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KR20070076287A - Manufacturing Method Of Liquid Crystal Display - Google Patents

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KR20070076287A
KR20070076287A KR1020060005469A KR20060005469A KR20070076287A KR 20070076287 A KR20070076287 A KR 20070076287A KR 1020060005469 A KR1020060005469 A KR 1020060005469A KR 20060005469 A KR20060005469 A KR 20060005469A KR 20070076287 A KR20070076287 A KR 20070076287A
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KR
South Korea
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color filter
liquid crystal
crystal display
resin
manufacturing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
KR1020060005469A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
조국래
김병주
김진석
심이섭
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020060005469A priority Critical patent/KR20070076287A/en
Publication of KR20070076287A publication Critical patent/KR20070076287A/en
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Abstract

제조 공정을 단순화하며, 잔상 문제를 해결할 수 있는 액정 표시 장치의 제조 방법이 제공된다. 액정 표시 장치의 제조 방법은, 인쇄판의 인쇄홈에 충진된 색필터용 수지를 절연 기판 상에 전사하는 단계와, 절연 기판 상의 색필터용 수지를 경화하여 색필터를 완성하는 단계를 포함한다.There is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device which simplifies the manufacturing process and can solve the afterimage problem. The manufacturing method of the liquid crystal display device includes transferring a color filter resin filled in a printing groove of a printing plate onto an insulating substrate, and curing the color filter resin on the insulating substrate to complete a color filter.

Description

액정 표시 장치의 제조 방법{Method of manufacturing of liquid crystal display}Method of manufacturing a liquid crystal display device

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 배치도이다.1A is a layout view of a liquid crystal display manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

도 1b는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰb-Ⅰb'로 자른 단면도이다.FIG. 1B is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1A taken along line Ib-Ib '. FIG.

도 1d는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰc-Ⅰc'로 자른 단면도이다.FIG. 1D is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1A taken along line Ic-Ic ′. FIG.

도 1d는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰd-Ⅰd'로 자른 단면도이다.FIG. 1D is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1A taken along the line Id-Id '.

도 1e는 도 1a의 액정 표시 장치의 색필터를 나타내는 배치도이다.FIG. 1E is a layout view illustrating a color filter of the liquid crystal display of FIG. 1A.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 색필터의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 공정 단면도들이다.2A through 2E are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing a color filter of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 공정 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명) (Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

10: 절연 기판 22: 게이트선10: insulating substrate 22: gate line

24: 게이트선 끝단 26: 게이트 전극24: gate line end 26: gate electrode

28: 유지 전극선 29: 유지 전극28: sustain electrode line 29: sustain electrode

30: 게이트 절연막 40: 반도체층30: gate insulating film 40: semiconductor layer

55, 56: 저항성 접촉층 62: 데이터선55, 56: ohmic contact layer 62: data line

65: 소스 전극 66: 드레인 전극65 source electrode 66 drain electrode

67: 드레인 전극 확장부 68: 데이터선 끝단67: drain electrode extension 68: end of the data line

70: 보호막 72: 색필터70: protective film 72: color filter

73: 개구부 74, 76, 78: 접촉 구멍73: opening 74, 76, 78: contact hole

82: 화소 전극 86: 보조 게이트선 끝단82: pixel electrode 86: auxiliary gate line end

88: 보조 데이터선 끝단 90: 공통 전극88: end of auxiliary data line 90: common electrode

94: 블랙 매트릭스 96: 절연 기판94: black matrix 96: insulating substrate

100: 하부 표시판 200: 상부 표시판100: lower display panel 200: upper display panel

300: 액정층 410: 인쇄판300: liquid crystal layer 410: printing plate

412: 인쇄홈 420: 수지 공급부412: printing groove 420: resin supply unit

430: 색필터용 수지 440: 블레이드430: resin for color filters 440: blade

450: 전사 롤러 451: 전사 시트450: transfer roller 451: transfer sheet

510: 원통형 인쇄판 512: 인쇄홈510: cylindrical printing plate 512: printing groove

본 발명은 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 액정 표시 장치에 포함된 색필터의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display, and more particularly, to a method for manufacturing a color filter included in a liquid crystal display.

액정 표시 장치(Liquid Crystal Display)는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치(Flat Panel Display) 중 하나로서, 전극이 형성되어 있는 두 장의 기판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 투과되는 빛의 양을 조절하는 표시 장치이다.Liquid crystal display is one of the most widely used flat panel displays. It consists of two substrates on which electrodes are formed and a liquid crystal layer interposed therebetween. The display device is applied to rearrange the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer to control the amount of light transmitted.

액정 표시 장치는 공통 전극이 형성되어 있는 상부 표시판과, 박막 트랜지스터, 화소 전극 등이 형성되어 있는 하부 표시판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정 물질을 주입해 놓고, 화소 전극과 공통 전극에 서로 다른 전위를 인가함으로써 액정 물질에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시키고, 이를 통하여 투명 절연 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 원하는 화상을 표현하는 표시 장치이다.In the liquid crystal display, a liquid crystal material having anisotropic dielectric constant is injected between an upper display panel on which a common electrode is formed and a lower display panel on which a thin film transistor and a pixel electrode are formed, and different potentials are applied to the pixel electrode and the common electrode. By changing the molecular arrangement of the liquid crystal material by adjusting the intensity of the electric field formed in the liquid crystal material, thereby controlling the amount of light transmitted through the transparent insulating substrate to display a desired image.

이러한 액정 표시 장치의 개구율을 높이기 위해 박막 트랜지스터 위에 색필터를 형성하는 COA(color filter on array) 구조의 액정 표시 장치가 개발되었다. 또한 최근에는 색필터를 두껍게 형성함으로써 박막 트랜지스터 제조에서 보호막을 형성하는 공정을 건너뛰고, 따라서 수율 및 광특성을 개선하려는 연구가 진행 중이다.In order to increase the aperture ratio of the liquid crystal display, a liquid crystal display having a color filter on array (COA) structure for forming a color filter on the thin film transistor has been developed. In addition, recently, by forming a thick color filter, a process of forming a passivation layer in a thin film transistor manufacturing is skipped, and thus, a study for improving yield and optical characteristics is underway.

