbon atoms. Further, that the total number of carbon atoms of R 4 is 31 20 to 80 is preferred and more preferably, 20 to 60. When N + (R 31 ) 4 is present in the compound (3), at least two of the four R 31 s are monovalent saturated hydrocarbon groups having 5 to 20 carbon atoms, and the composition of the present invention comprising the compound (3) It is possible to form a small color filter.

R31이 탄소수 1∼20인 알킬기를 나타낼 경우, R21∼R24가 탄소수 1∼20인 알킬기를 나타낼 경우와 동의이며, 바람직한 범위도 같다.When R 31 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 21 to R 24 are synonymous with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and preferable ranges are also the same.

일반식(3) 중, a는 0 또는 1을 나타내고, 0이 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써 화합물(3) 중에 존재하는 이온 성분의 양이 줄기 때문에 전기특성을 보다 양호하게 할 수 있다.In the general formula (3), a represents 0 or 1, and 0 is preferable. By such a constitution, the amount of the ion component present in the compound (3) is reduced, so that the electric characteristics can be improved.

일반식(3) 중의 a가 0을 나타낼 경우, 크산텐 색소 구조 중 어느 하나의 기가 음이온을 갖고, R21∼R27 중 어느 1개가 음이온을 포함하는 것이 바람직하고, R25가 음이온을 포함하는 것이 보다 바람직하다.When a in general formula (3) represents 0, any one group of the xanthene dye structure has an anion, and any one of R 21 to R 27 preferably contains an anion, and when R 25 includes an anion Is more preferable.

일반식(3) 중의 a가 1을 나타낼 경우, 일반식(3)으로 나타내어지는 크산텐 염료의 양이온의 가수에 따라서 R21∼R27 중 어느 1개가 음이온을 포함하고 있어도 좋고, 포함하지 않아도 좋다.When a in general formula (3) represents 1, any one of R 21 to R 27 may or may not contain an anion depending on the valency of the cation of the xanthene dye represented by the general formula (3) .

일반식(3) 중 X-는 음이온을 나타내고, 일반식(3)으로 나타내어지는 크산텐 염료에 포함되는 양이온의 가수에 따라서 포함되고, 통상 1가 또는 2가이며, 1가가 바람직하다.X - in the general formula (3) represents an anion and is included depending on the valence of the cation included in the xanthene dye represented by the general formula (3), and is usually monovalent or divalent, preferably monovalent.

음이온이 1가일 경우, 상술한 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료에서 설명한 X-가 음이온을 나타낼 경우와 동의이다. 음이온이 2가일 경우, 예로서는 나프탈렌디술폰산을 들 수 있다.When the anion is monovalent, it is synonymous with the case that X - described in the triarylmethane dye represented by the above-mentioned general formula (1) represents an anion. When the anion is bivalent, for example, naphthalene disulfonic acid can be mentioned.

특히, 일반식(3) 중, R21 및 R23이 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R22 및 R24가 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R26 및 R27이 수소원자를 나타내는 것이 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써 화합물(3)의 분자량이 비교적 커지기 때문에 산으로서의 성능이 억제되고, 통전되기 어려워지기 때문에 전기특성을 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 휘도(콘트라스트) 등도 보다 향상시킬 수 있다.Particularly, in the general formula (3), R 21 and R 23 represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 22 and R 24 represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 26 and R 27 represent a hydrogen atom desirable. By such a constitution, the molecular weight of the compound (3) becomes comparatively large, so that the performance as an acid is suppressed, and it becomes difficult to conduct electricity, and the electric characteristics can be further improved. In addition, the luminance (contrast) and the like can be further improved.

또한, 일반식(3)으로 나타내어지는 크산텐 염료는 양이온이 이하와 같이 비국재화해서 존재하고 있고, 하기의 구조는 동의이며, 어느 것이나 본 발명에 포함되는 것으로 한다. 또한, 양이온 부위는 분자 중의 어느 위치에 있어도 좋지만, 질소원자 상에 위치하고 있는 것이 바람직하다. 후술하는 일반식(3a)으로 나타내어지는 화합물 및 일반식(3b)으로 나타내어지는 화합물에 대해서도 마찬가지이다.Further, the xanthene dyes represented by the general formula (3) exist in the form of non-gaseous cations as follows, and the following structures are synonymous, and any of them is included in the present invention. The cation moiety may be at any position in the molecule, but is preferably located on the nitrogen atom. The same applies to the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) described below.

Figure pat00021
Figure pat00021

또한, 화합물(3)로서는 하기 일반식(3a)으로 나타내어지는 화합물(이하 「화합물(3a)」라고 할 경우가 있다.)도 바람직하다. 화합물(3a)은 그 호변이성체라도 좋다.Also, as the compound (3), a compound represented by the following formula (3a) (hereinafter also referred to as "compound (3a)") is also preferable. The compound (3a) may be a tautomer thereof.

일반식(3a)In general formula (3a)

Figure pat00022
Figure pat00022

(일반식(3a) 중, R41 및 R42는 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 1가의 알킬기를 나타낸다. R43 및 R44는 각각 독립적으로 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 1∼4의 알킬술파닐기 또는 탄소수 1∼4의 알킬술포닐기를 나타낸다. R41과 R4는 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 환을 형성해도 좋다. 또한, R42와 R44는 서로 결합해서 질소원자를 포함하는 환을 형성해도 좋다. p 및 q는 각각 독립적으로 0∼5의 정수를 나타낸다. p가 2이상의 정수를 나타낼 경우, 복수의 R43은 동일해도 달라도 좋고, q가 2 이상의 정수를 나타낼 경우, 복수의 R44는 동일해도 달라도 좋다.)(Wherein R 41 and R 42 each independently represent a monovalent alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 43 and R 44 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A sulfanyl group or an alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 41 and R 4 may combine with each other to form a ring containing a nitrogen atom, and R 42 and R 44 may be bonded to each other to form a P and q each independently represent an integer of 0 to 5. When p represents an integer of 2 or more, plural R 43s may be the same or different, and when q represents an integer of 2 or more, plural the R 44 may be the same or different.)

R41 및 R42에 있어서의 탄소수 1∼10의 알킬기로서는 R28에서 설명한 탄소수 1∼20의 알킬기 중 탄소수 1∼10의 알킬기를 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기 및 2-에틸헥실기가 바람직하다. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 41 and R 42 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms described for R 28 , and examples thereof include a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-ethylhexyl group is preferable.

R41 및 R42는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 치환기로서 탄소수 6∼10의 아릴기를 들 수 있다. 탄소수 6∼10의 아릴기로서는 R21에서 설명한 탄소수 6∼10의 아릴기와 동의이다.R 41 and R 42 may have a substituent and examples of the substituent include an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. The aryl group having 6 to 10 carbon atoms is the same as the aryl group having 6 to 10 carbon atoms described for R &lt; 21 & gt ;.

R41 및 R42는 각각 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬기인 것이 바람직하다.R 41 and R 42 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

R43 및 R44에 있어서의 탄소수 1∼4의 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기 및 tert-부틸기 등을 들 수 있고, 메틸기, 에틸기 및 프로필기가 바람직하다.Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms for R 43 and R 44 include methyl, ethyl, propyl, butyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl and tert- Ethyl group and propyl group are preferable.

R43 및 R44에 있어서의 탄소수 1∼4의 알킬술파닐기로서는 메틸술파닐기, 에틸술파닐기, 프로필술파닐기, 부틸술파닐기 및 이소프로필술파닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylsulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms for R 43 and R 44 include a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a propylsulfanyl group, a butylsulfanyl group and an isopropylsulfanyl group.

R43 및 R44에 있어서의 탄소수 1∼4의 알킬술포닐기로서는 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 부틸술포닐기 및 이소프로필술포닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms in R 43 and R 44 include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, a butylsulfonyl group and an isopropylsulfonyl group.

p 및 q는 0∼2의 정수가 바람직하고, 0 또는 1이 바람직하다.p and q are preferably an integer of 0 to 2, and 0 or 1 is preferable.

크산텐 염료로서는 하기 일반식(3b)으로 나타내어지는 화합물(이하, 「화합물(3b)」라고 할 경우가 있다.)을 포함하는 염료도 바람직하다. 화합물(3b)은 그 호변이성체라도 좋다.As the xanthene dye, a dye containing a compound represented by the following general formula (3b) (hereinafter sometimes referred to as &quot; compound (3b) &quot;) is also preferable. The compound (3b) may be a tautomer thereof.

일반식(3b)(3b)

Figure pat00023
Figure pat00023

일반식(3b) 중, R50 및 R51은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R52 및 R53은 각각 독립적으로 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R54 및 R55는 수소원자를 나타낸다; R56∼R60은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다; a는 0 또는 1을 나타내고, a가 0을 나타낼 경우, R50∼R60 중 어느 하나의 기가 음이온을 포함한다; X-는 음이온을 나타낸다.In the general formula (3b), R 50 and R 51 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 52 and R 53 each independently represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 54 and R 55 represent hydrogen Represents an atom; R 56 to R 60 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; a represents 0 or 1, and when a represents 0, any one of R 50 to R 60 includes an anion; X - represents an anion.

R50 및 R51은 각각 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬기인 것이 보다 바람직하다. It is more preferable that each of R 50 and R 51 is independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

R52 및 R53은 일반식(3) 중의 R21∼R24가 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타낼 경우와 동의이며, 바람직한 범위도 같다. R 52 and R 53 are synonymous with the case where R 21 to R 24 in the general formula (3) represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and preferable ranges are also the same.

R56∼R59는 수소원자를 나타내는 것이 바람직하다. R60은 치환기를 나타내는 것이 바람직하고, 치환기로서는 아릴기가 바람직하다. 아릴기의 탄소수는 1∼12가 바람직하고, 1∼8이 보다 바람직하다. R60은 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 치환기로서는 일반식(3) 중의 R25에서 설명한 기를 들 수 있다.It is preferable that R 56 to R 59 represent a hydrogen atom. R 60 is preferably a substituent, and the substituent is preferably an aryl group. The carbon number of the aryl group is preferably from 1 to 12, more preferably from 1 to 8. R 60 may further have a substituent, and examples of the substituent include the groups described for R 25 in the general formula (3).

일반식(3b) 중, a는 0 또는 1을 나타내고, a가 0을 나타낼 경우, R50∼R60 중 어느 하나의 기가 음이온을 포함하고, R60이 음이온을 포함하는 것이 바람직하다. In the general formula (3b), a is 0 or 1, if A is a represent 0, R 50 ~R 60 include any of a group and the anion, it is preferred that R 60 comprises an anion.

일반식(3b) 중 X-는 음이온을 나타내고, 일반식(3) 중의 X-와 동의이며, 바람직한 범위도 같다.In the general formula (3b), X - represents an anion, X in the general formula (3) with a consent Also, the preferable range is the same.

화합물(3)의 구체예로서는 식(1-1)∼식(1-43)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 하기 구조 중, R은 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 탄소수 6∼12의 분기쇄상의 알킬기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 2-에틸헥실기를 나타내는 것이 더욱 바람직하다.Specific examples of the compound (3) include compounds represented by the formulas (1-1) to (1-43), but are not limited thereto. In the following structures, R preferably represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a branched chain alkyl group having 6 to 12 carbon atoms, further preferably a 2-ethylhexyl group.

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또한, 크산텐 염료의 구체예로서는 C. I. 앳시드 레드 51(이하, C. I. 앳시드 레드의 기재를 생략하고, 번호만의 기재로 한다. 다른 것도 마찬가지이다.), 52, 87, 92, 94, 289, 388, C. I. 앳시드 바이올렛 9, 30, 102, C. I. 베이식 레드 1(로다민 6G), 2, 3, 4, 8, C. I. 베이식 레드 10(로다민 B), 11, C. I. 베이식 바이올렛 10, 11, 25, C. I. 솔벤트 레드 218, C. I. 모던 레드 27, C. I. 리액티브 레드 36(로즈벵갈 B), 술포로다민 G, 일본 특허공개 2010-32999호 공보에 기재된 크산텐 염료 및 일본 특허 제4492760호 공보에 기재된 크산텐 염료 등을 들 수 있다.Specific examples of the xanthene dye include CI ated Sed Red 51 (hereinafter, the description of CI ated Sed Red will be omitted, and the description will be made only of the number, and the other is the same), 52, 87, 92, 94, 289, 388, CI at seed violet 9,30,102, CI basic red 1 (rhodamine 6G), 2,3,4,8, CI basic red 10 (rhodamine B), 11, CI basic violet 10,11,25 , CI Solvent Red 218, CI Modern Red 27, CI Reactive Red 36 (Rose Bengal B), Sulfolodamine G, the xanthene dyes disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-32999, and the cyanide dyes described in Japanese Patent No. 4492760 And xanthan dyes.

상기 예시 화합물 중에서도, C. I. 앳시드 레드 289의 술폰아미드화물, C. I. 앳시드 레드 289의 4급 암모늄염, C. I. 앳시드 바이올렛 102의 술폰아미드화물 또는 C. I. 앳시드 바이올렛 102의 제4급 암모늄염이 바람직하다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면 예시 화합물(1-1)∼(1-8), 예시 화합물(1-11) 또는 예시 화합물(1-12) 등을 들 수 있다.Among the above exemplified compounds, the sulfonamides of C. I. at. Seed red 289, the quaternary ammonium salts of C. I. at. Seed red 289, the sulfonamides of C. I. at. Seed violet 102 or the quaternary ammonium salt of C. I. at. Seed violet 102 are preferred. Examples of such compounds include Exemplary Compounds (1-1) to (1-8), Exemplary Compounds (1-11), Exemplary Compounds (1-12), and the like.

또한, 유기용매에의 용해성이 우수한 점에서 예시 화합물(1-24)∼(1-33) 중 어느 하나의 화합물도 바람직하다.In addition, any one of the exemplified compounds (1-24) to (1-33) is preferable in view of excellent solubility in an organic solvent.

또한, 크산텐 염료로서는 시판되고 있는 크산텐 염료(예를 들면, 츄가이 카세이(주)제의 「Chugai Aminol Fast Pink R-H/C」, 다오카 카가쿠 고교(주)제의 「Rhodamin 6G」)를 사용할 수도 있다. 또한, 시판되고 있는 크산텐 염료를 출발 원료로 해서, 일본 특허공개 2010-32999호 공보를 참고로 합성할 수도 있다.Examples of the xanthene dyes include commercially available xanthene dyes (for example, "Chugai Aminol Fast Pink RH / C" manufactured by Chugai Chemical Industry Co., Ltd., "Rhodamin 6G" manufactured by Daoka Chemical Industry Co., Ltd.) May be used. Further, a commercially available xanthene dye can be used as a starting material and synthesized with reference to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-32999.

크산텐 염료의 함유량은 본 발명의 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 1∼40질량%가 바람직하고, 5∼20질량%가 보다 바람직하다.The content of the xanthene dye is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 20 mass%, based on the total solid content in the composition of the present invention.

크산텐 염료의 총 질량에 대한 상기 화합물(3)의 함유량은 50질량% 이상이 바람직하고, 70질량% 이상이 보다 바람직하고, 90질량% 이상이 더욱 바람직하고, 100질량%가 특히 바람직하다. 크산텐 염료의 총 질량에 대한 상기 화합물(3)의 함유량의 상한은 통상 100질량% 이하이다.The content of the compound (3) relative to the total mass of the xanthene dye is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass. The upper limit of the content of the compound (3) relative to the total mass of the xanthene dye is usually 100 mass% or less.

크산텐 염료는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 2종 이상을 병용할 경우, 합계량이 상기 범위를 만족시키는 것이 바람직하다.The xanthene dyes may be used alone or in combination of two or more. When two or more species are used in combination, it is preferable that the total amount satisfies the above range.

<그 밖의 착색 화합물>&Lt; Other coloring compounds >

본 발명의 조성물은 상술한 크산텐 염료 및 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 이외의 다른 구조의 염료, 안료 및 그 분산물을 포함해도 좋고, 안료를 포함하는 것이 바람직하다. 이것들은 전 색재의 1질량% 이하인 것이 바람직하다.The composition of the present invention may contain dyes, pigments and dispersions thereof other than the xanthene dyes and the triarylmethane dyes represented by the general formula (1), and preferably include pigments. These are preferably not more than 1% by mass of the coloring material.

염료로서는 착색 화상의 색상에 영향을 주지 않는 것이면 어떤 구조라도 좋고, 예를 들면 아조계(예를 들면, 솔벤트 옐로우 162), 안트라퀴논계(예를 들면, 일본 특허공개 2001-10881호 공보에 기재된 안트라퀴논 화합물), 프탈로시아닌계(예를 들면, 미국 특허 2008/0076044A1에 기재된 프탈로시아닌 화합물), 크산텐계(예를 들면, 씨 아이 앳시드 레드 289(C. I. Acid Red 289)), 트리아릴메탄계(예를 들면, 씨 아이 앳시드 블루 7(C. I. Acid Blue 7), 씨 아이 앳시드 블루 83(C. I. Acid Blue 83), 씨 아이 앳시드 블루 90(C. I. Acid Blue 90), 씨 아이 솔벤트 블루 38(C. I. Solvent Blue 38), 씨 아이 앳시드 바이올렛 17(C. I. Acid Violet 17), 씨 아이 앳시드 바이올렛 49(C. I. Acid Violet 49), 씨 아이 앳시드 그린 3(C. I. Acid Green 3), 메틴 염료 등을 들 수 있다.As the dye, any structure may be used as long as it does not affect the color of a colored image. Examples of the dye include azo dyes (for example, Solvent Yellow 162), anthraquinone dyes (for example, those described in JP 2001-10881 A Anthraquinone compounds), phthalocyanine compounds (for example, phthalocyanine compounds described in U.S. Patent Application 2008/00796044 A1), xanthene compounds (for example, CI Acid Red 289), triarylmethane compounds For example, CI Acid Blue 7, CI Acid Blue 83, CI Acid Blue 90, CI Solvent Blue 90, Blue 38), CI Acid Violet 17, CI Acid Violet 49, CI Acid Green 3, and methine dyes. .

