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KR20150079744A - Cured-film-forming composition, alignment material, and phase-difference material - Google Patents

Cured-film-forming composition, alignment material, and phase-difference material Download PDF

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KR20150079744A
KR20150079744A KR1020157013504A KR20157013504A KR20150079744A KR 20150079744 A KR20150079744 A KR 20150079744A KR 1020157013504 A KR1020157013504 A KR 1020157013504A KR 20157013504 A KR20157013504 A KR 20157013504A KR 20150079744 A KR20150079744 A KR 20150079744A
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South Korea
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group
component
cured film
forming composition
compound
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KR1020157013504A
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토모히사 이시다
쇼지로 유카와
코헤이 고토
타다시 하타나카
Original Assignee
닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
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Publication date
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Abstract

[과제] 우수한 액정배향성과 밀착내구성의 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공하고, 배향재를 제공하며, 그 배향재를 사용하여 위상차재를 제공한다.
[해결수단] 경화막 형성 조성물은, (A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물, (B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. 이 경화막 형성 조성물을 이용하여, 경화막을 형성하고, 광배향 기술을 이용하여 배향재를 형성한다. 배향재 위에 중합성 액정을 도포하고, 경화시켜 위상차재를 얻는다.
[PROBLEMS] To provide a cured film-forming composition suitable for forming a cured film having excellent liquid crystal alignability and close durability, to provide an alignment material, and to provide a retardation using the alignment material.
The cured film-forming composition comprises (A) a compound having one photo-oriented group and one selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group, (B) at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group (C) a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group other than the component (A). The cured film-forming composition is used to form a cured film, and an alignment material is formed by using a photo-alignment technique. A polymerizable liquid crystal is applied on the alignment material and cured to obtain a retardation.

Description

경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재{CURED-FILM-FORMING COMPOSITION, ALIGNMENT MATERIAL, AND PHASE-DIFFERENCE MATERIAL}CURED-FILM-FORMING COMPOSITION, ALIGNMENT MATERIAL, AND PHASE-DIFFERENCE MATERIAL,

본 발명은, 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다.The present invention relates to a cured film forming composition, an alignment material and a retardation material.

최근, 액정패널을 이용한 텔레비전 등의 디스플레이 분야에서는, 고성능화를 위한 시도로, 3D 화상을 즐길 수 있는 3D 디스플레이의 개발이 진행되고 있다. 3D 디스플레이에서는, 예를 들어, 관찰자의 오른쪽 눈에 오른쪽 눈용 화상을 시인시키고, 관찰자의 왼쪽 눈에 왼쪽 눈용 화상을 시인시킴으로써, 입체감이 있는 화상을 표시시킬 수 있다.
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of displays such as televisions using liquid crystal panels, development of a 3D display capable of enjoying 3D images has been proceeding in an attempt to achieve high performance. In the 3D display, for example, an image with a three-dimensional effect can be displayed by viewing an image for the right eye on the right eye of the observer and viewing an image for the left eye on the left eye of the observer.

3D 화상을 표시하는 3D 디스플레이 방식에는 다양한 것이 있는데, 전용 안경을 필요로 하지 않는 방식으로는, 렌티큘러 렌즈 방식 및 패럴렉스 베리어 방식 등이 알려져 있다.There are a variety of 3D display methods for displaying 3D images, and a lenticular lens method and a parallax barrier method are known as methods which do not require dedicated glasses.

그리고, 관찰자가 안경을 착용하여 3D 화상을 관찰하는 디스플레이 방식 중 하나로는, 원편광 안경 방식 등이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조.).
One of display methods in which an observer wears glasses to observe a 3D image is known as a circularly polarized glasses method or the like (see, for example, Patent Document 1).

원편광 안경 방식의 3D 디스플레이인 경우, 액정패널 등의 화상을 형성하는 표시소자 위에 위상차재가 배치되는 것이 통상이다. 이 위상차재는, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치되어 있어, 패터닝된 위상차재를 구성하고 있다. 한편, 이하, 본 명세서에서는, 이러한 위상차 특성이 상이한 복수의 위상차영역을 배치하도록 패턴화된 위상차재를 패턴화 위상차재라 칭한다.
In the case of a 3D display using a circular polarizing glasses system, a phase difference is usually arranged on a display element forming an image such as a liquid crystal panel. This phase difference material has a plurality of two kinds of retardation regions with different retardation characteristics and is arranged regularly to constitute a patterned retardation material. In the following description, the patterned retardation material is referred to as a patterned retardation material in order to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics.

패턴화 위상차재는, 예를 들어, 특허문헌 2에 개시되는 바와 같이, 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료를 광학 패터닝함으로써 제작할 수 있다. 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료의 광학 패터닝은, 액정패널의 배향재 형성에서 알려진 광배향 기술을 이용한다. 즉, 기판 상에 광배향성 재료로 이루어진 도막을 마련하고, 이것에 편광방향이 상이한 2종류의 편광을 조사한다. 그리고, 액정의 배향 제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로서 광배향막을 얻는다. 이 광배향막 위에 중합성 액정을 포함하는 용액상의 위상차재료를 도포하고, 중합성 액정의 배향을 실현한다. 그 후, 배향된 중합성 액정을 경화하여 패턴화 위상차재를 형성한다.
The patterned retardation material can be produced, for example, by optical patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal as disclosed in Patent Document 2. Optical patterning of a retardation material made of a polymerizable liquid crystal uses an optical alignment technique known in the alignment material formation of a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-orientable material is provided on a substrate, and two kinds of polarized light beams having different polarization directions are irradiated thereto. Then, a photo alignment film is obtained as an alignment material having two types of liquid crystal alignment regions in which alignment control directions of liquid crystals are different. A solution phase phase difference material containing a polymerizable liquid crystal is coated on the photo alignment layer to realize alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

액정패널의 광배향 기술을 이용한 배향재 형성에서는, 이용가능한 광배향성 재료로서, 측쇄에 신나모일기 및 칼콘기 등의 광이량화 부위를 갖는 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등이 알려져 있다. 이들 수지는, 편광 UV 조사함으로써, 액정의 배향을 제어하는 성능(이하, 액정배향성이라고도 함)을 나타내는 것이 보고되어 있다(특허문헌 3 내지 특허문헌 5를 참조).In the alignment reformation using the optical alignment technique of the liquid crystal panel, acrylic resin, polyimide resin, or the like having photo dimerization sites such as a neomoyl group and a knocker on the side chain is known as a usable photo-orientable material. These resins have been reported to exhibit the performance (hereinafter also referred to as liquid crystal orientation) of controlling the orientation of liquid crystals by polarized UV irradiation (see Patent Documents 3 to 5).

일본특허공개 H10-232365호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-232365 일본특허공개 2005-49865호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-49865 일본특허 제3611342호 명세서Japanese Patent No. 3611342 Specification 일본특허공개 2009-058584호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-058584 일본특허공표 2001-517719호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-517719

이상과 같이, 패턴화 위상차재는, 배향재인 광배향막 위에, 경화된 중합성 액정의 층을 적층하여 구성된다. 그리고, 이러한 적층구조를 갖는 패턴화 위상차재는, 그 적층상태 그대로 3D 디스플레이의 구성에 이용할 수 있다.
As described above, the patterned retardation material is formed by laminating layers of cured polymerizable liquid crystals on a photo alignment layer which is an alignment material. The patterned phase difference material having such a laminated structure can be used in the construction of the 3D display as it is in the laminated state.

3D 디스플레이는, 가정용 텔레비전으로 사용되는 경우도 있어, 높은 신뢰성, 특히 장기간에 걸친 내구성이 요구되고 있다. 이에 따라, 3D 디스플레이의 구성부재에 대해서도, 내구성이 요구되고 있다. 따라서, 패턴화 위상차재에 있어서도, 고정도(高精度)로 광학 패터닝이 이루어져 있는 것이나, 높은 광투과 특성을 갖는 것 등과 함께, 장기간의 내구성이 필수 성능이 된다.
The 3D display is often used as a home television, and high reliability, particularly long-term durability, is required. Accordingly, durability is also required for the constituent members of the 3D display. Therefore, long-term durability is essential for the patterned retardation material as well as optical patterning with high precision, high optical transmittance, and the like.

그러나, 종래의 패턴화 위상차재에서는, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 밀착성에 과제를 갖고 있었다. 예를 들어, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이에서, 형성 초기부터 벗겨짐을 일으키기 쉬운 것이나, 형성 초기에는 밀착성을 갖지만, 시간의 경과와 함께 밀착성이 저하되어 박리를 일으키기 쉬워지는 것이 있었다.
However, the conventional patterned retardation material has a problem in adhesion between the photo alignment layer and the layer of the polymerizable liquid crystal. For example, between the photo alignment layer and the layer of the polymerizable liquid crystal, there is a tendency that peeling is likely to occur from the beginning of the formation, but at the initial stage of formation there is adhesion, but with the lapse of time, the adhesion deteriorates and the peeling tends to occur easily.

그 중에서도, 시간의 경과와 함께 발생하는, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 박리는, 실제로 사용하는 3D 디스플레이의 결함이 되어, 3D 디스플레이의 표시품위를 저하시키는 원인이 된다. 이에, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 광투과 특성이 우수하며, 나아가, 내구성이 우수한 패턴화 위상차재가 요구되고 있다. 특히, 형성 초기의 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 밀착성이 우수함과 함께, 그 우수한 밀착성을 장기간 유지하는 내구성(이하, 본 명세서에서는, 밀착내구성이라 칭함)을 갖춘 패턴화 위상차재가 요구되고 있다.
Among them, peeling between the photo alignment film and the layer of the polymerizable liquid crystal, which occurs with the lapse of time, becomes a defect in the 3D display actually used, which causes the display quality of the 3D display to deteriorate. Thus, there is a demand for a patterned retardation material which is capable of high-precision optical patterning, has excellent light transmission characteristics, and is excellent in durability. Particularly, there is a demand for a patterned retardation material having excellent durability (hereinafter referred to as " close contact durability " in the present specification) while maintaining excellent adhesion between the photo alignment layer and the polymerizable liquid crystal layer in the initial stage of formation .

본 발명은, 이상의 지견이나 검토결과에 기초하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 우수한 액정배향성과 광투과 특성을 가지며, 밀착내구성이 우수한 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다. 특히, 배향재로 사용되어, 그 위에 중합성 액정의 층이 배치되었을 때에, 우수한 액정배향성과 광투과성을 나타냄과 함께, 중합성 액정의 층 사이의 밀착성을 장기간 유지할 수 있는, 밀착내구성이 우수한 경화막을 형성하는 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다.
The present invention is based on the above findings and the results of the examination. That is, an object of the present invention is to provide a cured film-forming composition having excellent liquid crystal alignability and light transmittance characteristics and being suitable for forming a cured film having excellent adhesion durability. Particularly, when a layer of a polymerizable liquid crystal is disposed thereon, it is used as an alignment material and exhibits excellent liquid crystal alignability and light transmittance. In addition, it has excellent adhesion durability, which can maintain adhesion between layers of the polymerizable liquid crystal for a long time Film-forming composition for forming a film.

본 발명의 목적은, 액정배향성과 광투과 특성이 우수하고, 밀착내구성이 우수한 배향재를 제공하는 것이다.
An object of the present invention is to provide an alignment material excellent in liquid crystal alignment property and light transmission property and excellent in adhesion durability.

본 발명의 목적은, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 내구성이 우수한 위상차재를 제공하는 것이다.
An object of the present invention is to provide a phase difference material capable of high-precision optical patterning and having excellent durability.

본 발명의 다른 목적 및 이점은, 이하의 기재로부터 명백해질 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명의 제1의 태양은,According to a first aspect of the present invention,

(A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물,(A) a compound having one photo-oriented group and one selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group,

(B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고 (B) a polymer having at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group, and

(C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물(C) a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group other than the component (A)

을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.
And a curing-film-forming composition.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (A)성분의 화합물은, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.
In the first aspect of the present invention, the compound (A) is preferably a compound having a photo-orientable group and a hydroxy group.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기 및 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것이 바람직하다.
In the first aspect of the present invention, the compound of component (C) preferably has at least one hydroxyl group and one (meth) acryl group.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (D)가교제를 함유하는 것이 바람직하다.
In the first aspect of the present invention, it is preferable that (D) a crosslinking agent is contained.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (E)가교촉매를 함유하는 것이 바람직하다.
In the first aspect of the present invention, it is preferable to contain a crosslinking catalyst (E).

본 발명의 제2의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재에 관한 것이다.
A second aspect of the present invention relates to an alignment material characterized by being obtained by using the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제3의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 갖는 것을 특징으로 하는 위상차재에 관한 것이다.A third aspect of the present invention relates to a retarder characterized by having a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제1의 태양에 따르면, 우수한 액정배향성과 광투과성을 가지며, 밀착내구성이 우수한 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공할 수 있다.
According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a cured film-forming composition favorable for the formation of a cured film having excellent liquid crystal alignability and light transmittance and excellent adhesion durability.

본 발명의 제2의 태양에 따르면, 액정배향성과 광투과성이 우수하고, 밀착내구성이 우수한 배향재를 제공할 수 있다.
According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide an alignment material excellent in liquid crystal alignability and light transmittance and excellent in adhesion durability.

본 발명의 제3의 태양에 따르면, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 내구성이 우수한 위상차재를 제공할 수 있다.According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a phase difference material capable of high-precision optical patterning and having excellent durability.

