KR20030047771A

KR20030047771A - 차단제의 상승효과성 혼합물을 기재로 하는 일광차단 화장조성물, 및 그것의 용도

Info

Publication number: KR20030047771A
Application number: KR1020020077015A
Authority: KR
Inventors: 깡도디디에
Original assignee: 로레알
Priority date: 2001-12-07
Filing date: 2002-12-05
Publication date: 2003-06-18
Also published as: CA2412799A1; US6703002B2; BR0205474A; AU2002302125A1; AU2002302125B2; CN1424019A; FR2833170B1; EP1317919A1; FR2833170A1; US20030161794A1; JP2003192558A

Abstract

본 발명은 화장용으로 허용가능한 비히클(vehicle) 내에 적어도 하기의 것을 함유하는 것을 특징으로 하는 신규 국부용 화장 또는 피부학적 조성물에 관한 것이다 :

(a) 제 1 차단제(screening agent)로서, 임의적으로는 부분 또는 전부 중성화된 형태인, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산), 및

(b) 제 2 차단제로서, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의 하나 이상의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체

(상기 제 1 및 제 2 차단제는 본 발명에 따른 조성물 중에 주어진 일광 차단 지수에 대해 상승효과 활성을 가져올 수 있는 분율로 존재한다).

본 발명은 또한 자외선 조사의 효과에 대해 피부 또는 모발을 보호함에 있어서의 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

차단제의 상승효과성 혼합물을 기재로 하는 일광차단 화장 조성물, 및 그것의 용도{ANTISUN COSMETIC COMPOSITIONS BASED ON A SYNERGISTIC MIXTURE OF SCREENING AGENTS, AND USES}

본 발명은 신규 국부용 화장 조성물, 더욱 특히 자외선 조사로부터 피부 및/또는 모발을 광보호하기 위한 상기 조성물 (이하, 보다 간단히 일광차단 조성물이라고 칭해지는 조성물), 및 그것의 상기 화장적 용도에서의 용도에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 화장용으로 허용가능한 비히클 내에, 2 개 이상의 특정 차단제, 즉 첫 번째는 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산) 및, 두 번째는 특정 아미노-치환된 2-히드록시-벤조페논 화합물의 조합물을 함유하는 일광차단 조성물에 관한 것이다. 상기 2 개의 차단제 조합의 결과, 주어진 보호 인자에 대해 수득되는 상승효과가 있다.

파장 280 nm ~ 400 nm 의 광 조사는 인간 표피를 갈색화시킬 수 있고, 파장 280 ~ 320 nm 의 광선 (일명 UV-B 으로 알려짐) 은 자연 태닝의 전개에 해로울 수 있는 홍진 또는 피부 화상을 일으키며; 이에 따라 UV-B 조사는 차단되어야 함이 공지되어 있다.

또한, 피부의 갈색화를 야기하는, 파장 320 ~ 400 nm 의 UV-A 선이 특히 민감성 피부나 태양광 조사에 계속 노출된 피부의 경우, 피부에 해로운 변화를 초래할 수 있음이 알려져 있다. UV-A 선은 특히 피부의 탄력을 손실시키고, 주름이 나타나도록 하여, 노화를 앞당긴다. 그것은 일부 대상에 있어 홍진 반응의 촉발을 촉진하거나, 그러한 반응을 두드러지게 하며, 광독성 또는 광알레르기성 반응의 원인이 될 수도 있다. 그러므로 UV-A 조사를 제거하는 것이 바람직하다.

피부의 광보호(UV-A 및/또는 UV-B)를 위한 수많은 화장 조성물이 지금까지 제공되어 왔다.

상기 일광차단 조성물은 수중유형의 에멀션 형태 (즉, 연속적인 수성 분산상 및 불연속적인 오일성 분산상으로 구성된 화장용으로 허용가능한 비히클)로 종종 존재하며, 이는 다양한 농도로, 해로운 UV 복사를 선택적으로 흡수할 수 있는, 하나 이상의 종래의 친지성 및/또는 친수성의 유기 차단제를 함유하며, 이 차단제 (및 이들의 양) 는 목적하는 일광 차단 인자에 따라 선택되고, 상기 일광 차단 인자(SPF)는 수학적으로, UV 차단제가 없이 홍반 역치에 이르는데 필요한 UV 조사량에 대한, UV 차단제를 갖고 홍반 역치에 이르는데 필요한 UV 조사량의 비로 표현된다.

아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체에 기초한 일광차단 조성물이 특허 출원 EP 1 046 391 에 공지되어 있다. 이 화합물은 UV-A 조사를 차단한다.

실제로, 상기 광보호 분야에서 수많은 연구를 수행함에 따라, 본 출원인은놀랍고도 예기치 못하게도, 이미 그 자체로 당업계에 공지된 2 가지 차단제의 조합이 현저한 상승효과로 인해, 현저히 개선되고, 어느 경우에서도 사용되는 차단제들 중 어느 하나만을 사용하여 수득될 수 있는 것보다 훨씬 높은 보호 인자를 나타내는 일광차단 조성물을 수득하는 것이 가능하다는 것을 발견하였다.

상기 발견은 본 발명의 기초를 형성한다.