안료로서는 페릴렌, 페리논, 퀴나크리돈, 퀴나크리돈퀴논, 안트라퀴논, 안탄트론, 벤즈이미다졸론, 디스아조 축합, 디스아조, 아조, 인단트론, 프탈로시아닌, 트리아릴카르보늄, 디옥사진, 아미노안트라퀴논, 디케토피롤로피롤, 인디고, 티오인디고, 이소인돌린, 이소인돌리논, 피란트론 또는 이소비올란트론 등을 들 수 있다. 더욱 상세하게는, 예를 들면 피그먼트 레드 190, 피그먼트 레드 224, 피그먼트 바이올렛 29 등의 페릴렌 화합물 안료, 피그먼트 오렌지 43, 또는 피그먼트 레드 194 등의 페리논 화합물 안료, 피그먼트 바이올렛 19, 피그먼트 바이올렛 42, 피그먼트 레드 122, 피그먼트 레드 192, 피그먼트 레드 202, 피그먼트 레드 207, 또는 피그먼트 레드 209의 퀴나크리돈 화합물 안료, 피그먼트 레드 206, 피그먼트 오렌지 48, 또는 피그먼트 오렌지 49 등의 퀴나크리돈퀴논 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 147 등의 안트라퀴논 화합물 안료, 피그먼트 레드 168 등의 안탄트론 화합물 안료, 피그먼트 브라운 25, 피그먼트 바이올렛 32, 피그먼트 오렌지 36, 피그먼트 옐로우 120, 피그먼트 옐로우 180, 피그먼트 옐로우 181, 피그먼트 오렌지 62, 또는 피그먼트 레드 185 등의 벤즈이미다졸론 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 93, 피그먼트 옐로우 94, 피그먼트 옐로우 95, 피그먼트 옐로우 128, 피그먼트 옐로우 166, 피그먼트 오렌지 34, 피그먼트 오렌지 13, 피그먼트 오렌지 31, 피그먼트 레드 144, 피그먼트 레드 166, 피그먼트 레드 220, 피그먼트 레드 221, 피그먼트 레드 242, 피그먼트 레드 248, 피그먼트 레드 262, 또는 피그먼트 브라운 23 등의 디스아조 축합 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 13, 피그먼트 옐로우 83, 또는 피그먼트 옐로우 188 등의 디스아조 화합물 안료, 피그먼트 레드 187, 피그먼트 레드 170, 피그먼트 옐로우 74, 피그먼트 옐로우 150, 피그먼트 레드 48, 피그먼트 레드 53, 피그먼트 오렌지 64, 또는 피그먼트 레드 247 등의 아조 화합물 안료, 피그먼트 블루 60 등의 인단트론 화합물 안료, 피그먼트 그린 7, 피그먼트 그린 36, 피그먼트 그린 37, 피그먼트 그린 58, 피그먼트 블루 16, 피그먼트 블루 75, 또는 피그먼트 블루 15 등의 프탈로시아닌 화합물 안료, 피그먼트 블루 56, 또는 피그먼트 블루 61 등의 트리아릴카르보늄 화합물 안료, 피그먼트 바이올렛 23, 또는 피그먼트 바이올렛 37 등의 디옥사진 화합물 안료, 피그먼트 레드 177 등의 아미노안트라퀴논 화합물 안료, 피그먼트 레드 254, 피그먼트 레드 255, 피그먼트 레드 264, 피그먼트 레드 272, 피그먼트 오렌지 71, 또는 피그먼트 오렌지 73 등의 디케토피롤로피롤 화합물 안료, 피그먼트 레드 88 등의 티오인디고 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 139, 피그먼트 오렌지 66 등의 이소인돌린 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 109, 또는 피그먼트 오렌지 61 등의 이소인돌리논 화합물 안료, 피그먼트 오렌지 40, 또는 피그먼트 레드 216 등의 피란트론 화합물 안료, 또는 피그먼트 바이올렛 31 등의 이소비올란트론 화합물 안료를 들 수 있다.Examples of pigments include perylene, perinone, quinacridone, quinacridonequinone, anthraquinone, anthrone, benzimidazolone, disazo condensation, disazo, azo, indanthrone, phthalocyanine, triarylcarbonium, Aminoanthraquinone, diketopyrrolopyrrole, indigo, thioindigo, isoindoline, isoindolinone, pyranthrone or isoviolanthrone. More specifically, for example, perylene compound pigments such as Pigment Red 190, Pigment Red 224, Pigment Violet 29, Pigment Orange 43, or Pigment Red 194, and Pigment Violet 19 Pigment Red 202, Pigment Red 202, Pigment Red 202, Pigment Red 207, or Pigment Red 209, Pigment Red 206, Pigment Orange 48, Quinacridone quinone compound pigments such as CI Pigment Orange 49, anthraquinone compound pigments such as Pigment Yellow 147, anthrone compound pigments such as Pigment Red 168, Pigment Brown 25, Pigment Violet 32, Pigment Orange 36, Benzimidazolone compounds such as Pigment Yellow 120, Pigment Yellow 180, Pigment Yellow 181, Pigment Orange 62, or Pigment Red 185 Pigment Yellow 93, Pigment Yellow 94, Pigment Yellow 95, Pigment Yellow 128, Pigment Yellow 166, Pigment Orange 34, Pigment Orange 13, Pigment Orange 31, Pigment Red 144, Pigment Red 166, Pigment Red 220, Pigment Red 221, Pigment Red 242, Pigment Red 248, Pigment Red 262, and Pigment Brown 23, Pigment Yellow 13, Pigment Yellow 83, Or Pigment Yellow 188, Pigment Red 187, Pigment Red 170, Pigment Yellow 74, Pigment Yellow 150, Pigment Red 48, Pigment Red 53, Pigment Orange 64, Azo compound pigments such as Red 247, indanthrone compound pigments such as Pigment Blue 60, Pigment Green 7, Pigment Green 36, Pigment Green 37, Pigment Green 58, Pigment Blue 16, Pigment Blue 75, or Pigment Blue 15, Pigment Blue 56, or a triarylcarbonium compound pigment such as Pigment Blue 61, Pigment Violet 23, or Pigment Violet 37 and aminoanthraquinone compound pigments such as Pigment Red 177, Pigment Red 254, Pigment Red 255, Pigment Red 264, Pigment Red 272, Pigment Orange 71, or Pigment Orange 73, and the like; thioindigo compound pigments such as Pigment Red 88; pigments such as Pigment Yellow 139 and Pigment Orange 66, Pigment Yellow 109, Pigment Orange 61, etc. A pyranthrone compound pigment such as an isoindolinone compound pigment, Pigment Orange 40, or Pigment Red 216, It may be mentioned isobutyl biolran anthrone compound pigments, such as the olret 31.

본 발명의 조성물은 프탈로시아닌 안료를 함유하는 것이 바람직하다. 본 발명의 조성물이 프탈로시아닌 안료를 함유함으로써 내광성을 보다 향상시킬 수 있다.The composition of the present invention preferably contains a phthalocyanine pigment. The composition of the present invention contains a phthalocyanine pigment to further improve the light resistance.

본 발명의 조성물은 녹색에서 시안색의 색재를 포함하는 것이 바람직하고, 피그먼트 그린 7, 피그먼트 그린 36, 피그먼트 그린 37, 피그먼트 그린 58, 피그먼트 블루 16, 피그먼트 블루 75, 피그먼트 블루 15, 피그먼트 블루 15:6 등의 프탈로시아닌 화합물 안료, 피그먼트 블루 56, 또는 피그먼트 블루 61 등의 트리아릴카르보늄 화합물 안료, 피그먼트 바이올렛 23, 또는 피그먼트 바이올렛 37 등의 디옥사진 화합물 안료, 피그먼트 레드 177 등의 아미노안트라퀴논 화합물 안료, 피그먼트 레드 254, 피그먼트 레드 255, 피그먼트 레드 264, 피그먼트 레드 272, 피그먼트 오렌지 71, 또는 피그먼트 오렌지 73 등의 디케토피롤로피롤 화합물 안료, 피그먼트 레드 88 등의 티오인디고 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 139, 피그먼트 오렌지 66 등의 이소인돌린 화합물 안료, 피그먼트 옐로우 109, 또는 피그먼트 오렌지 61 등의 이소인돌리논 화합물 안료, 피그먼트 오렌지 40, 또는 피그먼트 레드 216 등의 피란트론 화합물 안료, 또는 피그먼트 바이올렛 31 등의 이소비올란트론 화합물 안료가 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains a green to cyan coloring material, and is preferably selected from the group consisting of Pigment Green 7, Pigment Green 36, Pigment Green 37, Pigment Green 58, Pigment Blue 16, Pigment Blue 75, Phthalocyanine compound pigments such as Blue 15 and Pigment Blue 15: 6, triarylcarbonium compound pigments such as Pigment Blue 56 and Pigment Blue 61, Pigment Violet 23, and Pigment Violet 37 , Pigment Red 177, Pigment Red 254, Pigment Red 255, Pigment Red 264, Pigment Red 272, Pigment Orange 71, or Pigment Orange 73 Pigment, thioindigo compound pigments such as Pigment Red 88, pigment isoindoline compounds such as Pigment Yellow 139 and Pigment Orange 66, pigments Yellow 109, or Pigment Orange 61, pyranthrone compound pigments such as Pigment Orange 40 or Pigment Red 216, or isoviolanthrone compound pigments such as Pigment Violet 31 are preferred.

상기 염료 또는 안료를 분산물로서 배합할 경우, 일본 특허공개 평 9-197118호 공보, 일본 특허공개 2000-239544호 공보의 기재에 따라서 조정할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다. When the dye or pigment is formulated as a dispersion, it can be adjusted according to the description of JP-A-9-197118 and JP-A-2000-239544, the contents of which are incorporated herein by reference.

프탈로시아닌 안료의 함유량은 본 발명의 착색 경화성 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.5질량%∼70질량%인 것이 바람직하고, 0.5질량%∼20질량%인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량%∼10질량%인 것이 더욱 바람직하다.The content of the phthalocyanine pigment is preferably 0.5% by mass to 70% by mass, more preferably 0.5% by mass to 20% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 10% by mass, based on the total solid content of the coloring and curing composition of the present invention More preferable.

또한, 크산텐 염료, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 프탈로시아닌 안료 이외의 다른 염료 또는 안료의 함유량의 합계는, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 사용할 수 있고, 본 발명의 착색 경화성 조성물의 전체 고형분에 대하여 30질량% 이하로 할 수도 있고, 20질량% 이하로 할 수도 있고, 10질량% 이하로 할 수도 있다. 다른 염료 또는 안료의 함유량의 합계의 하한은, 통상 0.5질량% 이상이다.The total content of the dyes or pigments other than the xanthene dyes, the triarylmethane dyes represented by the general formula (1) and the phthalocyanine pigments can be used within a range not impairing the effects of the present invention, It may be 30 mass% or less, 20 mass% or less, and 10 mass% or less, based on the total solid content of the color-curable composition. The lower limit of the total content of other dyes or pigments is generally 0.5% by mass or more.

또한, 흡수 강도비(450㎚의 흡수/650㎚의 흡수)가 0.95∼1.05의 범위로 되도록 본 발명의 조성물에 첨가되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable to add it to the composition of the present invention such that the absorption intensity ratio (absorption at 450 nm / absorption at 650 nm) is in the range of 0.95 to 1.05.

그 밖의 착색제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 2종 이상을 병용할 경우, 합계량이 상기 범위를 만족시키는 것이 바람직하다.The other coloring agents may be used alone or in combination of two or more. When two or more species are used in combination, it is preferable that the total amount satisfies the above range.

본 발명의 조성물은 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 크산텐 염료에 추가해서 경화성 화합물을 포함한다. 경화성 화합물로서는 중합성 화합물이나 알칼리 가용성 수지(중합성기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 포함한다)가 예시되고, 용도나 제조방법에 따라 적당하게 선택된다. 또한, 본 발명의 조성물은 광중합 개시제를 포함하고 있는 것이 바람직하다.The composition of the present invention includes a curable compound in addition to a triarylmethane dye and a xanthene dye represented by the general formula (1). As the curable compound, a polymerizable compound or an alkali-soluble resin (including an alkali-soluble resin containing a polymerizable group) is exemplified and appropriately selected according to the application and the production method. In addition, the composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.

예를 들면, 포토레지스트에 의해 착색층을 형성할 경우, 본 발명의 조성물은 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료, 크산텐 염료, 경화성 화합물로서의 중합성 화합물과 알칼리 가용성 수지, 용제 및 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 계면활성제를 포함하고 있어도 좋다.For example, when a colored layer is formed by a photoresist, the composition of the present invention comprises a triarylmethane dye represented by the general formula (1), a xanthene dye, a polymerizable compound as a curable compound, an alkali soluble resin, It is preferable to include a photopolymerization initiator. It may also contain a surfactant.

또한, 드라이에칭에 의해 착색층을 형성할 경우, 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료, 크산텐 염료, 경화성 화합물로서의 중합성 화합물, 용제 및 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 계면활성제를 포함하고 있어도 좋다.When the colored layer is formed by dry etching, it preferably contains a triarylmethane dye represented by the general formula (1), a xanthene dye, a polymerizable compound as a curable compound, a solvent, and a photopolymerization initiator. It may also contain a surfactant.

이하, 이것들의 상세에 대하여 설명한다.The details of these will be described below.

<<경화성 화합물>><< Curing compound >>

본 발명의 착색 조성물은 경화성 화합물을 함유한다. 경화성 화합물은 적어도 중합성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention contains a curable compound. The curable compound preferably contains at least a polymerizable compound.

<<<중합성 화합물>>><<< Polymerizable compound >>>

본 발명의 착색 경화성 조성물은 적어도 1종의 중합성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 중합성 화합물로서는, 예를 들면 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 부가중합성 화합물을 들 수 있다.The colored curable composition of the present invention preferably contains at least one polymerizable compound. As the polymerizable compound, for example, an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond can be mentioned.

구체적으로는, 말단 에틸렌성 불포화 결합을 적어도 1개, 바람직하게는 2개 이상 갖는 화합물로부터 선택된다. 이러한 화합물군은 본 발명의 산업분야에 있어서 널리 알려져 있는 것이며, 본 발명에 있어서는 이것들을 특별하게 한정 없이 사용할 수 있다. 이것들은, 예를 들면 모노머, 프리폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머, 또는 그것들의 혼합물 및 그것들의 (공)중합체 등의 화학적 형태의 어느 것이라도 좋다. 중합성 화합물의 구체예는, 일본 특허공개 2013-182215호 공보의 단락 0042∼0049의 기재를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다. Specifically, it is selected from compounds having at least one, and preferably two or more, terminal ethylenic unsaturated bonds. Such a group of compounds is well known in the industrial field of the present invention and can be used in the present invention without particular limitation. These may be, for example, any of a monomer, a prepolymer, that is, a chemical form such as a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a (co) polymer thereof. As specific examples of the polymerizable compound, reference may be made to paragraphs 0042 to 0049 of JP-A-2013-182215, the contents of which are incorporated herein by reference.

중합성 화합물은 시판품을 사용해도 좋다. 예를 들면, 카야라드 DPHA[니폰 카야쿠(주)제, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트의 혼합물]를 들 수 있다.Commercially available products may be used as the polymerizable compound. For example, Kayarad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate) can be mentioned.

본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 중합성 화합물의 함유량으로서는, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터 10질량%∼80질량%가 바람직하고, 15질량%∼75질량%가 보다 바람직하고, 20질량%∼60질량%가 특히 바람직하다.The content of the polymerizable compound relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably from 10% by mass to 80% by mass, more preferably from 15% by mass to 75% by mass, and still more preferably from 20% by mass to 20% by mass, from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively. And particularly preferably 60% by mass to 60% by mass.

중합성 화합물은 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 중합성 화합물을 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of polymerizable compounds are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<광중합 개시제>><< Photopolymerization initiator >>

본 발명의 조성물은 적어도 1종의 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제는 상기 중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 비용 등의 관점에서 선택되는 것이 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains at least one photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can polymerize the polymerizable compound, and is preferably selected from the viewpoints of characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, and cost.

광중합 개시제로서는, 예를 들면 할로메틸옥사디아졸 화합물 및 할로메틸-s-트리아진 화합물로부터 선택되는 적어도 1개의 활성 할로겐 화합물, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물, 로핀 2량체, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 시클로펜타디엔-벤젠-철 착체 및 그 염, 옥심 화합물 등을 들 수 있다. 광중합 개시제의 구체예에 대해서는 일본 특허공개 2004-295116호 공보의 단락 〔0070〕∼〔0077〕에 기재된 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합반응이 신속한 점 등으로부터 옥심 화합물 또는 비이미다졸계 화합물이 바람직하다.Examples of the photopolymerization initiator include at least one active halogen compound selected from a halomethyloxadiazole compound and a halomethyl-s-triazine compound, a 3-aryl substituted coumarin compound, a ropin dimer, a benzophenone compound, an acetophenone compound And derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, and oxime compounds. Specific examples of the photopolymerization initiator include those described in paragraphs [0070] to [0077] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116. Among them, an oxime compound or a nonimidazole-based compound is preferable because of the fact that the polymerization reaction is quick.

옥심계 화합물(이하, 「옥심계 광중합 개시제」라고도 한다.)로서는 특별하게 한정은 없고, 예를 들면 일본 특허공개 2000-80068호 공보, WO02/100903A1, 일본 특허공개 2001-233842호 공보 등에 기재된 옥심계 화합물을 들 수 있다. The oxime-based compound (hereinafter, also referred to as "oxime-based photopolymerization initiator") is not particularly limited, and examples thereof include oxime-based compounds such as oximes described in JP-A 2000-80068, WO 02/100903 A1, JP 2001-233842, Based compounds.

옥심계 화합물의 구체적인 예로서는, 일본 특허공개 2013-182215호 공보의 단락 0053의 기재를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다. As a specific example of the oxime-based compound, the description of paragraph 0053 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-182215 may be taken into consideration, and the content of the oxime-based compound is incorporated herein.

또한, 옥심계 화합물로서는 TR-PBG-304(상주 강력 전자 신재료 유한공사사제), 아데카 아크루즈 NCI-831, 아데카 아크루즈 NCI-930(ADEKA사제) 등을 사용할 수도 있다.As the oxime compound, TR-PBG-304 (manufactured by Sangho Power Electronics Co., Ltd.), Adeka Crus NCI-831, Adeka Crus NCI-930 (manufactured by ADEKA) can be used.

