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KR20110090389A - Flexible printed circuit board comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film containing the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate - Google Patents

Flexible printed circuit board comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film containing the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate Download PDF

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KR20110090389A
KR20110090389A KR1020100010128A KR20100010128A KR20110090389A KR 20110090389 A KR20110090389 A KR 20110090389A KR 1020100010128 A KR1020100010128 A KR 1020100010128A KR 20100010128 A KR20100010128 A KR 20100010128A KR 20110090389 A KR20110090389 A KR 20110090389A
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copolymer resin
polymer film
polyester amide
aromatic polyester
amide copolymer
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KR1020100010128A
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구본혁
박정원
김양섭
드미트리 크라브주그
오영택
김미정
김만종
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삼성정밀화학 주식회사
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Abstract

방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판(FPCB: flexible printed circuit board)이 개시된다. 개시된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN) 및 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.7의 몰비로 포함한다. Flexible printed circuit board (FPCB) comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate board) is disclosed. The disclosed aromatic polyester amide copolymer resin has a repeating unit (RCN) derived from resorcinol and a repeating unit (HQ) derived from other aromatic diol compounds with 0.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ). )] <Molar ratio of 0.7.

Description

방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판 {Aromatic polyester amide copolymer resin, polymer film having the copolymer resin, flexible metal clad laminate having the polymer film, and flexible printed circuit board having the metal clad laminate}A flexible printed circuit board comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate. , polymer film having the copolymer resin, flexible metal clad laminate having the polymer film, and flexible printed circuit board having the metal clad laminate}

방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 개시된다. 보다 상세하게는, 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN) 및 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.7의 몰비로 포함하는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 개시된다.Disclosed is a flexible printed circuit board comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate. More specifically, repeating units (RCN) derived from resorcinol and repeating units (HQ) derived from other aromatic diol compounds are 0.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)] <0.7 A flexible printed circuit board comprising an aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate comprising the polymer film, and the flexible metal foil laminate comprising a molar ratio of Is initiated.

최근 연성 인쇄 회로기판을 사용하는 기기가 점차 소형화 및 다기능화됨에 따라, 연성 인쇄 회로기판용 연성 금속박 적층판의 사용이 점차 증가하고 있다. 상기 연성 금속박 적층판은 동박 또는 알루미늄박과 같은 금속층, 및 고분자 필름층의 두개의 층으로 구성된다.Recently, as devices using flexible printed circuit boards are gradually miniaturized and multifunctional, use of flexible metal foil laminates for flexible printed circuit boards is gradually increasing. The flexible metal foil laminate consists of two layers, a metal layer such as copper foil or aluminum foil, and a polymer film layer.

이러한 연성 인쇄 회로기판용 금속박 적층판에 적용되는 고분자 필름은 반도체의 성능 및 반도체 패키징 제조공정 조건에 적합하도록 하기의 주요 특성을 만족하여야 한다.The polymer film applied to the metal foil laminate for the flexible printed circuit board should satisfy the following main characteristics to be suitable for the performance of the semiconductor and the manufacturing conditions of the semiconductor packaging process.

(1) 금속 열팽창률에 대응 가능한 저열팽창률(1) Low thermal expansion rate that can correspond to metal thermal expansion rate

(2) 1GHz 이상의 고주파영역에서의 저유전상수 및 유전 안정성(2) Low dielectric constant and dielectric stability in high frequency region of 1GHz or more

(3) 270℃ 정도의 리플로우 공정에 대한 내열성(3) Heat resistance to reflow process of about 270 ° C

(4) 신뢰성 향상을 위한 저흡습성
(4) low hygroscopicity for improved reliability

종래의 수지 코팅된 금속 박막은 캐스팅 방식으로 고내열성 및 투명성을 갖는 폴리이미드 수지를 사용함에 의해 제조된다. 또한, 연성 금속박 적층판은 상기 금속 박막에 폴리아믹산 용액을 도포한 후 적정 조건하에서 열처리를 하여 경화시킴에 의해 제조된다. 이렇게 제조된 연성 금속박 적층판은 금속 박막 위에 폴리이미드 수지층이 형성된 구조를 갖는다. 따라서, 연성 금속박 적층판은 폴리이미드 수지의 본연의 특성인 우수한 굴곡성 및 내열성을 갖지만, 폴리이미드 수지층과 금속 박막간의 열팽창률의 차이로 인한 휨 현상이 발생하기도 하고 폴리이미드 수지 자체의 높은 흡습성으로 인해 저흡습성으로의 개선이 요구된다.Conventional resin coated metal thin films are produced by using polyimide resins having high heat resistance and transparency in a casting manner. In addition, the flexible metal foil laminate is produced by applying a polyamic acid solution to the metal thin film and then curing by heat treatment under appropriate conditions. The flexible metal foil laminate thus manufactured has a structure in which a polyimide resin layer is formed on a metal thin film. Therefore, the flexible metal foil laminate has excellent flexibility and heat resistance, which are the inherent characteristics of the polyimide resin, but also causes warpage due to a difference in thermal expansion coefficient between the polyimide resin layer and the metal thin film and due to the high hygroscopicity of the polyimide resin itself. Improvement to low hygroscopicity is required.

최근 폴리이미드 수지의 대체 방안으로서 고내열성을 갖는 방향족 액정 폴리에스테르 수지 또는 테프론을 연성 금속박 적층판의 제조에 사용하는 방안을 검토한 예도 있다. 그러나, 이 경우에는, 제조된 연성 금속박 적층판이 불투명하여 연성 인쇄 회로기판 제조후 광학검사를 수행하지 못하는 문제점이 있다. 더욱이, 방향족 액정 폴리에스테르 수지 용액(varnish)을 제조하기 위해서는, 염소 등의 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하여야 하는데, 이 경우 연성 금속박 적층판 및 연성 인쇄 회로기판의 제조 공정 중 할로겐 원소로 인한 금속 박막의 부식과 같은 문제가 발생하기 때문에 비할로겐 용제의 사용으로의 개선이 요구되고 있다.As an alternative to the polyimide resin, there is also an example of a method of using an aromatic liquid crystal polyester resin or teflon having high heat resistance in the manufacture of a flexible metal foil laminate. In this case, however, there is a problem in that the manufactured flexible metal foil laminate is opaque and thus cannot perform optical inspection after the flexible printed circuit board is manufactured. Furthermore, in order to manufacture an aromatic liquid crystal polyester resin solution (varnish), a solvent containing a halogen element such as chlorine should be used, in which case the metal thin film due to the halogen element during the manufacturing process of the flexible metal foil laminate and the flexible printed circuit board. Since problems such as corrosion occur, improvement in the use of non-halogen solvents is required.

본 발명의 일 구현예는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN) 및 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.7의 몰비로 포함하는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제공한다.One embodiment of the present invention provides a repeating unit (RCN) derived from resorcinol and a repeating unit (HQ) derived from other aromatic diol compounds, wherein 0.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)]. It provides an aromatic polyester amide copolymer resin containing in a molar ratio of <0.7.

본 발명의 다른 구현예는 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin.

본 발명의 또 다른 구현예는 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a flexible metal foil laminate including the polymer film and a flexible printed circuit board including the flexible metal foil laminate.

