KR20070105879A

KR20070105879A - Input device

Info

Publication number: KR20070105879A
Application number: KR1020070040293A
Authority: KR
Inventors: 마사키 사와다; 다모츠 야마모토; 히로토 이노우에
Original assignee: 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤
Priority date: 2006-04-27
Filing date: 2007-04-25
Publication date: 2007-10-31
Anticipated expiration: 2027-04-25
Also published as: JP4735396B2; CN101063916A; EP1850212B1; JP2007293749A; KR100875007B1; TW200818228A; EP1850212A2; US8212767B2; TWI356436B; CN101063916B; EP1850212A3; US20070254551A1

Abstract

본 발명은 원호형상 저항층과 도전층으로서의 금속판이 대향 배치되고, 그들의 부분적인 접촉에 의해 조작된 위치가 검출 가능한 입력 장치로서, 그 조작 시에 있어서 원호형상 저항층의 양 단부가 금속판에 동시에 접촉하지 않도록, 원호형상 저항층의 일단부 상에 겹쳐 접촉 방지부로서의 직선형상 절연층이 배치된 소자부를 이용하여 구성하였다.The present invention is an input device in which an arc-shaped resistive layer and a metal plate as a conductive layer are disposed to face each other, and the position of which is manipulated by their partial contact can be detected, and both ends of the arc-shaped resistive layer are simultaneously in contact with the metal plate during the operation. In order to avoid that, an element portion in which a linear insulating layer as a contact preventing portion is disposed on one end of the arc-shaped resistive layer is disposed.

Description

Input device {INPUT DEVICE}

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 소자부의 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view of an element portion of an input device according to Embodiment 1 of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 소자부의 부분 단면도이다.2 is a partial cross-sectional view of an element portion of an input device according to Embodiment 1 of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 개념도이다.3 is a conceptual diagram of an input device according to Embodiment 1 of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 동작 상태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.4 is a partially enlarged cross-sectional view showing an operating state of the input device according to the first embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 다른 동작 상태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.5 is a partially enlarged cross-sectional view showing another operating state of the input device according to the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부의 분해 사시도이다.6 is an exploded perspective view of the element portion of the input device according to the second embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부의 부분 단면도이다.7 is a partial cross-sectional view of an element portion of an input device according to Embodiment 2 of the present invention.

도 8은 본 발명의 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 동작 상태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.8 is a partially enlarged cross-sectional view showing an operating state of the input device according to the second embodiment of the present invention.

도 9는 종래의 입력 장치의 개념도이다.9 is a conceptual diagram of a conventional input device.

도 10은 종래의 입력 장치의 단면도이다.10 is a cross-sectional view of a conventional input device.

도 11은 종래의 입력 장치의 분해 사시도이다.11 is an exploded perspective view of a conventional input device.

본 발명은 각종 전자 기기의 조작부를 구성하는 입력 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an input device constituting an operation unit of various electronic devices.

최근, 각종 전자 기기는 소형 경량화가 진전됨과 함께, 화면 내에 표시된 커서를 이동시켜 소정 기능을 선택하여 작동시키는 것이 많아지고 있다. 이러한 각종 전자 기기의 조작 형태에 대응한 종래의 입력 장치에 대해 이하에 도면을 이용하여 설명한다.Background Art In recent years, various electronic devices have progressed in miniaturization and light weight, and have moved many cursors displayed on the screen to select and operate predetermined functions. DESCRIPTION OF RELATED ART The conventional input device corresponding to the operation form of such various electronic devices is demonstrated using drawing below.

도 9는 종래의 입력 장치의 개념도이다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 종래의 입력 장치의 소자부(10)는 원호형상 저항층(1)과, 원호형상 저항층(1)과 소정 간격을 두고 대향 배치된 원형 링형상의 도전층(3)으로 구성되어 있다. 그리고, 원호형상 저항층(1)의 단부(1A 및 1B)의 각각 및 도전층(3)은 제어부(5)에 접속되어 있다. 또한, 원호형상 저항층(1)이나 도전층(3) 및 그들로부터의 인출 부분은 대향 배치된 수지 필름 등에 형성되어 있지만 도시는 생략하고 있다.9 is a conceptual diagram of a conventional input device. As shown in FIG. 9, the element part 10 of the conventional input device is the circular ring-shaped conductive layer 3 which opposes the arc-shaped resistive layer 1 and the arc-shaped resistive layer 1 at predetermined intervals. ) Each of the ends 1A and 1B of the arc-shaped resistive layer 1 and the conductive layer 3 are connected to the control unit 5. In addition, although the arc-shaped resistance layer 1, the conductive layer 3, and the lead part from them are formed in the resin film etc. which were arrange | positioned opposingly, illustration is abbreviate | omitted.

그리고, 도 10의 단면도 및 도 11의 분해 사시도에 나타내는 바와 같이, 소자부(10) 상에는 조작면측이 되는 하단 부분이 구면형상으로 형성된 조작체(15)가 경도 동작 가능하게 배치되어 있다. 또한, 코일 스프링(17)은 조작체(15)를 조작하고 있지 않을 때에, 조작체(15)를 중립 위치에 가압하기 위해서 케이스(19)에 배 치되어 있다.And as shown to the sectional drawing of FIG. 10, and the exploded perspective view of FIG. 11, on the element part 10, the operating body 15 in which the lower end part used as the operation surface side in spherical shape is arrange | positioned so that hardness operation is possible. In addition, the coil spring 17 is arranged in the case 19 to press the operating body 15 to a neutral position when the operating body 15 is not operated.

다음에, 이상과 같이 구성된 종래의 입력 장치의 동작에 대해 설명한다. 종래의 입력 장치의 조작은 조작체(15)의 경도(傾倒) 조작에 의해 행한다. 즉, 조작체(15)로 위쪽측의 필름 상으로부터 압압 조작력을 가하여 필름을 부분적으로 휘게 하고, 그 개소에 따른 원호형상 저항층(1)과 도전층(3)을 부분적으로 접촉한 상태로 한다. 한편, 제어부(5)의 제어에 의해 원호형상 저항층(1)의 단부(1A, 1B) 사이에는 소정 전압이 인가되어 있다. 따라서, 접촉 위치의 전위는 도전층(3)의 인출 부분을 통하여 제어부(5)에 입력된다. 그리고, 그 입력에 의거하는 전압 분압비에 의해 제어부(5)와 조작 위치의 특정이 이루어지고, 그 정보에 따라 제어부(5)의 제어로 커서 이동 등이 이루어지는 것이었다.Next, the operation of the conventional input device configured as described above will be described. The conventional input device is operated by the hardness operation of the operating body 15. That is, the pressure-sensitive operation force is applied from the film on the upper side by the operating body 15 to partially bend the film, and the arc-shaped resistive layer 1 and the conductive layer 3 according to the location are partially brought into contact with each other. . On the other hand, the predetermined voltage is applied between the edge parts 1A, 1B of the arc-shaped resistance layer 1 by the control of the control part 5. Therefore, the electric potential of the contact position is input to the control part 5 via the lead-out part of the conductive layer 3. And the control part 5 and the operation position were specified by the voltage division ratio based on the input, and cursor movement etc. were made by control of the control part 5 according to the information.