이에 따라, 본 발명의 하나의 주제에 따라, 화장용으로 허용가능한 비히클 내에 적어도 하기의 것들을 함유하는 것을 특징으로 하는 국부용의 신규 화장 또는 피부학적 조성물이 이제 제공된다:

(a) 제 1 차단제로서, 임의적으로는 부분 또는 전부 중성화된 형태인, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산), 및

(b) 제 2 차단제로서, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의 이후에 정의될 화학식 1 의 하나 이상의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체

본 발명의 다른 주제는 자외선 조사, 특히 일광 조사에 대한 피부 및/또는 모발 보호를 위한 화장 조성물의 제조에 있어서의 상기 조성물의 용도이다.

본 발명의 다른 주제는 주어진 일광 차단 지수에 대하여 상승효과를 제공하려는 목적을 위해, 임의적으로 부분 또는 완전 중성화된 형태인, 적어도 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산)을 함유하는, 자외선, 특히 일광 조사에 대한 피부 및/또는 모발 보호를 위한 화장 조성물의 제조에 있어서의 화학식 1 의 아미노치환 2-히드록시벤조페논 유도체의 용도이다.

본 발명의 다른 특징, 양상 및 이점은 뒤이은 상세한 설명을 읽으면 명백해질 것이다.

특히 특허 출원 FR-A-2 528 420 및 FR-A-2 639 347 에 개시된 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산) 및 그것의 각종 염은 실제로 파장 280 내지 400 nm 의 자외선을 흡수할 수 있고, 그의 최대 흡수 파장은 320 내지 400 nm, 특히 345 nm 부근이다. 이 차단제는 하기 화학식 2 에 대응한다 :

[식 중, B 는 수소 원자, 알칼리 금속, NH(R)₃ ⁺라디칼 (식 중, R 라디칼은 상동 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C₁- C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타냄), 또는 M^p+/p 기 (식 중, M^p+은 다가 금속 양이온을 나타내고, p 는 2 또는 3 또는 4 이며, M^p+는 바람직하게는 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺로부터 선택되는 금속 양이온을 나타냄)를 나타낸다].

상기 화학식 2 의 화합물은 "시스-트랜스" 이성질체에 하나 이상의 이중 결합(들)을 생성시킬 수 있음과, 모든 이성질체들은 본 발명의 영역 내에 포함됨이 명백히 이해된다.

벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산) 및 그것의 각족 염은 바람직하게 본 발명의 조성물 중에, 조성물의 총중량에 대해 1 내지 10 중량%, 더욱 특히 2 내지 8 중량% 의 분율로 존재한다.

본 발명에 따른 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체는 하기 화학식 1 에 대응한다 :

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, 수소 원자, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼, C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼 또는 C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼을 나타내고;

R¹및 R²는 또한 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성할 수 있으며;

R³및 R⁴는 동일 또는 상이하고, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼,C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼, C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼, C₁-C₁₂알콕시 라디칼, (C₁-C₂₀)알콕시카르보닐 라디칼, C₁-C₁₂알킬아미노 라디칼, 디(C₁-C₁₂)알킬아미노 라디칼, 임의 치환되는 아릴 라디칼 또는 헤테로아릴, 또는 카르복실레이트기, 술포네이트기 또는 암모늄 잔기에서 선택되는 수용해성 치환체를 나타내며;

X 는 수소 원자, 또는 COOR⁵또는 CONR⁶R⁷기를 나타내고;

R⁵, R⁶및 R⁷은 동일 또는 상이하고, 수소 원자, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼, C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼, C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼, -(YO)_o-Z 기 또는 아릴기를 나타내며;

Y 는 -(CH₂)₂-, -(CH₂)₃-, -(CH₂)₄- 또는 -CH-CH₃-CH₂- 를 나타내고;

Z 는 -CH₂-CH₃, -CH₂CH₂CH₃, -CH₂-CH₂-CH₂-CH₃, 또는 -CH(CH₃)-CH₃를 나타내며;

m 은 0 내지 3 의 정수이고;

n 은 0 내지 3 의 정수이며;

o 은 1 내지 2 의 정수이다).

C₁-C₂₀알킬 라디칼로서, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, 1-메틸에틸, n-부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, 1,1-디메틸에틸, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, n-헥실, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-2-메틸프로필, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실 또는 n-이코실을 들 수 있다.

C₂-C₁₀알케닐기로서, 예를 들어 비닐, n-프로페닐, 이소프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 2-메틸-1-부테닐, 2-메틸-2-부테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1-헥세닐, 2-헥세닐, 1-헵테닐, 2-헵테닐, 1-옥테닐 또는 2-옥테닐을 들 수 있다.

C₁-C₁₂알콕시 라디칼로서, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, n-부톡시, n-펜톡시, 1-메틸프로폭시, 3-메틸부톡시, 2,2-디메틸프로폭시, 1-메틸-1-에틸프로폭시, 옥톡시, 2-메틸프로폭시, 1,1-디메틸프로폭시, 헥속시, 헵톡시 또는 2-에틸헥속시를 들 수 있다.

C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼로서, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 1-메틸시클로프로필, 2-에틸시클로프로필, 1-프로필시클로프로필, 1-부틸시클로프로필, 1-펜틸시클로프로필, 1-메틸-1-부틸시클로프로필, 1,2-디메틸시클로프로필, 1-메틸-2-에틸시클로프로필, 시클로옥틸, 시클로노닐 또는 시클로데실을 들 수 있다.