상기 서술한 바와 같이, 우수한 내구성을 갖는 패턴화 위상차재를 제조하기 위하여, 밀착내구성이 우수한 배향재, 특히, 경화된 중합성 액정의 층 사이의 밀착내구성이 우수한 배향재가 요구되고 있다. 그리고, 이러한 성능의 배향재의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물이 요구되고 있다.
As described above, in order to produce a patterned retardation material having excellent durability, there is a demand for an alignment material excellent in close contact durability, particularly an alignment material excellent in adhesion durability between layers of a cured polymerizable liquid crystal. There is also a demand for a cured film forming composition favorable for the formation of an alignment material having such a performance.

본 발명자들은, 상기 서술한 요구에 부응하기 위하여, 예의 검토를 행한 결과, 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 광투과성이 우수하고, 또한, 편광노광함으로써 액정배향을 규제하는 액정배향성을 나타내어 배향재로서의 이용이 가능한 것을 발견하였다. 덧붙여, 본 발명자들은, 그 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 그 위에서 중합경화된 중합성 액정의 층 사이에서, 우수한 밀착내구성을 나타내는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명의 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어진 경화막은, 중합성 액정의 층 사이의 밀착내구성이 우수한 광배향막을 구성할 수 있다.
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have intensively studied in order to meet the above-mentioned demand. As a result, they have found that a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition is excellent in light transmittance and has a liquid crystal aligning property for regulating liquid crystal alignment And found that it can be used as an alignment material. In addition, the inventors of the present invention have found that the cured film obtained from the cured film-forming composition having the specific composition exhibits excellent adhesion durability between layers of the polymerized liquid crystal polymerized and cured thereon. That is, the cured film obtained from the cured film forming composition having the specific composition of the present invention can constitute a photo alignment film having excellent adhesion durability between the layers of the polymerizable liquid crystal.

이하에서, 본 발명의 경화막 형성 조성물에 대하여, 성분 등의 구체예를 들면서 상세하게 설명한다. 그리고, 본 발명의 경화막 형성 조성물을 이용한 본 발명의 경화막 및 배향재, 그리고, 그 배향재를 이용하여 형성되는 위상차재 및 액정표시소자 등에 대하여 설명한다.
Hereinafter, the cured film-forming composition of the present invention will be described in detail with concrete examples of components and the like. Then, the cured film and alignment material of the present invention using the cured film-forming composition of the present invention, the retardation formed by using the alignment material, and the liquid crystal display element are described.

<경화막 형성 조성물>&Lt; Cured film forming composition >

본 발명의 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물인 저분자 배향성분, (B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유하는 광배향성을 갖는 열경화성의 경화막 형성 조성물이다. 나아가, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분에 더하여, (D)성분으로서 가교제를 함유할 수 있다. 그리고, (A)성분, (B)성분, (C)성분 및 (D)성분에 더하여, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 또한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다. 더 나아가, 용제를 함유할 수 있다.The cured film-forming composition of the present embodiment of the present invention comprises (A) a low-molecular orientation component which is a compound having a photo-orientable group and one selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group, (B) A polymer having at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group, and (C) a compound having a hydroxyl group and (meth) acryl group other than the component (A). Further, the cured film-forming composition of the present embodiment may contain a crosslinking agent as the component (D) in addition to the component (A), the component (B) and the component (C). In addition to the component (A), the component (B), the component (C) and the component (D), a crosslinking catalyst may be contained as the component (E). In addition, other additives may be added as long as the effect of the present invention is not impaired. Further, it may contain a solvent.

이하, 각 성분의 상세를 설명한다.
Hereinafter, the details of each component will be described.

[(A)성분][Component (A)] [

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 (A)성분은, 저분자 배향성분이다. (A)성분은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 본 실시형태의 경화막에 광배향성을 부여하는 성분이고, 베이스가 되는 후술하는 (B)성분의 폴리머에 비해 저분자의 광배향성분이 된다.
The component (A) of the cured film-forming composition of the present embodiment is a low molecular weight component. The component (A) is a component which imparts photo-alignment property to the cured film of the present embodiment obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment, and is a photo-orientable component of low molecular weight as compared with the polymer of the component (B) .

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (A)성분인 저분자 배향성분은, 광배향성기, 그리고, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개의 기를 갖는 화합물로 할 수 있다.In the cured film-forming composition of the present embodiment, the low-molecular-orientation component (A) is a compound having a photo-aligning group and a group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group .

한편, 본 발명에 있어서, 광배향성기란, 광이량화 또는 광이성화하는 구조부위의 관능기를 말한다.
On the other hand, in the present invention, the photo-orientable group means a functional group at a structural site where the photo-dimerization or photo-isomerization occurs.

(A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이량화하는 구조부위란, 광조사에 의해 이량체를 형성하는 부위이고, 그 구체예로는, 신나모일기, 칼콘기, 쿠마린기, 안트라센기 등을 들 수 있다. 이들 중 가시광영역에서의 투명성이 높다는 점, 광이량화 반응성이 높다는 점에서 신나모일기가 바람직하다.
The structural moiety in which the compound of the component (A) has a light-quantifiable light quantifiable as the photo-orientable group is a moiety that forms a dimer by light irradiation. Specific examples of the moiety include a cinnamoyl group, Anthracene group and the like. Of these, a neomyl group is preferable in view of high transparency in the visible light region and high optical dimerization reactivity.

또한, (A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이성화하는 구조부위란, 광조사에 의해 시스체와 트랜스체로 변하는 구조부위를 말하는데, 그 구체예로는 아조벤젠 구조, 스틸벤 구조 등으로 이루어진 부위를 들 수 있다. 이들 중 반응성이 높다는 점에서 아조벤젠 구조가 바람직하다.
The photo-isomerizing structural moiety that the compound of component (A) may have as a photo-orientable group refers to a structural moiety that changes into a cis structure and a trans-isomer by light irradiation. Specific examples thereof include azobenzene structure, As shown in Fig. Among them, the azobenzene structure is preferable in view of high reactivity.

(A)성분의 광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로부터 선택되는 치환기 중 어느 1개를 갖는 화합물은, 예를 들어, 하기 식으로 표시되는 화합물이다.
The compound having any one of a photo-orientable group of the component (A) and a substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group is, for example, a compound represented by the following formula.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001

Figure pct00001

상기 식 중, A1과 A2는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, X11은 단결합, 에테르 결합, 에스테르 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합, 아미노 결합 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 결합을 통해, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬렌기, 페닐렌기, 비페닐렌기 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기가 결합하여 이루어지는 구조를 나타낸다. X12는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 또는 시클로헥실기를 나타낸다. 상기 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 및 시클로헥실기는, 공유결합, 에테르 결합, 에스테르 결합, 아미드 결합 또는 요소 결합을 통해 이웃하는 기와 결합할 수도 있다.
Wherein A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group and X 11 represents a single bond selected from the group consisting of a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, an amino bond, Or a structure in which 1 to 3 substituents selected from an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a phenylene group, a biphenylene group, or a combination thereof are bonded through two or more kinds of linkages. X 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group or a cyclohexyl group. The alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded to neighboring groups through a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond or an urea bond.

X13은 하이드록시기, 메르캅토기, 탄소원자수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소원자수 1 내지 10의 알킬티오기, 페녹시기, 비페닐옥시기 또는 페닐기를 나타낸다. X14는 각각 독립적으로 단결합, 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기, 방향족환기, 또는, 지방족환기를 나타낸다. 여기서 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기는 분지상일 수도 직쇄상일 수도 있다. X15는 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 또는 알콕시실릴기를 나타낸다. X는 단결합, 산소원자 또는 황원자를 나타낸다. 한편, 상기 치환기에 있어서 벤젠환이 포함되는 경우, 해당 벤젠환은, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 및 시아노기로부터 선택되는 동일 또는 상이한 1 또는 복수의 치환기에 의해 치환되어 있을 수도 있다.
X 13 represents a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, a phenoxy group, a biphenyloxy group or a phenyl group. X 14 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic ring group or an aliphatic ring group. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or straight-chain. X 15 represents a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group or an alkoxysilyl group. X represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom. On the other hand, when the substituent includes a benzene ring, the benzene ring may be the same or different 1 selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group, Or may be substituted by a plurality of substituents.

상기 식 중, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17 및 R18은, 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 또는 시아노기를 나타낸다.
Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms A halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group.

(A)성분인, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산메틸에스테르, 4-하이드록시계피산메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산에틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산에틸에스테르, 4-하이드록시계피산에틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산페닐에스테르, 4-하이드록시계피산페닐에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시계피산비페닐에스테르, 계피산8-하이드록시옥틸에스테르, 계피산6-하이드록시헥실에스테르, 계피산4-하이드록시부틸에스테르, 계피산3-하이드록시프로필에스테르, 계피산2-하이드록시에틸에스테르, 계피산하이드록시메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4-하이드록시메틸옥시칼콘, 4-하이드록시칼콘, 4'-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4'-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4'-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4'-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4'-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4'-하이드록시메틸옥시칼콘, 4'-하이드록시칼콘, 7-(8-하이드록시옥틸옥시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린, 7-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 7-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 7-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 7-하이드록시메틸옥시쿠마린, 7-하이드록시쿠마린, 6-하이드록시옥틸옥시쿠마린, 6-하이드록시헥실옥시쿠마린, 6-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 6-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 6-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 6-하이드록시메틸옥시쿠마린, 6-하이드록시쿠마린, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-벤조일계피산8-하이드록시옥틸에스테르, 4-벤조일계피산6-하이드록시헥실에스테르, 4-벤조일계피산4-하이드록시부틸에스테르, 4-벤조일계피산3-하이드록시프로필에스테르, 4-벤조일계피산2-하이드록시에틸에스테르, 4-벤조일계피산하이드록시메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4-(4-하이드록시벤조일)칼콘, 4'-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4'-(4-하이드록시벤조일)칼콘 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-orientable group and a hydroxy group, which are the component (A), include, for example, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) Methyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- , 4-hydroxymethyloxycinnamic acid methyl ester, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- Cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid Esters, phenyl ester of 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamate, 4- Hydroxypropyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid phenyl ester, 4- (8-hydroxyoctyloxy) ) Biphenyl ester of cinnamic acid, biphenyl ester of cinnamic acid, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid biphenyl Ester, biphenyl ester of 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid, biphenyl ester of 4-hydroxymethyloxy cinnamate, biphenyl ester of 4-hydroxycinnamic acid, 8-hydroxyoctyl ester of cinnamic acid, 6- Hexyl ester, 4-hydroxybutyl cinnamate (6-hydroxyhexyloxy) chalcone, 4 (8-hydroxyoctyloxy) chalcone, 4-ethylhexanoic acid, 4- (2-hydroxyethyloxy) chalcone, 4-hydroxymethyloxycalone, 4-hydroxycalcone, 4 4 '- (4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4' - (3-hydroxypropyloxy) (2-hydroxyethyloxy) chalcone, 4'-hydroxymethyloxycalcone, 4'-hydroxycalcone, 7- (8-hydroxyoctyloxy) coumarin, 7- 7- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 7- (2-hydroxyethyloxy) coumarin, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7-hydroxy coumarin, 6-hydroxy 6- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 6- (2-hydroxyethyloxy) coumarin, 6-hydroxybutyloxy coumarin, 6- Hydroxymethyloxycoumarin, 6-hydroxycoumarin, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester , 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, Benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl ] Ethyl cinnamate, ethyl 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- Benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, Ethyl ester, 4- [4- hydroxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid tert- butyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy ) Benzoyl] cinnamic acid tert-butyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid tert-butyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid tert- butyl ester , 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid tert-butyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid tert- Benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) Benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxy Benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- hydroxybenzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- Benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) A biphenyl ester of 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid, a biphenyl ester of cinnamic acid 4- [4- hydroxymethyloxybenzoyl] 4-benzoyl cinnamic acid 8-hydroxyoctyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid hydroxymethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] 4- (4-hydroxymethylbenzoyl) chalcone, 4- (4-hydroxybenzoyl) chalcone, 4 '- [4- (8- Benzoyl] chalcone, 4 '- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] (4-hydroxymethyloxybenzoyl) chalcone, 4 '- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] Hydroxybenzoyl) chalcone, and the like.

(A)성분인, 광배향성기 및 카르복실기를 갖는 화합물의 구체예로는, 계피산, 페룰산, 4-니트로계피산, 4-메톡시계피산, 3,4-디메톡시계피산, 쿠마린-3-카르본산, 4-(N,N-디메틸아미노)계피산 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-aligning group and a carboxyl group, which are components (A), include cinnamic acid, ferulic acid, 4-nitro cinnamic acid, 4-methoxy cinnamic acid, 3,4-dimethoxy cinnamic acid, coumarin- , 4- (N, N-dimethylamino) cinnamic acid, and the like.

(A)성분인, 광배향성기 및 아미노기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-아미노계피산메틸에스테르, 4-아미노계피산에틸에스테르, 3-아미노계피산메틸에스테르, 3-아미노계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-aligning group and an amino group as the component (A) include 4-amino cinnamic acid methyl ester, 4-amino cinnamic acid ethyl ester, 3-amino cinnamic acid methyl ester and 3-amino cinnamic acid ethyl ester. .

(A)성분인, 광배향성기와 알콕시실릴기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 및 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound having a photo-orientable group and an alkoxysilyl group as the component (A) include methyl 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamate, methyl 4- (3-triethoxysilylpropyloxy) Ester, 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-triethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester , Ethyl 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamate, ethyl 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamate and 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamate Esters and the like.