또한, 감도, 경시 안정성, 후가열시의 착색의 관점으로부터 옥심 화합물로서 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.From the viewpoints of sensitivity, stability with time, and coloration upon post heating, compounds represented by the following general formula (1) are more preferable as the oxime compounds.

Figure pat00032
Figure pat00032

(일반식(1) 중, R 및 X는 각각 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타낸다. n은 1∼5의 정수이다.)(In the general formula (1), R and X each represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n represents an integer of 1 to 5.)

R로서는 고감도화의 점으로부터 아실기가 바람직하고, 구체적으로는 아세틸기, 프로피오닐기, 벤조일기, 톨루일기가 바람직하다.As R, an acyl group is preferable from the viewpoint of high sensitivity, and specifically, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, and a toluyl group are preferable.

A로서는 감도를 높이고, 가열 시간 경과에 의한 착색을 억제하는 점으로부터 무치환의 알킬렌기, 알킬기(예를 들면 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기)로 치환된 알킬렌기, 알케닐기(예를 들면 비닐기, 알릴기)로 치환된 알킬렌기, 아릴기(예를 들면 페닐기, p-톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 스티릴기)로 치환된 알킬렌기가 바람직하다.Examples of A include an alkylene group substituted with an unsubstituted alkylene group, an alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, tert-butyl group or dodecyl group), an alkenyl group (For example, a vinyl group, an allyl group), an aryl group (for example, a phenyl group, a p-tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, Alkylene group is preferred.

Ar로서는 감도를 높이고, 가열 시간 경과에 의한 착색을 억제하는 점으로부터, 치환 또는 무치환의 페닐기가 바람직하다. 치환 페닐기의 경우 그 치환기로서는, 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자 등의 할로겐기가 바람직하다.As Ar, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable in view of increasing the sensitivity and inhibiting coloration due to the heating time. In the case of the substituted phenyl group, the substituent is preferably a halogen group such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

X로서는 용제 용해성과 장파장 영역의 흡수 효율 향상의 점으로부터, 치환기를 가져도 좋은 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아릴기, 치환기를 가져도 좋은 알케닐기, 치환기를 가져도 좋은 알키닐기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬티옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴티옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아미노기가 바람직하다. 또한, 일반식(1)에 있어서의 n은 1∼2의 정수가 바람직하다.X is preferably an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, a substituent An aryloxy group which may have a substituent, an alkyloxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent are preferable. In the general formula (1), n is preferably an integer of 1 to 2.

비이미다졸계 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공개 2013-182213호 공보 단락 0061∼0070의 기재를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다.As a specific example of the imidazole-based compound, reference may be made to the description in paragraphs 0061 to 0067 of JP-A-2013-182213, the contents of which are incorporated herein by reference.

또한, 본 발명의 조성물은 상기 광중합 개시제의 이외에, 일본 특허공개 2004-295116호 공보의 단락번호 0079에 기재된 다른 공지의 광중합 개시제를 함유해도 좋다.The composition of the present invention may contain, in addition to the above-mentioned photopolymerization initiator, other known photopolymerization initiators described in paragraph No. 0079 of JP 2004-295116 A.

본 발명의 조성물이 광중합 개시제를 가질 경우, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 광중합 개시제의 함유량은 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터 3질량%∼20질량%가 바람직하고, 4질량%∼19질량%가 보다 바람직하고, 5질량%∼18질량%가 특히 바람직하다.When the composition of the present invention has a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably 3% by mass to 20% by mass, more preferably 4% More preferably 19 mass%, and particularly preferably 5 mass% to 18 mass%.

광중합 개시제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 중합성 화합물을 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of polymerizable compounds are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<유기용제>><< Organic solvents >>

본 발명의 조성물은 적어도 1종의 유기용제를 함유할 수 있다. The composition of the present invention may contain at least one organic solvent.

유기용제는 병존하는 각 성분의 용해성이나 조성물의 도포성을 만족할 수 있는 것이면 기본적으로는 특별히 제한은 없고, 특히 바인더의 용해성, 도포성, 안전성을 고려해서 선택하는 것이 바람직하다.The organic solvent is not particularly limited so far as it can satisfy the solubility of the respective constituent components and the coating property of the composition, and is preferably selected in consideration of the solubility, the coatability, and the safety of the binder.

유기용제로서는 에스테르류, 에테르류, 케톤류, 방향족 탄화수소류가 사용되고, 구체적으로는, 일본 특허공개 2012-032754호 공보의 단락번호 0161∼0162에 기재된 것이 예시된다. As the organic solvent, esters, ethers, ketones, and aromatic hydrocarbons are used. Specifically, those described in paragraphs 0161 to 0162 of JP-A-2012-032754 are exemplified.

이들 유기용제는 상술의 각 성분의 용해성, 및 알칼리 가용성 폴리머를 포함할 경우는 그 용해성, 도포면 형상의 개량 등의 관점으로부터 2종 이상을 혼합하는 것도 바람직하다. 이 경우, 특히 바람직하게는 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세트산 부틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 시클로헥산온, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 및 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 혼합 용액이다.These organic solvents are preferably mixed with two or more kinds from the viewpoints of the solubility of each of the above-mentioned components and the solubility of the alkali-soluble polymer, and the improvement of the shape of the coated surface. In this case, particularly preferable examples thereof include methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylcellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, , Cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

본 발명의 조성물이 유기용제를 함유할 경우, 본 발명의 조성물 중에 있어서의 유기용제의 함유량은 본 발명의 조성물 중의 전체 고형분 농도가 10질량%∼80질량%로 되는 양이 바람직하고, 15질량%∼60질량%로 되는 양이 보다 바람직하다.When the composition of the present invention contains an organic solvent, the content of the organic solvent in the composition of the present invention is preferably such that the total solid content concentration in the composition of the present invention is 10% by mass to 80% by mass, more preferably 15% To 60 mass% is more preferable.

유기용제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 유기용제를 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The organic solvent may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of organic solvents are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<알칼리 가용성 수지>><< Alkali-soluble resin >>

본 발명의 조성물은 알칼리 가용성 수지를 포함하고 있어도 좋다. 알칼리 가용성 수지는 알칼리 가용성을 갖는 것 이외에는 특별하게 한정은 없고, 바람직하게는 내열성, 현상성, 입수성 등의 관점으로부터 선택할 수 있다.The composition of the present invention may contain an alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin is not particularly limited, except that it has alkali solubility, and can be preferably selected from the viewpoints of heat resistance, developability, availability and the like.

알칼리 가용성 수지로서는 선상 유기 고분자 중합체이며, 또한 유기용제에 가용이고, 약알카리 수용액으로 현상할 수 있는 것이 바람직하다. 이러한 선상 유기 고분자 중합체로서는 측쇄에 카르복실산을 갖는 폴리머, 예를 들면 일본 특허공개 소 59-44615호, 일본 특허공고 소 54-34327호, 일본 특허공고 소 58-12577호, 일본 특허공고 소 54-25957호, 일본 특허공개 소 59-53836호, 일본 특허공개 소 59-71048호의 각 공보에 기재되어 있는 것 같은, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스테르화 말레산 공중합체 등을 들 수 있고, 마찬가지로 측쇄에 카르복실산을 갖는 산성 셀룰로오스 유도체가 유용하다.The alkali-soluble resin is preferably a linear organic polymer, soluble in an organic solvent, and capable of being developed with a weakly alkaline aqueous solution. Examples of such linear organic polymer include polymers having a carboxylic acid in the side chain, such as those disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577, Japanese Patent Publication 54 Methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, and acrylic acid copolymers as described in the respective publications of Japanese Patent Application Laid-Open No. 25957, Japanese Patent Application Laid-open No. 59-53836, Maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like, and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain are also useful.

상술한 것 외에, 본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지로서는 일본 특허공개 2013-182215호 공보의 단락 0079∼0082의 기재를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 도입된다. As the alkali-soluble resin in the present invention, the description of paragraphs 0079 to 0082 of JP-A-2013-182215 may be taken into consideration, and the content thereof is incorporated herein by reference.

또한, 구조식 b1과 b2에 나타내는 말레이미드와 에틸렌옥사이드의 공중합체도 바람직하게 사용할 수 있다.A copolymer of maleimide and ethylene oxide represented by the structural formulas b1 and b2 may also be preferably used.

Figure pat00033
Figure pat00033

상기 일반식(b1) 중, R1은 수소원자, 아릴기, 또는 알킬기를 나타낸다.In the general formula (b1), R 1 represents a hydrogen atom, an aryl group, or an alkyl group.

R1이 알킬기를 나타낼 경우의 알킬기로서는 탄소수 1∼10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3∼10의 분기쇄를 갖는 알킬기, 탄소수 5∼20의 환상 알킬기 등을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group when R 1 represents an alkyl group include a straight chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having a branched chain having 3 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms. More specifically, , a t-butyl group, and a cyclohexyl group.

알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 알킬기에 도입 가능한 치환기로서는 페닐기, 카르보닐기, 알콕시기, 히드록시기, 아미노기 등을 들 수 있다.The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group include a phenyl group, a carbonyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, and an amino group.

R1이 아릴기를 나타낼 경우의 아릴기로서는 단환 구조의 아릴기, 다환 구조의 아릴기, 축환 구조의 아릴기, 헤테로원자를 포함하는 헤테로아릴기 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기, 벤조이미다졸릴기, 피리딜기, 푸릴기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group when R 1 represents an aryl group include an aryl group of a monocyclic structure, an aryl group of a polycyclic structure, an aryl group of a cyclic structure, and a heteroaryl group containing a hetero atom. More specifically, examples include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a benzimidazolyl group, a pyridyl group, and a furyl group.

아릴기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 아릴기에 도입 가능한 치환기로서는 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 시클로헥실기 등의 알킬기, 메톡시기 등의 알콕시기, 카르복시기, 히드록시기, 아미노기, 니트로기, 클로로기, 브로모기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which can be introduced into the aryl group include an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, t-butyl group and cyclohexyl group, an alkoxy group such as methoxy group, a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, a nitro group, Mosquitoes, and the like.

Figure pat00034
Figure pat00034

상기 일반식(b2) 중, R2는 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. R3은 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기이며, R4는 수소원자, 아릴기, 또는 알킬기를 나타내고, m은 1∼15의 정수를 나타낸다.In the general formula (b2), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 3 is an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, R 4 is a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group, and m is an integer of 1 to 15.

R4가 알킬기를 나타낼 경우의 알킬기로서는 탄소수 1∼20의 직쇄상 알킬기, 탄소수 1∼20의 분기쇄를 갖는 알킬기, 탄소수 5∼20의 환상 알킬기 등을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 시클로헥실기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있다.When R 4 represents an alkyl group, examples of the alkyl group include a straight chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having a branched chain having 1 to 20 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms. More specifically, , a t-butyl group, a cyclohexyl group, and a 2-ethylhexyl group.

알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 알킬기에 도입 가능한 치환기로서는 페닐기, 카르보닐기, 알콕시기 등을 들 수 있다.The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group include a phenyl group, a carbonyl group, and an alkoxy group.

R4가 아릴기를 나타낼 경우의 아릴기로서는 단환 구조의 아릴기, 다환 구조의 아릴기, 축환 구조의 아릴기, 헤테로원자를 포함하는 헤테로아릴기 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라닐기, 비페닐기, 벤조이미다졸릴기, 인돌릴기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 카르바졸릴기, 피리딜기, 푸릴기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group when R 4 represents an aryl group include an aryl group of a monocyclic structure, an aryl group of a polycyclic structure, an aryl group of a cyclic structure, and a heteroaryl group containing a hetero atom. More specifically, examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a biphenyl group, a benzoimidazolyl group, an indolyl group, an imidazolyl group, an oxazolyl group, a carbazolyl group, a pyridyl group and a furyl group.

아릴기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 아릴기에 도입 가능한 치환기로서는 노닐기, 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 시클로헥실기 등의 알킬기, 메톡시기 등의 알콕시기, 카르복시기, 히드록시기, 아미노기, 니트로기, 클로로기, 브로모기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which can be introduced into the aryl group include an alkyl group such as a nonyl group, a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group and a cyclohexyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, a carboxyl group, a hydroxy group, A bromo group, and the like.

또한, 알칼리 가용성 수지는 가교 효율을 향상시키기 위해서 중합성기를 측쇄에 가져도 좋고, 예를 들면 알릴기, (메타)아크릴기, 알릴옥시알킬기 등을 측쇄에 함유하는 폴리머 등도 유용하다. 상술의 중합성기를 함유하는 폴리머의 예로서는, 시판품의 KS 레지스트 106[오사카 유키 카가쿠 고교(주)제], 사이크로머 P 시리즈[다이셀 카가쿠 고교(주)제] 등을 들 수 있다. 또한, 경화 피막의 강도를 높이기 위해서 알콜 가용성 나일론이나 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판과 에피클로로히드린의 폴리에테르 등도 유용하다.The alkali-soluble resin may also have a polymerizable group in the side chain to improve the crosslinking efficiency. For example, a polymer containing an allyl group, a (meth) acrylic group, an allyloxyalkyl group or the like in its side chain is also useful. Examples of the above-mentioned polymer containing a polymerizable group include commercial products such as KS Res 106 (manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and Sycolmer P series (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). Further, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. are also useful for increasing the strength of the cured coating.

이들 각종 알칼리 가용성 수지 중에서도, 내열성의 관점으로부터는 폴리히드록시스티렌계 수지, 폴리실록산계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴아미드계 수지, 아크릴/아크릴아미드 공중합체 수지가 바람직하고, 현상성 제어의 관점으로부터는 아크릴계 수지, 아크릴아미드계 수지, 아크릴/아크릴아미드 공중합체 수지가 바람직하다.Of these various alkali-soluble resins, polyhydroxystyrene resins, polysiloxane resins, acrylic resins, acrylamide resins and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferable from the viewpoint of heat resistance, and from the viewpoint of development control, Resins, acrylamide resins, and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferable.

이 중에서도 하기 일반식(2)으로 나타내는 바와 같은 반복단위와 산성기를 갖는 공중합체가 바람직하고, 보다 바람직하게는 일반식(2)과 산성기에 추가하여 일반식(3)으로 나타내어지는 구조단위를 갖는 공중합체를 바람직한 예로서 들 수 있다.Among them, a copolymer having a repeating unit and an acidic group represented by the following general formula (2) is preferable, and more preferably a copolymer having a structural unit represented by the general formula (3) in addition to the general formula (2) Copolymers can be mentioned as preferred examples.

Figure pat00035
Figure pat00035

상기 일반식(2)에 있어서, R20은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R21, R22, R23, R24, 및 R25는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다. Wherein in the formula (2), R 20 is a hydrogen atom or a methyl group, R 21, R 22, R 23, R 24, and R 25 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, or Lt; / RTI &gt;

Figure pat00036
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상기 일반식(3)에 있어서, R11은 수소원자 또는 메틸기를 나타내는 것이다. R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 불포화 이중결합을 부분구조로서 포함하는 탄소수 3∼20의 카르보닐기를 나타내고, R12 및 R13의 쌍방이 수소원자인 것은 아니다. R12 및 R13의 적어도 한쪽이 불포화 이중결합을 부분구조로서 포함하는 탄소수 3∼20의 카르보닐기를 나타낼 경우, 카르복시기를 부분구조로서 더 포함하고 있어도 좋다. In the general formula (3), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a carbonyl group having 3 to 20 carbon atoms which contains an unsaturated double bond as a partial structure, and both of R 12 and R 13 are not hydrogen atoms. When at least one of R 12 and R 13 is a carbonyl group having 3 to 20 carbon atoms and contains an unsaturated double bond as a partial structure, the carbonyl group may further include a carboxyl group as a partial structure.

상기 아크릴계수지로서는 벤질(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드 등에서 선택되는 모노머로 이루어지는 공중합체나, 시판품의 KS 레지스트 106[오사카 유키 카가쿠 고교(주)제], 사이크로머 P 시리즈[다이셀 카가쿠 고교(주)제] 등이 바람직하다. 또한, 벤질메타크릴레이트/메타크릴산(85/15[질량비])의 공중합체도 바람직하다.Examples of the acrylic resin include copolymers comprising monomers selected from benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide and the like, and KS resists 106 commercially sold by Osaka Yuki Kagaku (Trade name, product of Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and Cychromer P series (product of Daicel Chemical Industries, Ltd.). Copolymers of benzyl methacrylate / methacrylic acid (85/15 [mass ratio]) are also preferable.

또한, 알칼리 가용성 수지는 하기 식(X)으로 나타내어지는 에틸렌성 불포화단량체로부터 유래되는 구조단위를 포함하고 있어도 좋다.The alkali-soluble resin may also contain a structural unit derived from an ethylenically unsaturated monomer represented by the following formula (X).

일반식(X)In general formula (X)

Figure pat00037
Figure pat00037

(식(X)에 있어서, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 2∼10의 알킬렌기를 나타내고, R3은 수소원자 또는 벤젠환을 포함해도 좋은 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다. n은 1∼15의 정수를 나타낸다.)(In the formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hydrogen atom or a benzene ring, And n represents an integer of 1 to 15.)

상기 식(X)에 있어서, R2의 알킬렌기의 탄소수는 2∼3인 것이 바람직하다. 또한, R3의 알킬기의 탄소수는 1∼20이지만, 보다 바람직하게는 1∼10이며, R3의 알킬기는 벤젠환을 포함해도 좋다. R3으로 나타내어지는 벤젠환을 포함하는 알킬기로서는 벤질기, 2-페닐(이소)프로필기 등을 들 수 있다.In the formula (X), the number of carbon atoms of the alkylene group of R 2 is preferably 2 to 3. The alkyl group of R 3 has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group of R 3 may include a benzene ring. Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (isopropyl) group.

알칼리 가용성 수지는 현상성, 액점도 등의 관점으로부터 중량 평균 분자량(GPC법으로 측정된 폴리스티렌 환산값)이 1000∼2×105의 중합체가 바람직하고, 2000∼1×105의 중합체가 보다 바람직하고, 5000∼5×104의 중합체가 특히 바람직하다.The alkali-soluble resin is preferably a polymer having a weight average molecular weight (polystyrene conversion value measured by GPC method) of 1000 to 2 x 10 5 from the viewpoint of developability and liquid viscosity, more preferably a polymer of 2000 to 1 x 10 5 , And particularly preferably from 5,000 to 5 x 10 &lt; 4 &gt;

본 발명의 조성물이 알칼리 가용성 수지를 함유할 경우, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 알칼리 가용성 수지의 양은 10∼80질량%가 바람직하고, 20∼60질량%가 보다 바람직하다. 또한 바인더의 산값으로서는 10∼1000mg/KOH가 바람직하고, 그 중에서도 50∼300mg/KOH가 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 50∼200mg/KOH이다.When the composition of the present invention contains an alkali-soluble resin, the amount of the alkali-soluble resin relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably from 10 to 80 mass%, more preferably from 20 to 60 mass%. The acid value of the binder is preferably 10 to 1000 mg / KOH, more preferably 50 to 300 mg / KOH, and further preferably 50 to 200 mg / KOH.