다만 이와 같은 COA 구조의 액정 표시 장치의 경우, 화소 전극에 의해 노출된 색필터로부터 방출되는 아웃가스(out-gas)에 의해 액정층이 오염되어 액정층을 이루는 액정 분자의 움직임이 느려져 잔상이 발생하는 문제가 있다.However, in the case of the liquid crystal display of the COA structure, the liquid crystal layer is contaminated by out-gas emitted from the color filter exposed by the pixel electrode, and the movement of the liquid crystal molecules forming the liquid crystal layer is slowed down, resulting in afterimages. There is a problem.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 제조 공정을 단순화하며, 잔상 문 제를 해결할 수 있는 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device which can simplify a manufacturing process and solve an afterimage problem.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은, 인쇄판의 인쇄홈에 충진된 색필터용 수지를 절연 기판 상에 전사하는 단계와, 상기 절연 기판 상의 상기 색필터용 수지를 경화하여 색필터를 완성하는 단계를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, the method including transferring a resin for a color filter filled in a printing groove of a printing plate onto an insulating substrate, and the color on the insulating substrate. Curing the resin for the filter to complete the color filter.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 1b는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰb-Ⅰb'로 자른 단면도이고, 도 1d는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰc-Ⅰc'로 자른 단면도이고, 도 1d는 도 1a의 액정 표시 장치를 Ⅰd-Ⅰd'로 자른 단면도이고, 도 1e는 도 1a의 액정 표시 장치의 색필터를 나타내는 배치도이다.FIG. 1A is a layout view of a liquid crystal display manufactured by a manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1A taken along line Ib-Ib ′, and FIG. 1D is a liquid crystal of FIG. 1A. 1D is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1A taken along line Id-Id ', and FIG. 1E is a layout view of the color filter of the liquid crystal display of FIG. 1A.

본 실시예에 따른 액정 표시 장치는 화소 전극(82)이 형성된 하부 표시판(100), 이와 마주보고 있으며 공통 전극(90)이 형성된 상부 표시판(200) 및 이들 사이에 들어 있는 액정층(300)을 포함한다.The liquid crystal display according to the present exemplary embodiment includes the lower panel 100 having the pixel electrode 82, the upper panel 200 facing the common electrode 90, and the liquid crystal layer 300 interposed therebetween. Include.

우선 도 1a 및 도 1b를 참조하여 본 실시예의 액정 표시 장치의 하부 표시판(100)에 대하여 상세하게 설명한다.First, the lower panel 100 of the liquid crystal display of the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1A and 1B.

절연 기판(10) 위에 대략 가로 방향으로 게이트선(22)이 형성되어 있고, 게이트선(22)에는 돌기의 형태로 이루어진 게이트 전극(26)이 형성되어 있다. 그리고 게이트선(22)의 끝에는 다른 층 또는 외부로부터 게이트 신호를 인가받아 게이트선(22)에 전달하는 게이트선 끝단(24)이 형성되어 있고, 게이트선 끝단(24)은 외부 회로와의 연결을 위하여 폭이 확장되어 있다. 이러한 게이트선(22), 게이트 전극(26) 및 게이트선 끝단(24)을 게이트 배선이라고 한다.The gate line 22 is formed in the substantially horizontal direction on the insulating substrate 10, and the gate electrode 26 formed in the form of a protrusion is formed on the gate line 22. A gate line end 24 is formed at the end of the gate line 22 to receive a gate signal from another layer or the outside and transmit the gate signal to the gate line 22. The gate line end 24 is connected to an external circuit. The width is extended. The gate line 22, the gate electrode 26, and the gate line end 24 are referred to as gate wirings.

또한, 절연 기판(10) 위에는 게이트선(22)과 실질적으로 평행하게 가로 방향으로 뻗어 있는 유지 전극선(28)이 형성되어 있다. 유지 전극선(28)으로부터 분지된 상대적으로 넓은 면적을 가지는 유지 전극(29)이 형성되어 있다. 유지 전극(29)은 후술할 드레인 전극 확장부(67)와 중첩하며, 유지 전극(29), 드레인 전극 확장 부(67) 및 이들 사이에 개재된 게이트 절연막(30)은 각 화소의 유지 커패시터(capacitor)를 이룬다. 이러한 유지 전극선(28) 및 유지 전극(29)을 유지 전극 배선이라고 한다.In addition, on the insulating substrate 10, a storage electrode line 28 extending in the horizontal direction substantially in parallel with the gate line 22 is formed. A sustain electrode 29 having a relatively large area branched from the sustain electrode line 28 is formed. The storage electrode 29 overlaps the drain electrode extension 67, which will be described later, and the storage electrode 29, the drain electrode extension 67, and the gate insulating layer 30 interposed therebetween may include the storage capacitor ( capacitor). Such sustain electrode lines 28 and sustain electrodes 29 are referred to as sustain electrode wirings.

본 발명은 이와 같은 유지 전극 배선(28, 29)의 형상에 한정되지 않으며, 화소 전극(82)과 일정한 유지 커패시터를 형성할 수 있는 조건을 만족하는 범위에서 유지 전극 배선(28, 29)의 모양 및 배치는 여러 형태로 변형될 수 있다.The present invention is not limited to the shape of the sustain electrode wirings 28 and 29 as described above, and the shape of the sustain electrode wirings 28 and 29 in a range that satisfies the conditions for forming a constant storage capacitor with the pixel electrode 82. And the arrangement can be modified in many forms.

