KR20100051858A - 로터 수착 농축기의 즉석 고온 재생을 위한 장치 및 방법 - Google Patents
로터 수착 농축기의 즉석 고온 재생을 위한 장치 및 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 1b는 도 1a에 나타낸 로터와 관련 유체 스트림의 확대 평면도이고;
도 2는 바람직한 구체예에서 로터의 "정면"측, 즉 공정 에어스트림이 매체로 들어가는 로터 매체의 측의 평면도이고, 이 로터 처리 존을 상세히 나타내고;
도 3은 바람직한 구체예에서 로터의 "후면"측, 즉 공정 에어스트림이 매체를 빠져나오는 로터 매체 측의 평면도이고, 이 로터 처리 존의 상세를 나타내고;
도 4는 로터의 "정면"측 상의 도관 연결부의 모식적 투시도이고;
도 5는 로터의 "후면"측 상의 도관 연결부의 모식적 투시도이고;
도 6은 재생 사이클 동안 공정, 탈착, 냉각과 재생 존을 통해 재생 사이클 동안 작동 사이클로 회전함에 따라 로터 매체의 "정면"측과 "후면"측 상에서 격는 매체 온도를 나타내는 차트이고;
도 7a은 재생 열이 전용 가열 공급원으로부터 유래하고 재생 유체 스트림의 공급원은 수착 공정과 독립적인, 본발명의 또다른 구체예의 도 1a과 유사한 모식적 흐름도이고;
도 7b는 도 7의 구체예의 도 1b와 유사한 확대 평면도이고;
도 8은 재생 존이 탈착 존 내에 매립되어 있는, 본발명의 또다른 구체예의 로터의 "후면"측의 도 3과 유사한 평면도이고;
도 9는 재생 존이 공정 존 내에 위치하는, 본발명의 또다른 구체예의 도 1a과 유사한 모식적 흐름도이고;
도 10a은 재생 존이 재생 존과 탈착 존 모두로서 사용될 수 있는, 본발명의 또다른 구체예의 도 1a과 유사한 모식적 흐름도이고;
도 10b는 도 10a의 구체예의 도 1b와 유사한 확대 평면도이고;
도 11은 재생 존이 탈착 존 내에 매립되어 있지만 방사상 경로를 따라 주위로부터 매체 중심으로 이동될 수 있는, 본발명의 또다른 구체예의 로터의 "후면"측의 도 3과 유사한 평면도이다.
Claims (67)
- 흡착제 농축기 매체를 회전시켜 작동 사이클 동안 흡착제 농축기 매체가 다수의 처리 존을 순차적으로 통과하도록 하는 단계;
제 1 존 내에서 매체에 의해 제거하고자 하는 오염물을 함유하는 공정 유체 스트림을 통과시키는 단계;
제 1 온도 범위에서 제 2 존 내에서 탈착 유체 스트림을 상기 매체를 통해 통과시켜 제 1 존 내에서 매체의 의해 흡착된 오염물을 제거하는 단계; 및
상기 제 1 온도보다 높은 제 2 온도 범위에서 제 3 존 내에서 재생 유체 스트림을 상기 매체를 통해 통과시켜 매체를 재생하고 남아 있는 오염물을 매체로부터 제거하는 단계;
를 포함하는 회전 수착 농축기의 즉석 재생 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 1 온도 범위는 250℉ 내지 400℉ 사이인 방법. - 제 2항에 있어서,
상기 제 2 온도 범위는 600℉ 내지 1000℉ 사이인 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 1 존을 통과한 후 탈착 에어스트림으로부터 오염물을 제거하는 산화기의 배기 에어스트림으로부터 상기 재생 에어스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
탈착 공정과는 독립적인 열 공급원으로부터 상기 재생 에어스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
작동 사이클에서의 매체의 회전 경로에서 제 1 존보다 선행하고 제 2와 제 3 존 이후에 있는 제 4 존 내에서 상기 매체를 통해 냉각 유체 스트림을 통과시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 6항에 있어서,
상기 공정 에어스트림으로부터 상기 냉각 유체 스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 6항에 있어서,
냉각 에어스트림이 상기 매체를 통해 통과시킨 후 냉각 에어스트림을 가열하고 이후 탈착 에어스트림으로서 상기 제 1 온도 범위에서 매체 내로 다시 통과시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 7항에 있어서,
고온 산화기 배기 스트림을 생성하면서 오염물의 제거용 산화기 내로 탈착 에어스트림을 공급하는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 2 존은 두 개의 탈착 존을 포함하고 상기 제 3 존은 상기 두 개의 탈착 존 사이에 위치하는 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 2 존은 단일 존이고 상기 제 3 존은 상기 제 2 존 내에 매립되거나 상기 제 2 존에 의해 둘러싸이는 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 1 존은 매체에 의해 오염물을 흡착하기 위한 두 개의 공정 존을 포함하고 상기 제 3 존은 상기 두 개의 탈착 존 사이에 위치하는 방법. - 제 1항에 있어서,
매체의 회전 속도를 제어하는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
재생 유체 스트림의 유속을 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
