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KR20050077027A - Process for forming multi layered coated film and multi layered coated film - Google Patents

Process for forming multi layered coated film and multi layered coated film Download PDF

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KR20050077027A
KR20050077027A KR1020050006755A KR20050006755A KR20050077027A KR 20050077027 A KR20050077027 A KR 20050077027A KR 1020050006755 A KR1020050006755 A KR 1020050006755A KR 20050006755 A KR20050006755 A KR 20050006755A KR 20050077027 A KR20050077027 A KR 20050077027A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating film
uncured
coating
coating composition
film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
KR1020050006755A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
데루조 토이
야스오 미하라
Original Assignee
닛본 페인트 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛본 페인트 가부시끼가이샤 filed Critical 닛본 페인트 가부시끼가이샤
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

본 발명은 우수한 완성 외관을 갖는 다층 코팅 필름의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 다음, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; 경화된 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및 상기 3개의 비경화 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하는 다층 코팅 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 이때 경화된 전착 코팅 필름은 특정 범위의 Ra 및 Pa를 갖거나, 또는 특정 범위의 Tg 및 가교결합 밀도를 갖는다.The present invention provides a method for producing a multilayer coating film having an excellent finished appearance. The present invention comprises the steps of performing an electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on a substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; Applying an intermediate coating composition on the cured coating film to form an uncured intermediate coating film; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And simultaneously heating and curing the three uncured coating films, wherein the cured electrodeposition coating film has a specific range of Ra and Pa, or a specific range of Tg. And crosslink density.

Description

다층 코팅 필름의 제조 방법 및 다층 코팅 필름{PROCESS FOR FORMING MULTI LAYERED COATED FILM AND MULTI LAYERED COATED FILM} Manufacturing method and multilayer coating film of a multilayer coating film {PROCESS FOR FORMING MULTI LAYERED COATED FILM AND MULTI LAYERED COATED FILM}

본 발명은 우수한 완성 외관을 갖는 다층 코팅 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a multilayer coating film having a good finished appearance.

다양한 기능을 갖는 여러 층의 코팅 필름을 자동차 차체의 기판 표면 위에 형성시켜 기판을 보호하고 기판에 우수한 외관을 제공한다. 그러나, 최근 수년동안, 에너지 절약 및 비용 감소의 필요성으로 인해, 모든 층을 적용한 후 비경화 코팅 필름을 소성하는 단계 없이, 소위 웨트 온 웨트(wet on wet) 코팅에 의해 비경화 코팅 필름 위에 다음 코팅 필름을 적용하고; 여러 층을 동시에 소성하는 단계를 포함하는, 다층 코팅 필름의 제조 방법이 이용되어 왔다. Various layers of coating film having various functions are formed on the substrate surface of the automobile body to protect the substrate and provide a good appearance to the substrate. However, in recent years, due to the need for energy savings and cost reduction, the next coating on the non-hardened coating film by the so-called wet on wet coating, without the step of firing the uncured coating film after applying all the layers Applying a film; A method of making a multilayer coating film has been used, which comprises the step of firing several layers simultaneously.

상기 방법의 한 예로서, 중간 코팅, 기본 상부 코팅 및 투명 상부 코팅을 경화된 전착 코팅 필름 위에 웨트 온 웨트 코팅에 의해 적용하고; 비경화 코팅 필름의 세 층을 동시에 소성 및 경화시키는 단계를 포함하는 3-코팅 1-소성 코팅 방법(3-웨트 코팅)이 가장 실용적인 방법으로 간주된다. 상기 코팅 방법의 공정 흐름도가 도 1에 도시되어 있다.As an example of the method, the intermediate coating, the basic top coating and the transparent top coating are applied by wet on wet coating on the cured electrodeposition coating film; The three-coating one-baking coating method (3-wet coating) comprising the steps of simultaneously firing and curing three layers of the uncured coating film is considered the most practical method. A process flow diagram of the coating method is shown in FIG. 1.

일본 특허 공개공보 제 277474/1998 호에는, 중간 코팅, 금속 코팅 및 투명 상부 코팅을 코팅될 기판 위에 순서대로 적용하고; 코팅된 필름의 세 층을 동시에 소성하는 단계를 포함하는, 다층 코팅 필름의 제조 방법에 개시되어 있다. 상기 공보에는 상기 방법이 탁월한 선명함 및 탁월한 광택성을 갖는 코팅 필름을 제공한다고 기술되어 있다.In Japanese Patent Laid-Open No. 277474/1998, an intermediate coating, a metal coating and a transparent top coating are applied in sequence on a substrate to be coated; Disclosed is a method of making a multilayer coated film comprising simultaneously firing three layers of a coated film. The publication states that the method provides a coating film with excellent sharpness and excellent gloss.

도 1에 도시된 3-코팅 1-소성 코팅 방법에서, 경화된 전착 코팅 필름의 표면 조건이 다층 코팅 필름의 외관에 큰 영향을 미치는 것으로 밝혀졌다. 그 이유는 3-코팅 1-소성 코팅 방법이 전술한 바와 같이 최소수의 소성 단계를 포함하기 때문으로 생각된다. 다층 코팅 필름을 제조하는 상기 방법(일본 특허 공개공보 제 277474/1998 호)에서, 다층 코팅 필름의 외관을 개선하기 위한 전착 코팅 필름의 표면 조건은 기술되어 있지 않다.In the 3-coating 1-baking coating method shown in FIG. 1, the surface conditions of the cured electrodeposition coating film were found to have a great influence on the appearance of the multilayer coating film. The reason is believed to be that the three-coating one-baking coating method includes a minimum number of firing steps as described above. In the above method for producing a multilayer coating film (Japanese Patent Laid-Open No. 277474/1998), the surface conditions of the electrodeposited coating film for improving the appearance of the multilayer coating film are not described.

일본 특허 공개 공보 제 224613/2002 호에는, 양이온성 전착 코팅 조성물로부터 기판위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; 3-코팅 1-소성 코팅 방법에 의해 경화된 전착 코팅 필름 위에 3개의 코팅 층을 적용하는 단계; 및 비경화 코팅 필름의 세 층을 동시에 소성 및 경화시키는 단계를 포함하며, 이때 경화된 전착 코팅 필름이 110 ℃ 이상의 유리 전이 온도 및 0.3 ㎛ 이하의 표면 조도(Ra: 중심선 평균 조도)를 갖는, 다층 코팅 필름의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 방법에서는, 코팅 필름의 외관을 평가하는 파라미터로서 중심선 평균 조도(Ra) 만을 이용하며, 다른 파라미터는 이용하지 않는다.Japanese Patent Laid-Open No. 224613/2002 includes the steps of forming a cured electrodeposited coating film on a substrate from a cationic electrodeposition coating composition; Applying three coating layers onto the electrodeposited coating film cured by the 3-coating 1-baking coating method; And simultaneously firing and curing three layers of the uncured coating film, wherein the cured electrodeposition coated film has a glass transition temperature of at least 110 ° C. and a surface roughness of less than 0.3 μm (Ra: centerline average roughness). A method of making a coating film is disclosed. In this method, only the center line average roughness Ra is used as a parameter for evaluating the appearance of the coating film, and no other parameters are used.

또한, 도 1에 도시된 3-코팅 1-소성 코팅 방법에서는, 중간 코팅용 조성물을 경화된 전착 코팅 필름 위에 적용한다. 중간 코팅용 조성물에 함유된 용매가 조성물을 적용하는 동안 경화된 전착 코팅 필름에 흡수되는 경우가 있다. 경화된 전착 코팅 필름에 흡수된 용매는 적층된 코팅 필름을 소성하는 동안 휘발되어 중간 코팅 필름 등에 영향을 미쳐, 적층된 코팅 필름의 완성 외관을 저하시킨다. 3-코팅 1-소성 코팅 방법에서는 소성 단계의 수가 적고 둘 이상의 층에 적층된 비경화 코팅 필름이 동시에 소성되기 때문에, 경화된 전착 코팅 필름 위에 적용된 비경화 중간 코팅 필름에 함유된 용매는 경화된 전착 코팅 필름에 큰 영향을 미치는 것으로 밝혀졌다. 다층 코팅 필름을 제조하기 위한 상기 방법(일본 특허 공개공보 제 277474/1998 호)에는, 다층 코팅 필름의 외관을 개선하기 위한 전착 코팅 필름의 물리적 성질은 기술되어 있지 않다.In addition, in the 3-coating 1-baking coating method shown in FIG. 1, the composition for intermediate coating is applied onto the cured electrodeposition coating film. The solvent contained in the intermediate coating composition is sometimes absorbed into the cured electrodeposition coating film during application of the composition. The solvent absorbed in the cured electrodeposition coating film is volatilized during firing of the laminated coating film and affects the intermediate coating film or the like, thereby lowering the finished appearance of the laminated coating film. In the three-coating one-baking coating method, since the number of firing steps is small and the uncured coating film laminated on two or more layers is fired simultaneously, the solvent contained in the uncured intermediate coating film applied on the cured electrodeposition coating film is cured electrodeposition It has been found to have a great effect on the coating film. In the method (Japanese Patent Laid-Open No. 277474/1998) for producing a multilayer coating film, the physical properties of the electrodeposited coating film for improving the appearance of the multilayer coating film are not described.

본 발명의 주목적은 에너지를 절약하고 비용을 감소시킬 수 있는 3-코팅 1-소성 코팅 방법으로 우수한 완성 외관을 갖는 다층 코팅 필름을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.It is a main object of the present invention to provide a method for producing a multilayer coating film having a good finished appearance with a 3-coated 1-baking coating method which can save energy and reduce cost.

본 발명에서, 우수한 완성 외관을 갖는 코팅 필름을 수득하는 방법을 찾아내었다. 본 발명의 방법에 따르면, 보다 적은 수의 소성 단계를 포함하는 3-코팅 1-소성 코팅 방법으로도 우수한 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득될 수 있다. 다층 코팅 필름은 전착 코팅 필름, 중간 코팅 필름, 기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름을 함유한다. 본 발명의 방법에 따르면, 코팅 단계에서 소성 및 경화에 필요한 에너지가 절약될 수 있으며, 생산 비용이 감소될 수 있다. 본 발명의 방법은 적용시 에너지 절약 및 우수한 외관이 필요한 분야에서 적절히 이용될 수 있다.In the present invention, a method for obtaining a coating film having a good finished appearance has been found. According to the method of the present invention, a multilayer coating film having an excellent appearance can be obtained even by a 3-coating 1-baking coating method including fewer firing steps. The multilayer coating film contains an electrodeposition coating film, an intermediate coating film, a base top coating film and a transparent top coating film. According to the method of the present invention, the energy required for firing and curing in the coating step can be saved, and the production cost can be reduced. The method of the present invention can be suitably used in fields where energy saving and good appearance are required in application.

본 발명의 상기 목적과 기타 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참고로 한 하기의 설명으로부터 당해 분야에 숙련된 자에게 명백해질 것이다. The above and other objects and advantages of the present invention will become apparent to those skilled in the art from the following description with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 하기의 상세한 설명, 및 단지 예시적이며 본 발명을 제한하는 것이 아닌 첨부 도면으로부터 보다 상세히 이해될 것이다.The invention will be understood in more detail from the following detailed description, and of the accompanying drawings, which are merely exemplary and are not limitative of the invention.

본 발명은, 기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 후, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; 경화된 전착 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및 비경화 중간 코팅 필름, 비경화 기본 상부 코팅 필름 및 비경화 투명 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하며, 이때 경화된 전착 코팅 필름이 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa)를 갖는 다층 코팅 필름의 제조 방법을 제공함으로써, 전술한 목적을 달성한다.The present invention comprises the steps of performing an electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on a substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; Applying an intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film to form an uncured intermediate coating film; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And simultaneously heating and curing the uncured intermediate coating film, the uncured base top coating film and the uncured transparent coating film, wherein the cured electrodeposition coating film has a centerline average roughness of 0.05 to 0.25 μm obtained from the roughness curve. By providing a method for producing a multilayer coated film having a centerline average roughness (Pa) of 0.05 to 0.30 μm obtained from (Ra) and a profile curve, the above-described object is achieved.

본 발명은 또한 경화된 전착 코팅 필름이 37 내지 43 mJ/m2의 표면 에너지를 가지며, 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름 상에 10 내지 30°의 접촉각을 갖는, 상기 단계들을 포함하는 다층 코팅 필름의 제조 방법을 제공함으로써 전술한 목적을 달성한다.The present invention also provides a multilayer coating comprising the above steps, wherein the cured electrodeposition coating film has a surface energy of 37 to 43 mJ / m 2 and the intermediate coating composition has a contact angle of 10 to 30 ° on the cured electrodeposition coating film. The above object is achieved by providing a method for producing a film.

본 발명은 또한 경화된 전착 코팅 필름이 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra), 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa), 및 37 내지 43 mJ/m2의 표면 에너지를 가지며, 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름 상에 10 내지 30°의 접촉각을 갖는, 상기 단계를 포함하는 다층 코팅 필름의 제조 방법을 제공함으로써 전술한 목적을 달성한다.The invention also relates to a centerline average roughness (Ra) of 0.05 to 0.25 μm obtained from a roughness curve, a centerline average roughness (Pa) of 0.05 to 0.30 μm obtained from a profile curve, and 37 to 43 mJ / having a surface energy of the m 2, in the electro-deposition coating film is a cured intermediate coating composition having a contact angle of 10 to 30 °, achieves the above objects by providing a method of manufacturing a multi-layer coating film comprising the steps:

본 발명은 또한 경화된 전착 코팅 필름이 동적 점탄성 측정에 의해 수득된 100 내지 130 ℃의 유리 전이 온도 Tg 및 1.2 내지 2.6 밀리몰/cc의 가교결합 밀도를 갖는, 상기 단계를 포함하는 다층 코팅 필름의 제조 방법을 제공함으로써 전술한 목적을 달성한다.The present invention also provides a preparation of a multilayer coating film comprising the above step, wherein the cured electrodeposition coating film has a glass transition temperature Tg of 100 to 130 ° C. and a crosslink density of 1.2 to 2.6 mmol / cc obtained by dynamic viscoelasticity measurement. The above object is achieved by providing a method.

본 발명을 수행하는 방법을 상세히 설명한다. 본 발명자들은 일본 특허 공개공보 제 224613/2002 호에서 경화된 전착 코팅 필름을 표면 조도(Ra: 중심선 평균 조도)에 의해 평가하는 방법을 제시하였다.The method of carrying out the invention is described in detail. The present inventors have proposed a method of evaluating the electrodeposition coated film cured in Japanese Patent Laid-Open No. 224613/2002 by surface roughness (Ra: centerline average roughness).

표면 형태, 광학성 및 색이 복합적으로 시각적으로 외관에 영향을 미치기 때문에 단일 방법에 의해 코팅 필름의 외관을 평가하는 것은 곤란하다. 코팅 필름의 외관을 평가하는 방법으로서 파장에 의해 외관을 평가할 때, 예를 들면, 광택 및 선명함과 관련된 조도는 단파장에 의해 평가할 수 있으며, 굴곡과 관련된 조도는 장파장에 의해 평가할 수 있다. 표면 조도에 관한 JIS에서, 윤곽 곡선은 프로필 곡선(P), 조도 곡선(R) 및 굴곡 곡선(W)으로 나뉠 수 있는 것으로 기술되어 있다.It is difficult to evaluate the appearance of the coating film by a single method because the surface morphology, optical properties and color affect the appearance visually in combination. When evaluating the appearance by wavelength as a method of evaluating the appearance of the coating film, for example, roughness related to gloss and clarity can be evaluated by short wavelength, and roughness related to bending can be evaluated by long wavelength. In JIS for surface roughness, it is described that the contour curve can be divided into profile curve P, roughness curve R and bending curve W.

코팅 필름의 외관은 평활도, 오렌지 필(orage peel) 및 광택의 항목으로 나누어 평가할 수 있다. 본 발명에서, 통상적인 평가 방법에 사용되는 경화된 전착 코팅 필름의 Ra 값(조도 곡선에서의 중심선 평균 조도)은 오렌지 필과 상관되는 것으로 밝혀졌다. 굴곡 곡선(W)과 관련된 파라미터로서 경화된 전착 코팅 필름의 Wa 값(굴곡 곡선에서의 중심선 평균 조도)은 다층 코팅 필름의 외관에서 평활도와 상관되는 것으로 밝혀졌다. 또한, 장파장에 의해 측정된 굴곡은 생성된 다층 코팅 필름의 외관에 큰 영향을 미치는 것으로 밝혀졌다. 또한, 표면 조건을 조절하기 위한 파라미터로서 Ra 값, 및 Ra 값과 Wa 값을 모두 포함하는 Pa 값(프로필 곡선에서의 중심선 평균 조도)을 이용하여 경화된 전착 코팅 필름을 평가함으로써 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관을 개선하는 것으로 밝혀져, 본 발명의 한 태양이 달성된다.The appearance of the coating film can be evaluated by dividing it into items of smoothness, orange peel and gloss. In the present invention, the Ra value (centerline average roughness in the roughness curve) of the cured electrodeposition coating film used in the conventional evaluation method was found to be correlated with the orange peel. The Wa value (centerline average roughness in the curvature curve) of the cured electrodeposition coating film as a parameter related to the flexure curve (W) was found to correlate with the smoothness in appearance of the multilayer coating film. In addition, the bending measured by the long wavelength was found to have a great influence on the appearance of the resulting multilayer coating film. In addition, the multilayer coating film produced by evaluating the electrodeposition coating film cured using the Ra value and the Pa value (centerline average roughness in the profile curve) including both the Ra and Wa values as parameters for controlling the surface conditions. It has been found to improve the finished appearance of one aspect of the present invention.

본 발명에 기술된 바와 같은 3-코팅 1-소성 코팅 방법으로 다층 코팅 필름을 제조하는 동안 전술한 바와 같은 경화된 전착 코팅 필름의 표면 조건을 조절할 지라도, 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름에 낮은 습윤성을 갖는 경우 때때로 우수한 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득되지 않는 것으로 생각된다. 이러한 결점은 3-코팅 1-소성 코팅 방법이 보다 적은 수의 소성 단계를 포함하기 때문에, 생성된 다층 코팅 필름의 외관에 큰 영향을 미친다.Although the surface conditions of the cured electrodeposition coating film as described above are controlled during the manufacture of the multilayer coating film by the 3-coating 1-baking coating method as described herein, the intermediate coating composition is low on the cured electrodeposition coating film. It is sometimes thought that a multilayer coating film with good appearance is not obtained when having wettability. This drawback has a great impact on the appearance of the resulting multilayered coating film, since the three-coating one-baking coating method involves fewer firing steps.