알칼리 가용성 수지는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 유기용제를 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The alkali-soluble resin may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of organic solvents are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<가교제>><< Cross-linking agent >>

본 발명은 가교제를 함유해도 좋다. 가교제를 함유함으로써 본 발명의 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막의 경도를 보다 높일 수도 있다.The present invention may contain a crosslinking agent. By containing a crosslinking agent, the hardness of the cured film obtained by curing the composition of the present invention can be further increased.

가교제로서는 가교반응에 의해 막경화를 행할 수 있는 것이면 특별하게 한정은 없고, 예를 들면 (a)에폭시 수지, (b)메티롤기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환된 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글리콜우릴 화합물 또는 우레아 화합물, (c)메티롤기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환된 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 히드록시안트라센 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도 다관능 에폭시 수지가 바람직하다.The crosslinking agent is not particularly limited as long as it can perform film curing by a crosslinking reaction. Examples of the crosslinking agent include (a) an epoxy resin, (b) at least one substituent selected from methylol group, alkoxymethyl group and acyloxymethyl group A phenol compound substituted with at least one substituent selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group, a naphthol compound or a hydroxyanthracene compound . Among them, a polyfunctional epoxy resin is preferable.

가교제의 구체예 등의 상세에 대해서는, 일본 특허공개 2004-295116호 공보의 단락번호 0134∼0147의 기재를 참조할 수 있다.For details of specific examples of the crosslinking agent and the like, reference can be made to the description of paragraphs 0134 to 0147 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116.

착색 경화성 조성물이 가교제를 가질 경우, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 가교제의 양은 5∼50질량%가 바람직하고, 10∼40질량%가 보다 바람직하고, 15∼30질량%가 더욱 바람직하다. When the colored curable composition has a cross-linking agent, the amount of the cross-linking agent relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 10 to 40 mass%, and still more preferably 15 to 30 mass%.

가교제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 유기용제를 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The crosslinking agent may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of organic solvents are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<계면활성제>><< Surfactant >>

본 발명의 조성물은 계면활성제를 함유해도 좋다. 계면활성제는 비이온계, 양이온계, 음이온계의 어느 것이라도 좋지만, 에틸렌옥사이드 구조를 가지는 계면활성제, 불소 함유 계면활성제가 바람직하다. 특히 HLB값이 9.2∼15.5의 범위에 있는 에틸렌옥사이드 구조를 가지는 계면활성제 또는 일본 특허공개 평 2-54202호 공보 기재의 불소계 계면활성제가 바람직하다. The composition of the present invention may contain a surfactant. The surfactant may be a nonionic, cationic or anionic surfactant, but a surfactant having an ethylene oxide structure and a fluorine-containing surfactant are preferred. In particular, a surfactant having an ethylene oxide structure with an HLB value in the range of 9.2 to 15.5 or a fluorinated surfactant disclosed in JP-A-2-54202 is preferable.

시판품으로서는 메가팩 F781-F(DIC사제) 등을 사용할 수 있다.As a commercial product, Megapac F781-F (manufactured by DIC) can be used.

본 발명의 조성물이 계면활성제를 함유할 경우, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 계면활성제의 양은 전체 고형분의 0.0001∼5질량%가 바람직하고, 0.001∼3질량%가 보다 바람직하고, 0.01∼1질량%가 더욱 바람직하다. When the composition of the present invention contains a surfactant, the amount of the surfactant relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably 0.0001 to 5 mass%, more preferably 0.001 to 3 mass%, and most preferably 0.01 to 1 mass% % By mass is more preferable.

계면활성제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 유기용제를 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The surfactant may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of organic solvents are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<염료 안정화제>><< Dye Stabilizer >>

본 발명의 조성물은 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료와는 별도로 염료 안정화제를 첨가하는 것이 바람직하다. 안정화제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 실리콘계, 불소계 등의 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제 중에서도 균일하게, 미세하게 분산할 수 있는 점으로부터 고분자 계면활성제(고분자 분산제)가 바람직하다.In the composition of the present invention, it is preferable to add a dye stabilizer separately from the triarylmethane dye represented by the general formula (1). As the stabilizer, for example, a surfactant such as a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a positive surfactant, a silicon surfactant, and a fluorine surfactant can be used. A polymer surfactant (polymer dispersant) is preferable because it can uniformly and finely disperse in the surfactant.

고분자 분산제로서는, 예를 들면 폴리아크릴산 에스테르 등의 불포화 카르복실산 에스테르의 (공)중합체류; 폴리아크릴산 등의 불포화 카르복실산의 (공)중합체의 (부분)아민염, (부분)암모늄염이나 (부분)알킬아민염류; 수산기 함유 폴리아크릴산 에스테르 등의 수산기 함유 불포화 카르복실산 에스테르의 (공)중합체나 그것들의 편성물; 가교성기를 갖는 술폰산이나 인산의 중합물 등을 들 수 있다.Examples of the polymer dispersant include (co) polymers of unsaturated carboxylic acid esters such as polyacrylic acid esters; (Partial) amine salts, (partial) ammonium salts or (partial) alkylamine salts of (co) polymers of unsaturated carboxylic acids such as polyacrylic acid; A (co) polymer of a hydroxyl group-containing unsaturated carboxylic acid ester such as a hydroxyl group-containing polyacrylic acid ester or a knit thereof; A polymer of a sulfonic acid or phosphoric acid having a crosslinkable group, and the like.

가교성기로서는 라디칼, 산, 열에 의해 가교 가능한 공지의 중합성기를 사용할 수 있다. 구체적으로는 (메타)아크릴기, 스티렌기, 비닐기, 환상 에테르기, 메티롤기를 들 수 있지만, (메타)아크릴기, 스티렌기, 비닐기가 바람직하고, (메타)아크릴기 및 스티렌기가 보다 바람직하다.As the crosslinkable group, known polymerizable groups which can be crosslinked by radicals, acids and heat can be used. (Meth) acrylic group, a styrene group and a vinyl group are preferable, and a (meth) acrylic group and a styrene group are more preferable, although a (meth) acrylic group, a styrene group, a vinyl group, a cyclic ether group and a methylol group can be exemplified Do.

본 발명의 조성물이 염료 안정화제를 함유할 경우, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대한 염료 안정화제의 양은 1∼10질량%가 바람직하고, 1∼7질량%가 보다 바람직하고, 3∼5질량%가 더욱 바람직하다.When the composition of the present invention contains a dye stabilizer, the amount of the dye stabilizer relative to the total solid content of the composition of the present invention is preferably from 1 to 10% by mass, more preferably from 1 to 7% by mass, still more preferably from 3 to 5% % Is more preferable.

염료 안정화제는 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 유기용제를 2종 이상 병용할 경우, 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The dye stabilizer may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of organic solvents are used in combination, the total amount is preferably in the above range.

<<산화방지제>><< Antioxidants >>

본 발명의 조성물은 산화방지제를 함유해도 좋다. 산화방지제로서는 특별하게 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 라디칼 포착제, 과산화물 분해제, 자외선 흡수제, 일중항 산소 켄처 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may contain an antioxidant. The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include a radical scavenger, a peroxide decomposer, an ultraviolet absorber, a singlet oxygen ketcher, and the like.

라디칼 포착제로서는, 예를 들면 페놀계 산화방지제, 힌다드아민계 산화방지제 등을 들 수 있다. 페놀계 산화방지제로서는, 예를 들면 히드록시페닐프로피오네이트계 화합물, 히드록시벤질계 화합물, 티오비스페놀계 화합물, 티오메틸페놀계 화합물, 알칸디일페놀계 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 색특성의 안정성의 관점으로부터 히드록시페닐프로피오네이트계 화합물이 바람직하다.Examples of the radical scavenger include phenol-based antioxidants and hindered amine-based antioxidants. Examples of the phenol antioxidant include a hydroxyphenylpropionate compound, a hydroxybenzyl compound, a thiobisphenol compound, a thiomethylphenol compound, and an alkanediphenol compound. Among them, a hydroxyphenylpropionate-based compound is preferable from the viewpoint of stability of color characteristics.

과산화물 분해제는 광에 폭로되는 것 등에 의해 발생한 과산화물을 무해한 물질로 분해하여 새로운 라디칼이 발생하지 않도록 하는 화합물이며, 예를 들면 인계 산화방지제, 황계 산화방지제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 색특성의 안정성의 관점으로부터 황계 산화방지제가 바람직하다.The release of peroxide is a compound which decomposes peroxide generated by exposure to light or the like into a harmless substance so as not to generate new radicals. Examples thereof include phosphorus antioxidants and sulfur-based antioxidants. Among them, a sulfur-based antioxidant is preferable from the viewpoint of stability of color characteristics.

자외선 흡수제로서는, 예를 들면 살리실산 에스테르계 산화방지제, 벤조페논계 산화방지제를 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acid ester antioxidants and benzophenone antioxidants.

일중항 산소 켄처는 일중항 상태의 산소로부터의 에너지 이동에 의해 일중항 산소를 실활시킬 수 있는 화합물이며, 예를 들면 테트라메틸에틸렌, 시클로펜텐 등의 에틸렌성 화합물, 디에틸아민, 트리에틸아민, 1,4-디아자비시클로옥탄(DABCO), N-에틸이미다졸 등의 아민류, 치환되어도 좋은 나프탈렌, 디메틸나프탈렌, 디메톡시안트라센, 안트라센, 디페닐안트라센 등의 축합 다환 방향족 화합물; 1,3-디페닐이소벤조푸란, 1,2,3,4-테트라페닐-1,3-시클로펜타디엔, 펜타페닐시클로펜타디엔 등의 방향족 화합물 외, Harry H. wasserman, "Singlet Oxygen", 5장, Academic Press(1979), Nicholas J.Turro, "Modern Molecular Photochemistry", 14장, The Benjamin Cu㎜ings Publishing Co., Inc.(1978), 및 CMC사 발행 컬러사진 감광재료용 고기능 케미컬스, 7장(2002)에, 일중항 산소 켄처로서 예시되어 있는 화합물을 들 수 있다.The singlet oxygen ketcher is a compound capable of deactivating singlet oxygen by energy transfer from singlet oxygen, and includes, for example, ethylenic compounds such as tetramethylethylene and cyclopentene, diethylamine, triethylamine, Amines such as 1,4-diazabicyclooctane (DABCO) and N-ethylimidazole, condensed polycyclic aromatic compounds such as naphthalene, dimethylnaphthalene, dimethoxyanthracene, anthracene and diphenylanthracene which may be substituted; Aromatic compounds such as 1,3-diphenylisobenzofuran, 1,2,3,4-tetraphenyl-1,3-cyclopentadiene and pentaphenylcyclopentadiene, as well as Harry H. wasserman, "Singlet Oxygen", " 14, The Benjamin Cuylings Publishing Co., Inc. (1978), and CMC, high-performance chemicals for photographic color photographic materials, published by Nippon Kayaku Co., Ltd., Chapter 5, Academic Press (1979), Nicholas J.Turro, "Modern Molecular Photochemistry" , Chapter 7 (2002), compounds exemplified as monooxygen quenchers.

이것 외에 황원자를 갖는 화합물을 배위자로 하는 금속 착체를 들 수 있다. 이러한 화합물로서 비스디티오-α-디케톤, 비스페놀디티올, 및 티오비스페놀을 배위자로 하는 니켈 착체, 코발트 착체, 구리 착체, 망간 착체, 백금 착체 등의 전이금속 킬레이트 화합물을 들 수 있다. In addition to these, metal complexes containing a compound having a sulfur atom as a ligand can be mentioned. Examples of such compounds include transition metal chelate compounds such as nickel complexes, cobalt complexes, copper complexes, manganese complexes and platinum complexes having bistite-a-diketone, bisphenol dithiol, and thiobisphenol as ligands.

황계 산화방지제로서는 티오프로피오네이트계 화합물, 메르캅토벤즈이미다졸계 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 색특성의 안정성의 관점으로부터 티오프로피오네이트계 화합물이 바람직하다.Examples of the sulfur-based antioxidant include a thiopropionate compound and a mercaptobenzimidazole-based compound. Among them, a thiopropionate compound is preferable from the viewpoint of stability of color characteristics.

본 발명에 있어서 산화방지제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다.In the present invention, the antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 조성물이 산화방지제를 가질 경우, 산화방지제의 함유량은 본 발명의 조성물 중의 착색제의 총 질량 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.01∼20질량부, 특히 바람직하게는 0.1∼10질량부이다. 이 경우, 산화방지제의 함유량이 지나치게 적으면 원하는 효과가 얻어지지 않을 우려가 있고, 한편 지나치게 많으면 경화성이 저하할 우려가 있다.When the composition of the present invention has an antioxidant, the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20 parts by mass, particularly preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total mass of the colorant in the composition of the present invention. In this case, if the content of the antioxidant is too small, a desired effect may not be obtained. On the other hand, if the content is too large, the curing property may deteriorate.

<<경화제>><< Hardener >>

본 발명의 조성물은 경화제를 함유해도 좋다.The composition of the present invention may contain a curing agent.

경화제는 방향족 아민 화합물, 3급 아민 화합물, 아민염, 포스포늄염, 아미딘염, 아미드 화합물, 티올 화합물, 블록 이소시아네이트 화합물 및 이미다졸환 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물이다.The curing agent is at least one compound selected from the group consisting of an aromatic amine compound, a tertiary amine compound, an amine salt, a phosphonium salt, an amidine salt, an amide compound, a thiol compound, a block isocyanate compound and an imidazole ring containing compound.

착색 경화성 조성물이 그 특정한 화합물 군에서 선택되는 경화제를 함유함으로써 착색 패턴의 저온경화를 실현할 수 있다. 아울러, 착색 경화성 조성물의 보존 안정성을 향상시킬 수도 있다.By containing the curing agent in which the colored curable composition is selected from the specific group of compounds, low-temperature curing of the colored pattern can be realized. In addition, the storage stability of the colored curable composition may be improved.

본 발명의 조성물은 티올 화합물로서 중합성 화합물의 반응을 촉진시키는 것 등을 목적으로 해서, 분자 내에 2개 이상의 메르캅토기를 갖는 다관능 티올 화합물을 포함하고 있어도 좋다. 다관능 티올 화합물은 2급의 알칸티올류인 것이 바람직하고, 특히 하기 일반식(T1)으로 나타내어지는 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The composition of the present invention may contain a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule for the purpose of promoting the reaction of the polymerizable compound as a thiol compound. The polyfunctional thiol compound is preferably a secondary alkane thiol, particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (T1).

일반식(T1)The general formula (T1)

Figure pat00038
Figure pat00038

(식(T1) 중 n은 2∼4의 정수를 나타내고, L은 2∼4가의 연결기를 나타낸다.)(In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a linking group having a valency of 2 to 4.)

상기 일반식(T1)에 있어서, 연결기 L은 탄소수 2∼12의 지방족기인 것이 바람직하고, n이 2이며, L이 탄소수 2∼12의 알킬렌기인 것이 특히 바람직하다. 다관능 티올 화합물의 구체예로서는, 하기의 구조식(T2)∼(T4)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있고, 식(T2)으로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다.In the general formula (T1), the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, n is 2, and L is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms in particular. Specific examples of the polyfunctional thiol compound include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and compounds represented by the formula (T2) are particularly preferable.

Figure pat00039
Figure pat00039

본 발명의 조성물이 경화제를 가질 경우, 경화제의 배합량은 조성물 중의 전체 고형분의 1∼20질량%가 바람직하고, 3∼15질량%가 보다 바람직하고, 5∼10질량%가 더욱 바람직하다. When the composition of the present invention has a curing agent, the amount of the curing agent to be blended is preferably from 1 to 20 mass%, more preferably from 3 to 15 mass%, and even more preferably from 5 to 10 mass%, of the total solid content in the composition.

경화제는 1종류만이어도 좋고, 2종류 이상이어도 좋다. 경화제가 2종류 이상일 경우에는 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The curing agent may be one type or two or more kinds. When the amount of the curing agent is two or more, the total amount is preferably in the above range.

<<환원 방지제>><< Reduction agent >>

본 발명의 조성물은 화소 형성 후의 ITO 스퍼터시에 염료 환원 퇴색을 억제할 목적으로, 염료보다 환원되기 쉬운 화합물을 염료의 환원 방지제로서 함유해도 좋다. 구체적으로는 퀴논 화합물이 바람직하고, 분자량 100∼800 정도의 이하 구조의 퀴논 화합물이 바람직하다.The composition of the present invention may contain a compound that is more likely to be reduced than the dye as a reduction inhibitor of the dye for the purpose of suppressing dye reduction fading during ITO sputtering after pixel formation. Specifically, a quinone compound is preferable, and a quinone compound having a molecular weight of about 100 to 800 or less is preferable.

착색 경화성 조성물이 환원 방지제를 가질 경우, 환원 방지제의 배합량은 조성물 중의 전체 고형분의 1∼20질량%가 바람직하고, 3∼15질량%가 보다 바람직하고, 3∼10질량%가 더욱 바람직하다. When the color-curable composition has a reduction inhibitor, the amount of the reduction inhibitor to be blended is preferably from 1 to 20 mass%, more preferably from 3 to 15 mass%, and even more preferably from 3 to 10 mass%, of the total solid content in the composition.

환원 방지제는 1종류만이어도 좋고, 2종류 이상이어도 좋다. 환원 방지제가 2종류 이상일 경우에는 그 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.The reducing agent may be one kind or two or more kinds. When the amount of the reducing agent is two or more, the total amount is preferably in the above range.