하나 이상의 이중 결합을 갖는 C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼로서, 시클로프로페닐, 시클로부테닐, 시클로펜테닐, 시클로펜타디에닐, 시클로헥세닐, 1,3-시클로헥사디에닐, 1,4-시클로헥사디에닐, 시클로헵테닐, 시클로헵타트리에닐, 시클로옥테닐, 1,5-시클로옥타디에닐, 시클로옥타테트라에닐, 시클로노네닐 또는 시클로데세닐을 들 수 있다.

시클로알킬 또는 시클로알케닐 라디칼은 예를 들어, 할로겐, 예컨대 염소, 불소 또는 브롬; 시아노; 니트로; 아미노; C₁-C₄알킬아미노; 디(C₁-C₄)알킬아미노; C₁-C₄알킬; C₁-C₄알콕시; 또는 히드록실에서 선택되는 하나 이상(바람직하게는 1 내지 3개)의 치환체를 포함할 수 있다. 이들은 또한, 자유 원자가가 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼에 의해 채워질 수 있는, 1 내지 3 개의 헤테로 원자, 예컨대 황, 산소 또는 질소를 포함할 수 있다.

아릴기는 바람직하게는, 예를 들어 하기에서 선택되는 하나 이상의 치환체(바람직하게는 1 내지 3개)를 포함할 수 있는 페닐 또는 나프틸 고리에서 선택된다: 할로겐, 예컨대 염소, 불소 또는 브롬; 시아노; 니트로; 아미노; C₁-C₄알킬아미노; 디(C₁-C₄)알킬아미노; C₁-C₄알킬; C₁-C₄알콕시; 또는 히드록실. 보다 특히는, 페닐, 메톡시페닐 및 나프틸이 바람직하다.

헤테로아릴기는 통상적으로 황, 산소 또는 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함한다.

수 용해성기는 예를 들어, 카르복실레이트 또는 술포네이트기, 더욱 특히는생리학적으로 허용가능한 양이온과 이들의 염, 예컨대 알칼리 금속 염 또는 트리알킬암모늄 염, 예컨대 트리(히드록시알킬)암모늄 또는 2-메틸프로판-1-올-2-암모늄 염이다. 또한, 암모늄기, 예컨대 알킬암모늄, 및 생리학적으로 허용가능한 음이온과 이의 염화 형태를 언급할 수 있다.

R¹및 R²라디칼과 질소 원자에 의해 형성되는 5 또는 6원 고리의 예로서, 특히 피롤리딘 또는 피페리딘을 들 수 있다.

아미노기는 카르보닐 라디칼에 대하여 오르토, 메타 또는 파라 위치, 더욱 바람직하게는 파라 위치에서 벤젠 고리에 부착될 수 있다.

화학식 1 의 바람직한 화합물류에는 하기 화학식 1a 의 화합물들에서 선택되는 것들이 포함된다 :

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, 수소 원자 또는 C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내거나, 또는 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성하며;

X 는 COOR⁵또는 CONR⁶R⁷을 나타내고;

R⁵는 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₃-C₆시클로알킬 라디칼을 나타내며;

R⁶및 R⁷은 동일 또는 상이하며, 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₅-C₆시클로알킬 라디칼을 나타낸다).

화학식 1a 의 더욱 특히 바람직한 화합물은, R¹및 R²가 동일 또는 상이하고, C₁-C₄알킬 라디칼, 더욱 특히는 에틸을 나타내며; R⁵가 C₃-C₈알킬 라디칼을 나타내고; R⁶및 R⁷이 동일 또는 상이하며, C₁-C₈알킬 라디칼을 나타내는 화합물이다).

화학식 1 의 다른 바람직한 화합물류에는 하기 화학식 1b 의 것들에서 선택되는 것들이 포함된다:

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내거나 또는 이들과 결합한 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성한다).

화학식 1b 의 화합물 중에서, 더욱 특히 하기의 것들을 들 수 있다:

- 4-디에틸아미노-2-히드록시페닐 페닐 케톤,

- 4-피롤리디노-2-히드록시페닐 페닐 케톤.

화학식 1 의 더욱 특히 바람직한 화합물류에는 하기 화학식 1c 의 화합물들에서 선택되는 것들이 포함된다:

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하고, 수소 원자 또는 C₁-C₈알킬 라디칼을 나타내거나 또는 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성하며;

R⁵는 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₃-C₆시클로알킬 라디칼을 나타낸다).

화학식 14c 의 화합물 중에서, 하기를 언급할 수 있다:

- [lacuna] 2-(4-피롤리디노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 메틸 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 2-에틸헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 시클로헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- [lacuna] 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 메틸 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 이소부틸 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트.

매우 특히 바람직한 화학식 1 의 화합물은 n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트이다.

상기 정의된 화학식 1 의 화합물은 그 자체로 공지되어 있고, 이들의 구조 및 이들의 합성은 특허 출원 EP-A-1 046 391 및 DE 100 12 408 (이들의 발명 상세한 설명의 내용의 총체적 부분을 형성함) 에 개시되어 있다.

본 발명에 따른 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체는 본 발명의 조성물 내에 조성물의 총중량에 대해 더욱 바람직하게는 1 내지 10 중량%, 더욱 특히는 2 내지 8 중량% 범위의 비로 존재한다.

또한, 본 발명에 따른 조성물은 UV-A 및/또는 UV-B 영역에서 활성인 기타 부가적인 수용성 또는 지용성의 유기 UV 차단제 (흡수제) 를 함유할 수 있고, 상기 차단제는 통상 사용되는 화장 용매 중에 수용성, 지용성 또는 불용성이다.