또한, 이 출원의 발명에 관련한 선행 기술 문헌 정보로서는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평11－232027호가 알려져 있다.Moreover, as prior art document information concerning this invention, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-232027 is known, for example.

종래의 입력 장치는 그 제어 방법이나 조작 위치의 검출 방법을 포함하여 간소한 것으로 할 수 있고, 특히 그 소자부(10)에 있어서는 두께를 얇게 구성할 수 있어 바람직하였다. 그러나, 종래의 입력 장치는, 원호형상 저항층(1)의 단부(1A 및 1B) 사이의 각도 방향을 향해 조작체(15)를 경도 조작하면, 단부(1A 및 1B)가 도전층(3)에 동시에 접촉하여 거의 단락 상태가 되는 경우가 있다는 과제가 있었다. 즉, 그 상태가 되면 전류가 많이 흘러 전지 소비가 빨라짐에 더하여, 전압 분압비의 출력으로 해도 그 대각 위치와 동일한 출력이 얻어지기 때문에 조작 위치의 판별도 할 수 없게 된다는 과제가 있었다.The conventional input device can be made simple, including the control method and the detection method of an operation position, and especially in the element part 10, it was preferable because the thickness was comprised thinly. However, in the conventional input device, when the operating body 15 is longitudinally operated in the angular direction between the end portions 1A and 1B of the arc-shaped resistive layer 1, the end portions 1A and 1B are electrically conductive layers 3. Contacted at the same time, there was a problem that there is a case that the state is almost short-circuited. That is, when the state becomes large, current flows, and battery consumption becomes fast, and also the output of the voltage partial ratio can obtain the same output as the diagonal position, and the operation position cannot be discriminated.

이 때문에 종래의 입력 장치는, 예를 들어 4방향 조작용 등에 한정되어 기기에 탑재되어 사용되고 있지만, 최근의 기기의 고기능화 등에 수반하여 분해능이 높은 것이 요망되도록 되어 있었다. For this reason, the conventional input device is limited to, for example, four-way operation and the like, and is mounted and used in an apparatus. However, it has been desired to have a high resolution in accordance with the recent high functionality of the apparatus.

본 발명은 이러한 종래의 과제를 해결하는 것으로, 원호형상 저항층을 이용한 구성으로, 그 원호형상 저항층의 단부 사이의 각도 위치에서의 조작 시에도 문제점 등이 없이 조작 위치 검출이 가능한 고분해능의 입력 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention solves such a conventional problem, and has a configuration using an arc-shaped resistive layer, and a high-resolution input device capable of detecting an operating position without problems, even when operating at an angular position between the ends of the arc-shaped resistive layer. The purpose is to provide.

본 발명의 입력 장치는 원호형상 저항층에 대해서 도전층이 대향 배치되고, 원호형상 저항층과 도전층의 부분적인 접촉으로 조작된 위치가 검출 가능한 입력 장치로서, 원호형상 저항층의 양 단부 사이의 각도 위치에서의 조작 시에 원호형상 저항층의 양 단부가 도전층에 동시에 접촉하지 않는 접촉 방지부를 설치한 것이다.The input device of the present invention is an input device in which a conductive layer is disposed opposite to an arc-shaped resistive layer, and a position manipulated by partial contact between the arc-shaped resistive layer and the conductive layer can be detected. At the time of operation at an angular position, the contact prevention part in which both ends of an arc-shaped resistance layer do not contact a conductive layer simultaneously is provided.

이것에 의해, 원호형상 저항층의 양 단부 사이 또는 그 근방 각도 위치에서의 조작 시에도 조작 위치 검출 상태나 전력 소비 상태가 다른 각도 위치와 동등하고, 전체 둘레에 걸쳐 조작 위치 검출이 가능한 고분해능의 입력 장치를 저렴하게 실현할 수 있다.As a result, a high-resolution input capable of detecting the operating position over the entire circumference, which is equivalent to the other angular position when the operation position detection state or the power consumption state is equivalent to the operation between the both ends of the arc-shaped resistance layer or its vicinity. The device can be realized at low cost.

이하, 본 발명의 실시의 형태에 대해, 도면을 이용하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described using drawing.

(실시의 형태 1)(Embodiment 1)

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 소자부(40)의 분해 사시 도이다. 도 2는 도 1의 화살표 2로 나타낸 파선에서의 입력 장치의 소자부(40)의 부분 단면도이다. 또한, 도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 개념도이다.1 is an exploded perspective view of the element portion 40 of the input device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the element portion 40 of the input device at the broken line indicated by arrow 2 in FIG. 1. 3 is a conceptual diagram of an input device according to Embodiment 1 of the present invention.

도 1에 나타내는 바와 같이, 입력 장치의 소자부(40)는 기재(20)와 금속판(31)을 구비하고 있다. 기재(20)는 가요성을 갖는 PET 등의 수지 필름으로 이루어지고, 테일부 부착의 형상으로 형성된 기재이며, 그 하면에는 원호형상 저항층(21)이 인쇄 형성되어 있다. 원호형상 저항층(21)은 직경 방향의 폭이 일정 치수인 것으로 형성되어 있다. 그리고, 원호형상 저항층(21)의 양측의 단부(21A, 21B)에는 기재(20)의 하면에 형성된 서로 독립한 도전성의 제1 패턴(22A, 22B)의 일단측이 각각 접속되어 있다. 그리고, 그들 제1 패턴(22A, 22B)의 타단측은 테일부 선단까지 둘러져 대응하는 전극부에 접속되어 있다. 또한, 원호형상 저항층(21)의 외주 위치에 닿는 기재(20)의 하면 부분에는 금속판(31)용으로서 설치된 도전성의 제2 패턴(35)이 형성되어 있다. 그리고, 제2 패턴(35)의 타단측도 제1 패턴(22A, 22B)과 동일하게 테일부 선단까지 둘러져 대응하는 전극부에 접속되어 있다. 또한, 기재(20)의 테일부 선단은 각 전극부와 함께 대응하는 커넥터에 접속 가능한 구성으로 되어 있다.As shown in FIG. 1, the element portion 40 of the input device includes a base 20 and a metal plate 31. The base material 20 consists of resin films, such as PET, which is flexible, and is a base material formed in the shape of a tail part, and the arc-shaped resistance layer 21 is formed by printing on the lower surface. The arc-shaped resistance layer 21 is formed so that the width | variety of the radial direction may have a fixed dimension. One end side of each of the conductive first patterns 22A and 22B formed on the lower surface of the base 20 is connected to the end portions 21A and 21B on both sides of the arc-shaped resistive layer 21, respectively. And the other end side of these 1st patterns 22A and 22B is enclosed to the tail part front end, and is connected to the corresponding electrode part. Moreover, the conductive 2nd pattern 35 provided for the metal plate 31 is formed in the lower surface part of the base material 20 which contacts the outer peripheral position of the arc-shaped resistive layer 21. As shown in FIG. The other end side of the second pattern 35 is also connected to the corresponding electrode part in the same manner as the first patterns 22A and 22B to the tip of the tail part. In addition, the tip of the tail portion of the base material 20 is configured to be connected to a connector corresponding to each electrode portion.

