KR20130013921A - Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing - Google Patents
Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130013921A KR20130013921A KR1020110075857A KR20110075857A KR20130013921A KR 20130013921 A KR20130013921 A KR 20130013921A KR 1020110075857 A KR1020110075857 A KR 1020110075857A KR 20110075857 A KR20110075857 A KR 20110075857A KR 20130013921 A KR20130013921 A KR 20130013921A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- solar cell
- printing
- screen printing
- bsf
- forming
- Prior art date
Links
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 51
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/121—The active layers comprising only Group IV materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/16—Material structures, e.g. crystalline structures, film structures or crystal plane orientations
- H10F77/162—Non-monocrystalline materials, e.g. semiconductor particles embedded in insulating materials
- H10F77/164—Polycrystalline semiconductors
- H10F77/1642—Polycrystalline semiconductors including only Group IV materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/542—Dye sensitized solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/546—Polycrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
본 발명은 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 Screen Printing 방법으로 전극을 인쇄한 후 Firing 공정을 통하여 Local BSF를 형성하는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법에 관한 것이다.
본 발명은 다결정 태양전지에 있어서, 다결정 태양전지 후면에 스크린 프린팅(Screen printing) 장비를 이용하여 프린팅(Printing)하여 Local BSF를 형성하는 단계와, 상기 다결정 태양전지 후면에 패시베이션 막(Passivation layer)을 증착하고 상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅하고 상기 Local BSF를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계로 이루어 지는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of forming a local BSF on the back of a solar cell using a screen printing method, and more particularly, to a local back of the solar cell using a screen printing method of forming a local BSF through a firing process after printing an electrode by a screen printing method. A method for forming a BSF.
In the polycrystalline solar cell, a step of forming a local BSF by printing on the rear of the polycrystalline solar cell using a screen printing equipment (Screen printing) equipment, and a passivation layer (Passivation layer) on the rear of the polycrystalline solar cell Depositing and printing Rear Electrode (Bus Bar) Ag on the passivation film and printing Al forming the Local BSF.
Description
본 발명은 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 Screen Printing 방법으로 전극을 인쇄한 후 Firing 공정을 통하여 Local BSF를 형성하는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a local BSF on the back of a solar cell using a screen printing method, and more particularly, to a local back of the solar cell using a screen printing method of forming a local BSF through a firing process after printing an electrode by a screen printing method. A method for forming a BSF.
도1 (a), (b)에서 보는 바와 같이 현재 일반적인 태양광 발전용 다결정 태양전지 제조시 Si wafer뒷면에 Al을 Screen printing 방식으로 인쇄 후 열처리를 통하여 BSF를 형성 시키고 있다. As shown in Figure 1 (a), (b) is currently forming a BSF through the heat treatment after printing Al on the back of the Si wafer by the screen printing method in the production of a general photovoltaic polycrystalline solar cell.
이 방식은 간단하게 BSF를 형성 시킬 수 있으나 많은 양의 Al을 소비하고 후면에서 재 결합율이 높아 태양전지 변환효율의 감소를 초래한다. This method can easily form a BSF, but consumes a large amount of Al and has a high recombination rate at the rear surface, resulting in a decrease in solar cell conversion efficiency.
이런 문제점을 극복하기 위해 태양광 발전용 다결정 고효율 태양전지 제조를 위해 Si wafer뒷면에 Passivation layer를 증착 하고 local BSF를 형성 시키는공정이 활발히 연구되고 상용화되고 있다. In order to overcome this problem, a process of depositing a passivation layer on the back side of a Si wafer and forming a local BSF for the production of polycrystalline high efficiency solar cells for photovoltaic power generation has been actively studied and commercialized.
이러한 Local BSF를 형성 시키는 방법에는 대표적으로 laser 방식과 Photo lithography 방식이 있으며, 이중에서 상대적으로 공정비용이 저렴하고 간단한 방식의 laser를 이용한 local BSF공정이 활발히 연구, 상용화 되고 있다.Representative methods of forming such local BSF include laser method and photo lithography method. Among them, local BSF process using laser of low cost and simple method has been actively researched and commercialized.