게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29)은 알루미늄(Al)과 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)과 은 합금 등은 계열의 금속, 구리(Cu)와 구리 합금 등 구리 계열의 금속, 몰리브덴(Mo)과 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열의 금속, 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 따위로 이루어질 수 있다. 또한, 게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29)은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(미도시)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 이 중 한 도전막은 게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29)의 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속 등으로 이루어진다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 등으로 이루어진다. 이러한 조합의 좋은 예로는 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 및 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막을 들 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29)은 다양한 여러 가지 금속과 도 전체로 만들어질 수 있다.The gate wirings 22, 24 and 26 and the sustain electrode wirings 28 and 29 are made of aluminum-based metals such as aluminum (Al) and aluminum alloys, silver (Ag) and silver alloys such as silver-based metals, copper (Cu) and Copper-based metals such as copper alloys, molybdenum (Mo) and molybdenum-based metals such as molybdenum alloys, it may be made of chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta). In addition, the gate lines 22, 24, and 26 and the storage electrode lines 28 and 29 may have a multilayer structure including two conductive layers (not shown) having different physical properties. One of the conductive films is a low resistivity metal such as an aluminum-based metal or a silver-based metal so as to reduce the signal delay or voltage drop of the gate wirings 22, 24, and 26 and the sustain electrode wirings 28 and 29. It consists of a metal, a copper type metal, etc. In contrast, the other conductive layer is made of a material having excellent contact properties with other materials, particularly indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as molybdenum-based metals, chromium, titanium, tantalum and the like. A good example of such a combination is a chromium bottom film and an aluminum top film and an aluminum bottom film and a molybdenum top film. However, the present invention is not limited thereto, and the gate wirings 22, 24, and 26 and the sustain electrode wirings 28 and 29 may be made of various metals and conductors.

게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29) 위에는 게이트 절연막(30)이 형성되어 있다.The gate insulating film 30 is formed on the gate wirings 22, 24, 26 and the sustain electrode wirings 28, 29.

게이트 절연막(30) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon) 또는 다결정 규소 등으로 이루어진 반도체층(40)이 형성되어 있다. 이러한 반도체층(40)은 섬형, 선형 등과 같이 다양한 형상을 가질 수 있으며, 예를 들어 본 실시예와 같이 게이트 전극(26) 상에 섬형으로 형성될 수 있다. 또한 반도체층(40)이 선형으로 형성되는 경우, 데이터선(62) 아래에 위치하여 게이트 전극(26) 상부까지 연장된 형상을 가질 수 있다.On the gate insulating film 30, a semiconductor layer 40 made of hydrogenated amorphous silicon, polycrystalline silicon, or the like is formed. The semiconductor layer 40 may have various shapes such as an island shape and a linear shape. For example, the semiconductor layer 40 may be formed in an island shape on the gate electrode 26 as in the present embodiment. In addition, when the semiconductor layer 40 is formed in a linear shape, the semiconductor layer 40 may be positioned below the data line 62 and may extend to the upper portion of the gate electrode 26.

반도체층(40)의 위에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어진 저항성 접촉층(55, 56)이 형성되어 있다. 이러한 저항성 접촉층(55, 56)은 섬형, 선형 등과 같이 다양한 형상을 가질 수 있으며, 예를 들어 본 실시예에서와 같이 섬형 저항성 접촉층(55, 56)의 경우 드레인 전극(66) 및 소스 전극(65) 아래에 위치하고, 선형의 저항성 접촉층의 경우 데이터선(62)의 아래까지 연장되어 형성될 수 있다.Resistive contact layers 55 and 56 made of a material such as n + hydrogenated amorphous silicon doped with silicide or n-type impurities at a high concentration are formed on the semiconductor layer 40. The ohmic contacts 55 and 56 may have various shapes such as islands and linear shapes. For example, in the case of the islands of ohmic contact layers 55 and 56, the drain electrode 66 and the source electrode may have different shapes. Located below 65, the linear ohmic contact layer may extend below the data line 62.

저항성 접촉층(55, 56) 및 게이트 절연막(30) 위에는 데이터선(62) 및 드레인 전극(66)이 형성되어 있다. 데이터선(62)은 길게 뻗어 있으며 게이트선(22)과 교차하여 화소를 정의한다. 데이터선(62)으로부터 가지 형태로 반도체층(40)의 상부까지 연장되어 있는 소스 전극(65)이 형성되어 있다. 그리고 데이터선(62)의 끝에는 다른 층 또는 외부로부터 데이터 신호를 인가받아 데이터선(62)에 전달하는 데이터선 끝단(68)이 형성되어 있고, 데이터선 끝단(68)은 외부 회로와의 연결을 위하여 폭이 확장되어 있다. 드레인 전극(66)은 소스 전극(65)과 분리되어 있으며 게이트 전극(26)을 중심으로 소스 전극(65)과 대향하도록 반도체층(40) 상부에 위치한다. 드레인 전극(66)은 반도체층(40) 상부의 막대형 패턴과, 막대형 패턴으로부터 연장되어 넓은 면적을 가지며 접촉 구멍(76)이 위치하는 드레인 전극 확장부(67)를 포함한다. 이러한 데이터선(62), 소스 전극(65), 드레인 전극(66), 드레인 전극 확장부(67) 및 데이터선 끝단(68)을 데이터 배선이라고 한다.The data line 62 and the drain electrode 66 are formed on the ohmic contacts 55 and 56 and the gate insulating layer 30. The data line 62 extends long and crosses the gate line 22 to define a pixel. The source electrode 65 extending from the data line 62 to the top of the semiconductor layer 40 in the form of a branch is formed. At the end of the data line 62, a data line end 68 is formed which receives a data signal from another layer or the outside and transmits the data signal to the data line 62. The data line end 68 is connected to an external circuit. The width is extended. The drain electrode 66 is separated from the source electrode 65 and positioned above the semiconductor layer 40 so as to face the source electrode 65 with respect to the gate electrode 26. The drain electrode 66 includes a rod pattern on the semiconductor layer 40 and a drain electrode extension 67 extending from the rod pattern and having a large area and in which the contact hole 76 is located. The data line 62, the source electrode 65, the drain electrode 66, the drain electrode extension 67, and the data line end 68 are referred to as data wirings.