그리고, 외주 절연층(41)은 절연 수지로 이루어지고, 원호형상 저항층(21)으로부터 소정 간격을 두어 그 외주 위치를 둘러싸도록 형성되어 있다. 그리고, 외주 절연층(41)은 테일부 선단의 각 전극부 및 제2 패턴(35)의 일단측에 접속된 전극부 위치를 제외하고 제1 패턴(22A, 22B) 및 제2 패턴(35) 상을 덮도록 하여 형성 되어 있다.The outer circumferential insulating layer 41 is made of an insulating resin, and is formed to surround the outer circumferential position at a predetermined interval from the arc-shaped resistive layer 21. The outer circumferential insulating layer 41 has the first patterns 22A, 22B and the second pattern 35 except for the position of each electrode portion at the tip of the tail portion and the electrode portion connected to one end of the second pattern 35. It is formed to cover the image.

또한, 내주 절연층(42)은 외주 절연층(41)과 동일한 절연 수지로 이루어지고, 원호형상 저항층(21)으로부터 소정 간격을 두어 그 내부 위치에 형성되어 있다.In addition, the inner circumferential insulating layer 42 is made of the same insulating resin as the outer circumferential insulating layer 41, and is formed at an inner position at a predetermined interval from the arc-shaped resistive layer 21.

그리고, 외주 절연층(41)과 내주 절연층(42)은 직경 방향을 따라 형성된 세폭(細幅) 띠형상의 직선형상 절연층(44)으로 연결되어 있다. 직선형상 절연층(44)도 외주 절연층(41)이나 내주 절연층(42)과 동일한 절연 수지로 이루어지고, 외주 절연층(41), 내주 절연층(42), 직선형상 절연층(44)은 기재(20)의 하면에 패턴 인쇄에 의해 형성되어 있다. 또한, 이들 절연층 중, 적어도 외주 절연층(41)과 내주 절연층(42)은 동시 형성하여 동일 높이로 해두는 것이 바람직하다.The outer circumferential insulating layer 41 and the inner circumferential insulating layer 42 are connected by a narrow strip-shaped linear insulating layer 44 formed along the radial direction. The linear insulating layer 44 is also made of the same insulating resin as the outer circumferential insulating layer 41 and the inner circumferential insulating layer 42, and the outer circumferential insulating layer 41, the inner circumferential insulating layer 42, and the linear insulating layer 44 The lower surface of the silver base material 20 is formed by pattern printing. In addition, it is preferable that at least the outer peripheral insulating layer 41 and the inner peripheral insulating layer 42 are formed at the same height among these insulating layers simultaneously.

그리고, 직선형상 절연층(44)은 원호형상 저항층(21)의 직경 방향을 따라 형성되어 있고, 기재(20) 상에 위치하는 부위와 원호형상 저항층(21)의 한쪽측의 단부(21A) 상에 위치하는 부위로 이루어진다. 또한, 이하에서는 원호형상 저항층(21)의 한쪽의 단부(21A)를 일단부(21A)라고 표기하고, 또 다른 쪽의 단부(21B)를 타단부(21B)로 표기하여 설명한다.And the linear insulating layer 44 is formed along the radial direction of the arc-shaped resistance layer 21, and is the site | part located on the base material 20, and the edge part 21A of one side of the arc-shaped resistance layer 21. ) Consists of a site located on. In addition, below, one edge part 21A of the arc-shaped resistance layer 21 is described with one end part 21A, and the other end part 21B is described with the other end part 21B, and is demonstrated.

그리고, 상기 구성의 것에 있어서는, 원호형상 저항층(21)의 둘레 방향에서의 개구부를 구성하는 일단부(21A) 상을 덮도록 하여 형성된 직선형상 절연층(44)의 부위가 접촉 방지부로서 되는 것이다.And in the structure of the said structure, the site | part of the linear insulating layer 44 formed so that the upper end part 21A which comprises the opening part in the circumferential direction of the arc-shaped resistance layer 21 may be used as a contact prevention part. will be.

한편, 원호형상 저항층(21) 등이 형성된 기재(20)에 대하여, 그 아래쪽 위치에는 기재(20)의 원호형상 저항층(21)이 형성되어 있는 원형 부분과 동일하게 실질 적으로 원형상으로 형성된 금속판(31)이 배치되어 있다. 기재(20)와 금속판(31)은 외주 절연층(41)과 내주 절연층(42)의 위치에서 점착제(도시하지 않음)를 통하여 점착 유지되어 있다. 즉, 기재(20)는 원호형상 저항층(21)측을 하면을 향하도록 하여 도전층으로서 기능하는 금속판(31)과 대향 상태로 배치되어 있다.On the other hand, with respect to the base material 20 on which the arc-shaped resistive layer 21 and the like are formed, the lower portion thereof is substantially circular in the same manner as the circular portion where the arc-shaped resistive layer 21 of the base material 20 is formed. The formed metal plate 31 is arrange | positioned. The base material 20 and the metal plate 31 are adhesively held by the adhesive (not shown) at the position of the outer peripheral insulating layer 41 and the inner peripheral insulating layer 42. FIG. That is, the base material 20 is arrange | positioned in the state which opposes the metal plate 31 which functions as a conductive layer, facing the lower surface of the arc-shaped resistive layer 21 side.

그리고, 그 유지 상태에서는, 도 2에 나타내는 바와 같이 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A) 상에 놓여 형성된 직선형상 절연층(44) 부위의 표면은 금속판(31)의 표면에 접촉한 상태로 되어 있다. 그리고, 원호형상 저항층(21) 및 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이에서 구성되는 원형 링형상 부분은 직선형상 절연층(44)의 일단부(21A) 상에 놓여져 있는 둘레 방향에서의 배치폭을 제외하고, 금속판(31)의 상면에 대해서 거의 전체 둘레에 걸쳐 상하 방향으로 소정 간격이 두어진 대치 상태로 되어 있다. 또한, 원호형상 저항층(21) 및 직선형상 절연층(44) 부위는 금속판(31)과 상하 방향으로 소정 틈새가 열리는 설정으로 된 것으로 해도 좋다.In the holding state, as shown in FIG. 2, the surface of the portion of the linear insulating layer 44 formed on one end 21A of the arc-shaped resistance layer 21 is in contact with the surface of the metal plate 31. It is in a state. And the circular ring-shaped part comprised between the both ends of the arc-shaped resistive layer 21 and the arc-shaped resistive layer 21 in the circumferential direction lying on one end part 21A of the linear insulation layer 44 Except for the arrangement width, the upper surface of the metal plate 31 is in a confrontation state with a predetermined interval in the vertical direction over the entire circumference. In addition, the part of the arc-shaped resistance layer 21 and the linear insulating layer 44 may be set so that predetermined clearance gap may be opened up and down with the metal plate 31. As shown in FIG.

한편, 외주 절연층(41)으로부터 노출된 제2 패턴(35)의 일단측에 접속된 전극부는 도전성 접착제 등을 통하여 금속판(31)의 접속 개소(31A)에 전기적으로 접속되어 있다.On the other hand, the electrode part connected to the one end side of the 2nd pattern 35 exposed from the outer periphery insulating layer 41 is electrically connected to the connection location 31A of the metal plate 31 via conductive adhesive etc.