한편 한국공개특허 제2009-0118056호는 BSF 코팅이 있는 태양전지의 제조 방법으로써, 태양 전지의 기판, 특히 실리콘 기판의 후면에, 알루미늄 또는 TCO를 제공한 후 그 후 상기 기판에 합금화를 수행하여 상기 기판에 BSF 코팅이 제공되고, 상기 BSF 코팅은 빛에 대해 투명한, 태양전지의 제조방법에 관한 것이다.Meanwhile, Korean Laid-Open Patent Publication No. 2009-0118056 is a method for manufacturing a solar cell having a BSF coating, which provides aluminum or TCO to a substrate of a solar cell, particularly a silicon substrate, and then alloys the substrate by performing alloying. A substrate is provided with a BSF coating, and the BSF coating relates to a method for manufacturing a solar cell, which is transparent to light.
그러나 상술한 종래 발명에 따른 laser를 이용한 Local BSF공정은 기존의 Screen Printing을 이용한 BSF공정에 비해 공정이 복잡해지고 생산 속도 감소 및 장비가격 상승에 의한 공정비용 상승 등의 문제점을 갖고 있다. However, the local BSF process using a laser according to the conventional invention described above has a problem that the process becomes more complicated than the conventional BSF process using screen printing, and the process cost increases due to the reduction in production speed and the increase in the price of equipment.
상술한 문제점을 해결하기 위하여 Screen Printing 방법으로 전극을 인쇄한 후 Firing 공정을 통하여 Local BSF를 형성하여 후면에서 재결합 속도가 줄어 들어 태양전지의 효율을 상승시키는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법을 제공하는 데 목적이 있다.In order to solve the above problems, after printing the electrodes by screen printing method, local BSF is formed through firing process to reduce the recombination speed at the rear side, thus forming local BSF at the back of solar cell using screen printing method which increases the efficiency of solar cell. The purpose is to provide a method.
본 발명은 다결정 태양전지에 있어서, 다결정 태양전지 후면에 스크린 프린팅(Screen printing) 장비를 이용하여 프린팅(Printing)하여 촘촘한 그물망 형태로 Local BSF를 형성하는 단계와, 상기 다결정 태양전지 후면에 패시베이션 막(Passivation layer)을 증착하고 상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅하고 상기 Local BSF를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계로 이루어 진다.In the polycrystalline solar cell, a step of forming a local BSF in the form of a dense net by printing using a screen printing (Screen printing) equipment on the rear of the polycrystalline solar cell, the passivation film ( Depositing a passivation layer) and printing Rear Electrode (Bus Bar) Ag on the passivation film and printing Al forming the Local BSF.
상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅(Printing)하고 상기 Local BSF를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계는, 상기 Al을 프린팅(Printing)하고 상기 Local BSF를 형성하는 Ag를 프린팅하는 단계이다.Printing Al Electrode (Bus Bar) Ag on the passivation film and printing Al to form the Local BSF is a step of printing the Al and printing Ag to form the Local BSF. .
상기 Ag 및 Al은 Firing Process중에 Passivation layer를 etch하기 위해 glass frit을 전체 100 중량% 중에서 5중량% 내지 50중량% 함유한다.The Ag and Al contain 5% to 50% by weight of glass frit in 100% by weight to etch the passivation layer during the firing process.
본 발명에 따르면 기존의 Screen Printing 장비를 이용하여 Local BSF의 형성이 가능하여, 종래의 Laser Local BSF공정에 비해 공정이 간단하고 공정 비용이 저렴하다.According to the present invention, it is possible to form a local BSF using existing screen printing equipment, and the process is simpler and the process cost is lower than that of the conventional Laser Local BSF process.
본 발명에 따르면 Local BSF 형성에 따른 후면 재결합이 감소되어 태양전지 효율이 상승된다.According to the present invention, backside recombination due to Local BSF formation is reduced, and solar cell efficiency is increased.
본 발명에 따르면 후면 반사율 저감으로 인한 광원의 증가로 인해 태양전지 효율이 상승한다.According to the present invention, the solar cell efficiency increases due to the increase in the light source due to the reduction of the rear reflectance.
도1은 종래 발명에 따른 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법을 보여주는 도면.
도2는 본 발명에 따른 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF의 형성 모습을 보여주는 도면.
도3은 도2의 정면도.1 is a view showing a solar cell rear local BSF forming method according to the prior invention.
Figure 2 is a view showing the formation of the local BSF rear solar cell using the screen printing method according to the present invention.
3 is a front view of FIG. 2;
이어지는 본 발명의 실시하기 위한 구체적인 내용은 사실상 본 발명의 단순한 예시에 해당하며 본 발명이나 본 발명의 적용 및 사용들을 제한하고자 의도된 것은 아니다. 또한, 앞에서 기재된 기술 분야, 배경기술 및 하기 상세한 설명에서 내포된 어떤 이론들에 의해 구속되고자 하는 어떤 의도도 없다. The following detailed description of the invention is in fact a mere illustration of the invention and is not intended to limit the invention or its application and uses. Moreover, there is no intention to be bound by any theory implied in the technical field, background or the foregoing detailed description.