데이터 배선(62, 65, 66, 67, 68)은 크롬, 몰리브덴 계열의 금속, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속으로 이루어지는 것이 바람직하며, 내화성 금속 따위의 하부막(미도시)과 그 위에 위치한 저저항 물질 상부막(미도시)으로 이루어진 다층막 구조를 가질 수 있다. 다층막 구조의 예로는 앞서 설명한 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 또는 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막의 이중막 외에도 몰리브덴막-알루미늄막-몰리브덴막의 삼중막을 들 수 있다.The data wires 62, 65, 66, 67, and 68 are preferably made of refractory metals such as chromium, molybdenum-based metals, tantalum, and titanium, and a lower resistive material such as a refractory metal and a low resistance material disposed thereon. It may have a multi-layered film structure consisting of an upper film (not shown). Examples of the multilayer film structure include a triple film of molybdenum film, aluminum film, and molybdenum film in addition to the above-described double film of chromium lower film and aluminum upper film or aluminum lower film and molybdenum upper film.

소스 전극(65)은 반도체층(40)과 적어도 일부분이 중첩되고, 드레인 전극(66)은 게이트 전극(26)을 중심으로 소스 전극(65)과 대향하며 반도체층(40)과 적어도 일부분이 중첩된다. 여기서 저항성 접촉층(55, 56)은 반도체층(40)과 소스 전극(65) 및 반도체층(40)과 드레인 전극(66) 사이에 개재되어 이들 사이에 접촉 저항을 낮추어 주는 역할을 한다.The source electrode 65 overlaps at least a portion of the semiconductor layer 40, and the drain electrode 66 faces the source electrode 65 around the gate electrode 26 and at least partially overlaps the semiconductor layer 40. do. The ohmic contacts 55 and 56 are interposed between the semiconductor layer 40 and the source electrode 65, and the semiconductor layer 40 and the drain electrode 66 to lower the contact resistance therebetween.

데이터선(62), 드레인 전극(66) 및 노출된 반도체층(40) 위에는 절연막으로 이루어진 보호막(70)이 형성되어 있다. 여기서 보호막(70)은 질화규소 또는 산화규 소로 이루어진 무기물, 또는 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등의 저유전율 절연 물질 등으로 이루어진다.A passivation layer 70 made of an insulating layer is formed on the data line 62, the drain electrode 66, and the exposed semiconductor layer 40. The protective film 70 may be formed of a low dielectric constant such as a-Si: C: O, a-Si: O: F, or the like formed of an inorganic material made of silicon nitride or silicon oxide, or plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). It is made of an insulating material.

보호막(70)에는 드레인 전극(66) 및 데이터선 끝단(68)을 각각 드러내는 접촉 구멍(contact hole)(76, 78)이 형성되어 있으며, 보호막(70)과 게이트 절연막(30)에는 게이트선 끝단(24)을 드러내는 접촉 구멍(74)이 형성되어 있다.In the passivation layer 70, contact holes 76 and 78 exposing the drain electrode 66 and the data line end 68 are formed, respectively, and the passivation layer 70 and the gate insulating layer 30 are formed at the gate line end. The contact hole 74 which exposes the 24 is formed.

보호막(70) 위에는 각 화소마다 순차적으로 배열되어 있는 적색, 녹색, 청색의 색필터(72)가 형성되어 있으며, 색필터(72)에는 드레인 전극(66)을 드러내도록 접촉 구멍(76)과 중첩하는 부분에 개구부(73)가 형성되어 있다. 도 1e에 도시된 바와 같이, 색필터(72)는 인쇄법을 이용하여 각 화소마다 분리되어 섬형(island type)으로 형성된다. 색필터(72)의 제조 방법에 대해서는 후에 자세히 설명한다.On the passivation layer 70, red, green, and blue color filters 72 sequentially arranged for each pixel are formed, and the color filter 72 overlaps the contact hole 76 to expose the drain electrode 66. The opening 73 is formed in the part to be made. As shown in FIG. 1E, the color filter 72 is separated for each pixel using a printing method and formed in an island type. The manufacturing method of the color filter 72 is demonstrated in detail later.

색필터(72) 위에는 화소의 모양을 따라 화소 전극(82)이 형성되어 있다. 화소 전극(82)은 접촉 구멍(76)을 통하여 드레인 전극(66)과 전기적으로 연결된다. 앞서 언급한 바와 같이 색필터(72)는 화소마다 섬형으로 형성되어 있고, 화소 전극(82)은 색필터(72)가 액정층(300)에 노출되지 않도록 색필터(72)를 감싸고 있다. 이는 색필터(72)로부터 발생되는 아웃가스(out-gas)가 액정층(300)을 이루는 액정 분자의 움직임에 영향을 주는 것을 방지하기 위함이다.The pixel electrode 82 is formed on the color filter 72 along the shape of the pixel. The pixel electrode 82 is electrically connected to the drain electrode 66 through the contact hole 76. As mentioned above, the color filter 72 is formed in an island shape for each pixel, and the pixel electrode 82 surrounds the color filter 72 so that the color filter 72 is not exposed to the liquid crystal layer 300. This is to prevent the out-gas generated from the color filter 72 from affecting the movement of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 300.

또한 보호막(70) 위에는 접촉 구멍(74, 78)을 통하여 각각 게이트선 끝단(24)과 데이터선 끝단(68)과 연결되어 있는 보조 게이트선 끝단(86) 및 보조 데이터선 끝단(88)이 형성되어 있다. 여기서, 화소 전극(82), 보조 게이트선 끝단(86), 및 보조 데이터선 끝단(88)은 ITO 또는 IZO 따위의 투명 도전체 또는 알루미늄 따위의 반사성 도전체로 이루어질 수 있다. 보조 게이트선 및 데이터선 끝단(86, 88)은 게이트선 끝단(24) 및 데이터선 끝단(68)과 외부 장치를 접합하는 역할을 한다.In addition, an auxiliary gate line end 86 and an auxiliary data line end 88 which are connected to the gate line end 24 and the data line end 68, respectively, are formed on the passivation layer 70 through the contact holes 74 and 78. It is. The pixel electrode 82, the auxiliary gate line end 86, and the auxiliary data line end 88 may be formed of a transparent conductor such as ITO or IZO, or a reflective conductor such as aluminum. The auxiliary gate line and data line ends 86 and 88 serve to bond the gate line end 24 and the data line end 68 to an external device.

