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KR20120016129A - 높은 태양열 이득 계수를 갖는 태양광 조절 코팅 - Google Patents

높은 태양열 이득 계수를 갖는 태양광 조절 코팅 Download PDF

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KR20120016129A
KR20120016129A KR1020117029253A KR20117029253A KR20120016129A KR 20120016129 A KR20120016129 A KR 20120016129A KR 1020117029253 A KR1020117029253 A KR 1020117029253A KR 20117029253 A KR20117029253 A KR 20117029253A KR 20120016129 A KR20120016129 A KR 20120016129A
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앤드류 브이 와그너
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피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드
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Abstract

본 발명의 코팅은 태양열을 끌어들이고 보유하기 위해 높은 태양열 이득 계수(SHGC) 및 낮은 총괄 열 전달 계수(U-값)를 제공한다. 상기 코팅 및 코팅된 제품은 북부 기후에서 건축용 투명체에 사용하기에 특히 유용하다. 상기 코팅은 제 1 유전층; 제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된, 8nm 미만의 두께를 갖는 연속적인 금속 층; 금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머 층; 프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층; 및 제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트를 포함한다. 기준 IGU의 No. 3 표면 상에서 사용될 때, 상기 코팅은 0.6 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 제공한다.

Description

높은 태양열 이득 계수를 갖는 태양광 조절 코팅{SOLAR CONTROL COATING WITH HIGH SOLAR HEAT GAIN COEFFICIENT}
본 발명은 일반적으로 태양광 조절 코팅, 및 하나의 특정 실시양태에서는 높은 태양열 이득 계수(SHGC) 및 낮은 총괄 열 전달 계수(U-값)를 제공하는 태양광 조절 코팅에 관한 것이다.
관련 출원에 대한 참조
본원은 본원에 참고로 인용되는 미국 특허원 제 61/176,534 호(출원일: 2009년 5월 8일)에 기초한 우선권을 주장한다.
SHGC는 직접 투과되거나 흡수된 후 내부로 방출되는, 창을 통해 들어오는 입사 태양광선의 분율이다. SHGC가 낮을수록, 더 적은 태양열이 전도된다. U-값은 물질을 통한 태양열이 아닌 열의 손실 또는 취득 비율의 척도이다. U-값이 낮을수록, 열 유동 저항성이 더 커지고, 절연 값이 더 우수해진다.
건축용 및 자동차용 투명체(transparency) 분야에서는 태양광 조절 코팅이 공지되어 있다. 이들 태양광 조절 코팅은 태양광 적외선 또는 태양광 자외선 범위와 같은 선택된 범위의 전자기선을 차단하거나 여과하여, 차량 또는 건물에 들어가는 태양 에너지의 양을 감소시킨다. 태양 에너지 투과율의 이러한 감소는 특히 하절기에 차량 또는 건물의 냉각 단위장치의 부하를 감소시키는데 도움이 된다. 종래의 태양광 조절 코팅은 전형적으로 비교적 낮은 SHGC를 제공한다.
남부의 기후에서는 낮은 SHGC의 코팅이 유리하지만, 북부 기후에서는 이들이 바람직하지 않을 수 있다. 북부 기후에서는, SHGC가 더 높은 창을 가져서, 동절기 동안 태양으로부터의 열을 건물 내부에 더 많이 끌어들이는 것이 더욱 에너지 효율적일 수 있다. 이는 가을 및 겨울의 더욱 서늘한 날들이 봄 및 여름의 더욱 따뜻한 날들보다 수적으로 우세한 북부 기후에서는 특히 그러하다.
따라서, 북부 기후에서 건물의 에너지 효율을 개선하는 코팅 및/또는 코팅된 제품을 제공하는 것이 바람직하며, 이 때 목적은 태양으로부터의 열을 건물 내부에 끌어들이는 것이다. 코팅 및/또는 코팅된 제품은, 더 많은 태양열이 건물 내로 들어가게 하고 거기에 유지시키기 위하여 높은 SHGC를 가지면서, 낮은 복사율(emissivity)을 가져 낮은 U-값을 제공할 수 있다.
코팅은 태양열을 끌어들이고 유지시키기 위하여 높은 태양열 이득 계수(SHGC) 및 낮은 총괄 열 전달 계수(U-값)를 제공한다. 상기 코팅 및 코팅된 제품은 북부 기후에서 건물용 투명체에 특히 유용하다.
본 발명의 코팅된 투명체는 기재(substrate) 및 기재의 적어도 일부 상에 형성된 코팅을 포함한다. 상기 코팅은 기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층(dielectric layer); 제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 연속적인 금속 층(이는 8nm 미만의 두께를 가짐); 금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머(primer) 층; 프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층; 및 제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트(overcoat)를 포함한다. 상기 코팅은 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용될 때 0.6 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 제공한다.
하나의 예시적인 코팅에서, 제 1 유전층은 40nm 내지 50nm의 두께를 갖는다. 제 1 유전층은 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하며, 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 갖고, 주석산아연 필름은 25nm 내지 40nm의 두께를 갖는다. 금속 층은 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 프라이머 층은 티탄을 포함한다. 제 2 유전층은 30nm 내지 40nm의 두께를 갖는다. 제 2 유전층은 산화아연 필름 및 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함한다. 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 갖는다. 오버코트는 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고 티타니아를 포함한다. 코팅은 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용될 때 0.6 이상(예컨대, 0.65 이상)의 SHGC 및 0.35 이하(예를 들어, 0.33 이하)의 U-값을 제공한다.
다른 예시적인 코팅에서, 제 1 유전층은 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 1 유전층은 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 갖는다. 금속 층은 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 프라이머 층은 티탄을 포함한다. 제 2 유전층은 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 2 유전층은 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 갖는다. 오버코트는 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고 티타니아를 포함한다. 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용되는 경우 코팅은 0.6 이상(예컨대, 0.65 이상)의 SHGC 및 0.35 이하(예를 들어, 0.33 이하)의 U-값을 제공한다.
절연 유리 단위(unit)는 No. 1 표면 및 No. 2 표면을 갖는 제 1 기재, 및 제 1 기재로부터 이격되어 있고 No. 3 표면 및 No. 4 표면을 갖는 제 2 기재를 포함하며, 이 때 No. 3 표면은 No. 2 표면을 향한다. No. 3 표면의 적어도 일부 상에 코팅을 형성시킨다. 코팅은 기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층; 제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 연속적인 금속 층; 금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머 층; 프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층; 및 제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트를 포함하며, 이 때 금속 층은 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고, 프라이머 필름은 티탄을 포함한다. 절연 유리 단위는 0.6 이상(예컨대, 0.65 이상)의 SHGC 및 0.35 이하(예컨대, 0.33 이하)의 U-값을 갖는다. 하나의 예에서, 제 1 유전층은 40nm 내지 50nm의 두께를 갖고, 제 1 유전층은 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하고, 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 가지며, 주석산아연 필름은 25nm 내지 40nm의 두께를 갖는다. 금속 층은 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 프라이머 필름은 티탄을 포함한다. 제 2 유전층은 산화아연 필름 및 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함하고, 제 2 유전층은 30nm 내지 40nm의 두께를 갖고, 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 갖는다. 오버코트는 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고 티타니아를 포함한다. 다른 절연 유리 단위에서, 제 1 유전층은 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 1 유전층은 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 갖는다. 금속 층은 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 프라이머 필름은 티탄을 포함한다. 제 2 유전층은 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 2 유전층은 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 갖는다. 오버코트는 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고 티타니아를 포함한다.
다른 절연 유리 단위는 No. 1 표면 및 No. 2 표면을 갖는 제 1 기재; 제 1 기재로부터 이격되어 있고 No. 3 표면 및 No. 4 표면을 갖는 제 2 기재; 및 제 2 기재로부터 이격되어 있고 NO. 5 표면 및 No. 6 표면을 갖는 제 3 기재를 포함하며, 이 때 No. 3 표면은 No. 2 표면을 향한다. No. 5 표면의 적어도 일부 상에 제 1 코팅을 형성시킨다. 제 1 코팅은 기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층; 제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 연속적인 금속 층; 금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머 층; 프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층; 및 제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트를 포함하며, 이 때 오버코트는 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고 오버코트는 티타니아를 포함한다. No. 2 표면의 적어도 일부 상에 제 2 코팅을 형성시키는데, 제 2 코팅은 유전층에 의해 분리된 둘 이상의 금속 은 층을 포함한다. 절연 유리 단위는 0.6 이상(예컨대, 0.65 이상)의 SHGC 및 0.35 이하(예컨대, 0.33 이하)의 U-값을 갖는다. 하나의 예에서, 제 1 코팅의 제 1 유전층은 40nm 내지 50nm의 두께를 갖고, 제 1 유전층은 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하고, 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 가지며, 주석산아연 필름은 25nm 내지 40nm의 두께를 갖는다. 제 1 코팅의 금속 층은 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 제 1 코팅의 프라이머 필름은 티탄을 포함한다. 제 1 코팅의 제 2 유전층은 산화아연 필름 및 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함하고, 제 2 유전층은 30nm 내지 40nm의 두께를 갖고, 산화아연 필름은 3nm 내지 15nm의 두께를 갖는다. 제 1 코팅의 오버코트는 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고 티타니아를 포함한다. 다른 예에서, 제 1 코팅의 제 1 유전층은 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층, 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 1 유전층은 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 갖는다. 제 1 코팅의 금속 층은 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함한다. 제 1 코팅의 프라이머 필름은 티탄을 포함한다. 제 1 코팅의 제 2 유전층은 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이 때 제 2 유전층은 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 제 1 층 및 제 3 층은 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 가지며, 제 2 층 및 제 4 층은 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 갖는다. 제 1 코팅의 오버코트는 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고, 오버코트는 티타니아를 포함한다.
전체적으로 유사한 참조 번호가 유사한 부품을 나타내는 하기 도면을 참조하여 본 발명을 기재한다.
도 1은 본 발명의 코팅을 갖는 절연 유리 단위(IGU)의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
도 2는 본 발명의 특징부를 혼입한 코팅의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
도 3은 본 발명의 특징부를 혼입한 다른 코팅의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
도 4는 본 발명의 코팅을 갖는 다른 절연 유리 단위(IGU)의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
본원에 사용되는 "왼쪽", "오른쪽", "내부", "외부", "상부", "하부" 등과 같은 공간상의 용어 또는 방향상의 용어는 도면에 도시된 상태의 본 발명에 관련된 것이다. 그러나, 본 발명은 다양한 다른 배향을 취할 수 있고, 따라서 이러한 용어는 한정하는 것으로 간주되어서는 안되는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본원에 사용되는, 상세한 설명 및 특허청구범위에 사용되는 치수, 물리적 특징, 가공 매개변수, 구성성분의 양, 반응 조건 등을 표현하는 모든 수치는 모든 경우에 용어 "약"으로 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 달리 표시되지 않는 한, 하기 상세한 설명 및 특허청구범위에 기재된 수치 값은 본 발명에 의해 수득하고자 하는 목적하는 특성에 따라 달라질 수 있다. 최소한, 또한 특허청구범위의 영역에 대한 등가물의 원리의 적용을 한정하고자 하지 않으면서, 각각의 수치 값은 적어도 보고된 유의한 숫자의 수치에 비추어서 또한 통상적인 반올림 기법을 적용함으로써 유추되어야 한다. 뿐만 아니라, 본원에 개시된 모든 범위는 범위의 시작값과 끝값 및 그에 포함되는 임의의 모든 더 작은 범위를 포괄하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들면, "1 내지 10"의 언급된 범위는 최소값 1과 최대값 10 사이의(이들 두 값 포함) 임의의 모든 더 작은 범위, 즉 최소값 1 이상으로 시작하고 최대값 10 이하로 끝나는 모든 더 작은 범위, 예를 들어 1 내지 3.3, 4.7 내지 7.5, 5.5 내지 10 등을 포함하는 것으로 간주되어야 한다. 또한, 본원에 사용되는 용어 "상에 형성되는", "상에 침착되는" 또는 "상에 제공되는"은 표면 위에(그러나 반드시 표면과 접촉해야 하는 것은 아님) 형성, 침착 또는 제공된다는 의미이다. 예를 들어, 기재 "상에 형성된" 코팅 층은 형성된 코팅 층과 기재 사이에 위치되는 동일하거나 상이한 조성의 하나 이상의 다른 코팅 층 또는 필름의 존재를 배제하지 않는다. 용어 "가시광 영역" 또는 "가시광"은 380nm 내지 800nm의 파장을 갖는 전자기선을 가리킨다. 용어 "적외선 영역" 또는 "적외선"은 800nm보다 크고 100,000nm까지의 파장을 갖는 전자기선을 말한다. 용어 "자외선 영역" 또는 "자외선"은 300nm 내지 380nm 미만의 파장을 갖는 전자기 에너지를 의미한다. 또한, 본원에서 언급되는 허여된 특허 및 특허원 같은(이들로 국한되지는 않음) 문헌은 모두 그 전체가 "참고로 인용"되는 것으로 생각되어야 한다. 본원에 사용되는 용어 "필름"은 목적하는 또는 선택되는 코팅 조성물의 코팅 영역을 말한다. "층"은 하나 이상의 "필름"을 포함할 수 있고, "코팅" 또는 "코팅 스택(stack)"은 하나 이상의 "층"을 포함할 수 있다. 본원의 U-값은 0℉(-18℃)의 옥외 온도, 70℉(21℃)의 옥내 온도, 15마일/시간의 바람 및 태양광 부하가 없는 NFRC/ASHRAE 동계 조건에 대해 표현된다.
하기 논의에서, 본 발명은 절연 유리 단위(IGU) 같은(이것으로 한정되지는 않음) 건축용 투명체에서의 사용을 참조하여 논의된다. 본원에 사용되는 용어 "건축용 투명체"는 창 및 천창 같은(이들로 한정되지는 않음) 건물에 위치된 임의의 투명체를 가리킨다. 그러나, 본 발명은 이러한 건축용 투명체에서의 사용으로 한정되지 않으며, 적층(laminated) 또는 비-적층 주거용 및/또는 상업용 창, 및/또는 육상용 차량, 공중 비행체, 우주선, 수상 운송수단 및 수중 운송수단용 투명체 같은(이들로 국한되지는 않음) 임의의 목적하는 분야에서의 투명체에서 실행될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 구체적으로 개시된 예시적인 실시양태는 단순히 본 발명의 개략적인 개념을 설명하기 위하여 제공되며, 본 발명은 이들 구체적이고 예시적인 실시양태로 한정되지는 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 전형적인 "투명체"는 물질이 투명체를 통해 보일 수 있도록 충분한 가시광 투과율을 가질 수 있으나, 본 발명을 실행함에 있어서 "투명체"는 가시광에 대해 투명해야 할 필요가 없고 (아래 기재되는 바와 같이) 반투명하거나 불투명할 수 있다.
본 발명의 특징부를 혼입하는 비제한적인 투명체(10)가 도 1에 도시된다. 투명체(10)는 임의의 목적하는 가시광, 적외선 또는 자외선 투과율 및/또는 반사율을 가질 수 있다. 예를 들어, 투명체(10)는 임의의 목적하는 양의, 예컨대 0%보다 크고 100% 이하인 가시광 투과율을 가질 수 있다.