입력 장치에서의 소자부(40)는 이상과 같이 구성되고, 소자부(40) 상에는 조작용 부재가 배치된다. 조작용 부재로서는 예를 들어 도 1에 나타낸 바와 같이, 위쪽 중앙 위치가 부풀어 오른 실질적으로 원판형상이고, 그 평탄한 하면에 원호형상 저항층(21) 및 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이에서 구성되는 원형 링형상 부분을 기재(20) 상으로부터 압압하는 조작 돌기(51)를 구비한 조작체(50)를 들 수 있다. 또한, 조작체(50)나 조작 돌기(51)의 형상이나 배치 상태 등은 특별히 한정되지 않지만, 이하에서는 조작체(50)를 이용하여 구성한 것을 예로서 설명하고 있다.The element part 40 in an input device is comprised as mentioned above, and the operation member is arrange | positioned on the element part 40. As shown in FIG. As an operation member, for example, as shown in FIG. 1, the upper center position is substantially disk-shaped, and the flat lower surface is formed between both ends of the arc-shaped resistive layer 21 and the arc-shaped resistive layer 21 on the flat lower surface. The operating body 50 provided with the operation protrusion 51 which presses the circular ring-shaped part comprised from the base material 20 is mentioned. In addition, although the shape, arrangement | positioning state, etc. of the operating body 50 and the operation protrusion 51 are not specifically limited, Hereinafter, what was comprised using the operating body 50 is demonstrated as an example.

조작체(50)는 조작 돌기(51)로서 30도 피치로 서로 독립하여 배치된 10개의 원주형상 돌기(52)와 그 나머지의 90도 내의 각도 위치에 배치된 1개의 원호형상 돌기(53)를 구비하고 있다. 원호형상 돌기(53)의 길이로서는, 그 둘레 방향의 단부 위치가 인접하는 원주형상 돌기(52)에 대해 30도보다도 작은 각도로 되는 설정으로 되어 있다.The operating body 50 is an operating projection 51 which is formed by ten circular projections 52 arranged independently of each other at a 30-degree pitch and one arc-shaped projection 53 disposed at an angular position within the remaining 90 degrees. Equipped. As the length of the arc-shaped protrusion 53, the end position in the circumferential direction is set to the angle smaller than 30 degrees with respect to the adjacent circumferential protrusion 52. As shown in FIG.

또한, 원주형상 돌기(52)의 하단 선단부는 평탄한 소직경 원형부로서 형성되고 원호형상 돌기(53)의 하단은 소직경 원형부의 직경과 동일폭으로 둘레 방향을 따라 신장되는 원호부로서 형성되어 있다. 그 원호부는 둘레 방향을 따라 양단측이 내려가는 큰 곡율 반경을 갖게 한 형상으로 하고 있다. 또한, 각각의 소직경 원형부 및 원호부는 근원 부분에 대해서 소정의 곡율 반경을 취하여 연결한 것으로 하고 있다.Further, the lower end of the columnar protrusion 52 is formed as a flat small diameter circular portion, and the lower end of the arcuate protrusion 53 is formed as an arc portion extending along the circumferential direction with the same width as the diameter of the small diameter circular portion. . The arc part is made into the shape which made the big radius of curvature which both end sides fall along a circumferential direction. In addition, each of the small diameter circular portion and the circular arc portion is assumed to be connected by taking a predetermined radius of curvature with respect to the root portion.

그리고, 기재(20) 상에 배치된 조작체(50)는 도시는 생략하지만, 비조작 상태로 회전하지 않도록 기기의 케이스 등으로 규제되어 있음과 함께 중립 상태로 유지되고, 또한 위쪽으로부터의 압압 조작으로 그 방향으로 경도 동작 가능하게 되어 있다.And although not shown, the operating body 50 disposed on the substrate 20 is regulated by a case of the device or the like so as not to rotate in a non-operational state, and is maintained in a neutral state, and pressed from the upper side. It is possible to operate the hardness in that direction.

그리고, 조작체(50)는 원호형상 돌기(53)가 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 위쪽 위치에 대응시켜 배치되어 있다. 또한, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 개구 각도는 원호형상 돌기(53)의 형성 각도보다도 작은 것을 이용하고 있다. 또한, 조작체(50)의 배치 상태에 있어서, 원호형상 돌기(53)의 양단은 각각 원호형상 저항층(21) 상에 대응하여 위치하고 있다.And the operation body 50 is arrange | positioned so that the arcuate protrusion 53 may correspond to the upper position between both ends of the arcuate resistance layer 21. As shown in FIG. In addition, the opening angle between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21 is smaller than the formation angle of the arc-shaped protrusion 53. As shown in FIG. Moreover, in the arrangement | positioning state of the operating body 50, the both ends of the arc-shaped protrusion 53 are respectively located on the arc-shaped resistance layer 21 correspondingly.

이상과 같이, 실시의 형태 1에서의 입력 장치는 구성되어 있다. 그리고, 사용 기기에는 기기측의 배선 기판(도시하지 않음) 등에 장착된 커넥터에 기재(20)의 테일부를 삽입함으로써 기기의 제어부(60)에 제1 패턴(22A, 22B) 및 제2 패턴(35)을 접속시켜 탑재된다. 그 탑재 상태를 도 3의 개념도에 나타낸다.As described above, the input device according to the first embodiment is configured. Then, the first pattern 22A, 22B and the second pattern 35 are inserted into the controller 60 of the device by inserting the tail portion of the substrate 20 into a connector mounted on a wiring board (not shown) or the like on the device side of the device. ) Is mounted. The mounting state is shown in the conceptual diagram of FIG.

다음에, 탑재 상태에서의 동작에 대해 설명하면, 조작체(50)에 대해 위쪽으로부터 누름 조작을 행하여 조작체(50)를 그 방향으로 경도시키고, 조작 위치에 대응하는 조작 돌기(51)로 기재(20)를 부분적으로 아래쪽으로 휘게 하고, 그 위치에 따른 원호형상 저항층(21)의 부분을 금속판(31)에 접촉 상태로 시킨다. 한편, 원호형상 저항층(21)에는 제어부(60)의 제어로 제1 패턴(22A, 22B)을 통하여 소정 전압이 인가되고 있다. 그리고, 조작 상태에서 부분 접촉한 전위가 금속판(31) 및 제2 패턴(35)을 통하여 제어부(60)에 입력된다. 입력된 전위로부터 원호형상 저항층(21)에 인가되고 있는 소정 전압의 전압 분압비를 구할 수 있다. 따라서, 그 전압 분압비에 의해 제어부(60)에서 조작 각도 위치의 특정이 이루어진다. 즉, 본 발명의 입력 장치는 원호형상 저항층(21)에 대해서 도전층으로서의 금속판(31)이 대향 배치되고 원호형상 저항층(21)과 도전층의 부분적인 접촉으로 조작된 위치가 검출 가능하게 되고 있다.Next, the operation in the mounted state will be described. The pressing operation is performed on the operating body 50 from the upper side, the operating body 50 is stiffened in that direction, and the operation protrusion 51 corresponding to the operating position is described. The part 20 is bent downward, and the part of the arc-shaped resistance layer 21 according to the position is brought into contact with the metal plate 31. On the other hand, a predetermined voltage is applied to the arc-shaped resistive layer 21 through the first patterns 22A and 22B under the control of the controller 60. The electric potential partially contacted in the operation state is input to the control unit 60 via the metal plate 31 and the second pattern 35. The voltage division ratio of the predetermined voltage applied to the arc-shaped resistance layer 21 can be obtained from the input potential. Therefore, the control part 60 specifies the operation angle position by the voltage partial pressure ratio. That is, in the input device of the present invention, the metal plate 31 as the conductive layer is disposed opposite to the arc-shaped resistive layer 21, and the position manipulated by the partial contact between the arc-shaped resistive layer 21 and the conductive layer can be detected. It is becoming.