본 발명의 일 측면은,One aspect of the invention,

방향족 히드록시 카르복실산에서 유래하는 반복단위(A) 18~22몰%;18-22 mol% of repeating units (A) derived from aromatic hydroxy carboxylic acid;

페놀성 수산기를 가지는 방향족 아민에서 유래하는 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유래하는 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 18~22몰%; 18 to 22 mol% of at least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit (B) derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group and a repeating unit (B ') derived from an aromatic diamine;

방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C) 18~22몰%; 및 18-22 mol% of repeating units (C) derived from an aromatic diol; And

방향족 디카르복실산에서 유래하는 반복단위(D) 38~42몰%를 포함하고, It contains 38-42 mol% of repeating units (D) derived from an aromatic dicarboxylic acid,

상기 방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C)는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN), 및 바이페놀과 하이드로퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 포함하며,The repeating unit (C) derived from the aromatic diol is derived from another aromatic diol compound including a repeating unit (RCN) derived from resorcinol and at least one compound selected from the group consisting of biphenol and hydroquinone. Includes a repeating unit (HQ),

상기 반복단위(RCN)의 함량과 상기 반복단위(HQ)의 함량은 하기 조건을 만족하는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제공한다: The content of the repeating unit (RCN) and the content of the repeating unit (HQ) provide an aromatic polyester amide copolymer resin satisfying the following conditions:

0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.70.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)] <0.7

여기서, n(RCN) 및 n(HQ)는 각각 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에 포함된 반복단위(RCN) 및 반복단위(HQ)의 몰수이다. Here, n (RCN) and n (HQ) are the moles of repeating units (RCN) and repeating units (HQ) contained in the aromatic polyester amide copolymer resin, respectively.

상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산 및 2-히드록시-6-나프토에산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것이고, 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 및 2-아미노-6-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것이고, 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민 및 2,6-나프탈렌 디아민로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것이고, 상기 반복단위(D)는 이소프탈산 및 나프탈렌 디카르복실산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것일 수 있다.The repeating unit (A) is derived from at least one compound of para hydroxy benzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the repeating unit (B) is 3-aminophenol and 4-aminophenol. And 2-amino-6-naphthol, which is derived from at least one compound selected from the group consisting of 1,4-phenylene diamine, 1,3-phenylene diamine, and 2,6. -It is derived from at least one compound selected from the group consisting of naphthalene diamine, and the repeating unit (D) may be derived from at least one compound of isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid.

상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 수평균분자량이 1,000~20,000이고, 용융온도는 200~350℃일 수 있다. The aromatic polyester amide copolymer resin may have a number average molecular weight of 1,000 to 20,000, and a melting temperature of 200 to 350 ° C.

본 발명의 다른 측면은,Another aspect of the invention,

상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름을 제공한다.It provides a polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin.

상기 고분자 필름은 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100 중량부에 대하여 유기 필러 및 무기 필러로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 필러 0.0001 내지 100중량부를 추가로 포함할 수 있다.The polymer film may further include 0.0001 to 100 parts by weight of at least one filler selected from the group consisting of an organic filler and an inorganic filler based on 100 parts by weight of the aromatic polyester amide copolymer resin.

상기 고분자 필름은 일방향의 열팽창률이 15ppm/K 이하일 수 있다. The polymer film may have a thermal expansion coefficient of 15 ppm / K or less in one direction.

상기 고분자 필름은 유전상수가 3.5 이하이며, 유전손실이 0.01 이하일 수 있다.The polymer film may have a dielectric constant of 3.5 or less and a dielectric loss of 0.01 or less.

상기 고분자 필름은 흡습율이 0.5중량% 이하일 수 있다. The polymer film may have a moisture absorption of 0.5% by weight or less.

상기 고분자 필름은 광투과도가 50~90%일 수 있다.The polymer film may have a light transmittance of 50 to 90%.

본 발명의 또 다른 측면은,Another aspect of the invention,

상기 고분자 필름; 및The polymer film; And

상기 고분자 필름의 적어도 일면에 배치된 적어도 한장의 금속 박막을 포함하는 연성 금속박 적층판을 제공한다.It provides a flexible metal foil laminate comprising at least one metal thin film disposed on at least one surface of the polymer film.

상기 금속 박막은 동박 및 알루미늄박 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The metal thin film may include at least one of copper foil and aluminum foil.

본 발명의 또 다른 측면은,Another aspect of the invention,

상기 연성 금속박 적층판의 금속 박막을 에칭하여 얻어지는 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.Provided is a flexible printed circuit board obtained by etching a metal thin film of the flexible metal foil laminate.

본 발명의 또 다른 측면은, Another aspect of the invention,

상기 고분자 필름의 적어도 일면에 금속 회로 패턴을 인쇄하여 형성된 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.It provides a flexible printed circuit board formed by printing a metal circuit pattern on at least one surface of the polymer film.

본 발명의 일 구현예에 의하면, 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN) 및 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.7의 몰비로 포함함으로써 저열팽창률, 저유전상수, 저유전손실, 저흡습율 및 고광투과도를 갖는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the repeating unit (RCN) derived from resorcinol and the repeating unit (HQ) derived from other aromatic diol compounds are 0.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ). )] By including a molar ratio of <0.7 can provide an aromatic polyester amide copolymer resin having a low thermal expansion coefficient, low dielectric constant, low dielectric loss, low moisture absorption rate and high light transmittance.

본 발명의 다른 구현예에 의하면, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함함으로써 저열팽창률, 저유전상수, 저유전손실, 저흡습율 및 고광투과도를 갖는 고분자 필름이 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the polymer film having a low thermal expansion coefficient, low dielectric constant, low dielectric loss, low moisture absorption rate and high light transmittance may be provided by including the aromatic polyester amide copolymer resin.

본 발명의 또 다른 구현예에 의하면, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 제공될 수 있다.According to still another embodiment of the present invention, a flexible metal foil laminate including the polymer film and a flexible printed circuit board including the flexible metal foil laminate may be provided.

이하에서는 본 발명의 일 구현예에 따른 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름 및 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an aromatic polyester amide copolymer resin according to an embodiment of the present invention, a polymer film including the aromatic polyester amide copolymer resin, and a flexible metal foil laminate comprising the polymer film and a flexible sheet including the flexible metal foil laminate The printed circuit board will be described in detail.

본 발명의 일 구현예에 따른 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 방향족 히드록시 카르복실산에서 유래하는 반복단위(A) 18~22몰%, 페놀성 수산기를 가지는 방향족 아민에서 유래하는 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유래하는 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 18~22몰%, 방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C) 18~22몰%, 및 방향족 디카르복실산에서 유래하는 반복단위(D) 38~42몰%를 포함하고, 상기 방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C)는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN), 및 바이페놀과 하이드로퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 포함하며, 상기 반복단위(RCN)의 함량과 상기 반복단위(HQ)의 함량은 하기 조건을 만족한다: The aromatic polyester amide copolymer resin according to one embodiment of the present invention is a repeating unit (B) derived from an aromatic amine having 18 to 22 mol% of the repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxy carboxylic acid and a phenolic hydroxyl group (B). 18-22 mol% of at least one repeating unit selected from the group which consists of a repeating unit (B ') derived from aromatic diamine), 18-22 mol% of repeating units (C) derived from aromatic diol, and aromatic dicarboxyl It contains 38-42 mol% of repeating units (D) derived from an acid, The repeating unit (C) derived from the said aromatic diol consists of a repeating unit (RCN) derived from resorcinol, and a biphenol and hydroquinone. A repeating unit (HQ) derived from another aromatic diol compound including at least one compound selected from the group, wherein the content of the repeating unit (RCN) and the content of the repeating unit (HQ) are Enough:

0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.70.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)] <0.7

여기서, n(RCN) 및 n(HQ)는 각각 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에 포함된 반복단위(RCN) 및 반복단위(HQ)의 몰수이다. Here, n (RCN) and n (HQ) are the moles of repeating units (RCN) and repeating units (HQ) contained in the aromatic polyester amide copolymer resin, respectively.