상기 부가적인 유기 UV 차단제는 특히 안트라닐레이트; 신남산 유도체; 살리실산 유도체; 상기 화학식 2 의 화합물 이외의 캄포르 유도체; 트리아진 유도체, 예컨대, 특허 출원 US 4 367 390, EP 863 145, EP 517 104, EP 570 838, EP 796851, EP 775 698, EP 878 469 및 EP 933 376 에 개시된 것들; 상기 화학식 1 의 화합물 이외의 벤조페논 유도체; β,β-디페닐아크릴레이트 유도체; 벤조트리아졸 유도체; 벤잘말로네이트 유도체; 벤즈이미다졸 유도체; 이미다졸린; 특허 EP 669 323 및 US 2 463 264에 개시된 비스벤조아졸릴 유도체; p-아미노벤조산 (PABA) 유도체; 출원 US 5 237 071, US 5 166 355, GB 2 303 549, DE 197 26 184 및 EP 893 119에 개시된 메틸렌비스(히드록시페닐벤조트리아졸) 유도체; 차단 중합체 및 차단 실리콘, 예컨대, 특히 출원 WO 93/04665에 개시된 것들; α-알킬스티렌에서 유래된 이량체, 예컨대 특허 출원 DE 198 55 649에 개시된 것들; 및 출원 EP 0 967 200, DE 197 46 654, DE 197 55 649, 및 EP-A-1 008 586 에 개시된 4,4-디아릴부타디엔으로부터 선택된다.

UV-A 및/또는 UV-B 영역에서 활성인 부가적인 유기 차단제의 예로서, 하기에 INCI 명으로 나타나는 것들을 들 수 있다:

파라-아미노벤조산 유도체:

- PABA,

- 에틸 PABA,

- 에틸 디히드록시프로필 PABA,

- 특히 ISP에 의해 상표명 "Escalol 507"로 시판되는 에틸헥실 디메틸 PABA,

- 글리세릴 PABA,

- BASF에 의해 상표명 "Uvinul P25"로 시판되는 PEG-25 PABA,

살리실산 유도체:

- Rona/EM Industries 에 의해 상표명 "Eusolex HMS"로 시판되는 호모살레이트,

- Haarmann and Reimer 에 의해 상표명 "Neo Heliopan OS"로 시판되는 에틸헥실 살리실레이트,

- Scher 에 의해 상표명 "Dipsal"로 시판되는 디프로필렌글리콜 살리실레이트,

- Haarmann and Reimer 에 의해 상표명 "Neo Heliopan TS"로 시판되는 TEA 살리실레이트,

디벤조일메탄 유도체:

- 특히 Hoffmann-LaRoche 에 의해 상표명 "Parsol 1789"로 시판되는 부틸 메톡시디벤조일메탄,

- 이소프로필 디벤조일메탄,

신남산 유도체 :

- 특히 Hoffmann-LaRoche 에 의해 상표명 "Parsol MCX" 로 시판되는 에틸헥실 메톡시신나메이트,

- 이소프로필 메톡시 신나메이트,

- Haarmann and Reimer 에 의해 상표명 "Neo Heliopan E 1000" 으로 시판되는 이소아밀 메톡시 신나메이트,

- 시녹세이트,

- DEA 메톡시신나메이트,

- 디이소프로필 메틸신나메이트,

- 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트,

β,β-디페닐아크릴레이트 유도체 :

- 특히 BASF 에 의해 상표명 "Uvinul N539" 으로 시판되는 옥토크릴렌,

- 특히 BASF 에 의해 상표명 "Uvinul N35" 으로 시판되는 에토크릴렌,

벤조페논 유도체 :

- BASF 에 의해 상표명 "Uvinul 400" 으로 시판되는 벤조페논-1,

- BASF 에 의해 상표명 "Uvinul D50 " 으로 시판되는 벤조페논-2,

- BASF 에 의해 상표명 "Uvinul M40" 으로 시판되는 벤조페논-3 또는 옥시벤존,

- BASF 에 의해 상표명 "Uvinul MS4O" 으로 시판되는 벤조페논-4,

- 벤조페논-5,

- Norquay 에 의해 상표명 "Helisorb 11" 으로 시판되는 벤조페논-6,

- American Cyanamid 에 의해 상표명 "Spectra-Sorb UV-24" 로 시판되는 벤조페논-8,

- BASF 에 의해 상표명 "Uvinul DS-49" 로 시판되는 벤조페논-9,

- 벤조페논-12,

벤질리덴 캄포르 유도체 :

- Chimex 에 의해 상표명 "Mexoryl SD" 으로 제조되는 3-벤질리덴 캄포르,

- Merck 에 의해 상표명 "Eusolex 6300" 으로 시판되는 4-메틸벤질리덴 캄포르,

- Chimex 에 의해 상표명 "Mexoryl SL" 으로 제조되는 벤질리덴 캄포르 술폰산,

- Chimex 에 의해 상표명 "Mexoryl SO" 으로 제조되는 캄포르 벤잘코늄 메토술페이트,

- Chimex 에 의해 상표명 "Mexoryl SW" 으로 제조되는 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포르,

페닐벤즈이미다졸 유도체 :

- 특히 Merck 에 의해 상표명 "Eusolex 232" 으로 시판되는 페닐벤즈이미다졸 술폰산,

- Haarmann and Reimer 에 의해 상표명 "Neo Heliopan AP" 으로 시판되는 디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트,

