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KR20090010528A - 표시 패널용 기판 및 이를 갖는 액정 표시 패널 - Google Patents

표시 패널용 기판 및 이를 갖는 액정 표시 패널 Download PDF

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KR20090010528A
KR20090010528A KR1020070073700A KR20070073700A KR20090010528A KR 20090010528 A KR20090010528 A KR 20090010528A KR 1020070073700 A KR1020070073700 A KR 1020070073700A KR 20070073700 A KR20070073700 A KR 20070073700A KR 20090010528 A KR20090010528 A KR 20090010528A
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KR
South Korea
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substrate
conductive layer
transparent conductive
kpa
layer
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Application number
KR1020070073700A
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정지윤
김강우
김경욱
함연식
이준협
엄윤성
성동기
Original Assignee
삼성전자주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 박막 트랜지스터, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 제1기판; 일면에는 투명 도전층 및 상기 투명 도전층를 덮는 절연막이 형성되어 있으며, 타면은 상기 제1기판을 향하여 배치되어 있는 제2기판; 및 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 채워진 액정층을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 공통전극 및 화소전극이 형성되지 않은 기판상에 투명 도전층을 형성하여 정전기 발생을 방지하며, 투명 도전층상에 절연막을 형성하여 투명 도전층의 손상을 방지할 수 있다. 공통전극 및 화소전극이 형성되지 않은 기판상에 투명 도전층을 형성하여 정전기 발생을 방지하며, 투명 도전층상에 절연막을 형성하여 투명 도전층의 손상을 방지할 수 있다.
PLS 모드, 수평 전계, 정전기, 도전층

Description

표시 패널용 기판 및 이를 갖는 액정 표시 패널{SUBSTRATE FOR DISPLAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL WITH THE SAME}
본 발명은 표시 패널용 기판 및 이를 갖는 액정 표시 패널에 관한 것으로, 특히 박막트랜지스터 기판에 화소전극 및 공통전극이 형성되어 있는 표시 패널용 기판 및 이를 갖는 액정 표시 패널에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하는 장치이다. 이를 위하여 액정 표시 패널은 액정을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막트랜지스터 기판 및 대향 기판을 구비한다. 그리고, 두 기판 사이의 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표시하는 장치이다.
이러한 액정 표시 장치는 액정 분자의 배열에 따라 다양한 표시 모드가 존재하는데, 공정상의 장점 때문에 주로 TN(Twisted Nematic), PVA(Patterned Vertical Alignment), ECB(Electrically Controlled Birefringence) 모드가 많이 사용되고 있다. TN, PVA, ECB 모드 액정 표시 장치는 기판과 수평하게 배향된 액정 분자가 전압이 인가될 때 기판과 거의 수직으로 배향되는 수직 배향 모드이다. 따라서, TN, PVA, ECB 모드 액정 표시 장치는 액정 분자의 굴절율 이방성(refractive anisotropy)에 의해 전압의 인가시 시야각이 좁아지는 문제점이 있었다.
이러한 시야각 문제를 해결하기 위해, 근래 광시야각특성을 갖는 각종 모드의 액정 표시소자가 제안되고 있는데, 그 중에서도 IPS(In Plane Switching) 모드 및 PLS(Plane to Line Switching) 모드가 대표적이다. IPS 모드는 화소내에 평행으로 배열된 적어도 한 쌍의 전극을 형성하여 기판과 실질적으로 평행한 수평 전계를 형성함으로써 액정 분자를 평면상으로 배향시키는 것이다. PLS 모드는 각 화소 영역에 절연막을 사이에 둔 공통 전극과 화소 전극을 구비하여 프린지 전계를 형성하여 상하부 기판 사이에 채워진 액정 분자들이 각 화소 영역에서 모두 동작되게 함으로써 수직 및 수평 전계를 형성하게 되어 개구율 및 투과율을 향상시키게 된다.