또한 상술한 목적, 특징 및 효과는 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되어 있는 상세한 설명을 통하여 보다 명확해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.In addition, the above-described objects, features and effects will become more apparent from the following detailed description with reference to the accompanying drawings, and accordingly, those skilled in the art to which the present invention pertains the technical idea of the present invention. It will be easy to implement. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명에 따른 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF(10)는 다결정 태양전지 후면에 스크린 프린팅(Screen printing) 장비를 이용하여 프린팅(Printing)하여 형성된다.The solar cell backside
그리고 상기 다결정 태양전지 후면에 패시베이션 막(Passivation layer)(20)을 증착하고 상기 패시베이션 막(20) 위에 Rear Electrode(Bus Bar)(30) Ag를 프린팅하고 상기 로컬 BSF(10)를 형성하는 Al을 프린팅하는 것이 바람직하다.And depositing a
따라서 상술한 스크린 프린팅장비를 통하여 스크린 프린팅 방법으로 전극을 인쇄한 후 Firing 공정을 통하여 로컬 BSF(10)를 형성하여 후면에서 재결합 속도가 줄어 들어 태양전지의 효율을 상승시킨다.
Therefore, after printing the electrode by the screen printing method through the above-described screen printing equipment to form a local BSF (10) through the firing process to reduce the recombination rate at the rear to increase the efficiency of the solar cell.
이하 본 발명에 따른 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF(10) 형성 방법에 대하여 자세히 설명한다.Hereinafter, a method of forming the
먼저 다결정 태양전지 후면에 스크린 프린팅(Screen printing) 장비를 이용하여 프린팅(Printing)하여 촘촘한 그물망 형태로 로컬 BSF(10)를 형성한다.First, the
그리고 상기 다결정 태양전지 후면에 패시베이션 막(Passivation layer)(20)을 증착하고 상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅하고 상기 로컬 BSF(10)를 형성하는 Al을 프린팅한다.In addition, a
이를 통해 로컬 BSF(10) 형성에 따른 후면 재결합이 감소되며, 후면 반사율 저감으로 인한 광원의 증가로 인해 태양전지 효율이 상승한다.Through this, the rear recombination due to the
또한 상기 패시베이션 막(20) 위에 Rear Electrode(Bus Bar)(30) Ag를 프린팅(Printing)하고 로컬 BSF(10)를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계는, 상기 Al을 프린팅(Printing)하고 상기 로컬 BSF(10)를 형성하는 Ag를 프린팅하는 것이다. In addition, the printing step of printing the Al (Bus Bar) (30) Ag on the
또한 Ag 및 Al Printing 순서는 필요에 따라 바뀔 수도 있다.Also, the order of Ag and Al Printing may be changed as needed.
여기에서 상기 Ag 및 Al은 Firing Process중에 상기 패시베이션 막(20)을 에치(etch)하기 위해 glass frit을 전체 100 중량% 중에서 5중량% 내지 50중량% 함유하는 데 5중량% 이하인 경우 glass frit의 접착력이 떨어져 절연성 및 기밀성이 저하될 수 있고, 50중량% 이상인 경우 과잉 접착력에 문제가 생겨 공정이 복잡해지고, 전체적인 태양전지의 효율을 저하시킬 수 있다.
Wherein the Ag and Al contained 5% to 50% by weight of the glass frit in the total 100% by weight to etch the
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. The present invention is not limited to the drawings.
10 : 로컬 BSF
20 : 패시베이션 막
30 : Rear Electrode10: local BSF
20: passivation film
30: Rear Electrode
Claims (3)
다결정 태양전지 후면에 스크린 프린팅(Screen printing) 장비를 이용하여 프린팅(Printing)하여 촘촘한 그물망 형태로 Local BSF를 형성하는 단계와;
상기 다결정 태양전지 후면에 패시베이션 막(Passivation layer)을 증착하고 상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅하고 상기 Local BSF를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계;
로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법.In polycrystalline solar cell,
Forming a local BSF in the form of a dense net by printing on a rear surface of the polycrystalline solar cell using a screen printing apparatus;
Depositing a passivation layer on the rear surface of the polycrystalline solar cell, printing a rear electrode Ag on the passivation film, and printing Al forming the local BSF;
Local BSF forming method on the back of the solar cell using the screen printing method, characterized in that consisting of.