트리아진 유도체 :

- Ciba Specialty Chemicals 에 의해 상표명 "Tinosorb S" 로 시판되는 아니소트리아진,

- 특히 BASF 에 의해 상표명 "Uvinul T150" 으로 시판되는 에틸헥실 트리아존,

- Sigma 3V 에 의해 상표명 "Uvasorb HEB" 로 시판되는 디에틸헥실 부타미도 트리아존,

- 2,4,6-트리스(디이소부틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

페닐벤조트리아졸 유도체 :

- Rhodia Chimie 에 의해 상표명 "Silatrizole" 로 시판되는 드로메트리졸 트리실록산,

- Fairmount Chemical 에 의해 상표명 "Mixxim BB/100" 으로 고체 형태로서 시판되거나 혹은 Ciba Specialty Chemicals 에 의해 상표명 "Tinosorb M" 으로 수성 분산액 중 마이크론화 형태로서 시판되는 메틸렌비스(벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀),

안트라닐산 유도체 :

- Haarmann and Reimer 에 의해 상표명 "Neo Heliopan MA" 으로 시판되는 멘틸 안트라닐레이트,

이미다졸린 유도체 :

- 에틸헥실 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸린 프로피오네이트,

벤잘말로네이트 유도체 :

- Hoffmann-LaRoche 에 의해 상표명 "Parsol SLX" 로 시판되는, 벤잘말로네이트 작용기를 포함하는 폴리오르가노실록산,

및 이들의 혼합물.

더욱 특히 바람직한 가용성 유기 UV 차단제는 하기 화합물들에서 선택된다:

- 에틸헥실 살리실레이트,

- 옥토크릴렌,

- 에틸헥실 메톡시신나메이트,

- 부틸 메톡시디벤조일메탄,

- 페닐벤즈이미다졸 술폰산,

- 벤조페논-3,

- 벤조페논-4,

- 벤조페논-5,

- 4-메틸벤질리덴 캄포르,

- 디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트,

- 아니소트리아진,

- 에틸헥실 트리아존,

- 디에틸헥실 부타미도 트리아존,

- 드로메트리졸 트리실록산,

- 메틸렌비스(벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀),

및 이들의 혼합물.

본 발명에 따른 화장 조성물은 또한 코팅 또는 비코팅된 산화금속으로부터 형성된 안료 또는 대안적으로는 나노안료 (일차 입자의 평균 크기: 통상적으로 5 nm ~ 100 nm, 바람직하게는 10 nm ~ 50 nm), 예를 들면 (비정형이거나, 루타일형 및/또는 아나타제형으로 결정화된)산화티탄, 산화철, 산화아연, 산화지르코늄 또는 산화세륨으로부터 형성된 나노안료를 함유할 수 있고, 이들은 모두 그 자체로 공지된 UV 광보호제이다. 통상의 코팅제는 또한 알루미나 및/또는 스테아르산알루미늄이다. 상기 코팅되거나 코팅되지 않은 산화금속 나노안료는 특히 특허 출원 EP-A-0 518 772 및 EP-A-0 518 773 에 개시되어 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 피부의 인공 태닝 및/또는 갈변화제(자가 태닝제), 예를 들면, 디히드록시아세톤 (DHA)를 함유할 수 있다.

본 발명의 조성물은 특히 지방 물질, 유기 용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 유연화제, 산화방지제, 자유 라디칼 파괴제, 불투명화제, 안정화제, 에몰리언트(emollient), 실리콘, α-히드록시산, 소포제, 보습제, 비타민, 곤충 기피제, 향료, 보존제, 계면활성제, 소염제, 물질 P 길항제, 충전제, 중합체, 추진제, 염기성화 또는 산성화제, 착색제, 또는 화장품, 특히 에멀션 형태의 일광차단 조성물의 제조에 통상 사용되는 임의의 다른 성분에서 선택되는 통상의 화장 보조제를 추가로 함유할 수 있다.

지방 물질은 오일 또는 왁스, 또는 이들의 혼합물로 구성될 수 있다. 용어 "오일"은 주위 온도에서 액체인 화합물을 의미하는 것으로 이해한다. 용어 "왁스"는 주위 온도에서 고체 또는 실질적으로 고체이고, 융점이 통상적으로 35℃ 초과인 화합물을 의미하는 것으로 이해한다. 이들은 또한 선형 또는 고리형의, 지방산, 지방 알코올 및 지방산 에스테르, 예를 들면, 벤조산, 트리멜리트산 및 히드록시벤조산의 유도체를 포함한다.

오일로서, 광유 (액체 파라핀); 식물성 오일 (스위트 아몬드, 마카다미아, 까치밥나무씨; 또는 호호바 오일); 합성 오일, 예컨대, 퍼히드로스쿠알렌, 지방 알코올, 산 또는 에스테르 (예컨대, 카프르산/카프릴산의 것을 포함하는, Finetex 사에 의해 상표명 "Finsolv TN"으로 시판되는 C₁₂-C₁₅알킬 벤조에이트, 옥틸 팔미테이트, 이소프로필 라놀레이트 또는 트리글리세리드), 또는 옥시에틸렌화 또는 옥시프로필렌화된 지방 에스테르 및 에테르; 실리콘 오일 (시클로메티콘, 폴리디메틸실록산 또는 PDMS); 불소화 오일; 또는 폴리알킬렌을 들 수 있다.