여기서, 전술한 바와 같이 실시의 형태 1에서의 입력 장치는, 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A) 상에 접촉 방지부로서의 절연층인 직선형상 절연층(44)의 일부가 직경 방향을 따라 형성되고 또한 원호형상 돌기(53)를 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이 위의 위치에 대응시켜 배치한 구성으로 하고 있다. 즉, 본 발명의 입력 장치는 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 위치에서의 조작 시에, 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 도전층으로서의 금속판(31)에 동시에 접촉하지 않는 접촉 방지부가 설치되어 있다. 따라서, 조작체(50)를 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 방향을 향하여 경도 조작했을 때에, 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 동시에 금속판(31)에 접촉하는 것을 방지하고 있다.As described above, in the input device according to the first embodiment, a portion of the linear insulating layer 44, which is an insulating layer as a contact preventing portion, on one end portion 21A of the arc-shaped resistive layer 21 is in the radial direction. The arc-shaped protrusion 53 is formed so as to correspond to the position between the two ends of the arc-shaped resistive layer 21 so as to be arranged. That is, in the input device of the present invention, at the angular position between the both ends of the arc-shaped resistive layer 21, both ends of the arc-shaped resistive layer 21 do not contact the metal plate 31 as the conductive layer at the same time. Contact prevention part is installed. Therefore, when the operating body 50 is longitudinally operated in the angular direction between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21, both ends of the arc-shaped resistance layer 21 are prevented from contacting the metal plate 31 at the same time. Doing.

즉, 조작체(50)를 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 방향을 향해 경도 조작하면, 다른 각도 위치와 동일하게 원호형상 돌기(53)로 기재(20)가 눌려 부분적으로 휘어 간다. 그리고, 그 때에 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A) 상에 겹쳐 형성된 직선형상 절연층(44) 부분이 기재(20) 상으로부터의 높이 위치가 가장 높아진다. 따라서, 직선형상 절연층(44) 부분이 금속판(31)에 맞닿은 상태로부터, 거기를 지점으로 하여 조작체(50)가 둘레 방향측에 미소하게 경도 동작하게 된다. 이것에 의해, 도 4에 나타낸 바와 같이, 직선형상 절연층(44)과 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A)측의 근방이 금속판(31)에 접촉하고, 타단부(21B)측은 뜬 상태가 된다. 혹은, 도 5에 나타낸 바와 같이, 직선형상 절연층(44)과 타단부(21B)측의 근방이 금속판(31)에 접촉하고 일단부(21A)측은 뜬 상태가 된다.That is, when the operating body 50 is longitudinally operated in the angular direction between both ends of the arc-shaped resistance layer 21, the substrate 20 is pressed by the arc-shaped protrusion 53 and partially bent in the same manner as the other angular positions. Goes. At that time, the portion of the linear insulating layer 44 formed on the one end 21A of the arc-shaped resistive layer 21 is the highest in height from the base 20. Therefore, since the linear insulating layer 44 part is in contact with the metal plate 31, the operating body 50 will be minutely and longitudinally operated in the circumferential direction side as a point. Thereby, as shown in FIG. 4, the vicinity of the one end part 21A side of the linear insulation layer 44 and the arc-shaped resistance layer 21 contact | connects the metal plate 31, and the other end part 21B side It is in a floating state. Or as shown in FIG. 5, the linear insulating layer 44 and the vicinity of the other end part 21B side contact the metal plate 31, and the one end part 21A side will float.

또한, 상기 어느 경우에 있어서도, 각각 부분 접촉한 전위가 금속판(31) 및 제2 패턴(35)을 통하여 제어부(60)에 입력된다. 따라서, 그 조작 위치를 지장없이 검출할 수 있다. 또한, 원호형상 저항층(21)의 양 단부의 근방의 각도 방향을 향해 조작체(50)의 경도 조작 시에도 동일한 동작 상태가 되지만, 그 상세한 설명은 생략한다.In any of the above cases, the potentials which have partially contacted each other are input to the control unit 60 via the metal plate 31 and the second pattern 35. Therefore, the operation position can be detected without interruption. In addition, although the operation state becomes the same also at the time of the hardness operation of the operating body 50 toward the angular direction of the both ends of the arc-shaped resistance layer 21, the detailed description is abbreviate | omitted.

이렇게 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 소자부(40)는 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 위치 또는 그 근방의 각도 위치로의 조작 시에도 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 금속판(31)에 동시에 접촉하는 것이 방지된다. 따라서, 거기에 기인하는 문제점의 발생 등도 없고, 다른 각도 위치와 동일한 상태로 조작 위치 검출이 가능해짐과 함께 전력 소비 상태 등도 다른 각도 위치와 동일한 상태의 것으로 할 수 있다.Thus, the element portion 40 of the input device according to the first embodiment has an amount of the arc-shaped resistive layer 21 even when operating to the angular position between the both ends of the arc-shaped resistive layer 21 or the angular position in the vicinity thereof. The end part is prevented from contacting the metal plate 31 at the same time. Therefore, there is no problem or the like caused therein, the operation position can be detected in the same state as the other angle positions, and the power consumption state and the like can also be in the same state as the other angle positions.

또한, 다른 각도 위치에서는 조작체(50)의 조작된 위치에 닿는 원주형상 돌기(52)로 기재(20)가 부분적으로 눌려진다. 그리고, 원호형상 저항층(21)의 그 부분이 금속판(31)에 접촉한다. 이렇게 하여 조작 개소의 위치가 제어부(60)로 특정된다.In addition, at the other angular position, the substrate 20 is partially pressed by the circumferential protrusion 52 that touches the operated position of the operating body 50. The portion of the arc-shaped resistive layer 21 is in contact with the metal plate 31. In this way, the position of the operation point is specified by the control unit 60.

따라서, 원주형상 돌기(52)의 배치 각도 위치에 따른 10개소와 원호형상 돌기(53)에 따라 2개소의 합계 12개소의 위치 검출이 가능하고, 게다가 그 검출 각도 위치로 해도 거의 등각도에서의 검출을 할 수 있게 된다. Therefore, according to the arrangement angle position of the columnar protrusions 52 and the position of two positions in total of 12 according to the arc-shaped protrusion 53, 12 positions can be detected, and even if it is set as the detection angle position, it is substantially It can be detected.