(A)성분인 저분자 배향성분은, 이상의 구체예를 들 수 있으나, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
Examples of the low-molecular-orientation component as the component (A) include, but are not limited to, the specific examples described above.

그리고, (A)성분인 저분자 배향성분은, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 것이 특히 바람직하다. 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막에 광배향성을 부여함과 함께, 배향재로서 이용된 경우의 중합성 액정의 층과의 밀착성의 향상에 있어서, 특히 유효해진다.
The low-molecular orientation component (A) is particularly preferably a compound having a photo-orientable group and a hydroxy group. The compound having a photo-aligning group and a hydroxy group is preferably used for imparting photo-alignment properties to the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment and improving the adhesiveness with the layer of the polymerizable liquid crystal when used as an alignment material So that it becomes particularly effective.

또한, (A)성분인 저분자 배향성분이, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 경우, (A)성분으로서, 분자 내에, 광배향성기를 2개 이상 및/또는 하이드록시기를 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 구체적으로는, (A)성분으로서, 분자 내에 1개의 하이드록시기와 함께 2개 이상의 광배향성기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 1개의 광배향성기와 함께 2개 이상의 하이드록시기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 예를 들어, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물에 대해서는, 하기 식으로 표시되는 화합물을 예시할 수 있다.
When the low-molecular-orientation component (A) is a compound having a photo-orientable group and a hydroxy group, the compound (A) is preferably a compound having two or more photo-orientable groups and / or two or more hydroxy groups in the molecule It is possible to use. Specifically, it is preferable to use, as the component (A), a compound having two or more photo-orientable groups in addition to one hydroxy group in the molecule, a compound having two or more hydroxy groups in addition to one photo- It is possible to use a compound having two or more tie and hydroxy groups. For example, for compounds having two or more photo-orientable groups and hydroxy groups in the molecule, the compounds represented by the following formulas can be exemplified.

[화학식 2](2)

Figure pct00002

Figure pct00002

이러한 화합물을 적당히 선택함으로써, (A)성분인 저분자 배향성분의 분자량을 원하는 범위의 값으로 제어하는 것이 가능해진다. 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 본 실시형태의 경화막을 형성하기 위해서는, 가열경화가 필요해지는데, 그 가열을 행할 때에, (A)성분인 저분자 배향성분이 승화되는 것을, 저분자 배향성분의 분자량을 조정함으로써 억제할 수 있다.
By appropriately selecting such a compound, it becomes possible to control the molecular weight of the low-molecular-orientation component (A) to a value within a desired range. In order to form the cured film of the present embodiment from the cured film forming composition of the present embodiment, heat curing is required. When the heating is performed, the molecular weight of the low molecular weight component is controlled by controlling the sublimation of the low molecular weight component .

한편, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (A)성분의 화합물로는, 광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기 중 어느 1개를 갖는, 복수종의 화합물의 혼합물일 수도 있다.
On the other hand, as the compound of the component (A) in the cured film-forming composition of the present embodiment, a compound of a plurality of compounds having one of a photo-orientable group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group It is possible.

[(B)성분][Component (B)] [

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (B)성분은, 친수성의 폴리머이다.
The component (B) contained in the cured film-forming composition of the present embodiment is a hydrophilic polymer.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분인 폴리머로는, 하이드록시기나 카르복실기나 아미노기 등의 친수성기를 갖는 폴리머인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머(이하, 특정 중합체라고도 함.)로 할 수 있다.
In the composition for forming a cured film of the present embodiment, the polymer as the component (B) is preferably a polymer having a hydrophilic group such as a hydroxyl group or a carboxyl group or an amino group. Specifically, at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group (Hereinafter also referred to as a specific polymer).

(B)성분인 폴리머로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리에스테르, 폴리에스테르폴리카르본산, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 폴리알킬렌이민, 폴리알릴아민, 셀룰로오스류(셀룰로오스 또는 그 유도체), 페놀노볼락 수지, 멜라민포름알데히드 수지 등의 직쇄구조 또는 분지구조를 갖는 폴리머, 시클로덱스트린류 등의 환상 폴리머 등을 들 수 있다.Examples of the polymer as the component (B) include polymers such as acrylic polymers, polyamic acids, polyimides, polyvinyl alcohols, polyesters, polyester polycarboxylic acids, polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, A cyclic polymer such as a polymer having a straight chain structure or a branched structure such as a polyol, a polyalkyleneimine, a polyallylamine, a cellulose (a cellulose or a derivative thereof), a phenol novolac resin or a melamine formaldehyde resin and a cyclodextrin, .

이 중, 아크릴 중합체로는 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 스티렌 등의 불포화 이중결합을 갖는 모노머를 중합하여 얻어지는 중합체가 적용될 수 있다.
Among them, as the acrylic polymer, a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as an acrylate ester, a methacrylate ester, or styrene can be applied.

(B)성분인 특정 중합체로는, 바람직하게는, 하이드록시알킬시클로덱스트린류, 셀룰로오스류, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나와 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 아크릴 중합체, 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 그리고 폴리카프로락톤폴리올을 들 수 있다.
The specific polymer as the component (B) is preferably at least one selected from the group consisting of hydroxyalkylcyclodextrins, celluloses, polyethylene glycol ester groups and hydroxyalkyl ester groups having 2 to 5 carbon atoms, a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group An acrylic polymer having an aminoalkyl group in the side chain, a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol and a polycaprolactone polyol.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나와, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 아크릴 중합체는, 이러한 구조를 갖는 아크릴 중합체이면 되는데, 아크릴 중합체를 구성하는 고분자의 주쇄의 골격 및 측쇄의 종류 등에 대하여 특별히 한정되지 않는다.
An acrylic polymer having at least one of a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group and at least one of a polyethylene glycol ester group and a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, which is a preferred example of the specific polymer of component (B) Structure, and is not particularly limited as to the skeleton of the main chain of the polymer constituting the acrylic polymer, the kind of the side chain, and the like.

상기 서술한 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나를 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B1]로 표시된다.As the structural unit having at least one of the polyethylene glycol ester group and the hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, the preferred structural unit is represented by the following formula [B1].

상기 서술한 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B2]로 표시된다.
As the structural unit having at least one of the above-described carboxyl group and phenolic hydroxyl group, a preferable structural unit is represented by the following formula [B2].

[화학식 3](3)

Figure pct00003

Figure pct00003

상기 식[B1] 및 식[B2] 중, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, Y1은 H-(OCH2CH2)n-기(여기서, n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.) 또는 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬기를 나타내고, Y2는 카르복실기 또는 페놀성 하이드록시기를 나타낸다.
X 3 and X 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and Y 1 represents an H- (OCH 2 CH 2 ) n- group (wherein the value of n is 2 To 50, preferably 2 to 10) or a hydroxyalkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and Y 2 represents a carboxyl group or a phenolic hydroxy group.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체는, 중량평균분자량이 3000 내지 200000인 것이 바람직하고, 4000 내지 150000인 것이 보다 바람직하고, 5000 내지 100000인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 200000을 초과하여 너무 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 3000 미만으로 너무 작으면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성이 저하되는 경우가 있다. 한편, 중량평균분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준자료로서 폴리스티렌을 이용하여 얻어지는 값이다. 이하, 본 명세서에서도 동일하게 한다.
The acrylic polymer which is an example of the component (B) has a weight average molecular weight of preferably from 3,000 to 200,000, more preferably from 4,000 to 150,000, and still more preferably from 5,000 to 100,000. If the weight average molecular weight is more than 200,000 and the molecular weight is too large, the solubility in a solvent may deteriorate and handling properties may deteriorate. If the weight average molecular weight is too small, the curing becomes insufficient at the time of thermosetting, May be lowered. On the other hand, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard data. Hereinafter, the same shall apply to the present specification.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체의 합성방법으로는, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나를 갖는 모노머(이하, b1 모노머라고도 함)와, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 모노머(이하, b2 모노머라고도 함)를 공중합하는 방법이 간편하다.
Examples of the method for synthesizing the acrylic polymer which is an example of the component (B) include a method of reacting a monomer having at least one of a polyethylene glycol ester group and a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms (hereinafter also referred to as a b1 monomer) A method of copolymerizing a monomer having at least one of hydroxyl groups (hereinafter also referred to as b2 monomer) is simple.

상기 서술한 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머로는, H-(OCH2CH2)n-OH의 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트를 들 수 있다. 그 n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.
Examples of the above-mentioned monomer having a polyethylene glycol ester group include monoacrylate or monomethacrylate of H- (OCH 2 CH 2 ) n -OH. The value of n is 2 to 50, preferably 2 to 10.

상기 서술한 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트를 들 수 있다.
Examples of the monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms as described above include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2 -Hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate.

상기 서술한 카르복실기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐안식향산을 들 수 있다.Examples of the above-mentioned monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid and vinylbenzoic acid.

상기 서술한 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, p-하이드록시스티렌, m-하이드록시스티렌, o-하이드록시스티렌을 들 수 있다.
Examples of the above-mentioned monomer having a phenolic hydroxy group include p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and o-hydroxystyrene.

또한, 본 실시형태에 있어서는, (B)성분의 예인 아크릴 중합체를 합성하는데 있어서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머, 구체적으로는, 하이드록시기 및 카르복실기를 모두 갖지 않는 모노머를 병용할 수 있다.
In the present embodiment, in the synthesis of the acrylic polymer which is an example of the component (B), monomers other than the b1 monomer and the b2 monomer, specifically, a hydroxyl group and a carboxyl group, Monomers that do not have all can be used in combination.

상기 모노머로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트 및 t-부틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르 화합물, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트 및 t-부틸메타크릴레이트 등의 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드 및 N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드 화합물, 아크릴아미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 스티렌 화합물 그리고 비닐 화합물 등을 들 수 있다.
Examples of the monomer include acrylic ester compounds such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl methacrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate and t-butyl acrylate Methacrylic acid ester compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, isobutyl methacrylate and t-butyl methacrylate, maleimide, N-methyl maleimide Maleimide compounds such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 b1 모노머 및 b2 모노머의 사용량은, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, b1 모노머가 2몰% 내지 95몰%, b2 모노머가 5몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다.
The amount of the b1 monomer and the b2 monomer used for obtaining the acrylic polymer which is an example of the component (B) is preferably from 2 mol% to 95 mol% based on the total amount of all the monomers used for obtaining the acrylic polymer as the component (B) , and the b2 monomer is 5 mol% to 98 mol%.

b2 모노머로서 카르복실기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, b1 모노머가 60몰% 내지 95몰%, b2 모노머가 5몰% 내지 40몰%인 것이 바람직하다.When a monomer having only a carboxyl group as the b2 monomer is used, the amount of the b1 monomer is 60 to 95 mol%, the amount of the b2 monomer is 5 to 40 mol% based on the total amount of all the monomers used to obtain the acrylic polymer as the component (B) %.

한편, b2 모노머로서 페놀성 하이드록시기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, b1 모노머가 2몰% 내지 80몰%, b2 모노머가 20몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다. b2 모노머가 20몰%보다 너무 작은 경우에는, 얻어지는 경화막의 액정배향성이 불충분해지기 쉽고, 98몰%보다 너무 큰 경우에는 (A)성분의 저분자 배향성분과의 상용성이 저하되기 쉽다.
On the other hand, when a monomer having only a phenolic hydroxy group is used as the b2 monomer, it is preferable that the b1 monomer is 2 mol% to 80 mol% and the b2 monomer is 20 mol% to 98 mol%. When the b2 monomer is too small, the liquid crystal alignability of the resulting cured film tends to become insufficient. When the b2 monomer is too large, the compatibility with the low molecular weight component (A) tends to be lowered.

(B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체를 얻는 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, b1 모노머와 b2 모노머와 필요에 따라 b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머와 중합개시제 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50℃ 내지 110℃의 온도하에서 중합반응에 의해 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, b1 모노머와 b2 모노머, 필요에 따라 이용되는 b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머 및 중합개시제 등을 용해하는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 구체예로는, 후술하는 [용제]의 항에 기재한다.
The method of obtaining the acrylic polymer which is an example of the polymer of the component (B) is not particularly limited. For example, in a solvent in which b1 and b2 monomers and, if necessary, monomers other than b1 and b2 monomers and a polymerization initiator are coexisted , And a polymerization reaction at a temperature of 50 캜 to 110 캜. Here, the solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves the b1 monomer and the b2 monomer, the b1 monomer and b2 monomer, if necessary, and the polymerization initiator. Specific examples are described in the section [solvent] described later.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체는, 예를 들어, 아미노에틸아크릴레이트, 아미노에틸메타크릴레이트, 아미노프로필아크릴레이트 및 아미노프로필메타크릴레이트 등의 아미노알킬에스테르 모노머를 중합한 것, 또는, 그 아미노알킬에스테르 모노머와 상기 아크릴 모노머로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 공중합한 것을 들 수 있다.
The acrylic polymer having the aminoalkyl group on the side chain, which is a preferred example of the specific polymer of component (B), is a polymer of aminoalkyl such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl methacrylate and aminopropyl methacrylate A polymer obtained by polymerizing an ester monomer, or a copolymer of an aminoalkyl ester monomer and one or more kinds of monomers selected from the above acrylic monomers.

이상의 방법에 의해 얻어지는 (B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체는, 통상, 용제에 용해한 용액의 상태이다.
The acrylic polymer which is an example of the polymer of the component (B) obtained by the above method is usually in a state of a solution dissolved in a solvent.

