KR20050022366A - Heat-Releasing Member - Google Patents
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Abstract
본 발명은 일반적인 전원, 전자 기기 등에 사용되는 열전도성 시트 및 개인용 컴퓨터, 디지탈 비디오 디스크 드라이브 등의 전자 기기의 LSI, CPU 등의 집적 회로 소자의 방열에 사용되는 열전도성 부재에 있어서, 발열성 전자 부품으로부터 발생하는 열을 양호한 효율로 방열 부품으로 방산시켜, 발열성 전자 부품이나 그것을 이용한 전자 기기 등의 수명을 대폭 개선한다. The present invention relates to a heat generating electronic component in a heat conductive member used for heat dissipation of an integrated circuit element such as a LSI and a CPU of a thermal conductive sheet used in a general power supply, an electronic device, and an electronic device such as a personal computer or a digital video disk drive. Heat generated from the heat dissipated to the heat dissipation component with good efficiency, and greatly improves the lifespan of the heat generating electronic component, the electronic apparatus using the same, and the like.
본 발명은 The present invention
(A) 열가소성 실리콘 수지 100 중량부,(A) 100 parts by weight of a thermoplastic silicone resin,
(B) 평균 입경이 0.1 내지 5.0 ㎛인 열전도성 충전재(단, 최대 입경 15 ㎛를 초과하는 물질의 함유율은 1 중량% 이하임) 500 내지 2000 중량부(B) 500 to 2000 parts by weight of a thermally conductive filler having an average particle diameter of 0.1 to 5.0 μm, provided that the content of the material having a maximum particle size of more than 15 μm is 1% by weight or less.
를 포함하는 열연화성 열전도성 조성물을 시트상으로 성형한 것을 특징으로 하는 방열 부재를 제공한다. It provides a heat radiation member characterized in that the thermosoftening thermal conductive composition comprising a molded in a sheet form.
Description
본 발명은 전자 부품의 냉각을 위해 발열성 전자 부품과 열발산판(heat sink) 또는 금속 케이스 등의 방열 부품 사이의 열경계면에 개재하는 열 전달 재료에 관한 것이다. 특히, 전자 부품의 동작 온도 범위 내의 온도에서 점도 저하, 연화 또는 융해하여 열경계면에 대한 밀착성을 향상시키고, 발열성 전자 부품으로부터 방열 부품에의 열 전달을 개선하는 것이다. The present invention relates to a heat transfer material interposed between a heat generating electronic component and a heat dissipating component such as a heat sink or a metal case for cooling the electronic component. In particular, viscosity decreases, softens, or fuses at a temperature within an operating temperature range of the electronic component, thereby improving adhesion to the thermal boundary surface and improving heat transfer from the heat generating electronic component to the heat radiating component.
텔레비젼, 비디오, 컴퓨터, 의료 기구, 사무 기계, 통신 장치 등, 최근 전자 기기의 회로 설계는 복잡성이 증가되고, 트랜지스터 수십만개 상당분을 내포하는 집적 회로가 제조되었다. 전자 기기의 소형화, 고성능화와 함께 점점 더 축소되는 면적으로 조립되는 이들 전자 부품의 개수가 증대함과 동시에 전자 부품 자체의 형상도 계속해서 소형화되고 있다. 이 때문에, 각 전자 부품으로부터 발생하는 열이 증가되고, 이 열에 의해 고장 또는 기능 부전이 생기기 때문에 열을 효과적으로 방산시키는 실장 기술이 중요해지고 있다. In recent years, the circuit design of electronic devices such as televisions, videos, computers, medical devices, office machines, communication devices, etc. has increased in complexity, and integrated circuits containing hundreds of thousands of transistors have been manufactured. With the miniaturization and high performance of electronic devices, the number of these electronic parts assembled into increasingly smaller areas increases, and the shape of the electronic parts itself continues to be miniaturized. For this reason, the heat which generate | occur | produces from each electronic component increases, and since the failure or malfunction occurs by this heat, the mounting technique which dissipates heat effectively becomes important.
개인용 컴퓨터, 디지탈 비디오 디스크, 휴대 전화 등의 전자 기기에 사용되는 CPU, 드라이버 IC, 메모리 등의 전자 부품에서 집적도의 향상에 따라 발생하는 열을 제거하기 위해서 많은 방열 방법 및 이에 사용하는 방열 부재가 제안되어 있다. Many heat dissipation methods and heat dissipation members are proposed to remove heat generated by the improvement of density in electronic parts such as CPU, driver IC, and memory used in electronic devices such as personal computers, digital video discs, and mobile phones. It is.
종래, 전자 기기 등에서 전자 부품의 온도 상승을 억제하기 위해서, 알루미늄, 구리, 황동 등, 열전도율이 높은 금속을 이용한 열발산판에 직접 전열하는 방법이 취해진다. 이 열발산판은 전자 부품으로부터 발생하는 열을 전도하고, 그 열을 외기와의 온도차에 의해 표면으로부터 방출한다. 전자 부품으로부터 발생하는 열을 열발산판에 양호한 효율로 전달하기 위해서, 열발산판과 전자 부품을 공극없이 밀착시킬 필요가 있고, 유연성을 갖는 저경도 열전도성 시트 또는 열전도성 그리스가 전자 부품과 열발산판 사이에 개재되어 있다. Conventionally, in order to suppress the temperature rise of an electronic component in an electronic device etc., the method of directly heat-transferring to the heat-dissipating plate using metal with high thermal conductivity, such as aluminum, copper, brass, is taken. The heat dissipation plate conducts heat generated from the electronic component and emits the heat from the surface by the temperature difference with the outside air. In order to transfer the heat generated from the electronic component to the heat dissipation plate with good efficiency, the heat dissipation plate and the electronic component need to be closely adhered to each other without voids, and the flexible low hardness thermal conductive sheet or the thermal conductive grease is used to It is interposed between the diverging plates.
그러나, 저경도 열전도성 시트는 취급 작업성은 우수하지만, 두께를 얇게 하기가 어려우며, 전자 부품이나 열발산판 표면의 미세한 요철에 추종할 수 없기 때문에 접촉 열저항이 커져, 효율적으로 열을 전도할 수 없다는 문제가 있다. However, the low hardness thermally conductive sheet has excellent handling workability, but it is difficult to reduce the thickness, and because it cannot follow the minute unevenness on the surface of the electronic component or the heat dissipation plate, the contact thermal resistance is increased, and heat can be efficiently conducted. There is no problem.