다시 말해, 박막 트랜지스터 기판에 형성된 공통 전극과 화소 전극을 이용하여 수직 및 수평 전계를 형성하는 구조이므로, 그 대향 기판에는 공통전극이 없다. 이러한 IPS 및 PLS 모드의 대향 기판에는 전극이 형성되어 있지 않기 때문에 정전기가 발생하기 쉬운 문제점이 있다.
그리고, IPS 및 PLS 모드의 대향 기판에 정전기가 발생하지 않도록 전극층을 형성하는 경우, 전극층이 대향 기판의 배면에 배치됨으로 인해, 공정 진행상 기판 반송용 롤러에 의한 스크래치, 기타 얼룩, 화학 약품 등에 의해 불량이 발생할 수 있는 문제점이 있다.
따라서 본 발명의 목적은 공통전극 및 화소전극이 형성되지 않은 기판상에 투명 도전층을 형성하여 정전기 발생을 방지하며, 투명 도전층상에 절연막을 형성하여 투명 도전층의 손상을 방지할 수 있는 액정 표시 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 공통전극 및 화소전극이 형성되지 않은 기판상에 투명 도전층을 형성하여 정전기 발생을 방지하며, 투명 도전층상에 절연막을 형성하여 투명 도전층의 손상을 방지할 수 있는 표시 패널용 기판을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 투명 도전층과 절연막의 굴절률 차이를 고려하여 막 형성 두께를 결정함으로써 투과율을 최대화할 수 있는 액정 표시 패널을 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 목적은 박막 트랜지스터, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 제1기판; 일면에는 투명 도전층 및 상기 투명 도전층를 덮는 절연막이 형성되어 있으며, 타면은 상기 제1기판을 향하여 배치되어 있는 제2기판; 및 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 채워진 액정층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널에 의해 달성된다.
상기 투명 도전층은 인듐 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드중 적어도 어느 하나로 형성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 절연막은 SiNx, SiOx 및 SiOF 중 적어도 어느 하나로 형성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 투명 도전층의 두께는 200Å 내지 500Å, 상기 투명 절연막의 두께는 3500Å 내지 4500Å인 것이 바람직하다.
상기 투명 도전층의 두께는 1200 Å 내지 1400Å, 상기 투명 절연막의 두께는 2500Å 내지 3500Å인 것이 바람직하다.
상기 공통 전극과 상기 화소 전극 사이에 형성된 적어도 하나의 절연층을 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 공통 전극과 상기 화소 전극은 동일한 층에 형성된 것이 바람직하다.
상기 제2기판의 타면에 형성된 칼라필터를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 본 발명의 다른 목적은, 투명 기판; 상기 투명 기판의 일면에 형성된 투명 도전층; 상기 투명 도전층 상에 형성된 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판에 의해 달성된다.
상기 투명 도전층은 인듐 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드중 적어도 어느 하나로 형성된 것이 바람직하다.
상기 절연막은 SiNx, SiOx 및 SiOF 중 적어도 어느 하나로 형성된 것이 바람직하다.
상기 투명 도전층의 두께는 200Å 내지 500Å, 상기 절연막의 두께는 3500Å 내지 4500Å인 것이 바람직하다.
상기 투명 도전층의 두께는 1200Å 내지 1500Å, 상기 절연막의 두께는 2500Å 내지 3500Å인 것이 바람직하다.
상기 투명 기판의 타면에 형성된 컬러 필터를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의해, 공통전극 및 화소전극이 형성되지 않은 기판상에 투명 도전층을 형성하여 정전기 발생을 방지하며, 투명 도전층상에 절연막을 형성하여 투명 도전층의 손상을 방지할 수 있다.
또한, 투명 도전층과 절연막의 굴절률 차이를 고려하여 막 형성 두께를 결정함으로써 투과율을 최대화할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
여러 실시예에 있어서 동일한 구성요소에 대하여는 동일한 참조번호를 부여하였으며, 동일한 구성요소에 대하여는 제1실시예에서 대표적으로 설명하고 다른 실시예에서는 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 패널을 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널의 평면도이며, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ을 따른 단면도이다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널(1)은 PLS 모드로 수직 및 수평 전계 방식이다.
도 1 내지 도 3를 참조하면, 액정 표시 패널(1)은 박막 트랜지스터 어레이가형성된 제1기판(100)과, 제1기판(100)에 대향하여 합착된 제2기판(200)과, 제1기판(100)과 제2기판(200) 사이에 형성된 액정층(300)을 포함한다.
액정층(300)에 마련된 액정(30)은 유전율 이방성 및 굴절률 이방성을 갖는 물질로 이루어짐과 아울러 제1기판(100)의 공통 전극(171)과 화소 전극(161) 간에 형성되는 수평 전계에 의해 수평 방향으로 배열된다.
제1기판(100)은 제1투명기판(110) 상에 게이트 전극(122), 공통 전극(171), 게이트 절연막(131), 반도체층(132), 불순물이 도핑되어 있는 저항접촉층(133), 소스 전극(142), 드레인 전극(143), 보호막(151), 화소 전극(161)을 구비한다.
제1투명기판(110) 상에 게이트 배선(121,122,123) 및 공통 전극(171)이 형성되어 있다. 게이트 배선(121,122)은 Cr 또는 Cr합금, Al합금, Mo 또는 Mo합금, Cu 또는 Cu합금 등의 금속으로 단일층 또는 이중층 이상으로 형성한다. 게이트 배선(121, 122, 123)은 표시영역 내에 위치하며 가로 방향으로 뻗어 있는 게이트선(121)과, 게이트선(121)에서 연결되어 있는 게이트 전극(122)과, 공통 전극(171)과 연결되어 공통 전극(171)에 공통 전압을 공급하는 공통 전압선(123)을 포함한다.
게이트 전극(122) 및 공통 전극(171) 상에는 게이트 전극(122) 및 공통 전극(171)과 데이터 전극(141)과의 절연을 위해 게이트 절연막(131)이 형성되어 있다. 게이트 절연막(131)은 SiNx나 SiOx 등과 같은 무기막으로 형성된다.
게이트 절연막(131) 위에는 박막 트랜지스터(TFT)의 전하 이동경로인 채널을 형성하는 반도체층(132)이 형성되어 있으며 그 위에 전기적 저항층인 저항접촉층(133)이 형성되어 있다. 이때, 반도체층(132) 및 저항접촉층(133)은 비정질 반도체 또는 결정질 반도체일 수 있다. 저항 접촉층(133) 및 게이트 절연막(131) 위에는 데이터 배선(141, 142, 143)이 형성되어 있다. 데이터 배선(141, 142, 143) 역시 금속층으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있다. 데이터 배선(141, 142, 143)은 세로방향으로 형성되어 게이트선(121)과 교차하여 화소를 형성하는 데이터선(141)과, 데이터선(141)의 분지이며 저항 접촉층(133)의 상부까지 연장되어 있는 소스 전극(142)과, 소스전극(142)과 분리되어 있으며 소스전극(142)의 반대쪽 저항 접촉층(133) 상부에 형성되어 있는 드레인 전극(143)을 포함한다.
데이터 배선(141, 142, 143)은 Cr 또는 Cr합금, Al합금, Mo 또는 Mo합금, Cu 또는 Cu합금 등의 금속으로 단일층 또는 이중층 이상으로 형성한다.
소스 전극(142), 드레인 전극(143), 반도체층(132), 게이트 절연막(131) 위에는 박막 트랜지스터(TFT)의 채널부를 보호하기 위한 절연층인 보호막(151)이 형성되어 있다.
보호막(151)은 SiNx 등의 단일막 또는 무기막 및 유기 절연막 등의 이중막 이상으로 형성한다. 보호막(151) 위에는 액정층(300)에 화소 전압을 인가하는 화소 전극(161)이 형성되어 있다.
