KR20080113116A - 결함 수복 장치, 결함 수복 방법, 프로그램 및 컴퓨터 판독가능한 기록 매체 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (13)
- 반송된 기판을 고정하는 고정 수단과,상기 고정 수단에 의해 고정된 기판에 수직한 방향으로부터 보아서 상기 기판의 반송 방향과 다른 방향을 따라 배치되어 상기 기판 상에 점재하는 결함에 액적을 토출하는 복수개의 액적 토출 유닛과,상기 복수개의 액적 토출 유닛을 탑재한 일렬 이상의 갠트리와,상기 갠트리를 상기 기판의 반송 방향을 따라 상대적으로 등속 이동시키는 이동 수단을 구비하고,각 액적 토출 유닛은 상기 기판 상에 점재하는 복수개의 결함의 위치를 나타내는 데이터에 따라 상기 갠트리가 상기 기판의 반송 방향을 따라 상대 이동하고 있는 동안에 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 서로 독립하여 이동하는 것을 특징으로 하는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 이동 수단은 상기 기판의 일단부로부터 타단부까지 상기 갠트리를 왕복 이동시키는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 갠트리는 상기 기판의 반송 방향을 따라 소정의 간격을 두고 복수열 설치되어 있는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 갠트리에는 각 액적 토출 유닛을 상기 반송 방향에 수직한 방향을 따라 슬라이드시키는 복수개의 슬라이드 기구가 설치되어 있는 결함 수복 장치.
- 제4항에 있어서,, 상기 반송 방향으로부터 보아 각 슬라이드 기구에 의해 슬라이드되는 액적 토출 유닛의 슬라이드 범위의 단부가, 서로 중복되고 있는 결함 수복 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 기판에 수직한 방향으로부터 보아 상기 복수개의 슬라이드 기구는 지그재그 형상으로 배치되어 있는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기판의 수복 영역을, 각 액적 토출 유닛마다에 할당하는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 각 액적 토출 유닛은 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 이동한 후 정지한 상태에서 상기 결함에 상기 액적을 토출하는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 각 액적 토출 유닛은 그 액적 토출 위치와 상기 기판 상의 결함의 위치가 일치하도록 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 이동하는 결함 수복 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 복수개의 액적 토출 유닛을 탑재한 갠트리의 중량은 0.5톤 이상 4톤 이하인 결함 수복 장치.
- 반송된 기판을 고정하고,상기 고정한 기판에 수직한 방향으로부터 보아 상기 기판의 반송 방향과 다른 방향을 따라 배치된 복수개의 액적 토출 유닛을 탑재한 일렬 이상의 갠트리를 상기 기판의 반송 방향을 따라 상대적으로 등속 이동시키고,상기 갠트리가 상기 기판의 반송 방향을 따라 이동하고 있는 동안에 상기 기판 상에 점재하는 복수개의 결함의 위치를 나타내는 데이터에 따라 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 각 액적 토출 유닛을 서로 독립해서 이동시켜 상기 기판 상에 점재하는 결함에 액적을 토출하는 것을 특징으로 하는 결함 수복 방법.
- 컴퓨터에 반송된 기판을 고정하는 수순과,상기 고정한 기판에 수직한 방향으로부터 보아 상기 기판의 반송 방향과 다른 방향을 따라 배치된 복수개의 액적 토출 유닛을 탑재한 일렬 이상의 갠트리를 상기 기판의 반송 방향을 따라 상대적으로 등속 이동시키는 수순과,상기 갠트리가 상기 기판의 반송 방향을 따라 이동하고 있는 동안에 상기 기판 상에 점재하는 복수개의 결함의 위치를 나타내는 데이터에 따라 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 각 액적 토출 유닛을 서로 독립해서 이동시켜서 상기 기판 상 에 점재하는 결함에 액적을 토출하는 수순을 실행시키는 것을 특징으로 하는 프로그램.
- 컴퓨터에 반송된 기판을 고정하는 수순과,상기 고정한 기판에 수직한 방향으로부터 보아 상기 기판의 반송 방향과 다른 방향을 따라 배치된 복수개의 액적 토출 유닛을 탑재한 일렬 이상의 갠트리를 상기 기판의 반송 방향을 따라 상대적으로 등속 이동시키는 수순과,상기 갠트리가 상기 기판의 반송 방향을 따라 이동하고 있는 동안에 상기 기판 상에 점재하는 복수개의 결함의 위치를 나타내는 데이터에 따라 상기 반송 방향과 다른 방향을 따라 각 액적 토출 유닛을 서로 독립해서 이동시켜서 상기 기판 상에 점재하는 결함에 액적을 토출하는 수순을 실행시키는 프로그램을 기록한 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101436459B1 (ko) * | 2010-07-08 | 2014-09-03 | 세메스 주식회사 | 처리액 토출 장치 |
KR101436458B1 (ko) * | 2010-07-08 | 2014-09-03 | 세메스 주식회사 | 처리액 토출 장치 |
KR101430742B1 (ko) * | 2010-07-29 | 2014-09-23 | 세메스 주식회사 | 처리액 토출 장치 |
KR101535922B1 (ko) * | 2013-12-18 | 2015-07-10 | 에이피시스템 주식회사 | 액상물 토출 유닛 및 액상물 토출 장치 및 액상물 토출 방법 |
KR101642429B1 (ko) * | 2015-05-18 | 2016-07-25 | 울산과학기술원 | 전자장치의 리페어 방법 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4813322B2 (ja) | 2006-10-17 | 2011-11-09 | シャープ株式会社 | 基板修復システム、基板修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP5088579B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2012-12-05 | オムロン株式会社 | ガラス基板リペア装置 |
US8794180B2 (en) * | 2009-01-06 | 2014-08-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ejection device and droplet disposition method |
JP5240466B2 (ja) * | 2009-03-12 | 2013-07-17 | オムロン株式会社 | Fpd基板の製造方法及び装置 |
WO2010137403A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルの描画装置 |
KR101129193B1 (ko) * | 2009-12-01 | 2012-03-26 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 페이스트 디스펜서의 제어방법 |
US8740340B2 (en) * | 2011-03-09 | 2014-06-03 | Seiko Epson Corporation | Printing device |
JP5832345B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2015-12-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
KR101738982B1 (ko) * | 2015-06-08 | 2017-05-26 | 참엔지니어링(주) | 리페어 장치 및 리페어 방법 |
JP6696641B2 (ja) * | 2016-06-24 | 2020-05-20 | アイマー・プランニング株式会社 | 印刷装置における印刷ズレ修正方法 |