상기 반복단위(A)의 함량이 상기 범위이내이면 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 적정 수준의 열적 특성을 갖게 되며, 상기 반복단위(B) 및 반복단위(B')의 합계 함량이 상기 범위이내이면 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 대한 적정 수준의 용해도 및 적정 수준의 흡습율을 갖게 되고, 상기 반복단위(C)의 함량이 상기 범위이내이면 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 적정 수준의 용융온도를 갖게 되며, 상기 반복단위(D)의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 대한 적정 수준의 용해도를 갖게 된다. When the content of the repeating unit (A) is within the above range, the aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of thermal characteristics, and the total content of the repeating unit (B) and the repeating unit (B ′) is within the above range. If within the aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of solubility in the solvent and a hygroscopicity of the appropriate level, if the content of the repeating unit (C) is within the above range the aromatic polyester amide copolymer resin is When the content of the repeating unit (D) is in the above range, the aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of solubility in a solvent.

또한, 상기 함량 비율{n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)]}이 상기 범위이내이면, 적정수준의 용융온도 및 광투과도를 갖게 된다.In addition, if the content ratio {n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)]} is within the above range, it has a suitable melting temperature and light transmittance.

상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산 및 2-히드록시-6-나프토에산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것일 수 있고, 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 및 2-아미노-6-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것일 수 있으며, 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민 및 2,6-나프탈렌 디아민로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것일 수 있고, 상기 반복단위(D)는 이소프탈산 및 나프탈렌 디카르복실산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래한 것일 수 있다.The repeating unit (A) may be derived from at least one compound of para hydroxy benzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the repeating unit (B) is 3-aminophenol, 4- It may be derived from at least one compound selected from the group consisting of aminophenol and 2-amino-6-naphthol, the repeating unit (B ') is 1,4-phenylene diamine, 1,3-phenylene diamine And it may be derived from at least one compound selected from the group consisting of 2,6-naphthalene diamine, the repeating unit (D) may be derived from at least one compound of isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid have.

예를 들어, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에 포함되는 각각의 반복단위는 하기의 화학식 중 어느 하나로 표시될 수 있다:For example, each repeating unit included in the aromatic polyester amide copolymer resin may be represented by any one of the following formulas:

(1) 방향족 히드록시 카르복실산에서 유래하는 반복단위(A):(1) Repeating unit (A) derived from aromatic hydroxy carboxylic acid:

<화학식 1><Formula 1>

Figure pat00001
Figure pat00001

<화학식 2><Formula 2>

Figure pat00002
Figure pat00002

<화학식 3><Formula 3>

Figure pat00003
Figure pat00003

<화학식 4><Formula 4>

Figure pat00004
Figure pat00004

<화학식 5><Formula 5>

Figure pat00005
Figure pat00005

(2) 페놀성 수산기를 가지는 방향족 아민에서 유래하는 반복단위(B): (2) Repeating unit (B) derived from aromatic amine having phenolic hydroxyl group:

<화학식 6><Formula 6>

Figure pat00006
Figure pat00006

<화학식 7><Formula 7>

Figure pat00007
Figure pat00007

<화학식 8><Formula 8>

Figure pat00008
Figure pat00008

(3) 방향족 디아민에서 유래하는 반복단위(B'):(3) Repeating unit (B ') derived from aromatic diamine:

<화학식 9><Formula 9>

Figure pat00009
Figure pat00009

<화학식 10><Formula 10>

Figure pat00010
Figure pat00010

<화학식 11><Formula 11>

Figure pat00011

Figure pat00011

(4) 방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C):(4) Repeating unit (C) derived from aromatic diol:

<화학식 12><Formula 12>

Figure pat00012
Figure pat00012

<화학식 13><Formula 13>

Figure pat00013
Figure pat00013

<화학식 14><Formula 14>

Figure pat00014
Figure pat00014

<화학식 15>&Lt; Formula 15 >

Figure pat00015

Figure pat00015

(5) 방향족 디카르복실산에서 유래하는 반복단위(D): (5) Repeating unit (D) derived from aromatic dicarboxylic acid:

<화학식 16> <Formula 16>

Figure pat00016
Figure pat00016

<화학식 17><Formula 17>

Figure pat00017
Figure pat00017

<화학식 18>&Lt; Formula 18 >

Figure pat00018
Figure pat00018

<화학식 19>(19)

Figure pat00019
Figure pat00019

<화학식 20> <Formula 20>

Figure pat00020
Figure pat00020

<화학식 21><Formula 21>

Figure pat00021
Figure pat00021

<화학식 22><Formula 22>

Figure pat00022
Figure pat00022

<화학식 23><Formula 23>

Figure pat00023

Figure pat00023

상기 식 중,In the above formula,

R1 및 R2는, 각각 서로 독립적으로, 할로겐 원자, 카르복시기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7-C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 헤테로아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-C30 헤테로아릴알킬기일 수 있다. 본 명세서에서, 용어 '치환'이란 수소가 할로겐기, 히드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아민기 또는 이들 중 2 이상으로 치환된 것을 의미한다.R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, a carboxy group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, Substituted or unsubstituted C 2 -C 20 alkenyl group, substituted or unsubstituted C 2 -C 20 alkynyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl Group, a substituted or unsubstituted C 7 -C 30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, or a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylalkyl group. In the present specification, the term 'substituted' means that hydrogen is substituted with a halogen group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an amine group or two or more of them.

이러한 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 (1) 방향족 히드록시 카르복실산 또는 그의 에스테르 형성용 유도체; (2) 페놀성 수산기를 가지는 방향족 아민 또는 그의 아미드 형성용 유도체, 및 방향족 디아민 또는 그의 아미드 형성용 유도체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종; (3) 방향족 디올 또는 그의 에스테르 형성용 유도체; 및 (4) 방향족 디카르복실산 또는 그의 에스테르 형성용 유도체를 중합함으로써 얻어질 수 있다. Such aromatic polyester amide copolymer resins include (1) aromatic hydroxy carboxylic acids or derivatives for ester formation thereof; (2) at least one member selected from the group consisting of an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group or a derivative for forming an amide, and an aromatic diamine or a derivative for forming an amide; (3) aromatic diols or derivatives for ester formation thereof; And (4) polymerizing an aromatic dicarboxylic acid or a derivative for forming an ester thereof.

상기 방향족 히드록시 카르복실산 또는 방향족 디카르복실산의 에스테르 형성용 유도체는 그것이 산염화물 또는 산무수물과 같은 반응성이 높은 유도체이거나, 또는 알코올류나 에틸렌글리콜 등과 에스테르 결합을 형성하는 것일 수 있다.The derivative for forming an ester of the aromatic hydroxy carboxylic acid or aromatic dicarboxylic acid may be a highly reactive derivative such as an acid chloride or an acid anhydride, or may form an ester bond with alcohols or ethylene glycol.

또한, 상기 방향족 아민 또는 방향족 디아민의 아미드 형성용 유도체는 그의 아민기가 카르복실산류와 아미드 결합을 형성하는 것일 수 있다.In addition, the derivative for forming an amide of the aromatic amine or aromatic diamine may be one in which the amine group forms an amide bond with carboxylic acids.

또한, 상기 방향족 디올의 에스테르 형성용 유도체는 그의 히드록시기가 카르복실산류와 에스테르 결합을 형성하는 것일 수 있다. In addition, the derivative for forming an ester of the aromatic diol may be one whose hydroxy group forms an ester bond with carboxylic acids.