상기 패시베이션 막 위에 Rear Electrode(Bus Bar) Ag를 프린팅(Printing)하고 상기 Local BSF를 형성하는 Al을 프린팅하는 단계는,
상기 Al을 프린팅(Printing)하고 상기 Local BSF를 형성하는 Ag를 프린팅하는 단계인 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법.The method of claim 1,
Printing Al Electrode (Bus Bar) Ag on the passivation film and printing Al to form the Local BSF,
Printing the Al and printing Ag forming the Local BSF; and forming a local BSF at the rear of the solar cell using a screen printing method.
상기 Ag 및 Al은 Firing Process중에 Passivation layer를 에치(etch)하기 위해 glass frit을 전체 100 중량% 중에서 5중량% 내지 50중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 방식을 이용한 태양전지 후면 로컬 BSF 형성 방법.The method of claim 1,
The Ag and Al is a method of forming a local BSF on the back of the solar cell using a screen printing method characterized in that it contains 5 to 50% by weight of the glass frit in 100% by weight to etch the passivation layer during the firing process .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110075857A KR20130013921A (en) | 2011-07-29 | 2011-07-29 | Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110075857A KR20130013921A (en) | 2011-07-29 | 2011-07-29 | Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20130013921A true KR20130013921A (en) | 2013-02-06 |
Family
ID=47894312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020110075857A KR20130013921A (en) | 2011-07-29 | 2011-07-29 | Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20130013921A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104218102A (en) * | 2013-05-31 | 2014-12-17 | 茂迪股份有限公司 | Solar cell and module thereof |
-
2011
- 2011-07-29 KR KR1020110075857A patent/KR20130013921A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104218102A (en) * | 2013-05-31 | 2014-12-17 | 茂迪股份有限公司 | Solar cell and module thereof |
| CN104218102B (en) * | 2013-05-31 | 2017-04-26 | 茂迪股份有限公司 | Solar cell and module thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Goodrich et al. | A wafer-based monocrystalline silicon photovoltaics road map: Utilizing known technology improvement opportunities for further reductions in manufacturing costs | |
| Xiao et al. | High-efficiency silicon solar cells—materials and devices physics | |
| JP2020506529A (en) | Tubular PERC double-sided solar cell, method of manufacturing the same, and dedicated apparatus | |
| CN105826405A (en) | Mono-crystalline silicon double-sided solar cell and preparation method thereof | |
| CN106449877A (en) | PERC preparation method | |
| CN103026494A (en) | Silicon solar cell having boron diffusion layer and method for manufacturing same | |
| CN105074936A (en) | Method for enhancing electroless conductivity of solar cell metallization | |
| CN105742378A (en) | Metallization method of N-type solar cell, cell, module and system | |
| CN102468365A (en) | Method for manufacturing double-sided solar cell | |
| Chen et al. | Low cost multicrystalline bifacial PERC solar cells–Fabrication and thermal improvement | |
| WO2012102368A1 (en) | Solar battery element manufacturing method, solar battery element, and solar battery module | |
| Khazaka et al. | Silver versus white sheet as a back reflector for microcrystalline silicon solar cells deposited on LPCVD‐ZnO electrodes of various textures | |
| Aurang et al. | Nanowire decorated, ultra-thin, single crystalline silicon for photovoltaic devices | |
| CN204361108U (en) | A kind of HIT solar cell | |
| Kalluvettukuzhy et al. | Visually attractive and efficient photovoltaics through luminescent downshifting | |
| JP2019079916A (en) | Back-contact type solar battery module | |
| CN203312314U (en) | N type crystal silicon solar battery fully covered with aluminum back emitter junctions | |
| CN102945890B (en) | Process for implementing qualification of potential-induced decay of crystalline silicon battery assembly | |
| KR20130013921A (en) | Mehtod for solar cell rear local bsf using screen printing | |
| CN103474515B (en) | Manufacturing method of P-type double-sided solar cell | |
| CN103943693A (en) | A P-type silicon substrate back contact solar cell structure and preparation method | |
| TWI435462B (en) | Multi-color painting type solar cell manufacturing method | |
| JP2016187027A (en) | Crystal silicon solar cell and method of manufacturing the same, and solar cell module | |
| TW201222851A (en) | Manufacturing method of bifacial solar cells | |
| CN101236998A (en) | Perspective amorphous silicon photovoltaic glass window |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20110729 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20120907 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20130308 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20120907 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |