KR20040097234A - 경질 코팅을 가진 셀프-샤프닝 절단 기구 - Google Patents
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Abstract
Description
블레이드 | 초기첨예도 | 60사이클첨예도 | 60에서의총계 | 1060에서의총계 |
5(5㎛H) | 12 | 20.9 | 1212 | 16897 |
7(10㎛H) | 26.3 | 27.9 | 1603 | 22233 |
9(12㎛M) | 31.4 | 26.7 | 1715 | - |
Co/WC | 18 | 17 | 1050 | 15000 |
표준 마텐자이트계강의 블레이드 | 40 | 3 | 647 | - |
Claims (36)
- 제1 재료(들)로 만들어진 절단 에지(cutting edge)를 가진 셀프-샤프닝 절단 기구(self-sharpening cutting tool)에 있어서,상기 절단 에지는 그의 일 측면에 대해서만 상기 제1 재료(들)보다 실질적으로 더 경질인 코팅으로 코팅되어 있고,상기 코팅은 상기 절단 에지의 코팅된 측면에 실질적으로 평행하게 정렬된 층상 또는 적층형 마이크로구조(microstructure)를 갖는 것을 특징으로 하는셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항에 있어서,상기 코팅이, 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류(tungsten carbides)의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항에 있어서,상기 코팅이 다층형 코팅(multilayered coating)이고,상기 코팅의 최상층은, 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 경도(hardness)가 상이한 복수의 층으로 이루어진 다층형 코팅이고, 상기 층들 중 적어도 하나는 경도가 가장 높은 층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항에 있어서,상기 코팅이, 경도가 상이한 복수의 층으로 이루어진 다층형 코팅이고, 상기 층들 중 경도가 가장 높은 층은 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 또는 제5항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 최상층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 또는 제5항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 중간층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 또는 제5항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 베이스층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 텅스텐, 텅스텐 카바이드류 및/또는 0.0005∼0.5중량% 범위의 플루오르와 합금을 이룬 텅스텐 카바이드류와 텅스텐의 혼합물로 된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 0.0005∼0.5중량% 범위의 플루오르와 합금을 이룬, 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류와 텅스텐으로 된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제4항 내지 제7항, 및 제4항 내지 제7항을 인용하는 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이 텅스텐의 베이스층을 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 층이 절단 에지로부터 상기 코팅의 최상층까지 경도가 증가되는 순서로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅 또는 상기 코팅의 최상층이 0.3 이하의 WC/Co에 대한 마찰 계수를 갖는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 진공 쳄버 내에서 대기압보다 낮은 압력, 350℃보다 높은 온도, 바람직하게는 450∼550℃ 범위의 온도 하에, 화학 증착(Chemical Vapour Deposition)에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이 1∼25㎛, 바람직하게는 3∼12㎛의 총두께를 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅의 노출된 표면이 0.8㎛ 이하, 바람직하게는 0.5㎛ 이하의 조도(roughness) Ra를 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅 또는 상기 코팅의 최상층이 2000kG/㎟ 이상, 바람직하게는 2500kG/㎟ 이상, 더욱 바람직하게는 2900kG/㎟ 이상의 마이크로경도(microhardness)를 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅의 노출된 표면이 상기 절단 에지의 코팅된 표면과 실질적으로 평행한 방향으로 연삭(grinding) 또는 연마(polishing)된 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구.
- i) 제1 재료(들)로 만들어진 절단 에지를 제공하는 단계; 및ii) 상기 제1 재료(들)보다 실질적으로 경질인 코팅으로 상기 절단 에지 중 일 측면만을 코팅하는 단계를 포함하고,상기 코팅이, 상기 절단 에지의 코팅된 측면에 실질적으로 평행하게 정렬된 층상(layered) 또는 적층형(laminar) 마이크로구조를 갖는 것을 특징으로 하는셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항에 있어서,상기 코팅이, 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀함유하지 않은 텅스텐 카바이드류의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항에 있어서,상기 코팅이 다층형 코팅이고,상기 코팅의 최상층은, 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 경도가 상이한 복수의 층으로 이루어진 다층형 코팅이고, 상기 층들 중 적어도 하나는 경도가 가장 높은 층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항에 있어서,상기 코팅이, 경도가 상이한 복수의 층으로 이루어진 다층형 코팅이고, 상기 층들 중 경도가 가장 높은 층은 텅스텐 카바이드, 또는 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 또는 제23항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 최상층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 또는 제23항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 중간층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 또는 제23항에 있어서,상기 경도가 가장 높은 층이 상기 코팅의 베이스층인 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 텅스텐, 텅스텐 카바이드 및/또는 0.0005∼0.5중량% 범위의 플루오르와 합금을 이룬 텅스텐 카바이드류와 텅스텐의 혼합물로 된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 0.0005∼0.5중량% 범위의 플루오르와 합금을 이룬, 금속 텅스텐을 실질적으로 또는 전혀 함유하지 않은 텅스텐 카바이드류와 텅스텐으로 된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제22항 내지 제25항, 및 제22항 내지 제25항을 인용하는 제27항 및 제28항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이 텅스텐의 베이스층을 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,상기 층이 절단 에지로부터 상기 코팅의 최상층까지 경도가 증가되는 순서로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅 또는 상기 코팅의 최상층이 0.3 이하의 WC/Co에 대한 마찰 계수를 갖는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이, 진공 쳄버 내에서 대기압보다 낮은 압력, 350℃보다 높은 온도, 바람직하게는 450∼550℃ 범위의 온도 하에, 화학 증착에 의해 적용되는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이 1∼25㎛, 바람직하게는 3∼12㎛의 총두께로 적용되는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅의 노출된 표면이 0.8㎛ 이하, 바람직하게는 0.5㎛ 이하의 조도 Ra를 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅 또는 상기 코팅의 최상층이 2000kG/㎟ 이상, 바람직하게는 2500kG/㎟ 이상, 더욱 바람직하게는 2900kG/㎟ 이상의 마이크로경도를 가진 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
- 제19항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅의 노출된 표면이, 상기 코팅의 적용 후, 상기 절단 에지의 코팅된 표면과 실질적으로 평행한 방향으로 연삭 또는 연마되는 것을 특징으로 하는 셀프-샤프닝 절단 기구 제조 방법.
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