도 1의 예시적인 투명체(10)는 통상적인 2겹 절연 유리 단위의 형태이고, 제 1 주표면(14)(No. 1 표면) 및 반대쪽 제 2 주표면(16)(No. 2 표면)을 갖는 제 1 겹(12)을 포함한다. 도시된 비제한적인 실시양태에서, 제 1 주표면(14)은 건물 외부를 향하고(즉, 외부 주표면이고), 제 2 주표면(16)은 건물의 내부를 향한다. 투명체(10)는 또한 외부(제 1) 주표면(20)(No. 3 표면) 및 내부(제 2) 주표면(22)(No. 4 표면)을 갖고 제 1 겹(12)으로부터 이격되어 있는 제 2 겹(18)도 포함한다. 겹 표면의 이 숫자 매기기는 창을 만드는 분야에서의 통상적인 관행에 일치된다. 제 1 겹(12)과 제 2 겹(18)은 통상적인 스페이서 프레임(24)에 접착 결합되는 것과 같은 임의의 적합한 방식으로 함께 연결될 수 있다. 두 겹(12, 18) 사이에 간격 또는 챔버(26)가 형성된다. 챔버(26)는 공기 또는 비-반응성 기체(예컨대, 아르곤 또는 크립톤 기체) 같은 선택된 대기로 채워질 수 있다. No. 2 표면(16)의 적어도 일부 상에 또는 No. 3 표면(20)의 적어도 일부 상에와 같은(이들로 한정되지는 않음) 겹(12, 18)중 하나의 적어도 일부 상에 본 발명의 태양광 조절 코팅(30)을 형성시킨다. 그러나, 코팅은 요구되는 경우 No. 1 표면 또는 No. 4 표면 상에 있을 수도 있다. 절연 유리 단위의 예는 예컨대 미국 특허 제 4,193,236 호; 제 4,464,874 호; 제 5,088,258 호; 및 제 5,106,663 호에 기재되어 있다.
본 발명의 광범위한 실시에 있어서, 투명체(10)의 겹(12, 18)은 동일하거나 상이한 물질일 수 있다. 겹(12, 18)은 임의의 목적하는 특징을 갖는 임의의 목적하는 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 겹(12, 18)중 하나 이상은 가시광에 대해 투과성이거나 반투과성일 수 있다. "투과성"이란 0%보다 크고 100% 이하인 가시광 투과율을 가짐을 의미한다. 다르게는, 겹(12, 18)중 하나 이상이 반투과성일 수 있다. "반투과성"이란 전자기 에너지(예컨대, 가시광)가 그를 통해 통과하도록 하지만 관찰자 반대쪽 편에 있는 물체가 선명하게 보이지 않도록 이 에너지를 확산시킴을 의미한다. 적합한 물질의 예는 플라스틱 기재(예를 들어, 폴리아크릴레이트 같은 아크릴 중합체; 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리프로필메타크릴레이트 등과 같은 폴리알킬메타크릴레이트; 폴리우레탄; 폴리카본에이트; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트 등과 같은 폴리알킬테레프탈레이트; 폴리실록세인-함유 중합체; 또는 이들을 제조하기 위한 임의의 단량체의 공중합체, 또는 이들의 임의의 혼합물); 세라믹 기재; 유리 기재; 또는 상기중 임의의 것의 혼합물 또는 조합을 포함하지만, 이들로 한정되지는 않는다. 예를 들어, 겹(12, 18)중 하나 이상은 통상적인 소다-석회-실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리 또는 납땜 유리를 포함할 수 있다. 유리는 투명(clear) 유리일 수 있다. "투명 유리"란 염색되지 않거나 또는 착색되지 않은 유리를 의미한다. 다르게는, 유리는 염색되거나 또는 달리 착색된 유리일 수 있다. 유리는 어닐링되거나 또는 열처리된 유리일 수 있다. 본원에 사용되는 용어 "열처리된"이란 템퍼링(tempering)되거나 또는 적어도 부분적으로 템퍼링됨을 의미한다. 유리는 통상적인 플로트(float) 유리 같은 임의의 유형일 수 있으며, 임의의 광학 특성, 예를 들어 임의의 가시광 투과율 값, 임의의 자외선 투과율 값, 임의의 적외선 투과율 값 및/또는 임의의 총 태양 에너지 투과율 값을 갖는 임의의 조성을 가질 수 있다. "플로트 유리"란 용융된 유리를 용융된 금속 욕 상에 침착시키고 조절하면서 냉각시켜 플로트 유리 리본을 생성시키는 통상적인 플로트 방법에 의해 제조된 유리를 의미한다. 플로트 유리 공정의 예는 미국 특허 제 4,466,562 호 및 제 4,671,155 호에 개시되어 있다.
제 1 겹 및 제 2 겹(12, 18)은 각각 예컨대 맑은 플로트 유리일 수 있거나 또는 염색되거나 착색된 유리일 수 있거나, 또는 하나의 겹(12, 18)은 투명 유리일 수 있고 나머지 하나의 겹(12, 18)은 착색된 유리일 수 있다. 본 발명을 한정하지는 않지만, 제 1 겹(12) 및/또는 제 2 겹(18)에 적합한 유리의 예는 미국 특허 제 4,746,347 호; 제 4,792,536 호; 제 5,030,593 호; 제 5,030,594 호; 제 5,240,886 호; 제 5,385,872 호; 및 제 5,393,593 호에 기재되어 있다. 제 1 겹 및 제 2 겹(12, 18)은 임의의 목적하는 치수, 예를 들어 길이, 폭, 형상 또는 두께를 가질 수 있다. 하나의 예시적인 투명체에서, 제 1 겹 및 제 2 겹은 각각 두께가 1mm 내지 10mm, 예를 들어 1mm 내지 8mm, 예컨대 2mm 내지 8mm, 예를 들어 3mm 내지 7mm, 예를 들어 5mm 내지 7mm, 예를 들어 6mm일 수 있다. 본 발명을 실시하는데 사용될 수 있는 유리의 비한정적인 예는 투명 유리, 스타파이어(Starphire)？, 솔라그린(Solargreen)？, 솔렉스트라(Solextra)？, GL-20？, GL-35™, 솔라브론즈(Solarbronze)？, 솔라그레이(Solargray)？ 유리, 패시피카(Pacifica)？ 유리, 솔라블루(SolarBlue)？ 유리, 솔라파이어(Solarphire)？ 유리, 솔라파이어 PV？ 유리 및 옵티블루(Optiblue)？ 유리를 포함하며, 이들은 모두 펜실베이니아주 피츠버그 소재의 피피지 인더스트리즈, 인코포레이티드(PPG Industries, Inc.)에서 시판중이다.
유리 겹(12, 18)중 하나의 하나 이상의 주표면의 적어도 일부 상에 본 발명의 코팅(30)을 침착시킨다. 도 1에 도시된 예에서는, 안쪽 유리 겹(18)의 외표면(20)의 적어도 일부 상에 코팅(30)이 형성되어 있다. 코팅(30)은 태양열이 들어가도록 하고 보유하는 낮은 복사율의 코팅이도록 구성된다.
통상적인 화학적 증착(CVD) 및/또는 물리적 증착(PVD) 방법 같은(이들로 제한되지는 않음) 임의의 통상적인 방법에 의해 코팅(30)을 침착시킬 수 있다. PVD 방법의 예는 열 증착 또는 전자 빔 증착 및 진공 스퍼터링[예를 들어, 마그네트론 스퍼터 증착(MSVD)]을 포함한다. 졸-겔 침착 같은(이것으로 국한되는 것은 아님) 다른 코팅 방법도 이용할 수 있다. 하나의 비제한적인 실시양태에서는, MSVD에 의해 코팅(30)을 침착시킬 수 있다. MSVD 코팅 장치 및 방법의 예는 당 업자에게 널리 알려져 있으며, 예를 들어 미국 특허 제 4,379,040 호; 제 4,861,669 호; 제 4,898,789 호; 제 4,898,790 호; 제 4,900,633 호; 제 4,920,006 호; 제 4,938,857 호; 제 5,328,768 호; 및 제 5,492,750 호에 기재되어 있다.
본 발명의 예시적이고 비한정적인 코팅(30)이 도 2에 도시되어 있다. 이 예시적인 코팅(30)은 기재의 주표면(예를 들어, 제 2 겹(18)의 No. 3 표면(20))의 적어도 일부 상에 침착된 기저 층(base layer) 또는 제 1 유전층(40)을 포함한다. 제 1 유전층(40)은 단일 층일 수 있거나, 또는 금속 산화물, 금속 함금의 산화물, 질화물, 산질화물(oxynitride) 또는 이들의 혼합물 같은(이들로 국한되지는 않음) 반사 방지 물질 및/또는 유전성 물질의 하나보다 많은 필름을 포함할 수 있다. 제 1 유전층(40)은 가시광에 대해 투명할 수 있다. 제 1 유전층(40)에 적합한 금속 산화물의 예는 티탄, 하프늄, 지르코늄, 니오브, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석 및 이들의 혼합물의 산화물을 포함한다. 이들 금속 산화물은 산화비스무트 중의 망간, 산화인듐 중의 주석 등과 같은 다른 물질을 소량 가질 수 있다. 또한, 아연과 주석을 함유하는 산화물(예컨대, 주석산아연), 인듐-주석-합금의 산화물, 질화규소, 질화알루미늄규소 또는 질화알루미늄 같은 금속 합금 또는 금속 혼합물의 산화물을 사용할 수 있다. 뿐만 아니라, 안티몬 또는 인듐 도핑된 산화주석, 또는 니켈 또는 붕소 도핑된 산화규소 같은 도핑된 금속 산화물을 사용할 수 있다. 제 1 유전 층(40)은 금속 합금 산화물 필름, 예컨대 주석산아연 같은 실질적인 단일 상 필름일 수 있거나, 또는 산화아연과 산화주석으로 이루어진 상의 혼합물일 수 있거나, 또는 복수개의 필름으로 구성될 수 있다.
제 1 유전층(40)(단일 필름 층 또는 다중 필름 층인지의 여부에 상관없이)은 20nm 내지 70nm, 예컨대 20nm 내지 60nm, 예를 들어 30nm 내지 60nm, 예를 들어 40nm 내지 55nm, 예컨대 44nm 내지 46nm, 예컨대 45nm의 두께를 가질 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 유전층(40)은 기재(예를 들어, 제 2 겹(18)의 외부 주표면(20))의 적어도 일부 상에 침착된 제 1 필름(42), 예컨대 금속 합금 산화물 필름, 및 제 1 금속 합금 산화물 필름(42) 상에 침착된 제 2 필름(44), 예를 들어 금속 산화물 또는 산화물 혼합물 필름을 갖는 다중-필름 구조체를 포함할 수 있다. 하나의 비한정적인 실시양태에서, 제 1 필름(42)은 아연/주석 합금 산화물일 수 있다. "아연/주석 합금 산화물"이란 진정한 합금 및 산화물의 혼합물 둘 다를 의미한다. 아연/주석 합금 산화물은 아연 및 주석의 캐쏘드로부터의 마그네트론 스퍼터링 진공 침착에 의해 수득되는 것일 수 있다. 하나의 비제한적인 캐쏘드는 5중량% 내지 95중량%의 아연 및 95중량% 내지 5중량%의 주석, 예를 들어 10중량% 내지 90중량%의 아연 및 90중량% 내지 10중량%의 주석의 비율로 아연과 주석을 포함할 수 있다. 그러나, 아연 대 주석의 다른 비도 또한 이용될 수 있다. 제 1 필름(42)에 존재할 수 있는 한 가지 적합한 금속 합금 산화물은 주석산아연이다. "주석산아연"이란 ZnxSn1 - xO2 -x(화학식 1)의 조성을 의미하며, 이 때 "x"는 0보다 크고 1보다 작은 범위에서 변한다. 예를 들어, "x"는 0보다 클 수 있고, 0보다 크고 1보다 작은 임의의 분수 또는 소수일 수 있다. 예를 들면, x=2/3인 경우, 화학식 1은 Zn2 /3Sn1 /3O4 /3이며, 이는 더욱 통상적으로는 "Zn2SnO4"로 기재된다. 주석산아연-함유 필름은 화학식 1의 형태중 하나 이상을 우세한 양으로 필름에 가진다.
제 2 필름(44)은 산화아연 함유 필름 같은 금속 산화물 필름일 수 있다. 산화아연 필름은 캐쏘드의 스퍼터링 특징을 개선하기 위하여 다른 물질을 포함하는 아연 캐쏘드로부터 침착될 수 있다. 예를 들어, 아연 캐쏘드는 스퍼터링을 개선하기 위하여 소량(예를 들어, 10중량% 이하, 예컨대 5중량% 이하)의 주석을 포함할 수 있다. 이 경우, 생성되는 산화아연 필름은 작은 백분율의 산화주석, 예를 들어 10중량% 이하의 산화주석, 예컨대 5중량% 이하의 산화주석을 포함한다. 10중량% 이하의 주석(캐쏘드의 전도율을 향상시키기 위하여 첨가됨)을 갖는 아연 캐쏘드로부터 침착되는 코팅 층은 소량의 주석이 존재할 수 있음에도 불구하고 본원에서 "산화아연 필름"으로 일컬어진다. 캐쏘드 중의 소량(예를 들어, 10중량% 이하, 예컨대 5중량% 이하)의 주석은 우세하게 산화아연인 제 2 필름(44) 중에서 산화주석을 형성하는 것으로 생각된다.
제 1 필름(42)은 20nm 내지 60nm, 예컨대 25nm 내지 50nm, 예컨대 35nm 내지 40nm의 두께를 갖는 주석산아연을 포함할 수 있다. 제 2 필름(44)은 3nm 내지 15nm, 예를 들어 5nm 내지 10nm의 두께를 갖는 산화아연(예를 들어, 산화아연 90중량% 및 산화주석 10중량%)을 포함할 수 있다.
제 1 유전층(40) 상에는 열 및/또는 선 반사성 금속 층(46)을 침착시킬 수 있다. 반사 층(46)은 금, 구리, 백금, 오스뮴, 티탄, 니켈, 크롬, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 이들의 혼합물, 합금 또는 조합 같은(이들로 한정되지는 않음) 반사성 금속을 포함할 수 있다. 하나의 실시양태에서, 반사 층(46)은 3nm 내지 8nm, 예를 들어 4nm 내지 8nm, 예컨대 5nm 내지 7nm, 예컨대 6nm 내지 7nm의 두께를 갖는 금속 은 층을 포함한다. 금속 층(46)은 연속적인 층이다.
제 1 프라이머 층(48)이 반사 층(46) 상에 위치된다. 제 1 프라이머 층(48)은 단일 필름 또는 다중 필름 층일 수 있다. 제 1 프라이머 층(48)은 침착 공정 동안 희생될 수 있는 산소-포획 물질을 포함하여, 스퍼터링 공정 또는 후속 가열 공정 동안 제 1 반사 층(46)의 열화 또는 산화를 방지할 수 있다. 제 1 프라이머 층(48)에 유용한 물질의 예는 티탄, 지르코늄, 구리, 니켈, 크롬, 알루미늄 같은 금속 또는 금속의 산화물; 규소, 이산화규소, 질화규소, 산질화규소, 니켈-크롬 합금(예컨대, 인코넬), 지르코늄, 알루미늄, 규소와 알루미늄의 합금, 코발트 및 크롬을 함유하는 합금(예를 들어, 스텔라이트), 및 이들의 혼합물을 포함한다. 예를 들어, 제 1 프라이머 층(48)은 0.5 내지 3nm, 예를 들어 0.5 내지 2nm, 예컨대 1nm 내지 2nm, 예컨대 1.4nm의 두께를 갖는 티탄일 수 있다.
프라이머 층(48)의 경우, 먼저 금속을 침착시킴으로써 층을 생성시킴을 알아야 한다. 코팅(30)의 추가 공정 동안 금속의 적어도 일부가 산화된다. 어닐링되는 코팅(아래 실시예 1 및 3)의 경우에는, 위에 놓이는 산화물 층의 후속 침착 동안 티탄 프라이머 층이 산화된다. 템퍼링가능한 코팅(하기 실시예 2 내지 4)의 경우에는, 산화물 층의 후속 침착 동안 티탄중 일부가 산화되고, 나머지는 템퍼링시에 산화된다.
