KR20050013162A - 고분자 적층막, 그 제조 방법 및 그 용도 - Google Patents
고분자 적층막, 그 제조 방법 및 그 용도Info
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Abstract
Description
막의 특성 평가 결과 | ||
연료 전지 특성 평가 | 접합 특성 평가 | |
실시예 1 | 0.58 V | 막과 카본 직포의 양쪽에 접합되어 있었다. |
비교예 1 | 0.48 V | 카본 직포에만 접합되어 있었다. |
막의 특성 평가 결과 | ||
연료 전지 특성 평가 | 접합 특성 평가 | |
실시예 2 | 0.67 V | 막과 카본 직포의 양쪽에 접합되어 있었다. |
비교예 2 | 0.59 V | 카본 직포에만 접합되어 있었다. |
연료 전지 특성 평가 | 접합 특성 평가 | ||
전류 밀도가 0.50 A/㎠ 일 때의 셀 전압 | 셀 전압이 0.20 V 일 때의 전류 밀도 | ||
실시예 3 | 0.68 V | 1.96 A/㎠ | 막과 카본 직포의 양쪽에 접합되어 있었다. |
실시예 4 | 0.68 V | 1.80 A/㎠ | 막과 카본 직포의 양쪽에 접합되어 있었다. |
비교예 3 | 0.61 V | 1.38 A/㎠ | 카본 직포에만 접합되어 있었다. |
비교예 4 | 0.65 V | 1.38 A/㎠ | 막과 카본 직포의 양쪽에 접합되어 있었다. |
인장 시험 결과 | ||
탄성률 (MPa) | 파단점 응력 (MPa) | |
실시예 5 | 720 | 26 |
비교예 5 | 186 | 20 |
Claims (27)
- 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질로 이루어지는 막 (Ⅰ) 과, 퍼플루오로알킬술폰산 고분자 전해질 및 비(非)초강산 고분자 전해질로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종으로 이루어지는 막 (Ⅱ) 로 이루어지는 적층막.
- 제 1 항에 있어서, 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질이 하기 일반식 (1)-(A-Z)m-(A'-Z')n- (1)(식 중, A 는 2 가의 방향족기를, A' 는 초강산기가 치환되어 있는 2 가의 방향족기를 나타낸다. Z, Z' 는 각각 독립적으로 직접 결합 또는 2 가의 기를 나타낸다. m, n 은 반복 단위의 수를 나타내고, n 은 10∼100000 의 범위이고, n 개씩 있는 반복 단위는 같을 수도 다를 수도 있고, m 은 0∼100000 의 범위이고 m 개씩 있는 반복 단위는 같을 수도 다를 수도 있다.)로 나타내는 적층막.
- 제 2 항에 있어서, A 가 하기 일반식 (3a)∼(3c) 에서 선택되는 2 가의 방향족기, A' 가 (3d)∼(3g) 에서 선택되는 2 가의 방향족기인 적층막.(식 중, R 은 수산기, 탄소수 1∼6 의 알킬기, 탄소수 1∼6 의 알콕시기, 탄소수 7∼12 의 아르알킬기, 아릴기, 할로겐을 나타낸다. p, r, s, t 는 각각 독립적으로 0∼4 의 수를, q 는 0∼6 의 수를 나타내고, R 이 복수 있는 경우는, 이것들은 동일할 수도 다를 수도 있다. j 는 0 또는 1 의 수를 나타낸다. Y 는 직접 결합 또는 2 가의 기를 나타내고, Y 가 복수 있는 경우는, 이것들은 동일할 수도 다를 수도 있다. Z'' 및 Y 는 서로 독립적으로 직접 결합 또는 2 가의 기를 나타내고, Z'' 가 복수 있는 경우는, 그것들은 동일할 수도 다를 수도 있고, D 는 초강산기를 나타내고, D 가 복수 있는 경우는, 그것들은 동일할 수도 다를 수도 있다. h, h'', h''' 는 각각 독립적으로 1∼4 의 수를, h' 는 1∼6 의수를, (p'+h), (r'+h''), (s''+h''') 는 각각 독립적으로 1∼4 의 수를, s', t', r'', t'' 는 각각 독립적으로 0∼4 의 수를, (q'+h') 는 1∼6 의 수를 나타내고, j 는 0 또는 1 의 수를 나타낸다.)
- 제 3 항에 있어서, Z, Z' 및 Y 가 서로 독립적으로 직접 결합, -O-, -S-, -CO-, -SO2-, 탄소수 1∼20 의 알킬렌기, 탄소수 1∼20 의 알킬렌디옥시기에서 선택되는 기이고, Z'' 가 직접 결합, -O-, -S-, -CO-, -SO2-, 불소로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1∼20 의 알킬렌기, 불소로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1∼20 의 알킬렌디옥시기, 불소로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 6∼12 의 아릴렌기, 불소로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 6∼12 의 아릴렌옥시기, 불소로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1∼20 의 알킬렌옥시기로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 적층막.
- 제 2 항에 있어서, 초강산기가 하기 일반식 (2a)∼(2d)-G-SO3 -W+(2a)-G-SO2N-W+SO2-E (2b)-G-P(O)(O-W+)2(2c)-G-P(O)O-W+-E (2d)(식 중, G 는 수소의 일부 또는 전부가 불소 치환된 알킬렌기, 수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환된 아르알킬렌기, 또는 수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환된 아릴렌기를 나타내고, W+는 양이온을 나타내고, E 는 수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환된 알킬기, 수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환된 아르알킬기, 또는 수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환된 아릴기를 나타낸다.)로 나타내는 기에서 선택되는 것을 특징으로 하는 적층막.