또한, 접촉 방지부로서 되는 직선형상 절연층(44)을 원호형상 저항층(21)에 부가한 소자부(40)는 원호형상 저항층(21)과 그 양 단부 사이에서 형성되는 원형 링형상 부분의 전제 둘레에 걸쳐 높은 분해능으로 조작 위치 검출이 가능한 것이 된다. 또한, 분해능의 설정은 조작체(50)의 조작 돌기의 배치 상태 등에 의해 좌우되기 때문에, 필요로 하는 분해능에 따라 조작체(50)의 형상을 적절히 설정하여 원하는 것으로 구성하면 좋다. 또한, 종래의 것과 달리 기기 탑재 시에서의 소자부(40)의 배치 규제 조건도 크게 완화되기 때문에 기기측에서의 설계 자유도도 크게 향상된다. 또한, 소자부(40)는 직선형상 절연층(44)을 부가한 것만의 구성이기 때문에, 용이하고 저렴하게 제작할 수 있다.Moreover, the element part 40 which added the linear insulating layer 44 as a contact prevention part to the arc-shaped resistance layer 21 is a circular ring-shaped part formed between the arc-shaped resistance layer 21 and its both ends. It is possible to detect the operation position with high resolution over the entire periphery. In addition, since the setting of the resolution depends on the arrangement | positioning state of the operation protrusion of the operating body 50, etc., what is necessary is just to set the shape of the operating body 50 suitably according to the required resolution, and to comprise it as desired. In addition, unlike the related art, since the arrangement restriction condition of the element portion 40 at the time of mounting the device is greatly relaxed, the design freedom at the device side is also greatly improved. In addition, since the element portion 40 is configured only by the addition of the linear insulating layer 44, it can be easily and inexpensively produced.

또한, 직선형상 절연층(44)은 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A) 상에 있어서, 그 직경 방향을 따라 원호형상 저항층(21)의 폭 전체에 설치하는 것이 바람직하지만, 그 조작 시에 있어서 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 동시에 도통 상태가 되지 않는 것이면 부분적으로 형성되어 있어도 좋다.Moreover, although the linear insulating layer 44 is provided in the whole width | variety of the arc-shaped resistive layer 21 along the radial direction on one end 21A of the arc-shaped resistive layer 21, At the time of operation, if both ends of the arc-shaped resistance layer 21 do not become a conduction state at the same time, you may form partially.

또한, 전술한 바와 같이 조작체(50)의 형상은 필요에 따라서 적절히 설정하면 좋고, 예를 들어 조작 돌기(51)의 수나 그들의 배치 위치의 설정을 바꾸거나, 조작 돌기를 연결한 원형 링형상의 것으로 하거나 또는 종래와 같이 하단면이 구형상인 것 등으로 해도 좋다.In addition, as above-mentioned, what is necessary is just to set the shape of the operating body 50 suitably as needed, for example, change the setting of the number of the operation protrusions 51 and their arrangement position, or the circular ring shape which connected the operation protrusion. The lower surface may be spherical or the like as in the prior art.

또한, 실시의 형태 1에서의 입력 장치의 소자부(40)는 직선형상 절연층(44)을 원호형상 저항층(21) 상에 겹쳐 설치했지만, 원호형상 저항층(21)의 양 단부의 어떤 쪽에 따른 도전층 상의 대항 위치에 접촉 방지부로서 이루어지는 절연층을 배치한 것으로 해도 좋다. 이러한 구성에 의해서도, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 위치 또는 그 근방 각도 위치로의 조작 시에도 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 금속판(31)에 동시에 접촉하는 것이 방지된다.In addition, although the element part 40 of the input device of Embodiment 1 superimposed the linear insulating layer 44 on the arc-shaped resistive layer 21, it is a certain thing of the both ends of the arc-shaped resistive layer 21. The insulating layer which consists of a contact prevention part may be arrange | positioned at the opposing position on the conductive layer which concerns on this. Such a structure also prevents both ends of the arc-shaped resistance layer 21 from simultaneously contacting the metal plate 31 even when operating to the angular position between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21 or its vicinity. do.

또한, 상기 구성의 소자부(40)에 대해서, 역측으로부터 조작하는 형태, 즉 도전층측이 위쪽 위치에 배치되고 그 위쪽으로부터 조작체(50)에서 조작되는 것 등으로 해도 좋다.In addition, it is good also as a form which operates from the reverse side with respect to the element part 40 of the said structure, ie, the conductive layer side is arrange | positioned in the upper position, and operated by the operating body 50 from the upper side.

(실시의 형태 2)(Embodiment 2)

도 6은 본 발명의 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)의 분해 사시도이다. 도 7은 도 6의 화살표 7로 나타낸 파선에서의 입력 장치의 소자부(70)의 부분 단면도이다. 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)는 접촉 방지부로서 이루어지는 절연 피막을 실시의 형태 1의 것과는 상이한 위치에 배치한 구성의 것이다. 그러나, 다른 부분은 대부분 실시의 형태 1과 동일 구성이기 때문에, 그 동일 구성 부분에는 동일 부호를 붙여 상세한 설명은 생략한다.6 is an exploded perspective view of the element portion 70 of the input device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a partial cross-sectional view of the element portion 70 of the input device at the broken line indicated by arrow 7 in FIG. 6. The element part 70 of the input device in Embodiment 2 is of the structure which arrange | positioned the insulating film which consists of a contact prevention part in the position different from the Embodiment 1. As shown in FIG. However, since most of the other parts have the same configuration as in the first embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

도 6에 나타내는 바와 같이, 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)는 실시의 형태 1의 입력 장치의 소자부(40)와 동일하게, 기재(20)의 하면에 형성된 원호형상 저항층(21)과 도전층으로서의 금속판(31)이 상하 방향으로 소정 간격을 두어 대향 배치되어 구성되어 있다. 또한, 기재(20)의 하면에는 제1 패턴(22A, 22B) 및 제2 패턴(35) 등이 형성되어 있음과 함께 원호형상 저항층(21)의 내외주 위치에 설치된 내주 절연층(42)이나 외주 절연층(41)의 부분에서 기재(20)와 금속판(31)은 점착 유지되어 있는 것 등도 실시의 형태 1에 의하는 것과 동일하다.As shown in FIG. 6, the element part 70 of the input device of Embodiment 2 is an arc-shaped resistance formed in the lower surface of the base material 20 similarly to the element part 40 of the input device of Embodiment 1. As shown in FIG. The layer 21 and the metal plate 31 as a conductive layer are arranged so as to face each other at a predetermined interval in the vertical direction. In addition, the first pattern 22A, 22B, the second pattern 35, and the like are formed on the lower surface of the base 20, and the inner circumferential insulating layer 42 provided at the inner and outer circumferential positions of the arc-shaped resistive layer 21 is formed. In the portion of the outer peripheral insulating layer 41, the base 20 and the metal plate 31 are adhesively held and the same as in the first embodiment.