또한, 상기 방법으로 얻어진 (B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체의 용액을, 교반하의 디에틸에테르나 물 등에 투입하여 재침전시키고, 생성된 침전물을 여과·세정한 후에, 상압 또는 감압하에서, 상온건조 또는 가열건조하여, (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체로 할 수 있다. 상기 서술한 조작에 의해, (B)성분의 예인 아크릴 중합체와 공존하는 중합개시제 및 미반응 모노머를 제거할 수 있고, 그 결과, 정제한 (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제할 수 없는 경우에는, 얻어진 분체를 용제에 재용해시키고, 상기 서술한 조작을 반복하여 행하면 된다.
Further, a solution of an acrylic polymer, which is an example of a polymer of the component (B) obtained by the above-described method, is re-precipitated by being added to diethyl ether or water under stirring, and the resultant precipitate is filtered and washed. Thereafter, Dried or heated and dried to obtain a powder of an acrylic polymer which is an example of the component (B). By the above-described operation, the polymerization initiator coexisting with the acrylic polymer which is an example of the component (B) and the unreacted monomer can be removed. As a result, a powder of the acrylic polymer which is an example of the purified component (B) is obtained. When the powder can not be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above-described operation may be repeated.

다음에, (B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에테르폴리올로는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜이나 비스페놀A, 트리에틸렌글리콜 및 솔비톨 등의 다가알코올에 프로필렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리프로필렌글리콜 등을 부가한 것을 들 수 있다. 폴리에테르폴리올의 구체예로는 ADEKA Cororation제 ADEKA POLYETHER P시리즈, G시리즈, EDP시리즈, BPX시리즈, FC시리즈, CM시리즈, NOF Corporation제 UNIOX(등록상표) HC-40, HC-60, ST-30E, ST-40E, G-450, G-750, UNIOL(등록상표) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400, NONION(등록상표) LT-221, ST-221, OT-221 등을 들 수 있다.
Examples of the polyether polyol which is a preferred example of the specific polymer of component (B) include polyether polyols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol, polyhydric alcohols such as bisphenol A, triethylene glycol and sorbitol, propylene oxide, polyethylene glycol and poly Propylene glycol, and the like. Specific examples of the polyether polyol include ADEKA POLYETHER P series, G series, EDP series, BPX series, FC series, CM series manufactured by ADEKA Cororation, UNIOX (registered trademark) HC-40, HC-60, ST-30E , ST-40E, G-450, G-750, UNIOL (registered trademark) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA- NONION (registered trademark) LT-221, ST-221 and OT-221.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에스테르폴리올로는, 아디프산, 세바스산 및 이소프탈산 등의 다가카르본산에 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리프로필렌글리콜 등의 디올을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리에스테르폴리올의 구체예로는 DIC corporation제 POLYLITE(등록상표) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD-X-2555, OD-X-2560, Kuraray Co., Ltd.제 POLYOL P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 등을 들 수 있다.
Examples of the polyester polyol which is a preferable example of the specific polymer of component (B) include polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol and poly And a diol such as propylene glycol. Specific examples of the polyester polyol include POLYLITE (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD- OD-X-2024, OD-X-2024, OD-X-2024, OD-X-2024, OD-X- OD-X-2555, OD-X-2560, POLYOL P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P- 510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010 and PNNA-2016.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카프로락톤폴리올로는, 트리메틸올프로판 및 에틸렌글리콜 등의 다가알코올을 개시제로서 ε-카프로락톤을 개환중합시킨 것을 들 수 있다. 폴리카프로락톤폴리올의 구체예로는 DIC Corporation제 POLYLITE(등록상표) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Chemical Industries, Ltd.제 PLACCEL(등록상표) 205, L205AL, 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320 등을 들 수 있다.
Examples of the polycaprolactone polyol which is a preferred example of the specific polymer of component (B) include those obtained by ring-opening polymerization of? -Caprolactone using polyhydric alcohols such as trimethylolpropane and ethylene glycol as initiators. Specific examples of the polycaprolactone polyol include POLYLITE (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568 manufactured by DIC Corporation, PLACCEL (registered trademark) 205 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., L205AL , 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320, and the like.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카보네이트폴리올로는, 트리메틸올프로판 및 에틸렌글리콜 등의 다가알코올과 탄산디에틸, 탄산디페닐 및 에틸렌카보네이트 등을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리카보네이트폴리올의 구체예로는 Daicel Chemical Industries, Ltd.제 PLACCEL(등록상표) CD205, CD205PL, CD210, CD220, Kuraray Co., Ltd.제의 C-590, C-1050, C-2050, C-2090, C-3090 등을 들 수 있다.
Examples of polycarbonate polyols which are preferred examples of the specific polymer of component (B) include those obtained by reacting polyhydric alcohols such as trimethylolpropane and ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate and ethylene carbonate. Specific examples of the polycarbonate polyol include PLACCEL (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, CD220 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., C-590, C-1050, C- 2090, C-3090, and the like.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 셀룰로오스로는, 하이드록시에틸셀룰로오스 및 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류, 하이드록시에틸메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필메틸셀룰로오스 및 하이드록시에틸에틸셀룰로오스 등의 하이드록시알킬알킬셀룰로오스류 그리고 셀룰로오스 등을 들 수 있는데, 예를 들어, 하이드록시에틸셀룰로오스 및 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류가 바람직하다.
Examples of cellulose as a preferred polymer of the component (B) include hydroxyalkylcelluloses such as hydroxyethylcellulose and hydroxypropylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxyethylethylcellulose and the like Hydroxyalkyl celluloses, hydroxyalkyl celluloses, hydroxyalkyl celluloses, hydroxyalkyl celluloses, hydroxyalkyl celluloses, hydroxyalkyl celluloses and hydroxypropylcelluloses.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 시클로덱스트린으로는, α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린 및 γ시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린, 메틸-α-시클로덱스트린, 메틸-β-시클로덱스트린 및 메틸-γ-시클로덱스트린 등의 메틸화시클로덱스트린, 그리고 하이드록시메틸-α-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-β-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-β-시클로덱스트린 및 2,3-디하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린 등의 하이드록시알킬시클로덱스트린 등을 들 수 있다.
(B) are cyclodextrins such as? -Cyclodextrin,? -Cyclodextrin and? -Cyclodextrin, methyl-? -Cyclodextrin, methyl-beta-cyclodextrin and methyl- methylated cyclodextrin such as? -cyclodextrin, and hydroxymethyl-? -cyclodextrin, hydroxymethyl-? -cyclodextrin, hydroxymethyl-? -cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-a-cyclodextrin, 2 Hydroxypropyl-? -Cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-? -Cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-? -Cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-? Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-? -Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-? -Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-? -Cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-? As dextrin and the like, 2,3-hydroxypropyl -β- cyclodextrin and 2,3-di-hydroxypropyl -γ- cycloalkyl hydroxyalkyl cyclodextrin, such as cyclodextrin.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 멜라민포름알데히드 수지로는, 멜라민과 포름알데히드를 중축합하여 얻어지는 수지 등, 하기 식으로 표시되는 수지 등을 들 수 있다.
Examples of the melamine formaldehyde resin which is a preferred example of the specific polymer of the component (B) include a resin represented by the following formula such as a resin obtained by polycondensation of melamine and formaldehyde.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004

Figure pct00004

상기 식 중, R21은 수소원자 또는 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, n은 반복단위의 수를 나타내는 자연수이다.
In the formula, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a natural number representing the number of repeating units.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 보존안정성의 관점에서 멜라민과 포름알데히드의 중축합시에 생성된 메틸올기가 알킬화되어 있는 것이 바람직하다.
In the melamine formaldehyde resin as the component (B), it is preferable that the methylol group formed at the time of polycondensation of melamine and formaldehyde is alkylated from the viewpoint of storage stability.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지를 얻는 방법은 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로 멜라민과 포름알데히드를 혼합하고, 탄산나트륨이나 암모니아 등을 이용하여 약알칼리성으로 한 후 60℃ 내지 100℃에서 가열함으로써 합성된다. 다시 얻어진 수지를 알코올과 반응시킴으로써 메틸올기를 알콕시화할 수 있다.
The method for obtaining the melamine formaldehyde resin as the component (B) is not particularly limited. Generally, melamine and formaldehyde are mixed and made weakly alkaline by using sodium carbonate, ammonia or the like, and then heated at 60 ° C to 100 ° C, do. The methylol group can be alkoxylated by reacting the obtained resin with an alcohol.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 중량평균분자량이 250 내지 5000인 것이 바람직하고, 300 내지 4000인 것이 보다 바람직하고, 350 내지 3500인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 5000을 초과하여 너무 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 250 미만으로 너무 작으면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성의 향상효과가 충분히 나타나지 않는 경우가 있다.
The melamine formaldehyde resin as the component (B) preferably has a weight average molecular weight of 250 to 5000, more preferably 300 to 4000, and still more preferably 350 to 3500. If the weight-average molecular weight is more than 5000, the solubility in the solvent is lowered and the handling property is lowered. On the other hand, if the weight-average molecular weight is less than 250, the curing becomes insufficient at the time of thermosetting, There is a case that the improvement effect of the above-mentioned problem is not sufficiently exhibited.

본 발명의 실시형태에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는 액체형태로, 혹은 정제한 액체를 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.
In the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin as the component (B) may be used in liquid form or in the form of a solution in which the purified liquid is redissolved in a solvent described later.

또한, 본 발명의 실시형태에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 복수종의 (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지의 혼합물일 수도 있다.
In the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin as the component (B) may be a mixture of plural kinds of the melamine formaldehyde resin as the component (B).

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 페놀노볼락 수지로는, 예를 들어, 페놀-포름알데히드 중축합물 등을 들 수 있다.
Examples of the phenol novolak resin which is one preferred specific polymer of component (B) include phenol-formaldehyde polycondensate and the like.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분의 폴리머는, 분체형태로, 또는 정제한 분말을 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.
In the cured film forming composition of the present embodiment, the polymer of component (B) may be used in the form of a powder, or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent to be described later.

또한, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분은, (B)성분으로서 예시된 폴리머의 복수종의 혼합물일 수도 있다.
Further, in the cured film-forming composition of the present embodiment, the component (B) may be a mixture of plural kinds of the polymers exemplified as the component (B).

이상과 같이, 본 발명의 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물, (B)하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머를 함유하여 구성된다. (A)성분인 화합물에 있어서, 광배향성기는 소수성의 광반응부를 구성하고, 하이드록시기는 친수성의 열반응부를 구성한다. (B)성분의 폴리머는, 상기 서술한 바와 같이 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는다.
As described above, the cured film forming composition of the present embodiment of the present invention comprises (A) a compound having a photo-aligning group and a hydroxyl group, and (B) a polymer having at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group. In the compound as the component (A), the photo-aligning group constitutes a photoreactive portion having a hydrophobic property, and the hydroxy group constitutes a thermally reactive portion having a hydrophilic property. The polymer of the component (B) has at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group as described above.

따라서, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로 형성되는 경화막은, 막 구조가 안정화되도록, (B)성분의 성질에 기인하여, 그 내부가, 친수성이 되어 형성된다. 그리고, 경화막 중의 (A)성분의 화합물은, 경화막의 표면 근방에 편재하게 된다. 보다 구체적으로는, (A)성분의 화합물은, 친수성의 열반응부가 경화막의 내부측을 향하고, 소수성의 광반응부가 표면측을 향하는 구조를 취하면서, 경화막의 표면 근방에 편재한다. 그 결과, 본 실시형태의 경화막은, 표면 근방에 존재하는 (A)성분의 광반응성기의 비율을 증가시킨 구조를 실현하게 된다. 그리고, 본 실시형태의 경화막은, 배향재로서 이용된 경우, 광배향을 위한 광반응의 효율을 향상시킬 수 있어, 우수한 배향감도를 가질 수 있다. 나아가, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은 패턴화 위상차재의 형성에 호적한 배향재가 되고, 이 경화막 형성 조성물을 이용하여 제조되는 패턴화 위상차재는, 우수한 패턴형성성을 가질 수 있다.
Therefore, the cured film formed from the cured film-forming composition of the present embodiment is formed so that the inside thereof becomes hydrophilic due to the nature of the component (B) so that the film structure is stabilized. The compound of component (A) in the cured film is localized near the surface of the cured film. More specifically, the compound of component (A) is localized in the vicinity of the surface of the cured film while taking the structure in which the hydrophilic thermoreaction part faces the inside of the cured film and the hydrophobic light reaction part faces the surface side. As a result, the cured film of the present embodiment realizes a structure in which the ratio of the photoreactive group of the component (A) present near the surface is increased. When the cured film of the present embodiment is used as an alignment material, it is possible to improve the efficiency of light reaction for photo alignment and have excellent alignment sensitivity. Further, the cured film-forming composition of the present embodiment becomes an alignment material favorable for the formation of the patterned retardation material, and the patterned retardation material produced by using the cured film-forming composition can have excellent pattern forming property.

또한, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (D)성분으로서, 가교제를 함유할 수 있다. 이에 따라, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어진 경화막의 내부에서는, (A)성분의 화합물의 광배향성기에 의한 광반응 전에, (D)가교제를 이용한 열반응에 의한 가교반응을 행할 수 있다. 그 결과, 이 경화막이 배향재로서 이용된 경우에, 그 배향재 상에 도포되는 중합성 액정이나 그 용제에 대한 내성을 향상시킬 수 있다.
Further, as described above, the cured film forming composition of the present embodiment may contain a crosslinking agent as the component (D). Thus, in the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment, the crosslinking reaction by the thermal reaction using (D) the crosslinking agent can be performed before the light reaction by the photo-orientable group of the compound of the component (A). As a result, when the cured film is used as an alignment material, the resistance to the polymerizable liquid crystal applied on the alignment material and the solvent thereof can be improved.