상기와 같이 제조된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 용해될 수 있으며, 예를 들어, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용융온도가 200~350℃이며, 수평균분자량이 1,000~20,000일 수 있다.The aromatic polyester amide copolymer resin prepared as described above may be dissolved in a solvent. For example, the aromatic polyester amide copolymer resin has a melting temperature of 200 to 350 ° C. and a number average molecular weight of 1,000 to 20,000 days. Can be.

또한, 상기와 같이 제조된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN)를 포함하기 때문에 광투과도가 향상될 수 있으며, 이 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름도 고광투과도를 갖게 된다.In addition, since the aromatic polyester amide copolymer resin prepared as described above contains a repeating unit (RCN) derived from resorcinol, light transmittance may be improved, and a polymer film including the copolymer resin may also have a high light transmittance. Will have

상술한 바와 같은 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 하기 방법에 의해 제조될 수 있다. 즉, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는, 상기 반복단위(A)에 대응하는 방향족 히드록시 카르복실산, 상기 반복단위(B) 및/또는 반복단위(B')에 각각 대응하는 방향족 아민 및/또는 방향족 디아민, 및 상기 반복단위(C)에 대응하는 방향족 디올의 페놀성 수산기 및/또는 아민기를 지방산 무수물에 의해 아실화하여 아실화물을 얻고, 이렇게 얻어진 아실화물과 방향족 디카르복실산을 에스테르 교환 반응시킴으로써 용융 중합하는 방법에 의해 제조될 수 있다. The aromatic polyester amide copolymer resin as described above can be produced by the following method. That is, the aromatic polyester amide copolymer resin is an aromatic hydroxy carboxylic acid corresponding to the repeating unit (A), an aromatic amine corresponding to the repeating unit (B) and / or the repeating unit (B '), and And / or the aromatic diamine and the phenolic hydroxyl group and / or amine group of the aromatic diol corresponding to the repeating unit (C) are acylated by fatty acid anhydride to obtain an acyl compound, and the acyl compound and aromatic dicarboxylic acid thus obtained are esterified. It can manufacture by the method of melt-polymerizing by exchange reaction.

상기 아실화 반응에 있어서 지방산 무수물의 첨가량은 페놀성 수산기 및 아민기의 1.0~1.2배 당량, 예를 들어, 1.0~1.1배 당량일 수 있다. 상기 지방산 무수물의 첨가량이 상기 범위이내이면, 생성되는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 착색이 줄어들고, 생성된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에서 원료 모노머 등의 승화가 일어나지 않으며, 페놀 가스의 발생량도 적어지게 된다. 이와 같은 아실화 반응은 130~170℃에서 30분~8시간, 예를 들어, 140~160℃에서 1~3시간 동안 진행될 수 있다.In the acylation reaction, the amount of fatty acid anhydride added may be 1.0 to 1.2 times the equivalent of, for example, 1.0 to 1.1 times the equivalent of the phenolic hydroxyl group and the amine group. When the amount of the fatty acid anhydride added is within the above range, the coloring of the resulting aromatic polyester amide copolymer resin is reduced, and the resulting aromatic polyester amide copolymer resin does not sublimate such as raw material monomers and generates less phenol gas. You lose. The acylation reaction may be performed for 30 minutes to 8 hours at 130 to 170 ° C, for example, for 1 to 3 hours at 140 to 160 ° C.

상기 아실화 반응에 사용되는 지방산 무수물은 무수 초산, 무수 프로피온산, 무수 이소부티르산, 무수 길초산, 무수 피발산, 무수 부티르산 등이 있으며, 이들에 특별히 한정되지 않는다. 또한 이들 중 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Fatty acid anhydrides used in the acylation reaction include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, gil acetic anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, and the like, and are not particularly limited thereto. Moreover, 2 or more types of these can be mixed and used.

상기 에스테르 교환 및 아미드 교환반응은 130~400℃에서 0.1~2℃/분의 승온속도, 예를 들어, 140~350℃에서 0.3~1℃/분의 승온속도로 실행될 수 있다.The transesterification and amide exchange reaction may be carried out at a temperature increase rate of 0.1 to 2 ℃ / min at 130 ~ 400 ℃, for example, at a temperature increase rate of 0.3 ~ 1 ℃ / min at 140 ~ 350 ℃.

이와 같이 아실화하여 얻은 지방산 에스테르와 방향족 디카르복실산을 에스테르 교환 반응 및 아미드 교환 반응시킬 때, 평형을 이동시켜 반응속도를 증가시키기 위해, 부생되는 지방산과 미반응 무수물을 증발 또는 증류에 의해 반응계 밖으로 배출시킬 수 있다.In the transesterification reaction and the amide exchange reaction of the fatty acid ester and the aromatic dicarboxylic acid obtained by acylating in this way, in order to increase the reaction rate by shifting the equilibrium, the by-product fatty acid and unreacted anhydride are reacted by evaporation or distillation. Can be drained out.

또한, 상기 아실화 반응, 에스테르 교환 반응 및 아미드 교환 반응은 촉매의 존재하에 진행될 수 있다. 상기 촉매는 종래부터 폴리에스테르 수지 제조용 촉매로 공지된 것으로, 초산마그네슘, 초산제1주석, 테트라부틸티타네이트, 초산납, 초산나트륨, 초산칼륨, 삼산화안티몬, N,N-디메틸아미노피리딘, N-메틸이미다졸 등이 있다. 상기 촉매는 통상 단량체의 투입시 단량체와 동시에 투입되고, 상기 촉매의 존재하에 아실화 반응 및 에스테르 교환 반응이 일어난다.In addition, the acylation reaction, transesterification reaction and amide exchange reaction can proceed in the presence of a catalyst. The catalyst is conventionally known as a catalyst for producing a polyester resin, magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, antimony trioxide, N, N-dimethylaminopyridine, N-methyl Imidazole and the like. The catalyst is usually added simultaneously with the monomer when the monomer is added, and the acylation reaction and the transesterification reaction take place in the presence of the catalyst.

상기 에스테르 교환 및 아미드 교환반응에 의한 중축합은 용융 중합에 의해 실행될 수도 있고, 용융 중합과 고상 중합을 병용할 수도 있다.The polycondensation by the transesterification and the amide exchange reaction may be carried out by melt polymerization, or may be used in combination with melt polymerization and solid phase polymerization.

상기 용융 중합에 사용되는 중합기는 특별히 한정되는 것이 아니며, 고점도 반응에 일반적으로 사용되는 교반 설비를 장착한 반응기일 수 있다. 이때, 아실화 공정의 반응기 및 용융 중합 공정의 중합기로서 동일한 반응기가 사용될 수도 있고 각 공정에 서로 다른 반응기가 사용될 수도 있다.The polymerizer used for the melt polymerization is not particularly limited, and may be a reactor equipped with a stirring apparatus generally used for high viscosity reactions. At this time, the same reactor may be used as the reactor of the acylation process and the polymerizer of the melt polymerization process or different reactors may be used for each process.

상기 고상 중합은 용융 중합 공정에서 배출된 프리폴리머를 분쇄하여 플레이크상 또는 파우더 상으로 만든 후 중합을 진행시킴에 의해 실행될 수 있다. 이러한 고상 중합은, 예를 들어, 질소 등의 불활성 분위기에서 200~350℃에서 1~30시간 동안 고상 상태에서 열처리함에 의해 실행될 수 있다. 또한, 상기 고상 중합은 교반하에 실행될 수도 있고, 무교반 상태로 실행될 수도 있다. 또한 적당한 교반 설비를 장착한 반응기를 용융 중합조와 고상 중합조로 병용할 수도 있다. The solid phase polymerization may be performed by pulverizing the prepolymer discharged from the melt polymerization process into a flake or powder phase and then proceeding with the polymerization. Such solid phase polymerization can be carried out by, for example, heat treatment in a solid state for 1 to 30 hours at 200 to 350 ° C. in an inert atmosphere such as nitrogen. Further, the solid phase polymerization may be carried out under stirring or may be carried out in an unstirred state. Moreover, the reactor equipped with the suitable stirring apparatus can also be used together with a melt polymerization tank and a solid state polymerization tank.