한편, 열전도성 그리스는 두께를 얇게 할 수 있기 때문에 전자 부품과 열발산판의 거리를 작게 할 수 있고, 또한 표면의 미세한 요철을 매립함으로써 열저항을 대폭 저감시킬 수 있다. 그러나, 열전도성 그리스는 취급성이 나빠 주위를 오염시키거나, 열 사이클에 의해 오일분이 분리(펌핑 아웃)되어 열 특성이 저하되는 문제가 있다. On the other hand, since the thermally conductive grease can be made thin, the distance between the electronic component and the heat dissipation plate can be reduced, and the thermal resistance can be greatly reduced by embedding minute unevenness on the surface. However, thermally conductive greases have a problem in that they are poor in handling and contaminate the surroundings, or oil components are separated (pumped out) by thermal cycles, thereby degrading thermal characteristics.
최근 저경도 열전도성 시트의 취급성과 열전도성 그리스의 낮은 열저항화의 두가지 특성을 모두 갖는 열전도성 부재로서, 실온에서는 취급성이 양호한 고체상이고, 전자 부품으로부터 발생하는 열에 의해 연화 또는 용융하는 열연화성 재료가 다수 제안되어 있다. A thermally conductive member having both characteristics of recent low hardness thermally conductive sheets and low thermal resistance of thermally conductive greases, which have a good handleability at room temperature and are softened or melted by heat generated from electronic components. Many materials have been proposed.
일본 특허 공표 2000-509209호 공보에는 아크릴계 감압 점착제와 α-올레핀계 열가소제와 열전도성 충전제로 이루어지는 열전도성 재료, 또는 파라핀계 왁스와 열전도성 충전제로 이루어지는 열전도성 재료가 제안되어 있다. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-509209 proposes a thermally conductive material composed of an acrylic pressure-sensitive adhesive, an α-olefin thermoplastic and a thermally conductive filler, or a thermally conductive material composed of a paraffin wax and a thermally conductive filler.
일본 특허 공개 2000-336279호 공보에는 열가소성 수지, 왁스, 열전도성 충전제로 이루어지는 열전도성 조성물이 제안되어 있다. Japanese Patent Laid-Open No. 2000-336279 proposes a thermally conductive composition composed of a thermoplastic resin, a wax, and a thermally conductive filler.
일본 특허 공개 2001-89756호 공보에는 아크릴 등의 중합체와 탄소수 12 내지 16의 알코올, 석유 왁스 등의 융점 성분과 열전도성 충전제로 이루어지는 열중개 재료가 제안되어 있다. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-89756 proposes a thermal mediation material comprising a polymer such as acryl, a melting point component such as an alcohol having 12 to 16 carbon atoms, a petroleum wax, and a thermally conductive filler.
일본 특허 공개 2002-121332호 공보에는 폴리올레핀과 열전도성 충전제로 이루어지는 열연화성 방열 시트가 제안되어 있다. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-121332 proposes a thermosoftening heat dissipating sheet composed of a polyolefin and a thermally conductive filler.
그러나, 이들은 모두 유기물을 기재로 한 것이며, 난연성을 지향한 재료가 아니다. 또한, 자동차 등에 이들 부재가 조립된 경우에는 고온에 의한 열화가 우려된다. However, these are all based on organic matter and are not materials aimed at flame retardancy. Moreover, when these members are assembled in an automobile etc., deterioration by high temperature is feared.
한편, 내열성, 내후성, 난연성이 우수한 재료로서 실리콘이 알려져 있고, 실리콘을 기재로 한 동일한 열연화성 재료도 다수 제안되어 있다. On the other hand, silicon is known as a material excellent in heat resistance, weather resistance, and flame retardancy, and many of the same thermosoftening materials based on silicon have also been proposed.
일본 특허 공개 2000-327917호 공보에는 열가소성 실리콘 수지와 왁스상 변성 실리콘 수지와 열전도성 충전제로 이루어지는 조성물이 제안되어 있다. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-327917 proposes a composition comprising a thermoplastic silicone resin, a wax-like modified silicone resin and a thermally conductive filler.
일본 특허 공개 2001-291807호 공보에는 실리콘 겔 등의 결합제 수지와 왁스와 열전도성 충전재로 이루어지는 열전도성 시트가 제안되어 있다. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-291807 proposes a thermally conductive sheet composed of a binder resin such as silicone gel, a wax and a thermally conductive filler.
일본 특허 공개 2002-234952호 공보에는 실리콘 등의 고분자 겔과 변성 실리콘, 왁스 등의, 가열하면 액체가 되는 화합물과 열전도성 충전제로 이루어지는 열연화 방열 시트가 제안되어 있다. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-234952 proposes a thermal softening heat dissipation sheet composed of a polymer gel such as silicone, a modified silicone, wax, or the like, which becomes a liquid when heated, and a thermally conductive filler.
그러나, 이들은 실리콘 이외에 왁스 등의 유기물이나 실리콘을 변성한 왁스를 이용하고 있기 때문에, 실리콘 단품보다 난연성, 내열성이 뒤떨어진다는 결점이 있었다. However, since these use organic substances, such as wax, and the wax which modified | denatured silicone other than silicone, there existed a fault that they are inferior to flame retardance and heat resistance than a silicone single piece.
본 발명은 상기 문제를 감안하여 예의 연구한 결과, 동작함으로써 실온보다 높은 온도에 도달할 수 있는 발열성 전자 부품과 방열 부품 사이(경계)에 배치되고, 전자 부품 동작 이전의 실온 상태에서는 비유동성이며, 전자 부품 동작시의 발열, 또는 배치시에 적극적으로 열을 가함으로써 저점도화, 연화 또는 용융하는 것에 의해 전자 부품과 방열 부품의 경계에 실질적으로 공극없이 충전되는 방열 부재에 있어서, 실질적인 두께를 작게 함으로써 조성물 자체의 열저항을 현저히 저감시켜, 방열 성능이 우수한 이하의 (1) 내지 (5)의 방열 부재를 제공한다. The present invention has been conducted in earnest in view of the above problems, and as a result, it is disposed between a heat generating electronic component and a heat dissipating component (boundary) capable of reaching a temperature higher than room temperature by operation, and is non-flowable at a room temperature state before the electronic component operation. In the heat dissipation member which is filled substantially without gaps in the boundary between the electronic component and the heat dissipation component by heating, heating, or actively applying heat at the time of arrangement, or lowering the viscosity, softening or melting, the thickness is substantially reduced. Thereby, the heat resistance of the composition itself is remarkably reduced, and the following heat dissipation members (1) to (5) excellent in heat dissipation performance are provided.