왁스성 화합물로서, 파라핀 왁스, 카르나우바 왁스, 밀랍 또는 수소화 캐스터 오일을 들 수 있다.

유기 용매 중에서, 저급 알코올 및 폴리올을 들 수 있다.

물론, 당업자는 본 발명에 따른 조성물에 본질적으로 부가된 유리한 성질, 특히 상승효과가 예상된 첨가(들)에 의해 손상을 받지 않거나, 실질적으로 손상을 받지 않도록, 이(들) 선택적인 부가 화합물 및/또는 이들의 양을 신중히 선택할 것이다.

본 발명의 조성물은 당업자에게 공지된 기술, 특히 수중유 또는 유중수형 에멀션의 제조를 목적하는 기술에 따라 제조될 수 있다.

상기 조성물은 특히 단순 또는 복합 에멀션의 형태 (O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W), 예컨대 크림, 밀크, 겔 또는 크림 겔, 분말 또는 고체 튜브의 형태로 제공될 수 있고, 선택적으로 에어로졸로서 포장될 수 있고, 폼(foam) 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다.

에멀션에 대해서는, 후자의 수성상은 공지된 방법에 따라 제조된 비이온성 소낭성 분산액을 포함할 수 있다 (Bangham, Standish 및 Watkins, J. Mol. Biol.,13, 238 (1965), FR 2 315 991 및 FR 2 416 008).

본 발명의 화장 조성물은 자외선에 대해 인간 표피 또는 모발을 보호하기 위한 조성물, 일광차단 조성물 또는 메이크업 제품으로서 이용될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물이 자외선에 대한 인간 표피의 보호용으로 또는 일광차단 조성물로서 사용될 경우에, 용매 또는 지방 물질 중에 현탁액 또는 분산액의 형태, 비이온성 소낭성 분산액의 형태 또는 에멀션, 바람직하게는 수중유형 에멀션의 형태, 예컨대, 크림 또는 밀크 형태, 연고, 겔, 크림 겔, 고체 튜브, 분말, 스틱, 에어로졸 폼 또는 스프레이 형태로 제공될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물이 자외선에 대한 모발의 보호용으로 사용될 경우에, 샴푸, 로션, 겔, 에멀션 또는 비이온성 소낭성 분산액의 형태로 제공될 수 있고, 예를 들면, 샴푸 전후, 염색 또는 탈색 전후, 퍼머 또는 모발 스트레이트 전, 동안 또는 후에 적용되는 헹굼용 조성물, 스타일링 또는 트리트먼트 로션, 또는 스타일링 또는 트리트먼트 겔, 송풍건조(blow-drying) 또는 모발 셋팅용 로션 또는 겔, 또는 모발의 퍼머 또는 스트레이트, 모발의 염색 또는 탈색용 조성물을 구성할 수 있다.

조성물이 속눈썹, 눈썹 또는 피부의 메이크업용 제품, 예컨대 표피용 트리트먼트 크림, 파운데이션, 립스틱 튜브, 아이섀도우, 페이스 파우더, 마스카라 또는 아이라이너로서 사용될 경우에, 무수 또는 수성, 페이스트형 또는 고체 형태, 예컨대 수중유 또는 유중수 에멀션, 비이온성 소낭성 분산액, 또는 현탁액으로 제공될 수 있다.

표시로써, 수중유 에멀션형의 비히클을 나타내는 본 발명에 따른 일광차단 제형물에 대해, 수성상 (특히 친수성 차단제를 포함하는 것)은 통상적으로 총 제형물에 대해, 50 내지 95 중량%, 바람직하게는 70 내지 90 중량%를 나타내고, 오일상 (특히 친지성 차단제를 포함하는 것)은 총 제형물에 대해, 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%를 나타내고, (공)에멀션화제(들)는 총 제형물에 대해, 0.5 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%를 나타낸다.

본 발명을 설명하는 구체적이나 비제한적인 실시예를 지금 제공할 것이다.

실시예

실시예 1

세테아릴 알코올 및 옥시에틸렌화 (33 EO) 세테아릴 알코올의 80/20 혼합물 (Sinnowax AO, Henkel)	7 g
글리세롤 모노- 및 디스테아레이트 혼합물(Cerasynt SD-V, ISP)	2 g
세틸 알코올	1.5 g
폴리디메틸실록산(Dow Corning 200 Fluid, Dow Corning)	1 g
C₁₂-C₁₅알킬 벤조에이트 (Witconol TN, Witco)	10 g
2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르	2 g
글리세롤	10 g
테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산 (Mexoryl SX, Chimex)	2 g
트리에탄올아민	적량 pH 7
보존제	적량
탈염수	100 g을 위한적량

실시예 2

글리세롤 모노/디스테아레이트/폴리에틸렌 글리콜 (100 EO) 스테아레이트 혼합물(Arlacel 165 FL, ICI)	2 g
스테아릴 알코올 (Lanette 18, Henkel)	1 g
야자유 스테아르산 (Stearine TP, Stearinerie Dubois)	2.5 g
폴리디메틸실록산(Dow Corning 200 Fluid, Dow Corning)	0.5 g
C₁₂/C₁₅알킬 벤조에이트 (Witconol TN, Witco)	15 g
트리에탄올아민	0.5 g
2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르	2.5 g
글리세롤	5 g
헥사데실 포스페이트, 칼륨염(Amphisol K, Hoffmann-LaRoche)	1 g
폴리아크릴산 (Synthalen K, 3V)	0.3 g
히드록시프로필 메틸 셀룰로오스(Methocel F4M, Dow Chemical)	0.1 g
테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산 (Mexoryl SX, Chimex)	1.5 g
트리에탄올아민	적량pH 7
보존제	적량
탈염수	100 g을 위한적량