제 2 유전층(50)이 반사 층(46) 상에(예를 들어, 제 1 프라이머 층(48) 상에) 위치된다. 제 2 유전층(50)은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름, 예를 들어 제 1 유전층(40)과 관련하여 상기 기재된 것을 포함한다. 예를 들어, 제 2 유전층(50)은 제 1 프라이머 층(48) 상에 침착되는 제 1 금속 산화물 필름(52), 예컨대 산화아연 필름(예를 들어, 산화아연 90중량% 및 산화주석 10중량%) 및 제 1 산화아연 필름(52) 상에 침착되는 제 2 금속 합금 산화물 필름(54), 예컨대 주석산아연 필름을 포함할 수 있다.
제 2 유전층(50)은 10nm 내지 50nm, 예를 들어 20nm 내지 50nm, 예컨대 30nm 내지 50nm, 예를 들어 30nm 내지 40nm, 예를 들어 35nm 내지 40nm, 예컨대 36.2nm의 총 두께(예를 들어, 층들의 합쳐진 두께)를 가질 수 있다.
예를 들어, 산화아연 필름(52)은 3nm 내지 15nm, 예컨대 5nm 내지 10nm의 두께를 가질 수 있다. 금속 합금 산화물 층(주석산아연)(54)은 15nm 내지 35nm, 예를 들어 20nm 내지 35nm, 예컨대 21nm 내지 31nm의 두께를 가질 수 있다.
오버코트(60)가 제 2 유전층(50) 상에 위치할 수 있다. 오버코트(60)는 기계적 및 화학적 공격으로부터 아래에 놓인 코팅 층을 보호하는데 도움을 줄 수 있다. 오버코트(60)는 예를 들어 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 질화물 층일 수 있다. 적합한 물질의 예는 규소, 티탄, 알루미늄, 지르코늄의 산화물 및/또는 질화물, 및 이들의 혼합물, 예를 들어 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함한다. 예를 들어, 오버코트(60)는 1nm 내지 10nm, 예를 들어 2nm 내지 8nm, 예컨대 4nm 내지 6nm, 예컨대 5nm의 두께를 갖는 티타니아일 수 있다.
코팅(30)은 또한 임의적인 보호 코팅(70)도 포함할 수 있다. 보호 코팅(70)은 당해 분야에서 제조, 운송, 취급, 가공 동안 및/또는 거울의 유효 수명 동안 기계적 및 화학적 공격으로부터 아래에 놓인 층을 보호하는데 도움을 준다. 보호 코팅(70)은 또한 액체 물, 수증기 및 다른 환경 오염물질(이들은 고체, 액체 또는 기체임)의 침입으로부터 아래에 놓인 층을 보호하는데 도움을 준다.
보호 코팅(70)은 산소 차단 코팅 층이어서, 후속 가공 동안, 예를 들어 가열 또는 굽힘 동안 아래에 놓인 층 내로의 주위 산소의 통과를 방지 또는 감소시킬 수 있다. 보호 코팅(70)은 하나 이상의 무기 물질 같은(이들로 한정되지는 않음) 임의의 목적하는 물질 또는 물질의 혼합물일 수 있다. 하나의 예시적인 실시양태에서, 보호 코팅(70)은 알루미늄, 규소의 산화물 또는 이들의 혼합물 같은(이들로 국한되지는 않음) 하나 이상의 금속 산화물 물질을 갖는 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 보호 코팅(70)은 실리카, 알루미나 또는 이들의 혼합물을 포함하는 단일 코팅 층일 수 있다. 예를 들면, 보호 코팅(70)은 70중량% 내지 99중량%의 실리카 및 1중량% 내지 30중량%의 알루미나, 예컨대 75중량% 내지 90중량%의 실리카 및 25중량% 내지 10중량%의 알루미나, 예를 들어 80중량% 내지 90중량%의 실리카 및 20중량% 내지 10중량%의 알루미나, 예컨대 85중량% 내지 90중량%의 실리카 및 15중량% 내지 10중량%의 알루미나의 범위로 실리카 및 알루미나를 포함할 수 있다. 하나의 특정한 비제한적인 실시양태에서, 보호 코팅(70)은 85중량%의 실리카 및 15중량%의 알루미나를 포함한다. 보호 코팅(70)의 굴절률을 조정하기 위하여 알루미늄, 크롬, 하프늄, 이트륨, 니켈, 붕소, 인, 티탄, 지르코늄 및/또는 이들의 산화물 같은 다른 물질도 존재할 수 있다. 보호 코팅(70)은 불균일한 두께를 가질 수 있다. "불균일한 두께"란 보호 코팅(70)의 두께가 주어진 단위 면적에 걸쳐 변할 수 있다는 의미이다. 예를 들어, 보호 코팅(70)은 높은 장소 또는 면적 및 낮은 장소 또는 면적을 가질 수 있다. 보호 코팅(70)은 1nm 내지 1,000nm, 예를 들어 10nm 내지 500nm, 예컨대 20nm 내지 300nm, 예컨대 50nm 내지 300nm, 예를 들어 50nm 내지 200nm, 예를 들어 50nm 내지 150nm, 예컨대 50nm 내지 120nm, 예컨대 75nm 내지 120nm, 예를 들어 75nm 내지 100nm의 두께를 가질 수 있다. 특정한 비제한적인 실시양태에서, 보호 코팅(50)은 50nm 이상, 예를 들어 75nm 이상, 예컨대 100nm 이상, 예컨대 110nm 이상, 예를 들어 120nm 이상, 예를 들어 150nm 이상, 예컨대 200nm 이상의 두께를 가질 수 있다.
다른 비한정적인 실시양태에서, 보호 코팅(70)은 다층 구조체, 예를 들어 제 1 층 상에 형성된 하나 이상의 제 2 층과 함께 제 1 층을 포함할 수 있다. 하나의 구체적이고 비제한적인 실시양태에서, 제 1 층은 알루미나 또는 알루미나와 실리카를 포함하는 혼합물 또는 합금을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 층은 5중량%보다 많은 알루미나, 예를 들어 10중량%보다 많은 알루미나, 예를 들어 15중량%보다 많은 알루미나, 예컨대 30중량%보다 많은 알루미나, 예컨대 40중량%보다 많은 알루미나, 예를 들어 50중량% 내지 70중량%의 알루미나, 예컨대 70중량 내지 100중량%의 알루미나 및 30중량% 내지 0중량%의 실리카, 예를 들어 90중량%보다 많은 알루미나, 예컨대 95중량%보다 많은 알루미나를 갖는 실리카와 알루미나 혼합물을 포함할 수 있다. 하나의 비한정적인 실시양태에서, 제 1 층은 모두 또는 실질적으로 모두 알루미나를 포함한다. 제 1 층은 0nm 내지 1μ, 예를 들어 5nm 내지 10nm, 예컨대 10nm 내지 25nm, 예컨대 10nm 내지 15nm의 두께를 가질 수 있다. 제 2 층은 실리카 또는 실리카와 알루미나를 포함하는 혼합물 또는 합금을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 층은 40중량%보다 많은 실리카, 예를 들어 50중량%보다 많은 실리카, 예를 들어 60중량%보다 많은 실리카, 예컨대 70중량%보다 많은 실리카, 예를 들어 80중량%보다 많은 실리카, 예를 들어 80중량% 내지 90중량%의 실리카 및 10중량% 내지 20중량%의 알루미나, 예를 들어 85중량%의 실리카 및 15중량%의 알루미나를 갖는 실리카와 알루미나 혼합물을 포함할 수 있다. 제 2 층은 0nm 내지 2μ, 예를 들어 5nm 내지 500nm, 예를 들어 5nm 내지 200nm, 예컨대 10nm 내지 100nm, 예컨대 30nm 내지 50nm, 예를 들어 35nm 내지 40nm의 두께를 가질 수 있다. 다른 비제한적인 실시양태에서, 제 2 층은 0nm보다 크고 1μ까지, 예를 들어 5nm 내지 10nm, 예컨대 10nm 내지 25nm, 예컨대 10nm 내지 15nm의 두께를 가질 수 있다. 다른 비한정적인 실시양태에서, 보호 코팅(70)은 다른 하나의 금속 산화물-함유 층(예를 들어, 실리카 및/또는 알루미나-함유 제 2 층) 상에 형성된 하나의 금속 산화물-함유 층(예를 들어, 실리카 및/또는 알루미나-함유 제 1 층)에 의해 형성되는 복층일 수 있다. 다층 보호 코팅의 개별적인 층은 임의의 목적하는 두께를 가질 수 있다. 적합한 보호 코팅(70)의 비제한적인 예는 예를 들어 미국 특허원 제 10/007,382 호; 제 10/133,805 호; 제 10/397,001 호; 제 10/422,094 호; 제 10/422,095 호; 및 제 10/422,096 호에 기재되어 있다.