(1) (A) 열가소성 실리콘 수지 100 중량부,(1) (A) 100 parts by weight of a thermoplastic silicone resin,
(B) 평균 입경이 0.1 내지 5.0 ㎛인 열전도성 충전재(단, 최대 입경 15 ㎛를 초과하는 물질의 함유율은 1 중량% 이하임) 500 내지 2000 중량부(B) 500 to 2000 parts by weight of a thermally conductive filler having an average particle diameter of 0.1 to 5.0 μm, provided that the content of the material having a maximum particle size of more than 15 μm is 1% by weight or less.
를 포함하는 열연화성 열전도성 조성물을 시트상으로 성형한 것을 특징으로 하는 방열 부재. A heat dissipating member, comprising: forming a thermosoftening thermal conductive composition comprising a sheet.
(2) 상기 (A) 성분인 열가소성 실리콘 수지가 R1SiO3/2 단위(T 단위)와 R1 2SiO2/2 단위(D 단위)(식 중, R1은 탄소수 1 내지 10의 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소임)를 포함하는 것을 특징으로 하는 방열 부재.(2) The thermoplastic silicone resin as the component (A) is composed of R 1 SiO 3/2 units (T units) and R 1 2 SiO 2/2 units (D units) (wherein R 1 has 1 to 10 carbon atoms) Ring or substituted monovalent hydrocarbon).
(3) 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 열연화성 열전도성 조성물에, 25 ℃에서의 점도가 0.1 내지 100 Paㆍs인 실리콘 오일 및(또는) 실리콘 생고무를 더 첨가하는 것을 특징으로 하는 방열 부재. (3) The silicone oil according to claim 1 or 2, wherein the silicone oil having a viscosity at 25 ° C. of 0.1 to 100 Pa · s in the thermosoftening thermally conductive composition containing the component (A) and the component (B), and ( Or) silicone raw rubber is further added.
(4) 열전도율이 0.5 W/mK 이상이고, 80 ℃에서의 점도가 1×102 내지 1×105 Paㆍs의 범위인 것을 특징으로 하는 방열 부재.(4) A heat dissipation member having a thermal conductivity of 0.5 W / mK or more and a viscosity at 80 ° C. of 1 × 10 2 to 1 × 10 5 Pa · s.
(5) 상기 열연화성 열전도성 조성물을 시트상으로 성형한 방열 부재에서 그의 두께가 20 내지 80 ㎛인 것을 특징으로 하는 방열 부재. (5) The heat radiation member whose thickness is 20-80 micrometers in the heat radiation member which shape | molded the said thermosoftening heat conductive composition in the sheet form.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention
이하 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(A 성분: 열가소성 실리콘 수지)(A component: thermoplastic silicone resin)
본 발명의 방열 부재의 매체(매트릭스)가 될 수 있는 열가소성 실리콘 수지로서는, 방열 부재가 실질적으로 실온에서 고체(비유동성)로서 일정 온도, 바람직하게는 40 ℃ 이상이고, 발열성 전자 부품의 발열에 의한 최고 도달 온도 이하에서, 구체적으로는 40 내지 150 ℃ 정도, 특히 40 내지 120 ℃ 정도의 온도 범위에서 열연화, 저점도화 또는 융해하여 유동화하는 것이면 어떤 것일 수도 있다. 이 매체는 열연화를 일으키는 인자이고, 열전도성을 부여하는 충전재에 가공성이나 작업성을 제공하는 결합제로서의 역할도 한다. As the thermoplastic silicone resin which can be a medium (matrix) of the heat dissipation member of the present invention, the heat dissipation member is substantially a solid (non-flowable) at room temperature and has a constant temperature, preferably 40 ° C. or higher, to prevent heat generation of the heat generating electronic component. Below the maximum attained temperature, specifically, it may be any type of fluidized by heat softening, low viscosity or melting in the temperature range of about 40 to 150 ℃, in particular about 40 to 120 ℃. This medium is a factor that causes thermal softening and also serves as a binder for providing processability and workability to a filler that imparts thermal conductivity.
여기서, 열연화, 저점도화 또는 융해하는 온도는 방열 부재로서의 것이고, 실리콘 수지 자체는 40 ℃ 미만에 융점을 갖는 것일 수도 있다. Here, the temperature of heat softening, low viscosity, or melting is as a heat radiating member, and the silicone resin itself may have a melting point below 40 degreeC.
연화를 일으키는 매체는, 상기한 바와 같이 실리콘 수지로부터 선택된다면 어떤 것일 수도 있지만, 실온에서 비유동성을 유지하기 위해서 R1SiO3/2 단위(이하 T 단위라 함) 및(또는) SiO2 단위(이하 Q 단위라 함)를 포함한 중합체, 및 이들과 R1 2SiO2/2 단위(이하 D 단위라 함)의 공중합체 등이 예시된다. 별도로 D 단위를 포함하는 실리콘 오일이나 실리콘 생고무를 첨가할 수도 있다. 이들 중에서도 T 단위와 D 단위를 포함하는 실리콘 수지, 및 T 단위를 포함하는 실리콘 수지와 25 ℃에서의 점도가 0.1 내지 100 Paㆍs인 실리콘 오일 및(또는) 실리콘 생고무의 조합이 바람직하고, 실리콘 수지는 말단이 R1 3SiO1/2 단위(M 단위)로 봉쇄된 것일 수도 있다.The softening medium may be any one as long as it is selected from the silicone resin as described above, but in order to maintain non-flowability at room temperature, R 1 SiO 3/2 units (hereinafter referred to as T units) and / or SiO 2 units ( Polymers including Q units), copolymers of these with R 1 2 SiO 2/2 units (hereinafter referred to as D units), and the like. Alternatively, silicone oil or silicone raw rubber containing D units may be added. Among these, a combination of a silicone resin containing a T unit and a D unit, a silicone resin containing a T unit, and a silicone oil having a viscosity of 0.1 to 100 Pa · s and / or silicone raw rubber at 25 ° C. is preferable. The resin may be blocked in R 1 3 SiO 1/2 units (M units).
여기서, 상기 R1은 탄소수 1 내지 10, 바람직하게는 1 내지 6의 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기이다. 이러한 R1의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 시클로헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기 등의 알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기 등의 아랄킬기, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기, 시클로헥시닐기, 옥테닐기 등의 알케닐기나, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부를 불소, 브롬, 염소 등의 할로겐 원자, 시아노기 등으로 치환한 것, 예를 들면 클로로메틸기, 클로로프로필기, 브로모에틸기, 트리플루오로프로필기, 시아노에틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 메틸기, 페닐기 및 비닐기가 바람직하다.Here, R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of such R 1 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, de Aralkyl groups such as alkyl groups such as alkyl groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, naphthyl groups, benzyl groups, phenylethyl groups, and phenylpropyl groups such as aralkyl groups, vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, and butenyl groups , Alkenyl groups such as hexenyl group, cyclohexynyl group, octenyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of these groups substituted with halogen atoms such as fluorine, bromine, chlorine, cyano group, etc., for example, chloro Methyl group, chloropropyl group, bromoethyl group, trifluoropropyl group, cyanoethyl group, etc. are mentioned. Among these, a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group are especially preferable.