본 발명에 따른, 화장용으로 허용가능한 비히클 내에 적어도 당업계에 공지된 2 가지 차단제의 조합물을 함유하는 신규 국부용 화장 또는 피부학적 조성물은 조합에 따른 현저한 상승효과로 인해, 현저히 개선되고, 어느 경우에서도 사용되는 차단제들 중 어느 하나만을 사용하여 수득될 수 있는 것보다 훨씬 높은 보호 인자를 나타내는 일광차단 조성물을 수득할 수 있도록 한다.

Claims

화장용으로 허용가능한 비히클(vehicle) 중에 적어도 하기의 것을 함유하는 것을 특징으로 하는 국부용 화장 또는 피부학적 조성물로서, 하기 제 1 및 제 2 차단제가 본 발명에 따른 조성물 중에 주어진 일광 차단 지수에 대해 상승효과 활성을 가져올 수 있는 분율로 존재하는 조성물 :

(a) 제 1 차단제로서, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의, 부분 또는 전부 중성화된 형태일 수 있는 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산), 및

(b) 제 2 차단제로서, 조성물의 총중량 기준으로 0.1 내지 15 중량% 의 하기 화학식 1 의 하나 이상의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체 :

[화학식 1]

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, 수소 원자, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼, C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼 또는 C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼을 나타내고;

R¹및 R²는 또한 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성할 수 있으며;

R³및 R⁴는 동일 또는 상이하고, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼, C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼, C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼, C₁-C₁₂알콕시 라디칼, (C₁-C₂₀)알콕시카르보닐 라디칼, C₁-C₁₂알킬아미노 라디칼, 디(C₁-C₁₂)알킬아미노 라디칼, 치환될 수 있는 아릴 라디칼 또는 헤테로아릴, 또는 카르복실레이트기, 술포네이트기 또는 암모늄 잔기에서 선택되는 수용해성 치환체를 나타내며;

X 는 수소 원자, 또는 COOR⁵또는 CONR⁶R⁷기를 나타내고;

R⁵, R⁶및 R⁷은 동일 또는 상이하고, 수소 원자, C₁-C₂₀알킬 라디칼, C₂-C₁₀알케닐 라디칼, C₃-C₁₀시클로알킬 라디칼, C₃-C₁₀시클로알케닐 라디칼, -(YO)_o-Z 기 또는 아릴기를 나타내며;

Y 는 -(CH₂)₂-, -(CH₂)₃-, -(CH₂)₄- 또는 -CH-CH₃-CH₂- 를 나타내고;

Z 는 -CH₂-CH₃, -CH₂CH₂CH₃, -CH₂-CH₂-CH₂-CH₃, 또는 -CH(CH₃)-CH₃를 나타내며;

m 은 0 내지 3 의 정수이고;

n 은 0 내지 3 의 정수이며;

o 은 1 내지 2 의 정수이다).
제 1 항에 있어서, 화학식 1 의 화합물(들)이 하기 화학식 1a 의 화합물들에서 선택되는 조성물 :

[화학식 1a]

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, 수소 원자 또는 C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내거나, 또는 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성하며;

X 는 COOR⁵또는 CONR⁶R⁷을 나타내고;

R⁵는 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₃-C₆시클로알킬 라디칼을 나타내며;

R⁶및 R⁷은 동일 또는 상이하며, 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₅-C₆시클로알킬 라디칼을 나타낸다).
제 2 항에 있어서, 화학식 1a 의 화합물에 있어,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, 에틸과 같은 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내고,

R⁵는 C₃-C₈알킬 라디칼을 나타내며;

R⁶및 R⁷은 동일 또는 상이하며, C₁-C₈알킬 라디칼을 나타내는 조성물.
제 1 항에 있어서, 화학식 1 의 화합물이 하기 화학식 1b 의 화합물들에서 선택되는 조성물 :

[화학식 1b]

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하며, C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내거나 또는 이들과 결합한 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성한다).
제 4 항에 있어서, 화학식 1b 의 화합물이 4-디에틸아미노-2-히드록시페닐 페닐 케톤 및 4-피롤리디노-2-히드록시페닐 페닐 케톤으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항에 있어서, 화학식 1 의 화합물(들)이 하기 화학식 1c 의 화합물들에서 선택되는 조성물 :

[화학식 1c]

(식 중,

R¹및 R²는 동일 또는 상이하고, 수소 원자 또는 C₁-C₈알킬 라디칼을 나타내거나 또는 이들과 결합된 질소 원자와 함께 5 또는 6원 고리를 형성하며;

R⁵는 수소 원자, C₁-C₁₂알킬 라디칼 또는 C₃-C₆시클로알킬 라디칼을 나타낸다).
제 6 항에 있어서, 화학식 1c 의 화합물이 하기의 것들로부터 선택되는 조성물 :

- [lacuna] 2-(4-피롤리디노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 메틸 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 2-에틸헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 시클로헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- [lacuna] 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 메틸 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트,