상기 제 3 존의 크기를 변화시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 1항에 있어서,
매체 회전의 적어도 하나의 전체 사이클를 통해 그러한 방법을 수행하는 방법. - 회전 수착 농축기 매체;
상기 매체를 작동 사이클 동안 회전시키기 위한 수단;
매체에 의해 제거될 오염물을 함유하는 공정 유체 스트림을 매체가 회전하는 제 1 분리 처리 존 내로 공급하기 위한 수단;
제 1 온도 범위에서 매체가 회전하는 제 2 분리 처리 존 내의 매체에 탈착 유체 스트림을 공급하여 매체에 의해 흡착된 오염물을 제거하기 위한 수단; 및
상기 제 1 온도 범위보다 높은 제 2 온도 범위에서 제 3 분리 존 내에 재생 유체 스트림을 공급하여 상기 매체를 재생하고 남아있는 오염물을 매체로부터 제거하기 위한 수단;
을 포함하는 회전 수착 농축기 시스템. - 제 17항에 있어서,
탈착 유체 스트림을 공급하기 위한 상기 수단은 250℉ 내지 400℉ 사이
의 온도 범위에서 상기 스트림을 공급하는 시스템. - 제 18항에 있어서,
재생 유체 스트림을 공급하기 위한 상기 수단은 600℉ 내지 1000℉ 사이
의 온도 범위에서 스트림을 공급하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
상기 제 1 존을 통과한 후 탈착 에어스트림으로부터 오염물을 제거하기 위해 재생 유체 스트림으로서 산화기의 배기 에어스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
탈착 공정과는 독립적인 열 공급원으로부터 상기 재생 에어스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
작동 사이클에서의 매체의 회전 경로에서 제 1 존보다 선행하고 제 2와 제 3 존 이후에 있는 제 4 존 내에서 상기 매체를 통해 냉각 유체 스트림을 통과시키기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 22항에 있어서,
상기 냉각 유체를 통과시키기 위한 수단은 상기 공정 에어스트림으로부터 상기 냉각 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 22항에 있어서,
냉각 에어스트림이 상기 매체를 통해 통과시킨 후 냉각 에어스트림을 가열하고 이후 탈착 에어스트림으로서 상기 제 1 온도 범위에서 매체 내로 다시 통과시키기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 22항에 있어서,
고온 산화기 배기 스트림을 생성하면서 오염물의 제거용 산화기 내로 탈착 에어스트림을 공급하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
제 4 분리 존을 제공하고 상기 제 3 존을 상기 두 개의 탈착 존 사이에 위치시키면서 제 4 존에 상기 탈착 유체 스트림을 공급하는 수단을 포함하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
상기 제 2 존은 단일 존이고 상기 제 3 존은 상기 제 2 존 내에 매립되거나 상기 제 2 존에 의해 둘러싸이는 시스템. - 제 17항에 있어서,
상기 제 1 존은 매체에 의해 오염물을 흡착하기 위한 두 개의 공정 존을 포함하고 상기 제 3 존은 상기 두 개의 탈착 존 사이에 위치하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
매체의 회전 속도를 제어하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 17항에 있어서,
재생 유체 스트림의 유속을 조절하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 흡착제 농축기 매체를 회전시켜 작동 사이클 동안 흡착제 농축기 매체가 적어도 하나의 재생 존을 포함하는 다수의 처리 존을 순차적으로 통과하도록 하는 단계; 및
상기 제 1 재생 존 내에 상기 매체를 통해 600℉를 초과하는 온도에서 재생 유체 스트림을 통과시켜 매체로부터 오염물을 제거하는 단계;
를 포함하는 회전 수착 농축기의 즉석 재생 방법. - 제 31항에 있어서,
재생 유체 스트림을 600℉ 내지 1000℉ 사이의 온도 범위에서 공급하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 수착 공정 내에서 열 공급원으로부터 상기 재생 유체 스트림을 가열하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 수착 공정과는 독립적인 열 공급원으로부터 상기 재생 유체 스트림을 가열하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 수착 공정에서 사용되는 유체 스트림으로부터 상기 재생 유체 스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 수착 공정과는 독립적인 유체 스트림으로부터 상기 재생 유체 스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
두 개의 존으로서 또다른 로터 처리 존을 형성하고 상기 재생 존을 상기 두 개의 존 사이에 위치시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 또다른 처리 존 내에 상기 재생 존을 매립시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 재생 존은 방사상으로 분할된 다수의 존을 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 재생 존은 각지게 분할된 다수의 존을 포함하는 방법. - 제 39항 또는 40항에 있어서,