(A) 성분인 실리콘 수지에 대하여 더욱 구체적으로 설명하면, 본 발명에서 사용되는 실리콘 수지는 T 단위 및(또는) Q 단위를 포함하는 것이고, M 단위와 T 단위, 또는 M 단위와 Q 단위로 설계한다. 특히 고형시의 취약함을 개선하여 취급시의 파손 등을 방지할 수 있는 강인성이 우수한 것으로 만들기 위해서 T 단위를 도입하는 것이 유효하고, D 단위를 더 이용하는 것이 바람직하다. 여기서, T 단위의 치환기 (R1)로서는 메틸기 및 페닐기가 바람직하고, D 단위의 치환기로서는 메틸기, 페닐기 및 비닐기가 바람직하다. 또한, 상기 T 단위와 D 단위의 비율은 10:90 내지 90:10인 것이 바람직하고, 특히 20:80 내지 80:20으로 하는 것이 바람직하다.The silicone resin as the component (A) will be described in more detail. The silicone resin used in the present invention includes a T unit and / or a Q unit, and is designed in M unit and T unit, or M unit and Q unit. do. In particular, it is effective to introduce a T unit to improve the fragility at the time of solidification and to make it excellent in toughness that can prevent breakage during handling, and it is preferable to further use the D unit. Here, the substituent of T units (R 1) Examples of the methyl group and phenyl group are preferred, and a methyl group as the substituent of D units, preferably a phenyl group and a vinyl group. Moreover, it is preferable that the ratio of said T unit and D unit is 10: 90-90: 10, and it is especially preferable to set it as 20: 80-80: 20.
또한, 통상 이용되는 M 단위와 T 단위, 또는 M 단위와 Q 단위로 합성된 실리콘 수지에서도, 이것에 주로 D 단위로 이루어지며 말단은 M 단위인 점도 0.1 내지 100 Paㆍs의 실리콘 오일 및(또는) 실리콘 생고무를 혼합함으로써 취약함이 개량된다. 따라서, 열연화하는 실리콘 수지가 T 단위를 포함하고, D 단위를 포함하지 않는 경우에는, D 단위를 주성분으로 하는 상기 실리콘 오일 또는 실리콘 생고무 등을 첨가하면 취급성이 우수한 재료가 될 수 있다. In addition, the silicone resin synthesize | combined by M unit and T unit, or M unit and Q unit which are normally used also consists of silicone unit oil of viscosity 0.1-100 Pa.s which mainly consists of D unit, and the terminal is M unit, and / or ) Vulnerability is improved by mixing silicone raw rubber. Therefore, when the silicone resin to be softened contains T units and no D units, the silicone oil or silicone raw rubber containing D units as a main component may be added to provide excellent handleability.
이 경우, D 단위를 주성분으로 하는 실리콘 오일 및(또는) 실리콘 생고무의 첨가량은, 상온보다 높은 온도에 연화점 또는 융점을 갖는 (A) 성분인 실리콘 수지 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부, 특히 2 내지 10 중량부로 하는 것이 바람직하다. 1 중량부 미만의 경우에는 취급성의 개선이 보이지 않을 가능성이 있고, 100 중량부를 초과하는 경우에는 시트 등의 성형성, 지지성이 악화될 가능성이 있다. In this case, the addition amount of the silicone oil and / or silicone raw rubber containing D unit as a main component is 1 to 100 parts by weight, in particular based on 100 parts by weight of the silicone resin (A) component having a softening point or melting point at a temperature higher than room temperature. It is preferable to set it as 2-10 weight part. If it is less than 1 part by weight, the handleability may not be improved, and if it exceeds 100 parts by weight, the moldability and supportability of the sheet or the like may deteriorate.
상기한 바와 같이, (A) 성분인 실리콘 수지는 어느 정도의 점도 저하를 발생시킬 수 있고, 충전재의 결합제가 될 수도 있다. 이 (A) 성분인 실리콘 수지의 분자량은 500 내지 20000, 특히 1000 내지 10000인 것이 바람직하다. 실리콘 수지의 분자량이 500 미만이면 열연화시의 점도가 너무 낮아 열 사이클에 의해 펌핑 아웃될 우려가 있고, 20000을 초과하면 반대로 열연화시의 점도가 너무 높아 전자 부품이나 방열 부품과의 밀착성이 저하될 우려가 있다. As above-mentioned, the silicone resin which is (A) component can produce the viscosity fall to some extent, and can also become a binder of a filler. It is preferable that the molecular weight of the silicone resin which is this (A) component is 500-20000, especially 1000-10000. If the molecular weight of the silicone resin is less than 500, the viscosity at the time of thermal softening may be too low to be pumped out by a thermal cycle, and if it exceeds 20000, on the contrary, the viscosity at the time of thermal softening may be too high and the adhesiveness with an electronic component or a heat dissipation component will fall. There is a concern.
또한, 본 발명에서 사용되는 실리콘 수지는, 본 발명의 열전도성 부재에 유연성이나 점착성을 부여하는 것이 바람직하다. 이 경우, 단일 분자량의 중합체를 사용할 수도 있지만, 분자량이 다른 2종류 이상의 중합체 등을 혼합하여 사용할 수도 있다. Moreover, it is preferable that the silicone resin used by this invention gives flexibility and adhesiveness to the heat conductive member of this invention. In this case, although a polymer having a single molecular weight may be used, two or more kinds of polymers having different molecular weights and the like may be mixed and used.