<<그 밖의 성분>><< Other Ingredients >>

본 발명의 조성물은 또한 필요에 따라서, 충전재, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 증감제나 광안정제 등등 각종 첨가제를 포함하고 있어도 좋다.The composition of the present invention may also contain various additives such as a filler, an ultraviolet absorber, an anti-aggregation agent, a sensitizer, a light stabilizer and the like, if necessary.

<착색 경화성 조성물의 조제방법>&Lt; Preparation method of colored curable composition >

본 발명의 착색 경화성 조성물은, 상술의 각 성분과 필요에 따라서 임의 성분을 혼합함으로써 조제된다.The colored curable composition of the present invention is prepared by mixing the respective components described above and optional components as required.

또한, 착색 경화성 조성물의 조제시에는 착색 경화성 조성물을 구성하는 각 성분을 일괄 배합해도 좋고, 각 성분을 용제에 용해·분산한 후에 순차 배합해도 좋다. 또한, 배합할 때의 투입 순서나 작업 조건은 특별히 제약을 받지 않는다. 예를 들면, 전성분을 동시에 용제에 용해·분산하여 조성물을 조제해도 좋고, 필요에 따라서는 각 성분을 적당하게 2개 이상의 용액·분산액으로 해 두고, 사용시(도포시)에 이것들을 혼합해서 조성물로서 조제해도 좋다.Further, at the time of preparing the colored curable composition, each component constituting the colored curable composition may be blended at one time, or each component may be dissolved and dispersed in a solvent and then blended sequentially. In addition, the order of injection and the working conditions at the time of compounding are not particularly limited. For example, all the components may be simultaneously dissolved and dispersed in a solvent to prepare a composition. If necessary, each component may be appropriately mixed with two or more solutions and dispersions, and these components may be mixed at the time of use (upon application) .

상기와 같이 해서 조제된 착색 경화성 조성물은, 바람직하게는 구멍 지름 0.01㎛∼3.0㎛, 보다 바람직하게는 구멍 지름 0.05㎛∼0.5㎛ 정도의 필터 등을 이용하여 여과 선별한 후에 사용에 제공할 수 있다.The colored curable composition prepared as described above can be used for filtration after being filtered using a filter having a pore diameter of preferably 0.01 to 3.0 탆, more preferably a pore diameter of 0.05 to 0.5 탆 .

본 발명의 착색 경화성 조성물은 색상 및 콘트라스가 우수한 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 액정표시장치(LCD)나 고체촬상소자(예를 들면, CCD, CMOS 등)에 사용되는 컬러필터 등의 착색 화소 형성용으로서, 또한 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크, 및 도료 등의 제작 용도로서 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 액정표시장치용의 착색 화소 형성 용도에 적합하다.Since the colored curable composition of the present invention can form a cured film having excellent color and contrast, it is possible to form colored pixels such as a color filter used for a liquid crystal display (LCD) or a solid-state image pickup device (CCD, CMOS, And can be suitably used for production of printing ink, inkjet ink, and paint. Particularly, it is suitable for the purpose of forming a colored pixel for a liquid crystal display device.

본 발명은 상술한 착색 경화성 조성물을 경화해서 이루어지는 착색 경화막에도 관한 것이다.The present invention also relates to a colored cured film obtained by curing the above-mentioned colored curable composition.

<컬러필터 및 그 제조방법>&Lt; Color filter and manufacturing method thereof &

본 발명의 컬러필터는 기판과, 상기 기판 상에 본 발명의 착색 경화성 조성물을 포함하는 착색 영역을 형성해서 구성된 것이다. 기판 상의 착색 영역은 컬러필터의 각 화소를 이루는 예를 들면 빨강(R), 초록(G), 파랑(B) 등의 착색막으로 구성되어 있다.The color filter of the present invention is constituted by forming a substrate and a colored region containing the colored curable composition of the present invention on the substrate. The colored regions on the substrate are composed of coloring films such as red (R), green (G), and blue (B), which constitute each pixel of the color filter.

본 발명의 컬러필터는 상술한 착색 경화성 조성물을 사용한 것이다. 본 발명의 컬러필터는 본 발명의 착색 경화성 조성물을 기판 상에 도포해서 경화된 착색 영역(착색 패턴)을 형성할 수 있는 방법이면 어느 방법으로 형성되어도 좋다. 또한 본 발명은, 상술한 착색 경화성 조성물을 경화해서 이루어지는 착색 경화막을 갖는 컬러필터에도 관한 것이다.The color filter of the present invention uses the above-mentioned colored curable composition. The color filter of the present invention may be formed by any method that can form a cured colored region (coloring pattern) by applying the colored curable composition of the present invention on a substrate. The present invention also relates to a color filter having a colored cured film formed by curing the above-mentioned colored curable composition.

또한, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 고체촬상소자용의 컬러필터를 제조할 경우에는 일본 특허공개 2011-252065호 공보의 단락 0359∼0371에 기재되어 있는 제조방법을 채용할 수도 있다.When the color-curable composition of the present invention is used to produce a color filter for a solid-state imaging device, the manufacturing method described in paragraphs 0359 to 0371 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 252065/1987 may be employed.

본 발명의 컬러필터의 제조방법은 기판 상에 상술의 착색 경화성 조성물을 도포하여 착색층(착색 경화성 조성물층이라고도 함)을 형성하는 공정(A)과, 공정(A)에서 형성된 착색 경화성 조성물층을 경화시키는 공정(B)을 갖는다.A method of manufacturing a color filter of the present invention includes the steps of: (A) forming a colored layer (also referred to as a colored curable composition layer) by applying the above-mentioned colored curable composition on a substrate; And a curing step (B).

경화시키는 공정은, (바람직하게는 마스크를 통해서)패턴 형상으로 노광하고, 미노광부를 현상액으로 현상 제거해서 착색 영역(착색 패턴)을 형성하는 것이 바람직하다. 이들 공정을 거침으로써 각 색(3색 또는 4색)의 화소로 이루어지는 착색 패턴이 형성되고, 컬러필터를 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 컬러필터의 제조방법에서는, 특히 공정(B)에서 형성된 착색 패턴에 대하여 자외선을 조사하는 공정(C)과, 공정(C)에서 자외선이 조사된 착색 패턴에 대하여 가열 처리를 행하는 공정(D)을 더 설치한 형태가 바람직하다.In the curing step, it is preferable to form a colored region (coloring pattern) by exposing in a pattern shape (preferably through a mask) and removing the unexposed portion with a developing solution. Through these steps, a coloring pattern composed of pixels of each color (three colors or four colors) is formed, and a color filter can be obtained. In the method for producing a color filter according to the present invention, the step (C) of irradiating ultraviolet rays to the colored pattern formed in the step (B) and the step (C) of heating the colored pattern irradiated with ultraviolet rays in the step It is preferable that the step (D) is further provided.

또한, 본 발명의 컬러필터의 제조방법은 상술한 본 발명의 조성물을 지지체 상에 부여해서 착색 경화성 조성물층을 형성하는 공정, 상기 착색 경화성 조성물층 상에 포토레지스트를 형성하는 공정, 노광 및 현상함으로써 상기 포토레지스트층을 패터닝해서 레지스트 패턴을 얻는 공정을 포함하는 것도 바람직하다.The method for producing a color filter of the present invention comprises the steps of forming a colored curable composition layer by applying the composition of the present invention described above on a support, forming a photoresist on the colored curable composition layer, And a step of patterning the photoresist layer to obtain a resist pattern.

이러한 방법에 의해, 액정표시소자나 고체촬상소자에 사용되는 컬러필터를 프로세스상의 곤란성이 적고, 고품질이며 또한 저비용으로 제작할 수 있다.By such a method, a color filter used in a liquid crystal display element or a solid-state image pickup element can be manufactured with low difficulty in process, high quality and low cost.

이하, 본 발명의 컬러필터의 제조방법에 대해서 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing the color filter of the present invention will be described in more detail.

-공정(A)-- Process (A) -

본 발명의 컬러필터의 제조방법에서는, 우선 기판 상에 직접 또는 다른 층 을 개재해서 상술의 본 발명의 착색 경화성 조성물을 원하는 도포방법에 의해 도포하여 착색 경화성 조성물로 이루어지는 도포막(착색 경화성 조성물층)을 형성하고, 그 후에 필요에 따라서 예비경화(프리베이킹)을 행하여 상기 착색 경화성 조성물층을 건조시킨다.In the method for producing a color filter of the present invention, first, the above-mentioned colored curable composition of the present invention is directly applied onto a substrate or through another layer by a desired coating method to form a coating film (colored curable composition layer) And then, preliminarily curing (prebaking) is carried out as necessary to dry the colored curable composition layer.

기판으로서는, 예를 들면 액정표시소자 등에 사용되는 무알칼리 유리, 나트륨 유리, 파이렉스(등록상표) 유리, 석영 유리, 및 이것들에 투명 도전막을 부착시킨 것이나, 고체촬상소자 등에 사용되는 광전 변환소자 기판, 예를 들면 실리콘 기판이나, 플라스틱 기판 등을 들 수 있다. 또한, 이것들의 기판 상에는 각 화소를 격리하는 블랙 매트릭스가 형성되어 있거나, 밀착 촉진 등을 위해서 투명 수지층이 형성되거나 하여 있어도 된다. 또한, 기판 상에는 필요에 의해 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지, 또는 표면의 평탄화를 위해서 밑칠층을 형성해도 좋다.Examples of the substrate include a non-alkali glass, sodium glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, and a photoelectric conversion element substrate used for a solid-state image pickup device, For example, a silicon substrate or a plastic substrate. A black matrix for isolating each pixel may be formed on the substrate, or a transparent resin layer may be formed for facilitating adhesion. In addition, a foundation layer may be formed on the substrate for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of the material, or planarizing the surface, if necessary.

또한, 플라스틱 기판은 그 표면에 가스 배리어층 및/또는 내용제성층을 갖고 있는 것이 바람직하다.It is also preferable that the plastic substrate has a gas barrier layer and / or a solvent-resistant layer on its surface.

이 외에, 기판으로서 박막 트랜지스터(TFT) 방식 컬러 액정표시장치의 박막트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판(이하, 「TFT 방식 액정 구동용 기판」이라고 함)을 사용하고, 이 구동용 기판 상에도 본 발명의 착색 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는 착색 패턴을 형성하여 컬러필터를 제작할 수 있다.(Hereinafter referred to as &quot; TFT type liquid crystal driving substrate &quot;) on which a thin film transistor (TFT) of a thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device is disposed is used as the substrate, , A colored pattern can be formed by using the colored curable composition of the present invention to produce a color filter.

TFT 방식 액정 구동용 기판에 있어서의 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 이들 기판에는, 소망에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라스마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전처리를 실시해 둘 수도 있다. 예를 들면, TFT 방식 액정 구동용 기판의 표면에 질화규소막 등의 패시베이션막을 형성한 기판을 사용할 수 있다.Examples of the substrate in the TFT type liquid crystal driving substrate include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide. These substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction, vacuum deposition or the like, if desired. For example, a substrate in which a passivation film such as a silicon nitride film is formed on the surface of a TFT type liquid crystal driving substrate can be used.

본 발명의 착색 경화성 조성물을 직접 또는 다른 층을 통해서 기판에 적용한다. 적용하는 방법으로서는 도포가 바람직하고, 회전 도포, 슬릿 도포, 유연 도포, 롤 도포, 바 도포, 잉크젯 등의 도포방법에 의해 도포하는 것이 바람직하다.The colored curable compositions of the present invention are applied to the substrate either directly or through another layer. The application is preferably carried out by a coating method such as spin coating, slit coating, flexible coating, roll coating, bar coating, or ink jet coating.

도포공정에 있어서, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 기판에 도포하는 방법으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 슬릿 앤드 스핀법, 스핀리스 도포법 등의 슬릿 노즐을 사용하는 방법(이하, 슬릿 노즐 도포법이라고 함)이 바람직하다.The method of applying the colored curable composition of the present invention to the substrate in the coating step is not particularly limited, but a method using a slit nozzle such as a slit-and-spin coating method or a spinless coating method (hereinafter referred to as a slit nozzle coating method) ) Is preferable.

슬릿 노즐 도포법에 있어서 슬릿 앤드 스핀 도포법과 스핀리스 도포법은 도포 기판의 크기에 따라 조건은 다르지만, 예를 들면 스핀리스 도포법에 의해 제5세대의 유리 기판(1100㎜×1250㎜)을 도포할 경우, 슬릿 노즐로부터의 착색 경화성 조성물의 토출량은, 통상 500마이크로리터/초∼2000마이크로리터/초, 바람직하게는 800마이크로리터/초∼1500마이크로리터/초이며, 또한 도포 속도는 통상 50㎜/초∼300㎜/초, 바람직하게는 100㎜/초∼200㎜/초이다.In the slit nozzle spin coating method, the slit-and-spine coating method and the spin-less coating method have different conditions depending on the size of the application substrate. For example, a fifth-generation glass substrate (1100 mm x 1250 mm) is coated by a spinless coating method , The discharge amount of the colored curable composition from the slit nozzle is usually 500 to 1000 microliters / second, preferably 800 to 1,500 microliters / second, and the coating speed is usually 50 mm / Second to 300 mm / second, preferably 100 mm / second to 200 mm / second.

또한, 도포공정에서 사용되는 착색 경화성 조성물의 고형분으로서는, 통상 10%∼20%, 바람직하게는 13%∼18%이다.The solid content of the colored curable composition used in the application step is usually 10% to 20%, preferably 13% to 18%.

기판 상에 본 발명의 착색 경화성 조성물에 의한 도포막을 형성할 경우, 상기 도포막의 두께(프리베이킹 처리 후)로서는, 일반적으로 0.3㎛∼5.0㎛이며, 바람직하게는 0.5㎛∼4.0㎛, 가장 바람직하게는 0.5㎛∼3.0㎛이다.When a coating film of the coloring and curing composition of the present invention is formed on a substrate, the thickness of the coating film (after the pre-baking treatment) is generally 0.3 m to 5.0 m, preferably 0.5 m to 4.0 m, Is 0.5 mu m to 3.0 mu m.

또한, 고체촬상소자용의 컬러필터의 경우이면 도포막의 두께(프리베이킹 처리 후)는 0.5㎛∼5.0㎛의 범위가 바람직하다.In the case of a color filter for a solid-state imaging device, the thickness of the coating film (after the pre-baking treatment) is preferably in the range of 0.5 mu m to 5.0 mu m.

도포공정에 있어서, 통상은 도포 후에 프리베이킹 처리를 실시한다. 필요에 따라서는 프리베이킹 전에 진공처리를 실시할 수도 있다. 진공건조의 조건은, 진공도가 통상 0.1torr∼1.0torr, 바람직하게는 0.2torr∼0.5torr 정도이다.In the coating step, a prebaking treatment is usually carried out after application. If necessary, a vacuum treatment may be performed before prebaking. Vacuum drying conditions are usually about 0.1 torr to 1.0 torr, preferably about 0.2 torr to 0.5 torr.

또한, 프리베이킹 처리는 핫플레이트, 오븐 등을 이용하여 50℃∼140℃의 온도 범위에서, 바람직하게는 70℃∼110℃ 정도이며, 10초∼300초의 조건으로 행할 수 있다. 또한, 프리베이킹 처리에는 고주파 처리 등을 병용해도 좋다. 고주파 처리는 단독으로도 사용 가능하다.The prebaking treatment can be carried out in a temperature range of 50 ° C to 140 ° C, preferably 70 ° C to 110 ° C, for 10 seconds to 300 seconds using a hot plate, an oven or the like. The pre-baking treatment may be combined with a high-frequency treatment. High frequency processing can be used alone.

프리베이킹의 조건으로서는 핫플레이트나 오븐을 이용하여 70℃∼130℃에서 0.5분간∼15분간 정도 가열하는 조건을 들 수 있다.Examples of the prebaking conditions include heating at 70 to 130 캜 for about 0.5 to 15 minutes using a hot plate or an oven.

또한, 착색 경화성 조성물에 의해 형성되는 착색 경화성 조성물층의 두께는 목적에 따라서 적당하게 선택된다. 액정표시장치용 컬러필터에 있어서는 0.2㎛∼5.0㎛의 범위가 바람직하고, 1.0㎛∼4.0㎛의 범위가 더욱 바람직하고, 1.5㎛∼3.5㎛의 범위가 가장 바람직하다. 또한, 고체촬상소자용 컬러필터에 있어서는 0.2㎛∼5.0㎛의 범위가 바람직하고, 0.3㎛∼2.5㎛의 범위가 더욱 바람직하고, 0.3㎛∼1.5㎛의 범위가 가장 바람직하다.The thickness of the colored curable composition layer formed by the colored curable composition is appropriately selected according to the purpose. In the case of a color filter for a liquid crystal display device, the thickness is preferably in the range of 0.2 탆 to 5.0 탆, more preferably in the range of 1.0 탆 to 4.0 탆, and most preferably in the range of 1.5 탆 to 3.5 탆. In the case of the color filter for a solid-state imaging device, the range is preferably 0.2 to 5.0 m, more preferably 0.3 to 2.5 m, and most preferably 0.3 to 1.5 m.

또한, 착색 경화성 조성물층의 두께는 프리베이킹 후의 막두께이다.The thickness of the layer of the color-curable composition is the thickness of the layer after pre-baking.

-공정(B)-- Process (B) -

계속해서, 본 발명의 컬러필터의 제조방법에서는 기판 상에 상술한 바와 같이 해서 형성된 착색 경화성 조성물로 이루어지는 막(착색 경화성 조성물층)에 대하여, 예를 들면 포토마스크를 통해서 노광이 행하여진다. 노광에 적용할 수 있는 광 또는 방사선으로서는 g선, h선, i선, j선, KrF광, ArF광이 바람직하고, 특히 i선이 바람직하다. 조사광에 i선을 사용할 경우 100mJ/㎠∼10000mJ/㎠의 노광량으로 조사하는 것이 바람직하다.Subsequently, in the manufacturing method of the color filter of the present invention, the film (the colored curable composition layer) formed of the colored curable composition formed as described above on the substrate is exposed through, for example, a photomask. As the light or radiation applicable to the exposure, g rays, h rays, i rays, j rays, KrF rays, and ArF rays are preferable, and i rays are particularly preferable. When i-line is used for the irradiation light, it is preferable to irradiate at an exposure amount of 100 mJ / cm 2 to 10,000 mJ / cm 2.