화소 전극(82)은 접촉 구멍(76)을 통하여 드레인 전극(66)과 물리적·전기적으로 연결되어 드레인 전극(66)으로부터 데이터 전압을 인가받는다.The pixel electrode 82 is physically and electrically connected to the drain electrode 66 through the contact hole 76 to receive a data voltage from the drain electrode 66.

화소 전극(82), 보조 게이트선 끝단(86), 보조 데이터선 끝단(88) 및 보호막(70) 위에는 액정층을 배향할 수 있는 배향막(미도시)이 도포될 수 있다.An alignment layer (not shown) may be coated on the pixel electrode 82, the auxiliary gate line end 86, the auxiliary data line end 88, and the passivation layer 70.

이하 도 1a, 도 1c 및 도 1d를 참조하여 본 발명의 액정 표시 장치에서 색필터와 화소 전극의 관계를 설명한다.Hereinafter, the relationship between the color filter and the pixel electrode in the liquid crystal display of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A, 1C, and 1D.

우선 앞서 언급한 바와 같이 색필터(72)는 각 화소마다 분리되도록 섬형으로 형성된다. 이러한 색필터(72)는 인쇄법을 이용하여 형성될 수 있다. 사진 식각법(photolithography)을 이용하여 색필터(72)를 형성하는 경우, 각 화소마다 분리하여 색필터(72)를 형성할 수는 있으나 색필터(72)가 하부 표시판(100)에 잘 접착되지 않는 문제가 발생할 수 있다. 인쇄법을 이용하여 색필터(72)를 형성하는 경우 각 화소마다 분리하여 색필터(72)를 형성할 수 있을 뿐만 아니라 색필터(72)와 하부 표시판(100) 간의 접착력을 높일 수 있다.First, as mentioned above, the color filter 72 is formed in an island shape to be separated for each pixel. The color filter 72 may be formed using a printing method. When the color filter 72 is formed by photolithography, the color filter 72 may be formed by separating the pixels, but the color filter 72 may not be adhered to the lower display panel 100. May cause problems. When the color filter 72 is formed using the printing method, the color filter 72 may be formed by separating the pixels for each pixel, and the adhesion between the color filter 72 and the lower panel 100 may be increased.

도 1a 및 도 1c에 도시된 바와 같이, 게이트선(22)을 기준으로 이웃하는 두 화소의 색필터(72)는 서로 분리되어 형성된다. 그리고 화소 전극(82)은 각 색필터(72)가 액정층(300)에 노출되지 않도록 색필터(72)를 감싸고 있다.As shown in FIGS. 1A and 1C, the color filters 72 of two neighboring pixels are formed to be separated from each other based on the gate line 22. The pixel electrode 82 surrounds the color filter 72 so that each color filter 72 is not exposed to the liquid crystal layer 300.

그리고 도 1a 및 도 1d에 도시된 바와 같이, 데이터선(62)을 기준으로 이웃 하는 두 화소의 색필터(72)는 서로 분리되어 형성된다. 그리고 화소 전극(82)은 각 색필터(72)가 액정층(300)에 노출되지 않도록 색필터(72)를 감싸고 있다.1A and 1D, the color filters 72 of two neighboring pixels are separated from each other based on the data line 62. The pixel electrode 82 surrounds the color filter 72 so that each color filter 72 is not exposed to the liquid crystal layer 300.

다시 도 1a 및 도 1b를 참조하여 본 실시예의 액정 표시 장치의 상부 표시판(200)에 대하여 설명한다. Referring to FIGS. 1A and 1B, the upper panel 200 of the liquid crystal display of the present exemplary embodiment will be described.

유리 등의 투명한 절연 물질로 이루어진 절연 기판(96) 위에 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(94)와, 절연 기판(96) 및 블랙 매트릭스(94) 위에는 ITO(indium tin oxide) 또는 IZO(indium zinc oxide) 등의 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(90)이 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(94)는 하부 표시판(100) 상의 게이트선(22) 및 데이터선(62)을 가려주기 위해 게이트선(22) 및 데이터선(62) 상에 위치한다.The black matrix 94 for preventing light leakage on the insulating substrate 96 made of a transparent insulating material such as glass, and the indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) on the insulating substrate 96 and the black matrix 94 The common electrode 90 made of a transparent conductive material such as) is formed. The black matrix 94 is positioned on the gate line 22 and the data line 62 to cover the gate line 22 and the data line 62 on the lower panel 100.

공통 전극(90) 위에는 액정 분자들을 배향하는 배항막(미도시)이 도포될 수 있다.An anti-corrosion film (not shown) may be coated on the common electrode 90 to align the liquid crystal molecules.

이와 같은 구조의 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200)을 정렬하여 결합하고 그 사이에 액정층(200)을 형성하면 본 발명의 액정 표시 장치의 기본 구조가 이루어진다.When the lower panel 100 and the upper panel 200 having such a structure are aligned and combined, and the liquid crystal layer 200 is formed therebetween, the basic structure of the liquid crystal display device of the present invention is achieved.

액정 표시 장치는 이러한 기본 구조에 편광판, 백라이트 등의 요소들을 배치하여 이루어진다.The liquid crystal display device is formed by disposing elements such as a polarizing plate and a backlight on the basic structure.

이때 편광판(미도시)은 기본 구조 양측에 각각 하나씩 배치되며 그 투과축은 서로 수직을 이루도록 배치한다.At this time, the polarizing plate (not shown) is disposed one each on both sides of the basic structure and the transmission axis is arranged to be perpendicular to each other.