본 발명에서, 중간 코팅 필름의 습윤성은 경화된 전착 코팅 필름의 표면 에너지를 특정 범위로 조정함으로써 조절될 수 있으며 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관이 개선되어 본 발명의 또 다른 태양을 수행할 수 있는 것으로 밝혀졌다.In the present invention, the wettability of the intermediate coating film can be controlled by adjusting the surface energy of the cured electrodeposition coating film to a specific range and the finished appearance of the resulting multilayer coating film can be improved to carry out another aspect of the present invention. It turned out.

본 발명에서는, 경화된 전착 코팅 필름의 내용매성은 경화된 전착 코팅 필름의, 동적 점탄성 측정으로부터 얻은 유리 전이 온도 Tg 및 가교결합 밀도를 특정 범위로 조정함으로써 개선될 수 있으며 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관이 개선되어 본 발명의 또 다른 태양을 수행할 수 있는 것으로 밝혀졌다.In the present invention, the solvent resistance of the cured electrodeposition coating film can be improved by adjusting the glass transition temperature Tg and the crosslink density obtained from the dynamic viscoelasticity measurement of the cured electrodeposition coating film to a specific range and the completion of the resulting multilayer coating film It has been found that the appearance can be improved to carry out another aspect of the present invention.

본 발명의 한 태양에서, 양이온성 전착 코팅 조성물에 함유된 성분 및 그의 함량은, 전착 코팅에 의해 형성된 경화된 전착 코팅 필름이 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa)를 갖도록 선택된다. 중심선 평균 조도(Ra)의 상한치는 바람직하게는 0.20 ㎛이다. 중심선 평균 조도(Pa)의 상한치는 바람직하게는 0.25 ㎛이다. 현행 기술 수준에서 0.05 ㎛의 하한치보다 작은 중심선 평균 조도(Ra) 및 중심선 평균 조도(Pa)를 갖는 경화된 전착 코팅 필름을 수득하는 것은 어렵다.In one embodiment of the present invention, the components contained in the cationic electrodeposition coating composition and their contents are such that the centerline average roughness (Ra) and profile of 0.05 to 0.25 μm of the cured electrodeposition coating film formed by the electrodeposition coating is obtained from the roughness curve. It is selected to have a centerline average roughness (Pa) of 0.05 to 0.30 μm obtained from the curve. Preferably the upper limit of center line average roughness Ra is 0.20 micrometer. Preferably the upper limit of center line average roughness Pa is 0.25 micrometer. It is difficult to obtain a cured electrodeposition coating film having a centerline average roughness Ra and a centerline average roughness Pa less than the lower limit of 0.05 μm at the current state of the art.

본원에서 사용된 바와 같은 조도 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Pa)는 JIS B 0601에서 정의된 파라미터들이다. 경화된 전착 코팅 필름의 조도 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Pa)는, 예를 들면, JIS B 0601에 따라 미투토요 코포레이션(Mitutoyo Corp.)에서 제조한 평가형 표면 조도 시험기를 이용하여 측정할 수 있다.Centerline average roughness (Ra) obtained from the roughness curve as used herein and centerline average roughness (Pa) obtained from the profile curve are the parameters defined in JIS B 0601. Centerline average roughness (Ra) obtained from the roughness curve of the cured electrodeposition coating film and centerline average roughness (Pa) obtained from the profile curve are produced, for example, by Mitutoyo Corp. according to JIS B 0601. It can be measured using one evaluation surface roughness tester.

Ra 값이 0.25 ㎛보다 큰 경우, 다층 코팅 필름의 외관, 특히 오렌지 필이 저하된다. Pa 값이 0.30 ㎛보다 크면, 다층 코팅 필름의 외관, 특히 평활도가 저하된다.When the Ra value is larger than 0.25 μm, the appearance of the multilayer coating film, in particular the orange peel, is lowered. If the Pa value is larger than 0.30 mu m, the appearance, in particular, the smoothness of the multilayer coating film is lowered.

상기 범위 이내의 조도 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 중심선 평균 조도(Pa)를 갖는 경화된 전착 코팅 필름을 수득하기 위한, 양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 방법에는 양이온성 전착 코팅 조성물 중의 양이온성 에폭시 수지, 차단된 아이소사이아네이트 경화제 및 촉매의 유형 및 함량을 조정하는 방법이 포함된다. 특히, 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 유형 및 함량은 Ra 및 Pa 값에 큰 영향을 미친다. 필름(전착 필름)의 제조동안 코팅 필름의 유동성 및 경화 속도를 개선시켜 양이온성 에폭시 수지와 차단된 아이소사이아네이트 경화제 사이의 고형물 함량비를 조정함으로써 코팅 필름의 평활성을 개선시킨다. 전착 코팅 필름의 평활성은 보다 작은 표면 조도를 갖는 표면 처리된 강판을 사용함으로써 더 개선될 수 있다.The method for preparing a cationic electrodeposition coating composition for obtaining a cured electrodeposition coating film having a centerline average roughness Ra obtained from the roughness curve within the above range and a centerline average roughness Pa obtained from the profile curve is cationic. Methods of adjusting the type and content of cationic epoxy resins, blocked isocyanate curing agents and catalysts in electrodeposition coating compositions. In particular, the type and content of blocked isocyanate curing agent has a great influence on the Ra and Pa values. The smoothness of the coating film is improved by adjusting the solids content ratio between the cationic epoxy resin and the blocked isocyanate curing agent by improving the flowability and curing rate of the coating film during the manufacture of the film (electrodeposit film). The smoothness of the electrodeposition coated film can be further improved by using a surface treated steel sheet having a smaller surface roughness.

본 발명의 또 다른 태양에서, 양이온성 전착 코팅 조성물 및 중간 코팅 조성물은, 형성된 경화 전착 코팅 필름이 37 내지 43 mJ/m2의 표면 에너지를 가지며 코팅된 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름 상에 10 내지 30°의 접촉각을 갖도록 사용된다. 경화된 전착 코팅 필름의 표면 에너지가 상기 범위 이내이고, 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물 사이의 접촉각이 10 내지 30°의 범위 이내이면, 경화된 전착 코팅 필름에 대한 중간 코팅 조성물의 습윤성이 높으며 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관이 양호하다.In another aspect of the invention, the cationic electrodeposition coating composition and the intermediate coating composition are formed on the electrodeposition coating film wherein the cured electrodeposition coating film formed has a surface energy of 37 to 43 mJ / m 2 and the coated intermediate coating composition is cured. It is used to have a contact angle of 10 to 30 degrees. When the surface energy of the cured electrodeposition coating film is within the above range and the contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition is within the range of 10 to 30 °, the wettability of the intermediate coating composition to the cured electrodeposition coating film is high. The finished appearance of the resulting multilayer coating film is good.

경화된 전착 코팅 필름의 표면 에너지는 바람직하게는 38 mJ/m2, 보다 바람직하게는 39 mJ/m2의 하한치를 가지며, 바람직하게는 42 mJ/m2, 보다 바람직하게는 41 mJ/m2의 상한치를 갖는다. 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물간의 접촉각은 바람직하게는 10°의 하한치 및 바람직하게는 25°의 상한치를 갖는다.The surface energy of the cured electrodeposition coating film preferably has a lower limit of 38 mJ / m 2 , more preferably 39 mJ / m 2 , preferably 42 mJ / m 2 , more preferably 41 mJ / m 2. Has an upper limit of. The contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition preferably has a lower limit of 10 ° and preferably an upper limit of 25 °.

표면 에너지가 37 mJ/m2보다 낮으면, 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 필름 사이의 접착성이 저하된다. 다른 한편으로, 표면 에너지가 43 mJ/m2보다 높으면, 경화된 전착 코팅 필름에 대한 중간 코팅 조성물의 습윤성이 저하된다. 또한, 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물간의 접촉각이 30°보다 큰 경우, 경화된 전착 코팅 필름에 대한 중간 코팅 조성물의 습윤성이 저하된다.If the surface energy is lower than 37 mJ / m 2 , the adhesion between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating film is lowered. On the other hand, if the surface energy is higher than 43 mJ / m 2 , the wettability of the intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film is lowered. In addition, when the contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition is greater than 30 °, the wettability of the intermediate coating composition relative to the cured electrodeposition coating film is lowered.

코팅 필름의 표면 에너지는 자유 길이(free length)에 수직인 방향으로 적용되는 힘이다. 표면 에너지는 접촉각 공정에서 리프쉬츠-반 데어 발스(Lifshitz-van der Waals) 힘을 기초로 하는 γLW 값, 산-염기 힘을 기초로 하는 산성 성분 γ 및 산-염기 힘을 기초로 하는 염기성 성분 γ를 알고있는 세 종류의 액체(예를 들면, 물, 메틸렌 요오다이드 및 에틸렌 글라이콜)와 코팅 필름 사이의 접촉각을 측정하고; 영-듀프레(Young-Dupre) 방정식으로부터 유도된 하기 수학식 1로부터 코팅 필름의 γLW, γ 및 γ 값을 수득하고; 상기 값들로부터 하기 수학식 2를 이용하여 계산함으로써 결정된다(문헌 [C.J. Van Oss, J. Protein Chem., Vol. 4, 245, 1985; 및 C.J. Van Oss, J. Colloid Interface Sci., Vol. 111, 378, 1986]을 참조하시오).The surface energy of the coating film is the force applied in the direction perpendicular to the free length. Surface energy is based on the Lifshitz-van der Waals force in the contact angle process, the LW value, the acidic component γ + based on the acid-base force, and the basicity based on the acid-base force. component γ - known three kinds of liquid (e.g., water, methylene iodide and ethylene glycol) and measuring the contact angle between the coating film; Γ LW , γ + and γ values of the coating films were obtained from Equation 1 below derived from the Young-Dupre equation; These values are determined by calculation using Equation 2 below (CJ Van Oss, J. Protein Chem ., Vol. 4 , 245, 1985; and CJ Van Oss, J. Colloid Interface Sci ., Vol. 111 , 378, 1986).

2[(γi LW·γj LW)1/2 + (γi ·γj )1/2 + (γi ·γj )1/2] = (1+cosθ)[γj LW + 2(γi ·γj )1/2] 2 [(γ i LW · γ j LW) 1/2 + (γ i + · γ j -) 1/2 + (γ i - · γ j +) 1/2] = (1 + cosθ) [γ j LW + 2 (γ i + · γ j -) 1/2]

표면 자유 에너지(γ) = γj LW + (γj ·γj )1/2 The surface free energy (γ) = γ j LW + (γ j + · γ j -) 1/2

상기에서,In the above,

γi LW는 액체의 리프쉬츠-반 데어 발스 힘을 기초로 한 항이고;γ i LW is a term based on the leafscheet-van der Waals forces of the liquid;

γi 는 액체의 산-염기 힘을 기초로 한 산성 성분이고;γ i + is an acidic component based on the acid-base force of the liquid;

γi 는 액체의 산-염기 힘을 기초로 한 염기성 성분이고;γ i - is a basic component based on the acid-base force of the liquid;

θ는 접촉각이다.θ is the contact angle.

그로부터 상기 범위 이내의 경화된 전착 코팅 필름의 표면 에너지 및 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물 사이의 접촉각을 얻을 수 있는 양이온성 전착 코팅 조성물 및 중간 코팅 조성물을 제조하는 방법으로는, 양이온성 전착 코팅 조성물에 함유된 양이온성 에폭시 수지, 차단된 아이소사이아네이트 경화제, 촉매 및 표면 컨디셔너의 유형 및 함량을 조정하는 방법이 포함된다. 특히, 표면 컨디셔너의 유형 및 함량은 표면 에너지, 및 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물간의 접촉각에 큰 영향을 미친다. 본 발명에서 사용된 표면 컨디셔너의 유형으로는 아크릴계 유형, 실리콘계 유형 및 비닐계 유형이 포함된다.As a method of producing a cationic electrodeposition coating composition and an intermediate coating composition from which the surface energy of the cured electrodeposition coating film within the above range and the contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition can be obtained, Methods for adjusting the type and content of cationic epoxy resins, blocked isocyanate curing agents, catalysts and surface conditioners contained in the composition. In particular, the type and content of the surface conditioner have a great influence on the surface energy and the contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition. Types of surface conditioners used in the present invention include acrylic type, silicone type and vinyl type.

본 발명의 다층 코팅 필름의 제조 방법에서, 경화된 전착 코팅 필름은 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa)를 가지고, 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물간의 접촉각은 10 내지 30°범위 이내인 것이 보다 바람직하다. 이것은 보다 탁월한 완성 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득될 수 있기 때문이다.In the method for producing the multilayer coating film of the present invention, the cured electrodeposition coating film has a centerline average roughness Ra of 0.05 to 0.25 탆 obtained from the roughness curve and a centerline average roughness of 0.05 to 0.30 탆 obtained from the profile curve. It is more preferred that the contact angle between the cured electrodeposition coating film and the intermediate coating composition is within the range of 10 to 30 degrees. This is because a multilayer coated film can be obtained with a better finished appearance.

본 발명에서, 양이온성 전착 코팅 조성물에 함유된 성분들 및 그의 함량은 전착 코팅에 의해 형성된 경화된 전착 코팅 필름이 동적 점탄성 측정에 의해 수득된, 특정 범위의 유리 전이 온도 Tg(본원에서 "동적 Tg"로도 또한 나타냄) 및 특정 범위의 가교결합 밀도를 갖도록 선택된다.In the present invention, the components contained in the cationic electrodeposition coating composition and their contents are determined in a specific range of glass transition temperature Tg (herein referred to as "dynamic Tg"), in which the cured electrodeposition coating film formed by electrodeposition coating is obtained by dynamic viscoelasticity measurement. And also to a particular range of crosslink densities.

본원에서 사용된 바와 같은 동적 Tg는 동적 점탄성 측정에 의한 일반적인 Tg 측정 방법과 동일한 방법으로 샘플을 이용하여 동적 유리 전이 온도 Tg를 측정함으로써 결정된다. 본 발명에 사용된 측정 방법의 예로는 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성시키고 수은을 사용하여 코팅 필름을 분리하고 상기 필름을 절단하여 제조된 샘플을 이용하여 동적 점탄성 측정을 수행하는 방법이 포함된다. 상기 방법에서는, 1 분당 2 ℃의 온도 상승 속도로 실온으로부터 200 ℃까지 샘플을 가열하고 11 Hz의 주파수에서 진동시켜 그 점탄성을 측정하였다. 저장 탄성(E')/손실 탄성(E")의 비(tanδ)를 계산하고 그의 변곡점(tanδ의 피크에서의 온도)을 측정하여 동적 Tg를 수득하였다. 동적 점탄성 측정 장치의 예로는, 예를 들면, 오리엔테크 캄파니, 리미티드(Orientec Co., Ltd.)에서 제조한 레오바이브론(Rheovibron) 모델 레오(RHEO) 2000, 3000(상표명)이 포함된다.Dynamic Tg as used herein is determined by measuring the dynamic glass transition temperature Tg using a sample in the same manner as the general Tg measurement method by dynamic viscoelasticity measurement. Examples of the measuring method used in the present invention include a method of forming a cured electrodeposited coating film on a substrate, separating the coating film using mercury and cutting the film to perform dynamic viscoelasticity measurements. . In this method, the sample was heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature rise of 2 ° C. per minute and vibrated at a frequency of 11 Hz to measure its viscoelasticity. The ratio (tanδ) of storage elasticity (E ') / lossy elasticity (E ") was calculated and its inflection point (temperature at the peak of tanδ) was obtained to obtain a dynamic Tg. As an example of a dynamic viscoelasticity measuring device, Examples include Rheovibron model RHEO 2000, 3000 (trade name) manufactured by Orientec Co., Ltd.

본 발명에서, 전착 코팅에 의해 형성된 경화된 전착 코팅 필름은 100 내지 130 ℃의 동적 Tg를 갖는 것이 바람직하다. 동적 Tg의 하한치는 바람직하게는 110 ℃이고 동적 Tg의 상한치는 바람직하게는 125 ℃이다. 경화된 전착 코팅 필름의 동적 Tg가 100 ℃보다 낮으면, 전착 코팅 필름은 중간 코팅 조성물에 함유된 용매로 팽윤되고, 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관이 저하된다. 다른 한편으로, 동적 Tg가 130 ℃보다 높으면, 생성된 다층 코팅 필름의 탄성 모듈러스가 낮고 코팅 필름의 내충격성이 저하된다.In the present invention, the cured electrodeposition coated film formed by electrodeposition coating preferably has a dynamic Tg of 100 to 130 ° C. The lower limit of the dynamic Tg is preferably 110 ° C and the upper limit of the dynamic Tg is preferably 125 ° C. When the dynamic Tg of the cured electrodeposition coating film is lower than 100 ° C., the electrodeposition coating film swells with a solvent contained in the intermediate coating composition, and the finished appearance of the resulting multilayer coating film is lowered. On the other hand, if the dynamic Tg is higher than 130 ° C., the elastic modulus of the resulting multilayer coating film is low and the impact resistance of the coating film is lowered.

가교결합 밀도는 동적 Tg의 측정 방법과 동일한 방법으로 전착 코팅에 의해 형성된 경화된 전착 코팅 필름의 동적 점탄성을 측정하고, 하기 방정식으로부터 고무 영역에서 수득된 저장 탄성(E')을 이용하여 계산하여 결정한다:The crosslink density is determined by measuring the dynamic viscoelasticity of the cured electrodeposited coating film formed by electrodeposition coating in the same manner as the method of measuring the dynamic Tg, and calculated by using the storage elasticity (E ') obtained in the rubber region from the equation do:

E' = 3nRTE '= 3 nRT

상기에서, E'는 저장 탄성이고; n은 가교결합 밀도이고; R은 기체 상수이고; T는 절대 온도이다.In the above, E 'is storage elastic; n is the crosslink density; R is a gas constant; T is the absolute temperature.