또한, 그 밖의 노광 광선으로서는 초고압, 고압, 중압, 저압의 각 수은등, 케미컬 램프, 카본아크등, 크세논등, 메탈할라이드등, 가시 및 자외의 각종 레이저광원, 형광등, 텅스텐등, 태양광 등도 사용할 수 있다.As other exposure light beams, various visible and non-visible laser light sources such as ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure and low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps and metal halides, fluorescent lamps, tungsten lamps, have.

레이저광원을 사용한 노광 공정Exposure process using laser light source

레이저광원을 사용한 노광 방식에서는 광원으로서 자외광 레이저를 사용한다.In an exposure method using a laser light source, an ultraviolet laser is used as a light source.

조사광은 파장이 300㎚∼380㎚의 범위인 파장 범위의 자외광 레이저가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 300㎚∼360㎚의 범위의 파장인 자외광 레이저가 레지스트의 감광 파장에 합치하고 있다고 하는 점에서 바람직하다. 구체적으로는, 특히 출력이 크고, 비교적 저렴한 고체 레이저의 Nd:YAG 레이저의 제3고조파(355㎚)나, 엑시머 레이저의 XeCl(308㎚), XeF(353㎚)를 적합하게 사용할 수 있다.The irradiation light is preferably an ultraviolet laser having a wavelength in the range of 300 nm to 300 nm, more preferably an ultraviolet laser having a wavelength in the range of 300 nm to 360 nm conforms to the photosensitive wavelength of the resist . Concretely, a third harmonic (355 nm) of a Nd: YAG laser of a relatively large and relatively inexpensive solid-state laser, XeCl (308 nm) and XeF (353 nm) of an excimer laser can be suitably used.

피노광물(패턴)의 노광량으로서는 1mJ/㎠∼100mJ/㎠의 범위이며, 1mJ/㎠∼50mJ/㎠의 범위가 보다 바람직하다. 노광량이 이 범위이면 패턴 형성의 생산성의 점에서 바람직하다.The exposed amount of the pinhole (pattern) is in the range of 1 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2, more preferably in the range of 1 mJ / cm 2 to 50 mJ / cm 2. When the exposure dose is within this range, it is preferable from the viewpoint of productivity of pattern formation.

노광장치로서는 특별히 제한은 없지만 시판되고 있는 것으로서는, Callisto(브이 테크놀로지 가부시키가이샤제)나 EGIS(브이 테크놀로지 가부시키가이샤제)나 DF2200G(다이니폰 스크린(주)제) 등이 사용 가능하다. 또한 상기 이외의 장치도 적합하게 사용된다.The exposure apparatus is not particularly limited, and examples of the commercially available apparatus include a commercially available system such as Callisto (manufactured by V Technology Corporation), EGIS (manufactured by V Technology Corporation), and DF2200G (manufactured by Dainippon Screen Corporation). Apparatuses other than those described above are also suitably used.

액정표시장치용의 컬러필터를 제조할 때에는, 프록시미티 노광기, 미러 프로젝션 노광기에 의해, 주로 h선, i선을 사용한 노광이 바람직하게 사용된다. 또한, 고체촬상소자용의 컬러필터를 제조할 때에는 스텝퍼 노광기에 의해, 주로 i선을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, TFT 방식 액정 구동용 기판을 이용하여 컬러필터를 제조할 때에는, 사용되는 포토마스크는 화소(착색 패턴)를 형성하기 위한 패턴 이외에, 스루홀 또는 ㄷ자형의 오목부를 형성하기 위한 패턴이 형성되어 있는 것이 사용된다.When a color filter for a liquid crystal display device is manufactured, exposure using h-line or i-line is preferably used by a proximity photolithography machine or a mirror projection exposure machine. In manufacturing a color filter for a solid-state imaging device, it is preferable to use i-line mainly by a stepper aligner. Further, when manufacturing a color filter using a TFT type liquid crystal driving substrate, a photomask used is formed with a pattern for forming a through hole or a U-shaped concave portion in addition to a pattern for forming a pixel (coloring pattern) Is used.

상기와 같이 해서 노광된 착색 경화성 조성물층은 가열할 수 있다. The colored curable composition layer thus exposed can be heated.

또한, 노광은 착색 경화성 조성물층 중의 색재의 산화 퇴색을 억제하기 위해서 챔버 내에 질소 가스를 흘려보내면서 행할 수 있다.In addition, the exposure can be performed while flowing nitrogen gas into the chamber so as to suppress oxidation and discoloration of the coloring material in the colored curable composition layer.

계속해서, 노광 후의 착색 경화성 조성물층에 대하여 현상액에 의해 현상이 행하여진다. 이에 따라 네거티브형 또는 포지티브형의 착색 패턴(레지스트 패턴)을 형성할 수 있다. 현상 공정에서는 노광 후의 도포막의 미경화부를 현상액에 용출 시켜 경화분만을 기판 상에 잔존시킨다.Subsequently, development is performed on the colored curable composition layer after exposure with a developing solution. Accordingly, a coloring pattern (resist pattern) of a negative or positive type can be formed. In the developing step, the uncured portion of the coated film after exposure is eluted into the developing solution so that only the hardened powder remains on the substrate.

현상액은 미경화부에 있어서의 착색 경화성 조성물의 도포막(착색 경화성 조성물층)을 용해하는 한편, 경화부를 용해하지 않는 것이면 어느 것이나 사용할 수 있다. 예를 들면, 여러가지의 유기용제의 조합이나 알칼리성 수용액을 사용할 수 있다.Any developer may be used as long as it dissolves the coating film (colored curable composition layer) of the colored curable composition in the uncured portion and does not dissolve the cured portion. For example, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used.

현상에 사용되는 유기용제로서는 본 발명의 착색 경화성 조성물을 조제할 때에 사용할 수 있는 상술의 용제를 들 수 있다.As the organic solvent to be used for the development, the above-mentioned solvents that can be used when preparing the colored curable composition of the present invention can be mentioned.

상기 알칼리성 수용액으로서는, 예를 들면 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 벤질트리메틸암모늄히드록시드, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨, 암모니아수, 에틸아민, 디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-디아자비시클로-[5,4,0]-7-운데센 등의 알칼리성 화합물을, 농도가 0.001질량%∼10질량%, 바람직하게는 0.01질량%∼1질량%로 되도록 용해한 알칼리성 수용액을 들 수 있다. 현상액이 알칼리성 수용액일 경우, 알칼리 농도는 바람직하게는 pH11∼13, 더욱 바람직하게는 pH11.5∼12.5로 되도록 조정하는 것이 좋다.The alkaline aqueous solution includes, for example, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, , Ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] And an alkaline aqueous solution obtained by dissolving an alkaline compound such as 7-undecene in a concentration of 0.001% by mass to 10% by mass, preferably 0.01% by mass to 1% by mass. When the developer is an alkaline aqueous solution, it is preferable to adjust the alkali concentration so that the pH is preferably from 11 to 13, more preferably from 11.5 to 12.5.

알칼리성 수용액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기용제나 계면활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다.To the alkaline aqueous solution, an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like may be added.

현상 온도로서는 통상은 20℃∼30℃이며, 현상 시간으로서는 20초∼90초이다.The developing temperature is usually 20 to 30 占 폚, and the developing time is 20 to 90 seconds.

현상은 딥 방식, 샤워 방식, 스프레이 방식 등 어느 것이어도 좋고, 이것에 스윙 방식, 스핀 방식, 초음파 방식 등을 조합시켜도 좋다. 현상액에 접촉하기 전에 피현상면을 미리 물 등으로 적셔 두어 현상 불균일을 방지할 수도 있다. 또한 기판을 경사시켜서 현상할 수도 있다.The phenomenon may be a dip method, a shower method, a spray method, or the like, and a swing method, a spin method, an ultrasonic method, or the like may be combined. It is also possible to wet the surface to be developed with water or the like before coming into contact with the developing solution to prevent uneven development. Further, the substrate may be inclined and developed.

또한, 고체촬상소자용의 컬러필터를 제조할 경우에는 패들 현상도 사용된다. When a color filter for a solid-state imaging device is manufactured, a paddle phenomenon is also used.

현상 처리 후는 잉여의 현상액을 세정 제거하는 린스 처리를 거쳐서 건조를 실시한 후, 경화를 완전한 것으로 하기 위해서 가열 처리(포스트베이킹)가 실시된다.After the developing treatment, the drying is performed through a rinsing treatment in which excess developer is removed by cleaning, and then heat treatment (post baking) is performed in order to complete the curing.

린스 처리는 통상은 순수로 행하지만, 액절약을 위해서 최종 세정에서 순수를 사용하고, 세정 초기는 사용이 완료된 순수를 사용하거나, 또한 기판을 경사시켜서 세정하거나, 초음파 조사를 병용하거나 하는 방법을 사용해도 좋다.The rinse treatment is usually carried out with pure water, but pure water is used in the final rinse for the purpose of saving the liquid, and pure water used at the beginning of the rinse is used, or the substrate is tilted or the ultrasonic irradiation is used in combination It is also good.

린스 처리 후, 물 제거, 건조를 한 후에는 통상, 약 200℃∼250℃의 가열 처리를 행한다. 이 가열 처리(포스트베이킹)는 현상 후의 도포막을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여 연속식 또는 배치식으로 행할 수 있다.After rinsing, removing water and drying, heat treatment is generally performed at a temperature of about 200 to 250 캜. In this heating treatment (post baking), the coated film after development can be carried out continuously or batchwise using heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation type drier), a high frequency heater or the like so as to satisfy the above conditions.

이상의 각 공정을, 원하는 색상수에 맞춰서 각 색마다 순차적으로 반복함으로써 복수색의 착색된 경화막(착색 패턴)이 형성되어서 이루어지는 컬러필터를 제작할 수 있다.Each of the above steps can be repeated for each color in accordance with the desired number of colors to produce a color filter in which colored cured films (colored patterns) of a plurality of colors are formed.

본 발명의 컬러필터는 콘트라스트가 높고, 색농도 불균일이 적으며, 색특성이 양호하기 때문에 고체촬상소자 또는 액정표시소자에 적합하게 사용할 수 있다.The color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state image pickup device or a liquid crystal display device because of its high contrast, small color density unevenness, and good color characteristics.

-공정(C)-- Process (C) -

본 발명의 컬러필터의 제조방법에서는, 특히 착색 경화성 조성물을 이용하여 형성된 착색 패턴(화소)에 대하여 자외선 조사에 의한 후노광을 행할 수도 있다.In the method of manufacturing a color filter according to the present invention, a colored pattern (pixel) formed by using a colored curable composition may be subjected to post exposure by ultraviolet irradiation.

-공정(D)-- Process (D) -

상기와 같은 자외선 조사에 의한 후노광이 행하여진 착색 패턴에 대하여 가열 처리를 더 행하는 것이 바람직하다. 형성된 착색 패턴을 가열 처리(소위 포스트베이킹 처리)함으로써 착색 패턴을 더욱 경화시킬 수 있다. 이 가열 처리는, 예를 들면 핫플레이트, 각종 히터, 오븐 등에 의해 행할 수 있다.It is preferable to perform heat treatment on the colored pattern on which the post exposure is performed by the ultraviolet ray irradiation as described above. The coloring pattern formed can be further cured by heat treatment (so-called post-baking treatment). This heat treatment can be performed by, for example, a hot plate, various heaters, an oven, or the like.

가열 처리시의 온도로서는 100℃∼300℃인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 150℃∼250℃이다. 또한, 가열 시간은 10분∼120분 정도가 바람직하다.The temperature during the heat treatment is preferably 100 占 폚 to 300 占 폚, and more preferably 150 占 폚 to 250 占 폚. The heating time is preferably about 10 minutes to 120 minutes.

이와 같이 하여 얻어진 착색 패턴은 컬러필터에 있어서의 화소를 구성한다. 복수의 색상의 화소를 갖는 컬러필터의 제작에 있어서는, 상기의 공정(A), 공정(B), 및 필요에 따라서 공정(C)이나 공정(D)을 원하는 컬러수에 맞춰서 반복하면 좋다.The coloring pattern thus obtained constitutes a pixel in the color filter. In the production of a color filter having pixels of a plurality of colors, the above-mentioned steps (A), (B) and (C) and (D) may be repeated according to the desired number of colors.

또한, 단색의 착색 경화성 조성물층의 형성, 노광, 현상이 종료될 때마다(1색마다), 상기 공정(C) 및/또는 공정(D)을 행해도 좋고, 원하는 컬러수의 모든 착색 경화성 조성물층의 형성, 노광, 현상이 종료한 후에 일괄하여 상기 공정(C) 및/또는 공정(D)을 행해도 좋다.Further, the step (C) and / or the step (D) may be performed every time the formation of the monochromatic colored curable composition layer, the exposure and the development are completed (per one color), and all the colored curable compositions (C) and / or the step (D) may be performed collectively after the formation of the layer, the exposure, and the development are completed.

또한, 본 발명의 착색 경화성 조성물은 드라이에칭 공정을 포함하는 컬러필터의 제조방법에도 적용하는 것이 가능하다. 이러한 제조방법의 일례로서는, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 착색층을 형성하는 공정, 상기 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정, 노광 및 현상함으로써 상기 포토레지스트층을 패터닝해서 레지스트 패턴을 얻는 공정, 및 상기 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 해서 상기 착색층을 드라이에칭하는 공정을 포함하는 제조방법을 들 수 있다.The colored curable composition of the present invention can also be applied to a method of manufacturing a color filter including a dry etching process. As one example of such a manufacturing method, there is a method of forming a colored layer using a colored curable composition of the present invention, a step of forming a colored layer, a step of forming a photoresist layer on the colored layer, a step of patterning the photoresist layer by exposure and development, And a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.

본 발명의 착색 경화성 조성물이 드라이에칭 공정을 포함하는 컬러필터의 제조방법에 사용되는 경우에는, 광경화성 조성물이여도 열경화성 조성물이여도 좋다. 열경화성 조성물인 경우에는 열경화제를 사용할 수 있고, 열경화제로서는 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물이 바람직하다.When the colored curable composition of the present invention is used in a process for producing a color filter including a dry etching process, the photo-curable composition may be a thermosetting composition. In the case of a thermosetting composition, a thermosetting agent can be used, and as the thermosetting agent, a compound having two or more epoxy groups in one molecule is preferable.

본 발명의 컬러필터의 제조방법에 의해 얻어진 컬러필터(본 발명의 컬러필터)는 본 발명의 착색 경화성 조성물을 사용하고 있기 때문에 색상 및 콘트라스트가 우수하다.The color filter (color filter of the present invention) obtained by the method for producing a color filter of the present invention is excellent in color and contrast because the colored curable composition of the present invention is used.

본 발명의 컬러필터는 액정표시소자나 고체촬상소자에 사용하는 것이 가능하며, 특히 액정표시장치의 용도에 적합하다. 액정표시장치에 사용했을 경우, 염료를 착색제로서 사용하여 양호한 색상을 달성하면서 분광특성 및 콘트라스트가 우수한 화상의 표시가 가능하게 된다.The color filter of the present invention can be used for a liquid crystal display element or a solid-state image pickup element, and is particularly suitable for use in a liquid crystal display apparatus. When used in a liquid crystal display device, images can be displayed with excellent spectral characteristics and contrast while achieving good hue by using a dye as a coloring agent.

본 발명의 착색 경화성 조성물의 용도로서는 상기에 있어서 주로 컬러필터의 착색 패턴의 형성 용도를 중심으로 설명했지만, 컬러필터를 구성하는 착색 패턴(화소)을 격리하는 블랙 매트릭스의 형성에도 적용할 수 있다.The use of the colored curable composition of the present invention has mainly been described above mainly for the purpose of forming a coloring pattern of a color filter, but it can also be applied to the formation of a black matrix for isolating colored patterns (pixels) constituting a color filter.

기판 상의 블랙 매트릭스는 카본 블랙, 티타늄 블랙 등의 흑색 안료의 가공 안료를 함유하는 착색 경화성 조성물을 사용하고, 도포, 노광, 및 현상의 각 공정을 거치고, 그 후에 필요에 따라서 포스트베이킹함으로써 형성할 수 있다.The black matrix on the substrate can be formed by using a colored curable composition containing a working pigment of a black pigment such as carbon black or titanium black, through each step of coating, exposure, and development, and then post baking if necessary have.

[화상표시장치][Image display device]

본 발명의 컬러필터는 액정표시장치나 유기 EL 표시장치 등의 화상표시장치에 사용할 수 있고, 특히 액정표시장치의 용도에 적합하다. 본 발명의 컬러필터를 구비한 액정표시장치는 표시 화상의 색조가 양호하고 표시 특성이 우수한 고화질 화상을 표시할 수 있다.The color filter of the present invention can be used in an image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus and an organic EL display apparatus, and is particularly suitable for use in a liquid crystal display apparatus. The liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention can display a high-quality image with good display tones and excellent display characteristics.

본 발명의 화상표시장치는 적색, 녹색 및 청색의 적어도 3색의 컬러필터를 갖고, 청색의 컬러필터가 상술한 착색 경화성 조성물을 사용하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the image display device of the present invention has at least three color filters of red, green, and blue, and the blue color filter uses the above-mentioned colored curable composition.

액정표시장치의 정의나 각 표시장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 「전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오저, (주)고교 쵸사카이 1990년 발행)」, 「디스플레이 디바이스(이부키 수미아키저, 산교토쇼(주) 1989년 발행)」등에 기재되어 있다. 또한, 액정표시장치에 대해서는 예를 들면 「차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 타츠오 편집, (주)고교 쵸사카이 1994년 발행)」에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정표시장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기 「차세대 액정 디스플레이 기술」에 기재되어 있는 여러 가지 방식의 액정표시장치에 적용할 수 있다.The definition of a liquid crystal display device and the details of each display device are described in, for example, "Electronic Display Device (Sasaki Akio Kogyo Co., Ltd., Sakai, 1990 Issued)", "Display Device (Ibuki Sumi Architect, Quot ;, published in 1989). The liquid crystal display device is described in, for example, &quot; Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Sakai Corporation in 1994). The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited. For example, the present invention can be applied to various liquid crystal display devices described in the &quot; next generation liquid crystal display technology &quot;.

