KR20150064755A - 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법 및 서스펜션 제련로 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법 및 서스펜션 제련로에 관한 것이다. 서스펜션 제련로는 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에서 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 이 세틀러 (2) 내로 주입되도록 세틀러 (2) 의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 서스펜션 제련로의 세틀러 (2) 내로 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 포함한다.
Description
본 발명은 독립 청구항 1 의 전제부에 기재된 바와 같은 서스펜션 제련로 (suspension smelting furnace) 에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 독립 청구항 8 의 전제부에 기재된 바와 같은 서스펜션 제련로에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 플래시 제련로 또는 플래시 전환로 (flash converting furnace) 와 같은 서스펜션 제련로에서 일어나는 방법, 및 플래시 제련로 또는 플래시 전환로와 같은 서스펜션 제련로에 관한 것이다.
공보 WO 2007/113375 는 서스펜션 제련로에서 고체-함유 프로세스 가스를 처리하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 프로세스 가스를 서스펜션 제련로의 반응 샤프트로부터 세틀러로 보내고 또한 프로세스 가스를 냉각시키기 위해 상승된 샤프트를 통해 폐열 보일러로 보내어, 세틀러 상부 벽에 위치된 하나 이상의 가스 노즐을 통해 보내는 단계를 포함하고, 산화 가스가 세틀러에서 흐르는 프로세스 가스에 공급되고, 프로세스 동안에 산화 가스의 양이 조정되어서, 폐열 보일러로 보내지는 프로세스 가스의 고체 물질에 함유된 황화물의 양이 최소화된다. 또한, 공보 WO 2007/113375 는 서스펜션 제련로에서 고체함유 프로세스 가스를 처리하는 장비에 관한 것으로서, 프로세스 가스는 서스펜션 제련로의 반응 샤프트로부터 세틀러로 보내지고 또한 프로세스 가스를 냉각시키기 위해 상승된 샤프트를 통해 폐열 보일러로 보내진다. 세틀러에서 흐르는 프로세스 가스에 산화 가스를 공급하기 위해 세틀러의 상부 벽에 하나 이상의 가스 노즐이 배치되어서, 폐열 보일러로 보내지는 프로세스 가스의 고체 물질에 함유된 황화물의 양이 최소화된다.
공보 WO 00/70103 은, 서스펜션 제련로에서 비철 황화물 정광으로부터 높은 비철 금속 함량을 갖는 매트와 처분가능 슬래그가 동시에 생성되는 방법 및 장비에 관한 것이다. 이 발명에 따르면, 탄소질 환원제가 단면적이 감소된 서스펜션 제련로의 부분에 송풍구를 통해 서스펜션 제련로의 세틀러에 장입된다.
본 발명의 목적은, 서스펜션 제련로의 반응 공간에서 생성되는 프로세스 가스에 유체 및/또는 미분 물질 (pulverous matter) 의 블렌딩을 향상시킨, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법 및 서스펜션 제련로를 제공하는 것이다.
본 발명의 방법은 독립 청구항 1 의 구성을 특징으로 한다.
상기 방법의 바람직한 실시형태들은 종속 청구항 2 내지 7 에 기재되어 있다.
상응하게, 본 발명의 서스펜션 제련로는 독립 청구항 8 의 구성을 특징으로 한다.
상기 서스펜션 제련로의 바람직한 실시형태들은 종속 청구항 9 내지 13 에 기재되어 있다.
본 발명은, 유체와 미분 물질 중의 적어도 하나가 세틀러 내의 멜트 층의 상면 위에서 세틀러 내로 주입되도록, 세틀러의 측벽 구조물의 적어도 하나로부터 액체, 예컨대 작은 물방울, 및/또는 가스, 예컨대 테크니컬 산소 (technical oxygen) 와 같은 유체, 및 미분 물질, 예컨대 석탄 또는 코크스 분말 중의 적어도 하나를 세틀러 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단을 배치하는 것에 기초한다. 이런 식으로 주입 수단을 배치함으로써, 주입 수단에 의해 공급된 유체 및/또는 미분 물질이 세틀러 내의 멜트가 아니라 세틀러 내의 프로세스 가스에 공급될 것이므로, 멜트의 조성이 변할 것이다.