본 발명에서, 전착 코팅에 의해 형성된 경화된 전착 코팅 필름의 가교결합 밀도는 바람직하게는 1.2 내지 2.6 밀리몰/cc 범위 이내이다. 가교결합 밀도의 하한치는 보다 바람직하게는 1.4 밀리몰/cc이고 상한치는 보다 바람직하게는 2.3 밀리몰/cc이다. 경화된 전착 코팅 필름의 가교결합 밀도가 1.2 밀리몰/cc보다 낮은 경우, 전착 코팅 필름은 중간 코팅 조성물에 함유된 용매로 팽윤되고, 생성된 다층 코팅 필름의 완성 외관이 저하된다. 다른 한편으로, 가교결합 밀도가 2.6 밀리몰/cc보다 높으면, 물을 함유함으로써 쉽게 발포가 야기되고 내식성이 저하된다.In the present invention, the crosslink density of the cured electrodeposition coating film formed by the electrodeposition coating is preferably within the range of 1.2 to 2.6 mmol / cc. The lower limit of the crosslink density is more preferably 1.4 mmol / cc and the upper limit is more preferably 2.3 mmol / cc. When the crosslinking density of the cured electrodeposition coating film is lower than 1.2 mmol / cc, the electrodeposition coating film swells with a solvent contained in the intermediate coating composition, and the finished appearance of the resulting multilayer coating film is lowered. On the other hand, when the crosslink density is higher than 2.6 mmol / cc, containing water easily causes foaming and lowers corrosion resistance.

상기 범위 이내의 동적 Tg 및 가교결합 밀도를 갖는 경화된 전착 코팅 필름을 수득하기 위한 양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 방법으로는, 양이온성 전착 코팅 조성물 중의 양이온성 에폭시 수지, 차단된 아이소사이아네이트 경화제 및 촉매의 유형 및 함량을 조정하는 방법이 포함된다. 특히, 양이온성 에폭시 수지 및 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 유형 및 함량은 동적 Tg 및 가교결합 밀도에 큰 영향을 미친다. 양이온성 에폭시 수지의 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지 또는 비스페놀 F형 에폭시 수지의 에폭시 고리를, 그 중에 양이온기가 도입될 수 있는 활성화 수소 화합물로 개환시켜 수득된 수지가 포함된다. 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 예로는 적당한 차단제로 차단된 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트(삼량체 포함), 테트라메틸렌 다이아이소사이아네이트 및 트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트; 지환족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 4,4'-메틸렌 비스(사이클로헥실아이소사이아네이트); 방향족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트(TDI), 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트(MDI), 아이소포론 다이아이소사이아네이트(IPDI) 및 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트(HDI)가 포함된다. 또한, 동적 Tg 및 가교결합 밀도는 또한 차단된 아이소사이아네이트 경화제 대 양이온성 에폭시 수지의 비 또는 전착 코팅 필름의 소성 온도를 선택함으로써 조정될 수 있다.As a method of preparing a cationic electrodeposition coating composition for obtaining a cured electrodeposition coating film having a dynamic Tg and crosslink density within the above range, cationic epoxy resin in the cationic electrodeposition coating composition, blocked isocyanate curing agent And a method of adjusting the type and content of the catalyst. In particular, the type and content of cationic epoxy resins and blocked isocyanate curing agents have a great influence on the dynamic Tg and crosslink density. Examples of the cationic epoxy resin include a resin obtained by ring opening an epoxy ring of a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin with an activated hydrogen compound into which a cationic group can be introduced. Examples of blocked isocyanate curing agents include hexamethylene diisocyanate (including trimers), tetramethylene diisocyanate and trimethylhexamethylene diisocyanate blocked with suitable blocking agents; Alicyclic diisocyanates such as 4,4'-methylene bis (cyclohexylisocyanate); Aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), isophorone diisocyanate (IPDI) and hexamethylene diisocyanate Cyanate (HDI). In addition, the dynamic Tg and crosslink density can also be adjusted by selecting the ratio of blocked isocyanate curing agent to cationic epoxy resin or firing temperature of the electrodeposition coating film.

본 발명의 다층 코팅 필름의 제조 방법에 사용되는 코팅될 물질, 양이온성 전착 코팅 조성물, 중간 코팅 조성물, 기본 상부 코팅 조성물 및 투명 상부 코팅 조성물, 및 그의 적용 방법을 하기에서 설명한다.The materials to be coated, the cationic electrodeposition coating composition, the intermediate coating composition, the basic top coating composition and the transparent top coating composition, and methods of applying the same, which are used in the production method of the multilayer coating film of the present invention, are described below.

코팅될 기판Substrate to be coated

본 발명의 다층 코팅 필름의 제조 방법에 사용되는 코팅될 기판은 전착 코팅될 수 있는 임의의 기판일 수 있다. 상기 기판의 예로는 철, 강, 알루미늄, 주석, 아연 등과 같은 금속 및 그의 합금, 및 그의 도금 제품 또는 그의 전착 제품이 포함된다. 그의 구체적인 예로는 금속 성분들을 이용하여 제조된 승용차, 화물차, 오토바이, 버스 등이 포함된다. 또한, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 수지, 폴리아마이드 수지, 아크릴계 수지, 비닐리덴 클로라이드, 폴리카보네이트 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지 및 다양한 FRP와 같은 수지를 전도성 처리하여 수득된 플라스틱 물질을 기판으로 사용할 수 있다.The substrate to be coated used in the method for producing the multilayer coating film of the present invention may be any substrate that can be electrodeposition coated. Examples of such substrates include metals such as iron, steel, aluminum, tin, zinc, and the like, and alloys thereof, and plated products thereof or electrodeposition products thereof. Specific examples thereof include passenger cars, vans, motorcycles, buses, and the like, manufactured using metal components. Also obtained by conducting conductive treatment of resins such as polyethylene resin, polypropylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyamide resin, acrylic resin, vinylidene chloride, polycarbonate resin, polyurethane resin, epoxy resin and various FRP Plastic materials can be used as the substrate.

본 발명의 다층 코팅 필름의 제조 방법에서, 기판은 용인된 조건대로, 또는 전착 코팅에 앞서 탈지 처리 또는 화학 전환 처리와 같은 예비처리 후에 사용할 수 있다.In the method for producing the multilayer coating film of the present invention, the substrate can be used as tolerated conditions or after pretreatment such as degreasing treatment or chemical conversion treatment prior to electrodeposition coating.

양이온성 전착 코팅 조성물Cationic Electrodeposition Coating Composition

본 발명에 사용된 양이온성 전착 코팅 조성물은 수성 용매를 함유하는 결합제 수지, 양이온성 에폭시 수지 및 수성 용매에 분산되거나 용해된 차단된 아이소사이아네이트 경화제; 중화용 산; 및 유기 용매를 포함한다. 양이온성 전착 코팅 조성물은 또한 안료를 함유할 수 있다.Cationic electrodeposition coating compositions used in the present invention include a binder resin containing an aqueous solvent, a cationic epoxy resin and a blocked isocyanate curing agent dispersed or dissolved in an aqueous solvent; Neutralizing acid; And organic solvents. The cationic electrodeposition coating composition may also contain pigments.

양이온성 에폭시 수지Cationic epoxy resin

본 발명에 사용된 양이온성 에폭시 수지로는 아민-개질된 에폭시 수지가 포함된다. 양이온성 에폭시 수지는 일본 특허 공개공보 제 4978/1979, 34186/1981 호 등에 기술된 공지된 수지일 수 있다.Cationic epoxy resins used in the present invention include amine-modified epoxy resins. The cationic epoxy resin may be a known resin described in Japanese Patent Laid-Open No. 4978/1979, 34186/1981 and the like.

양이온성 에폭시 수지는 전형적으로 비스페놀 유형 에폭시 수지의 모든 에폭시 고리를, 그 중에 양이온기가 도입될 수 있는 활성화 수소 화합물로 개환시키거나; 또는 에폭시 고리의 일부를 다른 활성화 수소 화합물로 개환시키고 나머지 에폭시 고리를 그 중에 양이온기가 도입될 수 있는 활성화 수소 화합물로 개환시킴으로써 제조된다.Cationic epoxy resins typically ring-open all epoxy rings of bisphenol type epoxy resins with activated hydrogen compounds into which cationic groups can be introduced; Or by opening a portion of an epoxy ring with another activated hydrogen compound and ringing the remaining epoxy ring with an activated hydrogen compound into which a cationic group can be introduced.

비스페놀 유형 에폭시 수지의 구체적인 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지가 포함된다. 유카 쉘 에폭시 캄파니, 리미티드(Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)에서 상업적으로 시판하는 비스페놀 A형 에폭시 수지의 예로는 에피코트(Epikote) 828(에폭시 당량가: 180 내지 190), 에피코트 1001(에폭시 당량가: 450 내지 500), 에피코트 1010(에폭시 당량가: 3000 내지 4000) 등이 포함된다. 유카 쉘 에폭시 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판하는 비스페놀 F형 에폭시 수지의 예로는 에피코트 807(에폭시 당량가: 170) 등이 포함된다.Specific examples of bisphenol type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins. Examples of bisphenol A epoxy resins commercially available from Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. include Epikote 828 (epoxy equivalent value: 180 to 190), epicoat 1001 (epoxy). Equivalent weight: 450 to 500), epicoat 1010 (epoxy equivalent value: 3000 to 4000), and the like. Examples of bisphenol F type epoxy resins commercially available from Yucca Shell Epoxy Co., Limited include Epicoat 807 (epoxy equivalent: 170) and the like.

하기 화학식 1을 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 탁월한 내열성 및 내식성을 갖는 코팅 필름이 수득되는 이유로 양이온성 에폭시 수지에 사용할 수 있다:An oxazolidone ring-containing epoxy resin having the following formula (1) may be used in the cationic epoxy resin for the reason that a coating film having excellent heat resistance and corrosion resistance is obtained:

상기식에서, R은 다이글리시딜 에폭시 화합물로부터 글리시딜기를 제거함으로써 수득된 잔기를 나타내고, R'는 다이아이소사이아네이트 화합물로부터 아이소사이아네이트기를 제거함으로써 수득된 잔기를 나타내며, n은 양의 정수를 나타낸다.Wherein R represents a residue obtained by removing a glycidyl group from a diglycidyl epoxy compound, R 'represents a residue obtained by removing an isocyanate group from a diisocyanate compound, and n is a quantity Represents an integer.

이것은 탁월한 내용매성(용매 팽윤 내성)을 갖는 코팅 필름이 수득될 수 있기 때문이다.This is because a coating film having excellent solvent resistance (solvent swelling resistance) can be obtained.

에폭시 수지에 옥사졸리돈 고리를 도입하는 방법에는 염기성 촉매하에서 메탄올과 같은 저급 알콜 및 폴리에폭사이드로 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 가열하고 온도를 일정하게 유지하고, 저급 알콜을 시스템으로부터 부산물로 증류시키는 단계를 포함하는 방법이 포함된다.The method of introducing the oxazolidone ring into the epoxy resin involves heating a lower alcohol such as methanol and a polyepoxide blocked isocyanate curing agent under a basic catalyst, keeping the temperature constant, and lower alcohol from the system as a byproduct. Included are methods comprising distillation.

특히 바람직한 에폭시 수지는 옥사졸리돈 고리 함유 수지이다. 이것은 내용매성(용매 팽윤 내성), 내열성, 내식성 및 내충격성이 우수한 코팅 필름이 수득될 수 있기 때문이다.Particularly preferred epoxy resins are oxazolidone ring containing resins. This is because a coating film excellent in solvent resistance (solvent swelling resistance), heat resistance, corrosion resistance and impact resistance can be obtained.

이작용성 에폭시 수지와 모노알콜로 차단된 다이아이소사이아네이트(즉, 비스우레탄)와의 반응에 의해 옥사졸리돈 고리를 함유하는 에폭시 수지를 수득하는 것은 공지되어 있다. 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 구체적인 예 및 그 제조 방법은 일본 특허 공개공보 제 128959/2000 호의 [0012] 내지 [0047] 단락에 개시되어 있으며, 이들은 공지되어 있다.It is known to obtain an epoxy resin containing an oxazolidone ring by reaction of a difunctional epoxy resin with a monoalcohol blocked diisocyanate (ie bisurethane). Specific examples of oxazolidone ring-containing epoxy resins and methods for producing the same are disclosed in paragraphs [0012] to [0047] of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 128959/2000, which are known.

에폭시 수지는 적당한 수지, 예를 들면, 폴리에스터폴리올, 폴리에터폴리올 및 일작용성 알킬페놀로 개질될 수 있다. 또한, 에폭시 수지는 에폭시기와 다이올 또는 다이카복실산과의 반응에 의해 쇄-연장될 수 있다.Epoxy resins may be modified with suitable resins such as polyesterpolyols, polyetherpolyols, and monofunctional alkylphenols. Epoxy resins can also be chain-extended by reaction of epoxy groups with diols or dicarboxylic acids.

에폭시 수지는 고리 개환후 0.3 내지 4.0 meq/g의 아민 당량가를 갖도록, 특히 그의 5 내지 50%가 1급 아민기이도록 활성화 수소 화합물로 고리-개환되는 것이 바람직하다.The epoxy resin is preferably ring-opened with an activated hydrogen compound so as to have an amine equivalent value of 0.3 to 4.0 meq / g after ring opening, in particular so that 5 to 50% thereof is a primary amine group.

그중에 양이온기가 도입될 수 있는 활성화 수소 화합물의 예로는 1급 아민, 2급 아민, 및 3급 아민의 산염, 설파이드 및 산 혼합물이 포함된다. 1급 아민, 2급 아민 및/또는 3급 아민 함유 에폭시 수지를 제조하기 위해, 1급 아민, 2급 아민, 및 3급 아민의 산염을 그중에 양이온기가 도입될 수 있는 활성화 수소 화합물로 사용한다.Examples of activated hydrogen compounds to which cationic groups can be introduced include acid, sulfide and acid mixtures of primary amines, secondary amines, and tertiary amines. To prepare primary amine, secondary amine and / or tertiary amine containing epoxy resins, acid salts of primary amine, secondary amine, and tertiary amine are used as activating hydrogen compounds into which a cationic group can be introduced.

그의 구체적인 예로는 뷰틸아민, 옥틸아민, 다이에틸아민, 다이뷰틸아민, 메틸뷰틸아민, 트라이에틸아민의 산염, N,N-다이메틸에탄올아민의 산염, 다이에틸다이설파이드-아세트산 혼합물, 및 1급 아민을 차단하여 수득된 2급 아민, 예를 들면, 아미노에틸에탄올아민의 케트이민, 다이에틸렌트라이아민의 케트이민이 포함된다. 아민은 혼합물로 사용될 수 있다.Specific examples thereof include butylamine, octylamine, diethylamine, dibutylamine, methylbutylamine, acid salts of triethylamine, acid salts of N, N-dimethylethanolamine, diethyl disulfide-acetic acid mixture, and primary Secondary amines obtained by blocking amines, such as ketimines of aminoethylethanolamine, ketimines of diethylenetriamine. Amines can be used in mixtures.

차단된 아이소사이아네이트 경화제Blocked isocyanate curing agent

본 발명의 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 제조에 사용되는 폴리아이소사이아네이트는 분자에 2개 이상의 아이소사이아네이트기를 갖는 화합물이다. 폴리아이소사이아네이트는 지방족, 지환족, 방향족 또는 방향족-지환족일 수 있다.Polyisocyanates used in the preparation of the blocked isocyanate curing agents of the present invention are compounds having two or more isocyanate groups in the molecule. The polyisocyanates can be aliphatic, cycloaliphatic, aromatic or aromatic-alicyclic.

폴리아이소사이아네이트의 예로는 방향족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트(TDI), 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트(MDI), p-페닐렌 다이아이소사이아네이트 및 나프탈렌 다이아이소사이아네이트; 3 내지 12개의 탄소원자를 갖는 지방족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트(HDI), 2,2,4-트라이메틸헥세인 다이아이소사이아네이트 및 라이신 다이아이소사이아네이트; 5 내지 18개의 탄소원자를 갖는 지환족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 1,4-사이클로헥세인 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트(IPDI), 4,4'-다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트(수소화 MDI), 메틸사이클로헥세인 다이아이소사이아네이트, 아이소프로필리덴다이사이클로헥실-4,4'-다이아이소사이아네이트 및 1,3-다이아이소사이아네이토메틸사이클로헥세인(수소화 XDI), 수소화 TDI, 2,5- 또는 2,6-비스(아이소사이아네이트 메틸)-바이사이클로[2.2.1]헵테인(=노보네인 다이아이소사이아네이트); 방향족 고리를 갖는 지방족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트(XDI) 및 테트라메틸자일릴렌 다이아이소사이아네이트(TMXDI); 그의 개질된 화합물(우레탄 화합물, 카보다이이미드, 우레토다이온, 우레톤이민, 뷰렛 및/또는 아이소사이아누레이트 개질된 화합물); 등이 포함된다. 폴리아이소사이아네이트는 단독으로 또는 둘 이상의 혼합물로 사용할 수 있다.Examples of polyisocyanates include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), p-phenylene diisocyanate Anate and naphthalene diisocyanate; Aliphatic diisocyanates having 3 to 12 carbon atoms such as hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate and lysine diisocyanate Nate; Alicyclic diisocyanates having from 5 to 18 carbon atoms, for example 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), 4,4'-dicyclo Hexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), methylcyclohexane diisocyanate, isopropylidenedicyclohexyl-4,4'-diisocyanate and 1,3-diisocyanato Methylcyclohexane (hydrogenated XDI), hydrogenated TDI, 2,5- or 2,6-bis (isocyanate methyl) -bicyclo [2.2.1] heptane (= norbornene diisocyanate) ; Aliphatic diisocyanates having aromatic rings such as xylylene diisocyanate (XDI) and tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI); Modified compounds thereof (urethane compounds, carbodiimide, uretodione, uretonimine, biuret and / or isocyanurate modified compounds); Etc. are included. Polyisocyanates may be used alone or in mixture of two or more.

폴리아이소사이아네이트를 2 이상의 NCO/OH 비로 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 트라이메틸올프로페인 및 헥세인트리올과 같은 폴리알콜과 반응시켜 수득된 부가물 또는 예비중합체를 차단된 아이소사이아네이트 경화제로 사용할 수 있다.Blocking isocyanates from adducts or prepolymers obtained by reacting polyisocyanates with polyalcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane and hexanetriol at a NCO / OH ratio of at least 2 It can be used as an anate curing agent.