본 발명의 컬러필터는, 그 중에서도 특히 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대하여 유효하다. 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대해서는, 예를 들면 「컬러 TFT 액정 디스플레이(쿄리츠 슛판(주) 1996년 발행)」에 기재되어 있다. 또한, 본 발명은 IPS 등의 횡전계 구동방식, MVA 등의 화소분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정표시장치나, STN, TN, VA, OCS, FFS, 및 R-OCB 등에도 적용할 수 있다.The color filter of the present invention is particularly effective for a color TFT type liquid crystal display device. The color TFT type liquid crystal display device is described in, for example, &quot; Color TFT liquid crystal display (Kyoritsu Shotpan Co., Ltd., 1996) &quot;. The present invention can also be applied to a liquid crystal display device such as a transverse electric field driving system such as an IPS or a pixel division system such as an MVA or an STN, TN, VA, OCS, FFS and R-OCB .

또한, 본 발명의 컬러필터는 밝고 고선명한 COA(Color-filter On Array) 방식에도 제공하는 것이 가능하다.Further, the color filter of the present invention can be provided in a bright and high-definition color-filter on array (COA) method.

본 발명의 컬러필터를 액정표시소자에 사용하면, 종래 공지의 냉음극관의 삼파장관과 조합시켰을 때에 높은 콘트라스트를 실현할 수 있지만, 또한 빨강, 초록, 파랑의 LED 광원(RGB-LED)을 백라이트로 함으로써 휘도가 높고, 또한 색순도가 높은 색재현성의 양호한 액정표시장치를 제공할 수 있다.When the color filter of the present invention is used in a liquid crystal display element, high contrast can be realized when combined with a conventional three-wavelength tube of a cold cathode tube. In addition, a red LED, a green LED, and a blue LED light source It is possible to provide a liquid crystal display device having high luminance and high color purity and good color reproducibility.

[고체촬상소자][Solid-state image pickup device]

본 발명의 착색 경화성 조성물은 고체촬상소자 용도로서도 바람직하게 사용할 수 있다. 고체촬상소자의 구성으로서는 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터가 구비된 구성이며, 고체촬상소자로서 기능하는 구성이면 특별하게 한정은 없지만, 예를 들면 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The colored curable composition of the present invention can also be preferably used as a solid-state imaging device. The configuration of the solid-state image pickup device is a configuration provided with a color filter manufactured using the colored curable composition of the present invention, and is not particularly limited as far as it functions as a solid-state image pickup device. .

지지체 상에 고체촬상소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 에리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 상기 포토다이오드 및 상기 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구된 텅스텐 등으로 이루어지는 차광막을 갖고, 차광막 상에 차광막 전면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화규소 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 상기 디바이스 보호막 상에 본 발명의 고체촬상소자용 컬러필터를 갖는 구성이다.A plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state image sensor (a CCD image sensor, a CMOS image sensor, or the like) and a transfer electrode composed of polysilicon or the like on the support, and a photodiode light- Shielding film formed on the light-shielding film and covering the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving portion, and having a color filter for a solid-state image pickup device according to the present invention on the device protective film to be.

또한, 상기 디바이스 보호층 상이며 컬러필터의 아래(지지체에 가까운 측)에 집광수단(예를 들면, 마이크로렌즈 등. 이하 동일함)을 갖는 구성이나, 컬러필터 상에 집광수단을 갖는 구성 등이라도 좋다.Further, even in a configuration having the light-converging means (for example, a microlens or the like hereinafter) on the device protective layer and under the color filter (near the support) or a configuration having the light- good.

[실시예][Example]

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적당하게 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 기재하지 않는 한 「%」 및 「부」는 질량기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. The materials, the amounts used, the ratios, the contents of processing, the processing procedures, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples. Unless otherwise stated, "%" and "parts" are on a mass basis.

<합성예><Synthesis Example>

<<트리아릴메탄 염료의 합성예>><< Synthesis Example of Triarylmethane Dye >>

본 발명에서 사용하는 트리아릴메탄 염료의 중간체 및 트리아릴메탄 염료는 일본 특허 2012-201694호 공보, WO2009/107734호 공보에 기재된 합성법을 이용하여 합성할 수 있다.The intermediate of the triarylmethane dye and the triarylmethane dye used in the present invention can be synthesized using the synthesis method described in JP-A-2008-201694 and WO2009 / 107734.

<<트리아릴메탄 염료 C-2의 합성예>><< Synthesis Example of Triarylmethane Dye C-2 >>

하기 합성 루트에 따라 트리아릴메탄 염료 C-2를 합성했다.A triarylmethane dye C-2 was synthesized according to the following synthesis route.

Figure pat00040
Figure pat00040

N-히드록시에틸나프틸아민(19질량부), 메타크릴산 클로리드(20질량부), 트리에틸아민(20질량부)을 아세토니트릴(200질량부) 중에서 반응시켜 화합물 A를 얻었다. 화합물 A와 메틸 치환 비스디에틸아미노벤조페논을 옥시염화인 존재 하, 90℃에서 반응시킴으로써 트리아릴메탄 염료를 합성하고, 메탄올 용매 중에서 비스트리플루오로메탄술포닐이미드리튬염과 혼합 후, 농축하여 실리카 겔 크로마토그래피로 정제함으로써 트리아릴메탄 염료 C-2를 얻었다(14질량부). 트리아릴메탄 염료 C-2의 아세트산 에틸 중에서의 몰 흡광계수는 86,000이며, 최대 흡수 파장은 625㎚이었다.Compound A was obtained by reacting N-hydroxyethylnaphthylamine (19 parts by mass), methacrylic chloride (20 parts by mass) and triethylamine (20 parts by mass) in acetonitrile (200 parts by mass). Compound A and methyl-substituted bisdiethylaminobenzophenone were reacted at 90 占 폚 in the presence of phosphorus oxychloride to synthesize a triarylmethane dye. After mixing with a bistrifluoromethane sulfonylimide lithium salt in a methanol solvent, And purified by silica gel chromatography to obtain a triarylmethane dye C-2 (14 parts by mass). The molar extinction coefficient of triarylmethane dye C-2 in ethyl acetate was 86,000 and the maximum absorption wavelength was 625 nm.

<<트리아릴메탄 염료 C-3의 합성예>><< Synthesis Example of Triarylmethane Dye C-3 >>

하기 합성 루트에 따라 트리아릴메탄 염료 C-3을 합성했다.A triarylmethane dye C-3 was synthesized according to the following synthesis route.

Figure pat00041
Figure pat00041

α나프틸아민(14질량부), 에폭시시클로헥산(12질량부), 헥사플루오로이소프로판올(100질량부)의 혼합 용액을 90℃에서 6시간 반응시켰다. 반응액을 농축하고, 석출된 결정을 여과 채취하여 헥산으로 세정함으로써 화합물 B를 얻었다. 이어서, 화합물 B와 메타크릴산 클로리드를 트리에틸아민 존재 하에서 에스테르화함으로써 화합물 C를 얻었다.(14 parts by mass), epoxycyclohexane (12 parts by mass) and hexafluoroisopropanol (100 parts by mass) were reacted at 90 占 폚 for 6 hours. The reaction solution was concentrated, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with hexane to obtain a compound B. Subsequently, compound B and methacrylic chloride were esterified in the presence of triethylamine to obtain compound C.

화합물 C와 비스디에틸아미노벤조페논을 옥시염화인 존재 하 90℃에서 반응시킴으로써 트리아릴메탄 염료를 합성하고, 메탄올 용매 중에서 비스트리플루오로메탄술포닐이미드리튬염과 혼합 후, 농축하여 실리카 겔 크로마토그래피로 정제함으로써 트리아릴메탄 염료 C-3을 얻었다(20질량부). 트리아릴메탄 염료 C-3의 아세트산 에틸 중에서의 몰 흡광계수는 96,000이며, 최대 흡수 파장은 600㎚이었다.A triarylmethane dye was synthesized by reacting Compound C and bisdiethylaminobenzophenone in the presence of phosphorus oxychloride at 90 占 폚. The triarylmethane dye was mixed with a bistrifluoromethane sulfonylimide lithium salt in a methanol solvent, The crude product was purified by chromatography to obtain a triarylmethane dye C-3 (20 parts by mass). The molar extinction coefficient of triarylmethane dye C-3 in ethyl acetate was 96,000 and the maximum absorption wavelength was 600 nm.

<<트리아릴메탄 염료 C-6의 합성예>><< Synthesis Example of Triarylmethane Dye C-6 >>

트리아릴메탄 염료 C-2 및 트리아릴메탄 염료 C-3과 같은 방법으로 합성을 행하여 트리아릴메탄 염료 C-6을 얻었다.Synthesis was conducted in the same manner as the triarylmethane dye C-2 and the triarylmethane dye C-3 to obtain a triarylmethane dye C-6.

Figure pat00042
Figure pat00042

트리아릴메탄 염료 C-6의 아세트산 에틸 중에서의 몰 흡광계수는 92,000이며, 최대 흡수 파장은 602㎚이었다.The molar extinction coefficient of triarylmethane dye C-6 in ethyl acetate was 92,000 and the maximum absorption wavelength was 602 nm.

<<트리아릴메탄 염료 C-9의 합성예>><< Synthesis Example of Triarylmethane Dye C-9 >>

하기 화합물 D와 화합물 E를 이용하여 트리아릴메탄 염료 C-2 및 트리아릴메탄 염료 C-3과 같은 방법으로 합성을 행하여 트리아릴메탄 염료 C-9를 얻었다.The following compounds D and E were synthesized in the same manner as the triarylmethane dye C-2 and the triarylmethane dye C-3 to obtain a triarylmethane dye C-9.

Figure pat00043
Figure pat00043

트리아릴메탄 염료 C-9의 아세트산 에틸 중에서의 몰 흡광계수는 90,000이며, 최대 흡수 파장은 615㎚이었다.The molar extinction coefficient of the triarylmethane dye C-9 in ethyl acetate was 90,000 and the maximum absorption wavelength was 615 nm.

<크산텐 염료의 합성예><Synthesis Example of Xanthan Dye>

본 발명에서 사용하는 크산텐 염료의 중간체 및 크산텐 염료는, 일본 특허 2013-144724호 공보, 일본 특허 2013-116955호 공보에 기재된 합성법을 이용하여 합성할 수 있다.The intermediate and the xanthene dyes of the xanthene dyes used in the present invention can be synthesized using the synthesis method described in JP-A-2013-144724 and JP-A-2013-116955.

<<크산텐 염료 1-1의 합성예>><< Synthesis Example of Xanthene Dyes 1-1 >>

Figure pat00044
Figure pat00044

앳시드 레드 289를, 옥시염화인을 이용하여 산 할라이드화한 후 부틸아민과 반응시킴으로써 크산텐 염료 1-1을 얻었다. 얻어진 크산텐 염료 1-1의 메탄올 중에서의 몰 흡광계수는 67,000이며, 최대 흡수 파장은 562㎚이었다.Atced Red 289 was acid halide-converted using phosphorus oxychloride and then reacted with butylamine to obtain a xanthene dye 1-1. The molar extinction coefficient of the obtained xanthan dyestuff 1-1 in methanol was 67,000 and the maximum absorption wavelength was 562 nm.

<<크산텐 염료 1-32의 합성예>><< Synthesis Example of Xanthene Dyes 1-32 >>

Figure pat00045
Figure pat00045

크산텐 염료 A에 대하여 수소화나트륨 존재 하에 브롬화프로필을 이용하여 프로필기를 도입함으로써 크산텐 염료 1-32를 얻었다. 크산텐 염료 1-32의 메탄올 중에서의 몰 흡광계수는 68,000이며, 최대 흡수 파장은 567㎚이었다.The xanthene dyes 1-32 were obtained by introducing propyl groups using propyl bromide in the presence of sodium hydride for xanthene dye A. The molar extinction coefficient of xanthene dyes 1-32 in methanol was 68,000 and the maximum absorption wavelength was 567 nm.

<<크산텐 염료 1-39의 합성예>><< Synthesis Example of Xanthene Dyes 1-39 >>

Figure pat00046
Figure pat00046

크산텐 염료 B에 대하여 메탄올 중에서 비스트리플루오로메탄술포닐이미드리튬염을 혼합함으로써 크산텐 염료 1-39를 얻었다. 크산텐 염료 1-39의 메탄올 중에서의 몰 흡광계수는 66,000이며, 최대 흡수 파장은 570㎚이었다.The xanthene dyes B 1-39 were obtained by mixing the bistrifluoromethanesulfonylimide lithium salt in methanol with respect to the xanthene dye B. The molar extinction coefficient of xanthene dye 1-39 in methanol was 66,000 and the maximum absorption wavelength was 570 nm.

<착색막의 제작><Fabrication of colored film>

<<착색 경화성 조성물(도포액)의 조제>><< Preparation of colored curable composition (coating liquid) >>

하기 조성 중의 성분을 혼합하여 착색 경화성 조성물을 조정했다.The components in the following composition were mixed to prepare a colored curable composition.

·트리아릴메탄 염료 C-3 5.0질량부Triarylmethane dye C-3 5.0 parts by mass

·크산텐 염료 1-32 4.0질량부Xanthene dye 1-32 4.0 parts by mass

·C. I. 피그먼트 블루 15:6 분산액 1.0질량부C. I. Pigment Blue 15: 6 dispersion 1.0 part by mass

·하기 (T-1) 12.8질량부12.8 parts by mass (T-1) shown below

·하기 (U-1) 21.2질량부(고형분 환산치: 8.5질량부)21.2 parts by mass (in terms of solid content: 8.5 parts by mass) shown below in (U-1)

·하기 (V-3) 3.0질량부3.0 parts by mass of the following (V-3)

·하기 (X-1) 120.4질량부??? 120.4 parts by mass of the following (X-1)

·하기 (X-2) 24.2질량부24.2 parts by mass of the following (X-2)

·하기 (Z-1) 0.006질량부??? 0.006 parts by mass of the following (Z-1)

(T-1) 광중합성 화합물: KAYARAD DPHA[니폰 카야쿠(주)제, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트의 혼합물](T-1) Photopolymerizable compound: KAYARAD DPHA (a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(U-1) 알칼리 가용성 수지: 벤질메타크릴레이트/메타크릴산[85/15[질량비] 공중합체(중량 평균 분자량: 12,000)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(고형분 40.0질량%), 산가(100mgKOH/g)](Solid content: 40.0% by mass), an acid value (U-1), an alkali-soluble resin: a solution of benzyl methacrylate / methacrylic acid [85/15 (mass ratio)] (weight average molecular weight: 12,000) in propylene glycol monomethyl ether acetate 100 mg KOH / g)]

(V-3) 광중합 개시제: 하기 구조의 옥심계 화합물(Et는 에틸기, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)(V-3) Photopolymerization initiator: Oxime compound of the following structure (Et represents ethyl group and Ac represents acetyl group)

Figure pat00047
Figure pat00047

(X-1) 용제: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(X-1) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate

(X-2) 용제: 3-에톡시프로피온산 에틸(X-2) Solvent: ethyl 3-ethoxypropionate

(Z-1) 계면활성제: 메가팩 F781-F[DIC(주)제](Z-1) Surfactant: Megapack F781-F [manufactured by DIC Corporation]

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 1의 착색 경화성 조성물에 있어서 트리아릴메탄 염료 C-3 대신에 C. I. 베이식 블루 7(B.B.7)[도쿄 카세이 고교(제)]을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 같은 방법으로 조제했다.A coloring curable composition of Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that C. I. Basic Blue 7 (B.B.7) (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was used instead of triarylmethane dye C-3.

C. I. 베이식 블루 7C. I. Basic Blue 7

Figure pat00048
Figure pat00048

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

실시예 4의 착색 경화성 조성물에 있어서 크산텐 염료 1-32을 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 4와 같은 방법으로 조제했다.The procedure of Example 4 was repeated except that the xanthene dyestuff 1-32 was not added to the color-curable composition of Example 4.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

실시예 1의 착색 경화성 조성물에 있어서 트리아릴메탄 염료 C-3 대신에 하기 구조의 비교 염료를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 같은 방법으로 조제했다.A coloring curable composition of Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the comparative dye having the following structure was used in place of the triarylmethane dye C-3.

비교 염료Comparative dye

Figure pat00049
Figure pat00049

(착색층 A)(Colored layer A)

유리(#1737; 코닝사제) 기판 상에 상기에서 조제한 착색 경화성 조성물을 스핀코트법으로 도포한 후, 실온에서 30분간 건조시킴으로써 휘발 성분을 휘발시켜 착색층을 얻었다. 이 착색층에 포토마스크를 개재하지 않는 전면노광의 i선(파장 365㎚)을 조사하여 잠상을 형성시켰다. i선의 광원에는 초고압 수은램프를 사용하고, 평행광으로 하고나서 조사하도록 했다. 이 때, 조사광량을 40mJ/㎠로 했다. 이어서, 이 잠상이 형성된 착색층에 대하여 탄산 나트륨/탄산 수소나트륨의 수용액(농도 2.4질량%)을 이용하여 26℃에서 45초간 현상하고, 이어서, 흐르는 물로 20초간 린스한 후 스프레이로 건조했다. 건조 후의 막을 클린 오븐에서 230℃×20분 소성하여 착색층 A를 얻었다.The colored curable composition prepared above was coated on a glass (made by Corning Incorporated) substrate by a spin coat method and dried at room temperature for 30 minutes to volatilize the volatile components to obtain a colored layer. This colored layer was irradiated with i-line (wavelength 365 nm) of the front exposure without a photomask interposed therebetween to form a latent image. An ultra-high pressure mercury lamp was used as the i-line light source and irradiated after being made into parallel light. At this time, the irradiation light amount was set to 40 mJ / cm 2. Subsequently, the colored layer on which the latent image was formed was developed with an aqueous solution of sodium carbonate / sodium bicarbonate (concentration: 2.4 mass%) at 26 DEG C for 45 seconds, rinsed with flowing water for 20 seconds, and then dried by spraying. The dried film was baked in a clean oven at 230 占 폚 for 20 minutes to obtain a colored layer A.

(착색층 B)(Colored layer B)

상기 착색층 A의 제작 순서에 있어서, 착색층의 노광에 20㎛ L&S 패턴의 포토마스크를 사용한 것 이외에는 상기 착색층 A와 같은 제작 순서로 착색층 B를 얻었다.In the production procedure of the colored layer A, a colored layer B was obtained in the same manufacturing procedure as that of the colored layer A except that a photomask of 20 mu m L & S pattern was used for exposure of the colored layer.