그리고, 본 발명의 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분 및 (B)성분과 함께, (C)성분으로서, (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. (C)성분인 화합물은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 배향재로서 이용한 경우에, 그 위에 형성되는 경화된 중합성 액정의 층 사이의 밀착성을 강화하도록 기능한다. 다음에, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (C)성분에 대하여 설명한다.
The cured film-forming composition of the present embodiment of the present invention may further contain, as the component (C), a component having a hydroxyl group and a (meth) acrylic group other than the component (A) &Lt; / RTI &gt; The compound (C) functions to enhance the adhesion between the layers of the cured polymerizable liquid crystal formed thereon when the cured film obtained from the cured film forming composition of the present embodiment is used as an alignment material. Next, the component (C) contained in the cured film forming composition of the present embodiment will be described.

[(C)성분][Component (C)] [

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (C)성분은, (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물이다.
The component (C) contained in the cured film-forming composition of the present embodiment is a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group other than the component (A).

(C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기, 및, 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것이 바람직하다.
The compound of component (C) preferably has at least one hydroxyl group and at least one (meth) acryl group.

(C)성분을 함유하는 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로 형성되는 경화막을 배향재로서 이용하는 경우, 배향재와 중합성 액정의 층의 밀착성이 향상되도록, 중합성 액정의 중합성 관능기와 배향재의 가교반응부위를 공유결합에 의해 링크시킬 수 있다. 그 결과, 본 실시형태의 배향재 상에 경화된 중합성 액정을 적층하여 이루어지는 본 실시형태의 위상차재는, 고온고습의 조건하에서도, 강한 밀착성을 유지할 수 있고, 박리 등에 대한 높은 내구성을 나타낼 수 있다.
When the cured film formed from the cured film-forming composition of the present embodiment containing the component (C) is used as an alignment material, the polymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal and the alignment material Linking reaction sites can be linked by covalent bonds. As a result, the retarder of the present embodiment, which is formed by laminating the cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of the present embodiment, can maintain strong adhesion even under high temperature and high humidity conditions and exhibit high durability against peeling and the like .

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 내지 40질량부이고, 더욱 바람직하게는 5질량부 내지 35질량부이다. (C)성분의 함유량을 0.1질량부 이상으로 함으로써, 형성되는 경화막에 충분한 밀착성을 부여할 수 있다. 그러나, 40질량부보다 많은 경우, 경화막 형성 조성물의 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the component (C) in the cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is preferably from 0.1 part by mass to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the compound (A) Mass part, and more preferably 5 mass parts to 35 mass parts. When the content of the component (C) is 0.1 parts by mass or more, sufficient adhesion can be imparted to the cured film to be formed. However, if it is more than 40 parts by mass, the storage stability of the cured film-forming composition may be deteriorated.

또한, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (C)성분은, (C)성분의 화합물의 복수종의 혼합물일 수도 있다.
In the cured film forming composition of the present embodiment, the component (C) may be a mixture of a plurality of compounds of the component (C).

이하에, (C)성분의 화합물의 바람직한 예를 든다. 한편, (C)성분의 화합물은, 이하의 화합물 예로 한정되는 것은 아니다.
Preferable examples of the compound of component (C) are given below. On the other hand, the compound of component (C) is not limited to the following compound examples.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(상기 식 중, R11은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 내지 10의 정수를 나타낸다.)
(Wherein R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents an integer of 1 to 10.)

[(D)성분][Component (D)] [

본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (D)성분으로서, 가교제를 함유할 수 있다.The cured film forming composition of the present embodiment may contain a crosslinking agent as the component (D).

보다 상세하게는, (D)성분은, 상기 서술한 (A)성분의 화합물, (B)성분의 폴리머 및 (C)성분의 화합물과 반응하고, 또한 (A)성분의 화합물의 승화온도보다 저온에서 반응하는 가교제이다. (D)성분의 가교제는, (A)성분의 화합물의 승화온도보다 저온에서, (A)성분인 화합물의 하이드록시기, (B)성분인 폴리머에 포함되는 하이드록시기 및/또는 카르복실기, (C)성분인 화합물의 하이드록시기와 결합한다. 그 결과, 후술하는 바와 같이, (A)성분의 화합물, (B)성분의 폴리머 및 (C)성분의 화합물과, (D)성분인 가교제가 열반응할 때에, (A)성분의 화합물이 승화되는 것을 억제할 수 있다. 그리고, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 경화막으로서, 상기 서술한 바와 같이, 광반응 효율이 높은 배향재를 형성할 수 있다.
More specifically, the component (D) reacts with the above-described compound of the component (A), the polymer of the component (B) and the compound of the component (C) Lt; / RTI &gt; The cross-linking agent of the component (D) can be obtained by reacting a hydroxyl group of the compound (A), a hydroxyl group and / or a carboxyl group contained in the polymer (B) C). &Lt; / RTI &gt; As a result, when the compound of component (A), the polymer of component (B) and the compound of component (C) are thermally reacted with the crosslinking agent as component (D), the compound of component (A) Can be suppressed. The cured film forming composition of the present embodiment can form an oriented material having a high photoreaction efficiency as described above as a cured film.

그리고, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (D)성분의 가교제는, 친수성인 것이 바람직하다. 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 이용하여 경화막을 형성할 때에, 막 중에 (D)성분의 가교제를 호적하게 분산시키기 위함이다.In the cured film forming composition of the present embodiment, it is preferable that the crosslinking agent of the component (D) is hydrophilic. (D) is preferably dispersed in the film when the cured film is formed using the cured film forming composition of the present embodiment.

(D)성분인 가교제로는, 에폭시 화합물, 메틸올 화합물 및 이소시아네이트 화합물 등의 화합물을 들 수 있는데, 바람직하게는 메틸올 화합물이다.
Examples of the crosslinking agent as the component (D) include compounds such as epoxy compounds, methylol compounds and isocyanate compounds, preferably methylol compounds.

상기 서술한 메틸올 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 알콕시메틸화글리콜우릴, 알콕시메틸화벤조구아나민 및 알콕시메틸화멜라민 등의 화합물을 들 수 있다.
Specific examples of the methylol compounds described above include, for example, compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.

상기 서술한 알콕시메틸화글리콜우릴의 구체예로는, 예를 들어, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(하이드록시메틸)글리콜우릴, 1,3-비스(하이드록시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(부톡시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(메톡시메틸)요소, 1,3-비스(하이드록시메틸)-4,5-디하이드록시-2-이미다졸리논, 및 1,3-비스(메톡시메틸)-4,5-디메톡시-2-이미다졸리논 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제 글리콜우릴 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 1170, POWDERLINK(등록상표) 1174) 등의 화합물, 메틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 65), 부틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Corporation제 요소/포름알데히드계 수지(고축합형, 상품명: BECKMINE(등록상표) J-300S, 동(同) P-955, 동 N) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the above-mentioned alkoxymethylated glycoluril include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) Tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3- Methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone, and the like. As a commercial product, a compound such as a glycoluril compound (trade name: CYMEL (registered trademark) 1170, POWDERLINK (registered trademark) 1174) manufactured by Mitsui Cytec Ltd., a methylation urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 65) (Trade name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Corporation urea / formaldehyde resin (high condensation type, trade name: BECKMINE (registered trademark) P-955, N), and the like.

상기 서술한 알콕시메틸화벤조구아나민의 구체예로는, 예를 들어, 테트라메톡시메틸벤조구아나민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제(상품명: CYMEL(등록상표) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd.제(상품명: NIKALAC(등록상표) BX-4000, 동 BX-37, 동 BL-60, 동 BX-55H) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the above-mentioned alkoxymethylated benzoguanamine include, for example, tetramethoxymethylbenzoguanamine. CYMEL (registered trademark) 1123 manufactured by Mitsui Cytec Ltd., NIKALAC (registered trademark) BX-4000, BX-37 manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., BL- BX-55H).

상기 서술한 알콕시메틸화멜라민의 구체예로는, 예를 들어, 헥사메톡시메틸멜라민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제 메톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 300, 동 301, 동 303, 동 350), 부톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: MYCOAT(등록상표) 506, 동 508), Sanwa Chemical Co., Ltd.제 메톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MW-30, 동 MW-22, 동 MW-11, 동 MS-001, 동 MX-002, 동 MX-730, 동 MX-750, 동 MX-035), 부톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MX-45, 동 MX-410, 동 MX-302) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated melamine described above include, for example, hexamethoxymethylmelamine and the like. As a commercial product, a methoxymethyl type melamine compound (trade name: CYMEL (registered trademark) 300, copper 301, copper 303, copper 350) manufactured by Mitsui Cytec Ltd., a butoxymethyl type melamine compound (trade name: MYCOAT 506, 508), a methoxymethyl type melamine compound (trade name: NIKALAC (registered trademark) MW-30, copper MW-22, copper MW-11, copper MS-001, copper MX- (Trade name: NIKALAC (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302) and the like can be given as examples of the MX-730, MX-750 and MX-035.

또한, 이러한 아미노기의 수소원자가 메틸올기 또는 알콕시메틸기로 치환된 멜라민 화합물, 요소 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 벤조구아나민 화합물을 축합시켜 얻어지는 화합물일 수도 있다. 예를 들어, 미국특허 제6323310호에 기재되어 있는 멜라민 화합물 및 벤조구아나민 화합물로부터 제조되는 고분자량의 화합물을 들 수 있다. 상기 멜라민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 303(Mitsui Cytec Ltd.제) 등을 들 수 있고, 상기 벤조구아나민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 1123(Mitsui Cytec Ltd.제) 등을 들 수 있다.
A compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, a high molecular weight compound prepared from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in U.S. Patent 6,323,310 can be mentioned. CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Ltd.) and the like can be used as a commercially available product of the above-mentioned melamine compound. Commercially available products of the above benzoguanamine compound include CYMEL (registered trademark) 1123 Ltd.).

나아가, (D)성분으로는, N-하이드록시메틸아크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드 및 N-부톡시메틸메타크릴아미드 등의 하이드록시메틸기 또는 알콕시메틸기로 치환된 아크릴아미드 화합물 또는 메타크릴아미드 화합물을 사용하여 제조되는 폴리머도 이용할 수 있다.
Further, as the component (D), a hydroxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide and N-butoxymethylmethacrylamide, or an alkoxymethyl group Or a polymer prepared by using a methacrylamide compound may also be used.

상기 폴리머로는, 예를 들어, 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드), N-부톡시메틸아크릴아미드와 스티렌의 공중합체, N-하이드록시메틸메타크릴아미드와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, N-에톡시메틸메타크릴아미드와 벤질메타크릴레이트의 공중합체, 및, N-부톡시메틸아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트와 2-하이드록시프로필메타크릴레이트의 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 폴리머의 중량평균분자량은, 1000 내지 500000이고, 바람직하게는, 2000 내지 200000이고, 보다 바람직하게는 3000 내지 150000이고, 더욱 바람직하게는 3000 내지 50000이다.
Examples of the polymer include poly (N-butoxymethylacrylamide), copolymers of N-butoxymethylacrylamide and styrene, copolymers of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, A copolymer of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzylmethacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and benzylmethacrylate and 2-hydroxypropylmethacrylate. The weight average molecular weight of such a polymer is 1000 to 500000, preferably 2000 to 200000, more preferably 3000 to 150000, and still more preferably 3000 to 50000.

이들 가교제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (D)성분의 가교제의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 기초하여 10질량부 내지 100질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15질량부 내지 80질량부이다. 가교제의 함유량이 10질량부보다 너무 작은 경우에는, 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성 및 내열성이 저하되고, 광배향시의 배향감도가 저하된다. 한편, 함유량이 100질량부보다 너무 큰 경우에는 광배향성 및 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the crosslinking agent in the component (D) in the cured film-forming composition of the present embodiment is preferably 10 parts by mass to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the compound (A) More preferably 15 parts by mass to 80 parts by mass. When the content of the crosslinking agent is less than 10 parts by mass, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition are lowered, and the orientation sensitivity at the time of light decentration is lowered. On the other hand, when the content is more than 100 parts by mass, the photoalignment property and storage stability may be deteriorated.

[(E)성분][Component (E)] [

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 (A)성분, (B)성분 및 (C)성분에 더하여, 상기 서술한 (D)성분을 함유할 수 있고, 추가로, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다.The cured film-forming composition of the present embodiment may contain the above-mentioned component (D) in addition to the components (A), (B) and (C) And may contain a crosslinking catalyst as a component.

(E)성분인 가교촉매로는, 예를 들어, 산 또는 열산발생제로 할 수 있다. 이 (E)성분은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물을 이용한 경화막의 형성에 있어서, 열경화 반응의 촉진에 유효해진다.
The crosslinking catalyst as the component (E) may be, for example, an acid or a thermal acid generator. This component (E) is effective for promoting the thermosetting reaction in the formation of the cured film using the cured film-forming composition of the present embodiment.

(E)성분으로서 산 또는 열산발생제를 이용하는 경우, (E)성분은, 설폰산기 함유 화합물, 염산 또는 그 염, 프리베이크 또는 포스트베이크시에 열분해되어 산을 발생하는 화합물, 즉 온도 80℃ 내지 250℃에서 열분해되어 산을 발생하는 화합물이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.
When an acid or a thermal acid generator is used as the component (E), the component (E) is a compound which is thermally decomposed at a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, prebake or postbake to generate an acid, It is not particularly limited as long as it is a compound which pyrolyzes at 250 DEG C to generate an acid.