차단제는 폴리아이소사이아네이트기에 부가되고 실온에서 안정하지만, 유리 아이소사이아네이트기는 해리 온도 이상의 온도에서 가열하면 재생될 수 있다.The blocking agent is added to the polyisocyanate group and stable at room temperature, but free isocyanate groups can be regenerated by heating at temperatures above the dissociation temperature.

안료Pigment

본 발명의 방법에 사용되는 양이온성 전착 코팅 조성물은 코팅에 통상적으로 사용되어 온 안료를 함유할 수 있다. 안료의 예로는 무기 안료, 예를 들면, 이산화 티타늄, 카본 블랙 및 콜코타르와 같은 착색 안료; 증량제 안료, 예를 들면, 카올린, 활석, 알루미늄 실리케이트, 탄산 칼슘, 운모 및 점토; 방청 안료, 예를 들면, 인산 아연, 인산 철, 인산 알루미늄, 인산 칼슘, 아인산 아연, 사이안화 아연, 산화 아연, 알루미늄 트라이폴리포스포레이트, 아연 몰리브데이트, 알루미늄 몰리브데이트, 칼슘 몰리브데이트, 알루미늄 포스포몰리브데이트 및 알루미늄 아연 포스포몰리브데이트가 포함된다.The cationic electrodeposition coating composition used in the process of the invention may contain pigments that have conventionally been used for coating. Examples of pigments include inorganic pigments such as colored pigments such as titanium dioxide, carbon black and coalcotar; Extender pigments such as kaolin, talc, aluminum silicate, calcium carbonate, mica and clay; Antirust pigments such as zinc phosphate, iron phosphate, aluminum phosphate, calcium phosphate, zinc phosphite, zinc cyanide, zinc oxide, aluminum tripolyphosphorate, zinc molybdate, aluminum molybdate, calcium molybdate , Aluminum phosphomolybdate and aluminum zinc phosphomolybdate.

전착 코팅의 한 성분으로 안료를 사용하는 경우, 상기 안료는 일반적으로 페이스트(안료 분산된 페이스트)의 형태로 고농도로 수성 용매에 예비분산된다. 이것은 분말상인 안료를 한 단계에서 저농도로 균일하게 분산시키는 것이 어렵기 때문이다. 페이스트는 일반적으로 안료 분산 페이스트로 불린다.In the case of using the pigment as a component of the electrodeposition coating, the pigment is generally predispersed in a high concentration in an aqueous solvent in the form of a paste (pigment dispersed paste). This is because it is difficult to uniformly disperse powdery pigments at low concentration in one step. Pastes are commonly referred to as pigment dispersion pastes.

안료 분산 페이스트는 수성 매질에 안료 분산 수지 니스와 함께 안료를 분산시킴으로써 제조한다. 안료 분산 수지로서, 양이온성 또는 비-이온성 저분자량 계면활성제, 또는 양이온성 중합체, 예를 들면, 4급 암모늄기 및/또는 3급 설포늄기를 갖는 개질된 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 수성 매질로서는, 탈이온수, 또는 소량의 알콜을 함유하는 물을 사용할 수 있다. 안료 분산 수지는 일반적으로 100 질량부의 코팅을 기준으로 20 내지 100 질량부의 고형물 함량으로 사용된다. 안료 분산 페이스트는 안료 분산 수지 니스를 안료와 혼합하고, 볼 밀 또는 모래 분쇄 밀과 같은 적당한 분산 장치를 이용하여 안료를 분산시킴으로써 수득할 수 있다.Pigment dispersion pastes are prepared by dispersing the pigment together with the pigment dispersion resin varnish in an aqueous medium. As the pigment dispersion resin, it is possible to use cationic or non-ionic low molecular weight surfactants or modified epoxy resins having cationic polymers such as quaternary ammonium groups and / or tertiary sulfonium groups. As the aqueous medium, deionized water or water containing a small amount of alcohol can be used. Pigment dispersion resins are generally used in solids content of 20 to 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of coating. The pigment dispersion paste can be obtained by mixing the pigment dispersion resin varnish with the pigment and dispersing the pigment using a suitable dispersing apparatus such as a ball mill or a sand grinding mill.

양이온성 전착 코팅 조성물은 선택적으로, 차단제를 분리하기 위해, 상기 성분들 이외에, 분리 촉매, 유기 주석 화합물, 예를 들면, 다이뷰틸주석 다이라우레이트, 다이뷰틸주석 산화물, 다이옥틸주석 산화물; 아민, 예를 들면, N-메틸 모폴린; 납 아세테이트; 스트론튬, 코발트 및 구리의 금속염을 함유할 수 있다. 분리 촉매의 양은 양이온성 전착 코팅 조성물 중의 양이온성 에폭시 수지 및 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 총 고형물 함량 100 질량부를 기준으로 0.1 내지 6 질량부이다.The cationic electrodeposition coating composition may optionally contain, in addition to the above components, a separation catalyst, an organotin compound, such as dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxide, dioctyltin oxide, to separate the blocker; Amines such as N-methyl morpholine; Lead acetate; Metal salts of strontium, cobalt and copper. The amount of separation catalyst is 0.1 to 6 parts by mass based on 100 parts by mass of the total solids content of the cationic epoxy resin and the blocked isocyanate curing agent in the cationic electrodeposition coating composition.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 적용Preparation and Application of Cationic Electrodeposition Coating Compositions

본 발명의 양이온성 전착 코팅 조성물은 상기 촉매, 양이온성 에폭시 수지, 차단된 아이소사이아네이트 경화제 및 안료 분산 페이스트를 수성 용매에 분산시켜 제조한다. 또한, 수성 매질은 양이온성 에폭시 수지를 중화시켜 결합제 수지 유화액의 분산성을 개선하기 위해 중화 산을 함유할 수 있다. 중화 산의 예로는 무기산 또는 유기산, 예를 들면, 염산, 질산, 인산, 폼산, 아세트산, 락트산이 포함된다.The cationic electrodeposition coating composition of the present invention is prepared by dispersing the catalyst, cationic epoxy resin, blocked isocyanate curing agent and pigment dispersion paste in an aqueous solvent. The aqueous medium may also contain a neutralizing acid to neutralize the cationic epoxy resin to improve the dispersibility of the binder resin emulsion. Examples of neutralizing acids include inorganic or organic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, lactic acid.

중화 산의 양은 바람직하게는 양이온성 에폭시 수지 및 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 함유하는 결합제 수지 100 g을 기준으로 10 내지 25 ㎎ 당량이다. 중화 산의 양의 하한치는 보다 바람직하게는 15 ㎎ 당량이고, 상한치는 보다 바람직하게는 20 ㎎ 당량이다. 중화 산의 양이 10 ㎎ 당량보다 작으면, 물과의 혼화성이 충분히 수득되지 못하고 물에 분산되기 어렵거나 또는 안정성이 상당히 저하된다. 다른 한편으로, 중화 산의 양이 25 ㎎ 당량보다 많으면, 전착에 필요한 전력이 증가되고 코팅의 고형물 성분의 침착이 저하되어 균일전착성이 저하된다.The amount of neutralizing acid is preferably 10 to 25 mg equivalents based on 100 g of binder resin containing cationic epoxy resin and blocked isocyanate curing agent. The lower limit of the amount of neutralizing acid is more preferably 15 mg equivalent, and the upper limit is more preferably 20 mg equivalent. If the amount of neutralizing acid is less than 10 mg equivalent, sufficient miscibility with water is not obtained and it is difficult to disperse in water or the stability is considerably lowered. On the other hand, if the amount of neutralizing acid is more than 25 mg equivalent, the power required for electrodeposition is increased and deposition of the solid component of the coating is lowered, resulting in lower uniform electrodeposition.

양이온성 전착 코팅 조성물은 양이온성 에폭시 수지 및 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 수성 용매에 분산시켜 제조할 수 있다. 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 양은, 우수한 경화 코팅 필름을 제공하도록 경화시에 1급 아미노기, 2급 아미노기 및 하이드록실기와 같은 작용기를 함유하는 활성화 수소와 반응하기에 충분한 것이 바람직하다. 양이온성 에폭시 수지 대 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 고형물 함량비(양이온성 에폭시 수지/경화제)로 나타내는 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 양은 바람직하게는 90/10 내지 50/50, 보다 바람직하게는 80/20 내지 60/40, 가장 바람직하게는 80/20 내지 65/35의 범위 이내이다. 필름 형성시 코팅된 필름(전착된 필름)의 유동성 및 경화 속도는 상기 비를 조정함으로써 개선되며, 코팅 필름의 평활성도 개선된다. 전착 코팅 필름의 평활성은 보다 작은 조도를 갖는 표면 처리된 강판을 사용함으로써 더 개선된다. 또한, 차단된 아이소사이아네이트 경화제의 양을 상기 범위로 조정하거나 또는 소성 온도를 선택함으로써 경화된 전착 코팅 필름에 목적하는 동적 Tg 및 가교결합 밀도를 제공하는 것이 용이하다.Cationic electrodeposition coating compositions can be prepared by dispersing a cationic epoxy resin and blocked isocyanate curing agent in an aqueous solvent. The amount of blocked isocyanate curing agent is preferably sufficient to react with activated hydrogen containing functional groups such as primary amino groups, secondary amino groups and hydroxyl groups upon curing to provide a good cured coating film. The amount of blocked isocyanate curing agent represented by the solids content ratio (cationic epoxy resin / curing agent) of cationic epoxy resin to blocked isocyanate curing agent is preferably 90/10 to 50/50, more preferably 80/20 to 60/40, most preferably within the range of 80/20 to 65/35. The flowability and curing rate of the coated film (electrodeposited film) in forming the film is improved by adjusting the ratio, and the smoothness of the coated film is also improved. The smoothness of the electrodeposited coating film is further improved by using surface treated steel sheets with smaller roughness. It is also easy to provide the desired dynamic Tg and crosslink density to the cured electrodeposition coating film by adjusting the amount of blocked isocyanate curing agent to the above range or by selecting the firing temperature.

수지 성분들, 예를 들어, 양이온성 에폭시 수지, 차단된 아이소사이아네이트 경화제, 안료 분산 수지를 합성하는 경우, 용매로서 유기 용매를 사용한다. 용매를 완전히 제거하기 위해서는 복잡한 절차가 필요하다. 필름 형성시 코팅 필름의 유동성은 결합제 수지에 유기 용매를 함유시킴으로써 개선되며, 코팅 필름의 평활성도 개선된다.When synthesizing resin components such as cationic epoxy resins, blocked isocyanate curing agents, pigment dispersion resins, organic solvents are used as solvents. Complex procedures are necessary to completely remove the solvent. The flowability of the coating film upon film formation is improved by the inclusion of an organic solvent in the binder resin, and the smoothness of the coating film is also improved.

양이온성 전착 코팅 조성물에 사용되는 유기 용매의 예로는 에틸렌 글라이콜 모노뷰틸 에터, 에틸렌 글라이콜 모노헥실 에터, 에틸렌 글라이콜 모노에틸헥실 에터, 프로필렌 글라이콜 모노뷰틸 에터, 다이프로필렌 글라이콜 모노뷰틸 에터, 프로필렌 글라이콜 모노페닐 에터 등이 포함된다.Examples of organic solvents used in the cationic electrodeposition coating composition include ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monoethylhexyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol Chol monobutyl ether, propylene glycol monophenyl ether, and the like.

양이온성 전착 코팅 조성물은 상기 성분들 이외에, 코팅을 위한 첨가제, 예를 들면, 가소제, 계면활성제, 산화방지제 및 자외선 흡수제를 함유할 수 있다. 양이온성 전착 코팅 조성물은 아미노기 함유 아크릴계 수지, 아미노기 함유 폴리에스터 수지 등을 함유할 수 있다.In addition to the above components, the cationic electrodeposition coating composition may contain additives for coating, such as plasticizers, surfactants, antioxidants and ultraviolet absorbers. The cationic electrodeposition coating composition may contain an amino group-containing acrylic resin, an amino group-containing polyester resin, and the like.

전착 코팅은 캐쏘드 및 애노드로 작용하는 기판 사이에 통상적으로 50 내지 450 V의 전압을 적용함으로써 수행된다. 적용된 전압이 50 V보다 낮으면, 전착이 불충분해진다. 다른 한편으로, 적용된 전압이 450 V보다 높으면, 코팅된 필름이 파괴되고 그 외관이 이상해진다. 전착조 온도는 통상적으로 10 내지 45 ℃로 조절된다.Electrodeposition coating is carried out by applying a voltage of typically 50 to 450 V between the substrate serving as the cathode and the anode. If the applied voltage is lower than 50 V, electrodeposition becomes insufficient. On the other hand, if the applied voltage is higher than 450 V, the coated film is broken and its appearance becomes strange. Electrodeposition bath temperature is normally adjusted to 10-45 degreeC.

전착 공정은 코팅될 기판을 전착 코팅 조성물에 침지시키고 캐쏘드 및 애노드로서의 기판 사이에 전압을 적용하여 코팅된 필름의 침착을 야기하는 단계를 포함한다. 또한, 전압을 적용하는 시간은 전착 조건에 따라 달라지지만 일반적으로 2 내지 4 분일 수 있다.The electrodeposition process includes immersing the substrate to be coated in the electrodeposition coating composition and applying a voltage between the substrate as a cathode and an anode to cause deposition of the coated film. In addition, the time for applying the voltage depends on the electrodeposition conditions, but may generally be 2 to 4 minutes.

전착 코팅 필름의 두께는 바람직하게는 5 내지 25 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ㎛이다. 두께가 5 ㎛보다 작으면, 방청성이 충분히 수득되지 않는다. 다른 한편으로, 두께가 25 ㎛보다 크면, 코팅 조성물이 낭비된다.The thickness of the electrodeposition coated film is preferably 5 to 25 µm, more preferably 20 µm. If the thickness is smaller than 5 mu m, rust resistance is not sufficiently obtained. On the other hand, if the thickness is larger than 25 μm, the coating composition is wasted.

전술한 바와 같은 방식으로 수득된 전착 코팅 필름은 120 내지 260 ℃, 바람직하게는 140 내지 220 ℃의 온도에서 10 내지 30 분동안 소성하여 바로 경화시키거나 또는 전착 공정 완료후 물로 세척한 다음에 경화시킴으로써 경화된 전착 코팅 필름이 형성된다.The electrodeposited coating film obtained in the manner as described above is cured immediately by firing at a temperature of 120 to 260 ° C., preferably 140 to 220 ° C. for 10 to 30 minutes, or by washing with water and then curing after completion of the electrodeposition process. A cured electrodeposition coating film is formed.

중간 코팅 조성물Intermediate coating composition

본 발명에 사용된 중간 코팅 조성물은 중간 코팅 수지 성분, 안료, 수성 매질 및/또는 유기 용매를 함유한다. 중간 코팅 수지 성분은 중간 코팅 수지 및 선택적으로 중간 코팅 경화제를 포함한다. 수성 매질과 유기 용매는 양이온성 전착 코팅 조성물에 사용된 것과 동일할 수 있다.The intermediate coating composition used in the present invention contains an intermediate coating resin component, a pigment, an aqueous medium and / or an organic solvent. The intermediate coating resin component comprises an intermediate coating resin and optionally an intermediate coating curing agent. The aqueous medium and the organic solvent can be the same as used in the cationic electrodeposition coating composition.

중간 코팅 수지의 예로는 아크릴계 수지, 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 알키드 수지, 플루오르 수지, 에폭시 수지, 폴리에터 수지 등이 포함된다. 아크릴계 수지, 폴리에스터 수지 및 폴리우레탄 수지가 바람직하다. 중간 코팅 수지는 단독으로 또는 둘 이상과의 혼합물로 사용될 수 있다.Examples of the intermediate coating resin include acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, alkyd resins, fluorine resins, epoxy resins, polyether resins, and the like. Acrylic resins, polyester resins and polyurethane resins are preferred. The intermediate coating resins can be used alone or in mixture with two or more.

아크릴계 수지의 예로는 아크릴계 단량체와 다른 에틸렌형 불포화 단량체의 공중합체가 포함된다. 공중합체에 사용될 수 있는 아크릴계 단량체의 예로는 아크릴산 또는 메타크릴산의 메틸 에스터, 에틸 에스터, 프로필 에스터, n-뷰틸 에스터 i-뷰틸 에스터, t-뷰틸 에스터, 2-에틸헥실 에스터, 라우릴 에스터, 페닐 에스터, 벤질 에스터 및 2-하이드록시프로필 에스터; 2-하이드록시에틸 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트의 카프로락톤의 고리 개환 부가 생성물; 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 아크릴아마이드, 메타크릴아마이드 및 N-메틸올 아크릴아마이드, 폴리알콜의 (메트)아크릴 에스터 등이 포함된다. 상기 단량체와 공중합될 수 있는 다른 에틸렌형 불포화 단량체의 예로는 스타이렌, α-메틸스타이렌, 이타콘산, 말레산, 비닐 아세테이트 등이 포함된다.Examples of acrylic resins include copolymers of acrylic monomers and other ethylenically unsaturated monomers. Examples of acrylic monomers that can be used in the copolymer include methyl esters of acrylic acid or methacrylic acid, ethyl esters, propyl esters, n-butyl esters i-butyl esters, t-butyl esters, 2-ethylhexyl esters, lauryl esters, Phenyl esters, benzyl esters and 2-hydroxypropyl esters; Ring-opening addition products of caprolactone of 2-hydroxyethyl acrylate or methacrylate; Glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, acrylamide, methacrylamide and N-methylol acrylamide, (meth) acrylic esters of polyalcohols and the like. Examples of other ethylenically unsaturated monomers that can be copolymerized with the monomers include styrene, α-methylstyrene, itaconic acid, maleic acid, vinyl acetate, and the like.