본 발명은 다른 목적을 위해 서스펜션 제련로에서 사용될 수 있다. 의도되는 용도는 노 (furnace) 의 기하학적 형상, 서스펜션 제련로에서 제련될 원료의 타입, 오프가스 라인의 타입, 즉 서스펜션 제련로의 업테이크 샤프트 (uptake shaft) 에서 나오는 서스펜션 제련 프로세스에서 형성된 프로세스 가스를 처리하는 시스템의 타입에 의존한다.
하나의 목적은, 오프가스 라인의 더 하류에서 설페이트 입자의 생성을 더 용이하게 하기 위해, 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에서 생성된 더스트의 잔류 황화물 입자를 산화 입자로 산화시키는 것이다.
다른 목적은, 서스펜션 제련로에서 생성되어 업테이크 샤프트를 통해 서스펜션 제련로로부터 제거되는 프로세스 가스의 온도를 낮추는 것이다.
다른 목적은, 그 입자가 혹시라도 세틀러의 내벽에 또는 서스펜션 제련로의 업테이크 샤프트의 내벽에 들러붙어 빌드업 (build-up) 을 생성하는 때에, 그 빌드업이 오로지 프로세스 가스의 입자로 구성된 빌드업에 비해 더 낮은 융점을 갖도록, 즉 그 빌드업이 녹아 사라지도록 서스펜션 제련로에서 생성되는 프로세스 가스의 입자의 조성을 수정하는 것이다.
다른 목적은, 입자가 기상 온도에서 고체 형태이도록 서스펜션 제련로에서 생성되는 프로세스 가스의 입자의 조성을 수정하는 동시에 프로세스 가스의 온도를 낮추는 것이고, 이는 업테이크 샤프트의 측벽에의 입자의 들러붙음을 최소화한다.
이하에서, 도면을 참조하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다.
도 1 은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 서스펜션 제련로의 원리를 보여주는 도면이다.
도 2 는 도 1 의 선 A-A 을 따라 자른 도 1 에 나타낸 서스펜션 제련로를 보여준다.
도 2 는 도 1 의 선 A-A 을 따라 자른 도 1 에 나타낸 서스펜션 제련로를 보여준다.
본 발명은 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법 및 서스펜션 제련로에 관한 것이다.
도면들은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 서스펜션 제련로의 일례를 보여준다.
먼저, 서스펜션 제련로에서 황화구리 정광, 황화니켈 정광, 황화아연 정광과 같은 비철 금속 황화물 또는 황화 매트, 예컨대 황화구리 매트, 황화니켈 매트 또는 황화아연 매트를 제련하는 방법을 더 상세하게 설명한다.
상기 방법은 반응 샤프트 (1), 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 세틀러 (2) 사이에 형성된 제 1 연통점 (3) 을 통해 반응 샤프트 (1) 와 연통하는 세틀러 (2), 및 세틀러 (2) 와 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이에 형성된 제 2 연통점 (5) 을 통해 세틀러 (2) 와 연통하는 업테이크 샤프트 (4) 를 구비하는 서스펜션 제련로를 사용하는 것을 포함한다. 세틀러 (2) 는 저부 구조물 (6), 상부벽 구조물 (7), 저부 구조물 (6) 과 상부 구조물 (7) 사이의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9), 및 세틀러 (2) 의 일 단부에 있는 제 1 단부벽 구조물 (10) 과 세틀러 (2) 의 타 단부에 있는 제 2 단부 구조물 (11) 을 포함한다.