상기와 같이 제조된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 15ppm/K 이하의 열팽창률을 가질 수 있다.The aromatic polyester amide copolymer resin prepared as described above may have a thermal expansion rate of 15 ppm / K or less.

얻어진 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 공지의 방법에 의해 펠렛화된후 성형되거나, 또는 공지의 방법에 의해 섬유화될 수도 있다. 또한, 후술하는 바와 같이 용제에 용해된 후 금속 박막에 도포된 다음 건조 및 열처리되어 고분자 필름을 형성할 수 있고, 연성 금속박 적층판의 제조에 사용될 수도 있다.The obtained aromatic polyester amide copolymer resin may be pelletized by a known method and then molded, or may be fiberized by a known method. In addition, as described later, after dissolving in a solvent, it is applied to a metal thin film, and then dried and heat-treated to form a polymer film, and may be used for the manufacture of a flexible metal foil laminate.

이러한 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 용해될 수 있다. 따라서, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용제에 용해시킨 조성물 용액을 금속 박막에 도포한 후 건조 및 열처리하여 연성 금속박 적층판을 제조할 수 있다. 상기 건조 및 열처리에 의해 고분자 필름이 금속 박막에 부착된 형태로 형성된다.Such aromatic polyester amide copolymer resin may be dissolved in a solvent. Therefore, a flexible metal foil laminate may be prepared by applying a composition solution in which the aromatic polyester amide copolymer resin is dissolved in a solvent, followed by drying and heat treatment. The polymer film is formed in a form attached to the metal thin film by the drying and heat treatment.

또한, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 고분자 필름 및 연성 금속박 적층판 이외에도 다양한 용도에 사용될 수 있다. In addition, the aromatic polyester amide copolymer resin may be used in various applications in addition to the polymer film and the flexible metal foil laminate.

상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용해시키는 용제는 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 100~100,000중량부의 함량 비율로 사용될 수 있으며, 상기 용제의 함량 비율이 상기 범위이내이면 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 충분히 용해되면서도, 생산성이 좋다.The solvent for dissolving the aromatic polyester amide copolymer resin may be used in an amount of 100 to 100,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyester amide copolymer resin, the aromatic if the content ratio of the solvent is within the above range Although polyester amide copolymer resin melt | dissolves fully, productivity is good.

상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용해하는 용제로는 비할로겐 용제가 사용될 수있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 용제로 극성 비프로톤계 화합물, 할로겐화 페놀, o-디클로로벤젠, 클로로포름, 염화메틸렌, 테트라클로로에탄 등이 단독으로 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다. A non-halogen solvent may be used as the solvent for dissolving the aromatic polyester amide copolymer resin. However, the present invention is not limited thereto, and as the solvent, polar aprotic compounds, halogenated phenols, o-dichlorobenzene, chloroform, methylene chloride, tetrachloroethane and the like may be used alone or in combination of two or more thereof.

이와 같이, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 비할로겐 용제에도 잘 용해되어 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하지 않고도, 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 연성 금속박 적층판 또는 연성 인쇄 회로기판을 제조할 수 있다. 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하는 경우에는 제조 공정상 문제를 야기할 수 있으며, 특히, 할로겐 원소가 소각되거나 분해시에 인체에 해로운 환경호르몬이 발생할 수 있다. As described above, the aromatic polyester amide copolymer resin dissolves well in a non-halogen solvent and uses a flexible metal foil laminate or flexible printed circuit board containing the aromatic polyester amide copolymer resin without using a solvent containing a halogen element. It can manufacture. If a solvent containing a halogen element is used, it may cause problems in the manufacturing process, and in particular, an environmental hormone harmful to a human body may be generated when the halogen element is incinerated or decomposed.

상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용제에 용해시킨 조성물 용액에는, 유전상수 및 열팽창률을 조절하기 위하여, 실리카, 수산화 알루미늄 또는 탄산칼슘과 같은 무기필러; 및/또는 경화 에폭시 또는 가교 아크릴과 같은 유기필러가 첨가될 수 있다. 예를 들어, 고유전상수의 무기 필러가 첨가될 수 있다. 이와 같은 무기 필러로는 티탄산바륨 또는 티탄산스트론튬과 같은 티탄산염, 또는 티탄산바륨의 티탄 또는 바륨의 일부를 다른 금속으로 대체한 것 등이 사용될 수 있다. 상기 조성물 용액 중 이러한 무기 필러 및/또는 유기 필러의 함량은 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 0.0001~100중량부일 수 있다. 상기 무기 필러 및/또는 유기 필러의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 고분자 필름의 유전상수가 낮아지고 열팽창률이 낮아질뿐만 아니라, 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 갖는 바인더로서의 효과가 충분히 유지될 수 있다. 따라서, 상기 고분자 필름에는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 0.0001~100중량부의 무기 필러 및/또는 유기 필러가 포함될 수 있다. The composition solution in which the aromatic polyester amide copolymer resin is dissolved in a solvent includes an inorganic filler such as silica, aluminum hydroxide or calcium carbonate in order to adjust the dielectric constant and the coefficient of thermal expansion; And / or organic fillers such as cured epoxy or crosslinked acrylics may be added. For example, an inorganic filler of high dielectric constant may be added. As the inorganic filler, a titanate such as barium titanate or strontium titanate, or a part of titanium or barium of barium titanate may be replaced with another metal. The content of the inorganic filler and / or the organic filler in the composition solution may be 0.0001 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the aromatic polyester amide copolymer resin. When the content of the inorganic filler and / or the organic filler is within the above range, not only the dielectric constant of the polymer film is lowered and the thermal expansion coefficient is lowered, but also the effect as a binder possessed by the aromatic polyester amide copolymer resin can be sufficiently maintained. . Therefore, the polymer film may include 0.0001 to 100 parts by weight of the inorganic filler and / or the organic filler based on 100 parts by weight of the aromatic polyester amide copolymer resin.

본 발명의 일 구현예에 따른 연성 금속박 적층판은 저열팽창률, 저유전 특성, 저흡습율 및 고광투과도를 갖는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지와, 기계적 강도가 뛰어난 금속 박막을 포함한다. 따라서, 상기 연성 금속박 적층판은 투명하고 유연한 기판소재로서 다양한 분야에 적용될 수 있다. Flexible metal foil laminate according to an embodiment of the present invention includes an aromatic polyester amide copolymer resin having a low thermal expansion coefficient, low dielectric properties, low moisture absorption and high light transmittance, and a metal thin film having excellent mechanical strength. Therefore, the flexible metal foil laminate may be applied to various fields as a transparent and flexible substrate material.

또한, 상기 고분자 필름의 열팽창률은 15ppm/K 이하일 수 있다. 상기 고분자 필름의 열팽창률이 상기 범위이내이면 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판에서 휨이나 수축이 발생하지 않을 수 있다.In addition, the thermal expansion coefficient of the polymer film may be 15 ppm / K or less. When the thermal expansion coefficient of the polymer film is within the above range, warpage or shrinkage may not occur in the flexible metal foil laminate including the polymer film.