폴리에스터 수지의 예로는 포화 폴리에스터 수지 또는 불포화 폴리에스터 수지, 예를 들면, 다가 산 및 폴리알콜을 열을 적용하여 축합시켜 수득된 축합물이 포함된다. 다가 산의 예로는 포화 다가 산 및 불포화 다가 산이 포함된다. 포화 다가 산의 예로는 석신산, 아디프산, 아젤라산, 세바크산, 헥사하이드로프탈산 및 1,4-사이클로헥세인 다이카복실산이 포함된다. 불포화 다가 산의 예로는 말레산, 말레산 무수물, 퓨마르산, 프탈산 무수물, 테레프탈산 및 아이소프탈산이 포함된다. 폴리알콜의 예로는 2가 알콜 및 3가 알콜이 포함된다. 2가 알콜의 예로는 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 네오펜틸 글라이콜, 1,5-펜테인다이올 및 1,6-헥세인다이올이 포함된다. 3가 알콜의 예로는 글리세린 및 트라이메틸올프로페인이 포함된다.Examples of polyester resins include condensates obtained by condensation of saturated polyester resins or unsaturated polyester resins such as polyhydric acids and polyalcohols by heat. Examples of polyvalent acids include saturated polyvalent acids and unsaturated polyvalent acids. Examples of saturated polyvalent acids include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, hexahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid. Examples of unsaturated polyhydric acids include maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, phthalic anhydride, terephthalic acid and isophthalic acid. Examples of polyalcohols include dihydric alcohols and trihydric alcohols. Examples of dihydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol. Examples of trihydric alcohols include glycerin and trimethylolpropane.

폴리우레탄 수지의 예로는 아크릴, 폴리에스터, 폴리에터, 폴리카보네이트 등의 폴리올 성분 및 폴리아이소사이아네이트 화합물로부터 수득된 우레탄 결합을 갖는 수지들이 포함된다. 폴리아이소사이아네이트 화합물의 예로는 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트(2,4-TDI), 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트(2,6-TDI) 및 그의 혼합물(TDI), 다이페닐메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트(4,4'-MDI), 다이페닐메테인-2,4'-다이아이소사이아네이트(2,4'-MDI) 및 그의 혼합물(MDI), 나프탈렌-1,5-다이아이소사이아네이트(NDI), 3,3'-다이메틸-4,4'-바이페닐렌 다이아이소사이아네이트(TODI), 자일릴렌 다이아이소사이아네이트(XDI), 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트(수소화 MDI), 아이소포론 다이아이소사이아네이트(IPDI), 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트(HDI), 수소화 자일릴렌 다이아이소사이아네이트(HXDI) 등이 포함된다.Examples of polyurethane resins include polyol components such as acrylics, polyesters, polyethers, polycarbonates, and resins having urethane bonds obtained from polyisocyanate compounds. Examples of polyisocyanate compounds include 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI), 2,6-tolylene diisocyanate (2,6-TDI) and mixtures thereof ( TDI), diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (4,4'-MDI), diphenylmethane-2,4'-diisocyanate (2,4'-MDI) And mixtures thereof (MDI), naphthalene-1,5-diisocyanate (NDI), 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenylene diisocyanate (TODI), xylylene dia Isocyanate (XDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), isophorone diisocyanate (IPDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), hydrogenated xylene diiso Cyanate (HXDI) and the like.

알키드 수지의 예로는 다가 산 및 폴리알콜을 개질제와 반응시켜 수득된 알키드 수지, 예를 들면, 지방 및 오일 또는 그의 지방산(예를 들면, 대두유, 아마인유, 코코넛유, 스테아르산 등), 천연 수지(예를 들면, 로진, 호박 등)가 포함된다.Examples of alkyd resins include alkyd resins obtained by reacting polyhydric acids and polyalcohols with modifiers such as fats and oils or fatty acids thereof (eg soybean oil, linseed oil, coconut oil, stearic acid, etc.), natural resins. (Eg rosin, amber, etc.).

플루오르 수지의 예로는 비닐리덴 플루오라이드 수지, 테트라플루오로에틸렌 수지 또는 그의 혼합물, 플루오로올레핀 및 하이드록실기 함유 화합물 및 기타 공중합성 비닐계 화합물을 포함하는 단량체를 공중합시켜 수득된 플루오르-기재 공중합체가 포함된다.Examples of fluorine resins include fluorine-based copolymers obtained by copolymerizing monomers comprising vinylidene fluoride resins, tetrafluoroethylene resins or mixtures thereof, fluoroolefins and hydroxyl group-containing compounds and other copolymerizable vinyl-based compounds. Included.

에폭시 수지의 예로는 비스페놀과 에피클로로하이드린 등과의 반응에 의해 수득된 수지가 포함된다. 비스페놀의 예로는 비스페놀 A 및 비스페놀 F가 포함된다. 비스페놀형 에폭시 수지의 예로는 에피코트(Epikote) 828, 에피코트 1001, 에피코트 1004, 에피코트 1007, 에피코트 1009(쉘 케미칼 캄파니(Shell Chemical Co.)에서 상업적으로 시판함)가 포함된다. 또한, 상기 수지는 적절한 쇄 연장제에 의해 쇄-연장될 수 있다.Examples of epoxy resins include resins obtained by the reaction of bisphenol and epichlorohydrin and the like. Examples of bisphenols include bisphenol A and bisphenol F. Examples of bisphenol type epoxy resins include Epikote 828, Epicoat 1001, Epicoat 1004, Epicoat 1007, Epicoat 1009 (commercially available from Shell Chemical Co.). In addition, the resin may be chain-extended with a suitable chain extender.

에터 결합을 갖는 중합체 또는 공중합체인 폴리에터 수지의 예로는 폴리옥시에틸렌계 폴리에터, 폴리옥시프로필렌계 폴리에터 또는 폴리옥시뷰틸렌 폴리에터, 또는 하나의 분자에 2개 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리에터 수지, 예를 들면, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F와 같이, 방향족 폴리하이드록시 화합물로부터 유도된 폴리에터가 포함된다. 또한, 상기 예로는 폴리에터 수지와 반응성 유도체의 반응에 의해 수득된 카복실기 함유 폴리에터 수지, 예를 들면, 석신산, 아디프산, 세바크산, 프탈산, 아이소프탈산, 테레프탈산 및 트라이멜리트산을 포함하여 다가 카복실산 또는 그의 무수물이 또한 포함된다.Examples of polyether resins that are polymers or copolymers having ether bonds include polyoxyethylene-based polyethers, polyoxypropylene-based polyethers or polyoxybutylene polyethers, or two or more hydroxyl groups in a molecule. Polyether resins such as bisphenol A or bisphenol F, such as polyethers derived from aromatic polyhydroxy compounds. Further examples include carboxyl group-containing polyether resins obtained by the reaction of polyether resins with reactive derivatives such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and trimellis. Polycarboxylic acids or their anhydrides are also included, including butyric acid.

중간 코팅 수지가, 산가가 3 내지 200이고, 하이드록실가가 30 내지 200이고 수평균 분자량이 500 내지 500,000인 것이 바람직하다. 바람직한 수지는, 특히 산가가 3 내지 200이고, 하이드록실가가 30 내지 200이고, 수 평균 분자량이 2,000 내지 50,000인 아크릴계 수지, 및 산가가 3 내지 200이고, 하이드록실가가 30 내지 200이고 수평균 분자량이 500 내지 20,000인 폴리에스터 수지이다. 수용액 또는 수성 분산액으로서 중간 코팅 조성물을 제조하는 경우, 중간 코팅 수지가 10 내지 200의 산가 및 30 내지 200의 하이드록실가를 갖는 것이 바람직하다. The intermediate coating resin preferably has an acid value of 3 to 200, a hydroxyl value of 30 to 200, and a number average molecular weight of 500 to 500,000. Preferred resins are, in particular, an acrylic resin having an acid value of 3 to 200, a hydroxyl value of 30 to 200, a number average molecular weight of 2,000 to 50,000, and an acid value of 3 to 200, a hydroxyl value of 30 to 200 and a number average. It is a polyester resin with a molecular weight of 500-20,000. When preparing the intermediate coating composition as an aqueous solution or an aqueous dispersion, it is preferred that the intermediate coating resin has an acid value of 10 to 200 and a hydroxyl value of 30 to 200.

중간 코팅 수지에는, 일반적으로 경화형 및 래커형 수지가 있다. 경화형이 바람직하다. 경화형을 사용하는 경우, 차단된 아이소사이아네이트 화합물, 옥사졸리돈 화합물, 카보다이이미드 화합물 및 멜라민 화합물과 같은 중간 코팅 경화제를 중간 코팅 수지와 함께 사용한다. 중간 코팅 경화제를 함유하는 중간 코팅 수지 성분의 경화 반응은 가열하에 또는 실온에서 진행될 수 있다. 또한, 경화형 및 비경화형 중간 코팅 수지의 혼합물도 사용할 수 있다.The intermediate coating resins generally include curable and lacquer resins. Hardening type is preferable. When using a curable type, an intermediate coating curing agent such as blocked isocyanate compound, oxazolidone compound, carbodiimide compound and melamine compound is used with the intermediate coating resin. The curing reaction of the intermediate coating resin component containing the intermediate coating curing agent may proceed under heating or at room temperature. In addition, mixtures of curable and non-curable intermediate coating resins may also be used.

중간 코팅 경화제를 함유하는 경우, 코팅 고형물 성분 중 중간 코팅 수지 대 중간 코팅 경화제의 중량비는 바람직하게는 90/10 내지 50/50, 보다 바람직하게는 85/15 내지 60/40이다. 상기 비가 90/10보다 크고 중간 코팅 경화제의 양이 10 중량%보다 작으면, 코팅된 필름에서 가교결합이 충분히 수득되지 않는다. 다른 한편으로, 상기 비가 50/50보다 작고 중간 코팅 경화제의 양이 50 중량%보다 크면, 코팅 조성물의 저장 안정성이 저하되고 경화속도가 높으며, 코팅 필름의 외관이 저하된다.In the case of containing the intermediate coating curing agent, the weight ratio of the intermediate coating resin to the intermediate coating curing agent in the coating solid component is preferably 90/10 to 50/50, more preferably 85/15 to 60/40. If the ratio is greater than 90/10 and the amount of the intermediate coating curing agent is less than 10% by weight, sufficient crosslinking is not obtained in the coated film. On the other hand, when the ratio is smaller than 50/50 and the amount of the intermediate coating curing agent is larger than 50% by weight, the storage stability of the coating composition is lowered, the curing speed is high, and the appearance of the coating film is lowered.

본 발명의 중간 코팅 조성물은 안료를 함유한다. 안료의 예로는 증량제 안료, 예를 들면, 바리타 분말, 침전 설페이트, 탄산 바륨, 석고, 점토, 실리카, 활석, 탄산 마그네슘, 알루미나 화이트 등, 및 착색 안료가 포함된다. 착색 안료의 예로는 유기 안료, 예를 들면, 아조 레이크계 안료, 프탈로사이아닌계 안료, 인디고계 안료, 페릴린계 안료, 퀴노프타론계 안료, 다이옥사진계 안료, 퀴나크리돈계 안료, 아이소인도리논계 안료, 금속 착체 안료, 카본 블랙; 또는 무기 안료, 예를 들면, 옐로우 납, 옐로우 산화 철, 콜코타르, 이산화 티타늄이 포함된다. 안료의 양은 임의로 목적하는 성능 및 색조에 따라 선택될 수 있다. 안료는 단독으로 또는 둘 이상과의 혼합물로 사용될 수 있다.The intermediate coating composition of the present invention contains a pigment. Examples of pigments include extender pigments such as barita powder, precipitated sulfate, barium carbonate, gypsum, clay, silica, talc, magnesium carbonate, alumina white and the like, and colored pigments. Examples of colored pigments include organic pigments such as azo lake pigments, phthalocyanine pigments, indigo pigments, perylene pigments, quinophtharone pigments, dioxazine pigments, quinacridone pigments and isoindori. Paddy pigments, metal complex pigments, carbon black; Or inorganic pigments such as yellow lead, yellow iron oxide, coalcotar, titanium dioxide. The amount of pigment may optionally be selected according to the desired performance and color tone. Pigments may be used alone or in admixture with two or more.

중간 코팅 조성물의 코팅 고형물 함량을 기준으로 안료의 농도(PWC)는 바람직하게는 10 내지 50 중량% 범위 이내이다. 상기 농도의 상한치는 보다 바람직하게는 30 중량%이다.The concentration (PWC) of the pigment, based on the coating solids content of the intermediate coating composition, is preferably within the range of 10 to 50% by weight. The upper limit of the concentration is more preferably 30% by weight.

중간체 코팅 조성물의 고형물 함량은 바람직하게는 35 내지 65 중량%의 범위 이내이다. 상기 하한치는 보다 바람직하게는 40 중량%이고, 상한치는 보다 바람직하게는 60 중량%이다. 고형물 함량의 하한치가 35 중량%보다 작으면, 코팅 적용시 처짐이 일어나고 완성 외관이 저하된다. 다른 한편으로, 상기 상한치가 65 중량%보다 높으면, 코팅 적용시 유동성이 감소하고 완성 외관이 저하된다.The solids content of the intermediate coating composition is preferably in the range of 35 to 65% by weight. The lower limit is more preferably 40% by weight, and the upper limit is more preferably 60% by weight. If the lower limit of the solids content is less than 35% by weight, sag occurs during coating application and the finished appearance is degraded. On the other hand, if the upper limit is higher than 65% by weight, the fluidity during coating application is reduced and the finished appearance is lowered.

중간 코팅 조성물은 상기 성분들 이외에, 지방족 아마이드의 윤활제 분산액인 폴리아마이드 왁스, 산화 폴리에틸렌을 기재로 하는 콜로이드성 분산액인 폴리에틸렌 왁스, 경화 촉매, 자외선 흡수제, 산화방지제, 평활제(leveling agent), 표면 컨디셔너, 예를 들면, 실리콘 및 유기 중합체, 처짐방지제, 증점제, 소포제, 윤활제, 가교결합성 중합체 분말(마이크로겔) 등을 함유할 수 있다. 코팅 조성물 및 코팅된 필름의 성능은, 상기 첨가제를 중간 코팅 수지 100 질량부를 기준으로 15 질량부(고형물 함량 기준) 이하의 양으로 배합함으로써 개선될 수 있다.The intermediate coating composition may include, in addition to the above components, polyamide waxes, which are lubricant dispersions of aliphatic amides, polyethylene waxes, which are colloidal dispersions based on polyethylene oxide, curing catalysts, ultraviolet absorbers, antioxidants, leveling agents, surface conditioners. Silicone and organic polymers, anti-sag agents, thickeners, defoamers, lubricants, crosslinkable polymer powders (microgels) and the like. The performance of the coating composition and the coated film can be improved by blending the additive in an amount of up to 15 parts by mass (based on solids content) based on 100 parts by mass of the intermediate coating resin.

중간 코팅 조성물의 제조 및 적용Preparation and Application of Intermediate Coating Compositions

중간 코팅 조성물은 상기 성분들을 용매에 용해 또는 분산시켜 제조할 수 있다. 용매는 중간 코팅 수지 성분을 용해 및 분산시킬 수 있는 한 제한되지 않지만, 유기 용매 및/또는 물일 수 있다. 유기 용매는 코팅 조성물 분야에서 통상적으로 사용되어 온 것일 수 있다. 유기 용매의 예로는 톨루엔 및 자일렌과 같은 탄화수소, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 뷰틸 아세테이트, 셀로솔브 아세테이트 및 뷰틸 셀로솔브와 같은 에스터, 알콜 등이 포함된다. 환경의 관점에서 유기 용매를 사용하는 것이 제한되는 경우, 물을 사용하는 것이 바람직하다. 그런 경우, 적절한 양의 친수성 유기 용매가 그 중에 함유될 수 있다.The intermediate coating composition can be prepared by dissolving or dispersing the above components in a solvent. The solvent is not limited as long as it can dissolve and disperse the intermediate coating resin component, but may be an organic solvent and / or water. The organic solvent may be one commonly used in the field of coating compositions. Examples of organic solvents include hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate and butyl cellosolve, alcohols and the like. If the use of an organic solvent is restricted from the viewpoint of the environment, it is preferable to use water. In such cases, an appropriate amount of hydrophilic organic solvent may be contained therein.

중간 코팅 조성물의 적용시 그 점도는 바람직하게는 유기 용매 및/또는 물 및 그의 혼합물을 사용하여 10 내지 30 초(포드 컵 #4/20 ℃)로 조정된다. 점도가 상기 범위보다 낮으면, 중간 코팅 필름이 후속 적용 단계에서 형성된 기본 상부 코팅 필름과 섞인다. 다른 한편으로, 점도가 상기 범위보다 높으면, 코팅 조성물을 취급하기가 어렵고 코팅된 필름이 초기에 고형화되며, 후속 코팅 단계에서 코팅된 필름에 의해 코팅되고 회복될 수 없는 수준으로 표면 평탄화가 일어난다.Upon application of the intermediate coating composition the viscosity is preferably adjusted to 10 to 30 seconds (pod cup # 4/20 ° C.) using organic solvents and / or water and mixtures thereof. If the viscosity is lower than the above range, the intermediate coating film is mixed with the base top coating film formed in the subsequent application step. On the other hand, if the viscosity is higher than the above range, it is difficult to handle the coating composition and the coated film is initially solidified, and in the subsequent coating step, surface planarization occurs to a level that is coated and unrecoverable by the coated film.

중간 코팅 필름은 중간 코팅 조성물을 경화된 전착 코팅 필름위에 적용함으로써 수득된다. 중간 코팅 필름을 형성함으로써 전착 코팅 필름의 불투명성, 내충격성이 제공된다. 또한, 후속 단계에서 중간 코팅 필름위에 적용된 기본 상부 코팅 필름에 대한 접착성도 또한 개선된다.The intermediate coating film is obtained by applying the intermediate coating composition onto the cured electrodeposition coating film. Forming the intermediate coating film provides the opacity and impact resistance of the electrodeposition coating film. In addition, the adhesion to the base top coating film applied on the intermediate coating film in the subsequent step is also improved.

중간 코팅을 적용하는 방법은 제한되지 않지만, 소위 "반응 건(react-gun)"으로 불리는 공기 정전 스프레이 코팅기; 소위 "마이크로마이크로(μμ) 벨", "마이크로(μ) 벨" 및 "메타 벨"로 불리는 회전 스프레이 정전 코팅기 등을 사용하여 수행된다. 회전 스프레이 정전 코팅기에 의한 방법이 바람직하다.The method of applying the intermediate coating is not limited, but includes an air electrostatic spray coating machine called a "react-gun"; So-called "micro micro bells", "micro bells" and "meta bells" using a rotary spray electrostatic coating machine and the like. Preference is given to a method by means of a rotary spray electrostatic coater.