상기 방법은, 반응 샤프트 (1) 에서 비철 금속 황화물 (13) 과 반응 가스 (14) 를 함께 반응시켜 멜트 (도시 안 됨 또는 도면부호로 표시 안 됨) 를 생성하도록 정광 버너 (12) 에 의해 비철 금속 황화물 (13) 및 공기, 산소부화 공기 (oxygen-enriched air) 또는 산소와 같은 반응 가스 (14), 그리고 또한 가능하게는 플럭스 및/또는 미분제를 반응 샤프트 (1) 에 공급하는 공급 단계를 포함하였다.
상기 방법은, 세틀러 (2) 에 상면 (16) 을 갖는 멜트 층 (15) 이 형성되도록 세틀러 (2) 에서 반응 샤프트 (1) 로부터 멜트를 수집하는 수집 단계를 또한 포함한다.
상기 방법은 업테이크 샤프트 (4) 를 통해 서스펜션 제련로로부터 프로세스 가스 (17) 를 제거하는 가스 제거 단계를 또한 포함한다.
상기 방법은 세틀러 (2) 의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 액체, 예컨대 작은 물방울, 및/또는 가스, 예컨대 테크니컬 산소와 같은 유체 (19), 및 미분 물질 (20), 예컨대 미분탄 또는 코크스 중의 적어도 하나를 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 배치하는 배치 단계를 부가적으로 포함하여서, 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 내로 주입된 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나가 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에서 세틀러 (2) 에 진입할 것이다.
상기 방법은 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 에 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 주입하기 위한 주입 단계를 부가적으로 포함한다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 주입 단계는 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 과 평행하거나 거의 또는 실질적으로 평행한 방향으로 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 에 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 주입하는 것을 포함한다. 그렇게 함으로써, 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 함유하는 제트가 멜트 층 (15) 의 상면을 때릴 위험이 이 실시형태에서 감소되기 때문에, 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 공급된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 의 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 과의 혼합이 더 효과적으로 회피될 수 있다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 주입 단계는 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 과 평행한 방향으로 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 에 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 주입하는 것으로 구성된다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 배치 단계는 세틀러 (2) 의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 세틀러 (2) 의 제 2 측벽 구조물 (9) 쌍방에 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 포함한다. 상기 방법의 이 바람직한 실시형태에서, 배치 단계는 도 2 에 도시된 것처럼 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 을 가리키도록 그리고 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 1 측벽 구조물 (8) 을 가리키도록 비정렬 구성으로 배치 단계에서 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 포함하는 것이 바람직하지만, 반드시 포함해야 하는 것은 아니다. 환원하면, 상기 방법의 이 바람직한 실시형태에서, 배치 단계는 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 을 가리키고 그 반대도 또한 같은 방식으로 주입 수단 (18) 이 정렬되지 않도록 배치 단계에서 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 포함하는 것이 바람직하지만, 반드시 포함해야 하는 것은 아니다. 그러한 비정렬 구성으로 주입 수단 (18) 을 배치함으로써, 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 이 세틀러 (2) 의 중간에서 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 로부터의 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질과 충돌할 가능성이 낮아지고, 이는 세틀러 (2) 에 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 의 더 평평한 분포로 이어진다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 배치 단계는 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 세틀러 (2) 사이에 형성되는 제 1 연통점 (3) 과 세틀러 (2) 와 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이의 제 2 연통점 (5) 사이에 있는 세틀러 (2) 의 영역에 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 포함한다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 은 주입 단계에서 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에 세틀러 (2) 내로 주입된다.
상기 방법의 바람직한 실시형태에서, 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 은 주입 단계에서 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에 세틀러 (2) 에 존재하는 프로세스 가스 (17) 내로 주입된다.
다음으로, 서스펜션 제련로를 더 상세하세 설명한다.
서스펜션 제련로는 반응 샤프트 (1) 를 포함한다.