보호 코팅(70)은 오버코트(60) 상에 위치할 수 있다. 다르게는, 보호 코팅(70)은 오버코트(60) 아래에, 예를 들어 오버코트(60)와 제 2 유전층(50) 사이에 위치할 수 있다. 또는, 오버코트(60)는 없앨 수 있으며, 오버코트(60) 대신 사용되는 보호 코팅(70), 즉 보호 코팅(70)이 제 2 유전층(50) 상에 제공된다.
임의적인 제 2 프라미어 층(도시되지 않음)이 제 1 유전층(40)과 금속 층(46) 사이에 위치될 수 있다. 임의적인 제 2 프라이머 층은 제 1 프라이머 층(48)에 대해 상기 기재된 물질중 임의의 것으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 임의적인 제 2 프라이머 층은 0.5nm 내지 2nm, 예를 들어 1nm 내지 2nm, 예컨대 1.5nm의 두께를 갖는 티탄일 수 있다.
본 발명의 다른 비제한적인 코팅(100)이 도 3에 도시되어 있다. 이 예시적인 코팅(100)은 기재의 주표면(예를 들어, 제 2 겹(18)의 No. 3 표면(20))의 적어도 일부 상에 침착되는 기저 층 또는 제 1 유전층(102)을 포함한다. 제 1 유전층(102)은 단일 층일 수 있거나 또는 금속 산화물, 금속 합금의 산화물, 질화물, 산질화물 또는 이들의 혼합물 같은(이들로 한정되지는 않음) 반사 방지 물질 및/또는 유전성 물질의 하나보다 많은 필름을 포함할 수 있다. 제 1 유전층(102)은 가시광에 대해 투명할 수 있다. 제 1 유전층(102)에 적합한 금속 산화물의 예는 티탄, 하프늄, 지르코늄, 니오브, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석의 산화물, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 이들 금속 산화물은 산화비스무트 중의 망간, 산화인듐 중의 주석 등과 같은 다른 물질을 소량으로 가질 수 있다. 또한, 아연 및 주석을 함유하는 산화물(예컨대, 주석산아연), 인듐-주석-합금의 산화물, 질화규소, 질화알루미늄규소 또는 질화알루미늄 같은 금속 합금 또는 금속 혼합물의 산화물을 사용할 수 있다. 또한, 안티몬 또는 인듐 도핑된 산화주석 또는 니켈 또는 붕소 도핑된 산화규소 같은 도핑된 금속 산화물을 사용할 수 있다. 제 1 유전층(102)은 금속 합금 산화물 필름, 예컨대 주석산아연 같은 실질적인 단일 상 필름일 수 있거나, 또는 산화아연과 산화주석으로 이루어진 상들의 혼합물일 수 있거나, 또는 복수개의 필름으로 구성될 수 있다.
제 1 유전층(102)(단일 필름 층이건 다중 필름 층이건에 상관없이)은 20nm 내지 70nm, 예를 들어 20nm 내지 60nm, 예컨대 30nm 내지 60nm, 예컨대 40nm 내지 55nm, 예를 들어 44nm 내지 48nm, 예컨대 47nm의 두께를 가질 수 있다.
제 1 유전층(102)은 제 1 필름(104), 예를 들어 금속 합금 산화물 필름, 제 2 필름(106), 예컨대 제 1 금속 합금 산화물 필름(104) 상에 침착된 금속 산화물 또는 산화물 혼합물 필름, 제 3 필름(108), 예를 들어 금속 합금 산화물 필름, 및 제 4 필름(110), 예를 들어 제 3 금속 합금 산화물 필름(104) 상에 침착된 금속 산화물 또는 산화물 혼합물 필름을 갖는 다중-필름 구조체를 포함할 수 있다. 제 1 필름(104) 및 제 3 필름(108)은 주석산아연을 포함할 수 있다. 제 2 필름(106) 및 제 4 필름(110)은 산화아연, 예를 들어 산화아연 90중량% 및 산화주석 10중량%를 포함할 수 있다.
예를 들어, 제 1 필름(104) 및 제 3 필름(108)은 주석산아연일 수 있으며, 각 필름은 5nm 내지 25nm, 예를 들어 10nm 내지 20nm, 예컨대 15nm 내지 20nm, 예컨대 15nm 내지 17nm, 예를 들어 16nm 내지 17nm의 두께를 갖는다. 필름은 동일한 두께를 가져야 하는 것은 아니다. 제 2 필름(106) 및 제 4 필름(110)은 산화아연(예를 들어, 산화아연 90중량% 및 산화주석 10중량%)일 수 있고, 각 필름은 3nm 내지 10nm, 예를 들어 4nm 내지 8nm, 예컨대 5nm 내지 8nm, 예를 들어 6nm 내지 8nm의 두께를 가질 수 있다. 필름은 동일한 두께를 가져야 하는 것은 아니다. 예를 들어, 제 2 필름은 제 4 필름보다 더 두꺼울 수 있다.
열 및/또는 선 반사성 금속 층(112)이 제 1 유전층(102) 상에 침착되며, 금속 층(46)에 대해 상기 기재된 바와 같을 수 있다. 하나의 실시양태에서, 반사 층(112)은 3nm 내지 8nm, 예를 들어 4nm 내지 8nm, 예컨대 5nm 내지 7nm, 예를 들어 6nm 내지 7nm의 두께를 갖는 금속 은을 포함한다. 금속 층(112)은 연속적인 층이다.
프라이머 층(114)이 반사 층(112) 상에 위치한다. 프라이머 층(114)은 프라이머 층(48)에 대해 상기 기재된 것과 같을 수 있다. 예를 들어, 프라이머 층(114)은 티탄일 수 있고, 0.5 내지 5nm, 예컨대 1nm 내지 5nm, 예컨대 2nm 내지 5nm, 예를 들어 3nm 내지 4nm의 두께를 가질 수 있다.
제 2 유전층(120)이 반사 층(112) 상에(예를 들어, 제 1 프라이머 층(114) 상에) 위치된다. 제 2 유전층(120)은 제 1 유전층(40)과 관련하여 상기 기재된 것과 같은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름을 포함한다. 예를 들어, 제 2 유전층(120)은 제 1 금속 산화물 필름(122), 예를 들어 산화아연 필름, 제 2 금속 합금 산화물 필름(124), 예컨대 주석산아연 필름, 제 3 금속 산화물 필름(126), 예를 들어 산화아연 필름, 및 제 4 금속 합금 산화물 필름(128), 예컨대 주석산아연 필름을 포함할 수 있다.
제 2 유전층(120)은 10nm 내지 50nm, 예컨대 20nm 내지 50nm, 예를 들어 30nm 내지 50nm, 예컨대 30nm 내지 40nm, 예를 들어 30nm 내지 35nm의 총 두께(예를 들어, 층들의 합쳐진 두께)를 가질 수 있다.