이하 도 1b 및 도 2a 내지 도 2e를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 액 정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 색필터의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 공정 단면도들이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 하부 표시판 및 상부 표시판을 제공하는 단계와, 액정층을 형성하는 단계를 포함한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1B and 2A to 2E. 2A through 2E are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing a color filter of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. A method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes providing a lower panel and an upper panel, and forming a liquid crystal layer.

먼저 하부 표시판을 제공하는 단계를 설명한다. 도 1b를 참조하면, 절연 기판(10) 상에 게이트 배선(22, 24, 26) 및 유지 전극 배선(28, 29)을 형성하고, 그 위에 게이트 절연막(30)을 형성한다. 이어서 게이트 절연막(30) 위에 반도체층(40), 저항성 접촉층(55, 56) 및 데이터 배선(62, 65, 66, 67, 68)을 형성한다. 데이터선(62), 드레인 전극(66) 및 노출된 반도체층(40) 위에 절연막으로 이루어진 보호막(70)을 형성한다. First, the steps of providing the lower panel will be described. Referring to FIG. 1B, gate wirings 22, 24, and 26 and sustain electrode wirings 28 and 29 are formed on an insulating substrate 10, and a gate insulating film 30 is formed thereon. Subsequently, the semiconductor layer 40, the ohmic contact layers 55 and 56, and the data lines 62, 65, 66, 67, and 68 are formed on the gate insulating layer 30. A protective film 70 made of an insulating film is formed on the data line 62, the drain electrode 66, and the exposed semiconductor layer 40.

이어서 인쇄법으로 각 화소마다 분리된 섬형 색필터(72)를 보호막(70) 위에 형성한다. 이하 도 2a 내지 도 2e를 참조하여 색필터(72)의 제조 방법에 대하여 자세히 설명한다.Subsequently, an island color filter 72 separated for each pixel is formed on the passivation layer 70 by a printing method. Hereinafter, a method of manufacturing the color filter 72 will be described in detail with reference to FIGS. 2A to 2E.

구체적으로 도 2a를 참조하면, 적어도 하나의 인쇄홈(412)이 형성되어 있는 인쇄판(410)을 준비한다. 인쇄홈(412) 패턴은 인쇄 대상물에 따라 다양한 형상으로 형성할 수 있지만, 본 실시예에서는 도 1e에 도시된 색필터(72)를 인쇄 대상으로 하는 경우가 예시된다. 따라서 인쇄홈(412)은 색필터(72)와 동일한 패턴으로 설계된다. 이어서 수지 공급부(420)로부터 인쇄판(410)의 일측에 인쇄 대상 물질인 색필터용 수지(430)를 제공한다. 이때 색필터용 수지(430)는 특정 공간을 채울 수 있는 액상이지만, 외력이 존재하지 않는 경우 형상을 유지할 수 있는 정도의 점성을 가지며, 자외선 경화 또는 열 경화될 수 있는 유기 물질일 수 있다.Specifically, referring to FIG. 2A, a printing plate 410 having at least one printing groove 412 is prepared. The printing groove 412 pattern may be formed in various shapes according to the printing object. However, in the present embodiment, the color filter 72 shown in FIG. 1E is used as the printing object. Therefore, the printing groove 412 is designed in the same pattern as the color filter 72. Subsequently, the resin for color filter 430, which is a material to be printed, is provided on one side of the printing plate 410 from the resin supply unit 420. In this case, the color filter resin 430 may be a liquid to fill a specific space, but may have an viscosity that may maintain a shape when no external force is present, and may be an organic material that may be UV cured or heat cured.

이어서 도 2b를 참조하면, 블레이드(440)를 인쇄판(410)의 타측으로 이동하여 인쇄판(410)에 제공된 색필터용 수지(430)를 인쇄홈(412)에 충진한다. 즉 블레이드(440)를 인쇄판(410)의 상면에 접촉하면서 이동시키면, 색필터용 수지(430)가 블레이드(440)의 이동 방향으로 밀려나가면서 이동 경로 상에 존재하는 인쇄홈(412)에 충진되게 된다. 여기서 인쇄홈(412) 이외의 인쇄판(410) 상에 위치한 색필터용 수지(430)는 블레이드(440)에 의해 제거되며, 인쇄홈(412) 내에만 색필터용 수지(430)가 잔류하게 된다. 본 실시예에서는 하나의 블레이드(440)가 색필터용 수지(430)의 충진 및 제거를 동시에 수행하는 예가 도시되어 있지만, 이와는 달리 2 이상의 블레이드를 구비하여 하나는 충진용 블레이드로 사용하고 다른 하나는 제거용 블레이드로 사용할 수도 있다.Subsequently, referring to FIG. 2B, the blade 440 is moved to the other side of the printing plate 410 to fill the printing groove 412 with the resin 430 for the color filter provided on the printing plate 410. That is, when the blade 440 is moved while contacting the upper surface of the printing plate 410, the color filter resin 430 is pushed in the moving direction of the blade 440 to be filled in the printing groove 412 existing on the moving path. do. Here, the color filter resin 430 located on the printing plate 410 other than the printing groove 412 is removed by the blade 440, and the resin for color filter 430 remains only in the printing groove 412. . In this embodiment, one blade 440 is shown to perform the filling and removal of the color filter resin 430 at the same time, in contrast, two or more blades are provided with one is used as the filling blade and the other is Can also be used as a removal blade.