- 제 5 항에 있어서, W 가 수소 이온인 적층막.
- 제 1 항에 있어서, 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질이 하기 식 (4)-[Ar1-(SO2-N-(X+)-SO2-Ar2)a-SO2-N-(X+)-SO2-Ar1-O]- (4)(식 중, Ar1, Ar2는 각각 독립적으로 치환기를 가질 수도 있는 2 가의 방향족기를 나타내고, a 는 0∼3 의 정수를, X+는 수소 이온, 알칼리 금속 이온 및 암모늄에서 선택되는 이온을 나타낸다.)로 나타내는 중합 단위를 갖는 고분자인 적층막.
- 제 7 항에 있어서, 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질이 그 주쇄에, 추가로 하기 식 (5)-[Ar3-O]- (5)(식 중, Ar3은 치환기를 가질 수도 있는 2 가의 방향족기를 나타낸다.)로 나타내는 반복 단위를 갖는 고분자인 적층막.
- 제 8 항에 있어서, 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질이 그 주쇄에, 추가로 하기 식 (6)-[Ar4-O]- (6)(식 중, Ar4는 치환기를 가질 수도 있는 2 가의 방향족기를 나타낸다.)로 나타내는 반복 단위를 갖는 고분자인 적층막.
- 제 7 항에 있어서, 치환기를 가질 수도 있는 2 가의 방향족기가 하기 방향족기에서 선택되는 1 종 이상의 기인 적층막.(식 중, R1은 탄소수 1∼10 의 탄화수소기, 탄소수 1∼10 의 탄화수소옥시기, 아세틸기, 벤조일기, 니트릴기, 술폰산기, 카르복시산기, 포스폰산기 또는 할로겐원자를 나타내고, a 는 0∼4 의 정수이고, b, c 는 0∼4 의 수이고, b 와 c 의 합계는 0∼6 이 되는 수이다. R1이 복수 있는 경우는, 이것들은 동일할 수도 다를 수도 있다. Y 는 직접 결합, -0-, -S-, -C(O)-, -SO2- 또는 -C(R3)2- 를 나타낸다. R3은 수소원자, 탄소수 1∼10 의 탄화수소기 또는 탄소수 1∼10 의 할로겐화 탄화수소기를 나타내고, 2 개의 R3은 동일할 수도 다를 수도 있고, 고리를 형성하고 있을 수도 있다. Y 가 복수 있는 경우는, 이것들은 동일할 수도 다를 수도 있다.)
- 제 7 항에 있어서, Ar1이 테트라플루오로페닐렌인 적층막.
- 제 7 항에 있어서, a 가 0 또는 1 인 적층막.
- 제 7 항에 있어서, 초강산기 함유 방향족 고분자 전해질이 식 (4) 로 나타내는 반복 단위와 식 (5) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 블록을 적어도 1 개 이상 함유하는 블록 공중합체인 적층막.
- 제 7 항에 있어서, X+가 수소 이온인 적층막.
- 제 1 항에 있어서, 비초강산 고분자 전해질이 방향족 고분자 전해질인 적층막.
- 제 1 항에 있어서, 막 (Ⅱ) 가 적어도 한면의 표층인 적층막.
- 제 1 항에 있어서, 적층막 중의 막 (Ⅱ) 의 비율이 0.1wt%∼50wt% 인 적층막.
- 퍼플루오로알킬술폰산 고분자 전해질로 이루어지는 막 (Ⅲ) 과, 비초강산 고분자 전해질로 이루어지는 막 (Ⅳ) 로 이루어지는 적층막.
- 제 18 항에 있어서, 비초강산 고분자가 탄화수소 고분자인 적층막.
- 제 19 항에 있어서, 탄화수소 고분자가 방향족 탄화수소 고분자인 적층막.
- 제 18 항에 있어서, 막 (Ⅲ) 이 적어도 한면의 표층인 적층막.
- 제 18 항에 있어서, 적층막 중의 막 (Ⅲ) 의 비율이 0.1wt%∼50wt% 인 적층막.
- 퍼플루오로알킬술폰산 고분자 전해질 및 비초강산 고분자 전해질로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종으로 이루어지는 막 (Ⅱ) 에, 초강산기 함유 방향족 고분자의 용액을 도포하고, 이것을 건조시킴으로써 이루어지는 적층막의 제조 방법.
- 비초강산 고분자 전해질로 이루어지는 막 (Ⅳ) 에, 퍼플루오로알킬술폰산 고분자의 용액을 도포하고, 이것을 건조시킴으로써 이루어지는 적층막의 제조 방법.
- 제 24 항에 있어서, 퍼플루오로알킬술폰산 고분자 용액의 용매가 할로겐 용매를 1wt% 이상 함유하는 용매인 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 18 항에 기재된 적층막으로 이루어지는 연료 전지.
- 제 26 항에 있어서, 집전체로서, 촉매가 담지된 카본과 퍼플루오로알킬술폰산 수지의 혼합물을 전극 재료에 고정한 것을 사용하는 연료 전지.
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