(1) 선폭감도(1) Line width sensitivity

착색층 B에서 얻은 화소 형성층의 폭을 현미경형 화상계측 시스템[아로즈 엔지니어링(주)제 CP-30]으로 측정했다. 감도가 높을수록 세선의 폭은 굵어지기 때문에 마스크 폭으로부터의 세선 폭의 두꺼운 폭을 선폭감도라고 했다.The width of the pixel-forming layer obtained from the colored layer B was measured with a microscopic image measuring system (CP-30, manufactured by AROSE ENGINEERING CO., LTD.). The thicker the width of the fine line width from the mask width was called the line width sensitivity because the width of the fine line becomes thicker as the sensitivity becomes higher.

(2) 액정비저항(전기특성)(2) Liquid resistivity (electrical property)

상기에서 얻은 착색층 A를 기판으로부터 긁어내고, 긁어낸 것 9.0㎎을 액정재료 ZLI-4792(메르크사제) 2.00g에 첨가해서 120℃에서 5시간 가열했다. 그 후에 여과하고, 액정 재료의 비저항을 액정비저항 측정장치[형번 ADVANTEST R8340 ULTRA HIGHT RESISTANCE ME(주) 아드반테스트제]에 의해 측정했다.The coloring layer A obtained above was scraped from the substrate, and 9.0 mg of the scraped product was added to 2.00 g of liquid crystal material ZLI-4792 (Merck Co.), and the mixture was heated at 120 캜 for 5 hours. Thereafter, the resultant was filtered, and the resistivity of the liquid crystal material was measured by a liquid resistivity measuring apparatus (Model ADVANTEST R8340 ULTRA HIGH RESISTANCE ME Co., Ltd. Advan Test Co., Ltd.).

<평가 기준><Evaluation Criteria>

4: 비저항이 1.0×1012MΩ 이상이며, 액정표시장치에 장착하여 패널로 했을 때에 눌러붙음이 확인되지 않았다.4: Resistivity was 1.0 × 10 12 MΩ or more, and when attached to a liquid crystal display device, it was not confirmed to stick to the panel.

3: 비저항이 1.0×1012MΩ 미만이며, 액정표시장치에 장착하여 패널로 했을 때에 눌러붙음이 확인되지 않았다.3: Resistivity was less than 1.0 x 10 12 M ?, and when the panel was mounted on a liquid crystal display device, it was not confirmed to stick to the panel.

2: 비저항이 1.0×1011MΩ 미만이며, 액정표시장치에 장착하여 패널로 했을 때에 눌러붙음이 거의 확인되지 않고, 성능상 문제 없었다.2: Resistivity was less than 1.0 x 10 &lt; 11 &gt; M [Omega], and when attached to a liquid crystal display device and made into a panel,

1: 비저항이 1.0×1010MΩ 미만이며, 액정표시장치에 장착하여 패널로 했을 때에 눌러붙음에 의해 실용에 견딜 수 없는 레벨이었다.1: Resistivity was less than 1.0 x 10 &lt; 10 &gt; M &lt; M &gt;, which was a level that could not withstand practical use due to adhesion when attached to a liquid crystal display device and made into a panel.

(3) 분광특성(3) Spectral characteristics

상기에서 얻은 착색층 A의 투과 스펙트럼을 측광 시스템[오츠카 덴시(주)제 MCPD-3700]을 사용해서 측정했다. 얻어진 투과 스펙트럼으로부터 CIE1931 표색계에 있어서의 색도(C광원) 및 휘도 Y를 구했다.The transmission spectrum of the colored layer A obtained above was measured using a photometric system (MCPD-3700, manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.). From the obtained transmission spectrum, the chromaticity (C light source) and the luminance Y in the CIE 1931 colorimetric system were determined.

(4) 내열성(4) Heat resistance

상기에서 얻은 착색층 A의 투과 스펙트럼과, 착색층 A를 230℃×60분 더 소성했을 때의 투과 스펙트럼의 색차 ΔE*ab를 산출했다. ΔE*ab값은 값이 작은 쪽이 내열성이 양호한 것을 나타낸다. 또한, ΔE*ab값은 CIE1976(L*,a*,b*)공간 표색계에 의한 이하의 색차 공식으로부터 구해지는 값이다[일본 색채학회편 신편 색채과학 핸드북(1985년) p.266].The transmission spectrum of the colored layer A obtained above and the color difference DELTA E * ab of the transmission spectrum when the colored layer A was fired at 230 DEG C for 60 minutes were calculated. The value of? E * ab indicates that heat resistance is good when the value is smaller. Also, the value of ΔE * ab is a value obtained from the following color difference formula by the CIE 1976 (L *, a *, b *) spatial colorimetric system (Japanese Society for Color Science Handbook (1985) p.266).

ΔE*ab={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2 ΔE * ab = {(ΔL * ) 2 + (Δa *) 2 + (Δb *) 2} 1/2

(5) ITO 내성(5) ITO resistance

상기에서 얻은 착색층 A를, 스패터링 장치[(주)알백제 SIH-3030]를 사용하여 산소 유량 2sccm, Ar 유량 84sccm, 스퍼터 온도 230℃의 분위기 중에서 ITO(Indium Tin Oxide)의 막두께가 1500Å로 되도록 DC 스퍼터를 실시했다. 스퍼터가 완료된 ITO 부착 착색층 A의 투과 스펙트럼과, ITO 부착 착색층 A를 추가로 230℃×60분 소성했을 때의 투과 스펙트럼의 색차 ΔE*ab를 산출했다.The coloring layer A obtained above was applied to a substrate having a film thickness of ITO (indium tin oxide) of 1500 Å in an atmosphere of an oxygen flow rate of 2 sccm, an Ar flow rate of 84 sccm, and a sputter temperature of 230 ° C. by using a sputtering device (ALBACCO Co., Ltd. SIH- DC sputtering was performed. The color difference DELTA E * ab of the transmission spectrum when the sputtered ITO-attached colored layer A and the ITO-attached colored layer A were further fired at 230 DEG C for 60 minutes was calculated.

(6) 콘트라스트(6) Contrast

상기에서 얻은 착색층 A를 2매의 편광 필름의 사이에 끼우고, 2매의 편광 필름의 편광축이 평행할 경우, 및 수직일 경우의 휘도의 값을 색채 휘도계[탑콘(주)제, 형번: BM-5A]를 사용해서 측정하고, 2매의 편광 필름의 편광축이 평행할 경우의 휘도를 수직일 경우의 휘도로 나누어서 얻어진 값을 콘트라스트로서 구했다.The colored layer A obtained above was sandwiched between two polarizing films, and the values of luminance in the case where the polarization axes of the two polarizing films were parallel to each other and in the case of the vertical direction were measured using an color luminance meter (manufactured by Topcon Co., : BM-5A], and a value obtained by dividing the luminance when the polarization axes of two polarizing films were parallel and the luminance when the polarization axes of the two polarizing films were vertical was obtained as a contrast.

(7) 내광성(7) Light fastness

상기에서 얻은 착색층 A의 투과 스펙트럼과, 착색층 A를 크세논 페이드오미터[스가 시켄키(주)제 XL-75]로 조도 390W/㎡, 48시간 조사한 후의 착색층 A의 투과 스펙트럼의 색차 ΔE*ab를 산출했다.The transmittance spectrum of the colored layer A obtained above and the color difference ΔE of the transmission spectrum of the colored layer A after irradiating the colored layer A with illuminance of 390 W / m 2 for 48 hours with a xenon fade meter (XL-75, manufactured by Suga Shikeki Co.) * calculated ab.

(8) 내용제성(색도차)(8) Solvent resistance (chromaticity difference)

상기에서 얻은 착색층 A를 25℃의 NMP(N-메틸피롤리돈) 중에 10분간 침적하고, 침지 전후에서의 UV-Vis 스펙트럼을 측정하여 색변화의 지표 ΔEab를 산출했다. 또한, ΔEab의 값이 4 이하일 경우에 색상 변화가 적고, 뛰어난 내용제성을 갖는 것으로 했다.The colored layer A obtained above was immersed in NMP (N-methylpyrrolidone) at 25 占 폚 for 10 minutes, and the UV-Vis spectrum before and after immersion was measured to calculate an index? Eab of color change. Further, when the value of DELTA Eab is 4 or less, the color change is small, and the excellent solvent resistance is obtained.

Figure pat00050
Figure pat00050

Figure pat00051
Figure pat00051

상기 표의 결과로부터, 실시예에서 사용한 착색 경화성 조성물은 내열성이 우수한 것을 알 수 있었다. 또한, 선폭감도, 액정비저항, 분광특성, ITO 내성, 콘트라스트, 내광성 및 내용제성 중 어디에나 뛰어난 것을 알 수 있었다.From the results of the above table, it was found that the color-curable composition used in Examples had excellent heat resistance. In addition, it was found that excellent in both line width sensitivity, liquid crystal resistivity, spectroscopic characteristics, ITO resistance, contrast, light resistance and solvent resistance.

또한, 크산텐 염료 및 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료에 추가해서, 프탈로시아닌 안료를 더 함유함으로써 내광성을 보다 향상시킬 수 있는 것을 알 수 있었다. Further, it was found that the light resistance can be further improved by further containing a phthalocyanine pigment in addition to the xanthene dye and the triarylmethane dye represented by the following general formula (1).

한편, 소정의 반응성기를 갖지 않는 트리아릴메탄 염료를 사용한 비교예 1의 착색 경화성 조성물은 내열성이 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. 또한, ITO 내성, 내용제성도 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. On the other hand, it was found that the color-curable composition of Comparative Example 1 using a triarylmethane dye having no reactive group did not have sufficient heat resistance. It was also found that the ITO resistance and the solvent resistance were not sufficient.

크산텐 염료를 포함하지 않는 착색 경화성 조성물을 사용한 비교예 2에서는 내열성이 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. 또한, ITO 내성, 콘트라스트, 내광성도 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. It was found that the heat resistance was not sufficient in Comparative Example 2 using the color-curable composition containing no xanthene dye. It was also found that the ITO resistance, contrast, and light resistance were not sufficient.

트리아릴메탄 염료를 배합하지 않는 비교예 3의 착색 경화성 조성물은 내열성이 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. 또한, 액정비저항, ITO 내성, 내용제성도 충분하지는 않은 것을 알 수 있었다. It was found that the color-curing composition of Comparative Example 3 in which the triarylmethane dye was not blended had insufficient heat resistance. Further, it was found that the liquid crystal resistivity, ITO resistance and solvent resistance were not sufficient.

Claims (16)

크산텐 염료, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 트리아릴메탄 염료 및 중합성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
Figure pat00052

[일반식(1)에 있어서, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는 기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 6∼20의 아릴기를 나타내고, R1∼R6 중 적어도 1개는 하기 일반식(2A), 일반식(2B), 일반식(2C) 및 일반식(2D) 중 어느 하나로 나타내어지는 반응성기를 갖는다; R7∼R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1∼7의 알킬기를 나타내고, X-는 음이온을 나타내거나, X-는 존재하지 않고 R1∼R20 중 적어도 1개가 음이온을 포함한다.]
Figure pat00053

[일반식(2A)∼일반식(2D)에 있어서, R1a는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2a 및 R3a는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, Y는 산소원자 또는 -NR-을 나타내고, L1∼L4는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기기를 나타낸다; -NR-에 있어서 R은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.]
A cyanate dye, a triarylmethane dye represented by the following general formula (1), and a polymerizable compound.
Figure pat00052

[In the general formula (1), R 1 to R 6 each independently represents a hydrogen atom, a group represented by any one of the following general formulas (2A), (2B), (2C) At least one of R 1 to R 6 represents a group having a reactive group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and at least one of R 1 to R 6 is a group represented by the following general formula (2A), general formula (2B) Has a reactive group represented by any one of the general formula (2D); R 7 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, X - represents an anion, X - does not exist and at least one of R 1 to R 20 contains an anion do.]
Figure pat00053

Wherein R 1a represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2a and R 3a each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y represents an oxygen atom (for example, Or -NR-, L 1 to L 4 each independently represent a single bond or a divalent organic group; -NR-, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.]
제 1 항에 있어서,
상기 일반식(3) 중, R21 및 R23이 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R22 및 R24가 각각 독립적으로 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R26 및 R27이 수소원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 22 and R 24 each independently represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 26 and R 27 , Lt; / RTI &gt; represents a hydrogen atom.
재 1 항에 있어서,
상기 크산텐 염료는 하기 일반식(3b)으로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
일반식(3b)
Figure pat00054

[일반식(3b) 중, R50 및 R51은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R52 및 R53은 각각 독립적으로 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타내고, R54 및 R55는 수소원자를 나타낸다; R56∼R60은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다; a는 0 또는 1을 나타내고, a가 0을 나타낼 경우 R50∼R60 중 어느 하나의 기가 음이온을 포함한다; X-는 음이온을 나타낸다.]
In the first aspect,
Wherein the xanthene dye is represented by the following general formula (3b).
(3b)
Figure pat00054

(In the general formula (3b), R 50 and R 51 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 52 and R 53 each independently represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 54 and R 55 Represents a hydrogen atom; R 56 to R 60 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; a represents 0 or 1, and when a represents 0, any one of R 50 to R 60 includes an anion; X - represents an anion.]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 크산텐 염료는 양이온과 음이온을 동일 분자 내에 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the xanthene dye contains a cation and an anion in the same molecule.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
일반식(1) 중의 X-는 하기 식(AN-1)∼식(AN-3) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
식(AN-1)
Figure pat00055

[식(AN-1) 중, A1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A2는 중합성기, 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다; A3은 불소원자 또는 불소원자를 갖는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다.]
식(AN-2)
Figure pat00056

[식(AN-2) 중, A4는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A5는 중합성기를 나타낸다.]
식(AN-3)
Figure pat00057

[식(AN-3) 중, X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 중합성기, 불소원자 또는 탄소수 1∼10의 불소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.]
3. The method according to claim 1 or 2,
X &lt; - &gt; in the general formula (1) is an anion represented by any one of the following formulas (AN-1) to (AN-3).
The formula (AN-1)
Figure pat00055

[In the formula (AN-1), A 1 represents a single bond or a divalent linking group; A 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a polymerizable group, a fluorine atom or a fluorine atom; A 3 represents a fluorine atom or a fluorine atom-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.]
Expression (AN-2)
Figure pat00056

[In the formula (AN-2), A 4 represents a single bond or a divalent linking group, and A 5 represents a polymerizable group.]
Expression (AN-3)
Figure pat00057

X 3 , X 4 and X 5 each independently represent an alkyl group having a polymerizable group, a fluorine atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 일반식(1) 중의 X-는 하기 화합물로부터 선택되는 음이온인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
Figure pat00058
3. The method according to claim 1 or 2,
X &lt; - &gt; in the general formula (1) is an anion selected from the following compounds.
Figure pat00058
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
일반식(1) 중의 X-가 중합성기를 갖는 음이온인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
A colored curable composition characterized in that X &lt; - &gt; in the general formula (1) is an anion having a polymerizable group.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
프탈로시아닌 안료를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the pigment further contains a phthalocyanine pigment.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
알칼리 가용성 수지 및 광중합 개시제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
An alkali-soluble resin, and a photopolymerization initiator.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
컬러필터의 착색층의 형성에 사용되는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the colored curable composition is used for forming a coloring layer of a color filter.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 경화해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 경화막.A cured film characterized by curing the colored curable composition according to any one of claims 1 to 3. 제 11 항에 기재된 경화막을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터.A color filter having the cured film according to claim 11. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 사용한 것을 특징으로 하는 컬러필터.A color filter comprising the color-curable composition according to any one of claims 1 to 3. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 기판 상에 도포해서 착색 경화성 조성물층을 형성하고 경화해서 착색층을 형성하는 공정, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정, 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝해서 레지스트 패턴을 얻는 공정, 또는 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 해서 착색층을 드라이에칭하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.A process for producing a colored curable composition, comprising the steps of: applying the colored curable composition according to claim 1 or 2 on a substrate to form a colored curable composition layer and curing to form a colored layer; forming a photoresist layer on the colored layer; A step of patterning the photoresist layer to obtain a resist pattern, or a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask. 제 12 항 또는 제 13 항에 기재된 컬러필터를 갖는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자.A solid-state imaging device comprising the color filter according to claim 12 or 13. 제 12 항 또는 제 13 항에 기재된 컬러필터를 갖는 것을 특징으로 하는 화상표시장치.An image display apparatus having the color filter according to claim 12 or 13.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021112552A1 (en) * 2019-12-02 2021-06-10 주식회사 엘지화학 Coloring agent composition, photosensitive resin composition, photoresist, color filter, and liquid crystal display device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201614012A (en) * 2014-09-08 2016-04-16 Fujifilm Corp Image forming material and image forming method
TWI674477B (en) * 2014-12-25 2019-10-11 日商富士軟片股份有限公司 Coloring curable composition, color filter, pattern forming method, method of manufacturing color filter, solid-state imaging element, and image display device
KR20170077966A (en) * 2015-12-28 2017-07-07 이리도스 주식회사 A colorant compound, and a colorant material comprising the same
KR102120518B1 (en) * 2016-05-10 2020-06-08 주식회사 엘지화학 Compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same
JP6789600B2 (en) * 2017-03-29 2020-11-25 日本化薬株式会社 Coloring composition
JP7159152B2 (en) * 2017-04-17 2022-10-24 山本化成株式会社 triarylmethane compounds

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4482959B2 (en) * 1999-07-02 2010-06-16 凸版印刷株式会社 Coloring composition, photosensitive coloring composition, and color filter using the same
JP4266627B2 (en) * 2001-12-06 2009-05-20 凸版印刷株式会社 Photosensitive coloring composition and color filter
JP5733739B2 (en) * 2010-09-09 2015-06-10 日本化薬株式会社 Highly functional triarylmethane compounds
JP5953754B2 (en) * 2012-01-13 2016-07-20 住友化学株式会社 Colored curable resin composition
JP5934664B2 (en) * 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, colored pattern forming method, color filter manufacturing method, solid-state imaging device, and image display device
KR101563131B1 (en) * 2013-06-03 2015-10-26 (주)경인양행 Blue dye compounds, colored resin composition comprising the same for color filter and color filter using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021112552A1 (en) * 2019-12-02 2021-06-10 주식회사 엘지화학 Coloring agent composition, photosensitive resin composition, photoresist, color filter, and liquid crystal display device

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