중간 코팅 필름은 5 내지 80 ㎛, 바람직하게는 10 내지 50 ㎛의 건조 두께를 갖는 것이 바람직하다. 중간 코팅 필름이 형성된 후, 가열 및 경화시키지 않고 기본 상부 코팅 필름을 형성하는 단계를 수행한다. 중간 코팅 필름은 기본 상부 코팅 필름을 형성하기 전에 가열 및 경화(소성) 처리 온도보다 낮은 온도에서 예열될 수 있다.The intermediate coating film preferably has a dry thickness of 5 to 80 μm, preferably 10 to 50 μm. After the intermediate coating film is formed, a step of forming a basic top coating film without heating and curing is performed. The intermediate coating film may be preheated at a temperature below the heating and curing (baking) treatment temperature before forming the base top coating film.

기본 상부 코팅 조성물Base top coating composition

본 발명에 사용된 기본 상부 코팅 조성물은 기본 상부 코팅 수지 성분, 브릴리언트(brilliant) 안료 및/또는 착색 안료, 증량제 안료 및 용매를 함유하는 브릴리언트 코팅 조성물 또는 고체 코팅 조성물이다. 기본 상부 코팅 조성물은 수-분산을 포함하는 수계이거나 유기 용매-분산된 것을 포함하는 유기 용매계이다.The base top coating composition used in the present invention is a brilliant coating composition or solid coating composition containing a base top coating resin component, a brilliant pigment and / or colored pigment, a extender pigment and a solvent. The base top coating composition is either water based with water dispersion or organic solvent based with organic solvent-dispersed.

기본 상부 코팅 조성물에 함유된 기본 상부 코팅 수지 성분은 기본 상부 코팅 수지 및 선택적으로 기본 상부 코팅 경화제를 포함한다. 기본 상부 코팅 조성물에 함유된 기본 상부 코팅 수지 성분(기본 상부 코팅 수지 및 기본 상부 코팅 경화제), 착색 안료, 증량제 안료, 다양한 첨가제 및 용매는 중간 코팅에서 기술한 바와 동일할 수 있다. 기본 상부 코팅 수지 성분을 사용하여, 브릴리언트 안료 및 선택적으로 착색 안료를 브릴리언트 기본 상부 코팅 조성물에 분산시키고, 착색 안료는 고체 기본 상부 코팅 조성물에 분산시킨다.The base top coating resin component contained in the base top coating composition comprises a base top coating resin and optionally a base top coating curing agent. The base top coating resin component (base top coating resin and base top coating curing agent), color pigments, extender pigments, various additives and solvents contained in the base top coating composition may be the same as described in the intermediate coating. Using the base top coating resin component, the brilliant pigment and optionally the colored pigment are dispersed in the brilliant base top coating composition, and the colored pigment is dispersed in the solid base top coating composition.

사용된 기본 상부 코팅 수지의 예로는 아크릴계 수지, 폴리에스터 수지, 플루오르 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에터 수지 및 그의 개질 수지들로 이루어진 군에서 선택된 코팅 필름 형성 수지들 중 하나 이상이 포함될 수 있다. 기본 상부 코팅 경화제의 예로는 전술한 바와 같은 중간 코팅 경화제가 포함된다. 멜라민 수지, 특히 에터화 멜라민 수지가 바람직하다. 에터화 멜라민 수지는 멜라민을 메탄올 및 뷰탄올과 같은 알콜로 에터화시켜 수득한다. 기본 상부 코팅 수지 성분으로서 기본 상부 코팅 수지와 기본 상부 코팅 경화제의 바람직한 조합으로는 아크릴계 수지-멜라민 시스템이 포함된다. 상기 시스템에서, 아크릴계 수지는 10 내지 200의 산가, 30 내지 200의 하이드록실가, 및 2,000 내지 50,000의 수평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다.Examples of the basic top coating resin used include one or more of coating film forming resins selected from the group consisting of acrylic resins, polyester resins, fluorine resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyether resins and modified resins thereof. Can be. Examples of basic top coating curing agents include intermediate coating curing agents as described above. Melamine resins, in particular etherified melamine resins, are preferred. Etherified melamine resins are obtained by etherifying melamine with alcohols such as methanol and butanol. Preferred combinations of the base top coating resin and the base top coating curing agent as the base top coating resin component include an acrylic resin-melamine system. In the above system, the acrylic resin preferably has an acid value of 10 to 200, a hydroxyl value of 30 to 200, and a number average molecular weight of 2,000 to 50,000.

기본 상부 코팅 조성물에 함유된 안료로서 브릴리언트 안료의 예로는 알루미늄 플레이크 안료, 착색 알루미늄 플레이크 안료, 간섭 운모 안료, 착색 운모 안료, 산화 금속 코팅된 유리 플레이크 안료, 금속 도금된 유리 플레이크 안료, 산화 금속 코팅된 실리카 플레이크 안료, 금속 티타늄 플레이크 안료, 흑연 안료, 스테인리스 강 플레이크 안료, 판상 산화철 안료, 프탈로사이아닌 플레이크 안료 및 홀로그램 안료가 포함된다. 브릴리언트 안료 및/또는 착색 안료를 사용하는 경우, 모든 안료의 중량 함량(PWC)은 바람직하게는 1 내지 50%, 보다 바람직하게는 5 내지 30%의 범위 이내이다. PWC가 1%보다 작으면, 코팅 필름에 디자인을 부가하는 것이 충분하지 않다. 다른 한편으로, PWC가 50%보다 크면, 코팅 필름의 외관이 저하된다.Examples of brilliant pigments as pigments contained in the base top coating composition include aluminum flake pigments, colored aluminum flake pigments, interference mica pigments, colored mica pigments, metal oxide coated glass flake pigments, metal plated glass flake pigments, metal oxide coated Silica flake pigments, metal titanium flake pigments, graphite pigments, stainless steel flake pigments, plate iron oxide pigments, phthalocyanine flake pigments and hologram pigments. When using brilliant pigments and / or colored pigments, the weight content (PWC) of all pigments is preferably within the range of 1 to 50%, more preferably 5 to 30%. If the PWC is less than 1%, it is not enough to add a design to the coating film. On the other hand, when the PWC is larger than 50%, the appearance of the coating film is lowered.

기본 상부 코팅 조성물의 제조 및 적용Preparation and Application of Base Top Coating Compositions

기본 상부 코팅 조성물은 용매에 상기 성분들을 용해 또는 분산시켜 제조한다. 용매는 기본 상부 코팅 수지 성분을 용해 및 분산시킬 수 있는 한 제한되지 않지만, 유기 용매 및/또는 물일 수 있다. 유기 용매의 예로는 톨루엔 및 자일렌과 같은 탄화수소, 아세톤 및 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 뷰틸 아세테이트, 셀로솔브 아세테이트 및 뷰틸 셀로솔브와 같은 에스터, 알콜 등이 포함된다.Base top coating compositions are prepared by dissolving or dispersing the above components in a solvent. The solvent is not limited as long as it can dissolve and disperse the base top coating resin component, but may be an organic solvent and / or water. Examples of organic solvents include hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate and butyl cellosolve, alcohols and the like.

기본 상부 코팅 조성물의 점도는 바람직하게는 적당한 희석제를 사용하여 10 내지 30 초(포드 컵 #4/20 ℃)로 조정된다. 점도가 상기 범위보다 낮으면, 기본 상부 코팅 필름이 후속 적용 단계에서 형성된 투명 상부 코팅 필름과 혼화된다. 다른 한편으로, 점도가 상기 범위보다 높으면, 코팅 조성물을 취급하기가 어렵고 코팅된 필름이 초기에 고형화되며, 후속 코팅 단계에서 코팅된 필름에 의해 코팅되고 회복될 수 없는 수준으로 표면 평탄화가 일어난다.The viscosity of the base top coating composition is preferably adjusted to 10 to 30 seconds (pod cup # 4/20 ° C.) using a suitable diluent. If the viscosity is lower than the above range, the base top coating film is blended with the transparent top coating film formed in the subsequent application step. On the other hand, if the viscosity is higher than the above range, it is difficult to handle the coating composition and the coated film is initially solidified, and in the subsequent coating step, surface planarization occurs to a level that is coated and unrecoverable by the coated film.

기본 상부 코팅 필름은 기본 상부 코팅 조성물을 중간 코팅 필름위에 적용함으로써 수득된다. 기본 상부 코팅 조성물은 웨트 온 웨트 코팅에 의해 비경화 중간 코팅 필름 위에 적용한다. 기본 상부 코팅 조성물을 적용하는 방법은 제한되지 않으며, 중간 코팅 조성물을 적용하는 방법으로 기술된 방법이 포함된다. 기본 상부 코팅 조성물을 자동차 차체에 적용하는 경우, 상기 적용은 다단계 코팅, 바람직하게는 코팅 필름에 고품격을 제공하기 위해 공기 정전 스프레이 코팅기를 사용하여 2단계 코팅에 의해 수행한다. 적용 방법은 또한 공기 정전 스프레이 코팅기와 회전 스프레이형 정전 코팅기의 조합일 수 있다.The base top coating film is obtained by applying the base top coating composition on the intermediate coating film. The base top coating composition is applied on the uncured intermediate coating film by wet on wet coating. The method of applying the base top coating composition is not limited and includes the method described as the method of applying the intermediate coating composition. When the base top coating composition is applied to a vehicle body, the application is carried out by a two stage coating using an air electrostatic spray coater to provide high quality to the multi stage coating, preferably the coating film. The method of application may also be a combination of an air electrostatic spray coater and a rotary spray type electrostatic coater.

기본 상부 코팅 필름의 형성에 의해 코팅 필름에 디자인을 부가하고, 선행 단계에서 형성된 중간 코팅 필름에 대한 접착성을 확보하고 후속 단계에서 코팅되는 기본 상부 코팅 필름에 대한 접착성을 확보할 수 있다.The formation of the base top coating film allows the design to be added to the coating film, ensuring adhesion to the intermediate coating film formed in the preceding step and securing adhesion to the base top coating film coated in the subsequent step.

기본 상부 코팅 필름은 하나의 코팅 당 5 내지 50 ㎛, 바람직하게는 10 내지 30 ㎛의 건조 두께를 갖는 것이 바람직하다. 기본 상부 코팅 필름의 형성 후에, 투명 상부 코팅 필름을 형성하는 후속 단계를 가열 및 경화하지 않고 수행한다. 기본 상부 코팅 필름은 투명 상부 코팅 필름을 형성하기 전에 가열 및 경화(소성) 처리 온도보다 낮은 온도에서 예열할 수 있다.The base top coating film preferably has a dry thickness of 5 to 50 μm, preferably 10 to 30 μm, per one coating. After formation of the base top coating film, the subsequent steps of forming the transparent top coating film are carried out without heating and curing. The base top coat film may be preheated at a temperature below the heating and curing (baking) treatment temperature prior to forming the transparent top coat film.

투명 상부 코팅 조성물Clear top coating composition

투명 상부 코팅 조성물은 투명 상부 코팅 수지 성분, 다양한 첨가제 및 용매를 함유하는 투명 코팅 조성물로부터 제조된다. 투명 상부 코팅 조성물은 수-분산된 것을 포함하는 수계이거나 유기 용매-분산된 것을 포함하는 유기 용매성이다.The clear top coating composition is made from a clear coating composition containing a clear top coating resin component, various additives and a solvent. The transparent top coating composition is water based, including water-dispersed or organic solvent-containing, including organic solvent-dispersed.

투명 상부 코팅 조성물에 함유된 투명 상부 코팅 수지 성분은 투명 상부 코팅 수지 및 선택적으로 투명 상부 코팅 경화제를 포함한다. 투명 상부 코팅 조성물에 함유된 투명 상부 코팅 수지 성분(투명 상부 코팅 수지 및 투명 상부 코팅 경화제), 다양한 첨가제 및 용매는 중간 코팅에서 기술한 바와 동일할 수 있다.The transparent top coating resin component contained in the transparent top coating composition comprises a transparent top coating resin and optionally a transparent top coating curing agent. The transparent top coating resin component (transparent top coating resin and transparent top coating curing agent), various additives and solvents contained in the transparent top coating composition may be the same as described in the intermediate coating.

투명 상부 코팅 수지 성분으로서 투명 상부 코팅 수지와 투명 상부 코팅 경화제의 바람직한 조합으로는 아크릴계 수지-멜라민 시스템이 포함된다. 상기 시스템에서, 아크릴계 수지는 10 내지 200의 산가, 30 내지 200의 하이드록실가 및 2,000 내지 50,000의 수평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다.Preferred combinations of the transparent top coating resin and the transparent top coating curing agent as the transparent top coating resin component include an acrylic resin-melamine system. In the above system, the acrylic resin preferably has an acid value of 10 to 200, a hydroxyl value of 30 to 200, and a number average molecular weight of 2,000 to 50,000.

웨트 온 웨트 코팅에서 기본 상부 코팅 필름과의 용해도 차이를 증가시킴으로써 기본 상부 코팅 필름 중의 브릴리언트 안료의 산성비 내성을 확보하고 상기 안료의 배향을 유지시키기 위해, 투명 상부 코팅 조성물로서, 일본 특허 공고 제 19315/1996 호에 개시된 카복실기 함유 중합체 및 에폭시기 함유 중합체를 포함하는 투명 코팅 조성물을 적절히 사용할 수 있다. 투명 상부 코팅 조성물은 선택적으로 착색 안료, 증량제 안료, 개질제, 자외선 흡수제, 평활제, 분산제 및 소포제와 같은 첨가제를 함유할 수 있다.In order to ensure acid rain resistance of the brilliant pigment in the base top coating film and to maintain the orientation of the pigment by increasing the solubility difference with the base top coating film in the wet on wet coating, Japanese Patent Publication No. 19315 / Transparent coating compositions comprising carboxyl group-containing polymers and epoxy group-containing polymers disclosed in 1996 can be suitably used. The transparent top coating composition may optionally contain additives such as color pigments, extender pigments, modifiers, ultraviolet absorbers, levelers, dispersants, and antifoaming agents.

투명 상부 코팅 조성물의 제조 및 적용Preparation and Application of Transparent Top Coating Compositions

투명 상부 코팅 조성물은 용매에 상기 성분들을 용해 또는 분산시켜 제조한다. 전술한 임의의 용매를 사용할 수 있다. 투명 상부 코팅 필름은 기본 상부 코팅 필름에 투명 상부 코팅 조성물을 제공함으로써 수득된다. 투명 상부 코팅 조성물은 웨트 온 웨트 코팅에 의해 비경화 기본 상부 코팅 필름 위에 적용된다.Transparent top coating compositions are prepared by dissolving or dispersing the above components in a solvent. Any solvent described above can be used. The transparent top coating film is obtained by providing a transparent top coating composition to the base top coating film. The clear top coating composition is applied over the uncured base top coating film by wet on wet coating.

투명 상부 코팅 필름을 형성하는 방법은 제한되지 않지만, 바람직하게는 분무 방법, 롤 코팅기 방법 등이 포함된다. 투명 상부 코팅 필름은 하나의 코팅 당 20 내지 50 ㎛, 바람직하게는 25 내지 40 ㎛의 건조 두께를 갖는 것이 바람직하다.The method of forming the transparent top coating film is not limited, but preferably includes a spray method, a roll coater method, and the like. The transparent top coating film preferably has a dry thickness of 20-50 μm, preferably 25-40 μm, per one coating.

투명 상부 코팅 필름의 형성으로 인해 기본 상부 코팅 필름이 보호되고 생성된 다층 코팅 필름에 심도 촉감을 부가할 수 있다.The formation of the transparent top coat film allows the base top coat film to be protected and adds depth to the resulting multilayer coating film.

소성Firing

투명 상부 코팅 필름의 형성 후에, 비경화 중간 코팅 필름, 기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름의 세 코팅 필름 층을 다층 코팅 필름을 수득하도록 주어진 시간동안 120 내지 160 ℃에서 소성 및 경화시킨다. 본 발명의 방법에서, 중간 코팅 조성물, 기본 상부 코팅 조성물 및 투명 상부 코팅 조성물은 각각 웨트 앤드 웨트 코팅에 의해 순서대로 적용된다. 즉, 비경화 코팅 필름들은 수행 순서대로 형성된다. 본원에서 사용된 바와 같이 "비경화된"이란 용어는 코팅 필름이 완전히 경화되지 않은 상태를 말하며, 예열된 코팅 필름 상태를 포함한다. 본원에서 사용된 바와 같이 "예열"이란 용어는 코팅 필름을 1 내지 10 분간 가열 및 경화(소성) 처리 온도보다 낮은 온도로서 실온 내지 100 ℃의 온도에 방치하거나 가열함을 말한다. 보다 우수한 완성 외관을 갖는 코팅 필름은 각각 중간 코팅 필름의 형성 및 기본 상부 코팅 필름의 형성 후에 코팅 필름을 예열시킴으로써 수득될 수 있다.After formation of the transparent top coating film, three coating film layers of uncured intermediate coating film, base top coating film and transparent top coating film are baked and cured at 120 to 160 ° C. for a given time to obtain a multilayer coating film. In the process of the invention, the intermediate coating composition, the basic top coating composition and the transparent top coating composition are each applied in sequence by wet and wet coating. That is, the uncured coating films are formed in the order of execution. As used herein, the term "uncured" refers to a state in which the coating film is not fully cured and includes a preheated coating film state. As used herein, the term “preheat” refers to leaving or heating the coating film at a temperature from room temperature to 100 ° C. at a temperature below the heating and curing (firing) treatment temperature for 1 to 10 minutes. Coating films having a better finished appearance can be obtained by preheating the coating film after the formation of the intermediate coating film and the formation of the basic top coating film, respectively.

실시예Example

본 발명은 하기 실시예에 따라 더 상세히 설명되나, 본 발명은 이들 실시예로 제한되지 않는다. 실시예에서, "부"는 달리 언급하지 않는 한 중량을 기준으로 한다.The invention is explained in more detail according to the following examples, although the invention is not limited to these examples. In the examples, “parts” are based on weight unless otherwise indicated.