서스펜션 제련로는 비철 금속 황화물 (13) 과 반응 가스 (14) 를 반응 샤프트 (1) 내에서 함께 반응시켜 멜트를 생성하기 위해 황화구리 정광, 황화니켈 정광, 황화아연 정광과 같은 비철 금속 황화물 (13) 또는 황화 매트, 예컨대 황화구리 매트, 황화니켈 매트, 또는 황화아연 매트 및 공기, 산소부화 공기 또는 산소와 같은 반응 가스 (14), 그리고 또한 가능하게는 플럭스 및/또는 미분제를 반응 샤프트 (1) 에 공급하기 위한 정광 버너 (12) 를 부가적으로 포함한다.
서스펜션 제련로는 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 세틀러 (2) 사이에 형성되는 제 1 연통점 (3) 을 통해 반응 샤프트 (1) 와 연통하는 세틀러 (2) 를 부가적으로 포함하고, 세틀러 (2) 는 상면 (16) 을 갖는 멜트 층 (15) 이 세틀러 (2) 내에 형성되도록 반응 샤프트 (1) 로부터 멜트를 수용하도록 되어 있다. 세틀러 (2) 는 저부 구조물 (6), 상부벽 구조물 (7), 저부 구조물 (6) 과 상부벽 구조물 (7) 사이의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9), 및 세틀러 (2) 의 일 단부에 있는 제 1 단부벽 구조물 (10) 과 세틀러 (2) 의 타 단부에 있는 제 2 단부 구조물 (11) 을 포함한다.
서스펜션 제련로는 업테이크를 통해 서스펜션 제련로로부터 프로세스 가스 (17) 를 제거하기 위한 업테이크 샤프트 (4) 를 부가적으로 포함한다. 업테이크 샤프트 (4) 는 세틀러 (2) 와 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이에 형성되는 제 2 연통점 (5) 을 통해 세틀러 (2) 와 연통한다.
서스펜션 제련로는 세틀러 (2) 의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 액체, 예컨대 작은 물방울, 및/또는 가스, 예컨대 테크니컬 산소와 같은 유체 (19), 및 미분 물질 (20), 예컨대 미분탄 또는 코크스 중의 적어도 하나를 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 부가적으로 포함하여서, 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나는 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에서 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 세틀러 (2) 내로 주입된다.
서스펜션 제련로의 바람직한 실시형태에서, 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 은 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 과 평행하거나 거의 또는 실질적으로 평행한 방향으로 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 세틀러 (2) 내로 주입하도록 구성된다.
서스펜션 제련로의 바람직한 실시형태에서, 주입 수단 (18) 은 세틀러 (2) 의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 세틀러 (2) 의 제 2 측벽 구조물 (9) 쌍방에 배치된다. 서스펜션 제련로의 이 바람직한 실시형태에서, 주입 수단 (18) 은 도 2 에 도시된 것처럼 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 을 가리키도록 그리고 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 1 측벽 구조물 (8) 을 가리키도록 비정렬 구성으로 배치되는 것이 바람직하지만, 반드시 배치되어야 하는 것은 아니다. 환원하면, 서스펜션 제련로의 이 바람직한 실시형태에서, 주입 수단 (18) 은 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 을 가리키고 그 반대도 또한 같은 방식으로 주입 수단 (18) 이 정렬되지 않도록 배치되는 것이 바람직하지만, 반드시 배치되어야 하는 것은 아니다. 그러한 비정렬 구성으로 주입 수단 (18) 을 배치함으로써, 제 1 측벽 구조물 (8) 로부터 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 이 세틀러 (2) 의 중간에서 반대편의 제 2 측벽 구조물 (9) 로부터 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 과 충돌할 가능성이 낮아져서, 세틀러 (2) 내로 주입 수단 (18) 에 의해 주입된 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 의 더 평평한 분포가 발생한다.
서스펜션 제련로의 바람직한 실시형태에서, 적어도 하나의 주입 수단 (18) 은 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 세틀러 (2) 사이에 형성되는 제 1 연통점 (3) 과 세틀러 (2) 와 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이의 제 2 연통점 (5) 사이에 있는 세틀러 (2) 의 영역에 배치된다.