이어서 도 2c를 참조하면, 색필터용 수지(430)가 충진된 인쇄판(410) 상면에 전사 롤러(450)를 롤링시킨다. 전사 롤러(450)의 외주에는 전사 시트(451)가 구비되어, 전사 롤러(450)가 인쇄판(410)을 롤링하는 동안 인쇄홈(412)에 충진된 색필터용 수지(430)가 전사 시트(451)로 전사된다. 여기서 전사 롤러(450)의 외주 길이는 전사 롤러(450)의 롤링 방향에 대하여 인쇄판(410)의 폭보다 같거나 크도록 할 수 있다. 또한 전사 시트(451)는 색필터용 수지(430)의 전사가 용이하도록 색필터용 수지(430)와의 부착성이 우수한 것을 사용할 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 2C, the transfer roller 450 is rolled on the upper surface of the printing plate 410 filled with the color filter resin 430. The outer periphery of the transfer roller 450 is provided with a transfer sheet 451, so that the color filter resin 430 filled in the printing groove 412 while the transfer roller 450 rolls the printing plate 410 is a transfer sheet ( 451). The outer circumferential length of the transfer roller 450 may be equal to or larger than the width of the printing plate 410 with respect to the rolling direction of the transfer roller 450. In addition, the transfer sheet 451 may be one that is excellent in adhesion with the color filter resin 430 to facilitate the transfer of the color filter resin 430.

이어서 도 2d를 참조하면, 색필터용 수지(430)가 전사된 전사 롤러(450)를 보호막(70)이 형성된 절연 기판(10) 상에 롤링시킨다. 이 때 전사 시트(451)에 부 착되어 있는 색필터용 수지(430)가 보호막(70) 상에 전사된다. 색필터용 수지(430)는 각 화소마다 분리된 섬형으로 형성된다. 즉 색필터용 수지(430)는 게이트선(22) 및 데이터선(62)과 중첩하지 않도록 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같은 보호막(70) 상에 전사되는 색필터용 수지(430)의 위치 및 간격은 인쇄판(410)의 인쇄홈(412)에 의해 결정되기 때문에, 색필터용 수지(430)의 형상에 따라 인쇄홈(412)의 패턴을 조절한다.Next, referring to FIG. 2D, the transfer roller 450 to which the color filter resin 430 is transferred is rolled on the insulating substrate 10 on which the protective film 70 is formed. At this time, the resin for color filters 430 attached to the transfer sheet 451 is transferred onto the protective film 70. The color filter resin 430 is formed in a separate island shape for each pixel. That is, the color filter resin 430 is preferably formed so as not to overlap the gate line 22 and the data line 62. Since the position and spacing of the color filter resin 430 to be transferred onto the protective film 70 are determined by the printing groove 412 of the printing plate 410, printing is performed according to the shape of the color filter resin 430. The pattern of the groove 412 is adjusted.

이어서 도 2e를 참조하면, 보호막(70) 상에 전사된 색필터용 수지(430)에 자외선 또는 열을 제공하여 경화시켜 색필터(72)을 완성한다. 이와 같은 색필터(72)를 형성하면서 인쇄홈(412)의 패턴을 변경하여 도 1b에 도시된 드레인 전극(66)을 드러내도록 개구부(73)를 동시에 형성할 수 있다. 또한 이러한 개구부(73)는 인쇄법에 의해 형성되지 않더라도 후에 보호막(70)에 접촉 구멍(76)을 형성하는 식각 공정에 의해 형성될 수도 있다.Subsequently, referring to FIG. 2E, the color filter resin 430 may be hardened by applying ultraviolet rays or heat to the color filter resin 430 transferred onto the protective film 70 to complete the color filter 72. The opening 73 may be simultaneously formed to expose the drain electrode 66 of FIG. 1B by changing the pattern of the printing groove 412 while forming the color filter 72. In addition, even if the opening 73 is not formed by the printing method, it may be formed by an etching process of forming the contact hole 76 in the protective film 70 later.

색필터(72)는 적색, 녹색, 청색의 3색으로 이루어져 있으므로, 각 색깔에 대응하여 도 2a 내지 도 2e의 단계를 반복하여 3회 수행할 수 있다.Since the color filter 72 includes three colors of red, green, and blue, the color filter 72 may be repeated three times by repeating the steps of FIGS. 2A through 2E corresponding to each color.

색필터(72)가 완성된 후, 도 1b를 참조하면 색필터(72) 및 보호막(70) 상에 드레인 전극(66)과 전기적으로 연결되고 색필터(72)를 감싸도록 화소 전극(82)을 형성한다. 이어서 그 위에 배향막(미도시)을 형성하여 하부 표시판(100)을 완성한다.After the color filter 72 is completed, referring to FIG. 1B, the pixel electrode 82 is electrically connected to the drain electrode 66 on the color filter 72 and the passivation layer 70 and surrounds the color filter 72. To form. Subsequently, an alignment layer (not shown) is formed thereon to complete the lower panel 100.

다음으로 도 1b를 참조하면, 절연 기판(96) 상에 블랙 매트릭스(94), 공통 전극(90) 및 배향막(미도시)이 형성된 상부 표시판(200)을 준비한다. Next, referring to FIG. 1B, an upper panel 200 having a black matrix 94, a common electrode 90, and an alignment layer (not shown) is prepared on an insulating substrate 96.

이어서 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200)을 정렬하여 결합하고, 그 사이에 액정층(300)을 개재하여 액정 표시 장치를 완성한다. Subsequently, the lower panel 100 and the upper panel 200 are aligned and coupled to each other, and the liquid crystal display device is completed through the liquid crystal layer 300 therebetween.

이상의 실시예에서는, 색필터를 형성하기 위한 방법으로서 평판형 인쇄판을 사용한 예를 들었지만, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 원통형 인쇄판을 사용하는 경우도 동일하게 적용될 수 있다. 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 공정 단면도이다. 도 3에서는 평판형 인쇄판 대신에 원통형 인쇄판(510)을 사용하는 예가 도시되어 있다. In the above embodiment, the example using a flat plate type printing plate as a method for forming a color filter, but the present invention is not limited thereto, and the same applies to the case of using a cylindrical plate. 3 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 3, an example of using a cylindrical printing plate 510 instead of a flat printing plate is illustrated.