예를 들어, 산화아연 필름(122, 126)은 각각 3nm 내지 15nm, 예를 들어 3nm 내지 10nm, 예컨대 3nm 내지 5nm, 예컨대 4nm 내지 5nm의 두께를 가질 수 있다. 필름은 동일한 두께를 가져야 하는 것은 아니다. 금속 합금 산화물(주석산아연) 층(124, 128)은 5nm 내지 20nm, 예를 들어 5nm 내지 15nm, 예를 들어 10nm 내지 15nm, 예컨대 11nm 내지 12nm의 두께를 가질 수 있다. 필름은 동일한 두께를 가져야 하는 것은 아니다.
오버코트(140)가 제 2 유전층(120) 상에 위치될 수 있다. 오버코트(140)는 오버코트(60)에 대해 상기 기재된 것과 동일할 수 있다. 예를 들어, 오버코트(140)는 1nm 내지 10nm, 예를 들어 2nm 내지 8nm, 예컨대 4nm 내지 8nm, 예를 들어 6nm 내지 8nm의 두께를 갖는 티타니아일 수 있다.
임의적인 보호 코팅(150)이 제공될 수 있다. 보호 코팅(150)은 보호 코팅(70)에 대해 상기 기재된 바와 같을 수 있다. 보호 코팅(150)은 오버코트(140) 상에, 오버코트(140) 아래에 위치될 수 있거나, 또는 오버코트(140) 대신 사용될 수 있다.
3mm 투명 유리의 패널 두 개, 아르곤 기체로 채워진 두 패널 사이의 0.5인치 간격을 갖는 기준 절연 유리 단위("IGU")를 제조하는데 사용되는 코팅(30, 100) 및 IGU의 No. 3 표면 상의(즉, 내부 유리 패널의 외표면 상의) 코팅(30, 100)은 0.60 이상, 예를 들어 0.62 이상, 예를 들어 0.63 이상, 예컨대 0.65 이상, 예컨대 0.66 이상, 예컨대 0.67 이상, 예컨대 0.70 이상, 예를 들어 0.75 이상의 SHGC 및 0.40 이하, 예를 들어 0.38 이하, 예를 들어 0.36 이하, 예컨대 0.35 이하, 예컨대 0.34 이하, 예를 들어 0.33 이하, 예컨대 0.32 이하, 예를 들어 0.30 이하, 예를 들어 0.28 이하의 U-값의 성능을 달성할 수 있다.
본 발명의 무채색 고투과율 코팅은 또한 도 4에 도시된 삼중(triple glazed) IGU(80)에 사용하기 위한 코팅으로서 매우 적합하다. 도 4의 IGU(80)는 도 1의 IGU(10)와 유사하지만 제 2 겹(18)으로부터 이격된 제 3 겹(82)을 포함한다. 제 3 겹(82)은 외표면(84)(No. 5 표면) 및 반대쪽의 제 2 주표면(86)(No. 6 표면)을 갖는다. No. 5 표면 상에 본 발명의 코팅(30 또는 100)이 침착될 수 있다. 다른 코팅(88)이 또한 IGU(80)에 혼입될 수 있다. 하나의 비한정적인 실시양태에서, 코팅(88)은 코팅(30 또는 100)과 동일할 수 있다. 예를 들어, 코팅(30 또는 100)은 No. 5 표면의 적어도 일부 상에 형성될 수 있고, 코팅(88)(코팅(30 또는 100))은 No. 2 또는 No. 3 표면의 적어도 일부 상에 형성되어, 높은 SHGC를 제공할 수 있다. 본 발명의 다른 비한정적인 실시양태에서는, 높은 가시광 투과율 및 낮은 U-값을 갖는 더 낮은 SHGC IGU를 획득하기 위하여, 코팅(30 또는 100)은 상기 기재된 바와 같을 수 있지만 코팅(88)은 SHGC가 더 낮은 코팅일 수 있다. 예를 들어, 코팅(88)은 둘 이상의 금속 은 층, 예를 들어 셋 이상의 금속 은 층, 예컨대 넷 이상의 금속 은 층을 포함할 수 있다. SHGC가 더 낮은 적합한 코팅의 예는 솔라반(SOLARBAN)？ 60 코팅(2개의 은 반사 층을 포함함) 또는 솔라반？ 70XL 코팅(3개의 은 반사 층을 포함함)을 포함하는데, 이들 둘은 모두 펜실베이니아주 피츠그 소재의 피피지 인더스트리즈 인코포레이티드에서 시판중이다. 예를 들어, 본 발명의 코팅(30 또는 100)은 IGU(80)의 No. 4 또는 No. 5 표면 상에 위치될 수 있으며, SHGC가 더 낮은 코팅(88)은 No. 2 표면 상에 위치할 수 있다. 코팅(88)은 코팅(30 또는 100)보다 더 낮은 복사율을 가질 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 코팅(30 또는 100)은 0.15 이하, 예를 들어 0.1 이하의 복사율을 갖는다. 제 2 코팅(88)은 0.1 이하, 예컨대 0.05 이하의 복사율을 가질 수 있다.
하기 실시예는 본 발명의 다양한 실시양태를 예시한다. 그러나, 본 발명은 이들 구체적인 실시양태로 한정되지는 않는 것으로 이해되어야 한다.
실시예
표 1은 본 발명의 코팅 스택의 실시양태를 예시한다. 각각의 실시예에서, 반사 층은 은이고, 프라이머 층은 산화티탄이며, 보호 층은 산화티탄이고, 유전층은 Zn2SnO4 및 ZnO(산화아연 90중량% 및 산화주석 10중량%)의 내부층(sublayer)을 포함하며, 이 때 ZnO 내부층은 은 층을 향하도록 위치된다. ZnO 내부층은 5 내지 15nm이다. 각 코팅의 성능 데이터는 상기 기재된 바와 같이 구성된 아르곤 기체 충전된 IGU에 기초한다. 색상 좌표 a*, b* 및 L*은 당 업자가 잘 아는 종래의 CIE(1931) 및 CIELAB 시스템의 좌표이다. 코팅의 색상은 반사시 무채색 내지 청색이다. SHGC 및 U-값은 상기 기재된 기준 IGU에 대한 것이다.
실시예 1 및 3의 코팅 스택은 어닐링되는 유리 제품을 위한 것이다. 즉, 코팅된 유리는 유리 기재(10)의 템퍼링 온도(약 1200℉)까지 가열되지 않는다. 코팅이 유리 기재의 템퍼링 온도까지 가열되면, 코팅 스택은 깨어져서 헤이즈를 나타내게 된다. 실시예 2 및 4의 코팅 스택은 템퍼링되는 유리 제품을 위한 것이다. 즉, 코팅은 코팅된 유리 기재를 템퍼링한 후 목적하는 성능 특징에 도달한다.
Figure pct00001
어닐링되는 실시예 1 및 3에서 보여지는 유형의 코팅 스택은 그의 색상 및 성능과 관련하여 예컨대 실시예 2 및 4에서 보여지는 유형의 유사한 층을 갖는 템퍼링가능한 코팅에 필적할 수 있다. 그러나, 필적하기 위해서는, (a) 어닐링되는 코팅의 프라이머 층(48)의 두께를 증가시켜(예를 들어, 실시예 1을 실시예 2와 비교하면, 프라이머 층(48)의 두께가 거의 두배임), 프라이머 층이 가열 동안 산소를 제거하도록 하고, (b) 어닐링되는 코팅의 보호 층(70)의 두께를 증가시켜 추가의 내구성을 제공하며, (c) 어닐링되는 코팅의 제 2 유전층(50)이 두께를 감소시켜 프라이머 층(48) 및 보호 층(70)의 증가된 두께에 대해 광학적으로 상쇄시킨다.
실시예 5
하기 구조를 갖는 코팅을 제조하였다:
물질 두께(nm)
주석산아연 16.6
산화아연 7.6
주석산아연 16.6
산화아연 6.8
금속 은 6.4
티탄 3.4
산화아연 4.7
주석산아연 11.4
산화아연 4.3
주석산아연 11.7
티타니아(오버코트) 7.3
코팅은 하기 색상 좌표를 가졌다:
T Rf Rg
L* 95.2 29.7 31.4
a* -0.7 -0.7 -1.4
b* 1.3 -3.4 -6.6
이 코팅은 0.27 SHGC 및 0.68 U-값의 기준 IGU 값을 제공하였다.