이러한 화합물로는, 예를 들어, 염산, 메탄설폰산, 에탄설폰산, 프로판설폰산, 부탄설폰산, 펜탄설폰산, 옥탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 캠퍼설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, p-페놀설폰산, 2-나프탈렌설폰산, 메시틸렌설폰산, p-자일렌-2-설폰산, m-자일렌-2-설폰산, 4-에틸벤젠설폰산, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥탄설폰산, 퍼플루오로(2-에톡시에탄)설폰산, 펜타플루오로에탄설폰산, 노나플루오로부탄-1-설폰산, 도데실벤젠설폰산 등의 설폰산 또는 그의 수화물이나 염 등을 들 수 있다.
Such compounds include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p- toluenesulfonic acid, P-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, But are not limited to, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane- Or a hydrate thereof or a salt thereof.

또한, 열에 의해 산을 발생하는 화합물로는, 예를 들어, 비스(토실옥시)에탄, 비스(토실옥시)프로판, 비스(토실옥시)부탄, p-니트로벤질토실레이트, o-니트로벤질토실레이트, 1,2,3-페닐렌트리스(메틸설포네이트), p-톨루엔설폰산피리디늄염, p-톨루엔설폰산모폴리늄염, p-톨루엔설폰산에틸에스테르, p-톨루엔설폰산프로필에스테르, p-톨루엔설폰산부틸에스테르, p-톨루엔설폰산이소부틸에스테르, p-톨루엔설폰산메틸에스테르, p-톨루엔설폰산페네틸에스테르, 시아노메틸p-톨루엔설포네이트, 2,2,2-트리플루오로에틸p-톨루엔설포네이트, 2-하이드록시부틸p-토실레이트, N-에틸-4-톨루엔설폰아미드, 및 하기 식[PAG-1] 내지 식[PAG-41]으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Examples of the compound capable of generating an acid upon exposure to heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, P-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, Toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenetyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p-tosylate, N-ethyl-4-toluenesulfonamide and compounds represented by the following formulas [PAG-1] to [PAG-41] .

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006

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[화학식 7](7)

Figure pct00007

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[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008

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[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009

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[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010

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[화학식 11](11)

Figure pct00011

Figure pct00011

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pct00012

Figure pct00012

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (E)성분의 가교촉매의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01질량부 내지 10질량부, 보다 바람직하게는 0.05질량부 내지 8질량부, 더욱 바람직하게는 0.1질량부 내지 6질량부이다. (E)성분의 함유량을 0.01질량부 이상으로 함으로써, 본 발명의 실시형태의 경화막에 충분한 열경화성과 용제내성을 부여할 수 있고, 노광광에 대한 높은 감도도 부여할 수 있다. 또한, (E)성분의 함유량을 10질량부 이하로 함으로써, 경화막 형성 조성물의 보존안정성을 양호하게 할 수 있다.
The content of the crosslinking catalyst of the component (E) in the cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is preferably 0.01 mass% or more based on 100 parts by mass of the total amount of the compound (A) To 10 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass to 8 parts by mass, still more preferably 0.1 parts by mass to 6 parts by mass. When the content of the component (E) is 0.01 part by mass or more, sufficient curability of the cured film of the embodiment of the present invention can be imparted with sufficient thermosetting property and solvent resistance, and high sensitivity to exposure light can be obtained. When the content of the component (E) is 10 parts by mass or less, the storage stability of the cured film-forming composition can be improved.

[기타 첨가제][Other additives]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.The cured film forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives as long as the effect of the present invention is not impaired.

기타 첨가제로는, 예를 들어, 증감제를 함유할 수 있다. 증감제는, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 본 발명의 실시형태의 경화막을 형성할 때에, 그 광반응을 촉진시키는데 있어서 유효해진다.
Other additives may include, for example, sensitizers. The sensitizer is effective in promoting the photoreaction when the cured film of the embodiment of the present invention is formed from the cured film forming composition of the present embodiment.

증감제로는, 벤조페논, 안트라센, 안트라퀴논 및 티옥산톤 등의 유도체 그리고 니트로페닐 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중 벤조페논의 유도체인 N,N-디에틸아미노벤조페논 그리고 니트로페닐 화합물인 2-니트로플루오렌, 2-니트로플루오레논, 5-니트로아세나프텐, 4-니트로비페닐, 4-니트로계피산, 4-니트로스틸벤, 4-니트로벤조페논 및 5-니트로인돌이 특히 바람직하다.
Examples of the sensitizer include derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone and thioxanthone, and nitrophenyl compounds. Among these, N, N-diethylaminobenzophenone, which is a benzophenone derivative, and nitrophenyl compounds such as 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroasenaphthene, 4-nitrobiphenyl, Nitrostevanone, 4-nitrobenzophenone and 5-nitroindole are particularly preferred.

이들 증감제는 특별히 상기 서술한 것으로 한정되는 것은 아니다. 이들은, 단독 또는 2종 이상의 화합물을 병용하는 것이 가능하다.
These sensitizers are not particularly limited to those described above. These can be used alone or in combination of two or more compounds.

본 발명의 실시형태에 있어서, 증감제의 사용비율은, (A)성분의 100질량부에 대하여 0.1질량부 내지 20질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2질량부 내지 10질량부이다. 이 비율이 너무 작은 경우에는, 증감제로서의 효과가 충분히 얻어지지 않는 경우가 있으며, 이 비율이 너무 큰 경우에는, 형성되는 경화막의 투과율이 저하되거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In the embodiment of the present invention, the use ratio of the sensitizer is preferably 0.1 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably 0.2 parts by mass to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A). When the ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be sufficiently obtained. When the ratio is too large, the transmittance of the cured film to be formed may be lowered or the coating film may be roughened.

또한, 본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제로서, 실란 커플링제, 계면활성제, 레올로지 조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention may contain, as other additives, a silane coupling agent, a surfactant, a rheology modifier, a pigment, a dye, a storage stabilizer, a defoaming agent, And the like.

[용제][solvent]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 용제에 용해된 용액상태로 이용되는 경우가 많다. 이때 이용되는 용제는, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분, (E)성분, 및/또는, 기타 첨가제를 용해하는 것이며, 이러한 용해능을 갖는 용제이면, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되지 않는다.
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is often used in the form of a solution dissolved in a solvent. The solvent used herein is one which dissolves the component (A), the component (B) and the component (C), and optionally the component (D), the component (E) and / or other additives. If it is a solvent, its type and structure are not particularly limited.

용제의 구체예를 들면, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-부타논, 3-메틸-2-펜타논, 2-펜타논, 2-헵타논, γ-부티로락톤, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
Specific examples of the solvent include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene Propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl- Hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxy-2-hydroxypropionate, Methyl 3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, There may be mentioned ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, lactic acid butyl, N, N- dimethylformamide, N, N- dimethylacetamide and N- methylpyrrolidone.

이들 용제는, 1종 단독으로, 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. 이들 용제 중, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 2-헵타논, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 유산에틸, 유산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-에톡시프로피온산메틸은 성막성이 양호하고 안전성이 높으므로 보다 바람직하다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more. Of these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, Ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate are more preferred because of good film forming properties and high safety.

<경화막 형성 조성물의 조제>&Lt; Preparation of cured film forming composition >

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 광배향성을 갖는 열경화성의 경화막 형성 조성물이다. 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (A)성분인 저분자 배향성분, (B)성분인 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C)성분인 (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. 나아가, (D)성분으로서 가교제를 함유할 수 있고, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 그리고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있고, 추가로, 용제를 함유할 수 있다.
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is a thermosetting cured film-forming composition having photo-alignment property. As described above, the cured film-forming composition of the present embodiment comprises a polymer having at least one of a low-molecular-orientation component (A), a hydroxyl group and a carboxyl group as the component (B) (A), a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group. Furthermore, a crosslinking agent may be contained as the component (D), and a crosslinking catalyst may be contained as the component (E). As long as the effect of the present invention is not impaired, other additives may be contained, and further, a solvent may be contained.

(A)성분과 (B)성분의 배합비는, 질량비로 5:95 내지 60:40이 바람직하다. (B)성분의 함유량이 너무 큰 경우에는 액정배향성이 저하되기 쉽고, 너무 작은 경우에는 용제내성이 저하됨에 따라 배향성이 저하되기 쉽다.
The blending ratio of the component (A) and the component (B) is preferably from 5:95 to 60:40 by mass ratio. When the content of the component (B) is too large, the liquid crystal alignability tends to deteriorate. When the content of the component (B) is too small, the solvent resistance tends to decrease.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.
Preferred examples of the cured film forming composition of the present embodiment are as follows.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
(1): 0.1 part by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B), in a mass ratio of 5:95 to 60:40, By mass of the component (C).

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
(1): 0.1 part by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B), in a mass ratio of 5:95 to 60:40, A component (C) in a mass part, and a solvent.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 10질량부 내지 100질량부의 (D)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
(1): 0.1 part by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B), in a mass ratio of 5:95 to 60:40, (C), 10 parts by mass to 100 parts by mass of component (D), and a solvent.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 10질량부 내지 100질량부의 (D)성분, 0.01질량부 내지 10질량부의 (E)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
(1): 0.1 part by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B), in a mass ratio of 5:95 to 60:40, (C), 10 to 100 parts by mass of component (D), 0.01 to 10 parts by mass of component (E), and a solvent.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 용액으로 이용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상세히 서술한다.The mixing ratio, preparation method and the like when the cured film forming composition of the present embodiment is used as a solution will be described in detail below.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되지 않으나, 1질량% 내지 80질량%이고, 바람직하게는 3질량% 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 5질량% 내지 40질량%이다. 여기서, 고형분이란, 경화막 형성 조성물의 전체성분에서 용제를 제외한 것을 말한다.
The proportion of the solid content in the cured film-forming composition of the present embodiment is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in a solvent, but it is preferably 1% by mass to 80% by mass, and more preferably 3% Mass%, and more preferably 5 mass% to 40 mass%. Here, the solid content refers to the solvent excluding the entire components of the cured film forming composition.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제방법으로는, 예를 들어, (B)성분을 용제에 용해하여 얻은 용액에, (A)성분 및 (C)성분, 더 나아가 (D)성분, (E)성분을 소정의 비율로 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법, 또는, 이 조제방법의 적당한 단계에서, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
The method of preparing the cured film forming composition of the present embodiment is not particularly limited. As the preparation method, for example, the component (A) and the component (C), further the components (D) and (E) are mixed at a predetermined ratio into a solution obtained by dissolving the component (B) , A method of making a homogeneous solution, or a method in which other additives are added and mixed at an appropriate stage of the preparation method, if necessary.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 조제에 있어서는, 용제 중의 중합반응에 의해 얻어지는 특정 공중합체의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머 중 적어도 하나와, 카르복실기를 갖는 모노머 및 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머 중 적어도 하나를 공중합시켜 얻어지는 (B)성분의 용액에, 상기 서술한 것과 동일하게 (A)성분 및 (C)성분, 더 나아가, (D)성분, (E)성분 등을 첨가하여 균일한 용액으로 한다. 이때, 농도조정을 목적으로 추가로 용제를 추가투입할 수도 있다. 이때, (B)성분의 생성과정에서 이용되는 용제와, 경화막 형성 조성물의 농도조정에 이용되는 용제는 동일할 수도 있고, 또한 상이할 수도 있다.
In the preparation of the cured film-forming composition of the present embodiment, the solution of the specific copolymer obtained by the polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, for example, at least one of a monomer having a carboxyl group and a monomer having a phenolic hydroxy group is copolymerized with at least one of a monomer having a polyethylene glycol ester group and a monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms To the obtained solution of the component (B), a component (A) and a component (C), and further the component (D) and the component (E) are added in the same manner as described above to obtain a homogeneous solution. At this time, additional solvent may be added for the purpose of concentration adjustment. At this time, the solvent used in the production of the component (B) may be the same as or different from the solvent used for adjusting the concentration of the cured film forming composition.

또한, 조제된 경화막 형성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.2μm 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 사용하는 것이 바람직하다.
The solution of the prepared cured film-forming composition is preferably filtered after using a filter having a pore diameter of about 0.2 탆 or the like.

<경화막, 배향재 및 위상차재><Cured film, alignment material and retardation material>

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 용액을 기판(예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리기판, 석영기판, ITO기판 등)이나 필름(예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 시클로올레핀폴리머 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에, 바코트, 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이은 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등에 의해 도포하여 도막을 형성하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등에서 가열건조함으로써, 경화막을 형성할 수 있다.
The solution of the cured film-forming composition of the present embodiment may be applied to a substrate (e.g., a substrate coated with a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, A spin coating, a spin coating, a spin coating, a spin coating, a spin coating, a spin coating, a spin coating, or a spin coating) on a film (e.g., a quartz substrate, an ITO substrate, etc.) The cured film can be formed by applying a coating solution, a roll coating, a slit coating, a rotary coating followed by a slit, an inkjet coating, printing or the like to form a coating film and then heating and drying in a hot plate or oven.