기술이 발전함에 따라 본 발명의 기본 사상이 다양한 방식으로 구현될 수 있다는 것은 본 기술분야의 통상의 기술자에게 자명하다. 그러므로, 본 발명 및 그 실시형태들은 상기한 예들로 한정되지 않고, 청구항들의 범위 내에서 달라질 수 있다.
Claims (13)
- 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물 (13) 을 제련하는 방법으로서,
반응 샤프트 (1), 세틀러 (settler; 2) 로서, 상기 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 상기 세틀러 (2) 사이에 형성된 제 1 연통점 (3) 을 통해 상기 반응 샤프트 (1) 와 연통하는 상기 세틀러 (2), 및 업테이크 샤프트 (uptake shaft; 4) 로서, 상기 세틀러 (2) 와 상기 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이에 형성된 제 2 연통점 (5) 을 통해 상기 세틀러 (2) 와 연통하는 상기 업테이크 샤프트 (4) 를 포함하는 서스펜션 제련로를 사용하는 단계로서, 상기 세틀러 (2) 는 저부 구조물 (6), 상부벽 구조물 (7), 상기 저부 구조물 (6) 과 상기 상부벽 구조물 (7) 사이의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9), 및 상기 세틀러 (2) 의 일 단부에 있는 제 1 단부벽 구조물 (10) 과 상기 세틀러 (2) 의 타 단부에 있는 제 2 단부 구조물 (11) 을 포함하는, 상기 서스펜션 제련로를 사용하는 단계;
상기 반응 샤프트 (1) 에서 비철 금속 황화물 (13) 과 반응 가스 (14) 를 함께 반응시켜 멜트를 생성하도록 정광 버너 (12) 에 의해 비철 금속 황화물 (13) 및 반응 가스 (14) 를 상기 반응 샤프트 (1) 에 공급하는 공급 단계;
상기 세틀러 (2) 에서 상면 (16) 을 갖는 멜트 층 (15) 이 형성되도록 상기 세틀러 (2) 에서 멜트를 수집하는 수집 단계; 및
상기 업테이크 샤프트 (4) 를 통해 상기 서스펜션 제련로로부터 프로세스 가스 (17) 를 제거하는 가스 제거 단계
를 포함하고,
상기 세틀러 (2) 의 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 유체 (19) 및 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 상기 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 배치하여서, 상기 세틀러 (2) 내의 상기 멜트 층 (15) 의 상기 상면 (16) 위에서 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 상기 세틀러 (2) 내로 주입하는, 배치 단계; 및
상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 상기 세틀러 (2) 내로 주입하는, 주입 단계
를 포함하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 멜트 층 (15) 의 상기 상면 (16) 과 평행하거나 또는 거의 평행한 방향으로 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 상기 세틀러 (2) 에 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 주입하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 배치 단계에서 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 쌍방에 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 3 항에 있어서,
상기 배치 단계에서, 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 을 가리키도록 그리고 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 1 측벽 구조물 (8) 을 가리키도록 비정렬 구성으로 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배치 단계에서, 상기 반응 샤프트 (1) 와 상기 세틀러 (2) 사이에 형성되는 상기 제 1 연통점 (3) 과 상기 세틀러 (2) 와 상기 업테이크 샤프트 (4) 사이의 상기 제 2 연통점 (5) 사이에 있는 상기 세틀러 (2) 의 영역에서 상기 세틀러 (2) 의 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 및 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나에 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 배치하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 주입 단계에서, 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에서 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 상기 세틀러 (2) 내로 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 주입하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 주입 단계에서, 세틀러 (2) 내의 멜트 층 (15) 의 상면 (16) 위에서 상기 세틀러 (2) 내에 존재하는 프로세스 가스 (17) 내로 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 에 의해 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 상기 세틀러 (2) 내로 주입하는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로에서 비철 금속 황화물을 제련하는 방법. - 서스펜션 제련로로서,