(B 성분: 열전도성 충전재)(Component B: Thermal Conductive Filler)
본 발명에서 사용되는 B 성분인 열전도성 충전재는 방열 부재에 열전도성을 부여하기 위한 것이지만, 평균 입경이 0.1 내지 5.0 ㎛인 열전도성 충전재로서, 또한 최대 입경이 15 ㎛를 초과하는 물질이 (B) 성분 전체에서 차지하는 비율이 1 중량% 이하인 것이 필요하다. 평균 입경이 0.1 ㎛보다 작으면 얻어지는 조성물의 점도가 지나치게 높아지기 때문에 신전성(伸展性)이 부족해져 시트 또는 필름 등으로의 성형이 곤란해진다. 한편, 평균 입경이 5.0 ㎛보다 커지면 시트 또는 필름의 표면이 거칠어지고, 또한 전자 부품과 방열 부품과의 간극이 커지기 때문에 충분한 방열 성능을 발현할 수 없어질 우려가 있다. 따라서, 그의 평균 입경은 0.1 내지 5.0 ㎛의 범위일 필요가 있고, 특히 1.0 내지 3.5 ㎛인 것이 바람직하다. The thermally conductive filler, which is a B component used in the present invention, is for imparting thermal conductivity to the heat dissipating member, but is a thermally conductive filler having an average particle diameter of 0.1 to 5.0 µm, and a material having a maximum particle diameter of more than 15 µm (B). It is necessary that the ratio which occupies for all the components is 1 weight% or less. When the average particle diameter is smaller than 0.1 µm, the viscosity of the composition obtained becomes too high, so that the stretchability is insufficient and molding to a sheet or a film is difficult. On the other hand, when the average particle diameter is larger than 5.0 µm, the surface of the sheet or film becomes rough, and the gap between the electronic component and the heat dissipation part becomes large, so that there is a fear that sufficient heat dissipation performance cannot be expressed. Therefore, the average particle diameter thereof needs to be in the range of 0.1 to 5.0 µm, and particularly preferably 1.0 to 3.5 µm.
또한, 그의 최대 입경이 15 ㎛를 초과하는 물질의 비율이, 열전도성 충전제 전체에 대하여 1 중량%를 초과하면 전자 부품과 방열 부품과의 간극이 커질 우려가 있고, 충분한 방열 성능을 발현할 수 없어지는 경우가 있으며, 바람직하게는 0.5 중량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1 중량% 이하로 하는 것이 좋다. Moreover, when the ratio of the substance whose maximum particle diameter exceeds 15 micrometers exceeds 1 weight% with respect to the whole thermally conductive filler, the clearance gap between an electronic component and a heat radiating component may become large, and sufficient heat dissipation performance will not be expressed. It may be 0.5 weight% or less, It is good to set it as 0.1 weight% or less more preferably.
(B) 성분인 열전도성 충전재는, 열전도율이 양호하고 융점이 250 ℃를 초과하는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 알루미늄 분말, 산화아연 분말, 알루미나 분말, 질화붕소 분말, 질화알루미늄 분말, 질화규소 분말, 구리 분말, 은 분말, 다이아몬드 분말, 니켈 분말, 아연 분말, 스테인레스 분말, 카본 분말 등을 들 수 있지만 이들로 한정되는 것은 아니다. 이들은 구상일 수도 부정형상일 수도 있고, 단독으로 사용할 수도 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 2종류 이상을 혼합하여 사용한 경우에는 방열 성능, 시트 가공성, 작업성 등을 향상시킬 수 있다. The thermally conductive filler as the component (B) is not particularly limited as long as the thermal conductivity is good and the melting point exceeds 250 ° C., for example, aluminum powder, zinc oxide powder, alumina powder, boron nitride powder, aluminum nitride powder, and silicon nitride powder. , Copper powder, silver powder, diamond powder, nickel powder, zinc powder, stainless powder, carbon powder and the like, but are not limited thereto. These may be spherical or indefinite, may be used alone, or may be used by mixing two or more kinds. When two or more types are mixed and used, heat dissipation performance, sheet workability, workability, etc. can be improved.
(B) 성분의 배합량은, (A) 성분인 실리콘 수지 100 중량부에 대하여 500 내지 2000 중량부가 되도록 배합한다. 특히 600 내지 1500 중량부인 것이 바람직하다. 500 중량부 미만의 경우에는 얻어지는 조성물의 열전도성이 부족해지고, 2000 중량부를 초과하는 경우에는 가공성, 신전성이 나빠진다. The compounding quantity of (B) component is mix | blended so that it may be 500-2000 weight part with respect to 100 weight part of silicone resin which is (A) component. In particular, it is preferable that it is 600-1500 weight part. If it is less than 500 weight part, the thermal conductivity of the composition obtained will become inferior, and if it exceeds 2000 weight part, workability and extension will worsen.
(그 밖의 첨가제)(Other additives)
본 조성물에 (B) 성분인 열전도성 충전제와 (A) 성분인 열가소성 실리콘 수지의 습윤성을 향상시키는 성분으로서 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시실란을 이용하는 것이 더욱 유효하다. It is more effective to use the alkoxysilane represented by following formula (1) as a component which improves the wettability of the thermally conductive filler which is (B) component and the thermoplastic silicone resin which is (A) component for this composition.
화학식 1 중의 R2는 탄소수 6 내지 15의 알킬기이고, 구체예로서는 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 테트라데실기 등을 들 수 있다. 탄소수가 6보다 작으면 열전도성 충전제와의 습윤성이 충분하지 않고, 15보다 크면 상온에서 고화하기 때문에 취급이 불편할 뿐 아니라 조성물의 내열성 및 난연성이 저하된다. a는 1, 2 또는 3이지만, 특히 1인 것이 바람직하다. 또한, R3은 탄소수 1 내지 8의 포화 또는 불포화의 1가 탄화수소기이고, 구체예로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 헥실기, 옥틸기 등의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 비닐기, 알릴기 등의 알케닐기, 페닐기, 톨릴기 등의 아릴기, 2-페닐에틸기, 2-메틸-2-페닐에틸기 등의 아랄킬기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2-(나노플루오로부틸)에틸기, 2-(헵타데카플루오로옥틸)에틸기, p-클로로페닐기 등의 할로겐화 탄화수소기를 들 수 있고, 특히 메틸기, 에틸기가 바람직하다. b는 0, 1 또는 2이다. R4는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등을 들 수 있고, 특히 메틸기, 에틸기가 바람직하다.R 2 in the general formula (1) is an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, and specific examples thereof include a hexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, and a tetradecyl group. When carbon number is less than 6, wettability with a thermally conductive filler is not enough, and when it is larger than 15, since it solidifies at normal temperature, handling is inconvenient and heat resistance and flame retardance of a composition fall. a is 1, 2 or 3, but it is preferable that it is especially 1. R 3 is a saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, specific examples include cycloalkyl groups such as alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group and octyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group, Alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups, aryl groups such as phenyl groups and tolyl groups, aralkyl groups such as 2-phenylethyl groups and 2-methyl-2-phenylethyl groups, 3,3,3-trifluoropropyl groups, 2 Halogenated hydrocarbon groups, such as-(nanofluorobutyl) ethyl group, 2- (heptadecafluorooctyl) ethyl group, and p-chlorophenyl group, are mentioned, Especially a methyl group and an ethyl group are preferable. b is 0, 1 or 2. R <4> is a C1-C6 alkyl group, A methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, hexyl group, etc. are mentioned, A methyl group and an ethyl group are especially preferable.