제조예 1Preparation Example 1

아민 개질된 에폭시 수지의 제조Preparation of Amine Modified Epoxy Resins

92 부의 2,4-/2,6-톨릴렌다이아이소사이아네이트(중량비=8/2), 95 부의 메틸 아이소뷰틸 케톤(이하에서, MIBK로 지칭됨) 및 0.5 부의 다이뷰틸주석 다이라우레이트를 교반기, 냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 적하 깔때기가 장착된 플라스크에 채웠다. 반응 혼합물을 교반하면서 21 부의 메탄올을 가하였다. 실온에서 출발하여, 반응 혼합물을 발열에 의해 60 ℃로 상승시키고, 반응을 30 분간 유지하고, 50 부의 에틸렌 글라이콜 모노-2-에틸헥실 에터를 적하 깔때기로부터 적하하였다. 또한, 53 부의 비스페놀 A-프로필렌 옥사이드 5 몰 부가물을 가하였다. 반응은 주로 60 내지 65 ℃의 온도 범위에서 수행하였으며, IR 스펙트럼 측정에서 아이소사이아네이트 기를 기준으로 흡수가 나타나지 않을 때까지 계속하였다.92 parts 2,4- / 2,6-tolylenediisocyanate (weight ratio = 8/2), 95 parts methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK) and 0.5 parts dibutyltin dilaurate Was charged to a flask equipped with a stirrer, cooling tube, nitrogen introduction tube, thermometer, and dropping funnel. 21 parts of methanol was added while stirring the reaction mixture. Starting at room temperature, the reaction mixture was raised to 60 ° C by exotherm, the reaction was held for 30 minutes, and 50 parts of ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether was added dropwise from the dropping funnel. In addition, 5 mole adducts of 53 parts of bisphenol A-propylene oxide were added. The reaction was carried out mainly in the temperature range of 60-65 ° C. and continued until no absorption appeared based on isocyanate groups in the IR spectral measurement.

다음으로, 공지된 방법에 따라 비스페놀 A 및 에피클로하이드린으로부터 합성된 에폭시 당량 188의 에폭시 수지 365 부를 반응 혼합물에 가하고 125 ℃로 가열하였다. 그런 다음, 1.0 부의 벤질다이메틸아민을 가하고 에폭시 당량이 410이 될 때까지 130 ℃에서 반응시켰다.Next, 365 parts of an epoxy equivalent of 188 epoxy equivalents synthesized from bisphenol A and epiclohydrin were added to the reaction mixture and heated to 125 ° C. according to known methods. Then, 1.0 part of benzyldimethylamine was added and reacted at 130 ° C. until the epoxy equivalent was 410.

이어서, 61 부의 비스페놀 A 및 33 부의 옥틸산을 가하고 120 ℃에서 반응시켜 1190의 에폭시 당량을 달성하였다. 그런 후에, 반응 혼합물을 냉각하고, 11 부의 다이에탄올아민, 24 부의 N-에틸에탄올아민 및 케트이민화 아미노에틸 에탄올아민의 MIBK 중의 79 중량% 용액 25 부를 가하고, 110 ℃에서 2 시간동안 반응시켰다. 이어서, 비휘발성 고형물 함량이 80%가 될 때까지 반응 혼합물을 MIBK로 희석하고, 2 ℃의 유리 전이 온도를 갖는 아민 개질된 에폭시 수지(수지 고형물 함량: 80%)를 수득하였다.61 parts of bisphenol A and 33 parts of octylic acid were then added and reacted at 120 ° C. to achieve an epoxy equivalent of 1190. Thereafter, the reaction mixture was cooled down, and 25 parts of a 79 wt% solution in MIBK of 11 parts of diethanolamine, 24 parts of N-ethylethanolamine and ketimated aminoethyl ethanolamine were added and reacted at 110 ° C for 2 hours. The reaction mixture was then diluted with MIBK until the non-volatile solids content was 80%, yielding an amine modified epoxy resin (resin solids content: 80%) with a glass transition temperature of 2 ° C.

제조예 2Preparation Example 2

블록 폴리아이소사이아네이트 경화제(1)의 제조Preparation of Block Polyisocyanate Curing Agent (1)

1250 부의 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 266.4 부의 MIBK를 반응 용기에 공급하고, 80 ℃로 가열한 후 2.5 부의 다이뷰틸주석 다이라우레이트를 가하였다. 944 부의 뷰틸셀로솔브에 용해된 226 부의 ε-카프로락탐의 용액을 80 ℃에서 2 시간동안 상기 혼합물에 적하하였다. 반응을 100 ℃에서 4 시간동안 유지시키고, 아이소사이아네이트기를 기준으로 IR 스펙트럼 측정에서 흡수가 나타나지 않는 것을 확인하고 냉각시켰다. 336.1 부의 MIBK를 가하고, 그로써 0 ℃의 유리 전이 온도를 갖는 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 수득하였다.1250 parts of diphenylmethane diisocyanate and 266.4 parts of MIBK were fed to the reaction vessel, heated to 80 ° C, and 2.5 parts of dibutyltin dilaurate was added. A solution of 226 parts of ε-caprolactam dissolved in 944 parts of butylcellosolve was added dropwise to the mixture at 80 ° C. for 2 hours. The reaction was maintained at 100 ° C. for 4 hours and cooled down after confirming no absorption in IR spectral measurements based on isocyanate groups. 336.1 parts of MIBK were added, thereby obtaining a blocked isocyanate curing agent having a glass transition temperature of 0 ° C.

제조예 3Preparation Example 3

안료 분산 수지의 제조Preparation of Pigment Dispersion Resin

222.0 부의 아이소포론 다이아이소사이아네이트(이하에서 IPDI로 지칭함)를 교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계가 장착된 반응 용기에 공급하고, 39.1 부의 MIBK로 희석한 후 0.2 부의 다이뷰틸주석 다이라우레이트를 첨가하였다. 이어서, 반응 혼합물을 50 ℃로 가열하고, 131.5 부의 2-에틸 헥산올을 무수 질소 대기하에서 교반하에 2 시간동안 적하하였다. 반응 온도는 필요에 따라 냉각시켜 50 ℃로 유지하였다. 그 결과, 2-에틸 헥산올로 절반이 차단된 IPDI(수지 고형물 함량: 90.0%)가 수득되었다.222.0 parts of isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as IPDI) are fed to a reaction vessel equipped with a stirrer, cooling tube, nitrogen inlet tube and thermometer, diluted with 39.1 parts of MIBK and then 0.2 parts of dibutyltin dilau Rate was added. The reaction mixture was then heated to 50 ° C. and 131.5 parts of 2-ethyl hexanol was added dropwise for 2 hours under stirring under anhydrous nitrogen atmosphere. The reaction temperature was cooled as needed and kept at 50 ° C. As a result, IPDI (resin solids content: 90.0%) half-blocked with 2-ethyl hexanol was obtained.

87.2 부의 다이메틸에탄올아민, 117.6 부의 75% 락트산 수용액 및 39.2 부의 에틸렌 글라이콜 모노뷰틸 에터를 적당한 반응 용기에 가하고, 반응 혼합물을 65 ℃에서 30 분동안 교반하여 4급화제를 제조하였다.87.2 parts of dimethylethanolamine, 117.6 parts of 75% lactic acid aqueous solution and 39.2 parts of ethylene glycol monobutyl ether were added to a suitable reaction vessel, and the reaction mixture was stirred at 65 ° C. for 30 minutes to prepare a quaternizing agent.

이어서, 710.0 부의 에폰(EPON) 829(에폭시 당량 193 내지 203의, 쉘 케미칼 캄파니에서 제조하는 비스페놀 A형 에폭시 수지) 및 289.6 부의 비스페놀 A를 반응 용기에 공급하였다. 반응 혼합물을 질소 대기하에서 150 내지 160 ℃로 가열하면, 초기 발열 반응이 일어났다. 가열을 150 내지 160 ℃에서 약 1 시간동안 지속한 다음, 반응 혼합물을 120 ℃로 냉각하고, 제조된 2-에틸 헥산올로 절반이 차단된 IPDI(MIBK 용액) 498.8 부를 가하였다.Subsequently, 710.0 parts of EPON 829 (epoxy equivalent 193 to 203, bisphenol A epoxy resin produced by Shell Chemical Company) and 289.6 parts of bisphenol A were fed to the reaction vessel. When the reaction mixture was heated to 150 to 160 ° C. under a nitrogen atmosphere, an initial exothermic reaction occurred. The heating was continued at 150-160 ° C. for about 1 hour, then the reaction mixture was cooled to 120 ° C. and 498.8 parts of IPDI (MIBK solution) half blocked with the prepared 2-ethyl hexanol were added.

반응 혼합물을 약 1 시간동안 110 내지 120 ℃에서 유지시키고, 463.4 부의 에틸렌 글라이콜 모노뷰틸 에터를 가하고, 혼합물을 85 내지 95 ℃로 냉각하고 균질화시키고 196.7 부의 상기 제조된 4급화제를 가하였다. 반응 혼합물을 산가가 1이 될 때까지 85 내지 95 ℃에서 유지하고, 964 부의 탈이온수를 가하여 에폭시-비스페놀 A 수지의 4급화를 완료하고 4급 암모늄염 잔기를 갖는 안료 분산 수지(수지 Tg = 5 ℃, 수지 고형물 함량: 50%)를 수득하였다. The reaction mixture was maintained at 110-120 ° C. for about 1 hour, 463.4 parts of ethylene glycol monobutyl ether were added, the mixture was cooled to 85-95 ° C. and homogenized and 196.7 parts of the above prepared quaternizing agent was added. The reaction mixture was maintained at 85 to 95 ° C. until the acid value was 1, and 964 parts of deionized water were added to complete quaternization of the epoxy-bisphenol A resin and to have a pigment dispersion resin having a quaternary ammonium salt residue (resin Tg = 5 ° C.). , Resin solids content: 50%) was obtained.

제조예 4Preparation Example 4

안료 분산 페이스트의 제조Preparation of Pigment Dispersion Paste

제조예 3에서 수득된 안료 분산 수지 120 부, 2.0 부의 카본 블랙, 100.0 부의 카올린, 80.0 부의 이산화티타늄, 18.0 부의 알루미늄 포스포몰리브데이트 및 221.7 부의 이온교환수를 모래 분쇄 밀에 공급하고, 이들을 입자 크기가 10 ㎛ 이하가 될 때까지 분산시켜 안료 분산 페이스트(고형물 함량: 48%)를 수득하였다.120 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 3, 2.0 parts of carbon black, 100.0 parts of kaolin, 80.0 parts of titanium dioxide, 18.0 parts of aluminum phosphomolybdate and 221.7 parts of ion-exchanged water were fed to a sand grinding mill, Was dispersed until it became 10 mu m or less to obtain a pigment dispersion paste (solid content: 48%).

실시예 1Example 1

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전착 코팅 필름의 형성Preparation of Cationic Electrodeposition Coating Composition and Formation of Electrodeposition Coating Film

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 80/20의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 혼합물에 빙초산을 가하고, 이온 교환수를 서서히 가하여 희석하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 80/20. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of the acid was 30 based on 100 g of the binder resin solids content MEQ (A), and the mixture was diluted by gradually adding ion exchanged water. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 다이뷰틸주석 옥사이드를 혼합하고, 20.0 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 15 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 소성후 전착 코팅 필름이 15 ㎛의 건조 두께를 가지도록 30 ℃의 전착조 온도에서 0.90 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(A-1)을 수득하였다.Cation having 1500 parts of the above emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20.0% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coated film (electrodeposit film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 15 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. The electrodeposition coating was applied using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.90 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. so that the electrodeposited coating film after firing had a dry thickness of 15 μm. This was carried out to obtain a cationic electrodeposition coating film (A-1).

경화된 전착 코팅 필름의 형성Formation of Cured Electrodeposited Film

생성된 양이온성 전착 코팅 필름(A-1)을 170 ℃에서 20 분간 소성하여 기판으로서 경화된 전착 코팅 필름을 수득하였다.The resulting cationic electrodeposition coating film (A-1) was calcined at 170 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film as a substrate.

중간 코팅 필름의 형성Formation of intermediate coating film

폴리에스터-멜라민 경화형 중간 코팅 조성물("오토(OTO) H-880", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드(Nippon Paint Co., Ltd.)에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 20 ㎛가 되도록 회전 기화형 정전 코팅 장치를 이용하여 기판 위에 적용하고, 적용후 실온에서 8 분간 예열하여 비경화된 중간 코팅 필름을 형성하였다.Rotational vaporization of a polyester-melamine curable intermediate coating composition ("OTO H-880", commercially available from Nippon Paint Co., Ltd.) to a dry thickness of 20 μm It was applied onto the substrate using a type electrostatic coating apparatus, and after application, it was preheated at room temperature for 8 minutes to form an uncured intermediate coating film.

기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름의 형성Formation of base top coat film and transparent top coat film

아크릴-멜라민 경화형 기본 상부 코팅 조성물("오토 H-600", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 10 ㎛가 되도록 중간 코팅 필름 위에 적용하고, 적용후 실온에서 7 분동안 예열하여 비경화 기본 상부 코팅 필름을 형성하였다. 이어서, 아크릴산-에폭시 경화형 투명 상부 코팅 필름("맥(MAC) O-1600", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 35 ㎛가 되도록 기본 상부 코팅 필름 위에 적용하였다. 적용된 중간 코팅 필름, 기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름을 140 ℃에서 30 분간 소성하여 다층 코팅 필름을 수득하였다.An acrylic-melamine curable base top coating composition ("Auto H-600", commercially available from Nippon Paint Company, Limited) is applied over the intermediate coating film to a dry thickness of 10 μm and applied for 7 minutes at room temperature. Preheated to form an uncured base top coating film. An acrylic acid-epoxy curable transparent top coating film ("MAC O-1600", commercially available from Nippon Paint Company, Limited) was then applied over the base top coating film to a dry thickness of 35 μm. The applied intermediate coating film, base top coating film and transparent top coating film were calcined at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a multilayer coating film.

조도 곡선의 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선의 중심선 평균 조도(Pa) 측정Centerline average roughness (Ra) of roughness curve and centerline average roughness (Pa) of profile curve

전착 코팅 조성물로부터 수득된 경화 전착 코팅 필름의 Ra 값 및 Pa 값을 JIS-B 0601에 따라 미투토요 코포레이션(Mitutoyo Corp.)에서 제조한 평가형 표면 조도 시험기를 이용하여 측정하였다. 측정은 2.5 ㎜ 폭의 컷오프를 포함하는 샘플을 사용하여 7회 수행하였으며, Ra 값 및 Pa 값은 상한치 및 하한치를 제외함으로써 수득된 평균치로부터 결정하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.The Ra and Pa values of the cured electrodeposition coated film obtained from the electrodeposition coating composition were measured using an evaluation surface roughness tester manufactured by Mitutoyo Corp. according to JIS-B 0601. The measurement was carried out seven times using a sample containing a 2.5 mm wide cutoff, and the Ra and Pa values were determined from the average obtained by excluding the upper and lower limits. The results are shown in Table 1.

표면 에너지 측정Surface energy measurement

실시예 및 비교예의 경화된 전착 코팅 필름과, DIW(탈이온수), 에틸렌 글라이콜 및 메틸렌 요오다이드 사이의 접촉각을 용매 소적을 적하한 지 30초 후에 자동 접촉각 계량기(PD-X 유형, 카이오와 인터페이스 사이언스 캄파니, 리미티드(Kyowa Interface Science Co., Ltd.)에서 제조)를 이용하여 측정하였다. 경화된 전착 코팅 필름의 표면 에너지는 생성된 측정치로부터 상기 수학식을 이용하여 계산하여 결정하였다.The contact angle between the cured electrodeposited coating films of Examples and Comparative Examples and DIW (deionized water), ethylene glycol and methylene iodide 30 seconds after dropping the solvent droplets, automatic contact angle meter (PD-X type, car It was measured using Iowa Interface Science Co., Ltd. (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The surface energy of the cured electrodeposited coating film was determined by calculation using the above equation from the resulting measurements.

접촉각 측정Contact angle measurement

실시예 및 비교예의 경화된 전착 코팅 필름과 중간 코팅 조성물("오토 H-880") 사이의 접촉각을 중간 코팅 조성물의 소적을 적하한 지 30 초후에 자동 접촉각 계량기(PD-X 유형, 카이오와 인터페이트 사이언스 캄파니, 리미티드에서 제조)를 사용하여 측정하였다.The contact angle between the cured electrodeposition coating films of the Examples and Comparative Examples and the intermediate coating composition ("Auto H-880") was 30 seconds after the dropping of the intermediate coating composition was dropped. Automatic contact angle meter (PD-X type, Kaiowa Measured using Interface Science Co., Ltd.).

다층 코팅 필름의 외관 평가Appearance Evaluation of Multilayer Coating Film

소성 및 경화 후 다층 코팅 필름의 완성 외관을 웨이브-스캔(Wave-scan) DOI(비와이케이-가드너 캄파니(BYK-Gardner Co.))를 이용하여 측정하였다. 측정치중에서, 다층 코팅 필름의 외관중에서, "Wa"값은 광택으로 환산한 보정치이고, "Wc"값은 오렌지 필로 환산한 보정치이고, "Wd"는 평활도로 환산한 보정치이다. 평가는 Wa, Wc 및 Wd 값으로부터 수행하였다. 값이 작을수록, 외관이 우수하다.The finished appearance of the multilayer coating film after firing and curing was measured using a Wave-scan DOI (BYK-Gardner Co.). Among the measured values, in the appearance of the multilayer coating film, the "Wa" value is a correction value converted into gloss, the "Wc" value is a correction value converted into orange peel, and "Wd" is a correction value converted to smoothness. Evaluation was performed from Wa, Wc and Wd values. The smaller the value, the better the appearance.