화소 전극(161)은 ITO(Induim Tin Oxide)나 IZO(Induim Zinc Oxide) 등과 같은 투명한 금속으로 형성하며 보호막(151)에 형성된 콘택홀(152)을 통해 드레인 전극(143)과 전기적으로 연결되어 데이터 전압을 인가받는다.
화소 전극(161)은 제1서브부분(161a)과 제2서브부분(161b)을 포함한다. 제1서브부분(161a)은 게이트선(121)과 평행하며 드레인 전극(143)과 연결되어 있다. 제2서브부분(161b)은 제1서브부분(161a)에서부터 데이터선(141)과 평행하게 연장되어 있다. 제2서브부분(161b)은 복수개로 마련되어 있으며, 일정한 간격으로 배치되어 있다.
공통 전극(171)은 게이트선(121)과 같이 제1투명기판(110) 상에 형성되며, 공통 전압선(123)으로부터 공통전압을 인가받는다. 공통 전극(171)은 화소 전극(161)과 달리 판형상으로 넓게 형성된다. 그러나, 공통 전극(171)은 화소 전극(161)과 유사하게 복수개로 마련되어 일정한 간격으로 배치될 수도 있다.
화소 전극(161)은 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(143)과 연결되며, 화소 전극(161) 및 공통 전극(171) 사이에는 게이트 절연막(131) 및 보호막(151)이 위치한다. 그러나, 화소 전극(161) 및 공통 전극(171) 사이에는 게이트 절연막(131) 및 보호막(151) 중 하나만 형성될 수도 있다. 공통 전극(171)은 화소 전극(161)과 마찬가지로 ITO나 IZO 등과 같은 투명한 금속으로 형성하여 공통 전압선(123)과 연결되어 공통 전압을 인가받는다. 이러한 공통 전극(171)은 화소 전극(161)과 프린지 필드를 형성하여 결과적으로 수직 및 수평 전계를 형성한다.
제2기판(200)은 제2투명기판(210)에 블랙 매트릭스(220), 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(230)를 구비한다. 그러나, 칼라 필터(230)는 이에 한정되지 않고 제1기판(100) 상에 형성될 수도 있다.
본 발명에 따른 제2기판(200) 상에는 제2기판(200)과 제1기판(100) 사이의 간격을 유지하기 위한 컬럼 스페이서(240)가 형성되어 있다.
제2투명기판(210)에는 블랙 매트릭스(220)가 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(220)는 Cr 등과 같은 금속이나 고분자 수지 등을 이용하여 형성하며 단일층 또는 이중층 이상으로 형성한다. 블랙 매트릭스(220) 위에는 색을 표현하기 위한 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(230)가 화소별로 형성되어 있다.
컬럼 스페이서(240)는 블랙 매트릭스(220)가 존재하는 컬러 필터(230)상에 형성하며, 제2기판(200)과 제1기판(100) 사이의 간격을 유지한다. 그러나, 컬럼 스페이서(240)는 이에 한정되지 않고 제1기판(100)상에 형성될 수도 있다.
제2투명기판(210)의 바깥면에는 투명 도전층(250) 및 투명 도전층(250)을 덮는 절연막(251)이 형성된다.
투명 도전층(250)의 재료로는 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 인듐 틴 옥사이드 등이 사용될 수 있다. 또한 투명 도전층(250)은 공통 전극(171)과 같은 재질로 형성될 수 있다.
절연막(251)은 투명하게 형성되며, 그 재료로는 SiNx, SiOx 및 SiOF 등이 사용될 수 있다.
절연막(251) 및 투명 도전층(250)으로 된 다층막은 층간의 굴절률 차이로 인한 반사광이 수반되고 이러한 현상에 의해 액정층(300)을 통과한 투과광의 손실, 즉 투과율의 저하가 발생한다. 따라서, 각각의 굴절률을 고려하여 투과율의 손실이 최소가 되는 막 두께를 가지도록 투명 도전층(250) 및 투명 절연막(251)을 형성하는 것이 바람직하다.