또한, 상기 고분자 필름의 유전상수는 3.5 이하이며, 유전손실은 0.01 이하일 수 있다. 본 명세서에서, '유전손실'이란 유전체에 교류 전기장을 인가하였을 경우에 상기 유전체 속에서 열로 없어지는 에너지 손실을 의미한다. 상기 유전상수 및 유전손실이 각각 상기 범위이내이면, 고주파 영역에서 상기 고분자 필름은 절연기재로 사용되기에 적합하다.In addition, the dielectric constant of the polymer film is 3.5 or less, the dielectric loss may be 0.01 or less. In the present specification, 'dielectric loss' refers to an energy loss lost by heat in the dielectric when an alternating electric field is applied to the dielectric. When the dielectric constant and the dielectric loss are each within the above range, the polymer film is suitable for use as an insulating substrate in the high frequency region.

또한, 상기 고분자 필름의 흡습율은 0.5% 이하일 수 있다. 상기 고분자 필름의 흡습율이 상기 범위이내이면, 수분에 대한 저항이 높아 연성 금속박 적층판의 신뢰성이 높아진다. In addition, the moisture absorption rate of the polymer film may be 0.5% or less. When the moisture absorption rate of the polymer film is within the above range, the resistance to moisture is high and the reliability of the flexible metal foil laminate becomes high.

또한, 상기 고분자 필름의 광투과도는 50~90%일 수 있다. 상기 고분자 필름의 광투과도가 상기 범위이내이면, 광학검사가 가능하다.In addition, the light transmittance of the polymer film may be 50 ~ 90%. If the light transmittance of the polymer film is within the above range, optical inspection is possible.

전술한 고분자 필름의 열팽창률, 유전상수, 유전손실, 흡습율 및 광투과도는 통상 하기 방법에 의해 측정될 수 있다. 즉, 금속 박막에 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용제에 용해시킨 조성물 용액을 도포한 후 건조 및 열처리하여 연성 금속박 적층판을 제조한 다음, 상기 연성 금속박 적층판으로부터 금속 박막을 모두 제거한 후, 남은 고분자 필름을 분석하여 상기 물성들을 측정할 수 있다. The thermal expansion coefficient, dielectric constant, dielectric loss, moisture absorption rate and light transmittance of the above-described polymer film can be generally measured by the following method. That is, after coating a composition solution in which the aromatic polyester amide copolymer resin is dissolved in a solvent on a metal thin film, drying and heat-treating to produce a flexible metal foil laminate, after removing all metal thin films from the flexible metal foil laminate, the remaining polymer The physical properties can be measured by analyzing the film.

상기 금속 박막은 동박 및 알루미늄박 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The metal thin film may include at least one selected from the group consisting of copper foil and aluminum foil.

상기 연성 금속박 적층판에 있어서, 고분자 필름 및 금속 박막 두께는 각각 0.1~300㎛일 수 있다. 상기 고분자 필름 및 금속 박막의 두께가 상기 범위이내이면, 권취 방식의 가공시 크랙이 잘 발생하지 않고, 한정된 두께의 다층 적층에 유리하다. 상기 금속 박막의 두께가 상기 범위이내이면, 금속 박막 적층시 크랙이 잘 발생하지 않고, 다층 적층에 유리하다.In the flexible metal foil laminate, the polymer film and the metal thin film thickness may be 0.1 to 300 μm, respectively. When the thickness of the polymer film and the metal thin film is within the above range, cracks are less likely to occur during the processing of the winding method, and are advantageous for multilayer lamination of a limited thickness. When the thickness of the metal thin film is within the above range, cracks are less likely to occur when the metal thin film is laminated, which is advantageous for multilayer lamination.

한편, 상기 연성 금속박 적층판의 금속 박막을 에칭하고, 회로를 형성함으로써 연성 인쇄 회로기판을 제조할 수 있다. 또한, 상기 고분자 필름의 적어도 일면에 금속 회로 패턴을 인쇄함으로써 연성 인쇄 회로기판을 제조할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 상기 연성 인쇄 회로기판에 스루홀 등을 형성할 수도 있다. Meanwhile, the flexible printed circuit board may be manufactured by etching the metal thin film of the flexible metal foil laminate and forming a circuit. In addition, a flexible printed circuit board may be manufactured by printing a metal circuit pattern on at least one surface of the polymer film. In addition, a through hole or the like may be formed in the flexible printed circuit board as necessary.

이하에서 본 발명을 실시예를 들어 보다 상세히 설명하나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

실시예Example

(동박 적층판의 제조)(Manufacture of Copper Foil Laminate)

실시예Example 1 One

1 단계: 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 제조Step 1: Preparation of Aromatic Polyester Amide Copolymer Resins

교반 장치, 토크미터, 질소가스 도입관, 온도계 및 환류 냉각기를 구비한 반응기에 파라 히드록시 벤조산 264.2g(2.0몰), 4-아미노페놀 218.3g(2.0몰), 하이드로퀴논 110.1g(1.0몰), 레조르시놀 110.1g(1.0몰), 이소프탈산 664.6g(4.0몰) 및 무수 초산 510.5g(5몰)을 투입하였다. 상기 반응기 내부를 질소 가스로 충분히 치환시킨 후, 질소 가스 기류 하에서 30분에 걸쳐 150℃까지 승온하고, 이 온도를 유지하면서 2시간 동안 환류시켰다.264.2 g (2.0 mol) of para hydroxy benzoic acid, 218.3 g (2.0 mol) of 4-aminophenol, 110.1 g (1.0 mol) of hydroquinone in a reactor equipped with a stirring device, a torque meter, a nitrogen gas introduction tube, a thermometer, and a reflux condenser. , 110.1 g (1.0 mole) of resorcinol, 664.6 g (4.0 mole) of isophthalic acid, and 510.5 g (5 mole) of acetic anhydride were added thereto. After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150 ° C. over 30 minutes under a nitrogen gas stream, and refluxed for 2 hours while maintaining this temperature.

그후, 유출되는 초산 및 미반응 무수 초산을 증류 제거하면서, 180분 동안 320℃까지 승온하고, 토크가 상승되는 시점을 반응 종료로 간주하고 내용물을 배출시켰다. 얻어진 고형분을 실온까지 냉각시키고, 미분쇄기로 분쇄하여 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 분말을 얻었다. Thereafter, the distilled acetic acid and unreacted acetic anhydride were distilled off, and the temperature was raised to 320 ° C. for 180 minutes, and the contents were discharged considering the end of the reaction as the time when the torque was increased. The obtained solid content was cooled to room temperature, and it grind | pulverized with the fine grinding machine, and obtained aromatic polyester amide copolymer resin powder.

2 단계: 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액의 제조 Step 2: Preparation of a Composition Solution of Aromatic Polyester Amide Copolymer Resins

상기 1 단계에서 제조한 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 분말 50g에 N-메틸피롤리디논(NMP) 50g을 첨가하고, 상온(25℃)에서 4시간 교반하여 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 얻었다. 50 g of N-methylpyrrolidinone (NMP) is added to 50 g of the aromatic polyester amide copolymer resin powder prepared in step 1, followed by stirring at room temperature (25 ° C.) for 4 hours to form a solution of the composition of the aromatic polyester amide copolymer resin. Got.