그러나, 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)는 직선형상 절연층(44)이 설치되어 있지 않다. 그리고, 접촉 방지부로서는 기재(20)의 하면에 있어서 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 위치에 독립하여 형성된 절연 피막으 로 이루어지는 섬 형상 절연층(75)이 구성되어 있다. 또한, 이 섬 형상 절연층(75)이 섬 형상부에 상당하고 있다. 그리고, 섬 형상 절연층(75)은 원호형상 저항층(21) 및 그 양 단부 사이로 구성되는 원형 링형상 부분에 있어서, 원호형상 저항층(21)의 양 단부에 대해서 각각 둘레 방향측에 동일 간격을 두고 중간 위치에 원호형상 저항층(21)과 거의 동일한 폭인 것으로 형성되어 있다. 또한, 도 7로부터도 알 수 있듯이 섬 형상 절연층(75)의 형성 개소를 포함하여 원호형상 저항층(21) 및 그 양 단부 사이로 구성되는 원형 링형상 부분이 전체 둘레에 걸쳐 금속판(31)에 대해 상하 방향으로 소정 간격을 둔 대치 상태로 구성되어 있다.However, in the element portion 70 of the input device according to the second embodiment, the linear insulating layer 44 is not provided. And as the contact prevention part, the island shape insulating layer 75 which consists of an insulating film formed independently in the position between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21 in the lower surface of the base material 20 is comprised. In addition, this island shape insulating layer 75 corresponds to island shape part. In the circular ring-shaped portion formed between the arc-shaped resistive layer 21 and its both ends, the island-shaped insulating layer 75 is equally spaced in the circumferential direction with respect to both ends of the arc-shaped resistive layer 21, respectively. In the intermediate position, the width is substantially the same as that of the arc-shaped resistive layer 21. As can be seen from FIG. 7, the circular ring-shaped portion formed between the arc-shaped resistive layer 21 and its both ends, including the formation portion of the island-shaped insulating layer 75, is formed on the metal plate 31 over its entire circumference. It is comprised in the opposing state spaced at predetermined intervals with respect to the up-down direction.

그리고, 위쪽 위치에 배치된 기재(20) 상에는 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이와 원호형상 돌기(53)의 위치를 대응시키도록 하여 조작 돌기(51)를 갖는 조작체(50)가 실시의 형태 1과 동일하게 배치되어 있다.And on the base material 20 arrange | positioned in the upper position, the operating body 50 which has the operation protrusion 51 is made to correspond between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21, and the position of the arc-shaped protrusion 53. It is arrange | positioned similarly to Embodiment 1.

실시의 형태 2에서의 입력 장치는 이상과 같이 구성되고, 사용 기기로의 탑재 상태로 해도 도 3에 나타낸 실시의 형태 1에 의하는 것과 동일하다.The input device of Embodiment 2 is comprised as mentioned above, and is the same as that of Embodiment 1 shown in FIG. 3 even if it is set as the mounting apparatus.

또한, 동작 상태로 해도, 제1 패턴(22A, 22B)을 통하여 원호형상 저항층(21)에 소정 전압을 인가한 상태에 있어서, 조작체(50)를 경도 조작하여 대응하는 조작 돌기(51)(원주형상 돌기(52), 원호형상 돌기(53))로 기재(20)를 부분적으로 휘게 하여 원호형상 저항층(21)과 금속판(31)을 부분적으로 접촉시키는 점은 동일하다. 또한, 그 때에 제2 패턴(35)을 통하여 얻어지는 전압이 제어부(60)에 입력되고 그것을 제어부(60)와 연산 처리함으로써 합계로 12개소의 조작 위치의 검출이 가능한 점도 동일하다.Moreover, even when it is an operation state, in the state which applied the predetermined voltage to the arc-shaped resistance layer 21 through the 1st patterns 22A and 22B, the operation body 50 is longitudinally operated and corresponding operation protrusion 51 is performed. The point of contacting the arc-shaped resistive layer 21 and the metal plate 31 partially by bending the base material 20 partially (circular protrusion 52 and arc shaped protrusion 53) is the same. In addition, the voltage obtained through the 2nd pattern 35 at that time is input into the control part 60, and it is also the same that a total of 12 operation positions can be detected by arithmetic processing with the control part 60.

그러나, 전술한 바와 같이 실시의 형태 2에서의 입력 장치는 실시의 형태 1의 것에 대해서 접촉 방지부의 배치 상태가 다르고, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 위치에서의 조작시의 동작 상태가 상이하다. 이하에, 그 조작 상태에 대한 상세한 설명을 행한다. 또한, 그 외의 각도 위치에서의 동작 상태는 실시의 형태 1의 경우와 동일하다.However, as mentioned above, the input device of Embodiment 2 differs from the arrangement | positioning state of the contact prevention part with respect to Embodiment 1, and the operation state at the time of the operation in the position between both ends of the arc-shaped resistance layer 21 is carried out. Is different. Below, the detailed description about the operation state is given. In addition, the operation state in other angular positions is the same as that of the first embodiment.

실시의 형태 2에서의 입력 장치는 조작체(50)를 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 방향을 향해 경도시키면, 원호형상 돌기(53)로 눌린 기재(20)는 눌린 부분이 부분적으로 휘어 대응하는 부분이 금속판(31)에 접촉한다.In the input device according to the second embodiment, when the operating body 50 is stiffened toward the angular direction between the both ends of the arc-shaped resistive layer 21, the substrate 20 pressed by the arc-shaped protrusion 53 is a pressed portion. Partly bent to correspond to the metal plate 31.

이 때 도 8에 나타내는 바와 같이, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이에 접촉 방지부로서 이루어지는 섬 형상 절연층(75)이 독립하여 설치되어 있기 때문에, 원호형상 저항층(21)의 양 단부는 동시에 금속판(31)에 접촉하는 일은 없다. 즉, 본 발명의 입력 장치는 접촉 방지부가 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이에 형성된 절연 피막으로 이루어지는 섬 형상부로 구성되어 있다. 그리고, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 위치에서의 조작 시에 도전층으로서의 금속판(31)이 원호형상 저항층(21)의 일단부측으로서의 일단부(21A)와 섬 형상부로서의 섬 형상 절연층(75)에 접촉한다. 또한, 원호형상 저항층(21)의 타단부측으로서의 타단부(21B)는 뜬 상태가 된다. 혹은, 원호형상 저항층(21)의 타단부(21B)와 섬 형상 절연층(75)이 금속판(31)에 접촉하고 그 일단부(21A)측은 뜬 상태가 된다. 여기서, 그 후자의 상태는 도시히지 않는다. At this time, as shown in FIG. 8, since the island insulation layer 75 which consists of contact prevention parts between the both ends of the arc resistance layer 21 is independently provided, the quantity of the arc resistance layer 21 is reduced. The end part does not contact the metal plate 31 simultaneously. That is, the input device of this invention is comprised from the island shape part which the contact prevention part consists of the insulating film formed between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21. Then, at the angular position between the both ends of the arc-shaped resistive layer 21, the metal plate 31 as the conductive layer serves as one end portion 21A as the one end side of the arc-shaped resistive layer 21 and the island-shaped portion. In contact with the island shape insulating layer 75. In addition, the other end 21B as the other end side of the arc-shaped resistance layer 21 is in a floating state. Alternatively, the other end 21B and the island-like insulating layer 75 of the arc-shaped resistive layer 21 come into contact with the metal plate 31 and the one end 21A side is in a floating state. Here, the latter state is not shown.