상기 화학식으로 표시되는 알콕시실란의 구체예로서는, 하기의 것을 들 수 있다. The following are mentioned as a specific example of the alkoxysilane represented by the said chemical formula.
C6H13Si(OCH3)3 C 6 H 13 Si (OCH 3 ) 3
C10H21Si(OCH3)3 C 10 H 21 Si (OCH 3 ) 3
C12H25Si(OCH3)3 C 12 H 25 Si (OCH 3 ) 3
C12H25Si(OC2H5)3 C 12 H 25 Si (OC 2 H 5 ) 3
C10H21Si(CH3)(OCH3)2 C 10 H 21 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2
C10H21Si(C6H5)(OCH3)2 C 10 H 21 Si (C 6 H 5 ) (OCH 3 ) 2
C10H21Si(CH3)(OC2H5)2 C 10 H 21 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2
C10H21Si(CH=CH2)(OCH3)2 C 10 H 21 Si (CH = CH 2 ) (OCH 3 ) 2
C10H21Si(CH2CH2CF3)(OCH3)2 C 10 H 21 Si (CH 2 CH 2 CF 3 ) (OCH 3 ) 2
그 첨가량은 열가소성 실리콘 수지 100 중량부에 대하여 0.01 내지 20 중량부의 범위, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부의 범위이다. 이 오르가노실란은, 첨가량이 0.1 중량부 미만이면 열전도성 충전제의 습윤성이 부족해져 작업성이 저하되고, 20 중량부보다 많게 하더라도 효과가 증대되지 않으므로 비용적으로 불리해진다. The addition amount is the range of 0.01-20 weight part with respect to 100 weight part of thermoplastic silicone resins, More preferably, it is the range of 0.1-10 weight part. If the amount of the organosilane is less than 0.1 part by weight, the wettability of the thermally conductive filler is insufficient, and workability is lowered, and even if it is more than 20 parts by weight, the effect is not increased.
본 발명의 방열 부재에는 임의 성분으로서 통상 합성 고무에 사용되는 첨가제 또는 충전제 등을 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 추가로 사용할 수 있다. As an optional component, the additive or filler normally used for a synthetic rubber can be further used for the heat radiation member of this invention in the range which does not impair the objective of this invention.
구체적으로는 이형제로서 실리콘 오일, 불소 변성 실리콘 계면 활성제, 착색제로서 카본 블랙, 이산화티탄, 적산화철 등, 난연성 부여제로서 백금 촉매, 산화철, 산화티탄, 산화세륨 등의 금속 산화물, 또는 금속 수산화물, 가공성 향상제로서 공정유, 반응성 티타네이트 촉매, 반응성 알루미늄 촉매 등을 첨가할 수도 있다. Specifically, a metal oxide such as a platinum catalyst, iron oxide, titanium oxide, and cerium oxide, or a metal hydroxide as a flame retardant, such as a silicone oil, a fluorine-modified silicone surfactant, a colorant, carbon black, titanium dioxide, iron red oxide, and the like as a release agent. A process oil, a reactive titanate catalyst, a reactive aluminum catalyst, etc. can also be added as an improver.
또한, 열전도성 충전재의 고온시에서의 침강 방지제로서 침강성 또는 소성 실리카 등의 미분말, 요변성 향상재 등을 임의로 첨가할 수도 있다. Further, fine powders such as precipitated or calcined silica, thixotropy-improving materials, and the like may be optionally added as the anti-settling agent at high temperatures of the thermally conductive filler.
(방열 부재의 열전도율 및 용융 점도)(Thermal Conductivity and Melt Viscosity of the Heat Dissipation Member)
본 발명의 방열 부재의 열전도율은 0.5 W/mㆍK 이상인 것이 바람직하다. 열전도율이 0.5 W/mㆍK 미만이면 전자 부품과 방열 부품 등의 열전도성이 낮아져, 충분한 방열 성능이 발휘되지 않을 우려가 있다. It is preferable that the thermal conductivity of the heat radiating member of this invention is 0.5 W / m * K or more. If thermal conductivity is less than 0.5 W / m * K, thermal conductivity of electronic components, a heat radiating component, etc. will become low, and there exists a possibility that sufficient heat radiation performance may not be exhibited.
또한, 본 발명의 방열 부재는, 전자 부품과 방열 부품에의 충전성, 80 ℃에서의 점도가 1×102 내지 1×105 Paㆍs의 범위, 바람직하게는 5×102 내지 5×104 Paㆍs인 것이 바람직하다. 점도가 1×102 Paㆍs 미만이면 전자 부품과 열발산판 등의 방열 부품 사이로부터 유출될 우려가 있고, 1×105 Paㆍs를 초과하면 전자 부품과 방열 부품과의 간극이 작아지지 않아, 충분한 방열 성능을 발현할 수 없어질 우려가 있다.In the heat dissipation member of the present invention, the chargeability to the electronic component and the heat dissipation component and the viscosity at 80 ° C are in the range of 1 × 10 2 to 1 × 10 5 Pa · s, preferably 5 × 10 2 to 5 × It is preferable that it is 10 4 Pa.s. If the viscosity is less than 1 × 10 2 Pa · s, it may leak out between the electronic components and heat-dissipating components such as heat sinks, and if it exceeds 1 × 10 5 Pa · s, the gap between the electronic components and the heat-dissipating components will not be small. There is a possibility that sufficient heat dissipation performance cannot be expressed.
(제조 방법)(Production method)
본 발명의 방열 부재에 사용되는 열연화성 열전도성 조성물은, 상기 각 성분을 도우 믹서(혼련기), 게이트 믹서, 유성형 믹서 등의 고무 혼련기를 이용하여 배합 혼련함으로써 용이하게 제조할 수 있다. The thermosoftening thermal conductive composition used for the heat dissipation member of the present invention can be easily produced by compounding and kneading the above components using a rubber kneader such as a dough mixer (kneader), a gate mixer and a planetary mixer.