3 단계: 동박 Step 3: copper foil 적층판의Laminate 제조 Produce

두께 18㎛의 동박 표면에 상기 2단계에서 제조된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 코팅하였다. 이후, 상기 코팅된 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 150℃에서 건조하였다. 다음에, 물성을 더 높이기 위해 280℃까지 승온시켜 반응을 더 진행시킴으로 동박 적층판을 제조하였다. 이렇게 제조된 동박 적층판은 동박에 부착된 형태의 고분자 필름을 포함한다.The composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin prepared in step 2 was coated on the copper foil surface having a thickness of 18 μm. Thereafter, the composition solution of the coated aromatic polyester amide copolymer resin was dried at 150 ° C. Next, in order to further improve the physical properties, the copper foil laminate was manufactured by further increasing the reaction temperature to 280 ° C. The copper foil laminate thus produced includes a polymer film of the type attached to the copper foil.

실시예Example 2 2

파라 히드록시 벤조산 211.36g(1.6몰), 4-아미노페놀 152.81g(1.4몰), 하이드로퀴논 77.07g(0.7몰), 레조르시놀 77.07g(0.7몰), 이소프탈산 515.065g(3.1몰) 및 무수 초산 367.56g(3.6몰)을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제조하였다. 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액 및 동박 적층판을 제조하였다.211.36 g (1.6 mol) of para hydroxy benzoic acid, 152.81 g (1.4 mol) of 4-aminophenol, 77.07 g (0.7 mol) of hydroquinone, 77.07 g (0.7 mol) of resorcinol, 515.065 g (3.1 mol) of isophthalic acid, and An aromatic polyester amide copolymer resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that 367.56 g (3.6 mol) of acetic anhydride was used. In addition, a composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin and a copper foil laminate were prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 1 One

방향족 디올로서 하이드로퀴논을 전혀 사용하지 않고 레조르시놀 220.2g(2.0몰)만을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제조하였다. 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액 및 동박 적층판을 제조하였다.An aromatic polyester amide copolymer resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that only 220.2 g (2.0 mol) of resorcinol was used without using any hydroquinone as the aromatic diol. In addition, a composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin and a copper foil laminate were prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 2 2

방향족 디올로서 레조르시놀을 전혀 사용하지 않고 하이드로퀴논 220.0g(2.0몰)만을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제조하였다. 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액 및 동박 적층판을 제조하였다. An aromatic polyester amide copolymer resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that only 220.0 g (2.0 mol) of hydroquinone was used without using any resorcinol as the aromatic diol. In addition, a composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin and a copper foil laminate were prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 3 3

파라 히드록시 벤조산 396.3g(3몰), 4-아미노페놀 218.3g(2.0몰), 하이드로퀴논 55.05g(0.5몰), 레조르시놀 55.05g(0.5몰), 이소프탈산 664.6g(4.0몰) 및 무수 초산 459.45g(4.5몰)을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제조하였다. 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액 및 동박 적층판을 제조하였다.Parahydroxy benzoic acid 396.3 g (3 mol), 4-aminophenol 218.3 g (2.0 mol), hydroquinone 55.05 g (0.5 mol), resorcinol 55.05 g (0.5 mol), isophthalic acid 664.6 g (4.0 mol) and An aromatic polyester amide copolymer resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that 459.45 g (4.5 mol) of acetic anhydride was used. In addition, a composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin and a copper foil laminate were prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 4 4

파라 히드록시 벤조산 264.2g(2.0몰), 4-아미노페놀 327.45g(3몰), 하이드로퀴논 55.05g(0.5몰), 레조르시놀 55.05g(0.5몰), 이소프탈산 664.6g(4.0몰) 및 무수 초산 510.5g(5몰)을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제조하였다. 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액 및 동박 적층판을 제조하였다.Parahydroxy benzoic acid 264.2 g (2.0 mol), 4-aminophenol 327.45 g (3 mol), hydroquinone 55.05 g (0.5 mol), resorcinol 55.05 g (0.5 mol), isophthalic acid 664.6 g (4.0 mol) and An aromatic polyester amide copolymer resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that 510.5 g (5 mol) of acetic anhydride was used. In addition, a composition solution of the aromatic polyester amide copolymer resin and a copper foil laminate were prepared in the same manner as in Example 1.

평가예Evaluation example

평가예Evaluation example 1: 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 물성 평가 1: Evaluation of Physical Properties of Aromatic Polyester Amide Copolymer Resin

상기 실시예 1~2 및 비교예 1~4에서 각각 제조한 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 수평균분자량 및 용융온도를 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The number average molecular weights and melting temperatures of the aromatic polyester amide copolymer resins prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 4, respectively, were measured and shown in Table 1 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 수평균분자량Number average molecular weight 42384238 42074207 40124012 43644364 41134113 39813981 용융온도(℃)Melting temperature (℃) 222222 218218 143143 272272 257257 231231

상기 표 1에서, 수평균분자량은 GPC를 사용하여 THF eluent, 30℃에서 측정하였고, 용융온도는 DSC를 사용하여 20℃/min으로 승온하면서 측정하였다. In Table 1, the number average molecular weight was measured at THF eluent, 30 ° C using GPC, and the melting temperature was measured while raising the temperature to 20 ° C / min using DSC.

상기 표 1을 참조하면, 수평균분자량은 각 실시예 및 비교예에서 큰 차이가 없는 것으로 나타났으나, 최종 고분자 사슬의 구조상의 차이로 인해 용융온도는 많은 차이가 있는 것으로 나타났다. 특히, 비교예 1의 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용융온도가 매우 낮은 것으로 나타났다. 따라서, 비교예 1에서 제조된 공중합체 수지는 자체의 열적특성이 낮아 추가 열처리공정을 해도 리플로우 공정을 통과하기가 어렵다.Referring to Table 1, the number average molecular weight was found to have no significant difference in each Example and Comparative Example, but due to the structural difference of the final polymer chain, the melting temperature was found to have a lot of difference. In particular, the aromatic polyester amide copolymer resin of Comparative Example 1 was found to have a very low melting temperature. Therefore, the copolymer resin prepared in Comparative Example 1 has a low thermal property of itself, and thus it is difficult to pass the reflow process even after the additional heat treatment process.

평가예Evaluation example 2: 동박  2: copper foil 적층판에On laminate 포함된 고분자 필름의 물성 평가 Evaluation of Properties of Polymer Films Contained

상기 실시예 1~2 및 비교예 1~4에서 각각 제조한 동박 적층판으로부터 에칭을 통해 동박을 모두 제거한 후, 남아 있는 고분자 필름을 분석하여, 상기 고분자 필름의 열팽창률, 유전특성, 흡습율 및 광투과도를 각각 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.After removing all the copper foils from the copper foil laminates prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 4 through etching, the remaining polymer film was analyzed, and the thermal expansion coefficient, dielectric property, moisture absorption rate and light of the polymer film were analyzed. The transmittance was measured and shown in Table 2 below.

평가 항목 Evaluation items 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 열팽창률
(ppm/K)
Thermal expansion
(ppm / K)
14.214.2 13.513.5 19.219.2 11.511.5 12.512.5 16.316.3
유전상수Dielectric constant 3.33.3 3.43.4 3.53.5 3.53.5 3.73.7 4.24.2 유전손실Dielectric loss 0.0050.005 0.0060.006 0.0070.007 0.0060.006 0.0050.005 0.0080.008 흡습율(중량%)Hygroscopicity (wt%) 0.40.4 0.50.5 1.11.1 0.40.4 0.70.7 1.11.1 광투과도(%)Light transmittance (%) 7272 8080 9393 1010 4242 3535

상기 표 2에서, 열팽창률은 TMA (TMA Q400)를 사용하여 50~150℃의 온도범위에서 측정하였고, 유전상수 및 유전손실은 임피던스 분석기를 사용하여 측정하였으며, 흡습율은 IPC-TM-650 규격을 이용하여 측정하였고, 광투과도는 Spectrophotometer를 사용하여 측정하였다.In Table 2, the coefficient of thermal expansion was measured in a temperature range of 50 ~ 150 ℃ using TMA (TMA Q400), dielectric constant and dielectric loss was measured using an impedance analyzer, the moisture absorption is IPC-TM-650 standard The light transmittance was measured using a spectrophotometer.