이에, 공통 전극(171) 및 화소 전극(161)이 형성되지 않은 제2기판(200)상에 투명 도전층(250)을 형성하여 정전기 발생을 방지할 수 있으며, ESC(electro static chuck)방식의 척킹(chucking)이 가능하게 된다. 그리고, 투명 도전층(250)상에 절연막(251)을 형성하여 투명 도전층(250)에 공정 진행상 기판 반송용 롤러에 의한 스크래치, 기타 얼룩, 화학 약품 등에 의해 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
도 4는 절연막(251)의 두께를 3000Å, 4000Å 및 5000Å으로 형성한 경우, 투명 도전층(250)의 두께에 따른 투과율의 변화를 측정한 그래프이다. 측정된 실시예에서는 투명 도전층(250)의 재료로 인듐 징크 옥사이드를, 절연막(251)의 재료로는 SiNx를 사용하였다. 그래프 상에서 투과율이 가장 높은 경우는, 절연막(251)의 두께가 4000Å, 투명 도전층(250)의 두께가 약 300Å인 경우이다. 또한 본 측정 결과에 따르면, 절연막(251)의 두께가 4000Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 200 내지 400Å이거나, 절연막(251)의 두께가 3000Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 1200 내지 1500Å으로 형성되면 90% 이상의 투과율을 확보하는 것이 가능하다. 절연막(251)의 두께가 5000Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 800 내지 1000Å이 형성되면 거의 90%의 투과율을 확보하는 것이 가능하다.
그리고, 도시 하지는 않았지만, 절연막(251)의 두께가 약 3500 내지 4500Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 200 내지 400Å인 경우에도 90% 이상의 투과율을 확보하는 것이 가능하며, 절연막(251)의 두께가 약 2500 내지 3500Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 1200 내지 1500Å인 경우에도 90% 이상의 투과율을 확보하는 것이 가능하다. 또한, 절연막(251)의 두께가 약 4500 내지 5500Å이고 투명 도전층(250)의 두께가 약 800 내지 1000Å인 경우에도 거의 90%의 투과율을 확보하는 것이 가능하다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면도이다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널(1)은 IPS 등의 수평 전계 방식이다.
도 5을 참조하면, 액정 표시 패널(1)은 제1기판(100)과 제2기판(200) 및 두 기판(40,100) 사이에 액정층(300)을 구비한다.
제1기판(100)은 제1투명기판(110) 상에 게이트 전극(122), 게이트 절연막(131), 반도체층(132), 저항접촉층(133), 소스 전극(142), 드레인 전극(143), 보호막(151), 화소 전극(161)을 구비한다.
제1투명기판(50), 게이트 전극(122), 게이트 절연막(131), 비정질 반도체층(132), 저항접촉층(133), 소스 전극(142), 드레인 전극(143), 보호막(151), 화소 전극(161)은 제1 실시예와 동일하다.
보호막(151) 위에는 액정층(300)에 화소 전압을 인가하는 화소 전극(161)이 형성되어 있다. 화소 전극(161)은 ITO(Induim Tin Oxide)나 IZO(Induim Zinc Oxide) 등과 같은 투명한 금속으로 형성하며 보호막(151) 상에 형성된 콘택홀(152)을 통해 드레인 전극(143)과 전기적으로 연결되어 데이터 전압을 인가받는다.
한편, 보호막(151) 위에는 화소 전극(161)에 대응하여 액정층(300)에 공통 전압을 인가하는 공통 전극(371)이 형성되어 있다. 공통 전극(371)은 화소 전극(161)과 마찬가지로 ITO나 IZO 등과 같은 투명한 도전체로 형성하며, 공통 전압선(미도시)을 통해 공통 전압이 인가된다. 공통 전극(171)은 게이트 전극(122)와 동일한 층에 동일한 재질로 형성될 수도 있다. 공통 전극(371)은 화소 전극(161)과 유사하게 일정한 간격을 갖도록 복수개로 마련되며, 화소 전극(161) 사이에 배치된다.