실시예 2Example 2

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 3에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 35가 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 3 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 35 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 280 부, 1560 부의 이온 교환수, 20 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 14 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 25.5의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 0.90 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(A-2)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 280 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1560 parts of ion-exchanged water, 20 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coated film (electrodeposit film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 14 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 25.5 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% in the coating, and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.90 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (A-2). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

실시예 3Example 3

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 10 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 0.60 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(A-3)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coating film (electrodeposition film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 10 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.60 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (A-3). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

실시예 4Example 4

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 80/20의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 80/20. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 280 부, 1560 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 15 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 0.20 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(A-4)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 280 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1560 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coated film (electrodeposit film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 15 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.20 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (A-4). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

실시예 5Example 5

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 60/40의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 60/40. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 4 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 0.60 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(A-5)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coated film (electrodeposit film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 4 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.60 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (A-5). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

비교예 1Comparative Example 1

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 10 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 0.90 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(B-1)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coating film (electrodeposition film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 10 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 0.90 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (B-1). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

비교예 2Comparative Example 2

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 상기 전착 코팅 조성물 중 모든 수지 성분들의 각각의 수지 Tg로부터 계산하여 결정된 전착 코팅 필름(전착 필름)의 Tg는 10 ℃이었다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 1.20 ㎛(컷오프 값: 2.5 ㎜)의 표면 조도 Ra를 갖는 표면-처리된 강판 위에 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름(B-2)을 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The Tg of the electrodeposition coating film (electrodeposition film) determined by calculating from the respective resin Tg of all the resin components in the electrodeposition coating composition was 10 ° C. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was carried out using a coating composition on a surface-treated steel sheet having a surface roughness Ra of 1.20 μm (cutoff value: 2.5 mm) at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film (B-2). It was.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 1에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 1에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 1에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 1 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 1. The results are shown in Table 1.

실시예 6Example 6

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전착 코팅 필름의 형성Preparation of Cationic Electrodeposition Coating Composition and Formation of Electrodeposition Coating Film

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20.0 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 160 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(A-6)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20.0% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 160 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (A-6) as a substrate.

중간 코팅 필름의 형성Formation of intermediate coating film

폴리에스터-멜라민 경화형 중간 코팅 조성물("오토 H-880", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 20 ㎛가 되도록 회전 기화형 정전 코팅 장치를 이용하여 기판 위에 적용하고, 적용후 실온에서 8 분간 예열하여 비경화된 중간 코팅 필름을 형성하였다.A polyester-melamine curable intermediate coating composition ("Auto H-880", commercially available from Nippon Paint Company, Limited) was applied onto the substrate using a rotary vaporized electrostatic coating device to a dry thickness of 20 μm, After application it was preheated for 8 minutes at room temperature to form an uncured intermediate coating film.

기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름의 형성Formation of base top coat film and transparent top coat film

아크릴-멜라민 경화형 기본 상부 코팅 조성물("오토 H-600", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 10 ㎛가 되도록 중간 코팅 필름 위에 적용하고, 적용후 실온에서 7 분동안 예열하여 비경화 기본 상부 코팅 필름을 형성하였다. 이어서, 아크릴산-에폭시 경화형 투명 상부 코팅 필름("맥 O-1600", 니폰 페인트 캄파니, 리미티드에서 상업적으로 시판함)을 건조 두께가 35 ㎛가 되도록 기본 상부 코팅 필름 위에 적용하였다. 적용된 중간 코팅 필름, 기본 상부 코팅 필름 및 투명 상부 코팅 필름을 140 ℃에서 30 분간 소성하여 다층 코팅 필름을 수득하였다.An acrylic-melamine curable base top coating composition ("Auto H-600", commercially available from Nippon Paint Company, Limited) is applied over the intermediate coating film to a dry thickness of 10 μm and applied for 7 minutes at room temperature. Preheated to form an uncured base top coating film. An acrylic acid-epoxy curable transparent top coat film (commercially available from "Mac O-1600", Nippon Paint Company, Limited) was then applied over the base top coat film to a dry thickness of 35 μm. The applied intermediate coating film, base top coating film and transparent top coating film were calcined at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a multilayer coating film.

경화된 전착 코팅 필름의 동적 Tg 측정Dynamic Tg Measurement of Cured Electrodeposited Film

실시예 및 비교예에서 제조한 전착 코팅 조성물을 동적 점탄성 측정을 위해 주석판 위에 전착 코팅하여 전착 코팅된 필름을 수득하였다. 이어서, 전착 코팅 필름을 170 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 코팅 필름을 수은을 사용하여 주석판으로부터 분리하고 절단하여 측정용 샘플을 제조하였다. 샘플을 1 분당 2 ℃의 온도 상승 속도로 실온으로부터 200 ℃까지 가열하고 10 Hz의 주파수에서 진동시켜 오리엔테크 캄파니, 리미티드(Orientec Co., Ltd.)에서 제조한 레오바이브론(Rheovibron) 모델 레오(RHEO) 2000, 3000(상표명)을 이용하여 점탄성을 측정하였다. 저장 탄성(E') 대 손실 탄성(E")의 비(tanδ)를 계산하고 그 변곡점(tanδ의 피크 온도)을 측정하여 동적 Tg를 수득하였다.Electrodeposited coating compositions prepared in Examples and Comparative Examples were electrodeposited coated on a tin plate for dynamic viscoelasticity measurement to obtain an electrodeposited coated film. The electrodeposited coating film was then baked at 170 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film. The resulting coating film was separated from the tin plate using mercury and cut to prepare a sample for measurement. The sample was heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature rise of 2 ° C. per minute and vibrated at a frequency of 10 Hz to produce a rheovibron model Leo manufactured by Orientec Co., Ltd. Viscoelasticity was measured using (RHEO) 2000, 3000 (trade name). The ratio (tanδ) of storage elasticity (E ') to loss elasticity (E ") was calculated and its inflection point (peak temperature of tanδ) was measured to obtain a dynamic Tg.

경화된 전착 코팅 필름의 가교결합 밀도 측정Determination of Crosslink Density of Cured Electrodeposited Coating Film

전술한 방정식으로부터 동적 Tg의 측정에서 수득된 저장 탄성(E')을 이용하여 계산하여 가교결합 밀도를 측정하였다.The crosslink density was determined by calculation using the storage elasticity (E ') obtained from the measurement of dynamic Tg from the above equation.

다층 코팅 필름의 외관 평가Appearance Evaluation of Multilayer Coating Film

소성 및 경화 후 다층 코팅 필름의 완성 외관을 웨이브-스캔 DOI(비와이케이-가드너 캄파니)를 이용하여 측정하였다. 측정치중에서, 다층 코팅 필름의 외관중에서, "Wa"값은 광택으로 환산한 보정치이고, "Wc"값은 오렌지 필로 환산한 보정치이고, "Wd"는 평활도로 환산한 보정치이다. 평가는 Wa, Wc 및 Wd 값으로부터 수행하였다. 값이 작을수록, 외관이 우수하다.The finished appearance of the multilayer coated film after firing and curing was measured using a Wave-scan DOI (BWK-Gardner Company). Among the measured values, in the appearance of the multilayer coating film, the "Wa" value is a correction value converted into gloss, the "Wc" value is a correction value converted into orange peel, and "Wd" is a correction value converted to smoothness. Evaluation was performed from Wa, Wc and Wd values. The smaller the value, the better the appearance.

실시예 7Example 7

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 3에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 80/20의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 35가 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 3 were uniformly mixed in a solids content ratio of 80/20. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 35 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 20 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 25.5의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 160 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(A-7)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 20 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 25.5 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% in the coating, and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 160 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (A-7) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

실시예 8Example 8

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 80/20의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 80/20. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 180 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(A-8)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 180 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (A-8) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

실시예 9Example 9

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 60/40의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 60/40. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 180 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(A-9)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 180 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (A-9) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

비교예 3Comparative Example 3

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 90/10의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solid content ratio of 90/10. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 160 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(B-3)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 160 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (B-3) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

비교예 4Comparative Example 4

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 80/20의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 80/20. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 540 부, 1920 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 150 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(B-4)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 540 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1920 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, and having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (B-4) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

비교예 5Comparative Example 5

제조예 1에서 수득된 아민-개질된 에폭시 수지 및 제조예 2에서 수득된 차단된 아이소사이아네이트 경화제를 70/30의 고형물 함량비로 균일하게 혼합하였다. 100 g의 결합제 수지 고형물 함량 MEQ(A)를 기준으로 산의 ㎎ 당량이 30이 되도록 상기 혼합물에 빙초산을 가하고, 희석하기 위해 이온교환수를 서서히 가하였다. MIBK를 감압하에 제거하여 36%의 고형물 함량을 갖는 유화액을 수득하였다.The amine-modified epoxy resin obtained in Preparation Example 1 and the blocked isocyanate curing agent obtained in Preparation Example 2 were uniformly mixed in a solids content ratio of 70/30. Glacial acetic acid was added to the mixture so that the mg equivalent of acid was 30 based on 100 g of binder resin solids content MEQ (A) and ion exchanged water was added slowly to dilute. MIBK was removed under reduced pressure to yield an emulsion having a solids content of 36%.

1500 부의 상기 유화액, 제조예 4에서 수득된 안료 분산 수지 280 부, 1560 부의 이온 교환수, 40 부의 10% 세륨 아세테이트 수용액 및 10 부의 산화 다이뷰틸주석을 혼합하고, 20 중량%의 고형물 함량을 갖는 양이온성 전착 코팅 조성물을 수득하였다. 전착 코팅 조성물은 코팅 중 0.5%의 휘발성 유기물 함량(VOC), 및 100 g의 수지 고형물 함량(MEQ(A))을 기준으로 24.2의 산 ㎎ 당량가를 가졌다. 30 ℃의 전착조 온도에서 생성된 양이온성 전착 코팅 조성물을 이용하여 전착 코팅을 수행하여 양이온성 전착 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 전착 코팅 필름을 180 ℃에서 20 분간 소성하여 경화된 전착 코팅 필름(B-5)을 기판으로 수득하였다.A cation having 1500 parts of said emulsion, 280 parts of pigment dispersion resin obtained in Preparation Example 4, 1560 parts of ion-exchanged water, 40 parts of 10% cerium acetate aqueous solution and 10 parts of dibutyltin oxide, having a solids content of 20% by weight An electrodeposition coating composition was obtained. The electrodeposition coating composition had an acid mg equivalent value of 24.2 based on the volatile organics content (VOC) of 0.5% and the resin solids content (MEQ (A)) of 100 g in the coating. Electrodeposition coating was performed using the cationic electrodeposition coating composition produced at an electrodeposition bath temperature of 30 ° C. to obtain a cationic electrodeposition coating film. The resulting electrodeposition coated film was baked at 180 ° C. for 20 minutes to obtain a cured electrodeposition coating film (B-5) as a substrate.

양이온성 전착 코팅 조성물의 제조 및 전술한 전착 코팅 필름의 형성을 제외하고 실시예 6에서 기술한 바와 같이 다층 코팅 필름을 수득하였다. 생성된 다층 코팅 필름은 실시예 6에서 기술한 바와 같이 평가하였다. 결과는 표 2에 나타내었다.A multilayer coating film was obtained as described in Example 6 except for the preparation of the cationic electrodeposition coating composition and the formation of the electrodeposition coating film described above. The resulting multilayered coating film was evaluated as described in Example 6. The results are shown in Table 2.

시험 결과Test result

표 1에 나타낸 결과로부터 명백하듯이, 실시예 1 내지 5의 본 발명의 경화된 전착 코팅 필름은 우수한 표면 조건을 가졌다. 경화 전착 코팅 필름 상의 3-코팅 1-소성 코팅에 의해 전착 코팅 필름으로부터 외관 결함없이 우수한 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득되었다. 다른 한편으로, 비교예 1 내지 2에서, 전착 코팅 필름이 그로부터 외관 결함을 가졌으므로, 우수한 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득되지 않았다.As is apparent from the results shown in Table 1, the cured electrodeposition coating films of the present inventions of Examples 1 to 5 had excellent surface conditions. The 3-coated 1-baking coating on the cured electrodeposition coating film gave a multilayer coating film having a good appearance without appearance defects from the electrodeposition coating film. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 2, since the electrodeposition coating film had appearance defects therefrom, a multilayer coating film having excellent appearance was not obtained.

표 2에 나타낸 결과로부터 명백하듯이, 실시예 6 내지 9의 본 발명의 경화된 전착 코팅 필름 상의 3-코팅 1-소성 코팅에 의해 수득된 다층 코팅 필름은 우수한 외관을 가졌다. 다른 한편으로, 비교예 3 내지 5에서는, 우수한 외관을 갖는 다층 코팅 필름이 수득되지 않았다.As is apparent from the results shown in Table 2, the multilayer coating film obtained by 3-coating 1-baking coating on the cured electrodeposition coating film of the present invention of Examples 6 to 9 had a good appearance. On the other hand, in Comparative Examples 3 to 5, no multilayer coated film with good appearance was obtained.

본 발명에 따르면, 중간 코팅, 기본 상부 코팅 및 투명 상부 코팅을 경화된 전착 코팅 필름 위에 웨트 온 웨트 코팅에 의해 적용하는 단계; 및 비경화 코팅 필름의 세 층을 동시에 소성 및 경화시키는 단계를 포함하는 3-코팅 1-소성 코팅 방법에 의해, 보다 적은 수의 소성 단계를 포함하여 코팅 단계에서 소성 및 경화에 필요한 에너지가 절약되고 생산 비용이 감소될 수 있으며, 외관 결함이 없는 우수한 완성 외관을 갖는 다층 코팅 필름을 수득할 수 있다.According to the present invention there is provided a method comprising the steps of applying an intermediate coating, a base top coating and a transparent top coating by wet on wet coating on a cured electrodeposition coating film; And by firing and curing three layers of the uncured coating film at the same time, the energy required for firing and curing in the coating step is saved, including fewer firing steps. The production cost can be reduced and a multilayer coating film having a good finished appearance without appearance defects can be obtained.

도 1은 본 발명의 방법에 따른 한 태양을 예시하는 흐름도이다. 1 is a flow diagram illustrating one aspect according to the method of the present invention.

Claims (5)

기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 후, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; Performing electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on the substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; 경화된 전착 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying an intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film to form an uncured intermediate coating film; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And 비경화 중간 코팅 필름, 비경화 기본 상부 코팅 필름 및 비경화 투명 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하고, Simultaneously heating and curing the uncured intermediate coating film, the uncured base top coating film and the uncured transparent coating film, 경화된 전착 코팅 필름이 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra) 및 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa)를 갖는, 다층 코팅 필름의 제조 방법.The cured electrodeposition coating film has a centerline average roughness (Ra) of 0.05 to 0.25 μm obtained from the roughness curve and a centerline average roughness (Pa) of 0.05 to 0.30 μm obtained from the profile curve. 기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 후, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; Performing electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on the substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; 경화된 전착 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying an intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film to form an uncured intermediate coating film; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And 비경화 중간 코팅 필름, 비경화 기본 상부 코팅 필름 및 비경화 투명 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하고, Simultaneously heating and curing the uncured intermediate coating film, the uncured base top coating film and the uncured transparent coating film, 경화된 전착 코팅 필름이 37 내지 43 mJ/m2의 표면 에너지를 가지고, 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름 상에서 10 내지 30°의 접촉각을 갖는, 다층 코팅 필름의 제조 방법.The cured electrodeposition coating film has a surface energy of 37 to 43 mJ / m 2 , and the intermediate coating composition has a contact angle of 10 to 30 ° on the cured electrodeposition coating film. 기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 후, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; Performing electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on the substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; 경화된 전착 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying an intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film to form an uncured intermediate coating film; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And 비경화 중간 코팅 필름, 비경화 기본 상부 코팅 필름 및 비경화 투명 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하고, Simultaneously heating and curing the uncured intermediate coating film, the uncured base top coating film and the uncured transparent coating film, 경화된 전착 코팅 필름이 조도 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.25 ㎛의 중심선 평균 조도(Ra), 프로필 곡선으로부터 수득된 0.05 내지 0.30 ㎛의 중심선 평균 조도(Pa), 및 37 내지 43 mJ/m2의 표면 에너지를 가지고, 중간 코팅 조성물이 경화된 전착 코팅 필름 상에서 10 내지 30°의 접촉각을 갖는, 다층 코팅 필름의 제조 방법.Centerline average roughness (Ra) of 0.05 to 0.25 μm obtained from the roughness curve, centerline average roughness (Pa) of 0.05 to 0.30 μm obtained from the profile curve, and the surface of 37 to 43 mJ / m 2, wherein the cured electrodeposition coating film was cured 10. A method of making a multilayer coating film having energy, and wherein the intermediate coating composition has a contact angle of 10 to 30 degrees on the cured electrodeposition coating film. 기판 위에 양이온성 전착 코팅 조성물로 전착 코팅을 수행한 후, 상기 코팅을 가열 및 경화시켜 기판 위에 경화된 전착 코팅 필름을 형성하는 단계; Performing electrodeposition coating with a cationic electrodeposition coating composition on the substrate, then heating and curing the coating to form a cured electrodeposition coating film on the substrate; 경화된 전착 코팅 필름 위에 중간 코팅 조성물을 적용하여 비경화 중간 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying an intermediate coating composition on the cured electrodeposition coating film to form an uncured intermediate coating film; 비경화 중간 코팅 필름 위에 기본 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 기본 코팅 필름을 형성하는 단계; Applying a base top coating composition on the uncured intermediate coating film to form an uncured base coating film; 비경화 기본 코팅 필름 위에 투명 상부 코팅 조성물을 적용하여 비경화 투명 코팅 필름을 형성하는 단계; 및Applying a transparent top coating composition on the uncured base coating film to form an uncured transparent coating film; And 비경화 중간 코팅 필름, 비경화 기본 상부 코팅 필름 및 비경화 투명 코팅 필름을 동시에 가열 및 경화시키는 단계를 포함하고, Simultaneously heating and curing the uncured intermediate coating film, the uncured base top coating film and the uncured transparent coating film, 경화된 전착 코팅 필름이 동적 점탄성 측정에 의해 수득된 100 내지 130 ℃의 유리 전이 온도(Tg) 및 1.2 내지 2.6 밀리몰/cc의 가교결합 밀도를 갖는, 다층 코팅 필름의 제조 방법.The cured electrodeposition coating film has a glass transition temperature (Tg) of 100 to 130 ° C. and a crosslink density of 1.2 to 2.6 mmol / cc obtained by dynamic viscoelasticity measurement. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 중간 코팅 조성물이, 아크릴계 수지, 폴리에스터 수지 및 폴리우레탄 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 중간 코팅 수지; 차단된 아이소사이아네이트 화합물, 옥사졸린 화합물, 카보다이이미드 및 멜라민 화합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 중간 코팅 경화제; 및 안료를 포함하는, 다층 코팅 필름의 제조 방법.Intermediate coating composition, Intermediate coating resin containing at least one selected from the group consisting of acrylic resin, polyester resin and polyurethane resin; An intermediate coating curing agent comprising at least one selected from the group consisting of blocked isocyanate compounds, oxazoline compounds, carbodiimide and melamine compounds; And a pigment.
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