상기 표 2를 참조하면, 열팽창계수와 유전상수, 유전손실은 각 실시예 및 비교예에서 큰 차이가 없는 것으로 나타났으나, 흡습율과 광투과도는 많은 차이가 있는 것으로 나타났다. 비교예 2의 경우 실시예 1과 비교예 1의 경우에 비하여 광투과도가 매우 낮은 것으로 나타나 연성 인쇄 회로기판에 적용시 광학검사가 불가능할 것으로 보인다. 비교예 3의 경우 실시예 1~2의 경우 보다 낮은 열팽창계수를 보이며, 이 때문에 연성 인쇄 회로기판 제작시 휨이나 수축현상이 발생할 수 있다. 또한, 비교예 4의 경우 휨이나 수축현상이 발생하지 않을 수 있으나, 다소 높은 유전상수를 나타내며 흡습율이 높아 연성 인쇄 회로기판의 신뢰성에 문제가 있을 수 있으며, 광학검사 또한 원활치 않을 것으로 예상된다. Referring to Table 2, the coefficient of thermal expansion, the dielectric constant, and the dielectric loss were not significantly different in each of the Examples and Comparative Examples, but the moisture absorption rate and the light transmittance were found to be very different. In the case of Comparative Example 2, the optical transmittance is very low as compared with the case of Example 1 and Comparative Example 1, so that the optical inspection is impossible when applied to the flexible printed circuit board. In Comparative Example 3, the coefficients of thermal expansion are lower than those in Examples 1 and 2, which may cause warpage or shrinkage during fabrication of the flexible printed circuit board. In addition, in case of Comparative Example 4, warpage or shrinkage may not occur, but may have a high dielectric constant and a high hygroscopicity, which may cause a problem in reliability of the flexible printed circuit board, and optical inspection may not be smooth.

본 발명은 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the examples, these are merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims (13)

방향족 히드록시 카르복실산에서 유래하는 반복단위(A) 18~22몰%;
페놀성 수산기를 가지는 방향족 아민에서 유래하는 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유래하는 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 18~22몰%;
방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C) 18~22몰%; 및
방향족 디카르복실산에서 유래하는 반복단위(D) 38~42몰%를 포함하고,
상기 방향족 디올에서 유래하는 반복단위(C)는 레조르시놀에서 유래하는 반복단위(RCN), 및 바이페놀과 하이드로퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 기타 방향족 디올 화합물에서 유래하는 반복단위(HQ)를 포함하며,
상기 반복단위(RCN)의 함량과 상기 반복단위(HQ)의 함량은 하기 조건을 만족하는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지:
0.3 < n(RCN)/[n(RCN)+n(HQ)] < 0.7
여기서, n(RCN) 및 n(HQ)는 각각 상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에 포함된 반복단위(RCN) 및 반복단위(HQ)의 몰수이다.
18-22 mol% of repeating units (A) derived from aromatic hydroxy carboxylic acid;
18 to 22 mol% of at least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit (B) derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group and a repeating unit (B ') derived from an aromatic diamine;
18-22 mol% of repeating units (C) derived from an aromatic diol; And
It contains 38-42 mol% of repeating units (D) derived from an aromatic dicarboxylic acid,
The repeating unit (C) derived from the aromatic diol is derived from another aromatic diol compound including a repeating unit (RCN) derived from resorcinol and at least one compound selected from the group consisting of biphenol and hydroquinone. Includes a repeating unit (HQ),
The content of the repeating unit (RCN) and the content of the repeating unit (HQ) is an aromatic polyester amide copolymer resin satisfying the following conditions:
0.3 <n (RCN) / [n (RCN) + n (HQ)] <0.7
Here, n (RCN) and n (HQ) are the moles of repeating units (RCN) and repeating units (HQ) contained in the aromatic polyester amide copolymer resin, respectively.
제1항에 있어서,
상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산 및 2-히드록시-6-나프토에산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래하고, 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 및 2-아미노-6-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래하고, 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민 및 2,6-나프탈렌 디아민로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유래하고, 상기 반복단위(D)는 이소프탈산 및 나프탈렌 디카르복실산 중 적어도 1종의 화합물에서 유래하는 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지.
The method of claim 1,
The repeating unit (A) is derived from at least one compound of para hydroxy benzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the repeating unit (B) is 3-aminophenol, 4-aminophenol and It is derived from at least one compound selected from the group consisting of 2-amino-6-naphthol, and the repeating unit (B ′) is 1,4-phenylene diamine, 1,3-phenylene diamine and 2,6-naphthalene An aromatic polyester amide copolymer resin derived from at least one compound selected from the group consisting of diamines, wherein the repeating unit (D) is derived from at least one compound of isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid.
제1항에 있어서,
수평균분자량이 1,000~20,000이고, 용융온도가 200~350℃인 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지.
The method of claim 1,
Aromatic polyester amide copolymer resin whose number average molecular weight is 1,000-20,000, and melting temperature is 200-350 degreeC.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름.A polymer film comprising the aromatic polyester amide copolymer resin according to any one of claims 1 to 3. 제4항에 있어서,
상기 방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100 중량부에 대하여 유기 필러 및 무기 필러로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 필러 0.0001 내지 100중량부를 추가로 포함하는 고분자 필름.
The method of claim 4, wherein
A polymer film further comprising 0.0001 to 100 parts by weight of at least one filler selected from the group consisting of an organic filler and an inorganic filler based on 100 parts by weight of the aromatic polyester amide copolymer resin.
제4항에 있어서,
일방향의 열팽창률이 15ppm/K 이하인 고분자 필름.
The method of claim 4, wherein
A polymer film having a thermal expansion coefficient of 15 ppm / K or less in one direction.
제4항에 있어서,
유전상수가 3.5 이하이며, 유전손실이 0.01 이하인 고분자 필름.
The method of claim 4, wherein
A polymer film having a dielectric constant of 3.5 or less and a dielectric loss of 0.01 or less.
제4항에 있어서,
흡습율이 0.5중량% 이하인 고분자 필름.
The method of claim 4, wherein
Polymer film whose moisture absorption is 0.5 weight% or less.
제4항에 있어서,
광투과도가 50~90%인 고분자 필름.
The method of claim 4, wherein
Polymer film having light transmittance of 50 to 90%.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 고분자 필름; 및
상기 고분자 필름의 적어도 일면에 배치된 적어도 한장의 금속 박막을 포함하는 연성 금속박 적층판.
The polymer film according to any one of claims 1 to 3; And
A flexible metal foil laminate comprising at least one metal thin film disposed on at least one surface of the polymer film.
제10항에 있어서,
상기 금속 박막은 동박 및 알루미늄박 중 적어도 하나를 포함하는 연성 금속박 적층판.
The method of claim 10,
The metal thin film is a flexible metal foil laminate comprising at least one of copper foil and aluminum foil.
제10항에 따른 연성 금속막 적층판의 금속 박막을 에칭하여 얻어지는 연성 인쇄 회로기판.A flexible printed circuit board obtained by etching a metal thin film of the flexible metal film laminate according to claim 10. 제4항에 따른 고분자 필름의 적어도 일면에 금속 회로 패턴을 인쇄하여 형성된 연성 인쇄 회로기판.The flexible printed circuit board formed by printing a metal circuit pattern on at least one surface of the polymer film according to claim 4.
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