이에, 공통 전극(371)은 화소 전극(161)과 나란하게 형성되어 수평 전계를 형성한다.
제2기판(200)은 제1 실시예와 동일하다. 즉, 제2투명기판(210)의 바깥면에는 투명 도전층(250) 및 투명 도전층(250)을 덮는 절연막(251)이 형성된다.
이에, 본 발명의 제2실시예에서도 공통 전극(171) 및 화소 전극(161)이 형성되지 않은 제2기판(200)상에 투명 도전층(250)을 형성하여 정전기 발생을 방지할 수 있으며, ESC(electro static chuck)방식의 척킹(chucking)이 가능하게 된다. 그리고, 투명 도전층(250)상에 절연막(251)을 형성하여 투명 도전층(250)에 공정 진행상 기판 반송용 롤러에 의한 스크래치, 기타 얼룩, 화학 약품 등에 의해 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
그리고, 절연막(251) 및 투명 도전층(250)으로 된 다층막은 층간의 굴절률 차이로 인한 반사광이 수반되고 이러한 현상에 의해 액정층(300)을 통과한 투과광의 손실, 즉 투과율의 저하가 발생한다. 따라서, 각각의 굴절률을 고려하여 투과율의 손실이 최소가 되는 막 두께를 가지도록 투명 도전층(250) 및 투명 절연막(251)을 형성하는 것이 바람직하다.
이에, 제2실시예에서도 도 4의 그래프에 대한 설명이 제1실시예와 같이 동일하게 적용될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있 음이 자명하다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 패널을 도시한 사시도,
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널의 평면도,
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ을 따른 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 액정 표시 패널의 투명 절연막의 두께 및 투명 도전층의 두께에 따른 투과율의 변화를 측정한 그래프,
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 액정 표시 패널
100 : 제1기판 110 : 제1투명기판
121 : 게이트선 122 : 게이트전극
151 : 보호막 152 : 콘택홀
161 : 화소전극 171 : 공통전극
200 : 제2기판 210 : 제2투명기판
230 : 칼라필터 240 : 컬럼스페이서
250 : 투명 도전층 251 : 절연막

Claims (14)

  1. 박막 트랜지스터, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 제1기판;
    일면에는 투명 도전층 및 상기 투명 도전층를 덮는 절연막이 형성되어 있으며, 타면은 상기 제1기판을 향하여 배치되어 있는 제2기판; 및
    상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 채워진 액정층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 투명 도전층은 인듐 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드중 적어도 어느 하나로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 절연막은 SiNx, SiOx 및 SiOF 중 적어도 어느 하나로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 투명 도전층의 두께는 200Å 내지 500Å, 상기 투명 절연막의 두께는 3500Å 내지 4500Å인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 투명 도전층의 두께는 1200 Å 내지 1400Å, 상기 투명 절연막의 두께는 2500Å 내지 3500Å인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 공통 전극과 상기 화소 전극 사이에 형성된 적어도 하나의 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 공통 전극과 상기 화소 전극은 동일한 층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제2기판의 타면에 형성된 칼라필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  9. 투명 기판;
    상기 투명 기판의 일면에 형성된 투명 도전층;
    상기 투명 도전층 상에 형성된 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 투명 도전층은 인듐 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드중 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 절연막은 SiNx, SiOx 및 SiOF 중 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 투명 도전층의 두께는 200Å 내지 500Å, 상기 절연막의 두께는 3500Å 내지 4500Å인 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 투명 도전층의 두께는 1200Å 내지 1500Å, 상기 절연막의 두께는 2500Å 내지 3500Å인 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  14. 제9항에 있어서,
    상기 투명 기판의 타면에 형성된 컬러 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
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