IGU의 유리 패널중 하나 이상(예컨대, 외부 패널)으로서 철 함량이 낮은 유리, 예를 들어 스타파이어？ 유리, 솔라파이어？ 유리 및 솔라파이어 PV？ 유리(이들은 모두 펜실베이니아주 피츠버그 소재의 피피지 인더스트리즈, 인코포레이티드에서 시판중임)를 사용함으로써, SHGC를 추가로 증가시킬 수 있음을 알아야 한다. 또한, 공기 간격에서의 기체의 선택에 의해 U-값이 영향을 받을 수 있다. 예를 들어, 기체를 아르곤으로부터 공기로 교환하면 U-값이 증가하게 된다.
당 업자는 상기 상세한 설명에 개시된 개념으로부터 벗어나지 않으면서 본 발명을 변형시킬 수 있음을 용이하게 알 것이다. 따라서, 본원에 상세하게 기재된 특정 실시양태는 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 영역을 한정하지 않으며, 본 발명의 영역은 첨부된 특허청구범위 및 이들의 임의의 모든 등가물의 전체 범위에 의해 제공된다.

Claims (19)

  1. 기재(substrate);
    기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층(dielectric layer);
    제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된, 8nm 미만의 두께를 가진 연속적인 금속 층;
    금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머(primer) 층;
    프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층; 및
    제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트(overcoat)
    를 포함하는 코팅된 투명체(transparency)로서,
    코팅이 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용될 때 0.6 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 제공하는, 코팅된 투명체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 유전층이, 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하고, 상기 제 1 유전층이 40nm 내지 50nm의 두께를 갖는, 투명체.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 갖는, 투명체.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속 층이, 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하는, 투명체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 유전층이 산화아연 필름 및 상기 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함하고, 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 40nm의 두께를 갖는, 투명체.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 갖는, 투명체.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 오버코트가 티타니아를 포함하고 2nm 내지 6nm의 두께를 갖는, 투명체.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 유전층이, 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층, 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하는, 투명체.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 유전층이 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 갖는, 투명체.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 유전층이, 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하는, 투명체.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 유전층이 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 갖는, 투명체.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재가 유리 기재이고;
    상기 제 1 유전층이 40nm 내지 50nm의 두께를 갖고; 상기 제 1 유전층이 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하고, 이때 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 갖고, 상기 주석산아연 필름이 25nm 내지 40nm의 두께를 가지며;
    상기 금속 층이 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 2 유전층이 산화아연 필름, 및 상기 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 40nm의 두께를 갖고, 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 가지며;
    상기 오버코트가 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하며;
    상기 코팅이 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용될 때 0.65 이상의 SHGC 및 0.33 이하의 U-값을 제공하는, 투명체.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재가 유리 기재이고;
    상기 제 1 유전층이, 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층, 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하고, 이때 상기 제 1 유전층이 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 가지며;
    상기 금속 층이 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 2 유전층이, 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 가지며;
    상기 오버코트가 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하며;
    상기 코팅이 기준 IGU의 No. 3 표면 상에 사용될 때 0.65 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 제공하는, 코팅된 투명체.
  14. No. 1 표면 및 No. 2 표면을 갖는 제 1 기재;
    제 1 기재로부터 이격되어 있고, No. 3 표면 및 No. 4 표면을 갖는 제 2 기재; 및
    No. 3 표면의 적어도 일부 상에 형성된 코팅
    을 포함하는 절연 유리 단위로서,
    상기 No. 3 표면이 No. 2 표면을 향하고(facing);
    상기 코팅이
    기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층,
    제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된, 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하는 연속적인 금속 층,
    금속 층의 적어도 일부 상에 형성된, 티탄을 포함하는 프라이머 층,
    프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층, 및
    제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트
    를 포함하며;
    상기 절연 유리 단위가 0.65 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 갖는, 절연 유리 단위.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 유전층이 40nm 내지 50nm의 두께를 갖고; 상기 제 1 유전층이 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하며, 이때 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 가지며; 상기 주석산아연 필름이 25nm 내지 40nm의 두께를 갖고;
    상기 금속 층이 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 2 유전층이 산화아연 필름 및 상기 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 40nm의 두께를 갖고, 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 갖고;
    상기 오버코트가 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하는, 절연 유리 단위.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 유전층이, 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층, 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이때 상기 제 1 유전층이 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 가지며;
    상기 금속 층이 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 2 유전층이, 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 가지며;
    상기 오버코트가 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하는, 절연 유리 단위.
  17. No. 1 표면 및 No. 2 표면을 갖는 제 1 기재;
    제 1 기재로부터 이격되어 있고, No. 3 표면 및 No. 4 표면을 갖는 제 2 기재;
    제 2 기재로부터 이격되어 있고, No. 5 표면 및 No. 6 표면을 갖는 제 3 기재;
    No. 5 표면의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 코팅; 및
    No. 2 표면의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 코팅
    을 포함하는 절연 유리 단위로서,
    상기 No. 3 표면이 No. 2 표면을 향하고;
    상기 제 1 코팅이, 기재의 적어도 일부 상에 형성된 제 1 유전층, 제 1 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 연속적인 금속 층, 금속 층의 적어도 일부 상에 형성된 프라이머 층, 프라이머 층의 적어도 일부 상에 형성된 제 2 유전층, 및 제 2 유전층의 적어도 일부 상에 형성된 오버코트를 포함하며;
    상기 오버코트가 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하며;
    상기 제 2 코팅이 유전층에 의해 분리된 둘 이상의 금속 은 층을 포함하고;
    상기 절연 유리 단위가 0.65 이상의 SHGC 및 0.35 이하의 U-값을 갖는, 절연 유리 단위.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 코팅의 제 1 유전층이 40nm 내지 50nm의 두께를 갖고;
    상기 제 1 유전층이, 주석산아연 필름 상에 침착된 산화아연 필름을 포함하고, 이때 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 갖고; 상기 주석산아연 필름이 25nm 내지 40nm의 두께를 가지며;
    상기 제 1 코팅의 금속 층이, 7.5nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 제 1 코팅의 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 1 코팅의 제 2 유전층이 산화아연 필름 및 상기 산화아연 필름 상에 침착된 주석산아연 필름을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 40nm의 두께를 갖고, 상기 산화아연 필름이 3nm 내지 15nm의 두께를 가지며;
    상기 제 1 코팅의 오버코트가 2nm 내지 6nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하는, 절연 유리 단위.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 코팅의 제 1 유전층이, 주석산아연을 포함하는 제 1 층, 산화아연을 포함하는 제 2 층, 주석산아연을 포함하는 제 3 층, 및 산화아연을 포함하는 제 4 층을 포함하고, 이때 상기 제 1 유전층이 44nm 내지 48nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 16nm 내지 17nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 6nm 내지 8nm의 두께를 가지며;
    상기 제 1 코팅의 금속 층이, 7nm 이하의 두께를 갖는 은을 포함하고;
    상기 제 1 코팅의 프라이머 필름이 티탄을 포함하고;
    상기 제 1 코팅의 제 2 유전층이, 산화아연을 포함하는 제 1 층, 주석산아연을 포함하는 제 2 층, 산화아연을 포함하는 제 3 층, 및 주석산아연을 포함하는 제 4 층을 포함하며, 이때 상기 제 2 유전층이 30nm 내지 35nm의 두께를 갖고, 상기 제 1 층 및 제 3 층이 각각 3nm 내지 5nm의 두께를 갖고, 상기 제 2 층 및 제 4 층이 각각 11nm 내지 12nm의 두께를 가지며;
    상기 제 1 코팅의 오버코트가 5nm 내지 10nm의 두께를 갖고, 상기 오버코트가 티타니아를 포함하는, 절연 유리 단위.
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