이렇게 실시의 형태 2에서의 입력 장치도, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이의 각도 위치에서 원호형상 저항층(21)의 양 단부가 동시에 금속판(31)에 접촉하는 일은 없다. 또한, 그 조작 위치의 검출 상태 등은 다른 각도 위치와 동일한 것으로 할 수 있다. 또한, 그 근방 각도 방향을 향해 조작체(50)를 경도시킨 경우에도 상기에 준하는 동작 상태가 되지만, 실시의 형태 1과 동일하게 그 상세한 설명은 생략한다.Thus, also in the input device in Embodiment 2, the both ends of the arc-shaped resistance layer 21 do not contact the metal plate 31 simultaneously in the angular position between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21. FIG. In addition, the detection state of the operation position, etc. can be made the same as another angle position. In addition, even when the operating body 50 is made to be inclined toward the vicinity angle direction, the operating state is in accordance with the above, but the detailed description thereof is omitted in the same manner as in the first embodiment.

또한, 섬 형상 절연층(75)은 조작 시에서의 조작체(50)로부터 가해지는 조작력이나 기재(20)의 탄력성 등도 감안하여 형성하는 것이 중요하다. 예를 들어 그 두께로서는 원호형상 저항층(21)의 두께와 동등 혹은 그보다 약간 두껍게 형성해 두는 것이 바람직하다. 그리고, 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)는 독립된 섬 형상 절연층(75)을 원호형상 저항층(21)에 나열하여 배치한 구성이기 때문에, 실시의 형태 1의 것보다도 더욱 박형화된 것으로서 실현할 수 있다.In addition, it is important to form the island-shaped insulating layer 75 in consideration of the operating force applied from the operating body 50 during operation, the elasticity of the substrate 20, and the like. For example, the thickness thereof is preferably equal to or slightly thicker than the thickness of the arc-shaped resistance layer 21. And since the element part 70 of the input device of Embodiment 2 arrange | positioned the independent island insulation layer 75 by arranging it in the arc-shaped resistance layer 21, it is further more than the thing of Embodiment 1 It can be realized as thinner.

또한, 실시의 형태 2에서의 입력 장치의 소자부(70)에 있어서, 전술한 실시의 형태 1의 사상을 조합한 것으로 해도 좋다. 즉, 섬 형상 절연층(75)의 한쪽측의 단부 위치를 원호형상 저항층(21)의 일단부(21A) 상에 겹쳐 배치한 것 등으로 해도 좋다.In addition, in the element part 70 of the input device in Embodiment 2, you may combine the idea of Embodiment 1 mentioned above. That is, it is good also as what arrange | positioned the end position of one side of the island shape insulating layer 75 on the one end part 21A of the arc-shaped resistance layer 21, etc.

또한, 실시의 형태 2에서의 입력 장치는 섬 형상 절연층(75)을 절연 피막으로 구성한 것을 상술했지만, 원호형상 저항층(21)의 양 단부 사이에 독립 상태로 형성된 도전 피막으로 이루어지는 섬 형상부의 구성으로 해도 좋고, 그 경우에도 동일한 효과를 기대할 수 있다. 또한, 이 경우에는 원호형상 저항층(21)과 동일 재료로 섬 형상부로서의 도전 피막을 형성하도록 하면 합리적이다。In addition, although the input device in Embodiment 2 mentioned above comprised the island-shaped insulating layer 75 with the insulating film, the island-shaped part which consists of electrically conductive films formed in the independent state between the both ends of the arc-shaped resistance layer 21 was mentioned. It is good also as a structure, and the same effect can be expected also in that case. In this case, it is reasonable to form the conductive film as the island portion with the same material as the arc-shaped resistive layer 21.

또한, 실시의 형태 2에서의 입력 장치라도, 실시의 형태 1과 동일하게 조작체(50)의 형상은 한정되지 않고, 나아가서는 도전층과 원호형상 저항층(21)의 상하의 배치 관계를 반대로 한 것 등으로 해도 좋은 것은 실시의 형태 1에서의 입력 장치와 동일하다.Further, even in the input device according to the second embodiment, the shape of the operating body 50 is not limited as in the first embodiment, and further, the arrangement relationship between the conductive layers and the arc-shaped resistive layer 21 is reversed. The same thing as the input device in Embodiment 1 may be sufficient as it.

또한, 전술한 실시의 형태 1 및 실시의 형태 2 이외의 구성이라도, 원호형상 저항층이 이용되고, 그 원호형상 저항층의 양 단부가 도전층에 동시에 접촉하는 것을 방지하기 위한 접촉 방지부가 강구된 것은, 본 발명의 범주에 들어간다. 또한, 예를 들어, 원호형상 저항층을 타원형상으로 형성해도 좋다. 그리고, 본 발명에 의하면 종래의 것에 비교하여 고분해능으로, 저항층과 그 양 단부 사이에서 형성되는 원형 링 또는 타원형상 부분의 거의 전체 둘레에 걸쳐 조작 위치 검출이 가능한 박형 구성의 것을 염가로 실현할 수 있다.Further, even in configurations other than the above-described first and second embodiments, an arc-shaped resistive layer is used, and a contact preventing portion for preventing both ends of the arc-shaped resistive layer from simultaneously contacting the conductive layer is provided. Things fall within the scope of the present invention. For example, an arc-shaped resistance layer may be formed in elliptical shape. In addition, according to the present invention, it is possible to realize a low-cost configuration having a high resolution and capable of detecting the operation position over almost the entire circumference of the circular ring or the elliptical portion formed between the resistance layer and the both ends thereof, compared with the conventional one. .

본 발명에 따르면, 원호형상 저항층의 양 단부 사이 또는 그 근방 각도 위치에서의 조작 시에도 조작 위치 검출 상태나 전력 소비 상태가 다른 각도 위치와 동등하고, 전체 둘레에 걸쳐 조작 위치 검출이 가능한 고분해능의 입력 장치를 저렴하게 실현할 수 있다.According to the present invention, the operation position detection state and the power consumption state are equivalent to other angle positions even when the operation is performed between the both ends of the arc-shaped resistance layer or in the vicinity thereof, and the operation position detection is possible over the entire circumference. The input device can be realized at low cost.

Claims

An arc-shaped resistive layer,

A conductive layer disposed opposite the arc-shaped resistive layer,

The input device can detect a position manipulated by partial contact between the arc-shaped resistance layer and the conductive layer,

In operation at an angular position between both ends of the arc-shaped resistance layer,

An input device, characterized in that a contact preventing portion is provided in which both ends of the arc-shaped resistance layer do not contact the conductive layer at the same time.

The input device according to claim 1, wherein the contact preventing portion is formed of an insulating layer provided on at least one end of the arc-shaped resistance layer.

The said contact prevention part is comprised from the island shape part which becomes an insulating film or a conductive film formed between the both ends of the said arc-shaped resistance layer,

A state in which the conductive layer is in contact with one end side of the arc-shaped resistance layer and the island-shaped portion,

Alternatively, the input device is brought into contact with the other end side of the island portion and the arc-shaped resistance layer.

The input device according to claim 1, wherein the insulating layer as the contact preventing portion is disposed at opposing positions on the conductive layer along either one of both ends of the arc-shaped resistive layer.