원통형 인쇄판(510)의 외주에는 인쇄홈(512)이 형성되어 있다. 수지 공급부(420)로부터 원통형 인쇄판(510)에 색필터용 수지(430)가 제공되면, 원통형 인쇄판(510)이 회전하면서 블레이드(440)에 의해 색필터용 수지(430)가 인쇄홈(512)에 충진된다. 나아가 색필터용 수지(430)는 원통형 인쇄판(510)에 접하는 전사 롤러(450)에 전사된다. 전사 롤러(450)에 전사된 색필터용 수지(430)는 전사 롤러(450)의 롤링 방향으로 이동하는 절연 기판(10) 상에 전사된다. The printing groove 512 is formed on the outer circumference of the cylindrical printing plate 510. When the color filter resin 430 is provided to the cylindrical printing plate 510 from the resin supply unit 420, the color printing resin 430 is moved to the printing groove 512 by the blade 440 while the cylindrical printing plate 510 is rotated. Is filled in. Furthermore, the resin 430 for color filters is transferred to the transfer roller 450 in contact with the cylindrical printing plate 510. The color filter resin 430 transferred to the transfer roller 450 is transferred onto the insulating substrate 10 moving in the rolling direction of the transfer roller 450.

상기 실시예들에서는 액정 표시 장치의 제조 방법으로서 하부 표시판 및 상부 표시판을 제조하고, 그 사이에 액정층을 형성하는 단계를 차례로 설명하였지만, 이러한 순서에 제한받는 것은 아니며, 상부 표시판을 먼저 제조하거나, 상부 표시판과 하부 표시판을 동시에 제조할 수도 있다. In the above embodiments, the steps of manufacturing the lower panel and the upper panel as a method of manufacturing the liquid crystal display and forming the liquid crystal layer therebetween are described in order, but the present invention is not limited to this order, and the upper panel is manufactured first, The upper panel and the lower panel may be manufactured at the same time.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 색필터를 각 화소마다 분리하여 형성하고, 화소 전극이 색필터를 감싸도록 하여 색필터가 액정층에 노출되는 것을 방지함으로써 색필터로부터 방출되는 아웃가스를 방지할 수 있다. 따라서 잔상문제를 해결할 수 있다. 또한 종래 색필터 형성을 위하여 3회의 사진 식각 공정을 거쳐야 하였으나, 본 발명의 제조 방법에 의하며 인쇄법을 이용함으로써 공정의 단순화를 구현할 수 있다. As described above, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention, the color filter is formed by separating the color filter for each pixel, and the pixel electrode surrounds the color filter to prevent the color filter from being exposed to the liquid crystal layer. The outgas emitted from can be prevented. Therefore, the afterimage problem can be solved. In addition, although a conventional photolithography process has to be performed three times to form a color filter, the process can be simplified by using the printing method according to the manufacturing method of the present invention.

Claims (11)

인쇄판의 인쇄홈에 충진된 색필터용 수지를 절연 기판 상에 전사하는 단계; 및Transferring the resin for color filter filled in the printing groove of the printing plate onto the insulating substrate; And 상기 절연 기판 상의 상기 색필터용 수지를 경화하여 색필터를 완성하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Comprising the step of curing the resin for the color filter on the insulating substrate to complete the color filter. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 색필터는 상기 액정 표시 장치를 구성하는 각 화소마다 분리된 섬형인 액정 표시 장치의 제조 방법.And the color filter is an island type separated for each pixel constituting the liquid crystal display. 제1 항에 있어서, 상기 전사하는 단계 전에, The method of claim 1, wherein before the transferring step, 상기 절연 기판 상에 서로 직교하는 게이트선 및 데이터선을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Forming a gate line and a data line orthogonal to each other on the insulating substrate. 제3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 색필터는 상기 게이트선과 중첩하지 않는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the color filter does not overlap the gate line. 제3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 색필터는 상기 데이터선과 중첩하지 않는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the color filter does not overlap the data line. 제3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 데이터선 상에 무기물로 이루어진 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And forming a protective film made of an inorganic material on the data line. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 적색, 녹색, 청색의 상기 색필터용 수지를 각각 이용하여 상기 전사하는 단계와 상기 경화하는 단계를 3회 반복하는 액정 표시 장치의 제조 방법.A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising repeating the transferring step and the curing step three times using the red, green, and blue resins for color filters, respectively. 제1 항에 있어서, 상기 색필터를 완성한 후에, The method of claim 1, wherein after the color filter is completed, 상기 색필터 상에 상기 색필터가 외부로 노출되지 않도록 상기 색필터를 감싸는 화소 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And forming a pixel electrode surrounding the color filter so that the color filter is not exposed to the outside on the color filter. 제1 항에 있어서, 상기 전사하는 단계는, The method of claim 1, wherein the transferring step, 상기 인쇄홈 내에 상기 색필터용 수지를 충진하는 단계; Filling the resin for the color filter into the printing groove; 상기 인쇄홈 내의 상기 색필터용 수지를 전사 롤러에 전사하는 단계; 및 Transferring the resin for color filter in the printing groove to a transfer roller; And 상기 전사 롤러에 전사된 상기 색필터용 수지를 상기 절연 기판 상에 전사하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And transferring the resin for color filter transferred to the transfer roller onto the insulating substrate. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 인쇄판은 평판형 또는 원통형인 액정 표시 장치의 제조 방법.The printing plate is a flat panel or cylindrical liquid crystal display device manufacturing method. 제1 항에 있어서, 상기 색필터를 완성한 후에, The method of claim 1, wherein after the color filter is completed, 상기 색필터 상에 화소 전극을 형성하는 단계; Forming a pixel electrode on the color filter; 상기 색필터와 상기 화소 전극이 형성된 하부 기판과, 공통 전극이 형성된 상부 기판을 합착하는 단계; 및 Bonding the color filter, the lower substrate on which the pixel electrode is formed, and the upper substrate on which the common electrode is formed; And 상기 하부 기판과 상기 상부 기판 사이에 액정층을 개재하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And interposing a liquid crystal layer between the lower substrate and the upper substrate.
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