가열건조의 조건으로는, 경화막으로부터 형성되는 배향재의 성분이, 그 위에 도포되는 중합성 액정용액에 용출되지 않을 정도로 경화 반응이 진행되면 되는데, 예를 들어, 온도 60℃ 내지 200℃, 시간 0.4분간 내지 60분간의 범위 내에서 적당히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은, 바람직하게는 70℃ 내지 160℃, 0.5분간 내지 10분간이다.
As the conditions of the heating and drying, the curing reaction proceeds so that the component of the alignment material formed from the cured film does not dissolve in the polymerizable liquid crystal solution applied thereon. For example, the curing reaction may be performed at a temperature of 60 to 200 deg. The heating temperature and heating time appropriately selected within the range of from 60 minutes to 60 minutes are employed. The heating temperature and the heating time are preferably 70 to 160 DEG C for 0.5 to 10 minutes.

본 실시의 형태의 경화성 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 막두께는, 예를 들어, 0.05μm 내지 5μm이고, 사용하는 기판의 단차 그리고 광학적 및 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.
The thickness of the cured film formed using the curable composition of the present embodiment is, for example, 0.05 to 5 占 퐉, and can be appropriately selected in consideration of the step difference and the optical and electrical properties of the substrate to be used.

이렇게 하여 형성된 경화막은, 편광 UV 조사를 행함으로써 배향재, 즉, 중합성 액정 등을 포함하는 액정성을 갖는 화합물을 배향시키는 부재로서 기능시킬 수 있다.
The cured film thus formed can function as a member for orienting an alignment material, that is, a liquid crystalline compound including a polymerizable liquid crystal, by performing polarized UV irradiation.

편광 UV의 조사방법으로는, 통상 150nm 내지 450nm의 파장의 자외광 내지 가시광이 이용되는데, 실온 또는 가열한 상태에서, 수직 또는 경사방향에서부터 직선편광을 조사함으로써 행해진다.
As a method of irradiating polarized UV, ultraviolet light or visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, and is performed by irradiating linearly polarized light from the vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.

본 실시형태의 경화막 조성물로 형성된 배향재는 내용제성 및 내열성을 갖고 있기 때문에, 이 배향재 상에, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차재료를 도포한 후, 그 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 하고, 배향재 상에서 배향시킨다. 그리고, 원하는 배향상태가 된 위상차재료를 그대로 경화시켜, 광학이방성을 갖는 층을 갖는 위상차재를 형성할 수 있다.
Since the alignment material formed from the curable film composition of the present embodiment has solvent resistance and heat resistance, the retardation material made of the polymerizable liquid crystal solution is coated on the alignment material, and then heated to the phase transition temperature of the liquid crystal, The liquid crystal state is obtained and aligned on the alignment material. Then, the retardation material having the optically anisotropic layer can be formed by directly curing the retardation material in the desired alignment state.

위상차재료로는, 예를 들어, 중합성기를 갖는 액정 모노머 및 이를 함유하는 조성물 등이 이용된다. 그리고, 배향재가 형성되는 기판이 필름인 경우에는, 본 실시의 형태의 위상차재를 갖는 필름은, 위상차필름으로서 유용해진다. 이러한 위상차재를 형성하는 위상차재료로는, 액정상태가 되어, 배향재 상에서, 수평 배향, 콜레스테릭 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향 등의 배향상태를 취하는 것이 있으며, 각각의 위상차재료는 필요시되는 위상차 특성에 따라 구분하여 사용할 수 있다.
As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the liquid crystal monomer are used. When the substrate on which the alignment material is formed is a film, the film having the retardation film of the present embodiment is useful as a retardation film. The retardation material forming such a retardation material is in a liquid crystal state and has an alignment state such as a horizontal alignment, a cholesteric alignment, a vertical alignment and a hybrid alignment on the alignment material. It can be used in accordance with the phase difference characteristic.

또한, 3D 디스플레이에 이용되는 패턴화 위상차재를 제조하는 경우에는, 본 실시형태의 경화막 조성물로부터 상기한 방법으로 형성된 경화막에, 라인앤스페이스 패턴의 마스크를 개재하여 소정의 기준으로부터, 예를 들어, +45도의 방향으로 편광 UV노광하고, 이어서, 마스크를 분리하고 나서 -45도의 방향으로 편광 UV를 노광하여, 액정의 배향 제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재를 형성한다. 그 후, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차재료를 도포한 후, 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 한다. 액정상태가 된 중합성 액정은, 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재 상에서 배향하고, 각 액정배향영역에 각각 대응하는 배향상태를 형성한다. 그리고, 이러한 배향상태가 실현된 위상차재료를 그대로 경화시켜, 상기 서술한 배향상태를 고정화하여, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치된, 패턴화 위상차재를 얻을 수 있다.
In the case of producing a patterned retardation material for use in a 3D display, a cured film formed by the above-described method from the cured film composition of the present embodiment is subjected to a patterning process using a line- Polarized UV exposure is performed in the direction of +45 degrees and then the mask is separated and then the polarized UV is exposed in the direction of -45 degrees to form an alignment material having two kinds of liquid crystal alignment regions in which alignment control directions of liquid crystals are different . Thereafter, the retardation material made of the polymerizable liquid crystal solution is coated, and then heated to the phase transition temperature of the liquid crystal to bring the retardation material into a liquid crystal state. The polymerizable liquid crystal in a liquid crystal state is oriented on an alignment material having two kinds of liquid crystal alignment regions, and forms an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region. Then, the retardation material realizing this alignment state is intact, and the above-described alignment state is fixed, whereby a patterned retardation material in which a plurality of two kinds of retardation regions having different retardation characteristics are arranged in a regular manner can be obtained .

또한, 본 실시형태의 경화막 조성물로 형성된 배향재는, 액정표시소자의 액정배향막으로서의 이용도 가능하다. 예를 들어, 상기와 같이 하여 형성된, 본 실시형태의 배향재를 갖는 2매의 기판을 이용하여, 이들 기판을 스페이서를 개재하여 양 기판 상의 배향재가 서로 마주하도록 맞붙인 후, 이들 기판 사이에 액정을 주입하여, 액정이 배향된 액정표시소자를 제조할 수 있다.The alignment material formed from the cured film composition of the present embodiment can also be used as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element. For example, two substrates having the alignment material of the present embodiment formed as described above may be used. After aligning these substrates with the alignment members on both substrates facing each other with the spacer interposed therebetween, Whereby a liquid crystal display element in which liquid crystals are aligned can be manufactured.

이에 따라, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 각종 위상차재(위상차필름)나 액정표시소자 등의 제조에 호적하게 이용할 수 있다.
Accordingly, the cured film-forming composition of the present embodiment can be suitably used for the production of various retardation films (phase difference films) and liquid crystal display elements.

실시예Example

이하, 실시예를 들어, 본 실시의 형태를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은, 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[실시예 등에서 이용하는 조성성분과 그 약칭][Composition components used in Examples and the like]

이하의 실시예 및 비교예에서 이용되는 각 조성성분은, 다음과 같다.The composition components used in the following examples and comparative examples are as follows.

<광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물>&Lt; Compound having photo-orientable group and hydroxy group >

CIN1: 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르
CIN1: 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pct00013

Figure pct00013

CIN2: 3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르
CIN2: 3-Methoxy-4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014

Figure pct00014

<하이드록시기 및 카르복실기를 갖는 폴리머><Polymers Having Hydroxyl Group and Carboxyl Group>

PEPO: 폴리에스테르폴리올 중합체(하기 구조단위를 갖는 아디프산/디에틸렌글리콜 공중합체. 분자량 4,800.)
PEPO: polyester polyol polymer (adipic acid / diethylene glycol copolymer having the following structural unit, molecular weight: 4,800.)

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

(상기 식 중, R은, 알킬렌을 나타낸다.)
(Wherein R represents alkylene).

<가교제><Cross-linking agent>

HMM: 하기 구조식으로 표시되는 멜라민 가교제
HMM: melamine crosslinking agent represented by the following structural formula

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016

Figure pct00016

PBMAA: 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드)
PBMAA: poly (N-butoxymethyl acrylamide)

<가교촉매>&Lt; Crosslinking catalyst &

PTSA: 파라톨루엔설폰산
PTSA: Paratoluenesulfonic acid

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017

Figure pct00017

<하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물><Compounds Having Hydroxy Group and (meth) Acryl Group>

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-1:
Compound C-1 having a hydroxyl group and (meth) acryl group:

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pct00018

Figure pct00018

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-2:
Compound C-2 having a hydroxyl group and (meth) acrylic group:

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pct00019

Figure pct00019

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-3:
Compound C-3 having a hydroxyl group and (meth) acrylic group:

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pct00020

Figure pct00020

<용제><Solvent>

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물은 용제를 함유하고, 그 용제로서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PM-P)와 아세트산에틸(AcEt)을 이용하였다.
Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples contained a solvent, and propylene glycol monomethyl ether (PM-P) and ethyl acetate (AcEt) were used as the solvent.

<실시예 및 비교예>&Lt; Examples and Comparative Examples &

(합성예 1) CIN11의 합성(Synthesis Example 1) Synthesis of CIN11

(합성예 1-1) CIN11의 전구체 CIN11-1의 합성
(Synthesis Example 1-1) Synthesis of precursor CIN11-1 of CIN11

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pct00021

Figure pct00021

1L의 4구 플라스크에, 4-브로모-4'-하이드록시벤조페논을 80.0g, N,N-디메틸아세트아미드를 500mL, 아크릴산tert-부틸을 55.4g, 트리부틸아민을 160.2g, 아세트산팔라듐을 1.29g, 트리(o-톨릴)포스핀을 3.50g 첨가하여, 100℃로 가열하면서 교반하였다. 반응종료 후, 2L의 아세트산에틸에 반응계를 붓고, 1N-염산 수용액, 포화식염수를 이용하여 추출을 행하였다. 추출한 유기층에 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수건조하고, 무수황산마그네슘을 여과하였다. 얻어진 여액을 로터리 증발기를 이용하여 용매유거하고, 109.4g의 목적물 CIN11-1(적갈색 점체)을 얻었다. 얻어진 CIN11-1은 정제하지 않고 다음 반응에 이용하였다.
In a 1 L four-necked flask, 80.0 g of 4-bromo-4'-hydroxybenzophenone, 500 mL of N, N-dimethylacetamide, 55.4 g of tert-butyl acrylate, 160.2 g of tributylamine, , And 3.50 g of tri (o-tolyl) phosphine were added and stirred while heating to 100 캜. After completion of the reaction, the reaction system was poured into 2 L of ethyl acetate, and extraction was carried out using a 1N aqueous hydrochloric acid solution and a saturated saline solution. Anhydrous magnesium sulfate was added to the extracted organic layer, followed by dehydration drying, and anhydrous magnesium sulfate was filtered. The obtained filtrate was distilled off using a rotary evaporator to obtain 109.4 g of the target CIN11-1 (reddish brownish brown). The obtained CIN11-1 was used for the next reaction without purification.

(합성예 1-2) CIN11의 합성(Synthesis Example 1-2) Synthesis of CIN11

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pct00022

Figure pct00022

2L의 4구 플라스크에, CIN11-1을 93.4g, N,N-디메틸포름아미드를 1L, 6-클로로-1-헥산올을 39.3g, 탄산칼륨을 119.4g, 요오드화칼륨을 4.8g 첨가하여, 100℃로 가열하면서 교반하였다. 반응종료 후, 5L의 물에 반응계를 붓고, 1N-염산 수용액으로 중화를 행하고, 아세트산에틸을 이용하여 추출을 행하였다. 추출한 유기층에 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수건조하고, 무수황산마그네슘을 여과하였다. 얻어진 여액을 로터리 증발기를 이용하여 용매유거를 행하였다. 잔사를 이소프로판올/헥산=1/10을 이용하여 재결정을 행하고, CIN11(황토색 고체)을 113.8g 얻었다. 목적물인 1H-NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 고체가, 목적의 CIN11인 것을 확인하였다.In a 2 L four-necked flask, 93.4 g of CIN11-1, 1 L of N, N-dimethylformamide, 39.3 g of 6-chloro-1-hexanol, 119.4 g of potassium carbonate and 4.8 g of potassium iodide were added, And the mixture was stirred while heating to 100 캜. After completion of the reaction, a reaction system was poured into 5 L of water, neutralized with a 1N aqueous hydrochloric acid solution, and extracted with ethyl acetate. Anhydrous magnesium sulfate was added to the extracted organic layer, followed by dehydration drying, and anhydrous magnesium sulfate was filtered. The obtained filtrate was subjected to solvent distillation using a rotary evaporator. The residue was recrystallized using isopropanol / hexane = 1/10 to obtain 113.8 g of CIN11 (ocher-colored solid). The results obtained by 1 H-NMR, which is a target, are shown below. From this result, it was confirmed that the obtained solid was the target CIN11.

[화학식 23](23)

Figure pct00023

Figure pct00023

폴리머 합성예 1Polymer Synthesis Example 1

MAA 3.5g, MMA 7.0g, HEMA 7.0g, 중합개시제로서 AIBN(아조비스이소부티로니트릴) 0.5g을 PM-P 53.9g에 용해하고 75℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 25질량%)을 얻었다(P-1). 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 10,300, Mw는 24,600이었다.
7.0 g of MAA, 7.0 g of HEMA and 0.5 g of AIBN (azobisisobutyronitrile) as a polymerization initiator were dissolved in 53.9 g of PM-P and reacted at 75 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solids concentration 25 Mass%) was obtained (P-1). The obtained acrylic copolymer had Mn of 10,300 and Mw of 24,600.