다음으로, 본 발명의 방열 부재는 열연화성 열전도성 조성물을 시트상 성형하여 이용된다. 여기서, 시트상이란 필름상, 테이프상을 포함하는 의미로 사용된다. 시트상으로 성형하는 방법으로서는 상기 혼련 후의 조성물을 압출 성형, 캘린더 성형, 롤 성형, 압착 성형, 용제에 용해시킨 후 도장하는 것 등에 의해 성형할 수 있다. 또한, 이 시트의 두께는 1 내지 200 ㎛일 수 있지만, 바람직하게는 10 내지 100 ㎛, 특히 바람직하게는 20 내지 80 ㎛일 수 있다. 1 ㎛ 미만이면 취급 성이 나빠지고, 200 ㎛를 초과하면 방열 성능이 나빠진다. Next, the heat radiating member of this invention is used by shape | molding a thermosoftening thermal conductive composition. Here, a sheet form is used by the meaning containing a film form and a tape form. As a method of shaping | molding in a sheet form, the composition after the said kneading | mixing can be shape | molded by extrusion molding, calender shaping | molding, roll shaping | molding, melt | dissolving in a solvent, and coating. In addition, the thickness of the sheet may be 1 to 200 μm, but preferably 10 to 100 μm, particularly preferably 20 to 80 μm. If it is less than 1 µm, the handleability becomes poor, and if it exceeds 200 µm, the heat dissipation performance deteriorates.
또한, 박리 필름상 또는 2장의 박리 필름 사이에 시트상으로 성형하는 것이 바람직하고, 도 1과 같은 형태로 가공하여 사용함으로써 취급 작업성을 향상시킬 수 있다. 즉, 연속 테이프상의 박리가 약간 쉬운 분리(separator) 필름 (1)과 일정한 형상의 크기로 절단된 박리가 약간 어려운 분리 필름 (2) 사이에 본 발명의 열연화성 열전도성 부재 (3)이 분리 필름 (2)와 동일한 형상으로 절단되어, 연속하여 배치된 형태이다. 사용 방법으로서는, 분리 필름 (2)에 점착된 풀 탭 테이프 (4)를 잡아당김으로써, 열연화성 열전도성 부재가 분리 필름 (1)로부터 박리되어 분리 필름 (2)측으로 이행하고, 또한 상기 열연화성 열전도성 부재의 면을 발열성 전자 부품 또는 방열 부품에 점착시키고 나서 풀 탭 테이프 (4)를 잡아당겨 분리 필름 (2)를 박리함으로써 열연화성 열전도성 부재를 소정의 장소에 쉽게 설치할 수 있다. Moreover, it is preferable to shape | mold in a sheet form between a peeling film form or two peeling films, and handling workability can be improved by processing and using it in the form like FIG. That is, the heat-softening thermally conductive member 3 of the present invention is a separation film between the separator film 1, which is easily peeled off on the continuous tape, and the separator film 2, which is slightly difficult to peel off in a certain shape. It is a form cut | disconnected in the same shape as (2), and arrange | positioned continuously. As a method of use, by pulling out the pull tab tape 4 adhered to the separation film 2, the heat-softening thermal conductive member is peeled off from the separation film 1 and shifted to the separation film 2 side. By sticking the surface of the thermally conductive member to the heat generating electronic component or the heat dissipating component, the pull tab tape 4 is pulled and the separation film 2 is peeled off, whereby the thermal softenable thermal conductive member can be easily installed at a predetermined place.
<실시예><Example>
(실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5) (Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5)
이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 서술하지만, 본 발명이 이에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited by this.
우선, 본 발명의 조성물을 형성하는 이하의 각 성분을 준비하였다. First, the following components which form the composition of this invention were prepared.
(A) 열가소성 실리콘 수지 (A) thermoplastic silicone resin
A-1: D25TΦ 55DVi 20(분자량 3,300, 연화점: 40 내지 50 ℃)A-1: D 25 T Φ 55 D Vi 20 (molecular weight 3,300, softening point: 40 to 50 ° C.)
(B) 열전도성 충전재 (B) thermally conductive filler
B-1: 평균 입경 1.5 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 0.01 %)의 알루미늄 분말 B-1: Aluminum powder with an average particle diameter of 1.5 micrometers (0.01% of content rate of a thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
B-2: 평균 입경 2.0 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 0.01 %)의 알루미늄 분말 B-2: Aluminum powder with an average particle diameter of 2.0 micrometers (0.01% of content rate of a thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
B-3: 평균 입경 1.0 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 0 %)의 산화아연 분말 B-3: Zinc oxide powder of 1.0 micrometer of average particle diameters (0% of content of the thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
B-4: 평균 입경 3.0 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 0.01 %)의 구리 분말 B-4: Copper powder with an average particle diameter of 3.0 micrometers (0.01% of content rate of a thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
B-5: 평균 입경 7.4 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 0.5 %)의 알루미늄 분말 B-5: Aluminum powder with an average particle diameter of 7.4 micrometer (content of 0.5% of thing of the largest particle diameter of 15 micrometers)
B-6: 평균 입경 1.5 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 2.0 %)의 알루미늄 분말 B-6: Aluminum powder with an average particle diameter of 1.5 micrometers (2.0% of content rate of a thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
B-7: 평균 입경 3.0 ㎛(최대 입경 15 ㎛의 것의 함유율 2.0 %)의 구리 분말B-7: Copper powder with an average particle diameter of 3.0 micrometers (2.0% of content rate of a thing with a maximum particle diameter of 15 micrometers)
(C) 실리콘 오일: 25 ℃에서의 점도가 0.4 Paㆍs인 페닐기 함유 실리콘 오일 KF-54(상품명, 신에츠 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조) (C) Silicone oil: The phenyl group containing silicone oil KF-54 with a viscosity of 0.4 Pa.s at 25 degreeC (brand name, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make).
(방열 부재의 제조 방법)(Manufacturing method of a heat radiating member)
(A) 성분인 열가소성 실리콘 수지, (C) 성분 및 톨루엔 20 중량부를 하기 표 1의 배합으로 유성형 믹서에 투입하고, 실온에서 20 분 교반 혼합하여 균일한 용액으로 만들었다. 다음으로 (B) 성분을 표 1의 배합으로 투입하여 실온에서 1 시간 교반 혼합하였다. 얻어진 조성물 용액을 또한 톨루엔 250 중량부로 희석하고 나서, 콤마(comma) 코터를 이용하여 박리가 약간 어려운 이형제가 도포되어 있는 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트)제의 분리 필름 (2)에 코팅하였다. 다음으로, 온도 80 ℃의 건조로를 5 분간 통과시켜 톨루엔을 휘발 제거하고 나서, 그 위에 박리가 약간 쉬운 이형제가 도포되어 있는 PET 제의 분리 필름 (1)을 온도 90 ℃의 열 롤로 압착하여 점착시켰다. 완성된 열연화성 열전도성 부재의 두께를 60 ㎛로 하였다(단, 실시예 2는 40 ㎛로 함). 20 parts by weight of the thermoplastic silicone resin (A) component (C) and toluene were added to the planetary mixer in the formulation of Table 1 below, and stirred and mixed at room temperature for 20 minutes to obtain a uniform solution. Next, (B) component was added to the compound of Table 1, and it stirred and mixed at room temperature for 1 hour. The obtained composition solution was also diluted to 250 parts by weight of toluene and then coated on a separating film (2) made of PET (polyethylene terephthalate) to which a release agent slightly difficult to peel was applied using a comma coater. Next, the toluene was volatilized off by passing through a drying furnace at a temperature of 80 ° C. for 5 minutes, and then, the PET separation film 1 coated with a release agent, which was slightly easy to peel off, was pressed and adhered with a heat roll at a temperature of 90 ° C. . The thickness of the completed thermosoftening thermal conductive member was 60 µm (Example 2 was set to 40 µm).