상기 분할된 재생 존에 상기 재생 유체 스트림을 독립적으로 공급하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 다른 로터 처리 존 내에서 다른 유체 스트림과는 독립적으로 상기 재생 존에 상기 재생 유체 스트림을 제공하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
매체의 회전 속도를 제어하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
재생 유체 스트림의 유속을 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 재생 존의 크기를 변화시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 매체를 회전시키는 단계는 재생 존에 대해 매체 회전의 적어도 하나의 전체 사이클를 통해 매체를 회전시키는 것을 포함하는 방법. - 제 39항 또는 40항에 있어서,
상기 매체를 회전시키는 단계는 분할된 각 재생 존에 대해 매체 회전의 적어도 하나의 전체 사이클를 통해 매체를 회전시키는 것을 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
로터 농축기 매체 내에서 재생 존의 위치를 변화시키는 단계를 포함하는 방법. - 제 31항에 있어서,
상기 재생 유체 스트림을 상기 재생 존에 선택적으로 공급하는 단계, 및
재생 유체 스트림이 재생 존에 공급되고 있지 않을 때 수착 공정의 또다른 유체 스트림을 상기 재생 존을 공급하는 단계를 포함하고, 여기서 제 1 존은 제 1 존을 통해 재생 유체 스트림을 통과시키지 않을 때 또다른 로터 처리 존의 일부일 수 있는 방법. - 회전 수착 농축기 매체;
상기 농축기 매체를 작동 사이클 동안 회전시키기 위한 수단;
상기 제 1 재생 존 내에서 매체를 통해 600℉를 초과하는 온도에서 재생 유체 스트림을 통과시켜 매체로부터 오염물을 제거하기 위한 수단;
을 포함하는 회전 수착 농축기 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 재생 유체 스트림은 600℉ 내지 1000℉ 사이의 온도 범위를 갖는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 수착 공정 내에서 열 공급원으로부터 상기 재생 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 수착 공정과는 독립적인 열 공급원으로부터 상기 재생 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
로터 농축기 매체 내에 다수의 로터 처리 존을 한정시키기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 54항에 있어서,
상기 다수의 로터 처리 존은 적어도 두 개의 존을 포함하고 상기 재생 존은 상기 적어도 두 개의 존 사이에 위치하는 시스템. - 제 54항에 있어서,
상기 재생 존은 상기 로터 처리 존 중 하나 내에 매립되어 있는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 재생 존을 다수의 방사상으로 분할된 존으로 분할하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 재생 존을 다수의 각지게 분할된 존으로 분할하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 57항 또는 58항에 있어서,
상기 분할된 재생 존에 상기 재생 유체 스트림을 독립적으로 공급하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 다른 로터 처리 존 내에서 다른 유체 스트림과는 독립적으로 상기 재생 존에 상기 재생 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
매체의 회전 속도를 제어하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
재생 유체 스트림의 유속을 조절하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 재생 존의 크기를 변화시키기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
로터 농축기 내에서 상기 재생 존의 위치를 변화시키기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
수착 공정에서 유체 스트림으로부터 재생 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
수착 공정과는 독립적인 유체 스트림으로부터 재생 유체 스트림을 제공하기 위한 수단을 포함하는 시스템. - 제 50항에 있어서,
상기 재생 유체 스트림을 상기 재생 존에 선택적으로 제공하고, 재생 유체 스트림이 재생 존에 공급되고 있지 않을 때 수착 공정의 또다른 유체 스트림을 공급하기 위한 수단을 포함하는 시스템.
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