- 이소부틸 2-(4-디부틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트.
제 7 항에 있어서, 화학식 1c 의 화합물이 n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트인 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1 의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체(들)가 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 15 중량% 범위의 분율로 존재하는 조성물.
제 9 항에 있어서, 화학식 1 의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체(들)가 조성물의 총중량에 대해 1 내지 10 중량% 범위의 분율로 존재하는 조성물.
제 10 항에 있어서, 화학식 1 의 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체(들)가 조성물의 총중량에 대해 2 내지 8 중량% 범위의 분율로 존재하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 차단제가 하기 화학식 2 에 대응하는 조성물 :

[화학식 2]

[식 중, B 는 수소 원자, 알칼리 금속, NH(R)₃ ⁺라디칼 (식 중, R 라디칼은 상동 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C₁- C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타냄), 또는 M^p+/p 기 (식 중, M^p+은 다가 금속 양이온을 나타내고, p 는 2 또는 3 또는 4 임) 를 나타낸다].
제 12 항에 있어서, 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산)이 조성물의 총중량에 대해 1 내지 10 중량% 범위의 분율로 존재하는 조성물.
제 13 항에 있어서, 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산)이 조성물의 총중량에 대해 2 내지 8 중량% 범위의 분율로 존재하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, UV-A 및/또는 UV-B 영역에서 활성인 기타 유기 차단제를 부가적으로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 15 항에 있어서, 부가적인 유기 UV 차단제(들)가 하기의 것들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

안트라닐레이트; 신남산 유도체; 살리실산 유도체; 상기 화학식 2 의 것 이외의 캄포르 유도체; 트리아진 유도체; 상기 화학식 1 의 것 이외의 벤조페논 유도체; β,β-디페닐아크릴레이트 유도체; 벤조트리아졸 유도체; 벤잘말로네이트 유도체; 벤즈이미다졸 유도체; 이미다졸린; 비스벤조아졸릴 유도체; p-아미노벤조산 (PABA) 유도체; 메틸렌비스(히드록시페닐벤조트리아졸) 유도체; 차단 중합체 및 차단 실리콘; α-알킬스티렌에서 유래된 이량체; 및 4,4-디아릴부타디엔.
제 16 항에 있어서, 유기 UV 차단제(들)가 하기 화합물들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

- 에틸헥실 살리실레이트,

- 옥토크릴렌,

- 에틸헥실 메톡시신나메이트,

- 부틸 메톡시디벤조일메탄,

- 페닐벤즈이미다졸 술폰산,

- 벤조페논-3,

- 벤조페논-4,

- 벤조페논-5,

- 4-메틸벤질리덴 캄포르,

- 디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트,

- 아니소트리아진,

- 에틸헥실 트리아존,

- 디에틸헥실 부타미도 트리아존,

- 2,4,6-트리스(디이소부틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 드로메트리졸 트리실록산,

- 메틸렌비스(벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀),

및 이들의 혼합물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅되거나 코팅되지 않은 산화금속으로부터 형성된 안료 또는 나노안료를 부가적으로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 18 항에 있어서, 상기 안료 또는 나노안료가 코팅 또는 비코팅된 산화티탄, 산화아연, 산화철, 산화지르코늄 또는 산화세륨, 및 그것들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 피부의 인공 태닝, 갈변화 또는 그 두 가지 모두를 위한 하나 이상의 제제를 부가적으로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 지방 물질, 유기 용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 유연화제, 산화방지제, 자유 라디칼 파괴제, 불투명화제, 안정화제, 에몰리언트(emollient), 실리콘, α-히드록시산, 소포제, 보습제, 비타민, 곤충 기피제, 향료, 보존제, 계면활성제, 소염제, 물질 P 길항제, 충전제, 중합체, 추진제, 염기성화 또는 산성화제, 또는 착색제로부터 선택되는 하나 이상의 보조제를 부가적으로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 자외선에 대한 인간 표피의 보호를 위한 조성물 또는 일광차단 조성물이라는 것과, 비이온성 소낭성 분산액, 수중유형 에멀션과 같은 에멀션, 크림, 밀크, 겔, 크림 겔, 현탁액, 분산액, 분말, 고체 튜브, 폼 또는 스프레이의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 속눈썹, 눈썹 또는 피부의 메이크업용 조성물이라는 것과, 에멀션, 현탁액 또는 분산액 형의, 무수 또는 수성, 페이스트성 또는 고체 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 자외선에 대한 모발 보호를 위한 조성물이라는 것과, 샴푸, 로션, 겔, 에멀션 또는 비이온성 소낭성 분산액의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 일광 조사과 같은 자외선 조사에 대한 피부, 모발 또는 그 두 가지 모두를 보호하기 위한 화장 또는 피부학적 조성물을 제조하는데 사용되는 조성물.
주어진 일광 차단 지수에 대하여 상승효과를 제공하려는 목적을 위해, 부분 또는 완전 중성화된 형태일 수 있는, 적어도 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산)을 함유하는, 일광 조사과 같은 자외선 조사에 대한 피부, 모발 또는 그 두 가지 모두의 보호를 위한 화장 또는 피부학적 조성물을 제조함에 있어, 제조 시, 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에서 정의된 아미노 치환 2-히드록시벤조페논 유도체를 사용하는 방법.
제 12 항에 있어서, M^p+가 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺로부터 선택되는 금속 양이온을 나타내는 조성물.