US10692204B2 (en) | 2016-08-01 | 2020-06-23 | The Boeing Company | System and method for high speed surface and subsurface FOD and defect detection |
CN106873246B (zh) * | 2017-02-27 | 2024-06-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光配向设备的机台、光配向设备及基板的光配向加工方法 |
CN111989164B (zh) * | 2018-03-28 | 2022-02-25 | 马西莫·伯托拉的电动比姆公司 | 用液体产品对刚性面板的主要表面进行涂覆、特别是涂漆的装置 |
JP2019191239A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | シャープ株式会社 | 表示パネル |
WO2020018153A1 (en) * | 2018-07-16 | 2020-01-23 | Applied Materials, Inc | Adapter for image projection system installation in photolithography system |
CN110757957A (zh) * | 2018-11-14 | 2020-02-07 | 肇庆皈一智能科技有限公司 | 一种oled喷墨打印方法及装置 |
KR102348483B1 (ko) * | 2020-05-08 | 2022-01-07 | 주식회사 코윈디에스티 | 스위블 모션이 가미된 잉크젯 노즐 모듈 및 이를 포함하는 기판의 리페어 장치 |
KR102520976B1 (ko) * | 2021-03-30 | 2023-04-12 | (주)에스티아이 | 잉크젯 프린팅 프로세스의 제어 방법 |
IT202100013085A1 (it) * | 2021-05-20 | 2022-11-20 | Cefla Soc Cooperativa | Apparato e metodo per la verniciatura a rullo di pannelli, preferibilmente pannelli fotovoltaici |
CN114460075B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-12-19 | 南京华鼎纳米技术研究院有限公司 | 一种基于图像识别的纸张修补方法 |
JP7489140B2 (ja) * | 2022-04-28 | 2024-05-23 | Aiメカテック株式会社 | 検査・リペア装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1262354C (zh) | 1995-07-24 | 2006-07-05 | 松下电器产业株式会社 | 结合剂涂敷装置 |
US6270187B1 (en) * | 1998-12-14 | 2001-08-07 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for hiding errors in single-pass incremental printing |
JP2001347208A (ja) * | 2000-06-09 | 2001-12-18 | Dainippon Printing Co Ltd | ペースト塗布方法及び装置 |
JP3701882B2 (ja) * | 2001-05-25 | 2005-10-05 | 株式会社 日立インダストリイズ | ペースト塗布機 |
JP2003066218A (ja) | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Canon Inc | カラーフィルタの欠陥修復方法 |
JP2003191462A (ja) | 2001-12-27 | 2003-07-08 | Seiko Epson Corp | 描画装置、並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 |
JP3922177B2 (ja) * | 2002-02-12 | 2007-05-30 | セイコーエプソン株式会社 | 成膜方法、成膜装置、液滴吐出装置、カラーフィルタの製造方法、表示装置の製造方法 |
JP2004070073A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の欠陥補修方法、電気光学装置およびこれを備えた電子機器、電気光学装置の製造方法および製造装置 |
JP2004337707A (ja) | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Seiko Epson Corp | 描画装置、描画方法、デバイス及び電子機器 |
JP4011002B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2007-11-21 | シャープ株式会社 | アクティブ基板、表示装置およびその製造方法 |
JP4376606B2 (ja) | 2003-12-17 | 2009-12-02 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成装置、パターン形成方法 |
JP4679895B2 (ja) * | 2003-12-17 | 2011-05-11 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成装置、ヘッドユニット |
JP4336885B2 (ja) | 2003-12-26 | 2009-09-30 | リコープリンティングシステムズ株式会社 | インクジェット式薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP4464747B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-05-19 | 株式会社ブイ・テクノロジー | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
JP4293094B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2009-07-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法 |
JP4679912B2 (ja) | 2005-01-26 | 2011-05-11 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成装置、ヘッドユニット装置、ヘッドユニット制御方法 |
JP2006239560A (ja) | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成装置、ヘッドユニット、ヘッドの調整方法 |
WO2007077597A1 (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液滴塗布装置 |
JP4086879B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2008-05-14 | シャープ株式会社 | 液滴塗布装置 |
JP4086878B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2008-05-14 | シャープ株式会社 | 液滴塗布装置 |
-
2006
- 2006-04-21 JP JP2006118510A patent/JP4057037B2/ja active Active
-
2007
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KR101436458B1 (ko) * | 2010-07-08 | 2014-09-03 | 세메스 주식회사 | 처리액 토출 장치 |
KR101430742B1 (ko) * | 2010-07-29 | 2014-09-23 | 세메스 주식회사 | 처리액 토출 장치 |
KR101535922B1 (ko) * | 2013-12-18 | 2015-07-10 | 에이피시스템 주식회사 | 액상물 토출 유닛 및 액상물 토출 장치 및 액상물 토출 방법 |
KR101642429B1 (ko) * | 2015-05-18 | 2016-07-25 | 울산과학기술원 | 전자장치의 리페어 방법 |
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