KR200309330Y1 - 슬릿형 유체 분사 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 전면판과 후면판이 맞대어져 이루어지는 몸체의 내부에 몸체의 길이 방향으로 형성되는 버퍼 공간과 상기 전면판과 후면판 사이의 상기 몸체 하단에 몸체의 길이 방향으로 형성되는 노즐과 상기 버퍼 공간과 노즐을 연통시키는 연통로를 구비하여, 공급원과 소통하는 입구를 통해 공급원으로부터 버퍼 공간으로 공급되는 유체가 상기 노즐을 통해 하방으로 분사되는 유체분사장치에 있어서,상기 연통로와 노즐 사이의 상기 전면판에 상기 몸체의 길이 방향으로 구비되는 보조 버퍼 공간을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿형 유체 분사 장치.
- 제 1 항에 있어서, 노즐 폭을 조절하도록 상기 노즐의 길이 방향을 따라 소정 간격으로 설치되는 다수의 노즐 폭 조절용 볼트들을 더 포함하며, 상기 노즐 폭 조절용 볼트들은 상기 전면판의 하단으로부터 상기 보조 버퍼 공간을 관통하도록 상기 전면판에 설치되는 것을 특징으로 하는 슬릿형 유체 분사 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 몸체의 전면판은 그 하단이 후면판을 향해 하방으로 경사진 형상을 가지며, 상기 보조 버퍼 공간은 상기 전면판의 경사면을 따라 긴 단면 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 슬릿형 유체 분사 장치.
- 제 1항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 후면판의 하단이 몸체의길이 방향으로 휘는 것을 방지하기 위한 강체가 상기 후면판의 내에 삽입되는 것을 특징으로 하는 슬릿형 유체 분사 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20-2003-0000824U KR200309330Y1 (ko) | 2003-01-10 | 2003-01-10 | 슬릿형 유체 분사 장치 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR20-2003-0000824U KR200309330Y1 (ko) | 2003-01-10 | 2003-01-10 | 슬릿형 유체 분사 장치 |
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KR200309330Y1 true KR200309330Y1 (ko) | 2003-04-07 |
Family
ID=49332440
Family Applications (1)
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KR20-2003-0000824U KR200309330Y1 (ko) | 2003-01-10 | 2003-01-10 | 슬릿형 유체 분사 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR200309330Y1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100757181B1 (ko) | 2006-06-08 | 2007-09-07 | (주) 세아 | 휘임을 방지한 유리평판 세정용 합성수지재 에어나이프 |
-
2003
- 2003-01-10 KR KR20-2003-0000824U patent/KR200309330Y1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100757181B1 (ko) | 2006-06-08 | 2007-09-07 | (주) 세아 | 휘임을 방지한 유리평판 세정용 합성수지재 에어나이프 |
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UA0108 | Application for utility model registration |
Comment text: Application for Utility Model Registration Patent event code: UA01011R08D Patent event date: 20030110 |
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REGI | Registration of establishment | ||
UR0701 | Registration of establishment |
Patent event date: 20030319 Patent event code: UR07011E01D Comment text: Registration of Establishment |
|
UR1002 | Payment of registration fee |
Start annual number: 1 End annual number: 1 Payment date: 20030113 |
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UG1601 | Publication of registration | ||
UR1001 | Payment of annual fee |
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UR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20060118 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
UR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20061212 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080130 Year of fee payment: 6 |
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UR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20080130 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
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