<실시예 및 비교예>&Lt; Examples and Comparative Examples &

표 1에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 6 그리고 비교예 1 및 2의 각 경화막 형성 조성물을 조제하였다. 다음에, 각 경화막 형성 조성물을 이용하여, 경화막을 형성하고, 얻어진 경화막 각각에 대하여, 밀착성, 배향감도, 패턴형성성, 및 투과율의 평가를 행하였다.
Each of the cured film forming compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 was prepared with the composition shown in Table 1. Next, each of the cured film forming compositions was used to form a cured film, and each of the obtained cured films was evaluated for adhesion, orientation sensitivity, pattern forming property, and transmittance.

[표 1][Table 1]

Figure pct00024

Figure pct00024

[밀착성의 평가][Evaluation of adhesion]

실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2 조사하였다. 노광 후의 기판 상의 경화막 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 필름을 1000mJ/cm2로 노광하고, 중합성 액정을 중합시켜, 위상차재를 제작하였다. 얻어진 기판 상의 위상차재에 커터나이프를 이용하여 크로스컷(1mm×1mm×100개칸)을 넣고, 그 후, 셀로판테이프를 붙였다. 이어서, 그 셀로판테이프를 벗겨내었을 때에, 기판 상의 위상차재에서, 중합한 중합성 액정의 막이 하층의 경화막 상에서 벗겨지지 않고 남아 있는 칸(square)의 갯수를 카운트하였다. 평가결과는, (막이 벗겨지지 않고 남아 있는 칸의 수)/100의 형식으로, 표 2의 초기 란에 정리하여 나타내었다. 막이 벗겨지지 않고 남아 있는 칸이 90개 이상 남아 있는 것, 즉, 90/100 내지 100/100인 경우를 밀착성이 양호하다고 판단하였다.
Each of the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was applied on a TAC film using a bar coater and then heated and dried at 110 ° C for 120 seconds in a thermocycling oven To form a cured film. This linearly polarized light of 313nm was irradiated perpendicularly to 20mJ / cm 2 to 40mJ / cm 2 in each hardened layer. On the cured film on the substrate after exposure, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation RMS03-013C made by Merck Ltd. was applied using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 60 캜 for 60 seconds to form a film thickness Thereby forming a coating film having a thickness of 1.0 mu m. This film was exposed at 1000 mJ / cm 2 , and the polymerizable liquid crystal was polymerized to prepare a retardation film. A cross cut (1 mm x 1 mm x 100 squares) was put into the obtained retardation film on the substrate using a cutter knife, and then a cellophane tape was attached. Subsequently, when the cellophane tape was peeled off, the number of squares remaining in the phase difference material on the substrate without peeling the polymerized liquid crystal film on the cured film in the lower layer was counted. The evaluation results are summarized in the initial column of Table 2 in the form of (number of chambers remaining without peeling the film) / 100. It was judged that the film had a good adhesion when 90 or more of the remaining cells remained without being peeled off, that is, 90/100 to 100/100.

[내구밀착성의 평가][Evaluation of Durability of Adhesion]

상기 서술한 밀착성의 평가와 동일한 방법으로 TAC 필름 상에 위상차재를, 온도 80℃, 습도 90%로 설정된 오븐에 넣고, 24시간 이상 정치하였다. 그 후, 위상차재를 꺼내고, 상기 서술한 밀착성의 평가와 동일한 방법으로, 밀착성을 평가하였다. 평가결과는, 밀착내구성으로서, 표 2에 정리하여 나타내었다.
The retardation material was placed in an oven set at a temperature of 80 DEG C and a humidity of 90% on the TAC film in the same manner as in the evaluation of the above-described adhesion, and the film was allowed to stand for 24 hours or longer. Thereafter, the retardation material was taken out, and the adhesion property was evaluated in the same manner as the above-described evaluation of the adhesion. The evaluation results are summarized in Table 2 as adhesion durability.

[배향감도의 평가(실시예 1 내지 실시예 5)][Evaluation of alignment sensitivity (Examples 1 to 5)] [

실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 알칼리유리 상에 스핀코터를 이용하여 2000rpm으로 30초간 회전도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 조사하여, 배향재를 형성하였다. 기판 상의 배향재 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 1000mJ/cm2로 노광하고, 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 위상차재를 한쌍의 편광판으로 끼우고, 위상차재에 있어서의 위상차 특성의 발현상황을 관찰하여, 배향재가 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량을 배향감도로 하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다. 실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 이용하여 형성된 배향재는, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.
Each of the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was spin-coated on alkali glass at 2000 rpm for 30 seconds using a spin coater, Followed by heating and drying in an oven to form a cured film. The linearly polarized light of 313 nm was vertically irradiated to each of the cured films to form an alignment material. On the alignment material on the substrate, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation RMS03-013C made by Merck Ltd. was applied using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 60 DEG C for 60 seconds to form a film having a thickness of 1.0 mu m Was formed. The coating film on the substrate was exposed at 1000 mJ / cm 2 to prepare a retardation film. The produced retardation on the substrate was sandwiched by a pair of polarizing plates and the state of occurrence of the retardation characteristic in the retardation was observed to determine the alignment sensitivity as the exposure amount of the polarized UV required for the orientation material to exhibit liquid crystal alignability. The evaluation results are summarized in Table 2 below. The alignment material formed using each of the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 had a low exposure dose of polarized UV required to exhibit liquid crystal alignment properties of 20 mJ / cm 2 to 40 mJ / cm 2 Value, indicating good orientation sensitivity.

[배향감도의 평가(실시예 6 및 7)][Evaluation of alignment sensitivity (Examples 6 and 7)] [

실시예 6 및 실시예 7의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 조사하여, 배향재를 형성하였다. 기판 상의 배향재 위에, 수평배향용 중합성 액정용액을, 바코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 70℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 300mJ/cm2로 노광하고, 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 위상차재를 한쌍의 편광판으로 끼우고, 위상차재에 있어서의 위상차 특성의 발현상황을 관찰하여, 배향재가 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량을 배향감도로 하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다.
Each of the cured film forming compositions of Example 6 and Example 7 was applied to a TAC film using a bar coater and then heated and dried in a thermocycling oven at a temperature of 110 ° C for 120 seconds to form a cured film. The linearly polarized light of 313 nm was vertically irradiated to each of the cured films to form an alignment material. The polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation was coated on the alignment material on the substrate using a bar coater and then prebaked on a hot plate at 70 캜 for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 탆. The coating film on the substrate was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation film. The produced retardation on the substrate was sandwiched by a pair of polarizing plates and the state of occurrence of the retardation characteristic in the retardation was observed to determine the alignment sensitivity as the exposure amount of the polarized UV required for the orientation material to exhibit liquid crystal alignability. The evaluation results are summarized in Table 2 below.

[패턴형성성의 평가][Evaluation of pattern formation property]

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 경화막에 350μm의 라인앤스페이스 마스크를 개재하여 313nm의 직선편광을 40mJ/cm2 수직으로 조사하였다. 다음에, 마스크를 분리하고, 기판을 90도 회전시킨 후, 313nm의 직선편광을 20mJ/cm2 수직으로 조사하여, 액정의 배향 제어방향이 90도 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재를 얻었다. 이 기판 상의 배향재 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 1000mJ/cm2로 노광하고, 상이한 위상차 특성을 갖는 2종류의 영역이 규칙적으로 배열된 패턴화 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 패턴화 위상차재를, 편광현미경을 이용하여 관찰하여, 배향결함 없이 위상차패턴이 형성되어 있는 것을 ○, 배향결함이 보이는 것을 ×로 평가하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다.
Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied to a TAC film using a bar coater and then heated and dried in a thermocycling oven at a temperature of 110 DEG C for 120 seconds to form a cured film. This cured film was vertically irradiated with linearly polarized light of 313 nm at 40 mJ / cm 2 through a line-and-space mask of 350 m. Next, the mask was separated, the substrate was rotated by 90 degrees, linearly polarized light of 313 nm was vertically irradiated at 20 mJ / cm 2 , and an alignment material having two types of liquid crystal alignment regions in which alignment control directions of liquid crystals were different by 90 degrees was formed . On this alignment material on the substrate, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation RMS03-013C made by Merck Ltd. was applied using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 60 캜 for 60 seconds to obtain a film thickness of 1.0 mu m. The coating film on the substrate was exposed at 1000 mJ / cm 2 to prepare a patterned retardation material in which two kinds of regions having different retardation characteristics were regularly arranged. The patterned phase difference material on the produced substrate was observed using a polarizing microscope to find that a phase difference pattern was formed without an alignment defect, and that having an alignment defect was evaluated as x. The evaluation results are summarized in Table 2 below.

[광투과율(투명성)의 평가][Evaluation of light transmittance (transparency)] [

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을 석영기판 상에 스핀코터를 이용하여 2000rpm으로 30초간 회전도포한 후, 온도 110℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 가열건조베이크를 행하여 막두께 300nm의 경화막을 형성하였다. 막두께는 Filmetrics, Inc.제 F20를 이용하여 측정하였다. 이 경화막을 자외선 가시분광 광도계(Shimadzu Corporation제 SHIMADZU UV-2550형번)를 이용하여 파장 400nm의 광에 대한 투과율을 측정하였다.
Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was spin coated on a quartz substrate at 2000 rpm for 30 seconds using a spin coater and then heated and dried on a hot plate at a temperature of 110 캜 for 120 seconds to form a cured film having a thickness of 300 nm Respectively. The film thickness was measured using F20 manufactured by Filmetrics, Inc. The cured film was measured for transmittance with respect to light having a wavelength of 400 nm using an ultraviolet visible spectrophotometer (SHIMADZU UV-2550 model manufactured by Shimadzu Corporation).

[평가 결과][Evaluation results]

이상의 평가를 행한 결과를, 상기 서술한 바와 같이, 표 2에 나타낸다.
The results of the above evaluation are shown in Table 2 as described above.

[표 2][Table 2]

Figure pct00025

Figure pct00025

실시예 1 내지 실시예 5의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 고온고습처리하여도 높은 밀착성을 유지하였으며, 우수한 밀착내구성을 나타내었다.
The cured films obtained by using the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 maintained high adhesiveness even at high temperature and high humidity treatment and exhibited excellent adhesion durability.

이에 반해, 비교예 1 및 비교예 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 고온고습처리 후, 초기의 밀착성을 유지하기 곤란하였다.
On the contrary, the cured films obtained by using the cured film-forming compositions of Comparative Examples 1 and 2 were difficult to maintain initial adhesion after high temperature and high humidity treatment.

실시예 1 내지 실시예 5의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재와 마찬가지로, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.The alignment material obtained by using the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 had an exposure amount of polarized UV required to exhibit liquid crystal alignment properties of 20 mJ / cm 2 was to low value of 40mJ / cm 2, it showed a good alignment sensitivity.

또한, 실시예 6 및 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 비교예 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재보다, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 10mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.
The alignment material obtained by using the cured film forming compositions of Examples 6 and 7 was higher in polarized UV exposure amount required to exhibit liquid crystal alignability than the alignment material obtained by using the cured film forming composition of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 Were all low at 10 mJ / cm &lt; 2 &gt; and exhibited good alignment sensitivity.

실시예 1 내지 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재와 마찬가지로, 양호한 패턴형성성을 나타내었다.
The alignment materials obtained by using the cured film forming compositions of Examples 1 to 7 exhibited good pattern forming properties as in the alignment materials obtained by using the cured film forming compositions of Comparative Examples 1 and 2.

실시예 1 내지 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막과 마찬가지로, 파장 400nm의 광에 대하여, 100% 또는 그에 가까운 투과율을 나타내었으며, 양호한 광투과 특성을 나타내었다.
The cured films obtained by using the cured film forming compositions of Examples 1 to 7 were 100% or more close to the light having a wavelength of 400 nm, like the cured films obtained by using the cured film forming compositions of Comparative Examples 1 and 2 Transmittance, and exhibited good light transmission characteristics.

산업상 이용가능성 Industrial availability

본 발명에 따른 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막은, 액정표시소자의 액정배향막이나, 액정표시소자에 내부나 외부에 마련되는 광학이방성 필름을 형성하기 위한 배향재로서 매우 유용하며, 특히, 3D 디스플레이의 패턴화 위상차재의 형성재료로서 호적하다. 나아가, 박막 트랜지스터(TFT)형 액정표시소자나 유기 EL소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 평탄화막 및 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히, TFT형 액정소자의 층간절연막, 컬러필터의 보호막 또는 유기 EL소자의 절연막 등을 형성하는 재료로서도 호적하다.The cured film obtained from the cured film forming composition according to the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element or an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element, As a material for forming a patterned retardation material. Furthermore, a material for forming a cured film such as a protective film, a planarizing film, and an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, particularly, a material for forming an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, Or as a material for forming an insulating film of an organic EL element or the like.

Claims (7)

(A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물,
(B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고
(C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물
을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
(A) a compound having one photo-oriented group and one selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group,
(B) a polymer having at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group, and
(C) a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group other than the component (A)
Wherein the cured film-forming composition is a cured film-forming composition.
제1항에 있어서,
상기 (A)성분의 화합물은, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the compound of the component (A) is a compound having a photo-orientable group and a hydroxy group.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 (C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기 및 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the compound of component (C) has at least one hydroxyl group and one (meth) acryl group.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
(D)가교제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(D) a cross-linking agent.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
(E)가교촉매를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
(E) a cross-linking catalyst.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재.
An alignment material obtained by using the cured film forming composition according to any one of claims 1 to 5.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 갖는 것을 특징으로 하는 위상차재.A retardation film having a cured film obtained from the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 5.
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