반응 샤프트 (1);
상기 반응 샤프트 (1) 에서 비철 금속 황화물 (13) 과 반응 가스 (14) 를 함께 반응시켜 멜트를 생성하도록 비철 금속 황화물 (13) 및 반응 가스 (14) 를 상기 반응 샤프트 (1) 에 공급하기 위한 정광 버너 (12);
세틀러 (2) 로서, 상기 세틀러는 상기 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 상기 세틀러 (2) 사이에 형성된 제 1 연통점 (3) 을 통해 상기 반응 샤프트 (1) 와 연통하고, 상기 세틀러 (2) 는 상기 세틀러 (2) 에서 상면 (16) 을 갖는 멜트 층 (15) 이 형성되도록 상기 반응 샤프트 (1) 로부터 멜트를 수용하도록 되어 있고, 상기 세틀러 (2) 는 저부 구조물 (6), 상부벽 구조물 (7), 상기 저부 구조물 (6) 과 상기 상부벽 구조물 (7) 사이의 제 1 측벽 구조물 (8) 과 제 2 측벽 구조물 (9), 및 상기 세틀러 (2) 의 일 단부에 있는 제 1 단부벽 구조물 (10) 과 상기 세틀러 (2) 의 타 단부에 있는 제 2 단부 구조물 (11) 을 포함하는, 상기 세틀러 (2); 및
업테이크를 통해 서스펜션 제련로로부터 프로세스 가스 (17) 를 제거하기 위한 업테이크 샤프트 (4) 로서, 상기 업테이크 샤프트 (4) 는 상기 세틀러 (2) 와 상기 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이에 형성되는 제 2 연통점 (5) 을 통해 상기 세틀러 (2) 와 연통하는, 상기 업테이크 샤프트 (4)
를 포함하고,
상기 세틀러 (2) 내의 상기 멜트 층 (15) 의 상기 상면 (16) 위에서 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 이 상기 세틀러 (2) 내로 주입되도록 상기 세틀러 (2) 의 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 상기 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18)
을 포함하는, 서스펜션 제련로. - 제 8 항에 있어서,
유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 상기 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 상기 적어도 하나의 주입 수단 (18) 은, 상기 멜트 층 (15) 의 상기 상면 (16) 과 평행하거나 또는 거의 평행한 방향으로 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 을 상기 세틀러 (2) 내로 주입하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 제련로. - 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
주입 수단 (18) 이 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 쌍방에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 제련로. - 제 10 항에 있어서,
상기 주입 수단 (18) 은, 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 을 가리키도록 그리고 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 에 있는 주입 수단 (18) 이 반대편의 제 1 측벽 구조물 (8) 을 가리키도록 비정렬 구성으로 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 에 그리고 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 제련로. - 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 하나의 주입 수단 (18) 이, 상기 반응 샤프트 (1) 의 하단부와 상기 세틀러 (2) 사이에 형성되는 상기 제 1 연통점 (3) 과 상기 세틀러 (2) 와 상기 업테이크 샤프트 (4) 의 하단부 사이의 상기 제 2 연통점 (5) 사이에 있는 상기 세틀러 (2) 의 영역에서 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로. - 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세틀러 (2) 내의 상기 멜트 층 (15) 의 상기 상면 (16) 위에서 유체 (19) 및/또는 미분 물질 (20) 이 상기 세틀러 (2) 내에 존재하는 프로세스 가스 (17) 내로 주입되도록 상기 세틀러 (2) 의 상기 제 1 측벽 구조물 (8) 과 상기 제 2 측벽 구조물 (9) 중의 적어도 하나로부터 유체 (19) 와 미분 물질 (20) 중의 적어도 하나를 상기 세틀러 (2) 내로 주입하기 위한 적어도 하나의 주입 수단 (18) 을 특징으로 하는, 서스펜션 제련로.
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