상기 공정에 의해 얻어진 양면을 박리가 약간 쉬운 분리 필름 (1)과 박리가 약간 어려운 분리 필름 (2) 사이에 끼워진 열연화성 열전도성 부재 (3)을 폭 25 mm로 슬릿 가공하여 테이프상으로 만들고 나서, 박리가 약간 어려운 분리 필름 (2)에 풀 탭 테이프 (4)를 점착시키면서 길이 25 mm의 위치에서 풀 탭 테이프, 분리 필름 (2)와 열연화성 열전도성 부재를 절단하고, 박리가 약간 쉬운 분리 필름 (1)은 테이프상 그대로 남김으로써 도 1의 제품 형태로 만들었다. The both sides obtained by the above process were slitted to a tape shape by slitting the thermosoftening thermally conductive member 3 sandwiched between the separating film 1 that was slightly easy to peel and the separating film 2 that was slightly peeled to a width of 25 mm. While sticking the pull tab tape 4 to the separation film 2 which is slightly difficult to peel off, the pull tab tape, the separation film 2 and the thermosoftening thermally conductive member are cut at a position of 25 mm in length, and the peeling is slightly easy The film 1 was made into the product form of FIG. 1 by leaving it on tape.
<평가 방법><Evaluation method>
(1) 두께, 열저항 및 열전도율(1) thickness, heat resistance and thermal conductivity
2장의 표준 알루미늄판에 상기 방열 부재를 끼우고, 약 0.14 MPa의 압력을 걸면서 25 ℃에서 120 분간 또는 125 ℃에서 10 분간 가열하였다. 다음으로, 2장의 표준 알루미늄판마다 두께를 측정하고, 미리 두께를 알고 있는 표준 알루미늄판의 두께를 빼므로써 시트의 실질적인 두께를 측정하였다. 또한, 두께 측정에는 마이크로미터(가부시끼가이샤 미쯔토요 제조, 형식: M820-25VA)를 이용하였다. 또한, 열연화성 열전도성 부재의 열저항 및 열전도율을 마이크로플래시 측정기(넷치게레이테바우사 제조)를 이용하여 측정하였다. The heat dissipation member was fitted to two standard aluminum plates, and heated at 25 ° C. for 120 minutes or at 125 ° C. for 10 minutes while applying a pressure of about 0.14 MPa. Next, the thickness was measured for every two standard aluminum plates, and the actual thickness of the sheet | seat was measured by subtracting the thickness of the standard aluminum plate which knows thickness previously. In addition, the micrometer (Mitsutoyo Corporation make, model: M820-25VA) was used for the thickness measurement. In addition, the thermal resistance and the thermal conductivity of the thermosoftening thermally conductive member were measured using a microflash measuring instrument (manufactured by NETZAGE RATEBAU CORPORATION).
(2) 점도(2) viscosity
동적 점탄성 측정 장치 RDA3(티ㆍ에이ㆍ인스트루먼트사 제조 상품명)을 이용하여 80 ℃에서의 점도를 측정하였다. The viscosity at 80 degreeC was measured using the dynamic-viscoelasticity measuring apparatus RDA3 (brand name by T. A. Instruments).
(3) 취급성(3) handleability
도 1의 제품 형태로 열발산판에의 장착성을 수작업으로 평가하였다. The mountability to the heat dissipation plate in the form of the product of Figure 1 was manually evaluated.
◎: 매우 양호 ○: 양호 △: 대체로 양호 ×: 불량◎: Very good ○: Good Δ: Almost good ×: Poor
이들 평가 결과를 표 1에 나타내었다. These evaluation results are shown in Table 1.
<비교예>Comparative Example
표 1의 각 성분 대신에 하기 표 2의 각 성분을 이용하여 실시예 1 내지 5와 동일한 방법으로 조성물을 얻었다. 얻어진 조성물에 대하여 실시예 1 내지 5와 동일하게 각 항목을 측정한 결과는 표 2와 같다.The composition was obtained by the method similar to Examples 1-5 using each component of following Table 2 instead of each component of Table 1. The result of having measured each item similarly to Examples 1-5 about the obtained composition is shown in Table 2.
본 발명의 열연화성 열전도성 부재는, 열전도성이 양호하고 발열성 전자 부품 및 방열 부품과의 밀착성이 양호하기 때문에 이것을 상기 두 부품 사이에 개재시킴으로써 발열성 전자 부품으로부터 발생하는 열을 양호한 효율로 방열 부품으로 방산시켜, 발열성 전자 부품이나 그것을 이용한 전자 기기 등의 수명을 대폭 개선하는 것이 가능하다. Since the thermal softening thermally conductive member of the present invention has good thermal conductivity and good adhesion between the heat generating electronic component and the heat dissipating component, the heat softening thermal conductive member is interposed between the two components to dissipate heat generated from the heat generating electronic component with good efficiency. By dissipating into parts, it is possible to greatly improve the lifespan of a heat generating electronic part and an electronic device using the same.
도 1은 본 발명의 방열 부재의 제품 형태를 나타내는 도면. 1 is a view showing the product form of the heat radiation member of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1: 박리가 약간 쉬운 분리 필름 1: Separation film slightly easy to peel
2: 박리가 약간 어려운 분리 필름2: separation film slightly difficult to peel
3: 방열 부재3: heat dissipation member
4: 풀 탭(pull tab) 테이프 4: pull tab tape
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KR100623442B1 (en) * | 2001-04-23 | 2006-09-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Heat dissipation member |
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JP3844125B2 (en) * | 2002-01-22 | 2006-11-08 | 信越化学工業株式会社 | Heat dissipating member, manufacturing method thereof and laying method thereof |
AU2002335883A1 (en) * | 2002-02-06 | 2003-09-02 | Parker Hannifin Corporation | Thermal management materials having a phase change dispersion |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008063709A2 (en) * | 2006-06-20 | 2008-05-29 | Polyone Corporation | Thermally conductive polymer compounds containing zinc sulfide |
WO2008063709A3 (en) * | 2006-06-20 | 2008-07-24 | Polyone Corp | Thermally conductive polymer compounds containing zinc sulfide |
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